JP5302122B2

JP5302122B2 - 液晶表示パネル

Info

Publication number: JP5302122B2
Application number: JP2009161527A
Authority: JP
Inventors: 慎一郎野村; 晋太郎 ▲浜▼
Original assignee: 株式会社ジャパンディスプレイウェスト
Priority date: 2009-07-08
Filing date: 2009-07-08
Publication date: 2013-10-02
Anticipated expiration: 2029-07-08
Also published as: JP2011017822A

Description

本発明は、表示領域の周縁領域に、走査線及び信号線と、第１引き回し配線及び第２引
き回し配線等の引き回し配線とが形成され、表示領域及び引き回し配線形成領域に平坦化
膜が形成された液晶表示パネルに関する。更に詳しくは、本発明は、それら引き回し配線
が所定の配線切り替え領域において部分的に平坦化膜が除去された状態で接続電極によっ
てブリッジ接続されおり、更にこの接続電極がほぼ均一な膜厚の有機樹脂膜で被覆された
液晶表示パネルに関する。

液晶表示パネルはＣＲＴ（陰極線管）と比較して軽量、薄型、低消費電力という特徴が
あるため、表示用として多くの電子機器に使用されている。液晶表示パネルの液晶層に電
界を印加する方法として、縦電界方式のものと横電界方式のものとがある。縦電界方式の
液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配置される一対の透明基板上にそれぞれ電極が設けら
れ、これら一対の電極により、概ね縦方向の電界を液晶分子に印加するものである。この
縦電界方式の液晶表示パネルとしては、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertica
l Alignment）モード、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モード等のものが知
られている。

また、横電界方式の液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配設される一対の基板のうちの
一方の内面側にのみ一対の電極を絶縁して設け、概ね横方向の電界を液晶分子に対して印
加するものである。この横電界方式の液晶表示パネルとしては、一対の電極が平面視で重
ならないＩＰＳ（In-Plane Switching）モードのものと、重なるＦＦＳ（Fringe Field S
witching）モードのものとが知られている。

このように、液晶表示パネルには複数の方式のものが知られている。これらの液晶表示
パネルは、いずれも液晶分子の配向を変化させるための電界を形成する画素電極及び共通
電極と、マトリクス状に整列された画素ごとに画素電極の電圧を変化させるための走査線
及び信号線が、アレイ基板の表示領域に形成されている。

そして、アレイ基板の非表示領域にはドライバー用ＩＣとの電気的接続用の電極端子が
形成され、これらの電極端子には走査線及び信号線が走査線と同一材料の走査線引き回し
配線及び信号線と同一材料の信号線引き回し配線とからなる引き回し配線を介して電気的
に接続されている。これらの引き回し配線は表示領域の周縁領域に形成されるが、走査線
及び信号線用の引き回し配線は非常に数が多いので、広い周縁領域が必要とされる。特に
、ドライバー用ＩＣが、信号線の延在方向に配設されているときは、表示領域が液晶表示
パネルの左右のいずれにも偏らずに中央に配置されているようにするためには、走査線用
の引き回し配線を表示領域の左右の両側から信号線の延在方向に引き回す必要があるため
、更に広い周縁領域が必要とされる。

このような周縁領域に必要な面積を減らす目的で、下記特許文献１には、引き回し配線
を多層構造化した液晶表示パネルが開示されている。ここで、下記特許文献１に開示され
ている液晶表示パネルの引き回し配線の構成を図５及び図６を用いて説明する。なお、図
５Ａは従来例の液晶表示パネルの周縁領域左側における引き回し配線の配置を示す部分拡
大平面図、図５Ｂは図４ＡのIVＢ−IVＢ線の断面図である。図６Ａは従来の液晶表示パネ
ルの配線切り替え領域の平面図であり、図６Ｂは図５ＡのＶＢ−ＶＢ線の断面図である。

