JP4882328B2

JP4882328B2 - 光学積層体

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Publication number: JP4882328B2
Application number: JP2005284376A
Authority: JP
Inventors: 裕司堂▲崎▼; 智之堀尾
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2005-09-29
Filing date: 2005-09-29
Publication date: 2012-02-22
Anticipated expiration: 2025-09-29
Also published as: JP2007090717A

Description

本発明は、界面反射と干渉縞が防止され、表面の機械的強度に優れ、且つ光透過性基材−ハードコート層間の密着性が良好な光学積層体に関する。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置における画像表示面は、外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、光透過性基材に、防眩層または反射防止層を形成させた光学積層体（例えば、反射防止積層体）を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の反射を低減させ視認性を向上させることが一般になされている。

しかしながら、屈折率の差が大きい層を積層させた光学積層体にあっては、互いに重なり合った層の界面において、界面反射及び干渉縞が生じることがしばしば見受けられた。特に、画面表示装置の画像表示面において黒色を再現した際に、干渉縞が顕著に発生し、その結果、画像の視認性を低下させ、また画像表示面の美観を損ねるとの指摘がなされている。特に、光透過性基材の屈折率とハードコート層の屈折率が相違する場合、干渉縞の発生が生じ易いとされている。

また、ハードコート層は、通常、熱硬化型樹脂、或いは紫外線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂を用いて、透明基材フィルム上に薄い塗膜を形成してなるが、その塗膜厚みが薄いため下地の基材の変形による影響で機械的強度（鉛筆硬度）が十分に高いものではなかった。
ハードコート層の厚みを厚くすれば、硬度は向上するものの、ハードコート層の割れや剥がれが生じやすくなると同時に、ハードコート層の硬化収縮によるカールが大きくなり、実用上使用できるものにはならなかった。

これに対して、特許文献１では、透明基材フィルム上に、屈折率が１．５〜１．７の中屈折率層、屈折率が１．６〜１．８の高屈折率層、更に高屈折率層より低い屈折率材料よりなる低屈折率層を、この順で透明基材フィルム側から積層した反射防止ハードコートシートを使用することにより、界面反射及び干渉縞等を解消することができるとの提案がなされている。この先行技術は各層の屈折率に着目してなされたものといえる。また、特許文献２によれば、基材の上に、基材を溶解する溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を形成する方法が提案されている。
一方、特許文献３では、ハードコート層形成材料中に無機微粒子を一定量含有させることで、ハードコート層全体の厚みを１０〜５０μｍとしても、従来技術の如きハードコート層の割れや剥がれ、及びカールを防止しながら、優れた硬度を有するハードコートフィルムが提案されている。

特開２００３−７５６０５号公報特開２００３−２０５５６３号公報特開２０００−１１２３７９号公報

本発明は、光透過性基材−ハードコート層間における界面反射と干渉縞の発生を有効に防止し、視認性に優れ、表面の機械的強度に優れ、且つ光透過性基材−ハードコート層間の密着性が良好な光学積層体の提供を目的とするものである。

本発明者等は、光透過性基材とハードコート層の界面に、特定の物性を有する樹脂を用いて薄層を形成し、また、ハードコート層に特定の平均粒子径を有する微粒子を特定量含有させることにより、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止し、視認性に優れ、表面の機械的強度に優れ、且つ光透過性基材−ハードコート層間の密着性が良好な光学積層体を得ることができるとの知見を得て、本発明の完成に至った。

本発明に係る光学積層体は、セルローストリアセテート基材の上に、重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、かつ、２以上の（メタ）アクリル基を有する樹脂（Ａ）を含有する薄層形成用組成物の塗膜を形成し、紫外線又は電離放射線にて硬化してなる薄層と、前記薄層の上に、少なくとも分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを含有する電離放射線硬化性組成物である樹脂（Ｂ）及び平均粒子径が１０〜４０ｎｍのシリカ微粒子を含有するハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、紫外線又は電離放射線にて硬化してなり、当該シリカ微粒子が当該樹脂（Ｂ）１００重量部に対して２０〜６０重量部含有されたハードコート層が少なくとも積層されてなる、画像表示装置用の光学積層体である。

