[go: up one dir, main page]

JP5599145B2 - マルチビットフラッシュメモリ装置及びそれのプログラム及び読み出し方法 - Google Patents

マルチビットフラッシュメモリ装置及びそれのプログラム及び読み出し方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5599145B2
JP5599145B2 JP2008271080A JP2008271080A JP5599145B2 JP 5599145 B2 JP5599145 B2 JP 5599145B2 JP 2008271080 A JP2008271080 A JP 2008271080A JP 2008271080 A JP2008271080 A JP 2008271080A JP 5599145 B2 JP5599145 B2 JP 5599145B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit
program
cell
programmed
programming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008271080A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009104763A (ja
Inventor
東 求 姜
東 ▲ヒュク▼ 蔡
承 宰 李
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2009104763A publication Critical patent/JP2009104763A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5599145B2 publication Critical patent/JP5599145B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/5621Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using charge storage in a floating gate
    • G11C11/5628Programming or writing circuits; Data input circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/5621Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using charge storage in a floating gate
    • G11C11/5642Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/04Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/04Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
    • G11C16/0483Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells having several storage transistors connected in series
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3418Disturbance prevention or evaluation; Refreshing of disturbed memory data
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C2211/00Indexing scheme relating to digital stores characterized by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C2211/56Indexing scheme relating to G11C11/56 and sub-groups for features not covered by these groups
    • G11C2211/564Miscellaneous aspects
    • G11C2211/5646Multilevel memory with flag bits, e.g. for showing that a "first page" of a word line is programmed but not a "second page"

