JP5170495B2 - 反射防止微細構造及び反射防止構造体 - Google Patents
反射防止微細構造及び反射防止構造体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5170495B2 JP5170495B2 JP2006077081A JP2006077081A JP5170495B2 JP 5170495 B2 JP5170495 B2 JP 5170495B2 JP 2006077081 A JP2006077081 A JP 2006077081A JP 2006077081 A JP2006077081 A JP 2006077081A JP 5170495 B2 JP5170495 B2 JP 5170495B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antireflection
- microstructure
- cone
- vertex
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 13
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 12
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 12
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 11
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 241000135309 Processus Species 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- FTQWRYSLUYAIRQ-UHFFFAOYSA-N n-[(octadecanoylamino)methyl]octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NCNC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FTQWRYSLUYAIRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/38—Anti-reflection arrangements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Description
すなわち、例えば波形あるいは三角形をなす無数の微細凹凸が表面に形成されていることによって、凹凸の最表面では透明性素材の存在割合が限りなく0%に近いものとなって、実質的に空気の屈折率(1.0)に等しくなる一方、凹凸の最底部では逆に空気の存在割合が限りなく0%に近いものとなって成形品の屈折率と等しくなり、中間部ではその断面における透明性素材の占める断面積に応じた屈折率となる結果、光の屈折率が当該反射防止構造の厚み方向に、空気の屈折率から透明性素材の屈折率の間で連続的に変化するようになることから、屈折率の異なる複数の薄膜から成る多層反射防止膜(この場合の屈折率は段階的に変化する)と同様の原理によって、当該反射防止膜よりも優れた反射防止性能を備えたものとなる。
すなわち、微細凹凸構造の最表面から底面までの有効屈折率変化を考えれば、微細凹凸の断面形状、すなわちその頂点と底部を結ぶ稜線の形状には、さらなる最適化の余地があるものと思われ、これによって微細凹凸構造を備えた反射防止構造体における光の反射防止効果をさらに向上させることができるものと考えられる。
X=(D/2)×{1−(Z/H)n} ・・・(1)
また、同様の反射防止微細構造において、上記錐体状突起の底面と直角をなし、当該突起の頂点を含む断面における頂点と底辺を結ぶ線が次式(2)で表されるn次の線形式(但し、錐体状突起の頂点を通る垂直断面における底面をX軸上に、上記頂点をZ軸上にとり、錐体状突起の高さをH、錐体状突起の底面の平面形状に外接する円の直径をDとし、1.5≦n≦2.5(n≠2)、D=250nm、500nm≦H≦750nm)で表される曲線であることを特徴としている。
Z=H−〔H/{(D/2) n }〕×X n ・・・(2)
X=(D/2)×{1−(Z/H)n} ・・・(1)
Z=H−〔H/{(D/2) n }〕×X n ・・・(2)
このとき、円錐状突起のアスペクト比(H/D)が小さくなると、極小値を示す次数nが低い方に若干移行することが確認されている。
また、次数nが1よりも小さい場合には、図3(c)に示すように、側面が内側に凹んだ形状となる。
また、外接する円の直径Dについて、一般には、50nmを超え、380nm未満とすることが望ましい。すなわち、底面に外接する円の直径Dが50nm以下となるような微細構造を工業的に得ることが極めて困難である一方、この直径Dが可視光線の最短波長である380nm以上となると、反射防止効果が得られなくなることによる。
また、自動車を始めとする各種の部品、例えば、ウインドウやルーフのガラス、メーターフロントカバー、ヘッドランプ、リヤフィニッシャー、液晶などの表示装置の最前面に用いるフィルムなど適用することによって、同様の反射防止効果を得ることができる。
なお、ここで用いられる活性エネルギー線としては、一般に紫外線やX線、その他電子線、電磁波などが挙げられるが特に限定されるものではない。
なお、溶融した無機系透明材料を流し込んだのち、必要に応じて、冷却しないうちに同様の反射防止微細構造を有する第2の型を押し当てることによって、基材の両面に微細構造を形成することができる。
市販の電子線描画装置で作成した金型を使用して、この金型を150℃に加熱したのち、10MPaの圧力でポリメチルメタクリレート基材の両面に1時間押し当てた後、70℃以下まで冷却することによって、底面形状が正方形であって、これに外接する円の直径Dが250nm、高さHが500nmであって(H/D=2)、次数が1.2次の線形式(1)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、変角分光光度計(大塚電子製)を用い、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、0.08%であった。