このような光学積層体は、上記薄層の存在によって、光透過性基材−ハードコート層間の屈折率がコントロールされることにより、界面反射及び干渉縞の発生を防止することができる。更にまた、ハードコート層が上記構成を有することにより、該ハードコート層全体の厚みを１０〜１００μｍ程度に厚くしても、ハードコート層の割れ、剥がれを防止することができ、優れた耐擦傷性、機械的強度及び光透過性基材−ハードコート層間の密着性を有する光学積層体を実現することができる。

本発明に係る光学積層体は、前記樹脂（Ｂ）が、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物からなる群から選択される一種または二種以上を含むものであることが好ましい。
また、本発明に係る光学積層体は、前記樹脂（Ｂ）が、少なくともウレタン（メタ）アクリレートを３０〜７０重量％含むものであることが好ましい。この場合、ハードコート層の弾性と塑性のバランスが良くなり、且つ硬度が高いことにより、製造の際、搬送・加工時にハードコート層が傷つき難く、割れ難くなる。

また、本発明に係る光学積層体は、前記樹脂（Ａ）が、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ（エチレンオキシド）変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦＥＯ（エチレンオキシド）変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＥＯ（エチレンオキシド）変性ジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−アクリロイルオキシプロピネート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される一種または二種以上の混合物であることが好ましい。

また、本発明に係る光学積層体は、前記ハードコート層が帯電防止剤及び／又は防眩剤を含んでなることができる。
また、本発明に係る光学積層体は、前記ハードコート層の上に、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、またはこれらの二種以上の層を形成してなることができる。
また、本発明に係る光学積層体は、反射防止積層体として好ましく利用される。

本発明によれば、光透過性基材−ハードコート層間における界面反射と干渉縞の発生を有効に防止し、視認性に優れ、表面の機械的強度に優れ、且つ光透過性基材−ハードコート層間の密着性が良好な光学積層体を提供することができる。

本発明に係る光学積層体は、光透過性基材の上に、重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、かつ、２以上の官能基を有する樹脂（Ａ）により形成されてなる薄層と、前記薄層の上に、少なくとも樹脂（Ｂ）及び平均粒子径が１０〜４０ｎｍのシリカ微粒子により形成されてなり、当該シリカ微粒子が当該樹脂（Ｂ）１００重量部に対して２０〜６０重量部含有されたハードコート層が少なくとも積層されてなるものである。
このような光学積層体は、上記薄層の存在によって、光透過性基材−ハードコート層間の屈折率がコントロールされることにより、界面反射及び干渉縞の発生を防止することができる。更にまた、ハードコート層が特定の平均粒子径を有するシリカ微粒子を特定量含有することにより、該ハードコート層全体の厚みを１０〜１００μｍ程度に厚くしても、ハードコート層の割れ、剥がれを防止することができ、優れた耐擦傷性、機械的強度及び光透過性基材−ハードコート層間の密着性を有する光学積層体を実現することができる。

図１に本発明の光学積層体の基本的な層構成を示す。光透過性基材２とその上に薄層３とハードコート層４により光学積層体１が形成されてなることを特徴とする。更に、光学積層体としての機能又は用途を加味して、ハードコート層の上にその他の層、例えば、帯電防止層、防眩層、低屈折率層等を１層又は２層以上形成しても良い。以下、本発明の光学積層体を構成する各層について順に説明する。

１．光学積層体
〔薄層〕
本発明による光学積層体は、前記光透過性基材の上に、重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、かつ、２以上の官能基を有する樹脂（Ａ）により薄層を形成する。この薄層が形成されることにより、光透過性基材に対し直接ハードコート層を設けた積層体の場合には光透過性基材とハードコート層との界面に生じた、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止することが可能となる。本発明にあっては、この「薄層」は薄膜、薄い塗膜等の概念を包含するものである。本発明の好ましい態様によれば、薄層の層厚は、０．００１μｍ以上、５０μｍ以下であり、好ましくは下限が０．０１μｍ以上であり、上限が２０μｍ以下である。