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Description

本発明は、半導体メモリ装置に係り、さらに具体的には、一つのメモリセルにマルチビットデータを格納できるマルチビットフラッシュメモリ装置及びそれのプログラム及び読み出し方法に関する。
半導体メモリ装置は、揮発性半導体メモリ装置(volatile semiconductor memory device)と不揮発性半導体メモリ装置(non−volatile semiconductor memory device)とに大別される。
揮発性半導体メモリ装置は、読み出し及び書き込み速度が早いが、外部電源の供給が中断されると、格納された内容が消滅する短所を有する。一方、不揮発性半導体メモリ装置は、外部電源の供給が中断されてもその内容が保存される。従って、不揮発性半導体メモリ装置は、電源の供給有無にかかわらず保存すべき内容を記憶させるために使用される。不揮発性半導体メモリ装置としては、MROM(mask read−only memory)、PROM(programmable read−only memory)、EPROM(erasable programmable read−only memory) 、EEPROM(electrically erasable programmable read−only memory)などがある。
通常、MROM、PROM及びEPROMはシステムそのもので自由に消去及び書き込みができないため、一般のユーザが記憶内容を更新するのが容易でない。反面、EEPROMは電気的に消去及び書き込みが可能なので、継続的な更新を要するシステムプログラミング(system programming)や補助記憶装置への応用が拡がっている。特に、フラッシュ(flash)EEPROMは既存のEEPROMに比べて集積度が高いので、大容量補助記憶装置への応用に非常に有利である。フラッシュEEPROMの中でもNAND型フラッシュEEPROM(以下、「NAND型フラッシュメモリ」と称する)は、他のフラッシュEEPROMに比べて集積度が非常に高いという長所を有する。
フラッシュメモリ装置は、それぞれのメモリセルに格納されるビット数によって、それぞれのメモリセルに格納可能なデータ状態が決定される。一つのメモリセルに1ビットデータを格納するメモリセルを単一ビットセル(single−bit cell)または単一レベルセル(single−level cell;SLC)という。そして、一つのメモリセルにマルチビットデータ(例えば、2ビット以上)を格納するメモリセルをマルチビットセル(multi−bit cell)、マルチレベルセル(multi−level cell;MLC)、またはマルチステートセル(multi−state cell)という。近年、メモリ装置に対する高集積の要求が高まって、一つのメモリセルにマルチビットデータを格納するマルチレベルフラッシュメモリに対する研究が活発に行われている。
本発明の目的は、マルチレベルセル(MLC)にマルチビットデータ(例えば、2ビット以上)を正確にプログラムすることができるプログラム方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、プログラムが行われた状態によってマルチレベルセル(MLC)にプログラムされたデータを正確に読み出すことができる読み出し方法を提供することにある。
上記目的を達成すべく、本発明によるフラッシュメモリ装置のプログラム方法は、セル当たり複数のビットをプログラムし、前記複数のビットのうちプログラムのために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットのプログラム条件を設定することを特徴とする。
本実施の形態において、前記プログラム条件は、増加型ステップパルスプログラミング(incremental step pulse programming:ISPP)の各プログラムループに適用されるプログラム電圧(Vpgm)のレベル、プログラム電圧(Vpgm)の印加回数、電圧増加分(△V)、プログラム電圧印加時間のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする。
本実施の形態において、前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i番目ビットに所定のデータを一律的にプログラムした後、前記i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、を含むことを特徴とする。
本実施の形態において、前記プログラムされたi+1番目ビットには、i+1番目ビットの正常読み出し電圧が適用されることを特徴とする。
本実施の形態において、前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、を含むことを特徴とする。
本実施の形態において、前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、前記i+1番目ビットはi+1番目ページプログラムアルゴリズムを介してプログラムされ、前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i+1番目ビットはi番目ページプログラムアルゴリズムを介してプログラムされることを特徴とする。
本実施の形態において、前記プログラムされたi+1番目ビットは、i+1番目ビットに対する正常読み出し電圧を利用して読み出されることを特徴とする。
本実施の形態において、前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、を含むことを特徴とする。
本実施の形態において、セル当たり複数のビットをプログラムし、前記複数のビットのうちプログラムのために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットのプログラム条件を設定する方法において、前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i番目ビットは前記i+1番目ビットと等しい値にプログラムされることを特徴とする。
本実施の形態において、セル当たり複数のビットをプログラムし、前記複数のビットのうちプログラムのために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットのプログラム条件を設定する方法において、前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、
前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記プログラムされたi+1番目ビットはi番目ビットに対する正常読み出し電圧を利用して読み出されることを特徴とする。
本実施の形態において、セル当たり複数のビットをプログラムし、前記複数のビットのうちプログラムのために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットのプログラム条件を設定する方法において、前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無と関係なく、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して、前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップを含み、前記セルでは、i+1番目ページプログラムアルゴリズムが行われ、前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、前記プログラムされたi+1番目ビットはi+1番目ビットに対する正常読み出し電圧を利用して読み出され、前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i+1番目ビットのプログラム状態に対応するように定義された読み出し電圧を利用して読み出されることを特徴とする。
上記目的を達成すべく、本発明によるフラッシュメモリ装置の読み出し方法は、セル当たり複数のビットがプログラムされ、前記複数のビットのうち読み出すために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットの読み出し電圧を設定することを特徴とする。
本実施の形態において、前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットを読み出す時、前記読み出し電圧を設定する方法は、フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットの正常読み出し電圧を前記セルのi+1番目ビットの読み出し電圧に設定するステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、i番目ビットの正常読み出し電圧を前記セルのi+1番目ビットの読み出し電圧に設定するステップと、を含むことを特徴とする。
本実施の形態において、前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットを読み出す時、前記読み出し電圧を設定する方法は、フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットの正常読み出し電圧を前記セルのi+1番目ビットの読み出し電圧に設定するステップと、前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、i+1番目ビットのプログラム状態に対応するように定義された読み出し電圧を前記セルのi+1番目ビットの読み出し電圧に設定するステップと、を含むことを特徴とする。
上記目的を達成すべく、本発明によるフラッシュメモリ装置は、セル当たり複数のビットがプログラムされるメモリセルのアレイと、前記セルにプログラムされるビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記プログラムされるビットに対するプログラム条件を設定する制御回路と、を含むことを特徴とする。
本実施の形態において、前記プログラム条件は、増加型ステップパルスプログラミング(incremental step pulse programming:ISPP)の各プログラムループに適用されるプログラム電圧(Vpgm)のレベル、プログラム電圧(Vpgm)の印加回数、電圧増加分(△V)、プログラム電圧印加時間のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする。
本実施の形態において、前記制御回路は、前記セルから読み出すビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記読み出すビットの読み出し電圧を設定することを特徴とする。
本発明によれば、マルチレベルセル(MLC)にプログラムされるマルチビットデータのうち少なくとも一つのビットに対するプログラム動作が省略されても、これに影響を受けず、次のビットに対するプログラムを正確に行うことができる。
尚、マルチレベルセル(MLC)にプログラムされるマルチビットデータそれぞれに対するプログラム有無を考慮して読み出し動作が制御されるので、マルチレベルセル(MLC)にプログラムされるマルチビットデータのうち少なくとも一つのビットに対するプログラム動作が省略されても、これに影響を受けず、次のビットに対する読み出し動作を正確に行うことができる。
以下、本発明の実施の形態を、添付図面に基づき詳細に説明する。
本発明の新たなプログラム方法及び読み出し方法によれば、それぞれのメモリセルに格納される複数のビットそれぞれに対するプログラム有無を考慮してプログラム及び読み出し動作を制御する。従って、選択されたメモリセルにプログラムされる複数のビットのうち少なくとも一つのビットに対するプログラム動作が省略されても、これに影響を受けず、次のビットに対するプログラム動作及び読み出し動作を正確に行なうことができるようになる。
下記で説明される本発明によるフラッシュメモリ装置の回路構成と、それによって行われるプログラム動作及び読み出し動作は例に取り上げて説明したに過ぎず、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲で、様々に変化及び変更が可能であるのは自明である。
図1は、本発明によるフラッシュメモリ装置100の概略的な構成を示す図である。そして、図2及び図3は、図1に図示されたセルアレイ110の構成例を示す図である。
図1乃至図3を参照すると、本発明のフラッシュメモリ装置100は、Nビットデータ情報(Nは1またはそれより大きい整数)を格納するメモリセルアレイ110を含む。セル当たりNビットデータ情報を格納するメモリセルをマルチレベルセル(multi−level cell;MLC)と称する。メモリセルアレイ110は、一般データを格納するためのメイン領域と、メイン領域及び一般データに関する付加情報(例えば、フラッグ情報、エラー訂正コード、デバイスコード、メーカーコード、ページ情報など)を格納するためのスペア領域とに区分できる。メイン領域にはNビットデータを格納でき、スペア領域には1ビットデータまたはNビットデータを格納できる。
セルアレイ110は、複数の行(またはワードライン)と複数の列(またはビットライン)が配列されたメモリセルを含む。セルアレイ110に含まれる複数のメモリセルは複数のメモリブロック(Memory Blocks;MBs)を構成する。それぞれのメモリブロックMBに含まれるメモリセルは、図2に示すように、NANDストリング構造を有することができ、図3に示すように、NOR構造を有することができる。下記で詳しく説明されるが、本発明のフラッシュメモリ装置100の動作特性は、図2及び図3に示すNAND型メモリセル及びNOR型メモリセルの両方に適用できる。更に、本発明のフラッシュメモリ装置100の動作特性は、電荷保存層が伝導性浮遊ゲートで構成されたフラッシュメモリ装置は勿論、電荷保存層が絶縁膜で構成された電荷トラップ型フラッシュ(Charge Trap Flash、「CTF」と称する)の両方に適用可能である。