なお、理解を容易とするために、図５Ａにおいては、走査線と同一材料で形成された導
電部材を点線で示し、信号線と同一材料で形成された導線部材を実線で示している。

下記特許文献１に開示された液晶表示パネル５０においては、アレイ基板ＡＲは、透明
なガラス基板１１の表面に走査線１２及び信号線１３とがマトリクス状に配置された表示
領域と、表示領域の左右両側（図５Ａにおいては左側のみ示されている）及び下側に位置
する周縁領域とに区画されている。周縁領域には、信号線１３の延在方向に、ドライバー
用ＩＣ（図示省略）ないし外部回路との接続のための走査線用電極端子１４及び信号線用
電極端子１５が設けられており、周縁領域には更に、走査線１２と走査線用電極端子１４
とを接続するための引き回し配線１６が形成されている。

引き回し配線１６は、走査線１２と同一材料からなる第１引き回し配線１６ａと、信号
線１３と同一材料からなる第２引き回し配線１６ｂとからなる。図５Ｂに示されているよ
うに、これらの第１引き回し配線１６ａと、第２引き回し配線１６ｂとは、間に第１絶縁
膜（一般にゲート絶縁膜と称される）１７を挟んで２層構造化されると共に、一般的には
平面視で互いに重なることなく互い違いに隣接配置されている。そして、この種の液晶表
示パネル５０においては、表示領域に透明樹脂材料からなる平坦化膜が形成されている場
合、図５Ｂに示されているように、引き回し配線形成領域にも平坦化膜ＯＶＬが形成され
ている。

第１絶縁膜１７の下側に配置されている第１引き回し配線１６ａの一部は、一端が走査
線１２の端部と直接接続され、他端が第１絶縁膜１７の下側に形成された走査線用電極端
子１４と直接接続されている。また、第１絶縁膜１７の上側に形成された第２引き回し配
線１６ｂは、第１配線切り替え領域１８において走査線１２と電気的に接続され、第２配
線切り替え領域１９において再度第１引き回し配線１６ａに切り替えられて走査線用電極
端子１４と電気的に接続されている。更に、信号線１３は、信号線引き回し配線１６ｃに
よって直接、又は適宜走査線と同一材料からなる別の引き回し配線（図示省略）に切り替
えられて、信号線用電極端子１５に電気的に接続されている。

図６Ａ及び図６Ｂは一例としてのＶＡモードの液晶表示パネルの配線切り替え領域を示
す図である。図６Ａに示すように、第１配線切り替え領域１８（図５Ａ参照）においては
、第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとは、互いの端部が一定の距離Ｌを
隔てて隣接配置されている。

そして、図６Ｂに示されるように、第１引き回し配線１６ａの表面を被覆する第１絶縁
膜１７、第１絶縁膜１７の表面を被覆する第２絶縁膜（一般にパッシベーション膜と称さ
れる）２０、及び第２絶縁膜２０の表面を被覆する透明樹脂膜からなる平坦化膜ＯＶＬに
は、第１引き回し配線１６ａの一部表面を露出させる第１コンタクトホール２１が形成さ
れている。なお、この平坦化膜ＯＶＬは、表示領域において平坦化膜ＯＶＬの表面に形成
される画素電極等の表面を平坦化するために、いわゆるアレイ基板ＡＲ全体を覆うように
形成されるものである。また、この例は、ＶＡモードの液晶表示パネルを示すものであり
、アレイ基板ＡＲ上に画素電極と共通電極とが形成されるＦＦＳモードの横電界方式の液
晶表示パネルであれば、平坦化膜ＯＶＬの表面は更に第３絶縁膜（一般に電極間絶縁膜と
称される）で被覆されている。

一方、図６Ｂに示されるように、第２引き回し配線１６ｂの表面を被覆する第２絶縁膜
２０及び平坦化膜ＯＶＬには、第２引き回し配線１６ｂの一部表面を露出させる第２コン
タクトホール２２が形成されている。そして、これら第１コンタクトホール２１と第２コ
ンタクトホール２２を被覆するようにして、たとえば画素電極と同一材料の透明導電性材
料からなる接続電極２３が平坦化膜ＯＶＬの表面に形成されており、この接続電極２３に
より、第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとがブリッジ接続されている。

なお、液晶表示パネルがＦＦＳモードで作動するものである場合には、平坦化膜ＯＶＬ
と接続電極２３との間には更に第３絶縁膜が存在し、接続電極２３は第３絶縁膜の表面に
形成されることとなる。なお、この場合においても、第２配線切り替え領域１９（図５Ａ
参照）の構成は、実質的に第１配線切り替え領域１８と同様の構成であるので、図示省略
した。