同様の電子線描画装置で作成した金型を使用して、上記実施例1と同様の操作を繰り返すことによって、ポリメチルメタクリレート基材の両面に、底面形状が正方形であって、外接する円の直径Dが250nm、高さHが750nmであって(H/D=3)、次数が1.5次の線形式(1)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用い、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、0.06%であった。
同様の電子線描画装置で作成した金型を使用して、上記実施例1と同様の操作を繰り返すことによって、ポリメチルメタクリレート基材の両面に、底面形状が正方形であって、これに外接する円の直径Dが300nm、高さHが300nmであって(H/D=1)、次数が2次の線形式(1)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を両面に備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、0.51%であった。
同様の電子線描画装置で作成した金型を使用して、上記実施例1と同様の操作を繰り返し、ポリメチルメタクリレート基材の両面に、底面形状が正方形であって、外接する円の直径Dが250nm、高さHが500nmであって(H/D=2)、次数が3次の線形式(1)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、0.57%であった。
上記実施例2で作成した金型を使用し、当該金型と基材の間に紫外線硬化樹脂を挟持した状態で紫外線を照射し、ポリメチルメタクリレート基材の裏面側に、上記実施例2と同様の形状の錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を形成した。ついで、当該基材の表面側に、基材に近い側から、膜厚が181.9nmであって屈折率が1.38の第1層、膜厚が12.8nmであって屈折率が2.5の第2層、膜厚が34.9nmであって屈折率が1.45の第3層、膜厚が37.4nmであって屈折率が2.5の第4層、膜厚が22.3nmであって屈折率が1.45の第5層、膜厚が28.6nmであって屈折率が2.5の第6層、及び膜厚が97.1nmであって屈折率が1.38の第7層をそれぞれ順次蒸着することによって、都合7層から成る多層反射防止膜を形成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、0.77%であった。
上記実施例2で作成した金型を使用して、同様の操作を繰り返すことによって、ポリメチルメタクリレート基材の両面に、上記実施例2と同様の形状の錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を形成した。次いで、当該基材の表面側のみに、直径2μm、深さ1μmの円形凹部をその表面に占める占有率が2%となるようにランダムに形成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、0.05%であった。
同様の電子線描画装置で作成した金型を使用して、上記実施例1と同様の操作を繰り返し、ポリメチルメタクリレート基材の両面に、底面形状が正方形であって、外接する円の直径Dが250nm、高さHが750nmであって(H/D=3)、次数が2次の線形式(2)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、0.03%であった。
同様の電子線描画装置で作成した金型を使用して、金型の加熱温度のみを170℃に変更したこと以外は上記実施例1と同様の操作を繰り返すことによって、ポリカーボネート基材の両面に、底面形状が円形であって、その直径(外接する円の直径)Dが250nm、高さHが500nmであって(H/D=2)、次数が1.5次の線形式(2)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、0.18%であった。
同様の電子線描画装置で作成した金型を使用して、金型の加熱温度のみを170℃に変更したこと以外は上記実施例1と同様の操作を繰り返すことによって、ポリカーボネート基材の両面に、底面形状が円形であって、その直径(外接する円の直径)Dが250nm、高さHが500nmであって(H/D=2)、次数が2.5次の線形式(2)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、0.39%であった。
同様の電子線描画装置で作成した金型を使用して、上記実施例1と同様の操作を繰り返し、ポリメチルメタクリレート基材の両面に、底面形状が正方形であって、これに外接する円の直径Dが250nm、高さHが500nmであって(H/D=2)、次数が0.4次の線形式(1)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、1.20%であった。
同様の電子線描画装置で作成した金型を使用して、上記実施例1と同様の操作を繰り返し、ポリメチルメタクリレート基材の両面に、底面形状が正方形であって、外接する円の直径Dが300nm、高さHが150nmであって(H/D=0.5)、次数が1次の線形式(1)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、2.30%であった。
ポリメチルメタクリレート基材の両面に、上記実施例5において表面側に形成した7層から成る多層反射防止膜をそれぞれ形成した。
得られた多層反射防止膜から成る反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、3.51%であった。
同様の電子線描画装置で作成した金型を使用して、上記実施例1と同様の操作を繰り返し、ポリメチルメタクリレート基材の両面に、底面形状が正方形であって、外接する円の直径Dが400nm、高さHが800nmであって(H/D=2)、次数が1次の線形式(1)で表わされる稜線形状を有する錐体状突起Pが六方細密状態に配列された反射防止微細構造を備えた反射防止構造体を作成した。
得られた反射防止構造体について、同様の変角分光光度計を用いて、光の入射角度が0度の場合における波長380〜780nmの平均反射率を測定した結果、1.6%であった。
この結果、稜線形状を表わす線形式の次数が低い比較例1、H/D比が低い比較例2、多層反射防止膜から成る比較例3、さらに錐体状突起の底面に外接する円の直径Dが可視光線の最短波長よりも大きい比較例4の平均反射率に較べて、所定の寸法、形状を備えた反射防止微細構造を備えた実施例1〜9の反射防止構造体の平均反射率が大幅に低下していることが確認された。