本発明では、本発明が適用される一例としてNANDストリング構造を有するマルチレベルセル(MLC)フラッシュメモリが例示的に説明される。しかし、下記で説明されるフラッシュメモリは、特定の形態に限定されず、下記で説明される本発明のフラッシュメモリのプログラムまたは読み出し特性も、図2に図示されたフラッシュメモリセルに限定されないことは、当分野の通常の知識を有する者にとっては自明である。
図2を参照すると、一つのメモリブロックMBには、複数の列またはビットラインBL0〜BLn−1にそれぞれ対応する複数のストリング111が含まれる。各ストリング111には、ストリング選択トランジスタSST、複数のメモリセルM0〜Mm−1及び接地選択トランジスタGSTが含まれる。各ストリング111において、ストリング選択トランジスタSSTのドレインは対応するビットラインに連結され、接地選択トランジスタGSTのソースは共通ソースラインCSLに連結される。そして、ストリング選択トランジスタSSTのソースと接地選択トランジスタGSTのドレインの間には、複数のメモリセルM0〜Mm−1が直列連結される。同一の行に配列されたメモリセルの制御ゲートは、対応するワードラインWL0〜WLm−1と共通に連結される。ストリング選択トランジスタSSTはストリング選択ラインSSLを介して印加される電圧によって制御され、接地選択トランジスタGSTは接地選択ラインGSLを介して印加される電圧によって制御される。そして、メモリセルM0〜Mm−1は対応するワードラインWL0〜WLm−1を介して印加される電圧によって制御される。それぞれのワードラインWL0〜WLm−1に接続されたメモリセルは、一ページまたは複数のページ分量に該当するデータを格納する。
NAND型フラッシュメモリのプログラムまたは読み出し動作はページ単位で行われ、プログラムされたデータの消去動作は、複数のページからなるブロック単位で行われる。それぞれのページに対するプログラム動作または消去動作に関する情報は、スペア領域(またはメイン領域の一部領域)に割り当てられたフラッグセルに格納される。これをフラッグ情報(FL)と称する。セル当たりNビットのデータが格納されるマルチレベルセルの場合、それぞれのビットに対するプログラム動作を最大N回までそれぞれ独立的に行なうことができる。マルチレベルセルの各ビットに対するプログラム動作は、同一のワードラインWL0〜WLm−1に接続されたセルでページ単位で行われる。それぞれのビットに対応するページプログラム情報(以下、フラッグ情報(FL)と称する)は、対応するフラッグセルにそれぞれ独立的に格納される。このフラッグセルは、図2に示すNANDストリングの構造と同じ構造を有するマルチレベルセル(MLC)及び/または単一レベルセル(SLC)で構成することができる。そして、フラッグセルは、セルアレイ110のスペア領域内に形成することもでき、セルアレイ110のメイン領域内に形成することもできる。フラッグセルの形態及び個数は、セルアレイ110の構造によって様々に変形され得る。
再び図1を参照すると、制御回路150はフラッシュメモリ装置100のプログラム、消去及び読み出し動作に関する諸般動作を制御する。プログラムされるデータは制御回路150の制御によってバッファ(図示せず)を介して書き込み読み出し回路130にローディングされる。プログラムが実行される区間の間、制御回路150はデコーダ回路120、電圧発生回路160及び書き込み読み出し回路130を制御して、選択されたワードラインにプログラム電圧Vpgmが、非選択されたワードラインにパス電圧Vpassが、そしてメモリセルが形成されたバルクに0Vの電圧が印加されるようにする。プログラム電圧Vpgmは増加型ステップパルスプログラミング(incremental step pulse programming:ISPP)方式によって発生する。
プログラム電圧Vpgmのレベルは、プログラムループが繰り返されるにつれ、所定の電圧増加分△Vだけ段階的に増加する。それぞれのプログラムループで使用されるプログラム電圧Vpgmの印加回数、電圧レベル及び電圧印加時間などは、外部(例えば、メモリコントローラ)または内部(例えば、制御回路150)の制御によって様々な形態に変更及び変形することができる。特に、本発明では、以前ビットに対するプログラム進行状態に基づいて、現在ビットに対するプログラム電圧とこのプログラム電圧に対応する読み出し電圧のレベルを調節する。各ビットに対するプログラム進行状態は、フラッグ情報(FL)を利用して確認することができる。フラッグ情報は、選択されたメモリセルで何番目ビットに対するプログラムが行われたのか、または何番目ビットのプログラム動作が省略(skip)されたのかに対する情報を提供するために使用される。
図1において、電圧発生回路160は、動作モードによって、それぞれのワードラインに供給されるワードライン電圧(例えば、プログラム電圧Vpgm、読み出し電圧Vread、パス電圧Vpassなど)と、メモリセルが形成されたバルク(例えば、ウェル領域)に供給される電圧を発生させる。電圧発生回路160の電圧発生動作は制御回路150の制御によって行われる。デコーダ回路120は、制御回路150の制御に応じてメモリセルアレイ110のメモリブロック(またはセクタ)のうち一つを選択し、選択されたメモリブロックのワードラインのうち一つを選択する。デコーダ回路120は、制御回路150の制御に応じて電圧発生回路160から発生したワードライン電圧を選択されたワードライン及び非選択されたワードラインにそれぞれ提供する。
書き込み読み出し回路130は制御回路150によって制御され、動作モードによって感知増幅器(sense amplifier)としてまたは書き込みドライバ(write driver)として動作する。例えば、検証/正常読み出し動作の場合、書き込み読み出し回路130はメモリセルアレイ110からデータを読み出すための感知増幅器として動作する。正常な読み出し動作時に、書き込み読み出し回路130から読み出されたデータはバッファを介して外部(例えば、メモリコントローラまたはホスト)に出力される一方、検証読み出し動作時に読み出されたデータはパス/フェイル検証回路(図示せず)に提供される。
プログラム動作の場合、書き込み読み出し回路130は、メモリセルアレイ110に格納されるデータによってビットラインを駆動する書き込みドライバとして動作する。書き込み読み出し回路130は、プログラム動作時にメモリセルアレイ110に書き込まれるデータをバッファから受信し、入力されたデータによってビットラインを駆動する。そのために、書き込み読み出し回路130は列(またはビットライン)または列対(またはビットライン対)にそれぞれ対応する複数のページバッファ(図示せず)で構成することができる。書き込み読み出し回路130によって行われるプログラム動作及び読み出し動作は、制御回路150の制御に応じてマルチレベルセル(MLC)を構成するそれぞれのビットに対してそれぞれ独立的に行われる。この場合、プログラム/読み出し動作に使用されるプログラム/読み出し電圧は、現在プログラムされる/読み出されるビットの直前のビットに対するプログラム遂行有無によって変わる。
図4は、図2に図示されたフラッシュメモリセルのプログラム状態分布を示す図であり、図4には、3ビットマルチレベルセルのプログラム状態分布が例示的に図示されている。ところが、これは本発明が適用される一例に過ぎず、図4に図示されたプログラム状態の分布は様々な形態に変更可能である。
図4を参照すると、一つのメモリセルにはNビット(例えば、3ビット)が格納可能であり、それぞれのビットは独立的に行われるページプログラム動作によりそれぞれ独立的にプログラムすることができる。ここで、それぞれのビットに対応するページプログラム動作にはそれぞれ独立的なページプログラムアルゴリズムを適用することができる。それぞれのページプログラムアルゴリズムは、ISPPプログラムアルゴリズムでそれぞれのプログラムループに適用されるプログラムアルゴリズムを意味する。
例えば、第1ページプログラムアルゴリズムを介して1番目ビット(1st bit、即ち、最下位ビット(Least Significant Bit;LSB))に対するプログラムが行われる。第1ページプログラムアルゴリズムでは、ページバッファにローディングされたデータ値によって、最下位ビットの値だけ「1」または「0」の値にプログラムされる。この時、上位2個のビットは消去された状態(即ち、「11」)を維持する。その結果、第1ページプログラムアルゴリズムによってメモリセルは「111」のデータ状態と「110」のデータ状態のうち何れか一つを有するようになる。「111」状態を有するメモリセルは消去された状態のメモリセルであり、「110」状態を有するメモリセルのしきい値電圧は「111」状態のメモリセルのしきい値電圧より高くプログラムされたセルを意味する。
続いて、第2ページプログラムアルゴリズムを介して2番目ビット(2nd bit)に対するプログラムが行われる。第2ページプログラムアルゴリズムでは、ページバッファにローディングされたデータ値によって、選択されたメモリセルの2番目ビットの値だけ「1」または「0」の値にプログラムされる。この時、1番目ビット値と3番目ビット値は以前の状態をそのまま維持する。即ち、「111」状態を有するメモリセルは、プログラムアルゴリズムによって2番目ビットの値だけ「1」または「0」の値にプログラムされて、プログラム状態が「111」及び「101」のうち何れか一つを有するように遷移する。そして、「110」状態を有するメモリセルは、2番目ビットの値だけ「1」または「0」の値にプログラムされて、プログラム状態が「100」及び「110」のうち何れか一つを有するように遷移する。
続いて、第3ページプログラムアルゴリズムを介して3番目ビット(3rd bit、即ち、最上位ビット(Most Significant Bit;MSB))に対するプログラムが行われる。3番目ビットに対するプログラムアルゴリズムでは、ページバッファにローディングされたデータ値によって、選択されたメモリセルの3番目ビットの値だけ「1」または「0」の値にプログラムされる。この時、1番目ビット値と2番目ビット値とは以前の状態をそのまま維持する。その結果、メモリセルは「111」、「011」、「001」、「101」、「100」、「000」、「010」及び「110」のうち何れか一つを有するようにプログラムされる。
プログラム動作時に割り当てられるページアドレスはワードライン方向に連続的に割り当てることもでき、非連続的に割り当てることもできる。内部的に割り当てられるページアドレスは、選択されたメモリセルの使用頻度などを考慮して内部的に決定される。このようなページアドレッシング方式は、単一レベルフラッシュメモリ装置はもちろんマルチレベルフラッシュメモリ装置にも適用される。セル当り複数のデータビットが格納されるマルチレベルセルの場合、それぞれのデータビットに対応されるページアドレスは、それぞれのデータビットに対してそれぞれ独立的に割り当てられる。
図5は、図2に図示されたフラッシュメモリセルの各ビットに対するページアドレス割り当て結果を例示的に示す図である。
図5を参照すると、プログラム動作時にそれぞれのフラッシュメモリセルには、最下位ビット(Least Significant Bit;LSB)から最上位ビット(MSB)に至るまでプログラムに使用されるページアドレスがそれぞれ順次に割り当てられる。この場合、隣接メモリセルにiまたはiより小さなビットがプログラムされていると、選択されたメモリセルにi+1番目ビットをプログラムするためのページアドレスを指定することができる。しかし、このようなページアドレス割り当て条件によれば、図5に示すように、一部メモリセルで中間ビットに対してページアドレスの割り当てが省略(skip)される場合がある。アドレス割り当てが省略されたということは、該当のメモリセルで該当のビットに対するプログラム動作が省略されることを意味する。
図5を参照すると、メモリセルM0とM3には、それぞれ1番目ビットをプログラムするためのアドレスから3番目ビットをプログラムするためのアドレスまで合計3個のアドレスが全て割り当てられている。従って、メモリセルM0とM3では、1番目ビットから3番目ビットまで3個のビットに対するプログラムが順次に行なわれる。この場合、プログラム状態分布は、図4に図示された1番目乃至3番目ページプログラムアルゴリズムのプログラム状態遷移結果のようになる。そして、メモリセルM2には、3番目ビットをプログラムするためのアドレスは割り当てられず、1番目及び2番目ビットをプログラムするためのアドレスだけ割り当てられている。従って、メモリセルM2では、1番目ビットと2番目ビットに対するプログラムだけが順次に行われる。この場合、プログラム状態分布は、図4に図示された1番目及び2番目プログラムアルゴリズムのプログラム状態遷移結果のようになる。即ち、マルチレベルセルを構成する複数のビットのうち直前のビットに対するプログラムが省略されない場合(例えば、メモリセルM0、M3及びM2の場合)、プログラム状態分布は図4に図示されたプログラム状態遷移結果のようになる。
一方、メモリセルM1には2番目ビットをプログラムするためのアドレスが割り当てられず、1番目及び3番目ビットをプログラムするためのアドレスだけ割り当てられることもある。この場合、メモリセルM1では2番目ビットに対するプログラムが省略され、1番目ビットに対するプログラムが行なわれた後、3番目ビットに対するプログラムが行われる。それぞれのビットに対するプログラム動作は、直前のビットに対するプログラム状態と密接な関係を有している。もし、3番目ビットに対するプログラム動作を行なう時、2番目ビットのプログラムが省略されたことが考慮されないと、これは図4に図示されたプログラム状態分布を所望ではない他の形態に変化させる要因として作用するようになる。これは、3番目ビットに対するプログラム動作を行なう時、2番目ビットのプログラムが省略されたことが考慮されないと、幾つかの問題が発生することを意味する。
具体的に、もし、i+1番目(例えば、3番目)ビットに対するプログラム動作を行なう時、i番目(例えば、2番目)ビットのプログラムが省略されたことが考慮されないと、i+1番目(例えば、3番目)ビットに対するプログラムが行なわれる間、そのメモリセルの一つ又はそれ以上の下位LSBビット値(例えば、1番目又は2番目ビット値)が“1”から“0”に、又は“0”から“1”に変化することができる。これは、しきい値電圧分布及び/又は対応されるプログラム状態を所望ではない状態に変更させることを意味する。従って、i+1番目(例えば、3番目)ビットに対するプログラム動作を行なう時、i番目(例えば、2番目)ビットのプログラムが省略されたことが考慮されないと、i+1番目(例えば、3番目)ビットに対するプログラム動作の際、エラーが発生する。
このような問題を防止するために、本発明では、中間ビットに対するプログラム動作が省略されても、プログラム状態分布に変化が発生しないようにする(またはプログラム状態に変化が発生しても、これを読み出し動作に正確に反映することができる)新たな方式のプログラム方法及び/または読み出し方法を提供する。本発明の実施の形態によるプログラム方法と読み出し方法は次の通りである。
図6は、本発明の第1実施の形態によるプログラム方法を示すフローチャートである。図6には、マルチレベルセルでi番目ビットのプログラム有無を考慮してi+1番目ビットをプログラムする方法が例示的に図示されている。そして、図7は、図6に図示されたプログラム方法によるプログラム状態変化を示す図である。図7には、3ビットマルチレベルセルで2番目ビットのプログラムが省略された場合、本発明の第1実施の形態による3番目ビットに対するプログラム状態変化が例示的に図示されている。しかし、下記で説明される本発明のプログラム及び読み出し特性は3ビットマルチレベルセルに限定されず、様々な形態のマルチレベルセルにも適用可能である。
図6を参照すると、本発明によるフラッシュメモリ装置のプログラム方法は、i+1番目ビットに対するプログラムを行う時、先ず選択されたメモリセルのi番目(例えば、2番目)ビットに対応するフラッグセルの状態をチェックする(ステップS1000)。フラッグセルには、i番目ビットがプログラムされたか可否かを示す(即ち、i番目ページプログラムアルゴリズムの遂行有無を示す)フラッグ情報(FL)が格納されている。例えば、選択されたメモリセルのi番目ビットがプログラムされた場合、対応するフラッグセルにはフラッグ情報(FL)が所定の値(例えば、「1」または「0」)に設定されている。もし選択されたメモリセルのi番目ビットがプログラムされなかったら、対応するフラッグセルにはフラッグ情報(FL)が設定されていない。
ステップS1000での判別結果、選択されたメモリセルのi番目ビットに対応するフラッグ情報(FL)が所定の値に設定されていると、i+1番目(例えば3番目)ページプログラムアルゴリズムが行われる(ステップS1100)。ステップS1100では、正常なi+1番目ページプログラムアルゴリズムのためのISPPプログラム条件(例えば、プログラム電圧Vpgmのレベル、プログラム電圧Vpgmの印加回数、電圧増加分△V、プログラム電圧印加時間など)が適用される。この場合、中間ビットに対するプログラム動作は省略されていない。従って、プログラム状態は図4のように段階的に遷移する。
一方、S1000での判別結果、選択されたメモリセルのi番目(例えば2番目ビット)に対応するフラッグ情報(FL)が所定の値に設定されていないと、選択されたメモリセルのi番目ビットを「1」の値にプログラムするi番目ページプログラムアルゴリズムが行われる(ステップS1200)。即ち、ステップS1200では、プログラムされるデータ値にかかわらず、選択されたメモリセルのi番目ビットに対して一律的に「1」のデータ値をプログラムする。ステップS1200では、i番目ページプログラムアルゴリズムのためのISPPプログラム条件が適用される。このISPPプログラム条件は、外部(例えば、メモリコントローラ)または内部(例えば、制御回路150)の制御によって様々な形態に変更及び変形することができる。
ステップS1200で行われたプログラム動作によって得られたi番目ビットのプログラム状態変化は、図7の1201及び1202の通りである。続いて、ステップS1100に進んで、正常なi+1番目(例えば、3番目)ページプログラムアルゴリズムを行う。i+1番目ページプログラムアルゴリズムでは、ページバッファにローディングされたプログラムデータ値によって選択されたメモリセルのi+1番目ビット値が「0」または「1」の値にプログラムされる。ステップS1100で行われたプログラムアルゴリズムによるi+1番目ビットのプログラム状態変化は、図7の1101及び1102の通りである。図7の1101及び1102のプログラム状態は、図4に示しされたi+1番目ビットのプログラム状態と一致する。
前述したように、本発明によるプログラム方法では、i+1番目ページプログラムアルゴリズムを行う前に、i番目ビットに対するプログラム有無を先に確認する。そして、確認された結果によってi+1番目ページプログラムアルゴリズムを正常に行うか、またはi番目ビットを「1」の値にプログラムした後i+1番目ページプログラムアルゴリズムを行うようになる。このようなプログラム方法によれば、中間ビットに対するプログラムが省略されても、プログラム状態遷移が段階的に進行することができるようになる。i番目ビットのプログラムが省略されたことが考慮されなくて発生される急速なプログラム状態の変化は、隣接するメモリセル同士の間に発生するチャージカップリングの影響をさらに増加させる。
このような問題を防止するため、本発明によるプログラム方法では、中間ビットに対するプログラムが省略されても、中間ビットに人為的なデータ(即ち、1)を記入する。その結果、プログラム状態遷移を段階的に行うことができるようになる。このようなプログラム方法によれば、たとえ中間ビットに対するプログラムが省略されても、チャージカップリングの影響を減らすことができ、後で行われるビットに対して正確なプログラムを行うことができるようになる。図7に図示されたプログラム状態変化を参照すると、中間ビット(例えば、i番目ビット)に対するプログラムが省略されても、i+1番目ビットのプログラム状態は図4に図示されたプログラム状態にそのまま対応することが判る。従って、本発明の第1実施の形態によるプログラム方法によってプログラムされたデータ値は、正常読み出し(normal read)動作時に別途の電圧調整なしで読み出すことができるようになる。
図8は、本発明の第2実施の形態によるプログラム方法を示すフローチャートである。図8には、マルチレベルセルでi番目ビットのプログラム有無を考慮してi+1番目ビットをプログラムする方法が例示的に図示されている。そして、図9は、図8に図示されたプログラム方法によるプログラム状態変化を示す図である。図9には、3ビットマルチレベルセルで2番目ビットのプログラムが省略された場合、本発明の第2実施の形態による3番目ビットに対するプログラム状態変化が例示的に図示されている。しかし、下記で説明される本発明のプログラム及び読み出し特性は3ビットマルチレベルセルに限定されず、様々な形態のマルチレベルセルにも適用可能である。
図8を参照すると、本発明によるフラッシュメモリ装置のプログラム方法では、i+1番目ビットに対するプログラムを行う時、先ず選択されたメモリセルのi番目(例えば、2番目)ビットに対応するフラッグセルの状態をチェックする(ステップS2000)。ステップS2000での判別結果、選択されたメモリセルのi番目ビットに対応するフラッグ情報(FL)が所定の値に設定されていると、i+1番目(例えば、3番目)ページプログラムアルゴリズムが行われる(ステップS2100)。S2100では、正常なi+1番目ページプログラムアルゴリズムのためのISPPプログラム条件が適用される。この場合、中間ビットに対するプログラム動作は省略されていないので、プログラム状態は図4のような形態に遷移する。
一方、S2000での判別結果、選択されたメモリセルのi番目(例えば、2番目)ビットに対応するフラッグ情報(FL)が所定の値に設定されていないと、プログラム条件がi+1番目ページプログラムアルゴリズムのためのISPPプログラム条件に設定される(ステップS2200)。続いて、ステップS2200で設定されたプログラム条件を利用してi番目(例えば、2番目)ページプログラムアルゴリズムが行われる(ステップS2300)。ステップS2300で実質的にプログラムされるデータは選択されたメモリセルのi+1番目ビットであって(図9の2301、2302参照)、i番目以下のビット値は以前の状態をそのまま維持する(図9の2001、2002参照)。
当分野の通常の知識を有する者によく知られているように、i+1番目ページプログラムアルゴリズムのためのプログラム電圧Vpgmのレベルは、i番目ページプログラムアルゴリズムのためのプログラム電圧Vpgmのレベルより高い。従って、本発明のステップS2300で行われるi番目ページプログラムアルゴリズムのプログラム状態変化は正常なi番目ページプログラムアルゴリズムで得られるプログラム状態変化より大きいという特徴を有する。即ち、本発明によるプログラム方法によれば、高くなったISPPプログラム条件によってi−1番目(例えば、1番目)プログラム状態値がi+1番目(例えば、3番目)プログラム状態値に直接遷移するようになる。この時、得られたi+1番目(例えば、3番目)プログラム状態値は、図4のプログラム状態にそのまま対応する。従って、本発明の第2実施の形態によるプログラム動作によってプログラムされたデータ値は、正常読み出し(normal read)動作時に別途の電圧調整なしで読み出すことができる。
図10は、本発明の第3実施の形態によるプログラム方法を示すフローチャートである。図10には、マルチレベルセルでi番目ビットのプログラム有無を考慮してi+1番目ビットをプログラムする方法が例示的に図示されている。そして、図11は、図10に図示されたプログラム方法によるプログラム状態変化を示す図である。図11には、3ビットマルチレベルセルで2番目ビットのプログラムが省略された場合、本発明の第3実施の形態による3番目ビットに対するプログラム状態変化が例示的に図示されている。しかし、下記で説明される本発明のプログラム及び読み出し特性は、3ビットマルチレベルセルに限定されず、様々な形態のマルチレベルセルにも適用可能である。
図10を参照すると、本発明によるフラッシュメモリ装置のプログラム方法では、i+1番目ビットに対するプログラムを行う時、先ず選択されたメモリセルのi番目(例えば、2番目)ビットに対応するフラッグセルの状態をチェックする(ステップS3000)。ステップS3000での判別結果、選択されたメモリセルのi番目ビットに対応するフラッグ情報(FL)が所定の値に設定されていると、i+1番目(例えば、3番目)ページプログラムアルゴリズムが行われる(ステップS3100)。ステップS3100では、正常なi+1番目ページプログラムアルゴリズムのためのISPPプログラム条件が適用される。この場合、中間ビットに対するプログラム動作は省略されていないので、プログラム状態は図4のような形態に遷移する。
一方、S3000での判別結果、選択されたメモリセルのi番目(例えば、2番目)ビットに対応するフラッグ情報(FL)が所定の値に設定されていないと、プログラム条件がi番目ページプログラムアルゴリズムのためのISPPプログラム条件に設定される(ステップS3200)。このISPPプログラム条件は、外部(例えば、メモリコントローラ)または内部(例えば、制御回路150)の制御によって設定され、外部または内部の制御によって様々な形態に変更及び変形可能である。続いて、ステップS3200で設定されたプログラム条件を利用してi番目(例えば、2番目)ページプログラムアルゴリズムが行われる(ステップS3300)。ステップS3300でプログラムに使用されるデータは、i+1番目ビットにプログラムされるためにページバッファにローディングされたデータである。このようなプログラム方法によれば、i+1番目ビットにプログラムされるためにローディングされたデータが選択されたメモリセルのi+1番目ビットとi番目ビットの両方にプログラムされる(図11の3201、3202参照)。その結果、i+1番目ビットとi番目ビットは、互いに等しい値を有するようになり、i−1番目のビット値は以前のプログラム状態をそのまま維持するようになる(図11の3001、3002参照)。
以上のような本発明のプログラム方法によれば、選択されたメモリセルのi+1番目のビットは、i番目ページプログラムアルゴリズムのためのISPP条件を利用してプログラムされる。この場合、プログラムしようとするi+1番目ビットは所望の値にプログラムされるが、それのプログラム状態はi番目ページプログラムアルゴリズムのプログラム状態に対応するように遷移する。従って、本発明でプログラムされたi+1番目ビットのデータ値は、正常読み出し(normal read)動作時にi番目ビットを読み出す時使用する電圧を利用して読み出す。読み出し電圧の調整は外部(例えば、メモリコントローラ)または内部(例えば、制御回路150)の制御によって様々な形態に変更及び変形することができる。
図12は、図10に図示された方法によってプログラムされたi+1番目ビットの値を読み出す方法を示すフローチャートである。図12には、プログラムされたマルチレベルセルのi+1番目ビットに対する正常読み出し(normal−real)方法が図示されている。
図12を参照すると、選択されたメモリセルでi+1ビットの値を読み出すためには、先ず読み出そうとするビット(即ち、i+1番目)ビットと直前のビット(即ち、i番目)ビットに対応するフラッグセルの状態(FLi+1、FL)をチェックする(ステップS4000)。S4000での判別の結果、i+1番目ビットとi番目ビットとに対応するフラッグセルの状態FLi+1、FLが両方とも所定の値に設定されていると、読み出し電圧の変動なしでi+1番目ビットに対する正常読み出し動作を行う(ステップS4100)。
一方、ステップS4000での判別の結果、i+1番目ビットに対応するフラッグセルの状態FLi+1だけ所定の値に設定されていると(即ち、直前ビットであるi番目ビットに対応するフラッグセルの状態FLが設定されていないと、読み出し電圧をi番目ビットに対する正常読み出し電圧に再設定した後、これを利用してi+1番目ビットに対する読み出し動作を行う(ステップS4200)。このようなデータ読み出し動作によれば、正確なデータ読み出し動作が可能になる。