この下記特許文献１に開示されている液晶表示パネル５０によれば、第１引き回し配線
１６ａ及び第２引き回し配線１６ｂからなる引き回し配線１６が２層構造化されているこ
とから、引き回し配線間のピッチを狭めることができ、周縁領域の占める面積の狭小化が
達成される。

特開２００５−９１９６２号公報

このような液晶表示パネルの配線切り替え領域においては、接続電極２３の表面には、
更に、配向膜等の有機樹脂膜２４が形成される。この有機樹脂膜２４は、未硬化の状態で
ローラー等によって接続電極２３の表面にほぼ均一に塗布されたのち、固化させることで
形成される。

ところが、第１コンタクトホール２１と第２コンタクトホール２２との間に存在する平
坦化膜ＯＶＬは、露光・現像処理を経て形成されるが、更に、第１コンタクトホール２１
及び第２コンタクトホール２２の形成のためのエッチング媒体に曝されるため、図６Ｂに
示すように、隆起状に形成されてしまう。このため、接続電極２３の表面に有機樹脂膜形
成材料を塗布すると、この隆起部分（領域Ａ）では、塗布された直後の有機樹脂膜形成材
料が、平坦化膜ＯＶＬの頂上付近から第１コンタクトホール２１及び第２コンタクトホー
ル２２側へと流れこんでしまうため、この領域Ａでは接続電極２３の十分なカバレッジを
確保し難いという問題がある。

このような領域Ａでは、接続電極２３上へ積層させる有機樹脂膜が均一な膜厚とならずに
、カバレッジ不良現象が生じ、接続電極２３の表面が露出してしまうために、接続電極２
３が腐食しやすく、その結果、第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとの間
の良好な電気的接続の妨げとなることがある。更に、液晶表示パネルの高精細化に伴う画
素数の増加によって引き回し配線数も増加するので、このような問題を放置すると画質劣
化の大きな要因となる。

本発明は、上述の問題点を解決すべくなされたものであり、その目的は、表示領域及び
引き回し配線形成領域に平坦化膜が形成された液晶表示パネルにおいて、第１引き回し配
線及び第２引き回し配線との間のコンタクトホールを介したブリッジ接続を透明導電性材
料からなる接続電極を用いて行い、その表面を有機樹脂膜で被覆する場合にも、有機樹脂
膜による接続電極のカバレッジ不良を抑制し、ひいては安定した表示画質を提供すること
のできる液晶表示パネルを提供することにある。

上記問題を解決するため、本発明の液晶表示パネルは、液晶層を挟持して対向配置され
た第１透明基板と第２透明基板とを備え、前記第１透明基板の前記液晶層側には、表示領
域の周辺部に引き回し配線によって前記表示領域の走査線及び信号線とそれぞれ電気的に
接続された走査線用電極端子及び信号線用電極端子とが形成されており、前記表示領域の
最も液晶層側には有機樹脂膜からなる配向膜が形成されている液晶表示パネルであって、
前記表示領域及び引き回し配線の形成領域には平坦化膜が形成されており、前記引き回し
配線は、前記走査線をそれぞれ前記複数の走査線用電極端子に引き回す複数の走査線引き
回し配線と、前記信号線をそれぞれ前記複数の信号線用電極端子に引き回す複数の信号線
引き回し配線と、前記複数の走査線引き回し配線及び／または前記複数の信号線引き回し
配線は、前記走査線と同一の走査線材料から形成された第１引き回し配線と、前記第１の
引き回し配線と電気的に絶縁され、かつ前記信号線と同一の信号線材料から形成された第
２引き回し配線とから構成されており、前記第２引き回し配線は所定の配線切り替え領域
において切り替え接続されており、前記配線切り替え領域には、前記第１絶縁膜、前記第
２絶縁膜及び前記平坦化膜を貫通して前記第１引き回し配線の表面を露出させる第１コン
タクトホールと、前記第２絶縁膜及び前記平坦化膜を貫通して前記第２引き回し配線の表
面を露出させる第２コンタクトホールとが形成されており、前記第１引き回し配線と前記
第２引き回し配線とは、前記第１及び第２コンタクトホールを被覆する接続電極によりブ
リッジ接続されており、前記配線切り替え領域のブリッジ接続部分は、前記平坦化膜が除
去されていると共に、前記接続電極の表面は前記配向膜と同一の材料からなる有機樹脂膜
で被覆されている、ことを特徴とする。

