JP5305677B2 - 洗浄料 - Google Patents

Description

本発明は、特定構造のオルガノシロキサン誘導体を含む洗浄料、特に泡立ちと洗浄性との両立に関する。

従来より、シリコーンオイルを代表するジメチルポリシロキサン固有の特性を生かし、構造の一部に様々な有機基を導入したオルガノ（ポリ）シロキサンの開発がなされている。オルガノ（ポリ）シロキサンは、低表面張力、低屈折率を有し、さらに低摩擦性、耐熱性、耐寒性、帯電防止性、撥水性、離型性、消泡性、耐薬品性等の特性を併せ持つために、様々な分野において利用されている。用途に応じて、各種官能基およびそれらを導入する構造上の位置が変性されたオルガノ（ポリ）シロキサンが存在する。

例えば、親水性の有機基であるカルボキシル基を含むオルガノ（ポリ）シロキサン誘導体として、従来から様々な化合物の開発・検討がなされており、代表的なものとして、直鎖ポリシロキサン構造の側鎖にカルボキシル基を導入したオルガノシロキサン誘導体が広く知られている。また、近年、このような化合物の一例として、カルボキシル構造を含むシロキサンデンドリマーも報告されている（例えば、特許文献１〜３参照）。さらに、カルボキシル変性シリコーンをトリエタノールアミンで中和した化合物が、乳化能を有することも報告されている（例えば、非特許文献１，２参照）。

一方で、従来の皮膚洗浄料あるいは頭髪洗浄料においては、通常、アニオン界面活性剤や非イオン界面活性剤が洗浄剤の主成分として配合されている。これに対して、ほとんどのメーキャップ製品、ヘアワックス等には、化粧持ちや耐水性、すべりや滑らかさを付与する目的でシリコーン化合物が配合されており、洗浄剤として通常の界面活性剤を用いた場合、これらのシリコーン化合物を充分に洗い落とすことができないという問題があった。これに対して、シリコーン油を配合したり、シリコーン系の界面活性剤を用いることによって、洗浄効果は高まるものの、その消泡作用により泡立ちが非常に悪いという問題があった。

特開２０００−０７２７８４号公報 特開２０００−２３９３９０号公報 特開２００１−２１３８８５号公報 影島一己，清水敏之，「カルボキシル変性シリコーンの乳化における界面活性剤としての応用」，ＦＲＥＧＲＡＮＣＥ ＪＯＵＲＮＡＬ，臨時増刊１９号，２００５年，１２５〜１３０頁 影島一己，坂本晴美，清水敏之，「カルボキシル変性シリコーンの化粧品分野における界面活性剤としての応用」，日本化粧品技術者会誌，３４巻，４号，２００３年，３０９〜３１４頁

本発明は、前述の事情に鑑み行われたものであり、その目的は、優れた泡立ちと洗浄性とを兼ね備えた洗浄料を提供することにある。

前記従来技術の課題を解決するため、本発明者らが鋭意検討を行った結果、カルボキシル基を含む特定構造のオルガノシロキサン誘導体塩と、脂肪酸石ケン等のアニオン性界面活性剤とを洗浄料に配合することによって、洗浄効果に優れるとともに、泡立ち性が著しく改善されることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明にかかる洗浄料は、下記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体塩と、炭素数１０〜２０のアルキル基を有するカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、又はリン酸塩のいずれか１種以上と
を含有することを特徴とするものである。

（式中、Ｒ ^１ 及びＲ ^２ は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ ^４ ） _３ で表される官能基（Ｒ ^４ は、炭素数１〜６のアルキル基である）であり、Ｒ ^３ は炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｍは金属原子又は有機陽イオンである。Ａは、Ｃ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは６〜２０の整数である。）
また、前記洗浄料において、オルガノシロキサン誘導体塩が、一般式（１）において、Ｒ ^１ 及びＲ ^２ が−Ｏ−Ｓｉ（−ＣＨ _３ ） _３ で表される官能基であり、Ｒ ^３ が−ＣＨ _３ であり、ｑが１０の整数であることが好適である。

また、前記洗浄料において、アニオン性界面活性剤が、脂肪酸石ケン、アシルメチルタウリン塩、及びアルキルエーテルカルボン酸塩の１種以上であることが好適である。

本発明によれば、カルボキシル基を含む特定構造のオルガノシロキサン誘導体塩と、脂肪酸石ケン等のアニオン性界面活性剤とを洗浄料に配合することによって、洗浄効果に優れるとともに、泡立ち性が著しく改善される。

以下、本発明の好適な実施形態について説明する。
本発明にかかる洗浄料は、カルボキシル基を含む特定構造のオルガノシロキサン誘導体塩と、脂肪酸石ケン等のアニオン性界面活性剤とを含有することを特徴とするものである。

オルガノシロキサン誘導体
本発明に用いられるオルガノシロキサン誘導体は、一般式（１）又は一般式（３）で表される化合物である。
最初に、下記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体について説明する。

上記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、アルキルカルボキシル基で変性されたオルガノシロキサン誘導体であり、１分子中のケイ素原子の平均合計数が２〜１００の範囲にあることを特徴とするものである。
上記一般式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^３は、少なくとも１つが−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである）、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基（Ｒ^５は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかであり、Ｘ^１はｉ＝１のときの下記一般式（２）で示される官能基である）である。なお、Ｒ^１〜Ｒ^３において、その全てが前記官能基のいずれかであってもよい。あるいは、Ｒ^１〜Ｒ^３の少なくとも１つが前記官能基であれば、その他のＲ^１〜Ｒ^３は、同一または異なっていてもよい置換又は非置換の一価炭化水素基のいずれかであってもよい。

−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基において、Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである。炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ヘキシル等の直鎖状、分岐状あるいは環状のアルキル基が挙げられる。−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基としては、例えば、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_３、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_２Ｈ_５）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_３Ｈ_７）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_４Ｈ_９）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_５Ｈ_１１）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_６Ｈ_１３）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_６Ｈ_５）等が挙げられる。なお、前記官能基としては、トリアルキルシロキシ基であることが好ましく、トリメチルシロキシ基であることが最も好適である。

また、−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基は、デンドリマー構造を有するオルガノシロキシ基であり、Ｒ^５は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである。また、Ｘ^１はｉ＝１のときの下記一般式（２）で示される官能基である。