なお、錐体状突起が可視光線の最短波長よりも大きい400nmの頂点間距離で配置された比較例4の構造体においては、波長380〜780nmの平均反射率は1.6であったが、短波長光の反射率が特に高くなる傾向が認められた。
Claims (8)
- 多角形又は略円形底面を有する無数の錐体状突起が可視光線の波長よりも短いピッチで配置されて成る反射防止微細構造において、
上記錐体状突起の頂点を通る垂直断面における底面をX軸上に、上記頂点をZ軸上にとり、錐体状突起の高さをH、錐体状突起の底面の平面形状に外接する円の直径をDとしたとき、上記頂点を含み、底面に垂直な断面における頂点と底辺を結ぶ線が次式(1)によるn次の線形式で表される曲線であると共に、1.2≦n≦3、250nm≦D≦300nm、300nm≦H≦750nmの関係を有していることを特徴とする反射防止微細構造。
X=(D/2)×{1−(Z/H)n}・・・(1) - 多角形又は略円形底面を有する無数の錐体状突起が可視光線の波長よりも短いピッチで配置されて成る反射防止微細構造において、
上記錐体状突起の頂点を通る垂直断面における底面をX軸上に、上記頂点をZ軸上にとり、錐体状突起の高さをH、錐体状突起の底面の平面形状に外接する円の直径をDとしたとき、上記頂点を含み、底面に垂直な断面における頂点と底辺を結ぶ線が次式(2)によるn次の線形式で表される曲線であると共に、1.5≦n≦2.5(但し、n≠2)、D=250nm、500nm≦H≦750nmの関係を有していることを特徴とする反射防止微細構造。ことを特徴とする反射防止微細構造。
Z=H−〔H/{(D/2) n }〕×X n ・・・(2) - 請求項1又は2に記載の反射防止微細構造を基材の少なくとも一方の面に備えていることを特徴とする反射防止構造体。
- 上記基材が透明であることを特徴とする請求項3に記載の反射防止構造体。
- 上記基材の他方の面に多層反射防止膜を備えていることを特徴とする請求項4に記載の反射防止構造体。
- 請求項1又は2に記載の反射防止微細構造を備えた成形型と、基材の少なくとも一方を加熱した状態で両者を相対的に押し当て、基材表面に上記微細構造を形成することを特徴とする反射防止構造体の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の反射防止微細構造を備えた成形型と基材の間に活性エネルギー線硬化性樹脂を介在させた状態で活性エネルギー線を照射し、基材表面に上記微細構造を形成することを特徴とする反射防止構造体の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の反射防止微細構造を備えていることを特徴とする自動車用部品。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006077081A JP5170495B2 (ja) | 2006-03-20 | 2006-03-20 | 反射防止微細構造及び反射防止構造体 |
US11/723,391 US7551356B2 (en) | 2006-03-20 | 2007-03-19 | Anti-reflection microstructure, anti-reflection mold body, and method of manufacturing the same |
CNB2007100881998A CN100495079C (zh) | 2006-03-20 | 2007-03-20 | 防反射结构、防反射模制体及其制造方法 |
EP07005719A EP1837685A1 (en) | 2006-03-20 | 2007-03-20 | Anti-reflection microstructure, anti-reflection mold body, and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006077081A JP5170495B2 (ja) | 2006-03-20 | 2006-03-20 | 反射防止微細構造及び反射防止構造体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007256340A JP2007256340A (ja) | 2007-10-04 |
JP5170495B2 true JP5170495B2 (ja) | 2013-03-27 |
Family
ID=38227830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006077081A Expired - Fee Related JP5170495B2 (ja) | 2006-03-20 | 2006-03-20 | 反射防止微細構造及び反射防止構造体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7551356B2 (ja) |
EP (1) | EP1837685A1 (ja) |
JP (1) | JP5170495B2 (ja) |
CN (1) | CN100495079C (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4539759B2 (ja) | 2007-10-01 | 2010-09-08 | オムロン株式会社 | 反射防止シート、表示素子及びディスプレイ装置 |
JP5098571B2 (ja) * | 2007-10-25 | 2012-12-12 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
JP4935627B2 (ja) * | 2007-10-30 | 2012-05-23 | ソニー株式会社 | 光学素子および光学素子作製用原盤の製造方法 |
WO2009107871A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-03 | ソニー株式会社 | 反射防止用光学素子、および原盤の製造方法 |
US20090287733A1 (en) * | 2008-05-15 | 2009-11-19 | Chanan Steinhart | Method for preparing prepress image data |