本発明の液晶表示パネルによれば、配線切り替え領域のブリッジ接続部分では平坦化膜
が除去されているので、ブリッジ接続部分の第１及び第２コンタクトホール間に存在する
接続電極の表面はその分だけ平坦化されている。そのため、その後に、接続電極の表面に
配向膜形成材料からなる流動状態の有機樹脂を塗布しても、第１及び第２コンタクトホー
ル内に流れ込む流動状態の有機樹脂量が減少するので、流動状態の有機樹脂が固化した際
に接続電極の表面に十分な厚さの有機樹脂膜を形成させることができる。そのため、本発
明の液晶表示パネルによれば、接続電極の表面が露出することが抑制されるため、接続電
極の腐食が抑制され、表示画質の劣化が少ない液晶表示パネルとなる。

本発明の液晶表示パネルにおいては、前記第１透明基板の前記表示領域の前記液晶層側
には、前記平坦化膜上に、下電極と、第３絶縁膜と、スリット状開口が形成された上電極
とが順次積層されており、前記配線切り替え領域において、前記接続電極の前記第１透明
基板側には前記第３絶縁膜が形成されており、前記接続電極は前記上電極と同一の材料で
形成されていることが好ましい。

係る態様の液晶表示パネルによれば、特に接続電極の製造工程を増やすことなく、上記
本発明の効果を奏するＦＦＳモードの横電界方式の液晶表示パネルが得られる。

本発明の液晶表示パネルにおいては、前記第１透明基板の前記表示領域の前記液晶層側
には前記平坦化膜上に透明導電性材料からなる画素電極が形成されており、前記接続電極
は前記画素電極と同一の材料で形成されているものとすることができる。

係る態様の液晶表示パネルによれば、特に接続電極の製造工程を増やすことなく、上記
本発明の効果を奏するＴＮモード、ＶＡモード、ＭＶＡモード等の縦電界方式の液晶表示
パネルないしＩＰＳモードの横電界方式の液晶表示パネルが得られる。なお、液晶表示パ
ネルがＴＮモード、ＶＡモード、ＭＶＡモード等の縦電界方式のものであれば第２透明基
板の液晶層側には透明導電性材料からなる共通電極が形成されており、また、液晶表示パ
ネルがＩＰＳモードの液晶表示パネルであれば前記画素電極と同一層に共通電極が形成さ
れている状態となる。

第１実施形態の液晶表示装置のアレイ基板を示す模式平面図である。図２Ａは本実施形態のＦＦＳモードの液晶表示パネルにおける周縁領域の第１配線切り替え領域を示す模式拡大平面図であり、図２Ｂは図２ＡのIIＢ−IIＢ線の断面図である。実施形態の液晶表示パネルの製造方法を工程順に示す図である。図３に続く実施形態の液晶表示パネルの製造方法を工程順に示す図である。図５Ａは本実施形態及び従来例に共通の液晶表示パネルの表示領域と周縁領域とを示す図であり、図５Ｂは図５ＡのＶＢ−ＶＢ線における断面図である。図６Ａは従来の液晶表示パネルの配線切り替え領域の平面図であり、図６Ｂは図６ＡのVIＢ−VIＢ線の断面図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。ただし、以下に示す実施形態は、
本発明の技術的思想を具体化するためのＦＦＳモードで作動する液晶表示パネルを例示す
るものであって、本発明をこのＦＦＳモードの液晶表示パネルに特定することを意図する
ものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態、例えばＴＮモード、ＶＡモ
ード、ＭＶＡモード等の縦電界方式の液晶表示パネルないしＩＰＳモードの横電界方式の
液晶表示パネルにも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における説明のため
に用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとする
ため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して
表示されているものではない。