１）樹脂（Ａ）
薄膜形成に使用する樹脂（Ａ）は、２以上の官能基を有し、その重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、好ましくは下限が２２０以上であり、上限が９００以下のものである。
このような樹脂（Ａ）の具体例としては、（メタ）アクリル樹脂（本明細書においては、アクリル及び／又はメタクリルを（メタ）アクリルと記載する）、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコール（メタ）アクリレート（本明細書においては、アクリレート及び／又はメタクリレートを（メタ）アクリレートと記載する）、及びペンタエリスリトール（メタ）アクリレートモノステアレート等の（メタ）アクリレート樹脂からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられ、好ましくは、ウレタン樹脂が挙げられる。

これらに属する樹脂（Ａ）の具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ（エチレンオキシド）変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦＥＯ（エチレンオキシド）変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＥＯ（エチレンオキシド）変性ジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−アクリロイルオキシプロピネート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等の（メタ）アクリル酸エステル類、及びトリレンジイソシアネート、４−４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、３−イソプロフェニル−ジメチルベンジルイソシアネートヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート等のウレタン樹脂、及びこれらの混合物が挙げられる。

樹脂は２以上の官能基を有するものであるが、このような「官能基」の具体例としては、（メタ）アクリレート系の官能基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ビニル基、アルコキシル基等及びこれらの混合物が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリレート系の官能基が挙げられる。

このような官能基は、互いに塗膜形成後電離放射線及び／又は熱により硬化反応を起こすような組み合わせで用いられることが好ましい。硬化反応が行われた薄層である場合は、完成された光学積層体の薄層において樹脂（Ａ）は硬化反応生成物が含有される。樹脂（Ａ）の硬化反応生成物は、通常、用いられた樹脂（Ａ）よりも分子量が高くなっている。

２）溶剤
薄膜を形成する際に、樹脂は溶剤と混合して使用することができる。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられる。より具体的な溶剤の例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブが挙げられ、より好ましくは酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。これらの溶剤は、干渉縞を防止するのに効果的である。

〔光透過性基材〕
光透過性基材は、光を透過するものであれば、透明、半透明、無色または有色を問わないが、好ましくは無色透明のものがよい。光透過性基材の具体例としては、ガラス板；トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ジアセチルセルロース、アセテートプロピオネートセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、（メタ）アクリル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリエステル；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテル；トリメチルペンテン；ポリエーテルケトン；（メタ）アクリロニトリル等により形成した薄膜等が挙げられる。本発明の好ましい態様によれば、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）が好ましくは挙げられる。光透過性基材の厚さは、３０μｍ〜２００μｍ程度であり、好ましくは４０μｍ〜２００μｍである。

〔ハードコート層〕
「ハードコート層」とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は、樹脂、シリカ微粒子、及び任意成分により形成されてなるハードコート層形成用組成物を、前記薄層上に積層させ、乾燥させ、更に必要に応じて電離放射線及び／又は熱により硬化させて得られる。

１）樹脂（Ｂ）
樹脂（Ｂ）としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線又は電子線により硬化する電離放射線硬化型樹脂、若しくは電離放射線硬化性化合物、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、又は熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化性樹脂又は電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。

電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものが挙げられる。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。

電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。中でも、ウレタン（メタ）アクリレートを必須成分として用い、更にポリエステル（メタ）アクリレートと組み合わせることが好ましい。

前記ポリエステル（メタ）アクリレートは、ポリエステル系ポリオールのオリゴマーを（メタ）アクリレート化したもの、或いはその混合物から構成される。また、前記ウレタン（メタ）アクリレートは、ポリオール化合物とジイソシアネート化合物からなるオリゴマーを（メタ）アクリレート化したものから構成される。
上記（メタ）アクリレート化に用いる単量体は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート等がある。

又、（メタ）アクリレート化する際に、塗膜に更に硬度を付与するときは多官能モノマーを併用することができる。例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等がある。

ポリエステル系オリゴマーは、アジピン酸とグリコール（エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリブチレングリコール等）やトリオール（グリセリン、トリメチロールプロパン等）、セバシン酸とグリコールやトリオールとの縮合生成物であるポリアジペートポリオールや、ポリセバシエートポリオール等がある。又、上記脂肪族のジカルボン酸の一部又は全てを他の有機酸で置換することができる。例えば、イソフタル酸、テレフタル酸、無水フタル酸等がハードコート層により優れた硬度を与えるための構成成分として使用できる。