上記一般式（２）において、Ｒ^６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかであり、Ｒ^７及びＲ^８は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである。Ｒ^６〜Ｒ^８は炭素数１〜６のアルキル基であることが好ましく、全てメチル基であることが特に好ましい。また、Ｂは、一部に分岐を有してよいＣ_ｒＨ_２ｒで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｒは２〜２０の整数である。Ｂである炭素数２〜２０のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基等の直鎖状アルキレン基；メチルメチレン基、メチルエチレン基、１−メチルペンチレン基、１，４−ジメチルブチレン基等の分岐状アルキレン基が例示される。これらの中でも、エチレン基又はヘキシレン基が好ましい。

上記一般式（２）において、ｉはＸ^ｉで示されるシリルアルキル基の階層を示し、階層数、すなわち、該シリルアルキル基の繰り返し数がｎのとき１〜ｎの範囲の整数である。階層数ｎは１〜１０の整数である。Ｘ^ｉ＋１はｉがｎ未満のとき上記シリルアルキル基であり、ｉ＝ｎのときメチル基（−ＣＨ_３）である。ａｉはｉ＝１のときは０〜２の整数であり、ｉが２以上のときは３未満の数である。ａｉは１以下であることが好ましく、０であることが特に好ましい。
すなわち、デンドリマー構造の階層ｎが１である場合、式（２）のシリルアルキル基は、

で示され、デンドリマー構造の階層ｎが２である場合、式（２）のシリルアルキル基は、

で示され、デンドリマー構造の階層ｎが３である場合、式（２）のシリルアルキル基は、

で示されるものである。

−Ｏ−Ｓｉ(Ｒ^５)_２−Ｘ^１で表される官能基として、特に好適には、下記一般式（４）で示されるシリルアルキル基の階層数ｎが１の官能基、又は下記一般式（５）で示されるシリルアルキル基の階層数ｎが２の官能基、又は下記一般式（６）で示されるシリルアルキル基の階層数ｎが３の官能基が挙げられる。

また、上記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^３においては、その少なくとも１つが、前記−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基のいずれかであれば、その他のＲ^１〜Ｒ^３は、同一又は異なっていてもよい置換または非置換の一価炭化水素基のいずれかであってもよい。Ｒ^１〜Ｒ^３である非置換の一価炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ヘキシル等の直鎖状、分岐状あるいは環状のアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基：アラルキル基が例示される。Ｒ^１〜Ｒ^３である置換の一価炭化水素基としては、３，３，３トリフロロプロピル基、３，３，４，４，４−ペンタフロロブチル基等のパーフルオロアルキル基；３−アミノプロピル基、３−（アミノエチル）アミノプロピル基等のアミノアルキル基；アセチルアミノアルキル基等のアミドアルキル基が例示される。また、Ｒ^１〜Ｒ^３の炭化水素基の一部が水酸基、アルコキシ基、ポリエーテル基又はパーフルオロポリエーテル基で置換されていてもよく、該アルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が例示される。

上記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^３の１つ又は２つが、前記−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基のいずれかである場合、その他のＲ^１〜Ｒ^３は、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル基であることが好ましく、メチル基又はエチル基が特に好ましい。特に、一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^３において、全部または２つが前記−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基のいずれかであることが好ましく、その他のＲ^１〜Ｒ^３はメチル基又はエチル基であることが好ましい。

また、Ｍは金属原子又は有機陽イオンである。金属原子としては、１価のアルカリ金属、２価のアルカリ金属、２価以上の金属原子が挙げられる。１価のアルカリ金属としては、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋが、２価のアルカリ金属としては、Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａが、その他にはＭｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｖ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｚｎ，Ｔｉ等が挙げられる。また、有機陽イオンとしては、例えば、アンモニウムイオン、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）中和イオン、トリエタノールアンモニウムイオン、ジエタノールアンモニウムイオン、モノエタノールアンモニウムイオン、トリイソプロパノールアンモニウムイオン、Ｌ−アルギニン中和イオン、Ｌ−リジン中和イオン等等が挙げられる。Ｍは、特に１価のアルカリ金属であることが好ましく、また、これらの混合物であってもよい。

Ａは、Ｃ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは０〜２０の整数である。なお、ｑ＝０の場合、一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、下記一般式（１−Ａ）で表される化合物であり、カルボキシル変性基はエチレン基を介してケイ素と結合しているものである。本発明においては、ｑが２〜１５であることが好ましく、６〜１２であることがより好ましい。一方、ｑの値が前記上限を超えると、泡立ち性に劣る場合がある。
Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_２−ＣＯＯＭ （１−Ａ）

また、上記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、１分子中のケイ素原子の平均合計数が２〜１００の範囲にあることを特徴とするものである。ケイ素原子の平均合計数は３〜３０の範囲が好ましい。一方、１分子中のケイ素原子の合計数が１００を超えると、泡立ち性に劣る場合がある。

上記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体としては、より具体的には、Ｒ^１，Ｒ^２が−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基である）であり、Ｒ^３が炭素数１〜６の直鎖状または分岐状のアルキル基であり、ｑの値が６〜１２であるオルガノシロキサン誘導体が好適に用いられる。

一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＨで示されるケイ素原子結合水素原子含有ポリシロキサンと、ＣＨ＝ＣＨ_２−Ａ−ＣＯＯＳｉＭｅ_３で示されるビニル末端を有するカルボン酸トリメチルシリル誘導体とを、白金系触媒の存在下に付加反応させ、保護基であるトリメチルシリル基1モルあたり、少なくとも1モルのメタノール等の一価アルコールを加えて加熱することにより、加アルコール分解により脱保護し、さらに対応する金属イオン（Ｍ^ｎ＋）を含む化合物又は塩基性の有機化合物による中和を行うことによって製造することができる。なお、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ａ、Ｍは前記同様の基である。中和工程の一例としては、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、トリエタノールアミン、アルギニン、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）等の水溶液を添加することにより、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を中和する工程である。

一方、脱保護の後、金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物による中和工程を行なわなかった場合には、下記一般式（１’）で表される末端カルボキシル基を有するオルガノシロキサン誘導体を得ることができる。