図１は第１実施形態の液晶表示装置のアレイ基板を示す模式平面図である。この実施形
態の液晶表示パネル１０は、各種の画像が表示される表示領域ＤＡと、その周辺に形成さ
れた額縁領域ＰＦとを備えており、この額縁領域ＰＦの一つの端部側にドライバーＩＣな
いし外部接続のための端子部Ｄｒが形成されている。そして、額縁領域ＰＦには、表示領
域ＤＡの走査線１２を端子部Ｄｒへ引き回す引き回し配線１６及び信号線１３を端子部Ｄ
ｒへと引き回す引き回し配線１６Ｃを備えている。

なお、この実施形態の液晶表示パネル１０における周縁領域左側における引き回し配線
部分の構成は、図５Ａに示した従来例のものと実質的に相違はないので、適宜図５Ａを援
用して説明することとし、また、従来例のものと同様の構成部分については同一の参照符
号を付与して説明する。

端子部Ｄｒはガラス基板（本発明の第１透明基板に対応）１１の表面に、信号線１３の
延在方向に形成され、図５に示すように、走査線材料で形成された走査線用電極端子１４
及び信号線材料で形成された信号線用電極端子１５とを含んでいる。走査線１２と走査線
用電極端子１４とは複数の引き回し配線１６で接続されている。引き回し配線１６は、走
査線材料からなる第１引き回し配線１６ａと信号線材料からなる第２引き回し配線１６ｂ
とから形成されている。これらの第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとは
、図５Ｂに示されている従来例の液晶表示パネルの場合と同様に、間にゲート絶縁膜１７
を挟んで２層構造化されると共に、平面視で互いに重なることなく互い違いに隣接配置さ
れている。

この際、第１絶縁膜１７の下側に配置されている第１引き回し配線１６ａの一部は、一
端が走査線１２の端部と直接接続され、他端がゲート絶縁膜１７の下側に形成された走査
線用電極端子１４と直接接続されている。またゲート絶縁膜１７の上側に形成された第２
引き回し配線１６ｂは、第１配線切り替え領域１８において走査線１２と電気的に接続さ
れ、第２配線切り替え領域１９において再度第１引き回し配線１６ａに切り替えられて走
査線用電極端子１４と電気的に接続されている。更に、信号線１３は、信号線１３と第２
引き回し配線１６ｃによって直接信号線用電極端子１５に電気的に接続されている。

図２Ａは本実施形態のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０における周縁領域の第１引き
回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとの第１配線切り替え領域１８を示す模式拡大
平面図であり、図２Ｂは図２ＡのIIＢ−IIＢ線の断面図である。この第１配線切り替え領
域１８においては、図２Ａに示されるように、ガラス基板等からなるガラス基板１１の表
面に、第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとが、互いの端部が一定の距離
Ｌを隔てて、隣接配置されている。そして、図２Ｂに示されるように、走査線材料からな
る第１引き回し配線１６ａは表面がゲート絶縁膜（本発明の第１絶縁膜に対応）１７で被
覆されており、信号線材料からなる第２引き回し配線１６ｂは、ゲート絶縁膜１７の表面
に形成され、その表面がパッシベーション膜（本発明の第２絶縁膜に対応）２０で被覆さ
れている。更に、パッシベーション膜２０の表面には、平坦化膜ＯＶＬが形成され、平坦
化膜ＯＶＬの表面には電極間絶縁膜（本発明の第３絶縁膜に対応）３２が形成されている
。

第１引き回し配線１６ａの表面を被覆するゲート絶縁膜１７、パッシベーション膜２０
、平坦化膜ＯＶＬ及び電極間絶縁膜３２には、第１引き回し配線１６ａの表面を露出させ
るように、第１コンタクトホール２１が形成されている。また、第２引き回し配線１６ｂ
の表面を被覆するパッシベーション膜２０、平坦化膜ＯＶＬ及び電極間絶縁膜３２には、
第２引き回し配線１６ｂの表面を露出させるように、第２コンタクトホール２２が形成さ
れている。

そして、これら第１コンタクトホール２１と第２コンタクトホール２２は、表示領域に
おいて、電極間絶縁膜３２の表面に形成される複数のスリット状開口３０が形成された上
電極（図４（Ｅ）参照）３１と同一の材料、例えばＩＴＯ（Indium Thin Oxide）又はＩ
ＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明導電性材料からなる接続電極２３で被覆されている
。この接続電極２３により、第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとがブリ
ッジ接続されている。更に、接続電極２３の表面は、配向膜形成材料からなる有機樹脂膜
２４で被覆されている。