図13は、本発明の第4実施の形態によるプログラム方法を示すフローチャートである。図13には、i+1番目ビットに対するプログラム方法が例示的に図示されている。図14は、図13に図示されたプログラム方法によるメモリセルのプログラム状態変化を示す図である。図14には、3ビットマルチレベルセルで2番目ビットのプログラムが省略された場合、本発明の第4実施の形態による3番目ビットに対するプログラム状態変化が例示的に図示されている。
図13及び図14を参照すると、本発明によるフラッシュメモリ装置のプログラム方法では、i+1番目ビット(例えば、3番目ビット)に対するプログラムを行う時、選択されたメモリセルの以前のビット(例えば、2番目ビット)に対するプログラム有無を考慮せず、直接i+1番目ビットに対するプログラムを行う(ステップS5000)。この場合、追加的なプログラム電圧調整は行われず、現在行われるプログラムアルゴリズム(即ち、i+1番目ページプログラムアルゴリズム)で要するISPPプログラム条件がそのまま使用される。この時のプログラム状態遷移は、図14の5101〜5103の通りである。
i+1番目ページプログラムアルゴリズムが行われると、対応するフラッグセルにはフラッグ情報(FL)が設定される。このようなフラッグ情報(FL)の設定動作は、以前に行われたページプログラムアルゴリズムでも同じく行われる。例えば、選択されたメモリセルのi番目ビットがプログラムされた場合、対応するフラッグセルにはフラッグ情報(FL)が所定の値(例えば、「1」または「0」)に設定される。もし選択されたメモリセルのi番目ビットがプログラムされなかったら、対応するフラッグセルにはフラッグ情報(FL)が設定されない。
本発明によるプログラム方法によれば、2番目ビットに対するプログラムが省略された場合、3番目ビットに対するプログラム状態の分布は図4のプログラム状態の分布とは異なるようになる。しかし、プログラム状態の分布が変わったとしても、以前のビットに対するプログラム遂行有無によって読み出し電圧さえ調整すれば、i+1番目ビットにプログラムされた値を正確に読み出すことができる。従って、本発明ではこのような特性を利用してプログラムされたビットに対する読み出し動作をする時、以前のビットに対するプログラム遂行有無によって現在読み出そうとするビットの読み出し電圧を調節する。この読み出し電圧は外部(例えば、メモリコントローラ)または内部(例えば、制御回路150)の制御によって様々な形態に変更及び変形することができる。
図15は、図13に図示された方法によってプログラムされたi+1番目ビットの値を読み出す方法を示すフローチャートである。図15には、プログラムされたマルチレベルセルのi+1番目ビットに対する正常読み出し(normal−read)方法が図示されている。
図15を参照すると、選択されたメモリセルでi+1番目ビットの値を読み出すためには、先ず読み出そうとするビット(即ち、i+1番目ビット)と直前のビット(即ち、i番目ビット)に対応するフラッグセルの状態FLi+1、FLをチェックする(ステップS6000)。ステップS6000での判別の結果、i+1番目ビットとi番目ビットとに対応するフラッグセルの状態FLi+1、FLが両方とも所定の値に設定されていると、i+1番目ビットに対する正常読み出し動作を行う(ステップS6100)。この場合、読み出し電圧はi+1番目ビットを読み出すために定義された正常な読み出し電圧をそのまま利用する。
一方、ステップS6000での判別結果、i+1番目ビットに対応するフラッグセルの状態FLi+1だけ所定の値に設定されていると(即ち、直前のビットであるi番目ビットに対応するフラッグセルの状態FLが設定されていないと)、図14に図示されたプログラム状態に対応するように設定された読み出し電圧を利用してi+1番目ビットに対する読み出し動作を行う(ステップS6200)。この読み出し電圧のレベルは、図14に図示されたプログラム状態によって定義される。図13乃至図15に図示されたプログラム方法及び読み出し方法によれば、プログラム動作時に中間ビットに対するプログラムが省略されたか否かにかかわらず一律的な制御方式によってプログラムを行うことができるため、プログラム動作を制御する構成が簡単になるという長所がある。尚、以前のビットに対するプログラム遂行有無によって現在読み出そうとするビットの読み出し電圧を調節するため、正確なデータ読み出し動作が可能になる。
図16は、図1に図示された本発明のフラッシュメモリ装置100を含むメモリシステム1000の概略的な構成を示す図である。
図16を参照すると、本発明によるメモリシステム1000は、フラッシュメモリ装置100とメモリコントローラ200を含む。フラッシュメモリ装置100の構成は、図1に図示されたものと実質的に同一である。従って、それに対する重複説明は以下では省略される。メモリコントローラ200は、フラッシュメモリ装置100を制御するように構成される。フラッシュメモリ装置100は、前述されたプログラム方法のうち一つと、読み出し方法のうち何れか一つによってプログラム及び読み出し動作を行うように構成される。プログラム及び読み出しに使用されるプログラム電圧及び読み出し電圧は、メモリコントローラ200またはフラッシュメモリ装置100内部の制御回路150の制御によって選択される。プログラム及び読み出しに使用されるプログラム電圧及び読み出し電圧は、選択されたメモリセルで行われた各ビットのプログラム遂行有無を考慮してメモリコントローラ200または内部の制御回路150によって決定される。選択されたメモリセルの各ビットのプログラム遂行有無は、フラッグセルに格納されているフラッグ情報(FL)を利用して判別される。
図16に図示されたフラッシュメモリシステム1000は、メモリカード及び/またはメモリカードシステムを構成することができる。このような場合、メモリコントローラ200はUSB、MMC、PCI−E、ATA(Advanced Technology Attachment)、Serial−ATA、Parallel−ATA、SCSI(Serial Attached SCSI)、ESDI、及びIDE(Integrated Drive Electronics)などのような様々なインタフェースプロトコルのうち一つを介して外部(例えば、ホスト)と通信するように構成することができる。周知のように、フラッシュメモリ装置は電力が遮断されても格納されたデータを維持することができる不揮発性メモリ装置である。このような特性のため、フラッシュメモリ装置は、データ記憶装置としてだけでなく、電源供給にかかわらず保存しなければならないコードを記憶させるコード記憶装置としてより広く使用される。このような特性を有するフラッシュメモリ装置は、セルラーホン、PDA、デジタルカメラ、ポータブルゲームコンソール、そしてMP3Pのようなモバイル装置に使用することができ、HDTV、DVD、ルータ、そしてGPSのようなホームアプリケーションにも使用することができる。
図17は、本発明によるフラッシュメモリ装置100を含むコンピュータシステム2000の概略的な構成を示す図である。
図17を参照すると、本発明によるコンピュータシステム2000は、バス400に電気的に連結されたフラッシュメモリ装置100、メモリコントローラ200、ベースバンドチップセット(baseband chipset)のようなモデム300、マイクロプロセッサ500及びユーザインタフェース600を含む。図17に図示されたフラッシュメモリ装置100は、図1に図示されたものと実質的に同一に構成される。フラッシュメモリ装置100には、マイクロプロセッサ500によって処理された/処理されるNビットデータ(Nは1またはそれより大きい整数)がメモリコントローラ200を介して格納される。
フラッシュメモリ装置100は、前述されたプログラム方法のうち一つと、読み出し方法のうち何れか一つによってプログラム及び読み出し動作を行うように構成される。プログラム及び読み出しに使用されるプログラム電圧及び読み出し電圧は、メモリコントローラ200またはフラッシュメモリ装置100内部の制御回路150の制御によって選択される。プログラム及び読み出しに使用されるプログラム電圧及び読み出し電圧は、選択されたメモリセルで行われた各ビットのプログラム遂行有無を考慮してメモリコントローラ200または内部の制御回路150によって決定される。選択されたメモリセルの各ビットのプログラム遂行有無はフラッグセルに格納されているフラッグ情報(FL)を利用して判別される。
本発明によるコンピュータシステムがモバイル装置である場合、コンピュータシステムの動作電圧を供給するためのバッテリ700が追加的に提供される。図には図示されていないが、本発明によるコンピュータシステムには、応用チップセット(application chipset)、カメライメージプロセッサ(Camera Image Processor:CIS)、モバイルDRAMなどがさらに提供され得ることは、当分野における通常の知識を有する者には自明である。メモリコントローラ200とフラッシュメモリ装置100とは、例えば、データを格納するのに不揮発性メモリを使用するSSD(Solid State Drive/Disk)を構成することができる。
本発明によるフラッシュメモリ装置そして/またはメモリコントローラは、様々な形態のパッケージを利用して実装することができる。例えば、本発明によるフラッシュメモリ装置そして/またはメモリコントローラは、パッケージオンパッケージ(PoP:Package on Package)、ボールグリッドアレイ(BGAs:Ball grid arrays)、チップスケールパッケージ(CSPs:Chip scale packages)、プラスチック鉛添加チップキャリア(PLCC:Plastic Leaded Chip Carrier)、プラスチックデュアルイン−ラインパッケージ(PDIP:Plastic Dual In−Line Package)、ダイインワッフルパック(Die in Waffle Pack)、ダイインウェハフォーム(Die in Wafer Form)、チップオンボード(COB:Chip On Board)、セラミックデュアルイン‐ラインパッケージ(CERDIP:Ceramic Dual In−Line Package)、プラスチックメトリッククワッドフラットパック(PMQFP:Plastic Metric Quad Flat Pack)、薄型クワッドフラットパック(TQFP:Thin Quad Flat pack)、スモールアウトライン集積回路(SOIC:Small Outline Integrated Circuit)、シュリンクスモールアウトラインパッケージ(SSOP:Shrink Small Outline Package)、薄型スモールアウトラインパッケージ(TSOP:Thin Small Outline Package)、システムインパッケージ(SIP:System In Package)、マルチチップパッケージ(MCP:Multi Chip Package)、ウエハレベル製造されたパッケージ(WFP:Wafer‐level Fabricated Package)、ウエハレベル処理されたスタックパッケージ(WSP:Wafer‐level Processed Stack Package)などのようなパッケージを利用して実装することができる。
本発明の例示的な実施の形態において、メモリセルは電荷保存層を有する様々なセル構造のうち一つを利用して具現することができる。電荷保存層を有するセル構造は、電荷トラップ層を利用する電荷トラップフラッシュ構造、アレイが多層に積層されるスタックフラッシュ構造、ソース‐ドレインのないフラッシュ構造、ピンタイプフラッシュ構造などが適用できることは、当分野における通常の知識を有する者には自明である。
以上のように図面及び明細書に最良の実施の形態が開示された。ここで特定の用語が使用されたが、これはただ本発明を説明するための目的で使用されただけであって、意味の限定や特許請求の範囲に記載された本発明の範囲を限定するために使用されたものではない。従って、当技術分野における通常の知識を有する者であれば、これにより様々な変形及び均等な他の実施の形態が可能だということを理解するであろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、添付された特許請求の範囲の技術的思想によって定まるべきである。
本発明によるフラッシュメモリ装置の概略的な構成を示す図である。 図1に図示されたセルアレイの構成例を示す図である。 図1に図示されたセルアレイの構成例を示す図である。 図2に図示されたフラッシュメモリセルのプログラム状態分布を示す図である。 図2に図示されたフラッシュメモリセルの各ビットに対するページアドレス割り当て結果を例示的に示す図である。 本発明の第1実施の形態によるプログラム方法を示すフローチャートである。 図6に図示されたプログラム方法によるプログラム状態変化を示す図である。 本発明の第2実施の形態によるプログラム方法を示すフローチャートである。 図8に図示されたプログラム方法によるプログラム状態変化を示す図である。 本発明の第3実施の形態によるプログラム方法を示すフローチャートである。 図10に図示されたプログラム方法によるプログラム状態変化を示す図である。 図10に図示された方法によってプログラムされたi+1番目ビットの値を読み出す方法を示すフローチャートである。 本発明の第4実施の形態によるプログラム方法を示すフローチャートである。 図13に図示されたプログラム方法によるメモリセルのプログラム状態変化を示す図である。 図13に図示された方法によってプログラムされたi+1番目ビットの値を読み出す方法を示すフローチャートである。 図1に図示された本発明のフラッシュメモリ装置を含むメモリシステムの概略的な構成を示す図である。 本発明によるフラッシュメモリ装置を含むコンピュータシステムの概略的な構成を示す図である。
符号の説明
100 フラッシュメモリ
110 セルアレイ
120 デコーダ回路
130 書き込み読み出し回路
150 制御回路
160 電圧発生回路
200 メモリコントローラ
1000 メモリシステム
2000 コンピュータシステム