式中、Ｒ^１〜Ｒ^３及びＡは前記同様の基であり、Ｍ’は水素原子である。また、一般式（１’）で表されるオルガノシロキサン誘導体の１分子中に含まれるケイ素原子（Ｓｉ）の平均合計数は２〜１５０である。

本発明においては、上記一般式（１’）で表される末端カルボキシル基を有するオルガノシロキサン誘導体と、金属イオン又は有機陽イオンを含む溶液とを混合することにより、該末端カルボキシル基の陽イオン交換反応によって、上記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体を容易に得ることができる。このため、上記一般式（１’）で表されるオルガノシロキサン誘導体と、金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物とを、個別に洗浄料中に配合してもよい。かかる金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物としてはとしては、前記同様の化合物を例示することができる。一般式（１’）で表される末端カルボキシル基を有するオルガノシロキサン誘導体に対する金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物の使用量は、オルガノシロキサン誘導体：金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物の質量比で６：１〜２：１の範囲であることが好適であるが、特に限定されるものではない。

また、一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体の製造方法は、特開２０００−０７２７８４号公報、特開２０００−２３９３９０号公報、特開２００１−２１３８８５号公報に詳細に記載されている。本発明の一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体の製造方法は、特に、以下の工程（１）〜（４）により容易に製造することができる。

工程（１）：
ＨＳｉ（−Ｏ−ＳｉＲ_２Ｈ）_ｆＲ^Ｌ _３−ｆ
（式中、Ｒは炭素原子数１〜６のアルキル基またはフェニル基のいずれかであり、Ｒ^Ｌは同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の一価炭化水素基であり、ｆは１〜３の整数である）で示されるジメチルシロキシ基を有するオルガノシランと、ＣＨ＝ＣＨ_２−Ａ−ＣＯＯＳｉＭｅ_３で示されるビニル末端を有するカルボン酸トリメチルシリル誘導体（式中、Ａは前記同様の基）とを、白金系遷移金属触媒の存在下に付加反応させ、下基一般式の中間体（１−１）を得る工程。
Ｓｉ（−Ｏ−ＳｉＲ_２Ｈ）_ｆＲ^Ｌ _３−ｆ−（ＣＨ_２）_２−Ａ−ＣＯＯＳｉＭｅ_３ （１−１）

工程（２）：
Ｒ^ＢＳｉ（Ｏ−Ｒ^６）_ａｉ（ＯＳｉＲ^７Ｒ^８−Ｘ^ｉ＋１）_３−ａｉ
（式中、Ｒ^ＢはＣ_ｒＨ_２ｒで表される直鎖状または分岐鎖状のアルケニル基であり、ｒは２〜２０の整数である。Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｘ^ｉ＋１、ａｉは前記同様の基および数である）で示されるアルケニル基を有するオルガノシランとを、白金系触媒の存在下に付加反応させ、下記一般式の中間体（１−２）を得る工程。
Ｓｉ{-Ｏ-ＳｉＲ_２-Ｂ-Ｓｉ(Ｏ-Ｒ^６)_ａｉ(ＯＳｉＲ^７Ｒ^８-Ｘ^ｉ＋１)_３−ａｉ}_ｆＲ^Ｌ _３−ｆ-(ＣＨ_２)_２-Ａ-ＣＯＯＳｉＭｅ_３ （１−２）

工程（３）：
中間体（１−２）に、保護基であるトリメチルシリル基1モルあたり、少なくとも1モル以上のメタノール等の一価アルコール、水又はこれらの混合物を加えて加熱することにより、加アルコール分解により脱保護させる工程。

工程（４）：
金属イオン（Ｍ^ｎ＋）を含む化合物又は塩基性の有機化合物により中和する工程。
中和工程の一例として、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、トリエタノールアミン、アルギニン、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）等の水溶液を添加することにより、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を中和する工程である。

つづいて、下記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体について説明する。

上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、分子鎖の両末端がアルキルカルボキシル基で変性されたオルガノシロキサン誘導体である。
上記一般式（３）において、式中、Ｒ^９〜Ｒ^１２は、同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の一価炭化水素基のいずれかから選択される。Ｒ^９〜Ｒ^１２である非置換の一価炭化水素基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基；アリル基、ヘキセニル基等の直鎖状または分岐鎖状のアルケニル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が例示される。Ｒ^９〜Ｒ^１２である置換の一価炭化水素基は、これらの基の炭素原子に結合した水素原子が部分的に水酸基、ハロゲン原子、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基、アルコキシ基、ポリエーテル基またはパーフルオロポリエーテル基等の有機基で置換された基であり、３，３，３−トリフロロプロピル基、３，３，４，４，４−ペンタフロロブチル基等のパーフルオロアルキル基；３−アミノプロピル基、３−（アミノエチル）アミノプロピル基等のアミノアルキル基；アセチルアミノアルキル基等のアミドアルキル基が例示される。Ｒ^９〜Ｒ^１２は炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基およびアラルキル基であることが好ましく、１分子中のＲ^９〜Ｒ^１２の９０モル％以上がメチル基及び／またはフェニル基であることが特に好ましい。

また、Ｍは金属原子又は有機陽イオンである。金属原子としては、１価のアルカリ金属、２価のアルカリ金属、２価以上の金属原子が挙げられる。１価のアルカリ金属としては、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋが、２価のアルカリ金属としては、Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａが、その他にはＭｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｖ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｚｎ，Ｔｉ等が挙げられる。また、有機陽イオンとしては、例えば、アンモニウムイオン、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）中和イオン、トリエタノールアンモニウムイオン、ジエタノールアンモニウムイオン、モノエタノールアンモニウムイオン、トリイソプロパノールアンモニウムイオン、Ｌ−アルギニン中和イオン、Ｌ−リジン中和イオン等等が挙げられる。Ｍは、特に１価のアルカリ金属であることが好ましく、また、これらの混合物であってもよい。

ＱはＣ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは０〜２０の整数である。なお、ｑ＝０の場合、一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、下記一般式(３−Ａ)で示される化合物であり、カルボキシル変性基はエチレン基を介してケイ素と結合するものである。本発明においては、ｑの値は６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることが特に好ましい。一方、ｑの値が前記上限を超えると、泡立ち性に劣る場合がある。
ＭＯＯＣ-(ＣＨ_２)_２-(ＳｉＲ^９Ｒ^１０-Ｏ)_ｐ-ＳｉＲ^１１Ｒ^１２-(ＣＨ_２)_２-ＣＯＯＭ （３−Ａ)

