JP4785677B2 - 複素環化合物 - Google Patents
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Description
で表されるカルボスチリル誘導体が、D2受容体アンタゴニスト作用及びセロトニン2A(5−HT2A)受容体アンタゴニスト作用を有し、統合失調症及び他の中枢神経疾患の治療に有効であることが開示されている。
Aは低級アルキレン基又は低級アルケニレン基を示す。
R1は以下の基(I)〜(IV)からなる群から選ばれたシクロC3−C8アルキル基、芳香環基又は複素環基を示す:
(I)シクロC3−C8アルキル基、
(II)フェニル基、ナフチル基、ジヒドロインデニル基及びテトラヒドロナフチル基からなる群から選ばれた芳香環基、
(III)窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から4個有する飽和又は不飽和複素単環基、
(IV)[1]テトラヒドロキノキサリニル基、[2]テトラヒドロキナゾリニル基、
[3]ジヒドロキナゾリニル基、[4]インドリニル基、[5]インドリル基、[6]イソインドリニル基、[7]ベンゾイミダゾリニル基、[8]ジヒドロベンゾイミダゾリル基、[9]テトラヒドロベンゾアゼピニル基、[10]テトラヒドロベンゾジアゼピニル基、[11]ヘキサヒドロベンゾアゾシニル基、[12]ジヒドロベンゾオキサジニル基、[13]ジヒドロベンゾオキサゾリル基、[14]ベンゾイソキサゾリル基、[15]ベンゾオキサジアゾリル基、[16]テトラヒドロベンゾオキサゼピニル基、[17]ジヒドロベンゾチアジニル基、[18]ベンゾチアゾリル基、[19]ベンゾオキサチオリル基、[20]クロメニル基、[21]ジヒドロベンゾフリル基、[22]カルバゾリル基、[23]ジベンゾフリル基及び[24]キノキサリニル基からなる群より選ばれた窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から4個有するベンゼン縮合複素環基、
ここで、上記R1で示されるシクロC3−C8アルキル基、芳香環及び複素環上には、下記(1)〜(66)からなる群から選ばれた少なくとも1つの基が置換していてもよい:
(1)低級アルキル基、
(2)低級アルケニル基、
(3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(5)アリールオキシ基、
(6)低級アルキルチオ基、
(7)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(8)ヒドロキシ基、
(9)保護されたヒドロキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(11)保護されたヒドロキシ低級アルキル基、
(12)ハロゲン、
(13)シアノ基、
(14)アリール基、
(15)ニトロ基、
(16)アミノ基、
(17)置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を有するアミノ基、
(18)低級アルカノイル基、
(19)アリール基上に低級アルキル基を有していてもよいアリールスルホニル基、
(20)カルボキシ基、
(21)低級アルコキシカルボニル基、
(22)カルボキシ低級アルキル基、
(23)低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
(24)低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基、
(25)カルボキシ低級アルケニル基、
(26)低級アルコキシカルボニル低級アルケニル基、
(27)置換基として低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル低級アルケニル基、
(28)以下の基(i)−(lxxviii)からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいカルバモイル基:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルコキシ基、
(iii)ヒドロキシ低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ低級アルキル基、
(v)アリールオキシ低級アルキル基、
(vi)ハロゲン置換低級アルキル基、
(vii)低級アルキル基、低級アルカノイル基、アロイル基及びカルバモイル基からなる群からえらばれた基を有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(viii)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシカルボニル基
及びフェニル低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいシクロC3-C8アルキル基、
(ix)シクロC3-C8アルキル置換低級アルキル基、
(x)低級アルケニル基、
(xi)置換基として低級アルキル基、低級アルキル基を有していてもよいフェニル基及び低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル低級アルキル基、
(xii)低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
(xiii)フリル低級アルキル基(フリル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)
(xiv)テトラヒドロフリル低級アルキル基、
(xv)1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、
(xvi)テトラヒドロピラニル低級アルキル基、
(xvii)ピロリル低級アルキル基(ピロリル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xviii)オキソ基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基で置換された低級アルキル基、
(xix)ピラゾリル低級アルキル基(ピラゾリル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xx)イミダゾリル低級アルキル基、
(xxi)ピリジル低級アルキル基、
(xxii)ピラジニル低級アルキル基(ピラジニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xxiii)ピロリジニル低級アルキル基(ピロリジニル基上には、オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)、
(xxiv)ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、ベンゾイル基及び低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)、
(xxv)ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xxvi)モルホリニル低級アルキル基、
(xxvii)チエニル低級アルキル基(チエニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xxviii)チアゾリル低級アルキル基、
(xxix)ジヒドロベンゾフリル低級アルキル基、
(xxx)ベンゾピラニル低級アルキル基(ベンゾピラニル基上にはオキソ基が置換していてもよい)、
(xxxi)ベンズイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxii) 低級アルキル基上に、低級アルコキシカルボニル基を有していてもよいインドリル低級アルキル基、
(xxxiii) 低級アルキル基上に、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた置換基を有するイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxiv)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピリジル基、
(xxxv)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピロリジニル基、
(xxxvi)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及び低級アルキル基及びハロゲンからなる群から選ばれた基を有していてもよいアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピペリジル基、
(xxxvii)オキソ基を有していてもよいテトラヒドロフリル基、
(xxxviii)オキソ基を有していてもよいヘキサヒドロアゼピニル基、
(xxxix)置換基として低級アルキル基、アリール基及びフリル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピラゾリル基、
(xl)チアゾリル基、
(xli)低級アルキル基を有していてもよいチアジアゾリル基、
(xlii)低級アルキル基を有していてもよいイソキサゾリル基、
(xliii)インダゾリル基、
(xliv)インドリル基、
(xlv)テトラヒドロベンゾチアゾリル基、
(xlvi)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びオキソ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいテトラヒドロキノリル基、
(xlvii) 低級アルキル基を有していてもよいキノリル基、
(xlviii)ベンゾジオキソリル低級アルキル基、
(xlix)置換基としてハロゲン;低級アルキル基;低級アルコキシ基;ハロゲン置換低級アルキル基;ハロゲン置換低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキル基及びアリール基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアミノ基;スルファモイル基;低級アルキルチオ基;低級アルカノイル基;低級アルコキシカルボニル基;ピロリル基;低級アルキニル基;シアノ基;ニトロ基;アリールオキシ基;アリール低級アルコキシ基;ヒドロキシ基;ヒドロキシ低級アルキル基;低級アルキル基及びアリール基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル基;ピラゾリル基;オキソ基を有していてもよいピロリジニル基;オキサゾリル基;低級アルキル基を有していてもよいイミダゾリル基;オキソ基を有していてもよいジヒドロフリル基;オキソ基を有していてもよいチアゾリジニル低級アルキル基;イミダゾリル低級アルカノイル基及びピペリジニルカルボニル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアリール基、
(l)シアノ低級アルキル基、
(li) 低級アルキル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいジヒドロキノリル基
(lii)ハロゲン置換低級アルキルアミノ基、
(liii)低級アルキルチオ低級アルキル基、
(liv)低級アルキル基を有していてもよいアミジノ基、
(lv)アミジノ低級アルキル基、
(lvi)低級アルケニルオキシ低級アルキル基、
(lvii)アリール基上に低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン置換低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいアリールアミノ基、
(lviii)アリール低級アルケニル基、
(lix)低級アルキル基を有していてもよいピリジルアミノ基、
(lx)アリール低級アルキル基(アリール基上及び/又は低級アルキル基上には、ハロゲン、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルコキシ基、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)、
(lxi)低級アルキニル基、
(lxii) アリールオキシ低級アルキル基(アリール基上には、低級アルコキシ基;低級アルコキシ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル基;及びオキソ基を有していてもよいピロリジニル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)、
(lxiii)オキソ基を有していてもよいイソキサゾリジニル基、
(lxiv)ジヒドロインデニル基、
(lxv)アリール低級アルコキシ低級アルキル基、
(lxvi)テトラヒドロピラニル基、
(lxvii)低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアゼチジニル基、
(lxviii) 低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアゼチジニル低級アルキル基、
(lxix)テトラゾリル基、
(lxx) オキソ基を有していてもよいインドリニル基、
(lxxi) 低級アルキル基及び低級アルキルチオ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいトリアゾリル基、
(lxxii)カルバモイル基を有していてもよいイミダゾリル基、
(lxxiii)低級アルキル基を有していてもよいオキサゾリル基、
(lxxiv) 低級アルキル基を有していてもよいイソチアゾリル基、
(lxxv)ベンゾイミダゾリル基、
(lxxvi) オキソ基を有していてもよいジヒドロベンゾチアゾリル基、
(lxxvii) 低級アルコキシカルボニル基を有していてもよいチエニル基ならびに
(lxxviii)低級アルキル基を有していてもよいオキサゾリル低級アルキル基、
(29)アミノ基上に、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、アリール基、アリール低級アルキル基、アロイル基及びアミノ置換アルキル基(アミノ置換アルキル基のアミノ基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)からなる群から選ばれた基を有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(30)低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル基が置換した低級アルキル基、
(31)低級アルキル基を有していてもよいチオカルバモイル基、
(32)スルファモイル基、
(33)オキソ基を有していてもよいオキサゾリジニル基、
(34)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいイミダゾリジニル基、
(35)オキソ基を有していてもよいピロリジニル基、
(36)イミダゾリル基、
(37)トリアゾリル基、
(38)イソキサゾリル基、
(39)低級アルキル基;低級アルカノイル基;アリールスルホニル基;オキソ基;ヒドロキシ基;及び低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアミノ基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいピペリジル基、
(40)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノイル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、カルバモイル基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基(アミノ基上に低級アルキル基、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよい)、ピペリジル基(ピペリジル基上には、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、ピペラジニル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デシル基、モルホリニル基、ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基(ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、ピリジル基、ピリジルオキシ基、ピリジル低級アルコキシ基、テトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を有していてもよい)、ベンゾジオキソリル基、アリール低級アルコキシ基(アリール基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、アリール基(アリール基上にはハロゲン、低級アルコキシ基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、アリールオキシ基(アリール基上にはシアノ基、ハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、アリール低級アルキル基(アリール基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)及びアロイル基(アリール基上にはハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいピペリジルカルボニル基、
(41)置換基としてヒドロキシ低級アルキル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アミノ基、アミノ基(アミノ基上には、低級アルキル基、低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基、ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、アリールオキシ基(アリール基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を有していてもよい)、アリールオキシ低級アルキル基(アリール基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を有していてもよい)及びテトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を有していてもよい)からなる群から選ばれた基を有していてもよいピロリジニルカルボニル基、
(42)置換基として低級アルキル基、シクロC3-C8アルキル基、低級アルカノイル基、
ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、1,3−ジオキソラニル
低級アルキル基、テトラヒドロフリル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基(低級アルキル基上には、フェニル基が置換していてもよい)、イミダゾリル低級アルキル基、フリル低級アルキル基、ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、置換基として低級アルキル基を有していてもよいピペリジル基、ピリジル基(ピリジル基上には、低級アルキル基、シアノ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)及びチエノ[2,3-b]ピリジル基、アリール基(アリール基上にハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、アロイル基、フリルカルボニル基、アリール低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピペラジニルカルボニル基、
(43)ヘキサヒドロアゼピニルカルボニル基、
(44)置換基として低級アルキル基及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニルカルボニル基、
(45)低級アルキル基を有していてもよいジヒドロピロリルカルボニル基、
(46)チオモルホリニルカルボニル基、
(47)低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基及びアリール基からなる群から選ばれた基を有していてもよいモルホリニルカルボニル基、
(48)低級アルコキシ基及びシアノ基からなる群から選ばれた基を有してもよいアリール基を有していてもよいチアゾリジニルカルボニル基、
(49)アザビシクロ[3.2.2]ノニルカルボニル基、
(50)ハロゲン置換又は無置換のアリールオキシ基を有していてもよい8−アザビシク
ロ[3.2.1]オクチルカルボニル基、
(51)インドリニルカルボニル基、
(52)テトラヒドロキノリルカルボニル基、
(53)テトラヒドロピリド[3.4-b]インドリルカルボニル基、
(54)モルホリニル低級アルキル基、
(55)ピペラジニル基上に低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル低級アルキル基、
(56)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(57)ピペラジニル基上に低級アルキル基を有していてもよいピペラジニルカルボニル低級アルキル基、
(58)オキソ基、
(59)アミノ低級アルコキシ基(アミノ基上に低級アルキル基を有していてもよい)、
(60)低級アルコキシ低級アルコキシ基、
(61)オキソ基、低級アルキル基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピペラジニル基、
(62)モルホリニル基、
(63)オキソ基及びアリール基からなる群から選ばれた基を有していてもよい1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカニルカルボニル基、
(64)ピリジル基を有していてもよいテトラヒドロピリジルカルボニル基、
(65)チオキソ基を有していてもよいイミダゾリジニルカルボニル基、ならびに
(66)1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デカニル基]
で表される複素環化合物又はその塩。
(I A)シクロC5−C6アルキル基、
(II)フェニル基、ナフチル基、ジヒドロインデニル基及びテトラヒドロナフチル基からなる群から選ばれた芳香環基、
(III A)ピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、イソオキサゾリル、チアゾリル、ピラニル、チエニルから選ばれた窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から2個有する飽和又は不飽和複素単環基、
(IV)[1]テトラヒドロキノキサリニル基、[2]テトラヒドロキナゾリニル基、[3]ジヒドロキナゾリニル基、[4]インドリニル基、[5]インドリル基、[6]イソインドリニル基、[7]ベンゾイミダゾリニル基、[8]ジヒドロベンゾイミダゾリル基、[9]テトラヒドロベンゾアゼピニル基、[10]テトラヒドロベンゾジアゼピニル基、[11]ヘキサヒドロベンゾアゾシニル基、[12]ジヒドロベンゾオキサジニル基、[13]ジヒドロベンゾオキサゾリル基、[14]ベンゾイソキサゾリル基、[15]ベンゾオキサジアゾリル基、[16]テトラヒドロベンゾオキサゼピニル基、[17]ジヒドロベンゾチアジニル基、[18]ベンゾチアゾリル基、[19]ベンゾオキサチオリル基、[20]クロメニル基、[21]ジヒドロベンゾフリル基、[22]カルバゾリル基、[23]ジベンゾフリル基及び[24]キノキサリニル基からなる群より選ばれた窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から4個有するベンゼン縮合複素環基、
ここで、上記R1で示されるシクロC5−C6アルキル基、芳香環及び複素環上には、下記(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい:
(1)低級アルキル基、
(2)低級アルケニル基、
(3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(5A)フェノキシ基、
(6)低級アルキルチオ基、
(7)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(8)ヒドロキシ基、
(9A)フェニル低級アルコキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(11A)低級アルコキシ低級アルキル基、
(12)ハロゲン、
(13)シアノ基、
(14A)フェニル基、
(15)ニトロ基、
(16)アミノ基、
(17A)置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有するアミノ基(18)低級アルカノイル基、
(19A)フェニル基上に低級アルキル基を有していてもよいフェニルスルホニル基、
(20)カルボキシ基、
(21)低級アルコキシカルボニル基、
(22)カルボキシ低級アルキル基、
(23)低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
(24)低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基、
(25)カルボキシ低級アルケニル基、
(26)低級アルコキシカルボニル低級アルケニル基、
(27A)置換基として低級アルキル基及びハロゲン原子が1〜3個置換した低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル低級アルケニル基、
(28A)以下の基(i)−(vi)、(vii A)、(viii A)、(ix)、(x)、(xi A)、(xii A)、(xiii A)、(xiv)−(xvi)、(xvii A)、(xviii)、(xix A)、(xx)、(xxi)、(xxii A)、(xxiii A)、(xxiv A)、(xxv A)、(xxvi)、(xxvii A)、(xxviii)、(xxix)、(xxx A)、(xxxi)、(xxxii A)、(xxxiii A)、(xxxiv A)、(xxxv A)、(xxxvi A)、(xxxvii A)、(xxxviii A)、(xxxix A)、(xl)、(xli A)、(xlii A)、(xliii)−(xlv)、(xlvi A)、(xlvii A)、(xlviii)、(xlix A)、(l)、(li A)、(lii)−(lvi)、(lvii A)、(lviii A)、(lix A)、(lx A)、(lxi)、(lxii A)、(lxiii A)、(lxiv)、(lxv A)、(lxvi)、(lxvii A)、(lxviii A)、(lxix)、(lxx A)、(lxxi A)、(lxxii A)、(lxxiii A)、(lxxiv A)、(lxxv)、(lxxvi A)、(lxxvii A)及び(lxxviii A)からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルコキシ基、
(iii)ヒドロキシ低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ低級アルキル基、
(v)アリールオキシ低級アルキル基、
(vi)ハロゲン置換低級アルキル基、
(vii A)低級アルキル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル基及びカルバモイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(viii A)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシカルボニル基及びフェニル低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいシクロC3-C8アルキル基、
(ix)シクロC3-C8アルキル置換低級アルキル基、
(x)低級アルケニル基、
(xi A)置換基として低級アルキル基、低級アルキル基を有していてもよいフェニル基及び低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイルを1〜2個有する低級アルキル基、
(xii A)1〜2個の低級アルコキシカルボニルを有する低級アルキル基、
(xiii A)フリル基低級アルキル基(フリル基上には、1〜2個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xiv)テトラヒドロフリル低級アルキル基、
(xv)1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、
(xvi)テトラヒドロピラニル低級アルキル基、
(xvii A)ピロリル低級アルキル基(ピロリル基上には、1〜2個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xviii)オキソ基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基で置換された低級アルキル基、
(xix A)ピラゾリル低級アルキル基(ピラゾリル基上には、1〜3個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xx)イミダゾリル低級アルキル基、
(xxi)ピリジル低級アルキル基、