ポリウレタン系オリゴマーは、ポリイソシアネートとポリオールとの付加生成物から得ることができる。例えば、メチレン・ビス（ｐ−フェニレンジイソシアネート）、ヘキサメチレンジイソシアネート・ヘキサントリオールの付加体、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート・トリメチロールプロパンのアダクト体、１，５−ナフチレンジイソシアネート、チオプロピルジイソシアネート、エチルベンゼン−２，４−ジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート二量体、水添化キシリレンジイソシアネート、トリス（４−フェニルイソシアネート）チオフォスフェート等から選択したものと、次のポリオールとの反応によって得られるものである。

ポリオールの例としては、ポリオキシテトラメチレングリコール等のポリエーテル系ポリオール、ポリアジペートポリオール、ポリカーボネートポリオール等のポリエステル系ポリオール、（メタ）アクリル酸エステル類とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとのコポリマー等がある。

ウレタン（メタ）アクリレートの市販品としては、紫光ＵＶ−１７００Ｂ、紫光ＵＶ−６３００Ｂ、紫光ＵＶ−７６００Ｂ（日本合成化学（株）製）が好適に用いられる。

ハードコート層中に含まれる全樹脂（Ｂ）のうち、ウレタン（メタ）アクリレートの重量比は３０〜７０重量％、更に５０〜７０重量％であることが好ましい。この場合、ハードコート層の弾性と塑性のバランスが良くなり、且つ硬度が高いことにより、製造の際、搬送・加工時にハードコート層が傷つき難く、割れ難くなる。

電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸ブトキシエチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メトキシブチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ラウリル等の（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、（メタ）アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、（メタ）アクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）メタクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能性化合物、分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミントリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。

熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。

２）シリカ微粒子
シリカ微粒子としては、分散媒を含有しない粉末状の微粒子シリカを用いてもよいが、分散工程を省略でき、生産性が高い点からシリカ微粒子をコロイド溶液としたコロイダルシリカを用いることが好ましい。シリカの平均粒子径は硬度の点から１０〜４０ｎｍであるが、更に好ましくは１０〜３０ｎｍであり、特に好ましくは１０〜２０ｎｍである。使用する分散媒は特に限定されるものではないが、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−プロパノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等の多価アルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールの誘導体、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルアセトアミド等のアミド類、等が挙げられる。中でもアルコール類又はケトン類が好ましい。該シリカ微粒子は該分散媒に対し、１０〜６０重量％、更に３０〜５０重量％の割合で分散させることが好ましい。

シリカ微粒子の含有量は樹脂１００重量部に対し、２０重量部超、６０重量部未満、更に２５重量部以上、４０重量部以下であることが好ましい。２０重量部以下の場合、ハードコート層表面の硬度が不十分となる恐れがあり、６０重量部以上の場合、ハードコート層と薄層の界面の密着性が不十分となる恐れがある。

３）帯電防止剤及び／又は防眩剤
本発明によるハードコート層は、帯電防止剤及び／又は防眩剤を含んでなるものが好ましい。

（帯電防止剤（導電剤））
帯電防止層を形成する帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。

また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ_２（１．９５）、Ｓｂ_２Ｏ_２（１．７１）、ＳｎＯ_２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ_２Ｏ_３（２．００）、Ａｌ_２Ｏ_３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒子径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。

（防眩剤）
防眩剤としては、後記する防眩層の項で説明する防眩剤と同様のものを、上記樹脂１００重量部に対し、２０〜３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部含有させることができる。

４）溶剤
ハードコート層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合したハードコート層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。

〔その他の層〕
本発明による光学積層体は、上記した通り光透過性基材とその上に形成されてなる薄層とハードコート層とにより基本的には構成されてなる。しかしながら、光学積層体としての機能または用途を加味してハードコート層の上に、下記する一又は二以上の層を形成してもよい。また更に、中屈折率層や高屈折率層を含んで形成しても良い。

［帯電防止層］
帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂とを含んでなるものである。帯電防止剤と溶剤はハードコート層で説明したのと同様であって良い。

（樹脂）
樹脂の具体例としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物（有機反応性ケイ素化合物を含む）を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、より好ましくは、電離放射線硬化性樹脂または電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。
電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものである。
電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマー、及びモノマーの例としては、前記ハードコート層で挙げたのと同様のものを用いることができる。

通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、必要に応じて、１種若しくは２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好ましい。

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２の（メタ）アクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上の（メタ）アクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。

電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。

電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。
有機ケイ素化合物の１は、一般式Ｒ_ｍＳｉ（ＯＲ'）_ｎで表せるもので、Ｒ及びＲ'は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＯＲ'の添え字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。

電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤である。具体的には、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜１μｍ程度であることが好ましい。

［防眩層］
防眩層は、透過性基材とハードコート層または低屈折率層との間に形成されてよい。防眩層は樹脂と防眩剤とにより形成されてよく、樹脂は、ハードコート層の項で説明したのと同様であってよい。

本発明の好ましい態様によれば、防眩層は微粒子の平均粒子径をＲ（μｍ）とし、防眩層の凹凸の凸部分の鉛直方向での基材面からの最大値をＨｍａｘ（μｍ）とし、防眩層の凹凸平均間隔をＳｍ（μｍ）とし、凹凸部の平均傾斜角をθａとした場合に、下記式：
８Ｒ≦Ｓｍ≦３０Ｒ
Ｒ＜Ｈｍａｘ＜３Ｒ
１．３≦θａ≦２．５
１≦Ｒ≦８
全てを同時に満たすものが好ましい。

また、本発明の別の好ましい様態によれば、微粒子と透明樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、ｎ１、ｎ２とした場合に、Δｎ＝│ｎ１−ｎ２│＜０．１を満たすものであり、かつ、防眩層内部のヘイズ値が５５％以下である防眩層が好ましい。

（防眩剤）
防眩剤としては微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、透明樹脂組成物１００重量部に対し、２〜３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部程度である。

防眩層用組成物を調整する際に沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、防眩剤の沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、平均粒子径が０．５μｍ以下、好ましくは０．１〜０．２５μｍ程度のシリカビーズが挙げられる。
防眩層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。

［低屈折率層］
低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が１．４６以下の、やはり３０ｎｍ〜１μｍ程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。

低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％（以降も含め、百分率は、いずれも質量基準）を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４６以下）の低屈折率層を形成する。

低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、好ましくは４０〜８０％、特に好ましくは４０〜７０％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％、好ましくは１０〜５０％、特に好ましくは１５〜４５％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０％、好ましくは０〜３５％、特に好ましくは１０〜３０％含有するものであってもよい。

上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的及び効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０％以下、好ましくは１０％以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。

以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０％、特に好ましくは６４〜６８％である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。

このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５，０００〜２００，０００、特に１０，０００〜１００，０００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。

このほか、低屈折率層は、ＳｉＯ_２からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により、又はＳｉＯ_２ゾルを含むゾル液からＳｉＯ_２ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、ＳｉＯ_２以外にも、ＭｇＦ_２の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ_２薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。

２．光学積層体の製造方法
１）液体組成物の調整
薄層、ハードコート層、帯電防止層等の各層形成用組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。

２）塗工
光透過性基材表面等、各層の表面への各層形成用組成物の塗布法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。

３．光学積層体の用途
本発明による光学積層体は、ハードコート積層体として、好ましくは反射防止積層体として利用される。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、液晶パネルなどのディスプレイの表面に用いられる。

以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。尚、実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。

後述する実施例において行った評価方法は以下のとおりである。
（１）鉛筆硬度
得られた光学積層体のハードコート層表面の鉛筆硬度をＪＩＳＫ５４００に準じて評価した。試験は５回行ない、１回以上傷等の外観異常が認められなかった場合に使用していた鉛筆の硬度で表わした。例えば、３Ｈの鉛筆を用いて５回試験を行ない、１回以上傷が生じなければ、その硬度は３Ｈと表示した。