上記一般式（３）において、ｐはジ置換ポリシロキサンの平均重合度を示し、０〜１５０の数である。本発明において、ｐが１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。一方、ｐが前記上限を超えると、泡立ち性に劣る場合がある。

上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体としては、Ｒ^９〜Ｒ^１２が炭素数１〜６のアルキル基であり、ｑが０〜２０の整数であり、ｐが０〜２０の数であるオルガノシロキサン誘導体が好適に用いられる。

上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、
Ｈ−（ＳｉＲ^９Ｒ^１０−Ｏ)_ｐ−ＳｉＲ^１１Ｒ^１２−Ｈ
（式中、Ｒ^９〜Ｒ^１２、ｐ、ｑは前記同様の基）
で示される分子鎖両末端にケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン１モルに対し、少なくとも２モルのＣＨ＝ＣＨ_２−Ｑ−ＣＯＯＳｉＭｅ_３で示されるビニル末端を有するカルボン酸トリメチルシリル誘導体とを、白金系触媒の存在下に付加反応させ、保護基であるトリメチルシリル基1モルあたり、少なくとも1モル以上のメタノール等の一価アルコール、水又はこれらの混合物を加えて加熱することにより、加アルコール分解により脱保護し、さらに対応する金属イオン（Ｍ^ｎ＋）を含む化合物又は塩基性の有機化合物による中和を行うことによって製造することができる。なお、Ｑは前記同様の基である。中和工程に用いる金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物としては、前記同様の化合物を例示することができる。

一方、脱保護の後、金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物による中和工程を行なわなかった場合には、下記一般式（３’）で表される末端カルボキシル基を有するオルガノシロキサン誘導体を得ることができる。

式中、Ｒ^９〜Ｒ^１２及びＱは前記同様の基であり、ｐは前記同様の数であり、Ｍ’は水素原子である。

本発明においては、上記一般式（３’）で表される末端カルボキシル基を有するオルガノシロキサン誘導体と、金属イオン又は有機陽イオンを含む溶液とを混合することにより、該末端カルボキシル基の陽イオン交換反応によって、上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体を容易に得ることができる。このため、上記一般式（３’）で表されるオルガノシロキサン誘導体と、金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物とを、個別に洗浄料中に配合してもよい。かかる金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物としてはとしては、前記同様の金属塩を例示することができる。一般式（３’）で表される末端カルボキシル基を有するオルガノシロキサン誘導体に対する金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物の使用量は、オルガノシロキサン誘導体：金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物の質量比で６：１〜２：１の範囲であることが好適であるが、特に限定されるものではない。

本発明の一般式（１）あるいは（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体を製造するために使用する白金系触媒は、ケイ素結合水素原子とアルケニル基のヒドロシリル化反応触媒であり、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、白金のオレフィン錯体、白金のケトン錯体、白金のビニルシロキサン錯体、四塩化白金、白金微粉末、アルミナまたはシリカの担体に固体状白金を担持させたもの、白金黒、白金のオレフィン錯体、白金のアルケニルシロキサン錯体、白金のカルボニル錯体、これらの白金系触媒を含むメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコーン樹脂等の熱可塑性有機樹脂粉末が例示される。好ましくは、白金の１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体または塩化白金酸である。

なお、上記一般式（１）又は上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、本発明にかかる洗浄料中に単独で配合することができる。
また、上記一般式（１’）又は上記一般式（３’）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、該オルガノシロキサン誘導体とともに、金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物を洗浄料中に配合することで、本発明にかかる洗浄料として用いることができる。すなわち、本発明においては、洗浄料処方中で、オルガノシロキサン誘導体の末端カルボキシル基が金属塩あるいは有機塩（すなわち、上記一般式（１）又は上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体）になり得る状態であればよいため、末端カルボキシル基であるオルガノシロキサン誘導体と、金属イオン含有化合物又は塩基性有機化合物とを、個別に洗浄料中に配合して用いることが可能である。

本発明の洗浄料へのオルガノシロキサン誘導体の配合量は、特に限定されるものではないが、通常、組成物全量０．１〜３０質量％であり、好ましくは１〜１０質量％、さらに好ましくは３〜５質量％である。オルガノシロキサン誘導体の配合量が少なすぎると、シリコーン化合物に対する十分な洗浄効果が得られず、また、配合量が多すぎると、泡立ちが悪くなる場合がある。

アニオン性界面活性剤
本発明に用いられるアニオン性界面活性剤は、炭素数１０〜２０のアルキル基を有するカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、又はリン酸塩（以下、単に各種アニオン界面活性剤という場合がある）から選ばれるものである。これらの各種アニオン性界面活性剤は、飽和又は不飽和のアルキル基を有する各種酸の塩であり、アルキル鎖は直鎖状、分岐状のいずれであっても構わない。また、前記アルキル鎖のほかに他の官能基（例えば、アミノ基、エーテル基等）あるいは鎖状構造（例えば、ポリオキシアルキレン基等）を有していてもよい。なお、本発明においては、前記各種酸が予め塩を形成した状態で洗浄料中に配合していてもよく、あるいは前記各種酸と、塩を形成するための塩基性物質とをそれぞれ個別に洗浄料中に配合し、処方内で塩を形成してもよい。例えば、アルキルカルボン酸と水酸化カリウムとを個別に洗浄料処方中に添加することにより、処方内での中和反応によってアルキルカルボン酸カリウム塩が形成される。なお、各種酸との中和により塩を形成する塩基性物質としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属類の水酸化物、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、Ｌ−アルギニン、Ｌ−リジン、モルホリン、Ｎ−アルキルタウリン塩等の塩基性窒素含有化合物が挙げられる。