JP2009294341A (ja) * | 2008-06-04 | 2009-12-17 | Nissan Motor Co Ltd | 撥水性反射防止構造及び撥水性反射防止成形体 |
JP2010048902A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | The Inctec Inc | 低反射透明板及びそれを用いた展示用ケース |
JP5439783B2 (ja) | 2008-09-29 | 2014-03-12 | ソニー株式会社 | 光学素子、反射防止機能付き光学部品、および原盤 |
JP5243188B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2013-07-24 | 三菱レイヨン株式会社 | 保護フィルム付き成形体 |
JP5126038B2 (ja) | 2008-12-08 | 2013-01-23 | オムロン株式会社 | 静電誘導型のエネルギー変換素子 |
JP4792545B2 (ja) * | 2009-05-27 | 2011-10-12 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
EP2447740A4 (en) * | 2009-06-23 | 2017-05-31 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Antireflection article and display device |
CN102472919B (zh) | 2009-07-30 | 2014-10-15 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置 |
JP5524549B2 (ja) * | 2009-09-15 | 2014-06-18 | テルモ株式会社 | 光プローブ |
JP5826463B2 (ja) * | 2010-05-10 | 2015-12-02 | リコー光学株式会社 | 反射防止光学素子 |
JP4849183B1 (ja) * | 2010-08-05 | 2012-01-11 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止フィルム製造用金型の製造方法 |
JP5071563B2 (ja) * | 2011-01-19 | 2012-11-14 | ソニー株式会社 | 透明導電性素子、入力装置、および表示装置 |
CN102122009B (zh) * | 2011-03-22 | 2013-04-24 | 南京炫视界光电科技有限公司 | 一种能消除光学成像中光干涉影像的反向镀抗反射膜的方法 |
US9447492B2 (en) * | 2011-06-03 | 2016-09-20 | Graham J. Hubbard | Conductive anti-reflective films |
JP2013063656A (ja) * | 2012-10-15 | 2013-04-11 | Dnp Fine Chemicals Co Ltd | 低反射透明板及びそれを用いた展示用ケース |
JP2014155689A (ja) * | 2013-01-17 | 2014-08-28 | Dexerials Corp | 顔面保護用光学素子 |
US9207363B2 (en) * | 2013-04-30 | 2015-12-08 | The Boeing Company | Anti-reflection nanostructure array and method |
JP6493900B2 (ja) * | 2013-08-09 | 2019-04-03 | デクセリアルズ株式会社 | 透明積層体、及びそれを用いた保護具 |
WO2016035650A1 (ja) * | 2014-09-02 | 2016-03-10 | Scivax株式会社 | 光学部材およびその製造方法 |
US11701195B2 (en) | 2015-10-14 | 2023-07-18 | Dexerials Corporation | Optical film, connecting member, endoscope camera drape, endoscope device, medical system, optical film production method, and connecting member production method |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002014909A2 (en) * | 2000-08-15 | 2002-02-21 | Reflexite Corporation | A light polarizer |
JP2002267815A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止性成形品およびその製造方法 |
JP2003004916A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示装置の窓材、その製造方法、及び表示装置 |
JP2003222701A (ja) * | 2002-01-29 | 2003-08-08 | Seiko Epson Corp | 光学部品及びその製造方法 |
JP2004012856A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光学素子、光学素子の成形型および光学素子の製造方法 |
US6958207B1 (en) * | 2002-12-07 | 2005-10-25 | Niyaz Khusnatdinov | Method for producing large area antireflective microtextured surfaces |
JP2004219626A (ja) | 2003-01-14 | 2004-08-05 | Sanyo Electric Co Ltd | 光学素子 |
JP4156415B2 (ja) | 2003-03-20 | 2008-09-24 | 大日本印刷株式会社 | 賦型方法、賦型フィルム、及び射出成形品 |
US7252869B2 (en) * | 2003-10-30 | 2007-08-07 | Niyaz Khusnatdinov | Microtextured antireflective surfaces with reduced diffraction intensity |