そして、図２Ｂから明らかなように、本実施形態の液晶表示パネル１０では、第１コン
タクトホール２１と第２コンタクトホール２２との間の領域Ａには、平坦化膜ＯＶＬが形
成されていない。すなわち、領域Ａでは、平坦化膜形成時の露光・現像処理により平坦化
膜が除去されている。このため、本実施形態の液晶表示パネルにおいては、従来例に対応
する図５Ｂの領域Ａに示したような平坦化膜ＯＶＬに起因する隆起状部分がなくなってい
るので、領域Ａにおいても接続電極２３の表面は平坦化されており、その表面に十分な厚
さの有機樹脂膜２４を確実に被覆できるようになる。

なお、本実施形態では第１配線切り替え領域１８の場合について説明したが、第２配線
切り替え領域１９の構成は、第１配線切り替え領域１８と同様であるので、図示省略する
。また、本実施形態では信号線１３は信号線１３と第２引き回し配線１６ｃによって信号
線用電極端子１５に接続した例を示したが、この信号線用電極端子１５が走査線１２と同
層に形成されている場合には上述の第２配線切り替え領域１９と同様の構成が採用される
。なお、この場合についても図示は省略する。

次に、本実施形態の液晶表示パネル１０の製造方法を図３及び図４を用いて説明する。
なお、ここではＦＦＳモードのアレイ基板ＡＲの製造方法のみを示し、カラーフィルター
基板については、従来例のものと相違はないので、その説明は省略する。また、図３及び
図４においては、左側に表示領域の１サブ画素分を、右側に周縁領域の配線切り替え領域
をそれぞれ示す。

先ず、ガラス基板１１の表面に、アルミニウムやアルミニウム合金、モリブデン等から
なる走査線材料を用いて、スパッタリング法により導電体層を成膜し、所定のパターンと
なるようにその一部をエッチング除去する。この工程により、走査線１２と信号線（図示
せず）との交差部近傍において、走査線１２の一部が部分的に幅広とされることにより、
或いは、走査線１２の一部を延在させることにより、薄膜トランジスターＴＦＴのゲート
電極Ｇが同時に形成される。更に、周縁領域においては、同様の走査線材料により、第１
引き回し配線１６ａ、コモン配線（図示省略）及び走査線用電極端子１４（図５Ａ参照）
がパターニング形成される（図３（Ａ））。

次に、前記工程によって得られたガラス基板１１の全面を覆うようにして、プラズマＣ
ＶＤ法によって、例えば窒化ケイ素からなるゲート絶縁膜１７を形成する。原料ガスとし
ては、ジシランガス、シランガス等の気体状ケイ素化合物と、アンモニア等の気体状窒素
化合物が用いられる（図３（Ｂ））。

次に、ゲート絶縁膜１７の表面に例えばアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）層及びオー
ミックコンタクト（ｎ^＋ａ−Ｓｉ）層からなる半導体膜を形成して、エッチングすること
により、ゲート電極Ｇの上方にＴＦＴの一部となる半導体層２８を形成する（図３（Ｃ）
）。

次いで、アルミニウムやアルミニウム合金、モリブデン等からなる信号線材料を用いて
スパッタリング法に導電体層を形成し、所定のパターンとなるようにその一部をエッチン
グ除去する。この工程により、走査線１２と交差する方向に延びる複数本の信号線（図示
省略）と、この信号線から延在されて半導体層２８の一部に重畳されるソース電極Ｓと、
ドレイン電極Ｄと、第２引き回し配線１６ｂとをパターニング形成する。なお、ドレイン
電極Ｄとソース電極Ｓの間にはＴＦＴのチャネル領域ｃｈが形成される（図３（Ｄ））。

次いで、前記工程によって得られたガラス基板１１の全面、すなわち信号線、ソース電
極Ｓ、ドレイン電極Ｄ、第２引き回し配線１６ｂと、更にはＴＦＴのチャネル領域ｃｈを
覆うようにして、プラズマＣＶＤ法によって、例えば窒化ケイ素からなるパッシベーショ
ン膜２０を形成する（図３（Ｅ））。