本発明に用いられる炭素数１０〜２０のアルキル基を有するカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、又はリン酸塩としては、例えば、ラウリン酸カリウム、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸トリエタノールアミン、ミリスチン酸カリウム、ミリスチン酸ナトリウム、ミリスチン酸トリエタノールアミン、パルミチン酸カリウム、パルミチン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸ナトリウム、イソステアリン酸カリウム、イソステアリン酸ナトリウム、ベヘニン酸カリウム、ベヘニン酸ナトリウム、リノール酸カリウム、リノール酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、オレイン酸ナトリウム、アラキン酸カリウム、２−パルミトレイン酸カリウム、ペトロセリン酸カリウム、エライジン酸カリウム、リシノール酸カリウム、リノエライジン酸カリウム、リノレン酸カリウム、アラキドン酸カリウム、１２−ヒドロキシステアリン酸カリウム等の脂肪酸（アルキルカルボン酸）塩；Ｎ−ラウロイルグルタミン酸ナトリウム、Ｎ−ミリストイルグルタミン酸ナトリウム、Ｎ−ヤシ油脂肪酸アシルグルタミン酸ナトリウム、Ｎ−ラウロイルグルタミン酸カリウム、Ｎ−ミリストイルグルタミン酸カリウム、Ｎ−ヤシ油脂肪酸アシルグルタミン酸カリウム、Ｎ−ラウロイルグルタミン酸トリエタノールアミン、Ｎ−ミリストイルグルタミン酸トリエタノールアミン、Ｎ−ヤシ油脂肪酸アシルグルタミン酸トリエタノールアミン、Ｎ−ラウロイルグリシンナトリウム、Ｎ−ミリストイルグリシントリエタノールアミン、Ｎ−ラウロイル−β−アラニンカリウム、Ｎ−ラウロイルスレオニントリエタノールアミン、Ｎ−ラウロイルサルコシンナトリウム、Ｎ−ラウロイル−Ｎ−メチル−β−アラニンナトリウム、Ｎ−ラウロイル−Ｎ−メチル−β−アラニントリエタノールアミン等のＮ−アシルアミノ酸塩；ラウロイルイミノジ酢酸ナトリウム、ラウロイルイミノジ酢酸トリエタノールアミン、ヤシ油脂肪酸アシルイミノジ酢酸ナトリウム、ラウロイルイミノジ酢酸ジナトリウム、パーム核脂肪酸イミノジ酢酸ナトリウム等のアシルイミノジ酢酸塩；ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレンミリスチルエーテル酢酸カリウム、ポリオキシエチレンパルミチルエーテル酢酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンステアリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリグリセリルラウリルエーテル酢酸ナトリウム等のポリエーテルカルボン酸塩；ヤシ油脂肪酸シルクペプチド等のアシル化ペプチド；ポリオキシエチレンラウリン酸アミドエーテルカルボン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンミリスチン酸アミドエーテルカルボン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンヤシ油脂肪酸アミドエーテルカルボン酸トリエタノールアミン等のアミドエーテルカルボン酸塩；アシル乳酸塩；アルケニルコハク酸塩等；ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸カリウム、ミリスチル硫酸ナトリウム、ミリスチル硫酸カリウム、セチル硫酸ナトリウム、ステアリル硫酸ナトリウム、オレイル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン等のアルキル硫酸塩；ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンセチルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオレイルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミン等のアルキルエーテル硫酸塩；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル硫酸ナトリウム等のアルキルアリールエーテル硫酸塩；ポリオキシエチレンラウリン酸アミドエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリン酸アミドエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンミリスチン酸アミドエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオレイン酸アミドエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンヤシ油脂肪酸アミドエーテル硫酸ナトリウム、オレイン酸アミドエーテル硫酸ナトリウム等のアルキルアミド硫酸塩；硬化ヤシ油脂肪酸グリセリン硫酸ナトリウム等のアシルエステル硫酸塩；ラウリルスルホン酸ナトリウム、ミリスチルスルホン酸ナトリウム、ヤシ油アルキルスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸塩、リニアドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、リニアドデシルベンゼンスルホン酸トリエタノールアミン等のアルキルベンゼンスルホン酸塩；アルキルナフタレンスルホン酸塩；ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン重縮合物等のホルマリン縮合系スルホン酸塩、スルホコハク酸ラウリル２ナトリウム、ジ−２−エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウム、ポリオキシエチレンスルホコハク酸ラウリル２ナトリウム、オレイン酸アミドスルホコハク酸２ナトリウム等のスルホコハク酸塩；ドデセンスルホン酸ナトリウム、テトラデセンスルホン酸ナトリウム、ドデセンスルホン酸カリウム、デトラデセンスルホン酸カリウム等のα−オレフィンスルホン酸塩；α−スルホラウリン酸メチルエステル、α−スルホミリスチン酸メチルエステル、α−スルホラウリン酸（ＥＯ）ｎメチルエステル等のα−スルホ脂肪酸エステル塩；ヤシ油脂肪酸アシル−Ｎメチルタウリンカリウム、ラウロイル−Ｎメチルタウリンナトリウム、ラウロイル−Ｎメチルタウリンカリウム、ラウロイル−Ｎメチルタウリントリエタノールアミン、ミリストイル−Ｎメチルタウリンナトリウム、ミリストイル−Ｎメチルタウリントリエタノールアミン、ヤシ油脂肪酸アシル−Ｎメチルタウリンナトリウム、ヤシ油脂肪酸アシル−Ｎメチルタウリントリエタンールアミン等のＮ−アシルメチル−タウリン塩；ラウロイルイセチオン酸ナトリウム、ミリストイルイセチオン酸ナトリウム、ヤシ油脂肪酸アシルイセチオン酸ナトリウム等のアシルイセチオン酸塩；ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンセチルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンミリスチルリン酸カリウム、ポリオキシエチレンオレイルエーテルリン酸ナトリウム、ジポリオキシエチレンオレイルエーテルリン酸ナトリウム等のアルキルエーテルリン酸塩；アルキルアリ−ルエーテルリン酸塩；ポリオキシエチレンラウリルアミドエーテルリン酸ナトリウム等の脂肪酸アミドエーテルリン酸塩；ラウリルリン酸ナトリウム、ミリスチルリン酸ナトリウム、ヤシ油脂肪酸リン酸ナトリウム、ミリスチルリン酸カリウム、ラウリルリン酸トリエタノールアミン、オレイルリン酸ジエタノールアミン等のアルキルリン酸塩、及びこれらの混合物が挙げられる。