JP2005161529A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 凹凸状シートの製造方法 |
JP2005173457A (ja) * | 2003-12-15 | 2005-06-30 | Konica Minolta Holdings Inc | 反射防止構造を有する光学素子及び光学系 |
JP2005345890A (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 表面微細構造をもつメタクリル系樹脂成形体およびその製造方法 |
-
2006
- 2006-03-20 JP JP2006077081A patent/JP5170495B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-03-19 US US11/723,391 patent/US7551356B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-20 EP EP07005719A patent/EP1837685A1/en not_active Withdrawn
- 2007-03-20 CN CNB2007100881998A patent/CN100495079C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070216997A1 (en) | 2007-09-20 |
US7551356B2 (en) | 2009-06-23 |
JP2007256340A (ja) | 2007-10-04 |
CN101042442A (zh) | 2007-09-26 |
CN100495079C (zh) | 2009-06-03 |
EP1837685A1 (en) | 2007-09-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5170495B2 (ja) | 反射防止微細構造及び反射防止構造体 | |
US7697205B2 (en) | Anti-reflection fine structure, anti-reflection mold body, method of producing the anti-reflection mold body, and automobile part | |
JP2009075539A (ja) | 反射防止構造及び反射防止成形体 | |
US7940462B2 (en) | Antireflective structure and antireflective molded body | |
JP2008090212A (ja) | 反射防止性光学構造、反射防止性光学構造体及びその製造方法 | |
KR102111381B1 (ko) | 반사 방지 물품, 화상 표시 장치, 반사 방지 물품의 제조용 금형 및 반사 방지 물품의 제조용 금형의 제조 방법 | |
JP2008158293A (ja) | 親水性反射防止構造 | |
JP2008203473A (ja) | 反射防止構造及び構造体 | |
JP2009198627A (ja) | 反射防止構造及び反射防止成形体 | |
JP2008122435A (ja) | 撥水性反射防止構造及びその製造方法 | |
JP5146722B2 (ja) | 反射防止構造及び構造体 | |
WO2016035245A1 (ja) | 積層体、ならびに撮像素子パッケージ、撮像装置および電子機器 | |
JP2009042714A (ja) | 撥水性反射防止構造及びその製造方法 | |
JP2009294341A (ja) | 撥水性反射防止構造及び撥水性反射防止成形体 | |
JP2009198626A (ja) | 反射防止構造及び反射防止成形体 | |
JP2007322767A (ja) | 反射防止構造、反射防止構造体及びその製造方法 | |
JP2011169961A (ja) | 親水性反射防止構造及びその製造方法 | |
CN100541235C (zh) | 防反射结构、防反射模制体及其制造方法以及汽车部件 | |
JP2007240854A (ja) | 反射防止構造体 | |
KR20220160620A (ko) | 광학 적층체, 그리고 이것을 구비하는 편광판, 표면판 및 화상 표시 장치 | |
EP3168656B1 (en) | Optical element and method for producing same | |
JP2015184428A (ja) | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型、反射防止物品の製造方法及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 | |
JP2009198628A (ja) | 反射防止構造及び反射防止成形体 | |
JP2007187773A (ja) | 反射防止構造、反射防止成形体及びその製造方法 | |
JP2007240954A (ja) | 反射防止構造、反射防止成形体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090204 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110831 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111031 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120622 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120907 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120918 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121116 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121219 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |