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JP4886975B2 - 電界発光素子 - Google Patents

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Description

本発明は、新規な有機電界発光素子に関するものである。さらに詳しくは、本発明は、高効率でかつ耐久性に優れた3,6−ジアリールカルバゾール誘導体から成る新規な有機電界発光素子に関するものである。
近年、有機電界発光素子は自己発光型であるために視野角依存性に富み、視認性が高く、さらには薄膜型の完全固体素子であるために省スペース等の観点から注目され、実用化研究への展開が開始されている。しかしながら、エネルギー変換効率、発光量子効率のさらなる向上や、経時での有機薄膜の安定性の付与など解決すべき問題が多数ある。
これまで、有機電界発光素子は低分子を利用したものと高分子を利用したものが報告されている。低分子系材料においては、種々の積層構造の採用により高効率化の実現が、またドーピング法をうまくコントロールすることにより耐久性の向上が報告されている。ただし、低分子集合体の場合、長時間における経時での膜状態の変化が生じることが報告されており膜の安定性に関して、本質的な問題点を抱えている。
一方、高分子系材料においては、これまで、主にPPV(poly−p−phenylenevinylene)系列やpoly−thiophene等について精力的に検討が行われてきた。しかしながらこれらの材料系は純度を上げることが困難であることや、本質的に蛍光量子収率が低いことが挙げられ、高性能な有機電界発光素子は得られていないのが現状である。高分子系材料の場合、本質的にガラス状態が安定であることを考慮した場合、高蛍光量子効率を付与することができれば、優れた有機電界発光素子の構築が可能となる。
このように低分子系材料を利用したものと高分子系材料を利用したものには、それぞれ一長一短があることが知られている。
また最近では三重項励起子を利用した高効率化の検討も精力的になされており(C.Adachi,M.A.Baldo, S.R.Forrest and M.E.Thompson,Appl. Phys. Lett.,77,904(2000)等)、発光効率が大きく改善されることが明らかになった。これに伴い発光層に用いられるホスト材料の報告も多くなってきている。
これらのなかで代表的なホスト材料として、下記式で示される4,4′−ビス(カルバゾリル−9)ビフェニル(CBP)が挙げられるが、その後の検討により発光層中でCBPの結晶化が進行し、これが素子の寿命を短くしていることが明らかになっている(WO01/72927 A1・・・特許文献1)。
Figure 0004886975
この問題を回避するために、WO01/72927 A1、特開平9−310066号公報(特許文献2)等ではCBPに代わるカルバゾール化合物の検討がなされている。
WO01/72927 A1 特開平9−310066号公報
本発明は、上記従来技術の現状に鑑みてなされたものであり、有機層を構成する成分として、特に3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を含有した高効率でかつ耐久性に優れる新規な有機電界発光素子を提供することを目的とする。
本発明者らは鋭意検討した結果、下記一般式(1)に示される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を含有する有機層を有する有機電界発光素子が優れた発光特性を有することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明によれば、下記(1)〜()が提供される。
(1)互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、下記一般式(2)で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
Figure 0004886975
(式中、R1及びR2は、無置換のアルキル基、無置換のアルコキシ基またはハロゲン原子を表し、R3及びR4は、水素原子を表し、R5は、無置換のアルキル基、無置換のフェニル基、無置換のアルキルフェニル基、無置換のアルコキシフェニル基、または、無置換のビフェニリル基を表す。)
(2)互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、下記一般式(2)で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
Figure 0004886975
(式中、R1及びR2は、水素原子を表し、R3及びR4は、水素原子を表し、R5は無置換のアルキル基を表す。

)互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、該有機層の内の単層または複数層からなるホール輸送層に前記(1)項または(2)項に記載の一般式()で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
)互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、該有機層の内の単層または複数層からなる発光層に前記(1)項または(2)項に記載の上記一般式()で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
)互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、該有機層の内の単層または複数層からなる電子輸送層に前記(1)項または(2)項に記載の上記一般式()で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
本発明の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を単層もしくは複数層の有機層(ホール輸送層、発光層、電子輸送層等)の少なくとも一層に含有する有機電界発光素子は、新規であって、高効率でかつ耐久性に極めて優れている。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
先ず、本発明に用いる3,6−ジアリールカルバゾール誘導体についてさらに詳細に説明する。
本発明で使用される、下記一般式(1)で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体、
Figure 0004886975
(式中、R′およびR′′は水素原子、置換または無置換のアルキル基あるいは置換基を有してもよいアリール基を表し、R′′′は置換または無置換のアルキル基あるいは置換基を有してもよいアリール基を表し、ArおよびArは置換基を有してもよいアリール基を表す。)
例えば一般式(2)で表される3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体は下記経路(反応工程)で製造できる。

Figure 0004886975

第1段階の3,6−ジアリール−9H−カルバゾール誘導体は、パラジウム触媒を用いるアリールホウ素化合物と有機ハロゲン化物のクロスカップリング反応として知られているSuzuki−Miyaura反応により得られる。
上記したアリールボロン酸の代わりに、熱的に安定で空気中で容易に扱えるビス(ピナコラト)ジボロンを用いハロゲン化アリールから合成されるアリールボロン酸エステルを用いても良い。
3,6−ジハロゲノ−9H−カルバゾール誘導体における、ハロゲン原子としては反応性の点からヨウ素化物あるいは臭素化物が好ましい。
パラジウム触媒としてはPd(PPh)4、PdCl(PPh、Pd(OAc)およびPdClなど種々の触媒をもちいることができるが、最も汎用的にはPd(PPhがもちいられる。