（２）干渉縞
光学積層体のハードコート層と反対面の面をサンドペーパーで擦り、その後つや消しのために黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
＜評価基準＞
評価○：干渉縞の発生はなかった。
評価×：干渉縞の発生があった。

（３）密着性
得られたハードコートフィルムの密着性の評価を、碁盤目試験（ＪＩＳＫ５４００）の方法を用いて行った。切傷の交点にわずかな剥離があって、正方形の一目一目に剥がれが無く、欠損部の面積が全正方形面積の５％以内であるものを○、５％を超えるものを×とした。

製造例１：薄層形成用組成物の調製
下記表１の組成表に従って混合し濾過して調製した薄層形成用組成物を調製した。

（実施例１）
透明基材フィルムとして、８０μｍセルローストリアセテートフィルム（ＴＦ８０ＵＦ：商品名、富士写真フィルム（株）製）を用い、基材上に製造例１で調整した薄層形成用組成物を、乾燥厚みで１０μｍとなるように塗工し、９０ｍＪの紫外線にて硬化させた。その後、ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が５０：５０となるように調製した樹脂１００重量部に対して、平均粒子径１０〜２０ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製、商品名「ＩＰＡ−ＳＴ」）をシリカ微粒子として２５重量部含有するように混合して得られたハードコート層形成用組成物を、乾燥膜厚で１０μｍとなるように薄層上に塗工し、９０ｍＪの紫外線にて硬化させることにより本発明の光学積層体を得た。

（実施例２）
樹脂（Ｂ）としてポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が７５：２５となるように調製した樹脂１００重量部に対して、平均粒子径１０〜２０ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製、商品名「ＭＥＫ−ＳＴ」）をシリカ微粒子として２５重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例１と同様の方法で本発明の光学積層体を得た。

（実施例３）
樹脂（Ｂ）としてポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が２５：７５となるように調製した樹脂を用いてハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例２と同様の方法で本発明の光学積層体を得た。

（実施例４）
ハードコート層形成用組成物中に、シリカ微粒子として平均粒子径１０〜２０ｎｍのコロイダルシリカ（三菱レイヨン株式会社製、商品名「ダイヤビームＵＫ−３９０１Ｔ」）を２５重量部含有するように混合し、得られたハードコート層形成用組成物を乾燥膜厚で２０μｍとなるように薄層上に塗工しこと以外は、前記実施例１と同様の方法で本発明の光学積層体を得た。

（実施例５）
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が５０：５０となるように調製した樹脂１００重量部に対して、平均粒子径１０〜２０ｎｍのコロイダルシリカ（三菱レイヨン株式会社製、商品名「ダイヤビームＲＱ−５００１」）をシリカ微粒子として４５重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例１と同様の方法で本発明の光学積層体を得た。

（実施例６）
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が２５：７５となるように調製した樹脂１００重量部に対して、平均粒子径１０〜２０ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製、商品名「ＭＩＢＫ−ＳＴ」）をシリカ微粒子として４５重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと、及び乾燥膜厚で１５μｍとなるように薄層上に塗工しこと以外は、前記実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。

（比較例１）
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が５０：５０となるように調製した樹脂１００重量部をハードコート層形成用組成物とし、コロイダルシリカを用いなかったこと以外は、前記実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。

（比較例２）
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が８０：２０となるように調製した樹脂１００重量部をハードコート層形成用組成物とし、コロイダルシリカを用いなかったこと以外は、前記実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。

（比較例３）
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が５０：５０となるように調製した樹脂１００重量部に対して、平均粒子径１０〜２０ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製、商品名「ＩＰＡ−ＳＴ」）をシリカ微粒子として１０重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。

（比較例４）
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が５０：５０となるように調製した樹脂１００重量部に対して、平均粒子径５０ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製、商品名「スノーテックス２０Ｌ」）をシリカ微粒子として２５重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。

（比較例５）
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が５０：５０となるように調製した樹脂１００重量部に対して、平均粒子径５０ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製、商品名「スノーテックス２０Ｌ」）をシリカ微粒子として４５重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと、及び乾燥膜厚で２０μｍとなるように薄層上に塗工しこと以外は、前記実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。

