JP4942685B2 - ホログラム、及び、ホログラムの製造方法 - Google Patents
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Description
該ホログラム層の上に、前記超微細凹凸の凹部内に入り込まない粒径の反射粒を含んでホログラム層に光が真直ぐ到達可能な保護層を形成したことを特徴とするホログラムである。
前記塗布膜を形成した支持基材と、紫外線透過性を有してホログラム基体を構成するエンドレス状マスターフィルムとを圧着させてホログラム基体の超微細凹凸を塗布膜に転写する圧着工程と、
当該マスターフィルムに支持基材を付着した状態で、マスターフィルムを通して紫外線を照射して支持基材表面の塗布膜を硬化させる樹脂硬化工程と、
前記支持基材から前記マスターフィルムを剥離する剥離工程と、
剥離した支持基材の表面に形成された超微細凹凸からなるホログラム層上に、前記超微細凹凸の凹部内に入り込まない粒径の反射粒を含んだ保護層を形成する保護層形成工程と、
を含むことを特徴とするホログラムの製造方法である。
この製造装置1の実施形態は、ホログラム層2を形成する支持基材3として長尺なフィルムを使用し、当該フィルムの表面に塗布した紫外線硬化樹脂にホログラム用超微細凹凸4を転写してホログラム5とするものである。支持基材3としてのフィルムは装置の上流側に巻いたた状態で供給側スタンド6に保持されており、この供給側スタンド6から巻き戻された支持基材3は支持ローラ7に支えられて下流側の紫外線硬化樹脂塗布装置8に搬送される。なお、この支持ローラ7を始めとして、下流側に適宜配置した支持ローラ7あるいは支持板9等は全体として支持基材3搬送装置を構成しており、搬送途中には後述する樹脂塗布装置8と紫外線硬化装置10と剥離装置11と印刷装置12が順次設けられており、最も下流端に、支持基材3を巻き取る巻き取りスタンド13が配置されている。なお、支持基材3は、長尺フィルムに限定されるものではなく、シートや紙などでもよい。また、印刷装置12は、ホログラム形成に関する一連の工程を連続して行う前記インラインに限らず、別個に行ういわゆるオフラインでもよい。
この印刷装置12は、図3(b)(c)に示すように、剥離した支持基材3の表面に転写で形成された超微細凹凸4のホログラム層2上に、ホログラム層2に光が真直ぐ到達可能な超微細空孔30を有すると共に超微細空孔30から外れた層内に前記超微細凹凸4の凹部内に入り込まない粒径の反射粒31を含んだ保護層32を形成するものである。
まず、ホログラム基体としてのマスターフィルム15はフィルム搬送装置によりガイドローラ16…,上加圧ローラ23aで案内されながらエンドレス状に搬送される。
2 ホログラム層
3 支持基材
4 ホログラムの超微細凹凸
5 ホログラム
6 供給側スタンド
7 支持ローラ
8 樹脂塗布装置
9 支持板
10 硬化装置
11 剥離装置
12 印刷装置
13 巻き取りスタンド
15 マスターフィルム
16 ガイドローラ
17 マスターフィルムの超微細凹凸
20 槽
21 塗布ローラ
22 ローラ
23 加圧ローラ
24 押さえローラ
30 超微細空孔
31 反射粒
31a アルミニューム粒
32 多孔保護層
40 ICタグ
41 基材
Claims (7)
- 支持基材の表面に、超微細凹凸からなるホログラム層を形成し、
該ホログラム層の上に、前記超微細凹凸の凹部内に入り込まない粒径の反射粒を含んでホログラム層に光が真直ぐ到達可能な保護層を形成したことを特徴とするホログラム。 - 前記保護層は、ホログラム層に光が真直ぐ到達可能な超微細空孔を有すると共に超微細空孔から外れた層内に前記反射粒を含んだ多孔保護層であることを特徴とする請求項1に記載のホログラム。
- 前記保護層は、反射粒としてアルミニューム粒を含んだアルミニューム印刷により形成されていることを特徴とする請求項1に記載のホログラム。
- 前記保護層は、極細グラデーション印刷により形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のホログラム。
- 前記保護層は、反射粒としてアルミニューム粒を含んだインクを使用して網状印刷により形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のホログラム。
- 前記ホログラム層を形成した支持基材の裏面側にICタグを配置し、ホログラム層の上に形成した保護層の反射粒により前記ICタグを隠蔽したことを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のホログラム。
- 支持基材に、溶剤を含まない紫外線硬化樹脂を塗布して塗布膜を形成する紫外線硬化樹脂塗布工程と、
前記塗布膜を形成した支持基材と、紫外線透過性を有してホログラム基体を構成するエンドレス状マスターフィルムとを圧着させてホログラム基体の超微細凹凸を塗布膜に転写する圧着工程と、
当該マスターフィルムに支持基材を付着した状態で、マスターフィルムを通して紫外線を照射して支持基材表面の塗布膜を硬化させる樹脂硬化工程と、
前記支持基材から前記マスターフィルムを剥離する剥離工程と、
剥離した支持基材の表面に形成された超微細凹凸からなるホログラム層上に、前記超微細凹凸の凹部内に入り込まない粒径の反射粒を含んでホログラム層に光が真直ぐ到達可能な保護層を形成する保護層形成工程と、
を含むことを特徴とするホログラムの製造方法。
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