この反応には塩基が必ず必要であるが、NaCO、NaHCOなどの比較的弱い塩基が良好な結果を与える。立体障害等の影響を受ける場合には、Ba(OH)やKPOなどの強塩基が有効である。その他苛性ソーダ、苛性カリ、金属アルコシド等、例えばカリウムt−ブトキシド、ナトリウムt−ブトキシド、リチウムt−ブトキシド、カリウム2−メチル−2−ブトキシド、ナトリウム2−メチル−2−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウムメトキシドなども用いることができる。トリエチルアミン等の有機塩基も用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル等のアルコールおよびエーテル系、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エーテル系の他、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等を挙ることができる。
第1段階で得られた3,6−ジアリール−9H−カルバゾール誘導体は、第2段階のウルマン反応により本発明で使用される3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体へ誘導される。
尚、本発明者等は別途、3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体の提案を行なった。
このようにして得られる本発明で用いる前記一般式(I)で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体及び前記一般式(2)で表される3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体の具体例を以下に示す。
前記一般式(I)および(2)中、R′R′′R′′′およびR、R、R、R、Rが置換または無置換のアルキル基である場合、以下のものを挙げることができる。
炭素数が1〜25の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基であり、これらのアルキル基は更にフッ素原子、シアノ基、フェニル基又はハロゲン原子もしくは直鎖又は分岐鎖のアルキル基で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−ブチル基、i−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、3,7−ジメチルオクチル基、2−エチルヘキシル基、トリフルオロメチル基、2−シアノエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
およびRが置換または無置換のアルコキシ基である場合は、上記置換または無置換アルキル基の結合位に酸素原子を挿入してアルコキシ基としたものが具体例として挙げられる。
およびRがハロゲン原子の場合はフッ素原子、塩素原子および臭素原子が挙げられる。
前記一般式()および(2)中、R′R′′R′′′およびR、R、R、R、RさらにAr、Arが置換基を有しても良いアリール基を表す場合、以下のものを挙げることができる。
フェニル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基等の非縮合炭化水素式芳香族多環基が挙げられ、これらは上述した置換もしくは無置換のアルキル基、アルコキシ基、及びフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を置換基として有していてもよい。

ここで、本発明で用いる3,6−ジアリールカルバゾール誘導体は、前記一般式(1)において、Ar、Arの少なくとも一方は連結基を有してもよい炭素環式芳香族基のものが好ましく、より好ましくはAr、Arの両方が連結基を有してもよい炭素環式芳香族基のものである。さらに該炭素環式芳香族基としては連結基を有しないものが好ましい。
以上で説明した3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体はホール輸送層、発光層および電子輸送層のいずれにも使用できる。カルバゾール化合物はバイポーラー性を有していることがよく知られているが、さらにその分子設計により、有機電界発光素子として求められる機能に応じて上記のようにホール輸送層、発光層および電子輸送層として適用することができる。
本発明の有機電界発光素子における有機層のうち該3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を含有する層は、公知の熱可塑性ポリマーとともにスピンコート法やキャスト法等の公知の方法によって薄膜化することができる。また湿式成膜法以外に真空蒸着法やスパッタ法等の乾式成膜法を利用することができる。
有機電界発光素子を構成する有機層は、有機層単層もしくは複数層から構成されてもよい。有機層が単層から構成される場合、その層が3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体の単独から構成されても良いし、場合によっては、電子輸送性を有する低分子化合物の分散や高分子化合物とのブレンドまたは他の電荷輸送性ポリマーとのブレンド、さらには蛍光量子効率の極めて高い蛍光分子を微量ドーピングすることも、高効率化に有効である。
電子輸送性物質としては、電子を輸送する能力を持つ既存の材料を使用することができる。例えば、フルオレノン、アントラキノジメタン、ジフェノキノン、チオピランジオキシド、ペリレンテトラカルボン酸、フルオレニリデンメタン、アントラキノジメタン、アントロン、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(以下BCPと略記する)、2,9−ジエチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン等とその誘導体やこれまで優れた電子輸送性を有する事が報告されているオキサジアゾール誘導体やトリアゾール誘導体を利用することが可能である。
蛍光量子効率の極めて高い蛍光分子としては、溶液状態において強い蛍光を示すレーザー色素等やこれまで有機電界発光素子に発光材として使用されてきた既存の低分子蛍光性材料を利用することが可能である。例えば、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、テトラセン、コロネン、クリセン、フルオレセイン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ペリノン、フタロペリノン、ナフタロペリノン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、アルダジン、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、ピラジン、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、イミン、ジフェニルエチレン、ビニルアントラセン、ジアミノカルバゾール、ピラン、チオピラン、ポリメチン、メロシアニン、イミダゾールキノレート化オキシノイド化合物、キナクリドン、ルブレン等およびそれらの誘導体がある。上記金属錯体のなかで、成膜性に優れる8−ヒドロキシキノリノールアルミニウム錯体(以下Alqと略記する)、またはその誘導体を含むキレート金属錯体系化合物が好適に使用される。
さらに、必要であれば、有機層を複数層から構成することも可能である。本発明において、前記一般式(1)、(2)で表される3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体含有層をホール注入輸送層として用いる場合は、上部にさらにスピンコート法や真空蒸着法により電子注入輸送層や発光層等を積層することが可能である。また、本発明において、前記一般式(1)、(2)で表される3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体含有層を形成する前に、ホール注入輸送層を形成することも性能向上に有効な場合がある。