Claims (18)

  1. セル当たり複数のビットをプログラムし、
    前記複数のビットのうちプログラムのために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットのプログラム条件を設定することを特徴とするフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  2. 前記プログラム条件は、増加型ステップパルスプログラミング(incremental step pulse programming:ISPP)の各プログラムループに適用されるプログラム電圧(Vpgm)のレベル、プログラム電圧(Vpgm)の印加回数、電圧増加分(△V)、プログラム電圧印加時間のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項1に記載のフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  3. 前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、
    フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i番目ビットに所定のデータを一律的にプログラムした後、前記i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載のフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  4. 前記プログラムされたi+1番目ビットには、i+1番目ビットの正常読み出し電圧が適用されることを特徴とする請求項3に記載のフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  5. 前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、
    フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載のフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  6. 前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、前記i+1番目ビットはi+1番目ページプログラムアルゴリズムを介してプログラムされ、
    前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i+1番目ビットはi番目ページプログラムアルゴリズムを介してプログラムされることを特徴とする請求項5に記載のフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  7. 前記プログラムされたi+1番目ビットは、i+1番目ビットに対する正常読み出し電圧を利用して読み出されることを特徴とする請求項5に記載のフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  8. セル当たり複数のビットをプログラムし、
    前記複数のビットのうちプログラムのために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットのプログラム条件を設定する方法において、
    前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、
    フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i番目ビットは前記i+1番目ビットと等しい値にプログラムされることを特徴とするフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  9. セル当たり複数のビットをプログラムし、
    前記複数のビットのうちプログラムのために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットのプログラム条件を設定する方法において、
    前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、
    フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記プログラムされたi+1番目ビットはi番目ビットに対する正常読み出し電圧を利用して読み出されることを特徴とするフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  10. セル当たり複数のビットをプログラムし、
    前記複数のビットのうちプログラムのために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットのプログラム条件を設定する方法において、
    前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットをプログラムする時、前記プログラム条件を設定する方法は、
    前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無と関係なく、i+1番目ビットプログラムアルゴリズムのプログラム条件を適用して、前記セルのi+1番目ビットをプログラムするステップを含み、前記セルでは、i+1番目ページプログラムアルゴリズムが行われ
    前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、前記プログラムされたi+1番目ビットはi+1番目ビットに対する正常読み出し電圧を利用して読み出され、
    前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、前記i+1番目ビットのプログラム状態に対応するように定義された読み出し電圧を利用して読み出されることを特徴とするフラッシュメモリ装置のプログラム方法。
  11. セル当たり複数のビットがプログラムされ、
    前記複数のビットのうち読み出すために選択されたビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記選択されたビットの読み出し電圧を設定することを特徴とするフラッシュメモリ装置の読み出し方法。
  12. 前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットを読み出す時、前記読み出し電圧を設定する方法は、
    フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットの正常読み出し電圧を前記セルのi+1番目ビットの読み出し電圧に設定するステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、i番目ビットの正常読み出し電圧を前記セルのi+1番目ビットの読み出し電圧に設定するステップと、を含むことを特徴とする請求項11に記載のフラッシュメモリ装置の読み出し方法。
  13. 前記セルのi+1番目(iは正の整数)ビットを読み出す時、前記読み出し電圧を設定する方法は、
    フラッグ情報を確認して前記セルのi番目ビットのプログラム省略有無を判別するステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略されなかった場合、i+1番目ビットの正常読み出し電圧を前記セルのi+1番目ビットの読み出し電圧に設定するステップと、
    前記i番目ビットのプログラムが省略された場合、i+1番目ビットのプログラム状態に対応するように定義された読み出し電圧を前記セルのi+1番目ビットの読み出し電圧に設定するステップと、を含むことを特徴とする請求項11に記載のフラッシュメモリ装置の読み出し方法。
  14. セル当たり複数のビットがプログラムされるメモリセルのアレイと、
    前記セルにプログラムされるビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記プログラムされるビットに対するプログラム条件を設定する制御回路と、を含むことを特徴とするフラッシュメモリ装置。
  15. 前記プログラム条件は、増加型ステップパルスプログラミング(incremental step pulse programming:ISPP)の各プログラムループに適用されるプログラム電圧(Vpgm)のレベル、プログラム電圧(Vpgm)の印加回数、電圧増加分(△V)、プログラム電圧印加時間のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項14に記載のフラッシュメモリ装置。
  16. 前記制御回路は、前記セルから読み出すビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記読み出すビットの読み出し電圧を設定することを特徴とする請求項14に記載のフラッシュメモリ装置。
  17. フラッシュメモリ装置と、
    前記フラッシュメモリ装置を制御するメモリコントローラと、を含み、
    前記フラッシュメモリ装置は、
    セル当たり複数のビットがプログラムされるメモリセルのアレイと、
    前記セルにプログラムされるビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記プログラムされるビットに対するプログラム条件を設定する制御回路と、を含むことを特徴とするメモリシステム。
  18. ホストと、
    フラッシュメモリ装置と、
    前記ホストの要請によって前記フラッシュメモリ装置を制御するメモリコントローラと、を含み、
    前記フラッシュメモリ装置は、
    セル当たり複数のビットがプログラムされるメモリセルのアレイと、
    前記セルにプログラムされるビットの直前のビットのプログラム省略有無によって、前記プログラムされるビットに対するプログラム条件を設定する制御回路と、を含むことを特徴とするコンピュータシステム。
JP2008271080A 2007-10-23 2008-10-21 マルチビットフラッシュメモリ装置及びそれのプログラム及び読み出し方法 Active JP5599145B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2007-0106724 2007-10-23
KR1020070106724A KR101391881B1 (ko) 2007-10-23 2007-10-23 멀티-비트 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 및 읽기방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009104763A JP2009104763A (ja) 2009-05-14
JP5599145B2 true JP5599145B2 (ja) 2014-10-01