(xxii A)ピラジニル低級アルキル基(ピラジニル基上には、1〜3個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xxiii A)ピロリジニル低級アルキル基(ピロリジニル基上には、オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基が1〜2個置換していてもよい)、
(xxiv A)ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、ベンゾイル基及び低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい)、
(xxv A)ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が1〜3個置換していてもよい)、
(xxvi)モルホリニル低級アルキル基、
(xxvii A)チエニル低級アルキル基(チエニル基上には、低級アルキル基が1〜3個置換していてもよい)、
(xxviii)チアゾリル低級アルキル基、
(xxix)ジヒドロベンゾフリル低級アルキル基、
(xxx A)ベンゾピラニル低級アルキル基(ベンゾピラニル基上には1個のオキソ基が置換していてもよい)、
(xxxi)ベンズイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxii A) 低級アルキル基上に、低級アルコキシカルボニル基を1〜3個有していてもよいインドリル低級アルキル基、
(xxxiii A) 低級アルキル基上に、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有するイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxiv A)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピリジル基、
(xxxv A)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピロリジニル基、
(xxxvi A)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及びベンゾイル基(フェニル基上に低級アルキル基及びハロゲンからなる群から選ばれた基を有していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピペリジル基、
(xxxvii A)1個のオキソ基を有していてもよいテトラヒドロフリル基、
(xxxviii A)1個のオキソ基を有していてもよいヘキサヒドロアゼピニル基、
(xxxix A)置換基として低級アルキル基、フェニル基及びフリル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピラゾリル基、
(xl)チアゾリル基、
(xli A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいチアジアゾリル基、
(xlii A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいイソキサゾリル基、
(xliii)インダゾリル基、
(xliv)インドリル基、
(xlv)テトラヒドロベンゾチアゾリル基、
(xlvi A)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びオキソ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいテトラヒドロキノリル基、
(xlvii A) 低級アルキル基を1〜3個有していてもよいキノリル基、
(xlviii)ベンゾジオキソリル低級アルキル基、
(xlix A)フェニル基又はナフチル基、(それぞれ置換基としてハロゲン;低級アルキル基;低級アルコキシ基;ハロゲン置換低級アルキル基;ハロゲン置換低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキル基及びアリール基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ基;スルファモイル基;低級アルキルチオ基;低級アルカノイル基;低級アルコキシカルボニル基;ピロリル基;低級アルキニル基;シアノ基;ニトロ基;フェニルオキシ基;フェニル低級アルコキシ基;ヒドロキシ基;ヒドロキシ低級アルキル基;低級アルキル基及びフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基;ピラゾリル基;オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基;オキサゾリル基;低級アルキル基を1〜3個有していてもよいイミダゾリル基;オキソ基を1個有していてもよいジヒドロフリル基;オキソ基を2個有していてもよいチアゾリジニル低級アルキル基;イミダゾリル低級アルカノイル基及びピペリジニルカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、
(l)シアノ低級アルキル基、
(li A) 低級アルキル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいジヒドロキノリル基、
(lii)ハロゲン置換低級アルキルアミノ基、
(liii)低級アルキルチオ低級アルキル基、
(liv)低級アルキル基を有していてもよいアミジノ基、
(lv)アミジノ低級アルキル基、
(lvi)低級アルケニルオキシ低級アルキル基、
(lvii A)フェニル基上に低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン置換低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいフェニルアミノ基、
(lviii A)フェニル低級アルケニル基、
(lix A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいピリジルアミノ基、
(lx A)フェニル低級アルキル基(フェニル基上及び/又は低級アルキル基上には、ハロゲン、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルコキシ基、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい)、
(lxi)低級アルキニル基、
(lxii A) フェニルオキシ低級アルキル基(フェニル基上には、低級アルコキシ基、N−低級アルコキシ−N−低級アルキルカルバモイル基及びオキソピロリジニル基からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい)、
(lxiii A)オキソ基を1個有していてもよいイソキサゾリジニル基、
(lxiv)ジヒドロインデニル基、
(lxv A)フェニル低級アルコキシ低級アルキル基、
(lxvi)テトラヒドロピラニル基、
(lxvii A)低級アルカノイル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいアゼチジニル基、
(lxviii A) 低級アルカノイル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいアゼチジニル低級アルキル基、
(lxix)テトラゾリル基、
(lxx A) オキソ基を1個有していてもよいインドリニル基、
(lxxi A) 低級アルキル基及び低級アルキルチオ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいトリアゾリル基、
(lxxii A)カルバモイル基を1〜3個有していてもよいイミダゾリル基、
(lxxiii A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいオキサゾリル基、
(lxxiv A) 低級アルキル基を1〜3個有していてもよいイソチアゾリル基、
(lxxv)ベンゾイミダゾリル基、
(lxxvi A) オキソ基を1個有していてもよいジヒドロベンゾチアゾリル基、
(lxxvii A) 低級アルコキシカルボニル基を1〜3個有していてもよいチエニル基ならびに
(lxxviii A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいオキサゾリル低級アルキル基
(29A)アミノ基上に、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、フェニル基、フェニル低級アルキル基、ベンゾイル基及びアミノ置換アルキル基(アミノ置換アルキル基のアミノ基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(30A)低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基が1個置換した低級アルキル基、
(31A)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいチオカルバモイル基、
(32)スルファモイル基、
(33A)オキソ基を1個有していてもよいオキサゾリジニル基、
(34A)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいイミダゾリジニル基、
(35A)オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基、
(36)イミダゾリル基、
(37)トリアゾリル基、
(38)イソキサゾリル基、
(39A)低級アルキル基;低級アルカノイル基;低級アルキルフェニルスルホニル基;オキソ基;ヒドロキシ基;ならびに低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいピペリジル基、
(40A)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノイル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、カルバモイル基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基(アミノ基上に低級アルキル基、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよい)、ピペリジル基(ピペリジル基上には、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、ピペラジニル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が1〜3個置換していてもよい)、1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デシル基、モルホリニル基、ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基(ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基上には、1個の低級アルキル基が置換していてもよい)、ピリジル基、ピリジルオキシ基、ピリジル低級アルコキシ基、テトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を1個有していてもよい)、ベンゾジオキソリル基、フェニル低級アルコキシ基(フェニル基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、フェニル基(フェニル基上にはハロゲン、低級アルコキシ基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、フェニルオキシ基(フェニル基上にはシアノ基、ハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、フェニル低級アルキル基(フェニル基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)及びベンゾイル基(フェニル基上にはハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいピペリジルカルボニル基、
(41A)置換基としてヒドロキシ低級アルキル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アミノ基、アミノ基(アミノ基上には、低級アルキル基、低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基、ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、1個の低級アルキル基が置換していてもよい)、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、1個の低級アルキル基が置換していてもよい)、フェニルオキシ基(フェニル基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を1〜3個有していてもよい)、フェニルオキシ低級アルキル基(フェニル基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を1〜3個有していてもよい)及びテトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を有していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピロリジニルカルボニル基、
(42A)置換基として低級アルキル基、シクロC3-C8アルキル基、低級アルカノイル基、
ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)、ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、テトラヒドロフリル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基(低級アルキル基上には、フェニル基が1〜2個置換していてもよい)、イミダゾリル低級アルキル基、フリル低級アルキル基、ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、置換基として低級アルキル基を1〜2個有していてもよいピペリジル基、ピリジル基(ピリジル基上には、低級アルキル基、シアノ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい)及びチエノ[2,3-b]ピリジル基、フェニル基(フェニル基上にハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、ベンゾイル基、フリルカルボニル基、フェニル低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピペラジニルカルボニル基、
(43)ヘキサヒドロアゼピニルカルボニル基、
(44A)置換基として低級アルキル基及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニルカルボニル基、
(45A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいジヒドロピロリルカルボニル基、
(46)チオモルホリニルカルボニル基、
(47A)低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基及びフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいモルホリニルカルボニル基、
(48A)低級アルコキシ基及びシアノ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有してもよいフェニル基を1〜3個有していてもよいチアゾリジニルカルボニル基、
(49)アザビシクロ[3.2.2]ノニルカルボニル基、
(50A)ハロゲン置換又は無置換のフェニルオキシ基を1〜3個有していてもよい8−アザビシクロ[3.2.1]オクチルカルボニル基、
(51)インドリニルカルボニル基、
(52)テトラヒドロキノリルカルボニル基、
(53)テトラヒドロピリド[3.4-b]インドリルカルボニル基、
(54)モルホリニル低級アルキル基、
(55A)ピペラジニル基上に低級アルキル基を1〜3個有していてもよいピペラジニル低級アルキル基、
(56)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(57A)ピペラジニル基上に低級アルキル基を1〜3個有していてもよいピペラジニルカルボニル低級アルキル基、
(58)オキソ基、
(59A)アミノ低級アルコキシ基(アミノ基上に低級アルキル基を1〜2個有していてもよい)、
(60)低級アルコキシ低級アルコキシ基、
(61A)オキソ基、低級アルキル基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピペラジニル基
(62)モルホリニル基、
(63A)オキソ基及びフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカニルカルボニル基、
(64A)ピリジル基を1〜3個有していてもよいテトラヒドロピリジルカルボニル基、
(65A)チオキソ基を1個有していてもよいイミダゾリジニルカルボニル基、ならびに
(66)1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デカニル基。
(I A) シクロC5−C6アルキル基、
(II A) フェニル基、
(III A’) ピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル及びチアゾリルから選ばれた窒素原子を1〜2個有する飽和又は不飽和複素単環基。
ここで、上記R1で示されるシクロC5−C6アルキル基、芳香環及び複素環上には、項2で定義された(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)、(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。
ここで、上記R1で示されるシクロC5−C6アルキル基上には、項2で定義された(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)、(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。
ここで、上記R1で示されるフェニル基上には、項2で定義された(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)、(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。
ここで、上記R1で示される複素環上には、項2で定義された(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)、(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。
(I A) シクロC5−C6アルキル基、
(II A) フェニル基、
(III A’)ピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル及びチアゾリルから選ばれた窒素原子を1〜2個有する飽和又は不飽和複素単環基。
ここで、上記R1で示されるシクロC5−C6アルキル基、芳香環及び複素環上には、下記(1)、(4)、(10)、(17A)、(18)、(21)、(28A’)、(29A)、(30A)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)、(39A)、(61A)及び(62)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。
(1)低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(17A)置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有するアミノ基
(18)低級アルカノイル基、
(21)低級アルコキシカルボニル基、
(28A’)以下の基(i) (ii) (iv) (xii A) (xxi)からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルコキシ基、
(iv)低級アルコキシ低級アルキル基、
(xii A)1〜2個の低級アルコキシカルボニルを有する低級アルキル基、
(xxi)ピリジル低級アルキル基、
(29A)アミノ基上に、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、フェニル基、フェニル低級アルキル基、ベンゾイル基及びアミノ置換アルキル基(アミノ置換アルキル基のアミノ基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(30A)低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基が1個置換した低級アルキル基、
(33A)オキソを1個有していてもよいオキサゾリジニル基、
(34A)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいイミダゾリジニル基、
(35A)オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基、
(36)イミダゾリル基、
(39A)低級アルキル基;低級アルカノイル基;低級アルキルフェニルスルホニル基;オキソ基;ヒドロキシ基;ならびに低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいピペリジル基、
(61A)オキソ基、低級アルキル基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピペラジニル基及び
(62)モルホリニル基。
ここで、上記R1で示されるシクロヘキシル基上には、項8で定義された(1)、(4)、(10)、(17A)、(18)、(21)、(28A’)、(29A)、(30A)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)、(39A)、(61A)及び(62)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい。
ここで、上記R1で示される芳香環上には、項8で定義された(1)、(4)、(10)、(17A)、(18)、(21)、(28A’)、(29A)、(30A)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)、(39A)、(61A)及び(62)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい。
ここで、上記R1で示される芳香環上には、下記(1)、(4)、(10)、(17A)、(18)、(28A’’)、(33A)、(35A)、(39A’)及び(61A’)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい。
(1)低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(17A)置換基として低級アルキル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有するアミノ基
(18)低級アルカノイル基、
(28A’’)1個の低級アルコキシ低級アルキル基を有するカルバモイル基、
(33A)オキソを1個有していてもよいオキサゾリジニル基、
(35A)オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基、
(39A’)ピペリジル基及び
(61A’)オキソ基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいピペラジニル基。
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のアミノ基(該アミノ基上に1又は2個の低級アルキル基を有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のカルバモイル基(該カルバモイル基上に、低級アルキル基(該低級アルキル基上に2個の低級アルコキシ基を有する)を1個有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個のヒドロキシ低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のオキサゾリジニル基(該オキザゾリジニル基上にオキソ基を1個有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピロリジニル基を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピペリジル基を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルカノイル基を有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルカノイル基及び1個のオキソ基を有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルコキシカルボニル基及び1個のオキソ基を有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のN−[(N−低級アルコキシカルボニルアミノ)低級アルカノイル]アミノ基を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のN−(アミノ低級アルカノイル)アミノ基を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のN−[(N−低級アルカノイルアミノ)低級アルカノイル]アミノ基を1個有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルコキシ基、1個の低級アルカノイル基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルコキシカルボニル基を有する)を有するフェニル基、又は
フェニル基上に、1個の低級アルコキシ基、1個のヒドロキシ低級アルキル基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルコキシカルボニル基を有する)を有するフェニル基である項11に記載の複素環化合物又はその塩。
ここで、上記R1で示される複素環上には、上記複素環基上には、項8で定義された(1)、(4)、(10)、(17A)、(18)、(21)、(28A’)、(29A)、(30A)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)、(39A)、(61A)及び(62)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい。
ここで、上記R1で示される複素環上には、下記(1)、(17A’)、及び(28A’’’)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい。
(1)低級アルキル基、
(17A’)置換基として低級アルキル基及び低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有するアミノ基及び
(28A’’’)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基。
1個の低級アルキル基及び1個の低級アルカノイルアミノ基を有するピラゾリル基、
1個の低級アルキル基及び1個のN,N−ジ低級アルキルアミノ基を有するピラゾリル基、
1個のN,N−ジ低級アルキルカルバモイル基を有するピペリジル基、又は
1個のN,N−ジ低級アルキルカルバモイル基を有するチアゾリル基である項14に記載の複素環化合物又はその塩。
Aは低級アルキレン基又は低級アルケニレン基(好ましくは低級アルキレン基)を示す。
R1は以下の基(I B)、(II A)、(III B)及び(IV)からなる群から選ばれた芳香環基又は複素環基を示す:
(I B)シクロC5−C6アルキル基(より好ましくはシクロヘキシル基)、
(II A)フェニル基、ナフチル基、ジヒドロインデニル基、テトラヒドロナフチル基からなる群から選ばれた芳香環基(より好ましくはフェニル基)、
(III B)ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピペラジニル、アゼパニル、アゾカニル、ピロリル、ジヒドロピロリル、イミダゾリル、ジヒドロイミダゾリル、トリアゾリル、ジヒドロトリアゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル、ピラジニル、ジヒドロピラジニル、ピリダジニル、テトラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、モルホリニル、チアゾリル、ジヒドロチアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル、チアゾリジニル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、ピラニル、テトラヒドロチオフリル、テトラヒドロチオピラニル、チエニル及びチオピラニルからなる群から選ばれた窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から4個有する飽和又は不飽和複素単環基(より好ましくは、ピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、イソオキサゾリル、チアゾリル、ピラニル、チエニルから選ばれた窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から2個有する飽和又は不飽和複素単環基、さらに好ましくはピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル及びチアゾリルから選ばれた窒素原子を1〜2個有する飽和又は不飽和複素単環基)、