ホール注入輸送層を構成する材料としては、これまで有機電界発光素子において機能することが報告されているフタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、オキサジアゾール、トリアゾール、トリフェニルアミン系化合物、ポリシラン等の既存材料を利用することが可能である。これらのなかでトリフェニルアミンに代表される第3級アミン化合物としてはN,N′−ジ−m−トリル−N,N′−ジフェニルー4,4′−ジフェニルジアミン(以下TPDと略記する)およびN,N′−ジ−1−ナフチル−N,N′−ジフェニルー4,4′−ジフェニルジアミン(以下NPDと略記する)が好ましい。
本発明において、前記一般式(1)、(2)で表される3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体含有層を電子注入輸送層として用いる場合は、上部にさらにスピンコート法や真空蒸着法によりホール注入輸送層や発光層等を積層することが可能である。
また本発明において、発光層にホスト材料として前記一般式(1)、(2)で表される3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を用いることも極めて有用である。燐光性ドーパントと組み合わせることにより、該3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体の三重項励起子状態を効果的に利用することができる。
燐光性ドーパントとしては、フェニルピリジン骨格を配位子とする、Ir、Ru、Pd、Pt、OsおよびReからなる群から選択される少なくとも1種の金属を含む金属錯体であることが好ましい。具体的にはトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(以下Ir(ppy)と略記する)、トリス(2−フェニルピリジン)ルテニウム等が好ましい。
なお本発明の3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体をホスト材料として用いる場合は、3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体に対し燐光性ドーパントを0.1から25重量%とすることが好ましい。
この様にして形成された有機層の膜厚については特に制限はなく、通常5nmから20μmの範囲で選ばれる。更に好ましくは5nmから0.2μmの範囲である。膜厚はピンホール等の膜欠陥の発生や発光波長での素子内での光干渉や膜厚増加による印加電圧の上昇等を加味して調整される。
本発明における有機電界発光素子の陽極としては4eV好ましくは4.8eVより大きな仕事関数を持つ金属、合金、酸化金属等が使用される。このような電極材料の具体例としては金、白金、パラジウム、銀、タングステン、ニッケル、コバルト、ITO、CuI、SnO、ZnO等の透明電極の利用が挙げられる。特に好ましくはITO基板が好適である。ITO基板の場合表面の平滑なものが好ましく、また表面の汚れを良く洗浄して使用する。洗浄法としては既知の方法でよいがオゾン雰囲気下での紫外線照射や酸素雰囲気下でのプラズマ処理を行ったものが好適である。
一方、陰極としては、仕事関数の4eVより小さい金属、合金等が利用される。このような物質の具体例としては、セシウム,ナトリウム、カルシウム、マグネシウム、リチウム、アルミニウム、サマリウム及びこれらの合金等が使用できる。
有機電界発光素子を面発光素子として使用する場合は、これらの電極は少なくとも一方が素子の発光波長領域において十分透明であり、その反対側は発光波長領域において十分反射率が大きいことが望まれる。端面発光の場合には透明である必要は無い。透明電極としては先に述べたITOが好ましく、その基板も透明なガラス板やプラスチック板が使用される。
得られた有機電界発光素子の環境の温湿度、雰囲気に対する安定性向上のために素子の表面に保護層を設けたり、窒化膜等で封止して素子全体を保護することが有効である。
このようにして得られた本発明の有機電界発光素子に陽極にプラスを陰極にマイナスを接続し、電圧を印加するとEL発光が観測できる。
有機電界発光素子では通電によりジュール熱が発生しその熱により有機層の再結晶化、凝集の進行等や低分子材料の拡散が生じ、これらはいずれも素子の耐久性を低下させる。本発明の有機電界発光素子では有機層に3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体等の3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を用いることにより結晶化や凝集による素子劣化や拡散による素子劣化を抑制することができ、高効率でかつ良好な耐久性を有する素子を得ることができる。
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって制限されるものではない。
製造例1
3,6−ジブロモカルバゾール20.0g、4−メトキシフェニルボロン酸20.6g、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム2.23gをエタノール60mlおよびトルエン250mlに採り、これに炭酸ナトリウムの22%水溶液120mlを加え、窒素雰囲気下5.5時間加熱還流した。熱時、ろ過助剤を用いて不溶物を除去した後、有機層を分離し減圧下溶媒を留去した。水洗後乾燥して淡褐色の粉末20.2gを得た。これをトルエン/エタノールの混合溶媒から再結晶して無色針状晶の3,6−ビス(4−メトキシフェニル)カルバゾール13.5gを得た。
融点 213.0〜214.0℃
元素分析値(%)実測値/計算値
C:82.69/82.30 H:5.61/5.58 N:3.70/3.69
赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)
NH伸縮振動 3426cm−1COC伸縮振動 1235、1035cm−1
製造例2
3,6−ビス(4−メトキシフェニル)カルバゾール13.4g、ヨードベンゼン40ml、炭酸カリウム19.3gおよび銅紛1.0gを窒素雰囲気下3時間加熱還流した。100℃まで冷却したのちトルエンを加え、ろ過助剤を用いて不溶物を除去した。溶媒を減圧下留去した後メタノールで洗浄し、無色針状晶の3,6−ビス(4−メトキシフェニル)−9−フェニルカルバゾール(CBZ1とする)14.8gを得た。融点169.5〜170.5℃。これをトルエン/エタノールの混合溶媒から再結晶して無色針状結晶を得た。
融点 170.0〜171.0℃
元素分析値(%)実測値/計算値
C:84.31/84.37 H:5.44/5.53 N:3.06/3.07
製造例3〜22
製造例1で示したSuzukiカップリング法と、製造例2で示したウルマン反応を用いて(Rがアルキル基の場合は常法のアルキル化法による)本発明で用いる3,6−ジフェニルカルバゾール誘導体を得た。結果を表1に示した。
Figure 0004886975
実施例1
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ1とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図1に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率6.6%を示した。
また、図2に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧14.4Vにおいて、最大電流密度4.065A/cmと最大発光輝度122264cd/m(図3)が観測された。また、発光スペクトルは510nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例2
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ2とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図4に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率6.0%を示した。