次いで、上記工程により形成された基板の表面に例えばフォトレジスト材料を塗布、露
光及び現像することによって平坦化膜ＯＶＬを形成する。なお、この平坦化膜ＯＶＬは、
基板の全面に亘って形成されるが、表示領域のドレイン電極Ｄに対応する位置と、周縁領
域の引き回し配線の配線切り替え領域Ａに対応する位置は上方が開放されるように、すな
わちそれらの部分ではパッシベーション膜２０の表面が露出されるように形成される（図
３（Ｆ））。

次いで、表示領域の所定領域に、ＩＴＯやＩＺＯ等からなる透明導電性膜をスパッタリ
ング法により成膜し、更にエッチング法により平坦化膜ＯＶＬの表面に共通電極として作
動する下電極２７を形成する（図４（Ａ））。この下電極２７は、例えば周縁領域におい
て、図示省略したコモン配線と電気的に接続される。こうして得られた基板の全面に、プ
ラズマＣＶＤ法によって例えば窒化ケイ素膜からなる電極間絶縁膜３２を形成する（図４
（Ｂ））。ただし、この電極間絶縁膜３２を形成する際のプラズマＣＶＤ条件は、平坦化
膜ＯＶＬの表面が荒れないようにするため、ゲート絶縁膜１７及パッシベーション膜２０
の形成時よりも穏やかな条件とする。

次いで、表示領域においてはドレイン電極Ｄの表面の一部が露出されるように、パッシ
ベーション膜２０及び電極間絶縁膜３２の所定位置にコンタクトホール２９をプラズマエ
ッチング法により形成する。同時に、周縁領域においては第１引き回し配線１６ａの表面
の一部が露出されるように、ゲート絶縁膜１７、パッシベーション膜２０、及び電極間絶
縁膜３２の所定位置に、第１引き回し配線１６ａをストッパー部材としてプラズマエッチ
ング法により第１コンタクトホール２１を形成する。更に、同時に、周縁領域においては
第２引き回し配線１６ｂの表面の一部が露出されるように、パッシベーション膜２０及び
電極間絶縁膜３２の所定位置に、第２引き回し配線１６ｂをストッパー部材としてプラズ
マエッチング法により第２コンタクトホール２２を形成する（図４（Ｃ））。

次いで、表示領域の所定領域に、ＩＴＯやＩＺＯ等からなる透明導電性膜をスパッタリ
ング法により成膜し、更にエッチング法により、それぞれの画素領域毎に、スリット状開
口３０が形成された上電極３１を電極間絶縁膜３２の表面に形成する。このとき、上電極
３１は、コンタクトホール２９を経てドレイン電極Ｄと電気的に接続されるので、画素電
極として作動する。また、同時に、周縁領域においては、第１引き回し配線１６ａと第２
引き回し配線１６ｂの露出された表面を被覆する接続電極２３を形成する（図４（Ｄ））
。

そして、上記工程により得られた基板の全面に亘り、配向膜形成材料である有機樹脂を
例えばローラーによって塗布し、この有機樹脂膜を硬化させることにより有機樹脂からな
る配向膜８を形成することによりアレイ基板が完成される（図４（Ｅ））。そして、この
ようにして製造されたアレイ基板と別途製造されたカラーフィルター基板（対向基板）と
を対向させ、周囲をシール材でシールして両基板間に液晶を注入することにより本実施形
態に係るＦＦＳモードの液晶表示パネル１０が得られる。

なお、上記実施形態では、上電極３１が画素電極として作動し、下電極２７が共通電極
として作動する形式のＦＦＳモードの液晶表示パネルを示した。しかしながら、本発明は
、下電極２７をドレイン電極Ｄと電気的に接続することによって画素電極として作動させ
、上電極を周辺領域でコモン配線と電気的に接続することによって共通電極として作動さ
せるＦＦＳモードの液晶表示パネルとすることもできる。