Family

ID=40563330

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008271080A Active JP5599145B2 (ja) 2007-10-23 2008-10-21 マルチビットフラッシュメモリ装置及びそれのプログラム及び読み出し方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7876614B2 (ja)
JP (1) JP5599145B2 (ja)
KR (1) KR101391881B1 (ja)
CN (1) CN101430933B (ja)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100933852B1 (ko) * 2007-12-28 2009-12-24 주식회사 하이닉스반도체 불휘발성 메모리 소자 및 그 동작 방법
WO2009097681A1 (en) 2008-02-04 2009-08-13 Mosaid Technologies Incorporated Flexible memory operations in nand flash devices
US8068365B2 (en) 2008-02-04 2011-11-29 Mosaid Technologies Incorporated Non-volatile memory device having configurable page size
JP2010140521A (ja) * 2008-12-09 2010-06-24 Powerchip Semiconductor Corp 不揮発性半導体記憶装置とその読み出し方法
US8026544B2 (en) 2009-03-30 2011-09-27 Sandisk Technologies Inc. Fabricating and operating a memory array having a multi-level cell region and a single-level cell region
KR101635504B1 (ko) * 2009-06-19 2016-07-04 삼성전자주식회사 3차원 수직 채널 구조를 갖는 불 휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법
KR101082756B1 (ko) 2010-07-09 2011-11-10 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자의 동작 방법
JP2012048791A (ja) 2010-08-27 2012-03-08 Toshiba Corp 多値不揮発性半導体メモリシステム
KR101203341B1 (ko) * 2010-09-14 2012-11-20 에스케이하이닉스 주식회사 불휘발성 메모리 장치 및 그의 동작 방법
KR101703106B1 (ko) * 2011-01-04 2017-02-06 삼성전자주식회사 부분-이레이즈 동작을 수행할 수 있는 비휘발성 메모리 장치와 상기 비휘발성 메모리 장치를 포함하는 장치들
CN102347069B (zh) * 2011-05-26 2013-04-03 忆正存储技术(武汉)有限公司 多层式存储闪存阵列的编程方式及其切换控制方法
JP2013041654A (ja) * 2011-08-19 2013-02-28 Toshiba Corp 不揮発性記憶装置
KR102025251B1 (ko) 2012-10-31 2019-09-25 삼성전자주식회사 메모리 시스템 및 그것의 프로그램 방법
KR20160071118A (ko) 2014-12-11 2016-06-21 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 이의 동작 방법
KR20160073834A (ko) * 2014-12-17 2016-06-27 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 시스템 및 메모리 시스템 동작 방법
FR3031832B1 (fr) * 2015-01-15 2017-02-03 Commissariat Energie Atomique Systeme de caracterisation d'une cellule memoire flash
US9224492B1 (en) * 2015-02-17 2015-12-29 Phison Electronics Corp. Memory management method, memory storage device and memory controlling circuit unit
CN104978153B (zh) * 2015-07-10 2018-12-25 北京兆易创新科技股份有限公司 资料存储型闪存中配置信息的方法与装置
US11120884B2 (en) 2015-09-30 2021-09-14 Sunrise Memory Corporation Implementing logic function and generating analog signals using NOR memory strings
US9543033B1 (en) 2015-11-19 2017-01-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device, control method, and memory system
CN105895156B (zh) * 2016-03-30 2019-09-20 深圳忆联信息系统有限公司 一种信息处理方法及电子设备
EP3504728A4 (en) * 2016-08-26 2020-09-09 Sunrise Memory Corporation CAPACITIVE-COUPLING NON-VOLATILE THIN-LAYER TRANSISTOR CHAIN IN THREE-DIMENSIONAL NETWORKS
WO2021127218A1 (en) 2019-12-19 2021-06-24 Sunrise Memory Corporation Process for preparing a channel region of a thin-film transistor
US11675500B2 (en) 2020-02-07 2023-06-13 Sunrise Memory Corporation High capacity memory circuit with low effective latency
US11842777B2 (en) 2020-11-17 2023-12-12 Sunrise Memory Corporation Methods for reducing disturb errors by refreshing data alongside programming or erase operations
US11848056B2 (en) 2020-12-08 2023-12-19 Sunrise Memory Corporation Quasi-volatile memory with enhanced sense amplifier operation
TW202310429A (zh) 2021-07-16 2023-03-01 美商日升存儲公司 薄膜鐵電電晶體的三維記憶體串陣列