また、図5に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧14.9Vにおいて、最大電流密度2.575A/cmと最大発光輝度131078cd/m(図6)が観測された。また、発光スペクトルは512nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例3
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ3とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図7に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率5.1%を示した。
また、図8に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧16.9Vにおいて、最大電流密度2.670A/cmと最大発光輝度117793cd/m(図9)が観測された。また、発光スペクトルは512nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例4
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ4とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図10に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率4.5%を示した。
また、図11に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧15.2Vにおいて、最大電流密度3.715A/cmと最大発光輝度114104cd/m(図12)が観測された。また、発光スペクトルは510nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例5
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ5とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図13に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率3.1%を示した。
また、図14に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧14.3Vにおいて、最大電流密度1.408A/cmと最大発光輝度48747cd/m(図15)が観測された。また、発光スペクトルは509nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例6
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ6とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図16に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率4.8%を示した。
また、図17に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧15.2Vにおいて、最大電流密度2.115A/cmと最大発光輝度101601cd/m(図18)が観測された。また、発光スペクトルは508nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例7
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ7とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図19に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率11.2%を示した。
また、図20に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧15.8Vにおいて,最大電流密度2.640A/cmと最大発光輝度132412cd/m(図21)が観測された。また、発光スペクトルは511nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例8
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ8とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図22に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率5.0%を示した。
また、図23に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧16.1Vにおいて、最大電流密度1.012A/cmと最大発光輝度22035cd/m(図24)が観測された。また、発光スペクトルは508nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例9
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ11とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図25に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率6.7%を示した。
また、図26に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧14.5Vにおいて、最大電流密度2.386A/cmと最大発光輝度127522cd/m(図27)が観測された。また、発光スペクトルは512nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例10
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ12とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図28に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率9.2%を示した。
また、図29に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧15.5Vにおいて、最大電流密度2.605A/cmと最大発光輝度154756cd/m(図30)が観測された。また、発光スペクトルは509nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例11
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ13とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図31に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率5.5%を示した。
また、図32に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧14.2Vにおいて、最大電流密度4.269A/cmと最大発光輝度91595cd/m(図33)が観測された。また、発光スペクトルは508nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例12
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ14とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図34に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率7.0%を示した。