(IV)(1)テトラヒドロキノキサリニル基、(2)テトラヒドロキナゾリニル基、(3)ジヒドロキナゾリニル基、(4)インドリニル基、(5)インドリル基、(6)イソインドリニル基、(7)ベンゾイミダゾリニル基、(8)ジヒドロベンゾイミダゾリル基、(9)テトラヒドロベンゾアゼピニル基、(10)テトラヒドロベンゾジアゼピニル基、(11)ヘキサヒドロベンゾアゾシニル基、(12)ジヒドロベンゾオキサジニル基、(13)ジヒドロベンゾオキサゾリル基、(14)ベンゾイソキサゾリル基、(15)ベンゾオキサジアゾリル基、(16)テトラヒドロベンゾオキサゼピニル基、(17)ジヒドロベンゾチアジニル基、(18)ベンゾチアゾリル基、(19)ベンゾオキサチオリル基、(20)クロメニル基、(21)ジヒドロベンゾフリル基、(22)カルバゾリル基、(23)ジベンゾフリル基及び(24)キノキサリニル基からなる群より選ばれた窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から4個有するベンゼン縮合複素環基、
ここで、上記R1で示される芳香環及び複素環上には、下記(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)〜(16)、(17A)、(18)、(19B)、(20)〜(26)、(27B)、(28A)、(29B)、(30A)、(31B)、(32)、(33B)、(34A)、(35B)、(36)〜(38)、(39B)、(40B)、(41B)、(42B)、(43)、(44B)、(45B)、(46)、(47B)、(48B)、(49)、(50B)、(51)〜(54)、(55B)、(56)、(57B)、(58)、(59B)、(60)、(61B)、(62)、(63B)、(64B)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた少なくとも1つの基が置換していてもよい:
(1)低級アルキル基、
(2)低級アルケニル基、
(3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(5A)フェノキシ基、
(6)低級アルキルチオ基、
(7)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(8)ヒドロキシ基、
(9A)フェニル低級アルコキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(11A)低級アルコキシ低級アルキル基、
(12)ハロゲン、
(13)シアノ基、
(14)フェニル基、
(15)ニトロ基、
(16)アミノ基、
(17A)置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有するアミノ基(より好ましくは、N−低級アルキルアミノ基、N,N−ジ低級アルキルアミノ基、N−低級アルカノイルアミノ基、N−低級アルコキシカルボニルアミノ基、N−低級アルキルスルホニルアミノ基、N−低級アルキル−N−低級アルカノイルアミノ基、N−低級アルキル−N−低級アルコキシカルボニルアミノ基、N−[カルバモイル]アミノ基、N−[N−低級アルキルカルバモイル]アミノ基、N−[N、N−ジ低級アルキルカルバモイル]アミノ基、N−[アミノ低級アルカノイル]アミノ基、N−[[N−低級アルカノイルアミノ]低級アルカノイル]アミノ基、N−[[N−低級アルコキシカルボニルアミノ]低級アルカノイル]アミノ基)、
(18)低級アルカノイル基、
(19B)フェニル基上に低級アルキル基を有していてもよいフェニルスルホニル基(より好ましくは低級アルキルフェニルスルホニル基)、
(20)カルボキシ基、
(21)低級アルコキシカルボニル基、
(22)カルボキシ低級アルキル基、
(23)低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
(24)低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基、
(25)カルボキシ低級アルケニル基、
(26)低級アルコキシカルボニル低級アルケニル基、
(27B)置換基として低級アルキル基及びハロゲン原子が1〜3個置換した低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル低級アルケニル基(より好ましくはカルバモイル低級アルケニル基、N−低級アルキルカルバモイル低級アルケニル基、N、N−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルケニル基又はN−ハロゲン原子が1〜3個置換した低級アルキルカルバモイル低級アルケニル基)、
(28B)以下の基(i)−(vi)、(vii B)、(viii B)、(ix)、(x)、(xi B)、(xii A)、(xiii A)、(xiv)−(xvi)、(xvii A)、(xviii A)、(xix A)、(xx)、(xx)、(xxii B)、(xxiii A)、(xxiv B)、(xxv B)、(xxvi)、(xxvii B)、(xxviii)、(xxix)、(xxx A)、(xxxi)、(xxxii B)、(xxxiii B)、(xxxiv B)、(xxxv A)、(xxxvi B)、(xxxvii A)、(xxxviii A)、(xxxix B)、(xl)、(xli B)、(xlii B)、(xliii)−(xlv)、(xlvi B)、(xlvii B)、(xlviii)、(xlix B)、(l)、(li B)、(lii)−(lvi)、(lvii B)、(lviii A)、(lix B)、(lx B)、(lxi)、(lxii B)、(lxiii A)、(lxiv)、(lxv A)、(lxvi)、(lxvii B)、(lxviii B)、(lxix)、(lxx B)、(lxxi B)、(lxxii B)、(lxxiii B)、(lxxiv B)、(lxxv)、(lxxvi A)、(lxxvii B)及び(lxxviii B)からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルコキシ基、
(iii)ヒドロキシ低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ低級アルキル基、
(v)アリールオキシ低級アルキル基、
(vi)ハロゲン置換低級アルキル基、
(vii B)低級アルキル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル基及びカルバモイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基(より好ましくはN,N−ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、N−低級アルカノイルアミノ低級アルキル基基、N−低級アルキル−N−低級アルカノイルアミノ低級アルキル基、N−低級アルキル−N−ベンゾイルアミノ低級アルキル基又はN−カルバモイルアミノ低級アルキル基)、
(viii B)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシカルボニル基及びフェニル低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個(好ましくは1〜2個、さらに好ましくは1個)有していてもよいシクロC3-C8アルキル基、
(ix)シクロC3-C8アルキル置換低級アルキル基、
(x)低級アルケニル基、
(xi B)置換基として低級アルキル基、低級アルキル基を有していてもよいフェニル基及び低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個(好ましくは1個)有していてもよいカルバモイルを1〜2個有する低級アルキル基(より好ましくはカルバモイル低級アルキル基、ジカルバモイル低級アルキル基、N−低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、N,N−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、N−[低級アルキルフェニル]カルバモイル低級アルキル基又はN−[低級アルコキシフェニル]カルバモイル低級アルキル基)、
(xii A)1〜2個の低級アルコキシカルボニルを有する低級アルキル基、
(xiii A)フリル基低級アルキル基(フリル基上には、1〜2個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xiv)テトラヒドロフリル低級アルキル基、
(xv)1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、
(xvi)テトラヒドロピラニル低級アルキル基、
(xvii A)ピロリル低級アルキル基(ピロリル基上には、1〜2個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xviii A)オキソ基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基低級アルキル基、
(xix)ピラゾリル低級アルキル基(ピラゾリル基上には、1〜3個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xx)イミダゾリル低級アルキル基、
(xxi)ピリジル低級アルキル基、
(xxii B)ピラジニル低級アルキル基(ピラジニル基上には、1〜3個(好ましくは1個)の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xxiii A)ピロリジニル低級アルキル基(ピロリジニル基上には、オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基が1〜2個置換していてもよい)、
(xxiv B)ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、ベンゾイル基及び低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基が1〜3個(好ましくは1個)置換していてもよい)、
(xxv B)ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が1〜3個(好ましくは1個)置換していてもよい)、
(xxvi)モルホリニル低級アルキル基、
(xxvii B)チエニル低級アルキル基(チエニル基上には、低級アルキル基が1〜3個(好ましくは1個)置換していてもよい)、
(xxviii)チアゾリル低級アルキル基、
(xxix)ジヒドロベンゾフリル低級アルキル基、
(xxx B)ベンゾピラニル低級アルキル基(ベンゾピラニル基上には1個のオキソ基が置換していてもよい)、
(xxxi)ベンズイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxii B) 低級アルキル基上に、低級アルコキシカルボニル基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいインドリル低級アルキル基、
(xxxiii B) 低級アルキル基上に、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個(好ましくは1個)有するイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxiv B)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいピリジル基、
(xxxv A)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいピロリジニル基、
(xxxvi B)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及びベンゾイル基(フェニル基上に低級アルキル基及びハロゲンからなる群から選ばれた基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいピペリジル基、
(xxxvii A)1個のオキソ基を有していてもよいテトラヒドロフリル基、
(xxxviii A)1個のオキソ基を有していてもよいヘキサヒドロアゼピニル基、
(xxxix B)置換基として低級アルキル基、フェニル基及びフリル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいピラゾリル基、
(xl)チアゾリル基、
(xli B)低級アルキル基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいチアジアゾリル基、
(xlii B)低級アルキル基を1〜3個(好ましくは1〜2個)有していてもよいイソキサゾリル基、
(xliii)インダゾリル基、
(xliv)インドリル基、
(xlv)テトラヒドロベンゾチアゾリル基、
(xlvi B)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びオキソ基からなる群から選ばれた基を1〜3個(好ましくは1〜2個)有していてもよいテトラヒドロキノリル基、
(xlvii B) 低級アルキル基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいキノリル基、
(xlviii)ベンゾジオキソリル低級アルキル基、
(xlix B)フェニル基又はナフチル基、(それぞれ置換基としてハロゲン;低級アルキル基;低級アルコキシ基;ハロゲン置換低級アルキル基;ハロゲン置換低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキル基及びアリール基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ基;スルファモイル基;低級アルキルチオ基;低級アルカノイル基;低級アルコキシカルボニル基;ピロリル基;低級アルキニル基;シアノ基;ニトロ基;フェニルオキシ基;フェニル低級アルコキシ基;ヒドロキシ基;ヒドロキシ低級アルキル基;低級アルキル基及びフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基;ピラゾリル基;オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基;オキサゾリル基;低級アルキル基を1〜3個(好ましくは1〜2個)有していてもよいイミダゾリル基;オキソ基を1個有していてもよいジヒドロフリル基;オキソ基を2個有していてもよいチアゾリジニル低級アルキル基;イミダゾリル低級アルカノイル基及びピペリジニルカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、
(l)シアノ低級アルキル基、
(li B) 低級アルキル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよいジヒドロキノリル基
(lii)ハロゲン置換低級アルキルアミノ基、
(liii)低級アルキルチオ低級アルキル基、
(liv)低級アルキル基を有していてもよいアミジノ基、
(lv)アミジノ低級アルキル基、
(lvi)低級アルケニルオキシ低級アルキル基、
(lvii B)フェニル基上に低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン置換低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいフェニルアミノ基、
(lviii A)フェニル低級アルケニル基、
(lix B)低級アルキル基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよいピリジルアミノ基(より好ましくは、N−低級アルキル−N−[低級アルキルフェニル]アミノ基)、
(lx B)フェニル低級アルキル基(フェニル基上及び/又は低級アルキル基上には、ハロゲン、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルコキシ基、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基が1〜3個(より好ましくは1〜2個)置換していてもよい)、
(lxi)低級アルキニル基、
(lxii B) フェニルオキシ低級アルキル基(フェニル基上には、低級アルコキシ基、N−低級アルコキシ−N−低級アルキルカルバモイル基及びオキソピロリジニル基からなる群から選ばれた基が1〜3個(より好ましくは1個)置換していてもよい)、
(lxiii A)オキソ基を1個有していてもよいイソキサゾリジニル基、
(lxiv)ジヒドロインデニル基、
(lxv A)フェニル低級アルコキシ低級アルキル基、
(lxvi)テトラヒドロピラニル基、
(lxvii B)低級アルカノイル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいアゼチジニル基、
(lxviii B) 低級アルカノイル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいアゼチジニル低級アルキル基、
(lxix)テトラゾリル基、
(lxx A) オキソ基を1個有していてもよいインドリニル基、
(lxxi B) 低級アルキル基及び低級アルキルチオ基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよいトリアゾリル基、
(lxxii B)カルバモイル基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいイミダゾリル基、
(lxxiii B)低級アルキル基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいオキサゾリル基、
(lxxiv B) 低級アルキル基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいイソチアゾリル基、
(lxxv)ベンゾイミダゾリル基、
(lxxvi A) オキソ基を1個有していてもよいジヒドロベンゾチアゾリル基、
(lxxvii B) 低級アルコキシカルボニル基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいチエニル基ならびに
(lxxviii B)低級アルキル基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよいオキサゾリル低級アルキル基
(29B)アミノ基上に、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、フェニル基、フェニル低級アルキル基、ベンゾイル基及びアミノ置換アルキル基(アミノ置換アルキル基のアミノ基上には、低級アルキル基が1〜2個(より好ましくは2個)置換していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(30A)低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基が1個置換した低級アルキル基、
(31B)低級アルキル基を1〜2個(より好ましくは1個)有していてもよいチオカルバモイル基、
(32)スルファモイル基、
(33B)オキソ基を1個有していてもよいオキサゾリジニル基(より好ましくは1個のオキソ基が置換したオキサゾリジニル基)、
(34A)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいイミダゾリジニル基、
(35B)オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基(より好ましくは1個のオキソ基が置換したピロリジニル基)、
(36)イミダゾリル基、
(37)トリアゾリル基、
(38)イソキサゾリル基、
(39B)低級アルキル基;低級アルカノイル基;低級アルキルフェニルスルホニル基;オキソ基;ヒドロキシ基;及び低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個(より好ましくは1〜2個;さらに好ましくは1個)有していてもよいピペリジル基(さらに好ましくは、低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルキルフェニルスルホニル基、オキソ基、ヒドロキシ基、アミノ基、N−低級アルキル基アミノ基、N,N−ジ低級アルキルアミノ基、N−低級アルカノイルアミノ基、N−低級アルキル−N−低級アルコキシカルボニルアミノ基、N−低級アルキル−N−低級アルカノイルアミノ基、N−低級アルカノイルアミノ低級アルカノイルアミノ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個(より好ましくは1〜2個;さらに好ましくは1個)有していてもよいピペリジル基)、
(40B)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノイル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、カルバモイル基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基(アミノ基上に低級アルキル基、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基およびベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよい)、ピペリジル基(ピペリジル基上には、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基およびベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよい)、ピペラジニル基(ピペラジニル基上に は、低級アルキル基が1〜3個(より好ましくは1〜2個)置換していてもよい)、1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デシル基、モルホリニル基、ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基(ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基上には、1〜3個(好ましくは1個)の低級アルキル基が置換していてもよい)、ピリジル基、ピリジルオキシ基、ピリジル低級アルコキシ基、テトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を1個有していてもよい)、ベンゾジオキソリル基、フェニル低級アルコキシ基(フェニル基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよい)、フェニル基(フェニル基上にはハロゲン、低級アルコキシ基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよい)、フェニルオキシ基(フェニル基上にはシアノ基、ハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよい)、フェニル低級アルキル基(フェニル基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよい)及びベンゾイル基(フェニル基上にはハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよい)からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいピペリジルカルボニル基、
(41B)置換基としてヒドロキシ低級アルキル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アミノ基、アミノ基(アミノ基上には、低級アルキル基、低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基、ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、1〜3個(好ましくは1個)の低級アルキル基が置換していてもよい)、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、1〜2個の低級アルキル基が置換していてもよい)、フェニルオキシ基(フェニル基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよい)、フェニルオキシ低級アルキル基(フェニル基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよい)及びテトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を有していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいピロリジニルカルボニル基、
(42B)置換基として低級アルキル基、シクロC3-C8アルキル基、低級アルカノイル基、
ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)、ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、低級アルキル基が1〜2個(より好ましくは1個)置換していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、テトラヒドロフリル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基(低級アルキル基上には、フェニル基が1〜2個(より好ましくは1個)置換していてもよい)、イミダゾリル低 級アルキル基、フリル低級アルキル基、ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、置換基として低級アルキル基を1〜2個(より好ましくは1個)有していてもよいピペリジル基、ピリジル基 (ピリジル基上には、低級アルキル基、シアノ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基が1〜3個(より好ましくは1個)置換していてもよい)及びチエノ[2,3-b] ピリジル基、フェニル基(フェニル基上にハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよい)、ベンゾイル基、フリルカルボニル基、フェニル低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよいピペラジニルカルボニル基、
(43)ヘキサヒドロアゼピニルカルボニル基、
(44B)置換基として低級アルキル基及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニルカルボニル基、
(45B)低級アルキル基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよいジヒドロピロリルカルボニル基、
(46)チオモルホリニルカルボニル基、
(47B)低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基及びフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいモルホリニルカルボニル基、
(48B)低級アルコキシ基及びシアノ基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1個)有してもよいフェニル基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいチアゾリジニルカルボニル基、
(49)アザビシクロ[3.2.2]ノニルカルボニル基、
(50B)ハロゲン置換又は無置換のフェニルオキシ基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよい8−アザビシクロ[3.2.1]オクチルカルボニル基、
(51)インドリニルカルボニル基、
(52)テトラヒドロキノリルカルボニル基、
(53)テトラヒドロピリド[3.4-b]インドリルカルボニル基、
(54)モルホリニル低級アルキル基、
(55B)ピペラジニル基上に低級アルキル基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいピペラジニル低級アルキル基、
(56)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(57B)ピペラジニル基上に低級アルキル基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいピペラジニルカルボニル低級アルキル基、
(58)オキソ基、
(59B)アミノ低級アルコキシ基(アミノ基上に低級アルキル基を1〜2個(より好ましくは2個)有していてもよい)、
(60)低級アルコキシ低級アルコキシ基、
(61B)オキソ基、低級アルキル基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよいピペラジニル基(より好ましくは、1個のオキソ基が置換したピペラジニル基、1個の低級アルキル基が置換したピペラジニル基、1個の低級アルカノイル基が置換したピペラジニル基、1個のオキソ基と1個の低級アルカノイル基が置換したピペラジニル基、1個のオキソ基と1個の低級アルコキシカルボニル基が置換したピペラジニル基)