オルガノシロキサン誘導体と組み合わせて用いるこれらのアニオン性界面活性剤のうちで、脂肪酸石ケン、アシルメチルタウリン塩、又はアルキルエーテルカルボン酸塩を好適に用いることができる。特に、皮膚洗浄料として使用する場合には脂肪酸石ケンとの組み合わせが好適であり、頭髪洗浄料として用いる場合には、アシルメチルタウリン塩との組み合わせが好適である。

本発明の洗浄料への各種アニオン性界面活性剤の配合量は、特に限定されるものではないが、通常、組成物全量０．１〜１０質量％であり、好ましくは０．１〜５質量％、さらに好ましくは０．３〜２質量％である。各種アニオン性界面活性剤の配合量が少なすぎると、良好な泡立ちが得られず、また、配合量が多すぎると、皮膚刺激性の点で問題を生じる場合がある。なお、本発明の洗浄料中においては、上記各種アニオン界面活性剤以外の界面活性剤（例えば、非イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤等）を適当量配合しても構わない。

本発明の洗浄料においては、本発明の効果を損なわない質的・量的な範囲内で、上記の必須成分に加えて、通常の化粧品、医薬品分野で用いられるその他の成分、例えば、油分、ワックス、保湿剤（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、グリセリン、ポリグリセリン、ソルビトール、ポリエチレングリコール、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、ピロリドンカルボン酸塩等）、増粘剤、ゲル化剤、水溶性高分子（例えば、キサンタンガム、カルボキシメチルセルロースおよびカルボキシビニルポリマー、アルキル変性カルボキシビニルポリマー、ヒアルロン酸等）、油溶性高分子、アミノ酸（例えば、セリン、アルギニン等）、薬剤（例えば、ビタミンＣ、ビタミンＣ誘導体、４−メトキシサリチル酸、トラネキサム酸等）、酸化防止剤（例えば、トコフェロール類、ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、没食子酸エステル等）、防腐剤（例えば、エチルパラベン、ブチルパラベン等）、殺菌剤（例えば、塩化セチルピリジニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化デカリニウム、塩化ベンザルコニウム、グルコン酸クロルヘキシジン、カルバニリド、フェノール、ハロゲン化サリチルアニリド等）、生薬等の天然抽出物（例えば、オウバク、オウレン、シコン、シャクヤク、センブリ、バーチ、セージ、ビワ、ニンジン、アロエ、ゼニアオイ、アイリス、ブドウ、ヨクイニン、ヘチマ、ユリ、サフラン、センキュウ、ショウキュウ、オトギリソウ、オノニス、ニンニク、トウガラシ、チンピ、トウキ、海藻等）、水溶性還元剤、ｐＨ調整剤、顔料、染料、パール剤、ラメ剤、有機・無機粉末、香料等を必要に応じて配合することができる。

本発明の洗浄料の使用用途は、特に限定されるものではなく、例えば、固形石ケン、液体石ケン、洗顔スクラブ、洗顔フォーム、メーク落とし（クレンジング）、ボディシャンプー等の皮膚洗浄料、シャンプー、リンスインシャンプー等の毛髪洗浄料等、種々の洗浄料に利用することができる。

以下、実施例を挙げて本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
以下に実施例及び比較例において用いたオルガノシロキサン誘導体（化合物１〜４，比較化合物１〜４）の構造及びその合成方法を示す。なお、各化合物は^１Ｈ，^１３Ｃ，^２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＮＭＲ装置：Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ Ｎｕｃｌｅａｒ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ ＪＥＯＬ ＪＮＭ−ＥＸ４００（日本電子社製）により同定した。

化合物１の合成方法
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン１００ｇ、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０２ｇを加え、７０−１００℃の範囲を保つように、ウンデシレン酸トリメチルシリル１０５ｇを滴下した。滴下終了後、２時間、１００℃で熟成した後、ガスクロマトグラフィーを用いて反応の完了を確認した。低沸点分を減圧下、留去した。その後、メタノール、水を加え、還流下５時間熟成し、脱保護を行った。その後再び低沸点分を減圧下除去し、化合物１を得た。分析の結果、上記化学構造式で示される化合物１であることが確認された。

化合物２の合成方法
撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けたフラスコに、テトラキス（ジメチルシロキシ）シラン１００ｇと白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０２ｇを投入し、これらを撹拌しながら９０℃に加熱した。次いでこれに、ウンデシレン酸トリメチルシリル１５．６ｇを、滴下ロートを用いて反応温度が９０℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を１００℃で１時間加熱した。冷却後、減圧蒸留したところ、３５．３ｇの無色透明液体が得られた。分析の結果、この液体は下記構造式で示される化合物であることが確認された。これを中間体２Ａとした。

次に撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコにビニルトリストリメチルシロキシシラン５４．１ｇ、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０１ｇを加え、７０−１００℃の範囲を保つように、中間体２Ａ３５ｇを滴下した。滴下終了後、２時間、１００℃で熟成した後、ＦＴ−ＩＲによりＳｉ−Ｈ結合の消失を確認した。低沸点分を減圧下、留去した。その後、メタノール８ｇを加え、還流下５時間熟成し、脱保護を行った。その後再び低沸点分を減圧下除去した。分析の結果、上記化学構造式で示される化合物２であることが確認された。

化合物３の合成方法
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコにウンデシレン酸トリメチルシリル４６０．８１ｇ，白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０５ｇを加え、７０−８０℃の範囲を保つように、１， １，３，３−テトラメチルジシロキサン１００ｇを滴下した。滴下終了後、２時間、１００℃で熟成した後、ガスクロマトグラフィーを用いて反応の完了を確認した。低沸点分を減圧下、留去した。その後、メタノール２４０ｇを加え、還流下５時間熟成し、脱保護を行った。その後再び低沸点分を減圧下除去し、化合物３を得た。分析の結果、上記化学構造式で示される化合物３であることが確認された。

化合物４の合成方法
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコにウンデシレン酸トリメチルシリル２２５．０ｇ，白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０５ｇを加え、７０−８０℃の範囲を保つように、下記一般式で表される両末端Ｓｉ−Ｈシロキサン２２５ｇを滴下した。

滴下終了後、２時間、１００℃で熟成した後、ＦＴ−ＩＲによりＳｉ−Ｈ結合の消失を確認した。低沸点分を減圧下、留去した。その後、メタノール１２７ｇを加え、還流下５時間熟成し、脱保護を行った。その後再び低沸点分を減圧下除去し、化合物４を得た。分析の結果、上記化学構造式で示される化合物４であることが確認された。

また、上記化合物１〜４の合成方法に準じて、以下に示す比較化合物１〜４のオルガノシロキサン誘導体を調製した。

本発明者らは、以上のようにして調製した各種オルガノシロキサン誘導体を用いて、洗浄剤成分としての適性について検討を行った。下記表１〜３に示す各組成物を調製し、泡立ち、メーク落ち、及びヘアワックスの落ちの各種使用性について評価した。試験に用いた組成と評価結果とを併せて、下記表１〜３に示す。なお、試験の内容は以下に示すとおりである。

使用テスト（泡立ち、メーク落ち、ヘアワックスの落ち）
各実施例及び比較例の組成物について、専門パネル１０名による洗浄を行い、泡立ち、メーク落ち、ヘアワックスの落ちの各項目について官能評価を行った。評価は、以下に示すように各項目ごとに５段階（１〜５点）の評価点方式により行い、１０名の平均点を算出し、下記判定基準により評価した。
（判定基準）
◎：非常に良好（平均点が４．５点以上）
○：良好（平均点が３．５点以上４．５未満）
△：普通（平均点が２．５点以上３．５点未満）
×：不良（平均点が２．５点未満）

泡立ち
（評価点基準）
５点：泡立ちが良い（泡の量が多い）
４点：泡立ちがやや良い（泡の量がやや多い）
３点：普通
２点：泡立ちがやや悪い（泡の量がやや少ない）
１点：泡立ちが悪い（泡の量が少ない）
メーク落ち
（評価点基準）
５点：メークの落ちがよい
４点：ややメークの落ちがよい
３点：普通
２点：ややメークの落ちが悪い
１点：メークの落ちが悪い
ヘアワックスの落ち
（評価点基準）
５点：ヘアワックスの落ちがよい
４点：ややヘアワックスの落ちがよい
３点：普通
２点：ややヘアワックスが悪い
１点：ヘアワックスの落ちが悪い

また、上記使用テストにおいては、下記の市販メーキャップ化粧料（ファンデーション、口紅、マスカラ）及びヘアワックスを使用した。なお、これらのメーキャップ化粧料及びヘアワックスには、いずれもシリコーン化合物が配合されている。
ファンデーション：マキアージュ フローレンス スキンリキッド ＵＶ（資生堂）
口紅：マキアージュ カラーオン クライマックスルージュ ＲＤ３５０（資生堂）
マスカラ：マキアージュ マスカラコーミンググラマー（資生堂）
ヘアワックス：ＵＮＯ ツーウェイスーパーワックス（資生堂）

上記表1に示すように、化合物１〜３のオルガノシロキサン誘導体と、脂肪酸石ケン（ラウリン酸ナトリウム）とをともに配合した実施例１〜４の洗浄料においては、メーク落ち、ヘアワックスの落ちといった化粧料の洗浄効果に優れるとともに、良好な泡立ち性を示すものであった。一方で、脂肪酸石ケンを単独で用いた比較例１では、泡立ちは良好であるものの、洗浄性に劣るものであった。また、オルガノシロキサン誘導体を単独で用いた比較例２では、洗浄効果に優れていれるものの、泡立ちがまったく得られなかった。

さらに、上記表２に示すように、シリコーン基の短いオルガノシロキサン誘導体（比較化合物１）を用いた比較例３では洗浄性の点で劣っており、シリコーン基の長いオルガノシロキサン誘導体（比較化合物２〜４）を用いた比較例４〜６では、洗浄効果は得られるものの、オルガノシロキサン誘導体の消泡作用のため、泡立ちがまったく得られなかった。また、シリコーン油（ジメチコン）や従来のシリコーン系界面活性剤、炭化水素油（流動パラフィン）、エステル油（トリオクタン酸セチル）を用いた比較例７〜１１においても、優れた泡立ちと洗浄効果とを両立した洗浄料は得られなかった。

上記表３から明らかなように、脂肪酸石ケンとともに、本発明のオルガノシロキサン誘導体（化合物１）を０．５〜１８質量％配合した実施例５〜８の洗浄料においては、洗浄効果、泡立ち性ともに優れた効果を示すものであった。これに対して、オルガノシロキサン誘導体無配合の比較例１２、脂肪酸無配合の比較例１３では、泡立ち性あるいは洗浄効果のいずれかの点で著しく劣っているものであった。

以下、本発明のオルガノシロキサン誘導体と、各種アニオン界面活性剤とを配合した洗浄料の処方例を具体的に示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
処方例１：メーク落とし石鹸
（配合成分） （質量％）
（１）化合物１ ２
（２）エタノール １０
（３）グリセリン １０
（４）ジグリセリン ３
（５）ソルビット液 ８
（６）イソステアリン酸 ２
（７）ステアリン酸 ５
（８）ミリスチン酸 １５
（９）パルミチン酸 ３
（１０）ポリオキシエチレン（２５） ３
ポリオキシプロピレングリコール（３０）
（１１）ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム ０．１
（１２）２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ− ２
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
（１３）ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタイン ２
（１４）ポリ塩化ジメチルメチレンピペリジニウム ０．５
（１５）酸化チタン ０．１
（１６）水酸化ナトリウム液（４８％） ７
（１７）水酸化カリウム液（４７％） ３
（１８）塩化ナトリウム ０．１
（１９）メタリン酸ナトリウム ０．１
（２０）グリチルリチン酸ジカリウム ０．０５
（２１）ヒドロキシエタンジホスホン酸４ナトリウム（３０％） 適量
（２２）エチレンジアミンヒドロキシエチル三酢酸三ナトリウム 適量
（２３）白糖 １０
（２４）精製水 残余
（製造方法）
（２４）中に（１０）から（１４）、（１８）から（２３）を加え溶解させる。ついで（１）から（９）を加えて７５度で溶解させ、（１６），（１７）を加えて中和させる。容器に充填し、冷却し固形石けんを得る。