また、図35に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧14.7Vにおいて、最大電流密度4.317A/cmと最大発光輝度128782cd/m(図36)が観測された。また、発光スペクトルは512nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例13
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ16とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図37に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率7.9%を示した。
また、図38に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧15.1Vにおいて、最大電流密度3.737A/cmと最大発光輝度142984cd/m(図39)が観測された。また、発光スペクトルは512nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例14
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ19とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図40に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率0.8%を示した。
また、図41に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧17.3Vにおいて、最大電流密度2.594A/cmと最大発光輝度18231cd/m(図42)が観測された。また、発光スペクトルは510nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例15
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ20とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図43に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率7.2%を示した。
また、図44に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧15.4Vにおいて、最大電流密度3.384A/cmと最大発光輝度130163cd/m(図45)が観測された。また、発光スペクトルは512nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例16
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ21とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図46に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率8.0%を示した。
また、図47に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧18.0Vにおいて、最大電流密度2.195A/cmと最大発光輝度119564cd/m(図48)が観測された。また、発光スペクトルは508nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例17
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ22とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図49に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率4.2%を示した。
また、図50に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧17.6Vにおいて、最大電流密度2.698A/cmと最大発光輝度96058cd/m(図51)が観測された。また、発光スペクトルは508nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例18
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを50nm形成した。次に、発光層としてCBZ24とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlqを30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図52に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率5.5%を示した。
また、図53に示すように、良好な電流−電圧特性を示し、印加電圧15.1Vにおいて、最大電流密度3.565A/cmと最大発光輝度111574cd/m(図54)が観測された。また、発光スペクトルは512nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された。
実施例19
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを30nm形成した。次に、発光層としてCBZ25とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlq3を30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図55に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率6.9%を示した。
また、図56に示すように、良好な電流−電圧特性を示した。また、発光スペクトルは515nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された(図57)。
実施例20
110nmの膜厚のITO基板を中性洗剤、アセトン、イソプロパノールで十分に洗浄を行い、イソプロパノールで煮沸洗浄した後に、UV−オゾンチャンバーで12分間処理をして、真空蒸着装置に入れた。1×10−4Paの真空下にてホール輸送層としてTPDを30nm形成した。次に、発光層としてCBZ26とIr(ppy)を共蒸着法により20nm形成した。この際、Ir(ppy)の濃度を6wt%に保持した。さらに、電子輸送層としてBCPを10nmとAlq3を30nm蒸着した。最後に、陰極として、MgAg/Agを100/10nmの膜厚でシャドーマスクを介して蒸着を行い、デバイスを完成させた。
素子は、図55に示すような電流−量子効率の関係を示し、最大量子効率7.3%を示した。
また、図56に示すように、良好な電流−電圧特性を示した。また、発光スペクトルは515nmを中心とするIr(ppy)からの発光が観測された(図57)。