(62)モルホリニル基、
(63B)オキソ基及びフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(より好ましくは1〜2個)有していてもよい1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカニルカルボニル基、
(64B)ピリジル基を1〜3個(より好ましくは1個)有していてもよいテトラヒドロピリジルカルボニル基、
(65B)チオキソ基を1個有していてもよいイミダゾリジニルカルボニル基、
(66)1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デカニル基]
で表される複素環化合物又はその塩。
ここでシクロヘキシル基、フェニル基、ピロリジニル基、ピペリジル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基及びチアゾリル基上には、好ましくは、下記(1)、(4)、(10)、(17)、(21)、(28C)、(29A)、(30A)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)、(39C)、(61C)及び(62)からなる群から選ばれた基が1〜3個、好ましくは1〜2個置換している:
(1)低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(17)置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有するアミノ基、
(21)低級アルコキシカルボニル基、
(28C)以下の基(i)、(ii)、(iv)、(xii A)及び(xxi)からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルコキシ基、
(iv)低級アルコキシ低級アルキル基、
(xii A)1〜2個の低級アルコキシカルボニルを有する低級アルキル基、及び
(xxi)ピリジル低級アルキル基、
(29A)アミノ基上に、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、フェニル基、フェニル低級アルキル基、ベンゾイル基及びアミノ置換アルキル基(アミノ置換アルキル基のアミノ基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(30A)低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基が1個置換した低級アルキル基、
(33A)オキソを1個有していてもよいオキサゾリジニル基、
(34A)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいイミダゾリジニル基、
(35A)オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基、
(36)イミダゾリル基、
(39C)低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルキルフェニルスルホニル基、オキソ基、ヒドロキシ基、アミノ基、N−低級アルキル基アミノ基、N,N−ジ低級アルキルアミノ基、N−低級アルカノイルアミノ基、N−低級アルキル−N−低級アルコキシカルボニルアミノ基、N−低級アルキル−N−低級アルカノイルアミノ基、N−低級アルカノイルアミノ低級アルカノイルアミノ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個個有していてもよいピペリジル基
(61C)オキソ基、低級アルキル基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいピペラジニル基及び
(62)モルホリニル基。
低級アルキル基を有していてもよいキノリル基としては、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)を1〜2個有していてもよいキノリル基を挙げることができる。より具体的には、(2−、3−、4−、5−、6−、7−、又は8−)キノリル、2−メチル−6−キノリル、4−エチル−5−キノリル、4−n−プロピル−3−キノリル、5−メチル−3−キノリル、5−n−ブチル−3−キノリル、3−tert−ブチル−4−キノリル、5−n−ペンチル−4−キノリル、3−n−ヘキシル−5−キノリル、3,4−ジメチル−5−キノリル基等が含まれる。
]フェニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、4−、又は5−)オキサゾリル]フェニル、(2−、3−、又は4−)(2−エチル−4−メチルイミダゾール−1−イル)フェニル、(2−、3−、又は4−)ビフェニル、2,3−ジメトキシフェニル、2,4−ジメトキシフェニル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、3,4−ジメトキシフェニル、3,5−ジメトキシフェニル、2,3−ジクロロフェニル、2,4−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、2−メトキシ−5−クロロフェニル、2−メトキシ−5−メチルフェニル、2−メトキシ−5−アセチルアミノフェニル、2−ビニル−4−メチルフェニル、2−ビニル−5−エチルフェニル、2,6−ジスルファモイルフェニル、2,4,6−トリメトキシフェニル、3,4,5−トリエトキシフェニル、2−ビニル−3,4,5−トリエチルフェニル、ペンタメトキシフェニル、2−ビニルナフチル、2,3−ジメトキシ−1−ナフチル、3,4−ジエトキシフェニル、2−メトキシ−5−メトキシカルボニルフェニル、3,5−ジメトキシカルボニルフェニル、3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル、2−クロロ−5−(N−アセチルアミノ)フェニル、2−クロロ−5−シアノフェニル、2−クロロ−5−カルバモイルフェニル、2−メトキシ−5−(N−アセチルアミノ)フェニル、2−クロロ−5−エトキシカルボニルフェニル、3,5,7−トリエトキシ−1−ナフチル、3,4,5,7−テトラメチル−1−ナフチル、2,3,4,5−テトラメチル−7−(N−ペンタアセチルアミノ)−1−ナフチル、2,3,4,5,6,7−ヘキサエトキシ−1−ナフチル、ヘプタメトキシ−1−ナフチル基等が含まれる。
4−メチルピペラジニル)]−2−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、又は4−)[1−(4−メチルピペラジニル)]−3−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、又は3−)[1−(4−メチルピペラジニル)]−4−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)モルホリニル]−1−ピペリジルカルボニル、(1−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)モルホリニル]−2−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、4−、5−、又は6−)[(2−、3−、又は4−)モルホリニル]−3−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、又は3−)[(2−、3−、又は4−)モルホリニル]−4−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、6−、又は7−)(4−メチル−ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル)−1−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(4−メチル−ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル)−2−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(4−メチル−ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル)−3−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、3−、又は4−)(4−メチル−ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル)−4−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デク−8−イル)−1−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デク−8−イル)−2−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デク−8−イル)−3−ピペリジルカルボニル、(1−、2−、3−、又は4−)(1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デク−8−イル)−4−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、4−、又は5−)ベンゾ[1.3]ジオキソリル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[2−オキソ−(1−、3−、4−、5−、6−、7−、又は8−)−1、2、3、4−テトラヒドロキノリル]−1−ピペリジルカルボニル、4−[2−オキソ−(1−、3−、4−、5−、6−、7−、又は8−)−1、2、3、4−テトラヒドロキノリル]−(2−又は3−メチル)−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)ピリジル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)ピリジルオキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)ピリジルメトキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)フルオロベンジルオキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)クロロベンジルオキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)ブロモベンジルオキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)メチルベンジルオキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)トリフルオロメトキシベンジルオキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(3、4−ジクロロベンジルオキシ)−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(3、4−ジメトキシベンジルオキシ)−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(3−クロロ−4−メトキシベンジルオキシ)−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)フルオロフェノキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)クロロフェノキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)シアノフェノキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)メトキシフェノキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)メチルフェノキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)トリフルオロメトキシフェノキシ]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)フェニル−1−ピペリジルカルボニル、4−ヒドロキシ−(2−、3−、又は4−)フェニル−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)クロロフェニル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)メトキシフェニル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)ヒドロキシフェノキシ]−1−ピペリジルカルボニル、4−ヒドロキシ−(2−、3−、又は4−)フェニル−1−ピペリジルカルボニル、4−エトキシカルボニル−(2−、3−、又は4−)フェニル−1−ピペリジルカルボニル、4−ヒドロキシ−(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)クロロフェニル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)ベンジル−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)クロロベンジル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)メチルベンジル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)メトキシベンジル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)トリフルオロメトキシベンジル]−1−ピペリジルカルボニル、4−ヒドロキシ−(2−、3−、又は4−)ベンジル−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)クロロベンゾイル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)メトキシベンゾイル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)フルオロベンゾイル]−1−ピペリジルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)トリフルオロメトキシベンジル]−1−ピペリジルカルボニル基等が含まれる。
キシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、テトラヒドロフリル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基(低級アルキル基上には、フェニル基が置換していてもよい)、イミダゾリル低級アルキル基、フリル低級アルキル基、ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、置換基として低級アルキル基を有していてもよいピペリジル基、ピリジル基(ピリジル基上には、低級アルキル基、シアノ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)、チエノ[2,3-c]ピリジル、アリール基(アリール基上にハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、アロイル基、フリル低級アルキル基、アリール低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピペラジニルカルボニル基としては、ピペラジニル基上に、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基);前記例示のシクロC3-C8アルキル基;前記例示の低級アルカノイル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基);前記例示のヒドロキシ低級アルキル基(好ましくはヒドロキシ基を1〜3個有する炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基);前記例示の低級アルコキシ低級アルキル基(好ましくは前記例示の低級アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基)を1〜3個有する炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基);前記例示の低級アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状のアルコキシカルボニル基);低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるアミノ低級アルキル基(アミノ基上には、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)が1〜2個置換していてもよい);低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)が1〜3個置換していてもよい);低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるモルホリニル低級アルキル基;低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピロリジニル低級アルキル基;低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である1,3−ジオキソラニル低級アルキル基;低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるテトラヒドロフリル低級アルキル基;低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピリジル低級アルキル基(アルキル基上には、フェニル基が1〜3個置換していてもよい);低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるイミダゾリル低級アルキル基;低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフリル低級アルキル基;低級アルキル部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピロリジニルカルボニル低級アルキル基;前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)を1〜3個有することのあるピペリジル基;ピリジル基(ピリジル基上には、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基);シアノ基;及び前記例示のハロゲン置換低級アルキル基(好ましくはハロゲン原子が1〜7個置換した炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)からなる群から選ばれた基が1〜3個(好ましくは1個)置換していてもよい);チエノ[2,3-c]ピリジル基、前記例示のアリール基(アリール基上にハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよい)、前記例示のアロイル基、低級アルキル部分が前記例示のフリル低級アルキル基、アリール部分及び低級アルコキシカルボニル部分が前記例示のアリール低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個(好ましくは1〜2個)有していてもよいピペラジニルカルボニル基を挙げることができる。より具体的には、(1−又は2−)ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)メチル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)メチル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)エチル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)エチル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)n−プロピル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)n−プロピル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)n−ブチル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)n−ブチル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(1−エチル−n−プロピル)]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[(1−エチル−n−プロピル)]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)イソプロピル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)イソプロピル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)tert−ブチル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)tert−ブチル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)n−ヘキシル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)n−ヘキシル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)シクロペンチル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)シクロペンチル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)シクロヘプチル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)シクロヘプチル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)アセチル−1−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)ブチリル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)アセチル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(2−ヒドロキシエチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(2−メトキシエチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(2−メトキシエチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(3−メトキシプロピル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(3−メトキシプロピル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(4−メトキシブチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(4−メトキシブチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)エトキシカルボニル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)エトキシカルボニル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)tert−ブトキシカルボニル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)tert−ブトキシカルボニル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)メトキシカルボニル−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)メトキシカルボニル−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(2−(1−ピペリジル)エチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(2−(1−ピペリジル)エチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(1−メチル−3−ピペリジル)メチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[(1−メチル−3−ピペリジル)メチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(1−メチル−4−ピペリジル)メチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[(1−メチル−4−ピペリジル)メチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[2−(4−モルホリニル)エチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[2−(4−モルホリニル)エチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[2−(1−ピロリジニル)エチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[2−(1−ピロリジニル)エチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[2−(1,3−ジオキソラニル)メチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[2−(1,3−ジオキソラニル)メチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−){2−[2−(1,3−ジオキソラニル)]エチル}−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−){2−[2−(1,3−ジオキソラニル)]エチル}−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(2−テトラヒドロフリルメチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(2−テトラヒドロフリルメチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(2−ピリジルメチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(2−ピリジルメチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(3−ピリジルメチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(3−ピリジルメチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(4−ピリジルメチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(4−ピリジルメチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[2−(4−ピリジル)エチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[2−(4−ピリジル)エチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[2−(2−ピリジル)エチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[2−(2−ピリジル)エチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[2−フェニル−2−(4−ピリジル)エチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[2−フェニル−2−(4−ピリジル)エチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[2−(1−イミダゾリ