Family Cites Families (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0169267B1 (ko) 1993-09-21 1999-02-01 사토 후미오 불휘발성 반도체 기억장치
KR0169412B1 (ko) 1995-10-16 1999-02-01 김광호 불휘발성 반도체 메모리 장치
KR0170707B1 (ko) 1995-11-29 1999-03-30 김광호 비휘발성 메모리 소자 및 그 구동 방법
KR0172408B1 (ko) 1995-12-11 1999-03-30 김광호 다수상태 불휘발성 반도체 메모리 및 그의 구동방법
KR0170714B1 (ko) 1995-12-20 1999-03-30 김광호 낸드형 플래쉬 메모리 소자 및 그 구동방법
JP2870478B2 (ja) 1996-04-25 1999-03-17 日本電気株式会社 不揮発性半導体記憶装置及びその動作方法
KR100204342B1 (ko) 1996-08-13 1999-06-15 윤종용 불 휘발성 반도체 메모리 장치
US5862074A (en) 1996-10-04 1999-01-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Integrated circuit memory devices having reconfigurable nonvolatile multi-bit memory cells therein and methods of operating same
KR100205006B1 (ko) 1996-10-08 1999-06-15 윤종용 자동 결함 블럭 맵핑 기능을 갖는 반도체 메모리 장치
KR100257868B1 (ko) 1997-12-29 2000-06-01 윤종용 노어형 플래시 메모리 장치의 소거 방법
KR100258574B1 (ko) 1997-12-30 2000-06-15 윤종용 반도체 메모리 장치 및 그 장치의 프로그램/소거 검증 방법
DE19815874C2 (de) 1998-04-08 2002-06-13 Infineon Technologies Ag ROM-Halbleiter-Speichervorrichtung mit Implantationsbereichen zur Einstellung eines Kontaktwiderstandes und Verfahren zu deren Herstellung
US5973958A (en) 1998-06-23 1999-10-26 Advanced Micro Devices, Inc. Interlaced storage and sense technique for flash multi-level devices
KR100290283B1 (ko) 1998-10-30 2001-05-15 윤종용 불휘발성 반도체 메모리 장치 및 그의 워드 라인 구동 방법
GB9903490D0 (en) 1999-02-17 1999-04-07 Memory Corp Plc Memory system
US6772274B1 (en) 2000-09-13 2004-08-03 Lexar Media, Inc. Flash memory system and method implementing LBA to PBA correlation within flash memory array
KR100407572B1 (ko) 2001-01-10 2003-12-01 삼성전자주식회사 낸드형 플래쉬 메모리 장치에서의 셀 드레쉬홀드 전압의분포를 개선하는 방법
US6549483B2 (en) 2001-03-30 2003-04-15 Atmos Corporation RAM having dynamically switchable access modes
US7554842B2 (en) 2001-09-17 2009-06-30 Sandisk Corporation Multi-purpose non-volatile memory card
GB0123416D0 (en) 2001-09-28 2001-11-21 Memquest Ltd Non-volatile memory control
KR100463197B1 (ko) 2001-12-24 2004-12-23 삼성전자주식회사 멀티-페이지 프로그램 동작, 멀티-페이지 읽기 동작,그리고 멀티-블록 소거 동작을 갖는 낸드 플래시 메모리장치
KR100437461B1 (ko) 2002-01-12 2004-06-23 삼성전자주식회사 낸드 플래시 메모리 장치 및 그것의 소거, 프로그램,그리고 카피백 프로그램 방법
US6549457B1 (en) 2002-02-15 2003-04-15 Intel Corporation Using multiple status bits per cell for handling power failures during write operations
US6986016B2 (en) 2002-09-30 2006-01-10 International Business Machines Corporation Contiguous physical memory allocation
US6847550B2 (en) 2002-10-25 2005-01-25 Nexflash Technologies, Inc. Nonvolatile semiconductor memory having three-level memory cells and program and read mapping circuits therefor
JP3935139B2 (ja) 2002-11-29 2007-06-20 株式会社東芝 半導体記憶装置
KR100496866B1 (ko) 2002-12-05 2005-06-22 삼성전자주식회사 미프로그램된 셀들 및 과프로그램된 셀들 없이 균일한문턱 전압 분포를 갖는 플레쉬 메모리 장치 및 그프로그램 검증 방법
US7085909B2 (en) 2003-04-29 2006-08-01 International Business Machines Corporation Method, system and computer program product for implementing copy-on-write of a file
JP4005000B2 (ja) 2003-07-04 2007-11-07 株式会社東芝 半導体記憶装置及びデータ書き込み方法。
KR100505705B1 (ko) 2003-08-22 2005-08-03 삼성전자주식회사 플래쉬 메모리 셀의 안정적인 프로그래밍을 위한 프로그램전압 발생 회로 및 그 프로그래밍 방법
JP2005092923A (ja) 2003-09-12 2005-04-07 Renesas Technology Corp 半導体記憶装置
US7177199B2 (en) * 2003-10-20 2007-02-13 Sandisk Corporation Behavior based programming of non-volatile memory
WO2005078732A1 (en) 2004-02-05 2005-08-25 Iota Technology, Inc. Electronic memory with tri-level cell pair
US7057939B2 (en) * 2004-04-23 2006-06-06 Sandisk Corporation Non-volatile memory and control with improved partial page program capability
TWI249670B (en) 2004-04-29 2006-02-21 Mediatek Inc System and method capable of sequentially writing a flash memory
JP4192129B2 (ja) 2004-09-13 2008-12-03 株式会社東芝 メモリ管理装置
US7254075B2 (en) 2004-09-30 2007-08-07 Rambus Inc. Integrated circuit memory system having dynamic memory bank count and page size
JP4713873B2 (ja) 2004-11-12 2011-06-29 株式会社東芝 半導体記憶装置
US7230851B2 (en) 2004-12-23 2007-06-12 Sandisk Corporation Reducing floating gate to floating gate coupling effect
US7457909B2 (en) 2005-01-14 2008-11-25 Angelo Di Sena Controlling operation of flash memories
KR100666174B1 (ko) 2005-04-27 2007-01-09 삼성전자주식회사 3-레벨 불휘발성 반도체 메모리 장치 및 이에 대한구동방법
KR100739967B1 (ko) * 2005-05-27 2007-07-16 주식회사 하이닉스반도체 플래시 메모리 장치의 프로그램 방법
KR100642892B1 (ko) * 2005-07-19 2006-11-03 주식회사 하이닉스반도체 면적이 감소된 페이지 버퍼 회로와 그 독출 및 프로그램동작 방법
KR100669351B1 (ko) 2005-07-29 2007-01-16 삼성전자주식회사 멀티 레벨 셀 플래시 메모리의 프로그램 방법 및 장치
KR100729359B1 (ko) * 2005-09-23 2007-06-15 삼성전자주식회사 낸드 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
US7516297B2 (en) 2005-11-10 2009-04-07 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Memory management
KR100666223B1 (ko) 2006-02-22 2007-01-09 삼성전자주식회사 메모리셀 사이의 커플링 노이즈를 저감시키는 3-레벨불휘발성 반도체 메모리 장치 및 이에 대한 구동방법
US7400527B2 (en) * 2006-03-16 2008-07-15 Flashsilicon, Inc. Bit symbol recognition method and structure for multiple bit storage in non-volatile memories
KR100816155B1 (ko) * 2006-12-28 2008-03-21 주식회사 하이닉스반도체 불휘발성 메모리 장치 및 불휘발성 메모리 장치의 멀티레벨 셀 프로그램 방법
US7986554B2 (en) * 2008-03-19 2011-07-26 Sandisk Technologies Inc. Different combinations of wordline order and look-ahead read to improve non-volatile memory performance

Also Published As

Publication number Publication date
CN101430933A (zh) 2009-05-13
JP2009104763A (ja) 2009-05-14
KR20090041157A (ko) 2009-04-28
US20090103360A1 (en) 2009-04-23
US7876614B2 (en) 2011-01-25
KR101391881B1 (ko) 2014-05-07
CN101430933B (zh) 2013-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5599145B2 (ja) マルチビットフラッシュメモリ装置及びそれのプログラム及び読み出し方法
US8446766B2 (en) Nonvolatile memory device and related programming method
US10573378B2 (en) Methods of programming memory devices
US9087608B2 (en) Method of programming non-volatile memory device and non-volatile memory device using the same
US8539138B2 (en) Flash memory device and method of programming flash memory device
KR101401558B1 (ko) 플래시 메모리 장치, 그것의 프로그램 및 소거 방법들,그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 및 컴퓨터 시스템
KR101308014B1 (ko) 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 리커버리 방법
US9564237B2 (en) Nonvolatile memory device and read method thereof
KR101493873B1 (ko) 멀티-레벨 셀 플래시 메모리 장치 및 이의 독출 방법
KR20150091665A (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
KR20100010355A (ko) 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 및 소거 방법
KR20100025304A (ko) 불휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법
KR101456592B1 (ko) 멀티-비트 플래시 메모리 장치 및 그것의 플래그 셀 분석방법
US8045382B2 (en) Flash memory devices and erasing methods thereof
KR101642930B1 (ko) 더미 셀을 갖는 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
JP5706350B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
KR20090124291A (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
JP2009238328A (ja) 不揮発性半導体記憶装置及び不揮発性半導体記憶システム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111011

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130321

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130423

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140114

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140401

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140805

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140812

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5599145

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250