実施例1の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例1の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例1の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例2の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例2の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例2の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例3の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例3の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例3の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例4の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例4の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例4の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例5の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例5の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例5の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例6の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例6の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例6の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例7の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例7の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例7の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例8の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例8の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例8の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例9の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例9の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例9の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例10の有機電界発光素子の電流と量子効率との関係を示すグラフである。 実施例10の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例10の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例11の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例11の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例11の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例12の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例12の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例12の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例13の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例13の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例13の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例14の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例14の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例14の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例15の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例15の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例15の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例16の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例16の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例16の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例17の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例17の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例17の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例18の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例18の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例18の有機電界発光素子の発光輝度と電流との関係を示すグラフである。 実施例19、20の有機電界発光素子の電流一量子効率との関係を示すグラフである。 実施例19、20の有機電界発光素子の電流一電圧との関係を示すグラフである。 実施例19,20の有機電界発光素子の発光スペクトルを示すグラフである。

Claims (5)

  1. 互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、下記一般式(2)で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
    Figure 0004886975
    (式中、R1及びR2は、無置換のアルキル基、無置換のアルコキシ基またはハロゲン原子を表し、R3及びR4は、水素原子を表し、R5は、無置換のアルキル基、無置換のフェニル基、無置換のアルキルフェニル基、無置換のアルコキシフェニル基、または、無置換のビフェニリル基を表す。)
  2. 互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、下記一般式(2)で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
    Figure 0004886975
    (式中、R1及びR2は、水素原子を表し、R3及びR4は、水素原子を表し、R5は無置換のアルキル基を表す。
  3. 互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、該有機層の内の単層または複数層からなるホール輸送層に請求項1または2に記載の一般式(2)で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
  4. 互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、該有機層の内の単層または複数層からなる発光層に請求項1または2に記載の一般式(2)で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
  5. 互いに対向する陽極と陰極間に、単層もしくは複数層の有機層から構成される有機電界発光素子において、該有機層の内の単層または複数層からなる電子輸送層に請求項1または2に記載の一般式(2)で表される3,6−ジアリールカルバゾール誘導体を、少なくとも一層に含有することを特徴とする有機電界発光素子
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