処方例２：メーク落とし石鹸
（配合成分） （質量％）
（１）化合物２ ４
（２）エタノール １５
（３）ソルビット液 １０
（４）ポリオキシプロピレン（９）ジグリセリルエーテル ４
（５）ヒマシ油 ２
（６）イソステアリン酸 ２
（７）ステアリン酸 ７
（８）ラウリン酸 ６
（９）ミリスチン酸 １１
（１０）パルミチン酸 ３
（１１）ドデカン−１，２−ジオール酢酸エーテルナトリウム ３
（１２）Ｎ−メチルタウリンナトリウム ５
（１３）水酸化ナトリウム ４
（１４）塩化ナトリウム ０．５
（１５）カモミラエキス ０．１
（１６）ジブチルヒドロキシトルエン 適量
（１７）ヒドロキシエタンジホスホン酸４ナトリウム（３０％） ０．１
（１８）エデト酸３ナトリウム ０．１
（１９）４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’− ０．０５
メトキシジベンゾイルメタン
（２０）パラメトキシケイヒ酸２−エチルヘキシル ０．０５
（２１）白糖・ソルビット混合物 １５
（２２）色素 適量
（２３）精製水 残余
（２４）香料 適量
(製造方法）
（１）〜（１２）、（１４）〜（２３）をすべて加えて７５度で溶解させる。溶解後（１３）で中和し、最後に（２４）を加えて、その後２５℃まで急冷し本品を得る。

処方例３：メーク落としフォーム
（配合成分） （質量％）
（１）化合物３ ３
（２）グリセリン ６
（３）ジプロピレングリコール ４
（４）イソステアリン酸 ２
（５）ラウリン酸 ８
（６）ミリスチン酸 ５
（７）ジイソステアリン酸ポリエチレングリコール ４
（８）ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド ２．５
（９）ヤシ油脂肪酸サルコシントリエタノールアミン １０
（１０）２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ− １３
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
（１１）ポリ塩化ジメチルメチレンピペリジニウム液 ０．５
（１２）トリエタノールアミン １２．４
（１３）塩化ナトリウム ０．５
（１４）ジブチルヒドロキシトルエン 適量
（１５）エデト酸３ナトリウム 適量
（１６）精製水 残余
（１７）香料 適量
(製造方法）
（１）〜（１１）、（１３）〜（１６）をすべて加えて７５度で溶解させる。溶解後（１２）で中和し、最後に（１７）を加えて、その後２５℃まで急冷し本品を得る。

処方例４：メーク落としフォーム
（配合成分） （質量％）
（１）化合物４ ３
（２）グリセリン ２５
（３）ソルビット液（70％） ５
（４）ポリエチレングリコール１５００ １０
（５）サラシミツロウ １
（６）ステアリン酸 ９
（７）ラウリン酸 ４
（８）ミリスチン酸 １０
（９）ポリオキシエチレン（２５） ２
ポリオキシプロピレングリコール（３０）
（１０）イソステアリン酸ポリオキシエチレングリセリル ２
（１１）自己乳化型モノステアリン酸グリセリン ２
（１２）ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム １．５
（１３）ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン １
（１４）タルク ０．１
（１５）水酸化カリウム ４
（１６）ボタンエキス ０．１
（１７）メリッサエキス ０．１
（１８）エデト酸３ナトリウム 適量
（１９）エチルセルロース 適量
（２０）ポリエチレン末 ３
（２１）精製水 残余
（２２）香料 適量
（製造方法）
（１）〜（１４）、（１６）〜（２１）をすべて加えて７５度で溶解させる。溶解後（１５）で中和し、最後に（２２）を加えて、その後２５℃まで急冷し本品を得る。

処方例５：ヘアワックス落としシャンプー
（１）化合物１ナトリウム塩 ３
（２）グリセリン ３
（３）ポリオキシエチレンラウリルエーテル（１２ＥＯ） １
（４）ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド ３
（５）ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム １５
（６）ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン ４
（７）ポリマーＪＲ−４００（アマコール社製） ０．６
（８）クエン酸 ０．２５
（９）無水リン酸１水素ナトリウム ０．１
（１０）イリス根エキス ０．０２
（１１）安息香酸ナトリウム 適量
（１２）エデト酸２ナトリウム 適量
（１３）水 残余
（１４）香料 適量
（製造方法）
（１）〜（６）、（８）〜（１３）をすべて加えて６０度で溶解させる。溶解後（７）を加えて十分攪拌する、最後に（１４）を加えて、その後２５℃まで急冷し本品を得る。

処方例６：ヘアワックス落としシャンプー
（配合成分） （質量％）
（１）化合物２ナトリウム塩 ３
（２）ジステアリン酸エチレングリコール １．５
（３）ヤシ油脂肪酸エタノールアミド ５．５
（４）ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム ８
（５）ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタイン ５
（６）ポリマーＪＲ−４００（アマコール社製） ０．５
（７）クエン酸 ０．５
（８）塩化ナトリウム １．２
（９）ビワ葉エキス ０．１
（１０）フェノキシエタノール ０．１
（１１）安息香酸ナトリウム 適量
（１２）エデト酸２ナトリウム 適量
（１３）精製水 残余
（１４）香料 適量
（製造方法）
（１）〜（５）、（７）〜（１３）をすべて加えて６０度で溶解させる。溶解後（６）を加えて十分攪拌する、最後に（１４）を加えて、その後２５℃まで急冷し本品を得る。

Claims (3)

1. 下記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体塩と、
   炭素数１０〜２０のアルキル基を有するカルボン酸塩、硫酸塩、スルホン酸塩、又はリン酸塩から選ばれる１種以上のアニオン性界面活性剤と
   を含有する洗浄料。
   

   

   （式中、Ｒ ^１ 及びＲ ^２ は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ ^４ ） _３ で表される官能基（Ｒ ^４ は、炭素数１〜６のアルキル基である）であり、Ｒ ^３ は炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｍは金属原子又は有機陽イオンである。Ａは、Ｃ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは６〜２０の整数である。）
2. 請求項１に記載の洗浄料において、オルガノシロキサン誘導体塩が、一般式（１）において、Ｒ ^１ 及びＲ ^２ が−Ｏ−Ｓｉ（−ＣＨ _３ ） _３ で表される官能基であり、Ｒ ^３ が−ＣＨ _３ であり、ｑが１０の整数であることを特徴とする洗浄料。
3. 請求項１又は２に記載の洗浄料において、アニオン性界面活性剤が、脂肪酸石ケン、アシルメチルタウリン塩、及びアルキルエーテルカルボン酸塩の１種以上であることを特徴とする洗浄料。