ル)エチル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[2−(1−イミダゾリル)エチル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(3−フリルメチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(3−フリルメチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(1−ピロリジニルカルボニルメチル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(1−ピロリジニルカルボニルメチル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(1−メチル−4−ピペリジル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(1−メチル−4−ピペリジル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−){(2−,3−、又は4−)ピリジル}−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(2−,3−,又は4−ピリジル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(3−シアノ−2−ピリジル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(3−シアノ−2−ピリジル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(4−メチル−2−ピリジル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(4−メチル−2−ピリジル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(3−メチル−2−ピリジル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(3−メチル−2−ピリジル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)(3−トリフルオロメチル−2−ピリジル)−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)(3−トリフルオロメチル−2−ピリジル)−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、4−、5−、又は6−)チエノ[2,3−c]ピリジル]−1−ピペラジニルカルボニル、(1−、2−、3−、4−、5−、又は6−)[(2−、3−、4−、5−、又は6−)チエノ[2,3−c]ピリジル]−2−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)フェニル−1−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)クロロフェニル]−1−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−、3−、又は4−)メチルフェニル]−1−ピペラジニルカルボニル、3−オキソ−(2−又は4−)フェニル−1−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)ベンゾリル−1−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)[(2−又は3−)フリルカルボニル]−1−ピペラジニルカルボニル、(2−、3−、又は4−)ベンジルオキシカルボニル−1−ピペラジニルカルボニル基等が含まれる。
オクチルカルボニル基としては、前記例示のハロゲン置換アリール(好ましくはハロゲン原子を1〜3個、好ましくは1個の置換していてもよいアリール基)又は前記例示の無置換のアリール基を1〜2個(好ましくは1個)有していてもよいアザビシクロ[3.2.1]オクチルカルボニル基を挙げることができる。具体的には、1−アザビシクロ[3.2.1]オクト−(2−、3−、4−、5−、6−、7−、又は8−)イルカルボニル、2−アザビシクロ[3.2.1]オクト−(1−、2−、3−、4−、5−、6−、7−、又は8−)イルカルボニル、3−アザビシクロ[3.2.1]オクト−(1−、2−、3−、6−、又は8−)イルカルボニル、6−アザビシクロ[3.2.1]オクト−(1−、2−、3−、4−、5−、6−、7−、又は8−)イルカルボニル、8−アザビシクロ[3.2.1]オクト−(1−、2−、3−、6−、又は8−)イルカルボニル、3−(フェニルオキシ)−1−アザビシクロ[3.2.1]オクト−2−イルカルボニル、3−(2−ビフェニルオキシ)−1−アザビシクロ[3.2.1]オクト−3−イルカルボニル、3−(1−ナフチルオキシ)−1−アザビシクロ[3.2.1]オクト−4−イルカルボニル、3−(3−メチルフェニルオキシ)−1−アザビシクロ[3.2.1]オクト−5−イルカルボニル、3−(4−エチルフェニルオキシ)−1−アザビシクロ[3.2.1]オクト−6−イルカルボニル、3−(2−n−プロピルフェニルオキシ)−1−アザビシクロ[3.2.1]オクト−7−イルカルボニル、3−(3−n−ブチルフェニルオキシ)−1−アザビシクロ[3.2.1]オクト−8−イルカルボニル、3−(4−n−ペンチルフェニルオキシ)−2−アザビシクロ[3.2.1]オクト−1−イルカルボニル、3−(2−n−ヘキシルフェニルオキシ)−2−アザビシクロ[3.2.1]オクト−2−イルカルボニル、3−(3−イソブチルフェニルオキシ)−2−アザビシクロ[3.2.1]オクト−3−イルカルボニル、3−(4−tert−ブチルフェニルオキシ)−2−アザビシクロ[3.2.1]オクト−4−イルカルボニル、3−(2−クロロフェニルオキシ)−2−アザビシクロ[3.2.1]オクト−5−イルカルボニル、3−(3−フルオロフェニルオキシ)−8−アザビシクロ[3.2.1]オクト−8−イルカルボニル、3−(3−ブロモフェニルオキシ)−2−アザビシクロ[3.2.1]オクト−6−イルカルボニル、3−(2−アミノフェニルオキシ)−2−アザビシクロ[3.2.1]オクト−7−イルカルボニル、3−(2,3−ジメチルフェニルオキシ)−2−アザビシクロ[3.2.1]オクト−8−イルカルボニル、3−(3,4,5−トリメチルフェニルオキシ)−8−アザビシクロ[3.2.1]オクト−1−イルカルボニル、3−(2,3−ジアミノフェニルオキシ)−8−アザビシクロ[3.2.1]オクト−2−イルカルボニル基等が含まれる。
ピリジル基を有していてもよいテトラヒドロピリジルカルボニル基としては、ピリジル基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよい前記例示のテトラヒドロピリジルカルボニル基を挙げることができる。より具体的には、(2−、3−、又は4−)ピリジル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イルカルボニル基等が含まれる。
窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から4個有する飽和又は不飽和複素単環基としては、下記(1)〜(9)に示される複素単環基等を挙げることができる。
・ 1〜4個(好ましくは1〜2個)の窒素原子を含有する飽和3〜8員(好ましくは5〜
6員)複素単環基(例えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピペラジニル、アゼパニル、アゾカニル等);
(2)1〜4個(好ましくは1〜3個)の窒素原子を含有する不飽和3〜8員(好ましくは5又は6員)複素単環基(例えばピロリル、ジヒドロピロリル(例えば1H−2、5
−ジヒドロピロリル等)、イミダゾリル(例えば1H−イミダゾリル等)、ジヒドロイミ
ダゾリル(例えば、1H−2,3−ジヒドロイミダゾリル等)、トリアゾリル(例えば
4H−1,2,4−トリアゾリル、1H−1,2,3−トリアゾリル、2H−1,2,3
−トリアゾリル等)、ジヒドロトリアゾリル(例えば、1H−4,5−ジヒドロ−1,2,
4−トリアゾリル等)、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル(例えば、1,2−ジ
ヒドロピリジル等)、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル(1,6−ジヒドロピリミジ
ニル等)、ピラジニル、ジヒドロピラジニル(例えば、1,2−ジヒドロピラジニル等)、
ピリダジニル、テトラゾリル(例えば1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等)
等);
(3)1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5又は6員)複素単環基、例えばオキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル(例えば1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキサジアゾリル等)等;
1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒
素原子とを含有する飽和3〜8員(より好ましくは5又は6員)複素単環基(例えば、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、モルホリニル等);
(4)1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和3〜8員(より好
ましくは5員)複素単環基、例えばチアゾリル、ジヒドロチアゾリル(例えば、2,3−ジヒドロチアゾリル)、イソチアゾリル、チアジアゾリル(例えば1,2,3−チアジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,5−チアジアゾリル等)、ジヒドロチアジニル等;
(5)1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜8員(より好ま
しくは5又は6員)複素単環基、例えばチアゾリジニル等;
(6)1〜2個の酸素原子を含有する飽和3〜8員(より好ましくは5又は6員)複素
単環基、例えばテトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル等;
(7)1〜2個の酸素原子を含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5又は6員)
複素単環基、例えばピラニル(例えば、2H−ピラニル等)等;
(8)1〜2個の硫黄原子を含有する飽和3〜8員(好ましくは5又は6員)複素
単環基、例えばテトラヒドロチオフリル、テトラヒドロチオピラニル等;
(9)1〜2個の硫黄原子を含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5又は6員)
複素単環基、例えばチエニル、チオピラニル(例えば、2H−チオピラニル等)等;
等の複素単環基が挙げられる。なかでも、より好ましくは、ピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、イソオキサゾリル、チアゾリル、ピラニル、チエニルから選ばれた窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から2個有する飽和又は不飽和複素単環基、さらに好ましくはピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル及びチアゾリルから選ばれた窒素原子を1〜2個有する飽和又は不飽和複素単環基が好ましい。
反応式−1
ここで、ハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、例えば、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アラルキルスルホニルオキシ基などを例示できる。
反応式−2
ここで、一般式(4)において、X2で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。
反応式−3
ここで、一般式(7)において、X3で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。
反応式−4
ここで、一般式(8)において、X4で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。
反応式−5
ここで、一般式(9)及び(10)において、R4における低級アルカノイル基としては、前記と同じ基を例示できる。
反応式−6
また、
ここで、一般式(11)及び(5a)において、A’’におけるC1−C5アルキレン基としては、メチレン、エチレン、メチルメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、3−メチルテトラメチレン、ペンタメチレン、2,2−ジメチルトリメチレンなどの炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖状アルキレン基を挙げることができる。
反応式−7
化合物(11a)は、化合物(3)と一般式(12)の化合物(以下、化合物(12)とする)とを反応させることによって製造することができる。
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩の合成
4−ブロモベンゾ[b]チオフェン14.4 g、無水ピペラジン29.8 g、ナトリウムt-ブトキシド9.3 g、 (R)−(+)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(BINAP)0.65 g、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0) 0.63 g、及びトルエン 250 ml からなる混合物を、窒素雰囲気下、1時間加熱還流した。反応液に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン : メタノール : 25%アンモニア水= 100 : 10 : 1)により精製して、黄色油状の1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン 9.5 g を得た。
融点 : 276 - 280 ℃
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 3.25-3.35 (8H, m), 6.94 (1H, d, J=7.6Hz), 7.30 (1H, dd, J=7.8Hz, J=7.8Hz), 7.51 (1H, d, J=5.5Hz), 7.68 (1H, d, J=8.1Hz), 7.73 (1H, d, J=5.5Hz), 9.35 (2H, brs)。
4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−3−メチルピペラジン−1−カルボン酸tert-ブチルエステルの合成
3−メチルピペラジン−1−カルボン酸tert-ブチルエステル及び4−ブロモベンゾ[b]チオフェンを用い、参考例1と同様にして目的化合物を得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.85-1.95 ( 3H, m ), 1.50 ( 9H, s ), 2.8-2.9 ( 1H, m ), 3.15-3.35 ( 2H, m ), 3.4-3.5 ( 1H, m ), 3.5-3.65 ( 1H, m ), 3.65-3.7 ( 1H, m ), 3.7-3.9 ( 1H, m ), 6.98 ( 1H, d, J = 7.5Hz ), 7.29 ( 1H, dd, J = 8Hz, J=8Hz ), 7.38 ( 1H, d, J = 5.5Hz ), 7.61 ( 1H, d, J = 8Hz )。
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−2−メチルピペラジン二塩酸塩の合成
4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−3−メチルピペラジン−1−カルボン酸tert-ブチルエステル1.22g(3.7ミリモル)のジクロロメタン溶液(12ml)にトリフルオロ酢酸6mlを加えて室温で1時間撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣に5%炭酸カリウム水溶液を加えてジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣に濃塩酸0.6ml及びメタノール10mlを加えて減圧下に濃縮した。得られた残渣をアセトニトリルから結晶化して微褐色粉末の1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−2−メチルピペラジン二塩酸塩0.98gを得た。
1H-NMR ( DMSO-d6 ) δppm: 0.92 ( 3H, d, J = 6.5Hz ), 2.8-3.6 ( 6H, m ), 3.6-4.0 ( 1H, m ), 5.3-6.8 ( 1H, m ), 7.20 ( 1H, br ), 7.38 ( 1H, dd, J = 8 Hz, J=8 Hz ), 7.5-8.0 ( 3H, m ), 9.4-10.1 ( 2H, m )。
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−3−メチルピペラジン二塩酸塩の合成
2−メチルピペラジン及び4−ブロモベンゾ[b]チオフェンを用い、参考例1と同様にして目的化合物を得た。
1H-NMR ( DMSO-d6 ) δppm: 1.34 ( 3H, d, J = 6.5Hz ), 2.85-2.95 ( 1H, m ), 3.05-3.15 ( 1H, m ), 3.2-3.6 ( 6H, m ), 6.97 ( 1H, d, J = 7.5Hz ), 7.31 ( 1H, dd, J = 8Hz, J = 8Hz ), 7.54 ( 1H, d, J = 5.5Hz ), 7.69 ( 1H, d, J = 8Hz ), 7.75 ( 1H, d, J = 5.5Hz ), 9.2-9.3 ( 1H, m ), 9.64 ( 1H, br )。
3-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)プロピオン酸エチルの合成
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩5.05g(19.8ミリモル)を水酸化ナトリウム水溶液に加えてジクロロメタンで抽出した。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をエタノール50mlに溶解し、アクリル酸エチル2.44ml(21.8ミリモル)を加えて4時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、減圧下に濃縮し、残渣にジイソプロピルエーテルを加えて析出した不溶物をろ取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄後乾燥して白色粉末の3-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)プロピオン酸エチル5.26gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.28(3H, t, J=7.0Hz), 2.50-2.63(2H, m), 2.67-2.87(6H, m), 3.11-3.24(4H, m), 4.17(2H, q, J=7.0Hz), 6.89(1H, d, J=7.8Hz), 7.27(1H, t, J=7.8Hz), 7.37-7.42(2H, m), 7.55(1H, d, J=7.8Hz)。
3-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)プロパン-1-オールの合成
3-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)プロピオン酸エチル5.26g(16.5ミリモル)のテトラヒドロフラン(THF)溶液(55ml)に氷冷下、水素化リチウムアルミニウム1.18g(24.8ミリモル)を加えて室温で4時間撹拌した。反応液に水1.2ml、15%水酸化ナトリウム水溶液1.2ml、水3.6mlの順に加えて室温で撹拌した。不溶物をろ過して除き、ろ液を減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:2→酢酸エチル)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して白色粉末の3-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)プロパン-1-オール0.23gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.75-1.85 (2H, m), 2.74 (2H, t, J=5.8 Hz), 2.75-2.85 (4H, m), 3.15-3.25 (4H, m), 3.85 (2H, t, J=5.3 Hz), 5.19 (1H, brs), 6.88 (1H, d, J=7.6 Hz), 7.27 (1H, dd, J=7.9 Hz, J=7.8 Hz), 7.39 (2H, s), 7.56 (1H, d, J=8.0 Hz)。
酢酸4-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)ブチルの合成
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン塩酸塩1.0g(3.9ミリモル)をジメチルホルムアミド(DMF)20mlに懸濁し、炭酸カリウム1.3g(9.4ミリモル)及び酢酸4−ブロモブチル0.7ml(4.8ミリモル)を加えて80℃で6時間撹拌した。室温まで冷却し、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(ジクロロメタン:メタノール=30:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して淡黄色油状物の酢酸4-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)ブチル0.72gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.60-1.73(4H, m), 2.07(3H, s), 2.47(2H, t, J=7.2Hz), 2.60-2.72(4H, m), 3.17-3.22(4H, m), 4.11(2H, t, J=6.3Hz), 6.90(1H, d, J=7.6Hz), 7.27(1H, dd, J=7.6Hz, J=8.0Hz), 7.37-7.42(2H, m), 7.55(1H, d, J=8.0Hz)。
4-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)ブタン−1−オールの合成
酢酸4-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)ブチルエステル7.76g(23.3ミリモル)の90%メタノール溶液(150ml)に炭酸カリウム3.87g(28ミリモル)を加えて室温で2時間撹拌した。反応液に水を加えてジクロロメタンで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1→1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して無色油状物の4-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)ブタン−1−オール6.65gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.60-1.74(4H, m), 2.50-2.55(2H, m), 2.70-2.80(4H, m), 3.20-3.30(4H, m), 3.60-3.63(2H, m), 6.2(1H, brs), 6.90(1H, d, J=7.6Hz), 7.27(1H, dd, J=7.6Hz, J=8.0Hz), 7.39(1H, s), 7.56(1H, d, J=8.0Hz)。
1−ベンゾ[b]チオフェン-4-イル−4−(3−クロロプロピル)ピペラジンの合成
3-(4-ベンゾ[b]チオフェン-4-イルピペラジン-1-イル)プロパン-1-オール3.56g(12.9ミリモル)をジクロロメタン30mlに懸濁し、四塩化炭素30ml及びトリフェニルホスフィン4.06g(15.5ミリモル)を加えて、3時間加熱還流した。室温まで冷却し、反応液にメタノールとジクロロメタンを加えて均一溶液とした。この溶液にシリカゲル30gを加えて減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラム(300g)に乗せ、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混合溶媒(2:1)で溶出した。溶出液を減圧下に濃縮して無色油状物の1−ベンゾ[b]チオフェン-4-イル−4−(3−クロロプロピル)ピペラジン2.36gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.95-2.10 (2H, m), 2.60 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.65-2.75 (4H, m), 3.15-3.25 (4H, m), 3.65 (2H, t, J=6.6 Hz), 6.89 (1H, dd, J=7.6 Hz, J=0.7 Hz), 7.27 (1H, dd, J=7.9 Hz, J=7.8 Hz), 7.38 (1H, d, J=5.6 Hz), 7.41 (1H, d, J=5.7 Hz), 7.55 (1H, d, J=8.0 Hz)。
4−ヒドロキシチオフェン−2−カルボン酸メチルの合成
4−ヒドロキシチオフェン−2−カルボン酸1.1g(7.6ミリモル)のメタノール溶液(20ml)に氷冷下塩化チオニル1.6mlを滴下し、5時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、反応液を氷水にあけ酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して白色粉末の4−ヒドロキシチオフェン−2−カルボン酸メチル0.7gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 3.90 (3H, s), 5.50-6.60 (1H, br), 6.64 (1H, d, J=1.9 Hz), 7.43 (1H, d, J=1.8 Hz)。
6−ヒドロキシピリミジン−4−カルボン酸エチルの合成
6−ヒドロキシピリミジン−4−カルボン酸を用い、参考例10と同様にして目的化合物を得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.29(3H, t, J=7.0Hz), 4.29(2H, q, J=7.0Hz), 6.87(1H, d, J=1.0Hz), 8.27(1H, d, J=1.0Hz), 10.54(1H, br)。
5−ヒドロキシ−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルの合成
アセチレンジカルボン酸ジメチル5.0g(35ミリモル)のジエチルエーテル溶液(35ml)を寒剤(食塩−氷)で冷却し、これにメチルヒドラジン0.63ml(35ミリモル)のジエチルエーテル溶液(15ml)を滴下した(滴下中0℃以下に保った)。滴下終了後、この溶液を0℃で1時間撹拌した。析出した不溶物をろ取し、ジエチルエーテルで洗浄した。ろ物を30分間130℃に加熱し、室温まで冷却した。メタノールを加えて減圧下に濃縮し、残渣に酢酸エチルを加えて減圧下に濃縮した。得られた残渣に酢酸エチルを加えて生成した不溶物をろ取し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥して淡黄色粉末の5−ヒドロキシ−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチル3.26gを得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 3.58(3H, s), 3.73(3H, s), 5.77(1H, s), 11.41(1H, br)。
6−クロロ−N−(2,2,2,−トリフルオロエチル)ニコチンアミドの合成
6-クロロニコチン酸0.58g(3.6ミリモル)のアセトニトリル溶液(12ml)に氷冷下、トリエチルアミン1.03ml(7.4ミリモル)及びクロロ蟻酸イソブチル0.76ml(5.5ミリモル)を加えて0℃で30分撹拌した。これに2,2,2-トリフルオロエチルアミン0.88ml(11.2ミリモル)を加えて室温で10分撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣にジイソプロピルエーテル及びn−ヘキサンを加えて析出した不溶物をろ取し、乾燥して淡黄色粉末の6−クロロ−N−(2,2,2,−トリフルオロエチル)ニコチンアミド0.58gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 4.15(2H, dq, J=6.5Hz, 9.0Hz), 6.35(1H, br), 7.46(1H, dd, J=0.7Hz, J=8.5Hz), 8.11(1H,dd,J=2.5Hz, J=8.5Hz), 8.77(1H, dd, J=0.7Hz, J=2.5Hz)。
N−(2,2,2,−トリフルオロエチル)−4−クロロピリジン-2-カルボキサミドの合成