（比較例６）
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が５０：５０となるように調製した樹脂１００重量部に対して、平均粒子径１０〜２０ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製、商品名「ＭＩＢＫ−ＳＴ」）をシリカ微粒子として７０重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと、及び乾燥膜厚で２０μｍとなるように薄層上に塗工しこと以外は、前記実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。

（比較例７）
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０：商品名、東亜合成（株）製）とウレタンアクリレートオリゴマー（紫光ＵＶ−１７００Ｂ：商品名、日本合成化学（株）製）の重量比が５０：５０となるように調製した樹脂１００重量部に対して、平均粒子径１０〜２０ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製、商品名「ＭＩＢＫ−ＳＴ」）をシリカ微粒子として７０重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。

（比較例８）
透明基材に薄層を形成せず、ハードコート層形成用組成物中に、シリカ微粒子として平均粒子径１０〜２０ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製、商品名「ＩＰＡ−ＳＴ」）を２５重量部含有するように混合し、得られたハードコート層形成用組成物を透明基材フィルム上に塗工したこと以外は、前記実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。

＜結果のまとめ＞
上記実施例及び比較例で得られた光学積層体を、上記評価方法にて評価した。評価結果を表２に示す。

実施例１〜６で得られた本発明の光学積層体は、干渉縞がなく、ハードコート層表面の硬度、密着性も十分な結果となった。
一方、ハードコート層の材料としてコロイダルシリカの含有量が本発明よりも少ない比較例１〜３で得られた光学積層体は、干渉縞がなく、密着性も十分であったが、硬度が不十分だった。特にハードコート層中のウレタンアクリレートの含有量が好ましい範囲よりも少ない比較例２の光学積層体は、ハードコート層表面の硬度が低かった。

また、ハードコート層の材料としてコロイダルシリカの平均粒子径が本発明の範囲を超える比較例４及び５で得られた光学積層体は、干渉縞がなく、密着性も十分だったが、ハードコート層表面の硬度は不十分だった。

また、コロイダルシリカの含有量が本発明を超える比較例６及び７で得られた光学積層体は、干渉縞がなく、ハードコート層表面の硬度も十分だったが、密着性は不十分だった。
また、薄層を介さずに透明基材上にハードコート層を直接積層させた比較例８で得られた光学積層体は、ハードコート層表面の硬度及び密着性は十分だったが、干渉縞が発生した。

本発明に係る光学積層体の基本的な層構成を示す図である。

符号の説明

１光学積層体
２光透過性基材
３薄層
４ハードコート層

Claims

セルローストリアセテート基材の上に、重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、かつ、２以上の（メタ）アクリル基を有する樹脂（Ａ）を含有する薄層形成用組成物の塗膜を形成し、紫外線又は電離放射線にて硬化してなる薄層と、前記薄層の上に、少なくとも分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを含有する電離放射線硬化性組成物である樹脂（Ｂ）及び平均粒子径が１０〜４０ｎｍのシリカ微粒子を含有するハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、紫外線又は電離放射線にて硬化してなり、当該シリカ微粒子が当該樹脂（Ｂ）１００重量部に対して２０〜６０重量部含有されたハードコート層が少なくとも積層されてなる、画像表示装置用の光学積層体。
前記樹脂（Ｂ）が、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物からなる群から選択される一種または二種以上を含むものである、請求項１に記載の光学積層体。
前記樹脂（Ｂ）が、少なくともウレタン（メタ）アクリレートを３０〜７０重量％含むものである、請求項２に記載の光学積層体。
前記樹脂（Ａ）が、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ（エチレンオキシド）変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦＥＯ（エチレンオキシド）変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＥＯ（エチレンオキシド）変性ジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−アクリロイルオキシプロピネート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される一種または二種以上の混合物である、請求項１乃至３のいずれかに記載の光学積層体。
前記ハードコート層が帯電防止剤及び／又は防眩剤を含んでなる、請求項１乃至４のいずれかに記載の光学積層体。
前記ハードコート層の上に、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、またはこれらの二種以上の層を形成してなる、請求項１乃至５のいずれかに記載の光学積層体。
反射防止積層体として利用される、請求項１乃至６のいずれかに記載の光学積層体。