また、上記実施形態では、平坦化膜ＯＶＬを備える横電界方式の液晶表示パネルである
ＦＦＳモードの液晶表示パネルの場合を例にとって説明した。しかしながら、本発明は、
他の平坦化膜を備える液晶表示パネル、例えば、同じ横電界方式のＩＰＳモードの液晶表
示パネルや、ＴＮモード、ＶＡモード、ＭＶＡモード等の縦電界方式の液晶表示パネルの
場合にも等しく適用可能である。

例えば、平坦化膜ＯＶＬを備える横電界方式のＩＰＳモードの液晶表示パネルや、ＴＮ
モード、ＶＡモード、ＭＶＡモード等の縦電界方式の液晶表示パネルであれば、図２Ｂに
対応する接続領域の構成は単に電極間絶縁膜３２が存在しないものとなるだけであり、し
かも、表示領域の構成はそれぞれの動作モードに対応した従来例のものと相違はないので
、これらの具体的構成についての説明は省略する。

１０…液晶表示パネル１１…ガラス基板（第１透明基板）１２…走査線１３…信
号線１４…走査線用電極端子１５…信号線用電極端子１６…引き回し配線１６ａ
…第１引き回し配線１６ｂ、１６ｃ…第２引き回し配線１７…第１絶縁膜（ゲート絶
縁膜）１８…第１配線切り替え領域１９…第２配線切り替え領域２０…第２絶縁膜
（パッシベーション膜）２１…第１コンタクトホール２２…第２コンタクトホール
２３…接続電極２４…有機樹脂膜（配向膜）２７…共通電極２８…半導体層２９
…コンタクトホール３０…スリット３１…画素電極３２…電極間絶縁膜（第３絶縁
膜）ＯＶＬ…平坦化膜

Claims

液晶層を挟持して対向配置された第１透明基板と第２透明基板とを備え、前記第１透明基板の前記液晶層側には、表示領域の周辺部に引き回し配線によって前記表示領域の走査線及び信号線とそれぞれ電気的に接続された走査線用電極端子及び信号線用電極端子とが形成されており、前記表示領域の最も液晶層側には有機樹脂膜からなる配向膜が形成されている液晶表示パネルであって、
前記表示領域及び引き回し配線の形成領域には平坦化膜が形成されており、
前記引き回し配線は、
前記走査線をそれぞれ前記複数の走査線用電極端子に引き回す複数の走査線引き回し配線と、前記信号線をそれぞれ前記複数の信号線用電極端子に引き回す複数の信号線引き回し配線とから構成されており、
前記複数の走査線引き回し配線及び／または前記複数の信号線引き回し配線の一部は、前記走査線と同一の走査線材料から形成された第１引き回し配線と、前記第１引き回し配線と電気的に絶縁され、かつ前記信号線と同一の信号線材料から形成されると共に所定の配線切り替え領域において前記第１引き回し配線と切り替え接続された第２引き回し配線とから構成されており、
前記配線切り替え領域には、
前記第１引き回し配線の表面を絶縁する第１絶縁膜、前記第２引き回し配線の表面を絶縁する第２絶縁膜及び前記平坦化膜を貫通して前記第１引き回し配線の表面を露出させる第１コンタクトホールと、前記第２絶縁膜及び前記平坦化膜を貫通して前記第２引き回し配線の表面を露出させる第２コンタクトホールとが形成されており、
前記第１引き回し配線と前記第２引き回し配線とは、前記第１及び第２コンタクトホールを被覆する接続電極によりブリッジ接続されており、
前記配線切り替え領域のブリッジ接続部分は、前記平坦化膜が除去されて平坦化されており、前記接続電極の表面は前記配向膜と同一の材料からなる有機樹脂膜で被覆されている、ことを特徴とする液晶表示パネル。
前記第１透明基板の前記表示領域の前記液晶層側には、前記平坦化膜上に、下電極と、第３絶縁膜と、スリット状開口が形成された上電極とが順次積層されており、
前記配線切り替え領域において、前記接続電極の前記第１透明基板側には前記第３絶縁膜が形成されており、
前記接続電極は前記上電極と同一の材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
前記第１透明基板の前記表示領域の前記液晶層側には前記平坦化膜上に透明導電性材料からなる画素電極が形成されており、前記第２透明基板の前記液晶層側には透明導電性材料からなる共通電極が形成されており、前記接続電極は前記画素電極と同一の材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。