4−クロロピリジン-2−カルボン酸0.5g(3.17ミリモル)のジクロロメタン溶液(5ml)に1−ヒドロキシベンゾトリアゾ−ル0.53g(3.5ミリモル)、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(WSC)0.67g(3.5ミリモル)及び2,2,2-トリフルオロエチルアミン0.51ml(6.35ミリモル)を加えて室温で1時間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=11:1→5:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して白色粉末のN−(2,2,2,−トリフルオロエチル)−4−クロロピリジン-2-カルボキサミド435mgを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 4.13(2H, dq, J=6.8Hz, 9.0Hz), 7.49(1H, dd, J=2.1Hz, J=5.3Hz), 8.22(1H,dd,J=0.4Hz, J=2.1Hz), 8.30(1H, br), 8.49(1H, dd, J=0.4Hz, J=5.3Hz)。
2−クロロチアゾール−4−カルボキサミドの合成
2−クロロチアゾール−4−カルボン酸0.5g(3.06ミリモル)のジクロロメタン溶液(10ml)に1-ヒドロキシベンゾトリアゾ−ル0.56g(3.7ミリモル)、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(WSC)0.7g(3.7ミリモル)及びアンモニア水(28%)0.5mlを加えて室温で46時間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:5→酢酸エチル)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して白色粉末の2−クロロチアゾール−4−カルボキサミド475mgを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 5.70(1H, br), 7.01(1H, br), 8.06(1H, s)。
N−メチル−2−クロロチアゾール−5−カルボキサミドの合成
2−クロロチアゾール−5−カルボン酸を用い、参考例13と同様にして目的化合物を得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 3.00(3H, d, J=4.9Hz), 5.92(1H, br), 7.84(1H, br)。
6-メトキシ-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,4]オキサジン-3-オンの合成
2-(4-メトキシ-2-ニトロフェノキシ)-2-メチルプロピオン酸エチル14.6g(51.6ミリモル)のエタノール溶液(250ml)に5%パラジウム炭素1.5gを加えて室温で接触還元した。触媒をろ過して除き、ろ液を減圧下に濃縮した。得られた残渣に水を加えて酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して白色粉末の6-メトキシ-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,4]オキサジン-3-オン7.0gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.53(6H, s), 3.78(3H, s), 6.40(1H, d, J=2.8Hz), 6.52(1H, dd, J=2.8Hz, J=8.8Hz), 6.88(1H, d, J=8.7Hz), 8.66(1H, brs)。
6-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,4]オキサジン-3-オンの合成
6-メトキシ-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,4]オキサジン-3-オン5.0g(26ミリモル)のジクロロメタン溶液に氷冷下2M-三臭化ホウ素ジクロロメタン溶液36mlを滴下した。室温で一夜撹拌し、反応液に水を加えて過剰の試薬を分解した。この反応液を水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して白色粉末の6-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-4H-ベンゾ[1,4]オキサジン-3-オン4.02gを得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.34 (6H, s), 6.25-6.40 (2H, m), 6.70 (1H, d, J=8.5 Hz), 9.09 (1H, s), 10.41 (1H, brs)。
6-ヒドロキシ-2-メチル-4H-ベンゾ[1,4]オキサジン-3-オンの合成
6-メトキシ-2-メチル-4H-ベンゾ[1,4]オキサジン-3-オンを用い、参考例18と同様にして目的化合物を得た。
白色粉末
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.34 (3H, d, J=6.8 Hz), 4.46 (1H, q, J=6.8 Hz), 6.23-6.27 (1H, m), 6.33 (1H, d, J=2.7 Hz), 6.70 (1H, d, J=8.6 Hz), 9.11 (1H, s), 10.44 (1H, brs)。
4-(4-メトキシフェニル)-1-(トルエン-4-スルホニル)ピペリジンの合成
4-(4-メトキシフェニル)ピペリジン4.0g(21ミリモル)のピリジン溶液(30ml)にp-トルエンスルホニルクロリド4.39g(23ミリモル)を加えて室温で一夜撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を塩酸及び水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して白色粉末の4-(4-メトキシフェニル)-1-(トルエン-4-スルホニル)ピペリジン4.8gを得た。
1H-NMR (CDCl3) δppm: 1.60-1.90 (4H, m), 2.30-2.40 (3H, m), 2.46 (3H, s), 3.78 (3H, s), 3.90-3.95 (2H, m), 6.84 (2H, dd, J=1.9, J=6.8 Hz), 7.07 (2H, dd, J=1.9, J=6.8 Hz), 7.35 (2H, d, J=8.2 Hz), 7.68 (2H, d, J=8.2 Hz)。
4-(4-ヒドロキシフェニル)-1-(トルエン-4-スルホニル)ピペリジンの合成
4-(4-メトキシフェニル)-1-(トルエン-4-スルホニル)ピペリジンを用い、参考例18と同様にして目的化合物を得た。
褐色粉末
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.60-1.90 (4H, m), 2.30-2.50 (3H, m), 2.45 (3H, s), 3.90-3.95 (2H, m), 6.67 (1H, brs), 6.80 (2H, dd, J=1.9, J=6.8 Hz), 7.02 (2H, dd, J=1.8, J=6.9 Hz), 7.35 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.68 (2H, d, J=8.1 Hz)。
4−ブロモ−2−ヒドロキシメチル−6−メトキシフェノールの合成
5−ブロモ−2−ヒドロキシ−3−メトキシベンズアルデヒド3.2g(13.8ミリミル)のTHF溶液(30ml)に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム0.28g(6.9ミリモル)を加えて0℃で2時間撹拌した。反応液に酢酸を加えpH=3とし、これに10%塩酸を加えて酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→1:1)で精製し、減圧下に濃縮して淡黄色油状物の4−ブロモ−2−ヒドロキシメチル−6−メトキシフェノール3.23gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 3.88(3H, s), 4.71(2H, s), 6.94(1H, d, J=2.0Hz), 7.03(1H, d, J=2.0Hz)。
5−ブロモ−3−メトキシ−2−メトキシメトキシベンズアルデヒドの合成
5−ブロモ−2−ヒドロキシ−3−メトキシベンズアルデヒド3.3g(14.3ミリモル)のジクロロメタン溶液(30ml)に氷冷下エチルジイソプロピルアミン3.0ml(17.1ミリモル)及びメトキシメチルクロリド1.5ml(15.7ミリモル)を加えて室温で2時間撹拌した。反応液を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1→11:9)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して淡黄色固体の5−ブロモ−3−メトキシ−2−メトキシメトキシベンズアルデヒド4.2gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 3.56(3H, s), 3.89(3H, s), 5.21(2H, s), 7.23(1H, d, J=2.5Hz), 7.56(1H, d, J=2.5Hz), 10.39(1H, s)。
3−メトキシ−2−メトキシメトキシ−5−(2−オキソオキサゾリジン−3−イル)ベンズアルデヒドの合成
5−ブロモ−3−メトキシ−2−メトキシメトキシベンズアルデヒド1.0g(3.6ミリモル)のジオキサン溶液(20ml)に2−オキサゾリジノン0.38g(4.36ミリモル)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム0.17g(0.18ミリモル)、9,9−ジメチル−4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)キサンテン(XANTPHOS)0.32g(0.55ミリモル)及び炭酸セシウム1.66g(5.1ミリモル)を加え、アルゴン雰囲気下、100℃で24時間撹拌した。この反応液を室温まで冷却し、酢酸エチルを加えて、セライトろ過した。ろ液を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1→1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣に酢酸エチルとジイソプロピルエーテルを加えて精製した不溶物をろ取し、乾燥して白色粉末の3−メトキシ−2−メトキシメトキシ−5−(2−オキソオキサゾリジン−3−イル)ベンズアルデヒド0.5gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 3.57(3H, s), 3.93(3H, s), 4.06-4.12(2H, m), 4.48-4.54(2H, m), 5.21(2H, s), 6.96(1H, d, J=2.5Hz), 8.18(1H, d, J=2.5Hz), 10,45(1H, s)。
3−(3−メトキシ−4−メトキシメトキシ−5−メチルフェニル)オキサゾリジン−2−オンの合成
3−メトキシ−2−メトキシメトキシ−5−(2−オキソオキサゾリジン−3−イル)ベンズアルデヒド0.5g(1.79ミリモル)を酢酸5mlエタノール5mlの混合溶媒に溶解し、10%パラジウム炭素0.05gを加えて、50℃1気圧で4時間接触還元した。室温まで冷却し、セライトろ過した。ろ液を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸10mlに溶解し、10%パラジウム炭素0.05gを加えて、50℃1気圧で6時間接触還元した。減圧下に溶媒を留去して淡褐色油状物の3−(3−メトキシ−4−メトキシメトキシ−5−メチルフェニル)オキサゾリジン−2−オンを得た。粗生成物のまま次の反応に用いた。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 2.32(3H, s ), 3.56(3H, s), 3.85(3H, s), 3.98-4.06(2H, m), 4.43-4.50(2H, m), 5.05(2H, s), 6.61(1H, d, J=2.3Hz), 7.36(1H, d, J=2.3Hz)。
3−(4−ヒドロキシ−3−メトキシ−5−メチルフェニル)オキサゾリジン−2−オンの合成
3−(3−メトキシ−4−メトキシメトキシ−5−メチルフェニル)オキサゾリジン−2−オン0.48g(1.79ミリモル)のメタノール溶液(5ml)に10%塩酸5mlを加えて50℃で10分間撹拌した。反応液に水を加えて、酢酸エチルで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮乾固して淡黄色粉末の3−(4−ヒドロキシ−3−メトキシ−5−メチルフェニル)オキサゾリジン−2−オン434mgを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 2.26(3H, s), 3.90(3H, s), 4.02(2H, dd, J=7.0Hz, J=8.5Hz), 4.46(2H, dd, J=7.0Hz, J=8.5Hz), 5.55(1H, br), 6.56(1H, d, J=2.5Hz), 7.31(1H, d, J=2.5Hz)。
1−(8−メトキシ−2,2−ジメチル−4H−ベンゾ[1,3]ジオキシン−6−イル)ピロリジン−2−オンの合成
6−ブロモ−8−メトキシ−2,2−ジメチル−4H−ベンゾ[1,3]ジオキシン及び2−ピロリドンを用い、参考例25と同様にして目的化合物を得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 1.59(6H, s), 2.09-2.21(2H, m ), 2.60(2H, t, J=8.3Hz), 3.82(2H, t, J=7.0Hz), 3.88(3H, s), 4.83(2H, s), 6.67(1H, d, J=2.5Hz), 7.24(1H, d, J=2.5Hz)。
1−(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−5−メトキシフェニル)ピロリジン−2−オンの合成
1−(8−メトキシ−2,2−ジメチル−4H−ベンゾ[1,3]ジオキシン−6−イル)ピロリジン−2−オン0.36g(1.3ミリモル)のTHF溶液(7ml)に10%塩酸4mlを加えて、室温で17時間撹拌した。反応液に水を加えてジクロロメタンで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト(ジクロロメタン:メタノール=300:1→30:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して淡褐色粉末の1−(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−5−メトキシフェニル)ピロリジン−2−オン0.31gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 2.05-2.28(3H, m), 2.26(2H, t, J=7.5Hz), 3.84(2H, t, J=7.0Hz), 3.91(3H, s), 4.74(2H, s), 5.90(1H, br), 6.78(1H, d, J=2.5Hz), 7.52(1H, d, J=2.5Hz)。
3−メトキシ−2−メトキシメトキシ−5−(2−オキソピロリジン−1−イル)ベンズアルデヒドの合成
5−ブロモ−3−メトキシ−2−メトキシメトキシベンズアルデヒド及び2−ピロリドンを用い、参考例25と同様にして目的化合物を得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 2.11-2.24(2H, m ), 2.63(2H, t, J=8.3Hz), 3.56(3H, s), 3.89(2H, t, J=7.0Hz), 3.92(3H, s), 5.21(2H, s), 7.08(1H, d, J=2.5Hz), 8.28(1H, d, J=2.5Hz), 10.46(1H, s)。
1-(4-ヒドロキシ-3-メトキシ-5-メチルフェニル)ピロリジン-2-オンの合成
3−メトキシ−2−メトキシメトキシ−5−(2−オキソピロリジン−1−イル)ベンズアルデヒド0.72g(2.56ミリモル)を酢酸4ml及びエタノール7mlの混合溶媒に溶解し、10%パラジウム炭素70mgを加えて50℃で10時間接触還元した。反応液を室温まで冷却した後、セライトろ過し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をジクロロメタン15mlに溶解し、氷冷下トリフルオロ酢酸2.0ml(25.6ミリモル)及びトリエチルシラン2.0ml(12.8ミリモル)を加えて室温で16時間撹拌した。減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→酢酸エチル)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して淡黄色油状物の1-(4-ヒドロキシ-3-メトキシ-5-メチルフェニル)ピロリジン-2-オン0.41gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 2.17-2.25(5H, m), 2.72(2H, t, J=8.3Hz), 3.88(2H, t, J=7.0Hz), 3.89(3H, s), 6.66(1H, d, J=2.5Hz), 7.15(1H, d, J=2.5Hz)。
3,4-ジアセトキシ-5-メチルベンズアルデヒドの合成
3,4-ジヒドロキシ−5-メチルベンズアルデヒド0.72g(4.7ミリモル)のピリジン溶液(4ml)に氷冷下、無水酢酸1.2ml(12ミリモル)を加えて、0℃で1時間撹拌した。反応液に10%塩酸を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→3:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して淡黄色油状物の3,4-ジアセトキシ-5-メチルベンズアルデヒド0.98gを得た。
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 2.29(3H, s), 2.32(3H, s), 2.35(3H, s), 7.58(1H, d, J=1.6Hz), 7.67(1H, d, J=1.6Hz), 9.93(1H, s)。
7-ヒドロキシ-1,4-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサジン-2-オンの合成
7-メトキシメトキシ-1,4-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサジン-2-オンを用い、参考例26と同様にして目的化合物を得た。
白色粉末
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 5.14 (2H, s), 6.35 (1H, d, J=2.2 Hz), 6.39 (1H, dd, J= 8.1, J=2.2 Hz), 6.97 (1H, d, J=8.1 Hz), 9.98 (1H, br-s)。
7-メトキシ-3,4-ジヒドロ-1H-キナゾリン-2-オンの合成
2-アミノメチルー5-メトキシアニリン1.2g(7.9ミリモル)及びカルボニルジイミダゾール1.53g(9.5ミリモル)をTHF100mlに加えて室温で一夜撹拌した。生成した不溶物をろ取し、ジクロロメタン及び水で洗浄後、乾燥して白色粉末の7-メトキシ-3,4-ジヒドロ-1H-キナゾリン-2-オン1.11gを得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 3.68(3H, s), 4.23(2H, s), 6.35(1H, d, J=2.5Hz), 6.42(1H, dd, J=8.3Hz, J=2.5Hz), 6.96(1H, d, J=8.3Hz), 8.90(1H, brs)。
7-ヒドロキシ-3,4-ジヒドロ-1H-キナゾリン-2-オンの合成
7-メトキシ-3,4-ジヒドロ-1H-キナゾリン-2-オンを用い、参考例18と同様にして目的化合物を得た。
淡褐色粉末
1H-NMR ( DMSO-d6 ) δppm : 4.18 ( 2H, brs ), 6.75-6.85 (1H, m), 7.01 ( 1H, dd, J = 2.0 Hz, J=9.0Hz ), 8.07 ( 1H, d, J = 9.0Hz ), 8.87 ( 1H, brs ), 9.48 ( 1H, brs ), 13.21 ( 1H, brs )。
5−(3-クロロプロポキシ)−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルの合成
5−ヒドロキシ−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチル0.83g(5.3ミリモル)のDMF溶液(5ml)に炭酸セシウム2.08g(6.4ミリモル)及び1-ブロモ-3-クロロプロパン(1.6ml)を加えて、室温で21時間撹拌した。反応液に水を加えて、酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。この反応液を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=100:1→4:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して白色固体の5−(3-クロロプロポキシ)−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチル1.17gを得た.
1H-NMR (CDCl3 ) δppm: 2.21-2.32(2H, m), 3.72(2H, t, J=6.3Hz), 3.72(2H, s), 3.91(3H, s), 4.24(2H, t, J=5.8Hz), 6.10(1H, s)。
7-(3-クロロプロポキシ)-2H-1,4-ベンゾオキサジン-3(4H)-オンの合成
7-ヒドロキシ-2H-1,4-ベンゾオキサジン-3(4H)-オン及び1-ブロモ-3-クロロプロパンを用い、参考例35と同様にして目的化合物を得た。
淡褐色針状晶(エタノール-n−ヘキサン)
融点 119-120℃。
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルエステルの合成
5−(3−クロロプロポキシ)−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルエステル1.17g(5.0ミリモル)、1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩1.35g(5.3ミリモル)、炭酸カリウム1.74g(12.6ミリモル)及びヨウ化ナトリウム0.75g(5.0ミリモル)をDMF12mlに加え、80℃で3時間撹拌した。この反応液を室温まで冷却し、水を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。この反応液を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3→ジクロロメタン:メタノール=100:3)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して淡黄色油状物1.97gを得た。この油状物を室温で放置して固化したのでジイソプロピルエーテルで洗浄後、乾燥して白色粉末の5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルエステル1.49gを得た。
融点 109.0-110.5℃。
MS 414(M+)。
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸の合成
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルエステル1.62g(3.9ミリモル)のエタノール溶液(10ml)に6N−水酸化ナトリウム水溶液2mlを加えて室温で4日間撹拌した。氷冷下、反応液に6N−塩酸2mlを加えて撹拌した。反応液にジクロロメタンを加え、析出した沈殿をろ取し、ろ液を分液し、有機層を減圧下に濃縮した。ろ物と残渣を合わせて水で洗浄後乾燥して白色粉末の5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸1.53gを得た。
融点 114.5-118.0℃。
N−メチル−5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド塩酸塩の合成
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸0.3g(0.75ミリモル)のDMF溶液を氷冷し、トリエチルアミン0.73ml(5.2ミリモル)、メチルアミン塩酸塩0.3g(4.5ミリモル)、及びジエチルホスホロシアニデート(DEPC)0.25ml(1.4ミリモル)を加えて室温で24時間撹拌した。反応液にトリエチルアミン0.73ml(5.2ミリモル)、メチルアミン塩酸塩0.3g(4.5ミリモル)、及びDEPC0.25ml(1.4ミリモル)を加えて室温で4日間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。この反応液を減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→酢酸エチル)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、4N−塩化水素酢酸エチル溶液を加え、生成した不溶物をろ取し、乾燥して白色粉末のN−メチル−5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド塩酸塩0.24gを得た。
融点 228.0-232.5℃(分解)。
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボキサミドの合成
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸及び塩化アンモニウムを用い、実施例3と同様にして目的化合物を得た。
白色粉末(酢酸エチル-ジイソプロピルエーテル)
融点 186.5-188.5℃。
4−[3−4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル]プロポキシ]−3−メトキシ−5,N−ジメチルベンズアミドの合成
4−(3−クロロプロポキシ)−3−メトキシ−5,N−ジメチルベンズアミド及び1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩を用い、実施例1と同様にして目的化合物を得た。
白色粉末(酢酸エチル-メタノール)
融点 141.5-142.5℃。
N−メチル−2−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]チアゾール−4−カルボキサミド塩酸塩の合成
3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロパノール0.2g(0.7ミリモル)及びN−メチル−2−クロロチアゾール−4−カルボキサミド0.26g(1.45ミリモル)のDMF溶液(2ml)に氷冷下水素化ナトリウム(55%油性)90mg(2.2ミリモル)を加えた。この溶液を80℃で1.5時間撹拌後、室温まで冷却し、反応液に水を加えて、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出液を水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(ジクロロメタン:酢酸エチル=5:1→酢酸エチル)で精製した。精製物を減圧下に濃縮後、残渣を酢酸エチルに溶解し、4N−塩化水素酢酸エチル溶液を加え、生成した不溶物をろ取し、乾燥して淡黄色粉末のN−メチル−2−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]チアゾール−4−カルボキサミド塩酸塩0.24gを得た。
融点 199.5-202.5℃。
2−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]チアゾール−4−カルボキサミドの合成
3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロパノール0.2g(0.7ミリモル)及び2−クロロチアゾール−4−カルボキサミドを用い、実施例6と同様にして目的化合物を得た。
白色粉末(酢酸エチル-ジイソプロピルエーテル)
融点 139.5-140.5℃。
{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}カルバミン酸tert−ブチルエステルの合成
4−(3−クロロプロポキシ)−3−メトキシ−5−メチルフェニルカルバミン酸tert−ブチルエステル及び1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩を用い、実施例1と同様にして目的化合物を得た。
淡褐色油状物
1H-NMR (CDCl3 ) δppm : 1.51(9H, s), 1.95-2.10 (2H, m ), 2.24(3H, s), 2.66-2.81(6H, m), 3.14-3.31(2H, m), 3.84(3H, s), 3.95( 2H, t, J=6.3Hz ), 6.36(1H, br), 6.60(1H, d, J=2.5Hz), 6.87-6.92(1H, m), 7.01 ( 1H, d, J=2.0Hz ), 7.24-7.31(1H, m), 7.37-7.44(2H, m), 7.55(1H, d, J=8.0Hz)
MS 511(M+)。
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルアニリンの合成
{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}カルバミン酸tert−ブチルエステル2.18g(4.3ミリモル)のメタノール溶液(10ml)に6N−塩酸3mlを加えて室温で一夜撹拌した。60℃で15分撹拌後、室温まで冷却し、6N−水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。反応混合物にジクロロメタンを加え、ジクロロメタン抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:2→酢酸エチル)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して淡黄色固体の4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルアニリン1.26gを得た。
融点 155.0-158.0℃
MS 411(M+)。
N−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}ホルムアミド塩酸塩の合成
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルアニリン0.9g(2.2ミリモル)を蟻酸エチル10mlに加えて33時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、減圧下に濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→酢酸エチル)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣の酢酸エチル溶液に4N−塩化水素酢酸エチル溶液を加え、生成した不溶物をろ取して白色粉末のN−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}ホルムアミド塩酸塩0.3gを得た。
融点 247.5-253.0℃(分解)。
N−メチル−4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルアニリン塩酸塩の合成
N−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}ホルムアミド塩酸塩0.23g(0.48ミリモル)に6N−水酸化ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン(THF)5mlに溶解し、氷冷下水素化リチウムアルミニウム30mg(0.71ミリモル)を加えて15分加熱還流した。反応液を氷冷し、水0.03ml、15%水酸化ナトリウム水溶液0.03ml及び水0.09mlをこの順に加えて撹拌した。不溶物をろ過して除き、ろ液を減圧下に濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→3:1)で精製した。減圧下に濃縮し、残渣の酢酸エチル溶液に4N−塩化水素酢酸エチル溶液を加え、生成した不溶物をろ取して白色粉末のN−メチル−4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルアニリン塩酸塩63mgを得た。
融点 239.5-244.0℃(分解)。
3−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}オキサゾリジン−2−オン塩酸塩の合成
3−[4−(3−クロロプロポキシ)−3−メトキシ−5−メチルフェニル]オキサゾリジン−2−オン及び1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩を用い、実施例1と同様にして目的化合物を得た。
白色粉末(エタノール)
融点 247.5-251.0℃(分解)。
N−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}アセトアミドの合成
N-[4−(3−クロロプロポキシ)−3−メトキシ−5−メチルフェニル]アセトアミド及び1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩を用い、実施例1と同様にして目的化合物を得た。
白色粉末(酢酸エチル-ジイソプロピルエーテル)
融点 121.5-122.0℃。
N−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}-N-メチルアセトアミド塩酸塩の合成
N−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}アセトアミド0.45g(0.99ミリモル)のDMF溶液(5ml)に氷冷下、水素化ナトリウム(55%油性)0.06g(1.3ミリモル)を加えて0℃で15分撹拌した。反応液にヨウ化メチル0.07ml(1.1ミリモル)を加えて0℃で1時間撹拌した。反応液にさらに水素化ナトリウム(55%油性)0.06g(1.3ミリモル)とヨウ化メチル0.07ml(1.1ミリモル)を加えて0℃で2時間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。この反応液を減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→酢酸エチル)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣の酢酸エチル溶液に4N−塩化水素酢酸エチル溶液を加えて生成した不溶物をろ取して白色粉末のN−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}-N-メチルアセトアミド塩酸塩325mgを得た。
融点 230.0-234.0℃(分解)。
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−N,N−ジメチル−3−メトキシ−5−メチルアニリン塩酸塩の合成
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルアニリン0.32g(0.78ミリモル)のメタノール溶液(6ml)に氷冷下、ホルマリン(37%)0.29ml(3.9ミリモル)及び水素化シアノホウ素ナトリウム0.21g(3.1ミリモル)を加えて0℃で15分撹拌した。反応液に酢酸0.18ml(3.1ミリモル)を加えて室温で1時間撹拌した。氷冷下、反応液に炭酸カリウム水溶液を加えて酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この反応液を減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=11:1→3:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣の酢酸エチル溶液に4N−塩化水素酢酸エチル溶液を加え、生成した不溶物をろ取して白色粉末の4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−N,N−ジメチル−3−メトキシ−5−メチルアニリン塩酸塩137mgを得た。
融点 234.5-240.5℃(分解)。
{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}カルバミン酸メチルエステル塩酸塩の合成
4−(3−クロロプロポキシ)−3−メトキシ−5−メチルフェニルカルバミン酸メチルエステル及び1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩を用い、実施例1と同様にして目的化合物を得た。
白色粉末(酢酸エチル)
融点 230.0-235.5℃。
N−メチル−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}カルバミン酸メチルエステル塩酸塩の合成
{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}カルバミン酸メチルエステル塩酸塩及びヨウ化メチルを用い、実施例14と同様にして目的化合物を得た。
白色粉末(酢酸エチル)
融点 228.0-233.5℃。
6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3,4-ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン塩酸塩の合成
水素化リチウムアルミニウム86mg(2.3ミリモル)をTHF20mlに懸濁し、アルゴン雰囲気下、これに6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3,4-ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン−3−オン0.8g(1.9ミリモル)のTHF溶液(10ml)を滴下した。滴下終了後、1時間加熱還流した。氷冷下、反応液に水0.1ml、15%水酸化ナトリウム水溶液0.1ml、水0.3mlを加えて撹拌した。不溶物をセライトろ過して除き、ろ液を減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(ジクロロメタン:メタノール=1:0→20:1)で精製した。減圧下に濃縮後、残渣を酢酸エチル10mlに溶解し1N−塩化水素エタノール溶液0.34mlを加えて室温で15分撹拌した。析出した不溶物をろ取し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥して白色固体の6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3,4-ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン塩酸塩0.11gを得た。
融点 207.9-208.8℃。
7−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3,4-ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン塩酸塩の合成
7−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3,4-ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン−3−オンを用い、実施例18と同様にして目的化合物を得た。
淡褐色固体(酢酸エチル)
融点 214.0-215.9℃。
7−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−4−メチル−3,4-ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン塩酸塩の合成
7−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3,4-ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン0.30g(0.67ミリモル)のメタノール溶液(15ml)にホルマリン(37%)0.22ml(2.7ミリモル)及びMP−シアノボロヒドリド(2.41ミリモル/g)1.12g(2.7ミリモル)を加えて室温で一夜撹拌した。不溶物をろ過して除き、ろ液を減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(ジクロロメタン:メタノール=1:0→50:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮後、残渣を酢酸エチル15mlに溶解し、1N−塩化水素エタノール溶液0.64mlを加えて室温で15分撹拌した。析出した不溶物をろ取し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥して淡褐色固体の7−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−4−メチル−3,4-ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン塩酸塩0.23gを得た。
融点 248.1-249.6℃。
6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキナゾリン−4−オール塩酸塩及び6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキナゾリン塩酸塩の合成
6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メチルキナゾリン0.25g(0.58ミリモル)のTHF溶液(20ml)を氷冷し、アルゴン雰囲気下、これに水素化リチウムアルミニウム26mg(0.69ミリモル)のTHF溶液(5ml)を滴下した。滴下終了後、溶液を室温で20分撹拌し、1時間加熱還流した。氷冷下、反応液に水0.03ml、15%水酸化ナトリウム水溶液0.03ml、水0.1mlを加えて撹拌した。不溶物をセライトろ過して除き、ろ液を減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(ジクロロメタン:メタノール=1:0→25:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮後、残渣を酢酸エチル5mlに溶解し、1N−塩化水素エタノール溶液0.189mlを加えて室温で15分撹拌した。析出した不溶物をろ取し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥して白色固体の6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキナゾリン−4−オール塩酸塩87mgを得た。
MS 438(M+)。
融点 203.1-204.4℃。
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−2,3-ジヒドロ−1H−インドール塩酸塩の合成
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1H−インドール228mg(0.71ミリモル)のトリフルオロ酢酸溶液(5ml)にトリエチルシラン1.14ml(7.14ミリモル)を加えて50℃で2時間撹拌した。減圧下に濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、分液した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、及び飽和食塩水の順で洗浄後、減圧下に濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマト(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮後、残渣を酢酸エチル5mlに溶解し1N−塩化水素エタノール溶液0.10mlを加えて室温で15分撹拌した。析出した不溶物をろ取し、酢酸エチルで洗浄後乾燥して白色固体の5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−2,3-ジヒドロ−1H−インドール塩酸塩32mgを得た。
融点 222.4-223.9℃。
3−アミノ−4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−N−エチルベンズアミドの合成
1H-NMR (CDCl3) δppm: 1.23 (3H, t, J=7.4 Hz), 2.00-2.15 (2H, m), 2.67 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.75 (4H, brs), 3.21 (4H, brs), 3.40-3.50 (2H, m), 3.50-4.30 (2H, br), 4.13 (2H, t, J=6.5 Hz), 5.99 (1H, brs), 6.80 (1H, d, J=8.4 Hz), 6.90 (1H, d, J=7.6 Hz), 7.08 (1H, dd, J=2.1, 8.3 Hz), 7.19 (1H, d, J=2.1 Hz), 7.25-7.30 (1H, m), 7.35-7.45 (2H, m), 7.55 (1H, d, J=8.0 Hz)。
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−4−[3−(1−アセチルピペリジン−4−イルオキシ)プロピル]ピペラジン 塩酸塩の合成
を得た。
融点 208-210℃。
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]ピロリジン−2,5−ジオン 塩酸塩の合成
融点 255.0-257.0℃。
6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−ナフトアミドの合成
融点 167.0-169.0℃。
1−アリル−5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルアミドの合成
融点 138.5-140.5℃。
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]シクロヘキサンカルボキサミドの合成
融点 107.5-108.5℃。
エタンスルホン酸{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}アミド 塩酸塩の合成
融点 235.5-237.5℃。
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イルカルバミン酸メチルエステルの合成
融点 162.5-165.0℃。
3−{5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル}1,1−ジメチル尿素 塩酸塩の合成
融点 174.0-176.5℃。
3−{5−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブトキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル}1,1−ジメチル尿素 塩酸塩の合成
融点 186.0-187.5℃。
N−{5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル}アセトアミドの合成
融点 137.0-139.0℃。
3−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−ヒドロキシメチル−5−メトキシフェニル}オキサゾリジン−2−オン 塩酸塩の合成
融点 224.0−226.5℃(分解)。
1−アセチル−4−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}ピペラジン 塩酸塩の合成
融点 257.0−261.0℃(分解)。
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−4−[3−(4−イミダゾール−1−イル−2−メトキシ−6−メチルフェノキシ)プロピル]ピペラジン 二塩酸塩の合成
融点 234.0−240.0℃(分解)。
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3,N−ジメチル−5−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベンズアミド 塩酸塩の合成
融点 156.0−157.5℃。
3−アセチル−5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール 塩酸塩の合成
融点 245.0 ℃(分解)。
3−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−5−ヒドロキシメチル−1−メチル−1H−ピラゾールの合成
融点 123.5-126.0℃。
3−アミノ−4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−N−エチルベンズアミドの合成
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−N−エチル−3−ニトロベンズアミド1.0g(2.1ミリモル)のエタノール溶液(30ml)に5%パラジウム炭素0.8gを加え、上記原料化合物を室温常圧で接触還元した。触媒をろ過して除き、ろ液を減圧下に濃縮した。残渣に水を加え、生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=30:1→20:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して黄色無定形固体の3−アミノ−4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−N−エチルベンズアミド0.78g(収率83%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δppm: 1.23 (3H, t, J=7.4 Hz), 2.00-2.15 (2H, m), 2.67 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.75 (4H, brs), 3.21 (4H, brs), 3.40-3.50 (2H, m), 3.50-4.30 (2H, br), 4.13 (2H, t, J=6.5 Hz), 5.99 (1H, brs), 6.80 (1H, d, J=8.4 Hz), 6.90 (1H, d, J=7.6 Hz), 7.08 (1H, dd, J=2.1, 8.3 Hz), 7.19 (1H, d, J=2.1 Hz), 7.25-7.30 (1H, m), 7.35-7.45 (2H, m), 7.55 (1H, d, J=8.0 Hz)。
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−4−[3−(1−アセチルピペリジン−4−イルオキシ)プロピル]ピペラジン 塩酸塩の合成
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−4−[3−(ピペリジン−4−イルオキシ)プロピル]ピペラジン0.45g(1.25ミリモル)のジクロロメタン溶液(15ml)にトリエチルアミン0.28ml(2.0ミリモル)を加え、混合液を氷水浴で冷却した。冷却した溶液に塩化アセチル0.1ml(1.4ミリモル)を加え、得られた混合液を室温で一夜撹拌した。反応液に水を加えてジクロロメタンで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=30:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣に0.5N塩化水素メタノール溶液3mlを加えた。生成した結晶をろ取し、乾燥して白色粉末の1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−4−[3−(1−アセチルピペリジン−4−イルオキシ)プロピル]ピペラジン 塩酸塩0.36g(収率66%)を得た。
融点 208-210℃。
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]ピロリジン−2,5−ジオン 塩酸塩の合成
3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロパノール1.00g(3.6ミリモル)のTHF溶液(50ml)にPS−トリフェニルホスフィン(3mmol/g)1.80g、ジtert−ブチルアゾジカルボキシラート1.27g(5.4ミリモル)及びN−ヒドロキシスクシンイミド510mg(4.3ミリモル)を加え、混合液を室温で4時間撹拌した。レジンをろ過して除き、ろ液を減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して白色無定形固体762mg(収率47%)を得た。157mgをエタノールに溶解し、得られた溶液に1N−塩化水素エタノール溶液0.42mlを加え、エーテルを加え、混合液を冷蔵庫に放置した。生成した結晶をろ取し、乾燥して白色粉末の1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]ピロリジン−2,5−ジオン 塩酸塩158mgを得た。
融点 255.0-257.0℃。
6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−ナフトアミドの合成
6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−ナフタレンカルボン酸0.52g(1.2ミリモル)のアセトニトリル溶液(10ml)に氷冷下トリエチルアミン0.24ml(1.7ミリモル)及びクロロ炭酸イソブチル0.19ml(1.4ミリモル)を加え、混合液を20分撹拌した。攪拌後の溶液にアンモニア水(28%)0.5mlを加え、混合液を室温で20分撹拌した。反応液に酢酸エチルを加え、混合液を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル混合溶媒から再結晶して白色粉末の6−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−ナフトアミド0.27g(収率53%)を得た。
融点 167.0-169.0℃。
1−アリル−5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルアミドの合成
1−アリル−5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1H−ピラゾール−3−カルボン酸エチルエステル0.5g(1.1ミリモル)のメタノール溶液(5ml)に40%メチルアミンメタノール溶液5mlを加え、混合液を室温で3日間撹拌した。攪拌後の溶液を減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル混合溶媒から再結晶して白色粉末の1−アリル−5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルアミド0.32g(収率67%)を得た。
融点 138.5-140.5℃。
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]シクロヘキサンカルボキサミドの合成
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]シクロヘキサンカルボン酸0.5g(1.2ミリモル)のジクロロメタン溶液(10ml)にアンモニア水(28%)0.5ml、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(WSC)0.36g(1.9ミリモル)及び4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)0.05g(0.4ミリモル)を加え、混合液を室温で19時間撹拌した。反応液にジクロロメタンを加え、混合液を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル混合溶媒から再結晶して白色粉末の4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]シクロヘキサンカルボキサミド0.1g(収率22%)を得た。
融点 107.5-108.5℃。
エタンスルホン酸{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}アミド 塩酸塩の合成
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニルアミン0.2g(0.49ミリモル)のジクロロメタン溶液(4ml)を氷冷し、N-エチルジイソプロピルアミン0.15ml(0.87ミリモル)及びエタンスルホニルクロリド0.07ml(0.73ミリモル)を加え、混合液を室温で1時間撹拌した。攪拌後の混合液にN-エチルジイソプロピルアミン0.15ml(0.87ミリモル)及びエタンスルホニルクロリド0.07ml(0.73ミリモル)を追加し、得られた混合液を室温で19時間撹拌した。攪拌後の混合液に6N−水酸化ナトリウム水溶液0.5ml及びエタノール2mlを加え、得られた混合液を室温で一夜撹拌した。反応液にジクロロメタンを加え、得られた混合液を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣に4N−塩化水素酢酸エチル溶液を加えた。生成した結晶をろ取し、乾燥して白色粉末のエタンスルホン酸{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}アミド 塩酸塩222mg(収率85%)を得た。
融点 235.5-237.5℃。
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イルカルバミン酸メチルエステルの合成
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イルアミン0.17g(0.47ミリモル)のジクロロメタン溶液(2ml)を氷冷し、この溶液にピリジン0.08ml(0.94ミリモル)及びクロロ炭酸メチル0.04ml(0.52ミリモル)を加え、混合液を室温で17時間撹拌した。反応液に酢酸エチルを加え、得られた混合液を水で洗浄した。水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1→1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル混合溶媒から再結晶して白色粉末の5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イルカルバミン酸メチルエステル0.10g(収率51%)を得た。
融点 162.5-165.0℃。
3−{5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル}1,1−ジメチル尿素 塩酸塩の合成
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イルアミン0.27g(0.73ミリモル)のジクロロメタン溶液(5ml)を氷冷し、この溶液にトリエチルアミン0.36ml(2.5ミリモル)、ジメチルカルバモイルクロリド0.20ml(2.1ミリモル)及びピリジン0.06ml(0.73ミリモル)を加え、混合液を室温で一夜撹拌した。反応液に水を加え、生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、得られた溶液に4N−塩化水素酢酸エチル溶液を加えた。生成した結晶をろ取し、乾燥して淡黄色粉末の3−{5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル}1,1−ジメチル尿素 塩酸塩0.10g(収率30%)を得た。
融点 174.0-176.5℃。
3−{5−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブトキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル}1,1−ジメチル尿素 塩酸塩の合成
5−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブトキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イルカルバミン酸フェニルエステル0.26g(0.52ミリモル)のDMF溶液(3ml)にジメチルアミン水溶液(50%)0.16ml(1.6ミリモル)を加え、混合液を室温で16時間撹拌した。反応液に水を加え、生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、1N−塩化水素エタノール溶液を加えた。生成した結晶をろ取し、乾燥して白色粉末の3−{5−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブトキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル}1,1−ジメチル尿素 塩酸塩95mg(収率37%)を得た。
融点 186.0-187.5℃。
N−{5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル}アセトアミドの合成
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イルアミン0.20g(0.54ミリモル)のジクロロメタン溶液(4ml)に無水酢酸1ml及びトリエチルアミン0.09ml(0.65ミリモル)を加え、混合液を室温で6時間撹拌した。反応液に炭酸カリウム水溶液を加え、生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル混合溶媒から再結晶して白色粉末のN−{5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル}アセトアミド0.19g(収率89%)を得た。
融点 137.0-139.0℃。
3−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−ヒドロキシメチル−5−メトキシフェニル}オキサゾリジン−2−オン 塩酸塩の合成
2−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−(2−オキソオキサゾリジン−3−イル)ベンズアルデヒド 塩酸塩1.28g(2.4ミリモル)を炭酸カリウム水溶液に加え、混合物をジクロロメタンで抽出した。抽出物を減圧下に濃縮し、残渣をTHF15mlに溶解した。得られた溶液に、氷冷下水素化硼素ナトリウム0.05g(1.2ミリモル)を加え、この混合液を室温で3時間撹拌した。反応液に氷冷下10%塩酸を加えて過剰の試薬を分解した。この溶液に6N−水酸化ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性にした後、生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:酢酸エチル=3:7→ジクロロメタン:メタノール=100:3)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノールに溶解し、得られた溶液に1N−塩化水素エタノール溶液を加えた。生成した結晶をエタノールから再結晶して白色粉末の3−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−ヒドロキシメチル−5−メトキシフェニル}オキサゾリジン−2−オン 塩酸塩0.52g(収率41%)を得た。
融点 224.0−226.5℃(分解)。
1−アセチル−4−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}ピペラジン 塩酸塩の合成
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−4−[3−(4−ブロモ−2−メトキシ−6−メチルフェノキシ)プロピル]ピペラジン 塩酸塩0.5g(0.98ミリモル)、1−アセチルピペラジン0.15g(1.2ミリモル)、酢酸パラジウム11mg(0.048ミリモル)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(BINAP)63mg(0.098ミリモル)及びナトリウムt-ブトキシド0.23g(2.3ミリモル)をトルエン10mlに加え、混合液をアルゴン雰囲気下90℃で22時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、セライトろ過した。ろ物を酢酸エチルで洗浄し、ろ液と洗液を合わせて減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=11:1→1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、得られた溶液に1N−塩化水素エタノール溶液を加えた。生成した結晶をろ取し、乾燥して白色粉末の1−アセチル−4−{4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}ピペラジン 塩酸塩75mg(収率14%)を得た。
融点 257.0−261.0℃(分解)。
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−4−[3−(4−イミダゾール−1−イル−2−メトキシ−6−メチルフェノキシ)プロピル]ピペラジン 二塩酸塩の合成
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−4−[3−(4−ヨード−2−メトキシ−6−メチルフェノキシ)プロピル]ピペラジン0.6g(0.69ミリモル)、イミダゾール0.07g(1.03ミリモル)、よう化銅(I)13mg(0.069ミリモル)、trans−N,N’−ジメチル−1,2−シクロヘキサンジアミン0.02ml(0.14ミリモル)及び炭酸セシウム0.47g(1.38ミリモル)を1,4−ジオキサン6mlに加え、混合液をアルゴン雰囲気下50時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、これに水を加え、生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、1N−塩化水素エタノール溶液を加えた。生成した結晶をろ取し、乾燥して淡黄色粉末の1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−4−[3−(4−イミダゾール−1−イル−2−メトキシ−6−メチルフェノキシ)プロピル]ピペラジン 二塩酸塩60mg(収率17%)を得た。
融点 234.0−240.0℃(分解)。
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3,N−ジメチル−5−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベンズアミド 塩酸塩の合成
4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−ヒドロキシ−5,N−ジメチルベンズアミド188mg(0.39ミリモル)のDMF溶液(2ml)に炭酸セシウム0.34g(0.99ミリモル)及び1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン0.05ml(0.47ミリモル)を加え、混合液を40℃で2時間撹拌した。これに1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン0.1ml(0.94ミリモル)を追加し、混合液を40℃で5時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、これに水を加え、生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をイソプロピルアルコールに溶解し、1N−塩化水素エタノール溶液を加えた。反応液を減圧下に濃縮した。残渣をイソプロピルアルコール−酢酸エチル混合溶媒から再結晶して淡黄色粉末の4−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3,N−ジメチル−5−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベンズアミド 塩酸塩88mg(収率40%)を得た。
融点 156.0−157.5℃。
3−アセチル−5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール 塩酸塩の合成
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸 メトキシメチルアミド 塩酸塩0.61g(1.3ミリモル)を水酸化ナトリウム水溶液に加え、混合物をジクロロメタンで抽出した。抽出物を減圧下に濃縮し、残渣をTHF12mlに溶解した。得られた溶液を−78℃に冷却し、これに1N−メチルリチウムエーテル溶液1.2mlを加え、混合液を同温度で2時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、混合液を室温まで加熱し、これに炭酸カリウムを加え、生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:酢酸エチル=3:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して残渣をエタノールに溶解し、1N−塩化水素エタノール溶液を加えた。得られた結晶を含水エタノールから再結晶して白色粉末の3−アセチル−5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−1−メチル−1H−ピラゾール 塩酸塩0.22g(収率40%)を得た。
融点 245.0 ℃(分解)。
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−ヒドロキシメチル−1−メチル−1H−ピラゾールの合成
5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−(tert−ブチル−ジメチルシラニルオキシメチル)−1−メチル−1H−ピラゾール0.75g(1.5ミリモル)のTHF溶液(8ml)を氷冷し、この溶液に1M−テトラブチルアンモニウムフルオリドTHF溶液1.7mlを加え、これを室温で16時間撹拌した。反応液に酢酸エチルを加え、混合液を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=1:0→30:1→15:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル混合溶媒から再結晶して白色粉末の5−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロポキシ]−3−ヒドロキシメチル−1−メチル−1H−ピラゾール0.46g(収率79%)を得た。
融点 123.5-126.0℃。
1)ドパミンD2受容体結合実験
Kohlerらの方法(Kohler C, Hall H, Ogren SO and Gawell L. Specific in vitro and in vivo binding of 3H-raclopride. A potent substituted benzamide drug with high affinity for dopamine D-2 receptors in the rat brain. Biochem. Pharmacol., 1985; 34: 2251-2259)に従って、実験を行った。
Leysen JEらの方法(Leysen JE, Niemegeers CJE, Van Nueten JM, and Laduron PM. [3H]Ketanserin (R 41 468), a selective 3H-ligand for serotonin 2 receptor binding sites. Mol. Pharmacol., 1982; 21: 301-314)に従って、実験を行った。
Grob Gらの方法(Grob G, Hanft G, and Kolassa N. Urapidil and some analogues with hypotensive properties show high affinities for 5-hydroxytryptamine (5-HT) binding sites of the 5-HT1A subtype and for a1-adrenoceptor binding sites. Naunyn-Schmiedeberg's Arch Pharmacol, 1987; 336: 597-601)に従って、実験を行った。
ドパミンD 2 受容体発現細胞を用いたドパミンD 2 受容体に対する部分作動性(パーシャルアゴニスト性)
フォルスコリン刺激して環状アデノシン3’,5’−一リン酸(サイクリックAMP)産生を誘導したドパミンD2受容体発現細胞において、測定化合物のサイクリックAMP産生抑制作用を定量することによって、ドパミンD2受容体に対するパーシャルアゴニスト性を評価した。
ラットを用いたアポモルヒネ誘発常同行動に対する抑制作用
試験動物として、ウィスターラット(雄,6−7週齢,日本エスエルシー株式会社)を用いた。試験化合物は、これをメノウの乳鉢を用いて5%アラビアゴム/(生理食塩水もしくは水)にて懸濁し、必要に応じ同液にて希釈したものを使用した。
0:生理食塩水を投与したラットと観察上差がない状態
1:探索行動は継続的に行うが、におい嗅ぎ動作は断続的にしか行わない状態
2:におい嗅ぎ動作を継続的に行い、探索行動はときどきしか行わない状態
3:におい嗅ぎ動作を継続的に行うが、噛み付き動作や舌舐めずり動作は断続的にしか行わない状態。なお、このときの自発運動量は極めて少ない。
4:継続的な噛み付き動作や舌舐めずり動作を行う状態。なお、このとき探索行動は観られない。
ラットを用いた(±)D−2,5−ジメトキシ−4−ヨードアンフェタミン(DOI)誘発首振り行動に対する抑制作用
試験動物として、ウィスターラット(雄,6−7週齢,日本エスエルシー株式会社)を用いた。試験化合物は、これをメノウの乳鉢を用いて5%アラビアゴム/(生理食塩水もしくは水)にて懸濁し、必要に応じ同液にて希釈したものを使用した。
ラットにおける硬直状態(カタレプシー)惹起作用
試験動物として、ウィスターラット(雄,6−7週齢,日本エスエルシー株式会社)を用いた。試験化合物は、これをメノウの乳鉢を用いて5%アラビアゴム/(生理食塩水もしくは水)にて懸濁し、必要に応じ同液にて希釈したものを使用した。
ラット脳シナプトソームによる化合物のセロトニン(5-HT)取り込み阻害活性測定
雄のウィスターラットを断頭し、脳を取り出し、前頭皮質を分離し、これを重量の20倍量の0.32モーラー(M)ショ糖溶液内にいれ、ポッター型ホモジナイザーでホモジナイズした。ホモジネートを1000g 10分間、4℃で遠心し、その上清をさらに20000g 20分間、4℃で遠心し、そのペレットをインキュベーションバッファー(10ミリ(m)M グルコース,145mM 塩化ナトリウム,4.5mM 塩化カリウム,1.2mM 塩化マグネシウム,1.5mM 塩化カルシウムを含む20mM ヘペスバッファー(pH7.4))に懸濁させたものを粗シナプトソーム画分として用いた。取り込み反応は96穴のラウンドボトムのプレートを用いて容量200マイクロ(μ)リットル(l)で行い、反応時にはインキュベーションバッファーにパージェリン(最終濃度10μM)とアスコルビン酸(最終濃度0.2mg/ml)を加え使用した。100%取り込み値は化合物の溶媒のみを加えたときの取り込み活性、0%取り込み値(非特異的取り込み値)は未標識の5−HT(最終濃度10μM)を加えたときの取り込み活性とし、測定用の各穴を準備した。評価化合物は最終濃度が300nMになるように希釈を行ったものを入れた穴を準備した。各穴にシナプトソーム画分を最終容量の10分の1量加え37℃で10分間プレインキュベーション後、トリチウムラベル5−HT溶液(最終濃度8nM)を加えて37℃で取り込み反応を開始した。取り込み時間は10分とし、96穴ガラス繊維濾紙プレートに吸引濾過することで反応を終了させ、さらに濾紙を冷生理食塩水で洗った後、十分に乾燥させてマイクロシンチ0(パーキンエルマー)を加え、フィルター上の残存放射活性を測定した。100%と0%の取り込み時の放射活性と各化合物の放射活性から各化合物の阻害活性を計算した。
Claims (16)
- 一般式(1):
Aは低級アルキレン基又は低級アルケニレン基を示す。
R1は以下の基(I)〜(IV)からなる群から選ばれたシクロC3−C8アルキル基、芳香環基又は複素環基を示す:
(I)シクロC3−C8アルキル基、
(II)フェニル基、ナフチル基、ジヒドロインデニル基及びテトラヒドロナフチル基からなる群から選ばれた芳香環基、
(III)窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から4個有する飽和又は不飽和複素単環基、
(IV)[1]テトラヒドロキノキサリニル基、[2]テトラヒドロキナゾリニル基、[3]ジヒドロキナゾリニル基、[4]インドリニル基、[5]インドリル基、[6]イソインドリニル基、[7]ベンゾイミダゾリニル基、[8]ジヒドロベンゾイミダゾリル基、[9]テトラヒドロベンゾアゼピニル基、[10]テトラヒドロベンゾジアゼピニル基、[11]ヘキサヒドロベンゾアゾシニル基、[12]ジヒドロベンゾオキサジニル基、[13]ジヒドロベンゾオキサゾリル基、[14]ベンゾイソキサゾリル基、[15]ベンゾオキサジアゾリル基、[16]テトラヒドロベンゾオキサゼピニル基、[17]ジヒドロベンゾチアジニル基、[18]ベンゾチアゾリル基、[19]ベンゾオキサチオリル基、[20]クロメニル基、[21]ジヒドロベンゾフリル基、[22]カルバゾリル基、[23]ジベンゾフリル基及び[24]キノキサリニル基からなる群より選ばれた窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から4個有するベンゼン縮合複素環基、
ここで、上記R1で示されるシクロC3−C8アルキル基、芳香環及び複素環上には、下記(1)〜(66)からなる群から選ばれた少なくとも1つの基が置換していてもよい:
(1)低級アルキル基、
(2)低級アルケニル基、
(3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(5)アリールオキシ基、
(6)低級アルキルチオ基、
(7)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(8)ヒドロキシ基、
(9)保護されたヒドロキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(11)保護されたヒドロキシ低級アルキル基、
(12)ハロゲン、
(13)シアノ基、
(14)アリール基、
(15)ニトロ基、
(16)アミノ基、
(17)置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を有するアミノ基、
(18)低級アルカノイル基、
(19)アリール基上に低級アルキル基を有していてもよいアリールスルホニル基、
(20)カルボキシ基、
(21)低級アルコキシカルボニル基、
(22)カルボキシ低級アルキル基、
(23)低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
(24)低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基、
(25)カルボキシ低級アルケニル基、
(26)低級アルコキシカルボニル低級アルケニル基、
(27)置換基として低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル低級アルケニル基、
(28)以下の基(i)−(lxxviii)からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいカルバモイル基:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルコキシ基、
(iii)ヒドロキシ低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ低級アルキル基、
(v)アリールオキシ低級アルキル基、
(vi)ハロゲン置換低級アルキル基、
(vii)低級アルキル基、低級アルカノイル基、アロイル基及びカルバモイル基からなる群からえらばれた基を有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(viii)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシカルボニル基及びフェニル低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいシクロC3-C8アルキル基、
(ix)シクロC3-C8アルキル置換低級アルキル基、
(x)低級アルケニル基、
(xi)置換基として低級アルキル基、低級アルキル基を有していてもよいフェニル基及び低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル低級アルキル基、
(xii)低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
(xiii)フリル低級アルキル基(フリル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xiv)テトラヒドロフリル低級アルキル基、
(xv)1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、
(xvi)テトラヒドロピラニル低級アルキル基、
(xvii)ピロリル低級アルキル基(ピロリル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xviii)オキソ基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基で置換された低級アルキル基、
(xix)ピラゾリル低級アルキル基(ピラゾリル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xx)イミダゾリル低級アルキル基、
(xxi)ピリジル低級アルキル基、
(xxii)ピラジニル低級アルキル基(ピラジニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xxiii)ピロリジニル低級アルキル基(ピロリジニル基上には、オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)、
(xxiv)ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、ベンゾイル基及び低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)、
(xxv)ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xxvi)モルホリニル低級アルキル基、
(xxvii)チエニル低級アルキル基(チエニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xxviii)チアゾリル低級アルキル基、
(xxix)ジヒドロベンゾフリル低級アルキル基、
(xxx)ベンゾピラニル低級アルキル基(ベンゾピラニル基上にはオキソ基が置換していてもよい)、
(xxxi)ベンズイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxii)低級アルキル基上に、低級アルコキシカルボニル基を有していてもよいインドリル低級アルキル基、
(xxxiii)低級アルキル基上に、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた置換基を有するイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxiv)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピリジル基、
(xxxv)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピロリジニル基、
(xxxvi)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及び低級アルキル基及びハロゲンからなる群から選ばれた基を有していてもよいアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピペリジル基、
(xxxvii)オキソ基を有していてもよいテトラヒドロフリル基、
(xxxviii)オキソ基を有していてもよいヘキサヒドロアゼピニル基、
(xxxix)置換基として低級アルキル基、アリール基及びフリル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピラゾリル基、
(xl)チアゾリル基、
(xli)低級アルキル基を有していてもよいチアジアゾリル基、
(xlii)低級アルキル基を有していてもよいイソキサゾリル基、
(xliii)インダゾリル基、
(xliv)インドリル基、
(xlv)テトラヒドロベンゾチアゾリル基、
(xlvi)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びオキソ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいテトラヒドロキノリル基、
(xlvii)低級アルキル基を有していてもよいキノリル基、
(xlviii)ベンゾジオキソリル低級アルキル基、
(xlix)置換基としてハロゲン;低級アルキル基;低級アルコキシ基;ハロゲン置換低級アルキル基;ハロゲン置換低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキル基及びアリール基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアミノ基;スルファモイル基;低級アルキルチオ基;低級アルカノイル基;低級アルコキシカルボニル基;ピロリル基;低級アルキニル基;シアノ基;ニトロ基;アリールオキシ基;アリール低級アルコキシ基;ヒドロキシ基;ヒドロキシ低級アルキル基;低級アルキル基及びアリール基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル基;ピラゾリル基;オキソ基を有していてもよいピロリジニル基;オキサゾリル基;低級アルキル基を有していてもよいイミダゾリル基;オキソ基を有していてもよいジヒドロフリル基;オキソ基を有していてもよいチアゾリジニル低級アルキル基;イミダゾリル低級アルカノイル基及びピペリジニルカルボニル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアリール基、
(l)シアノ低級アルキル基、
(li)低級アルキル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいジヒドロキノリル基、
(lii)ハロゲン置換低級アルキルアミノ基、
(liii)低級アルキルチオ低級アルキル基、
(liv)低級アルキル基を有していてもよいアミジノ基、
(lv)アミジノ低級アルキル基、
(lvi)低級アルケニルオキシ低級アルキル基、
(lvii)アリール基上に低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン置換低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいアリールアミノ基、
(lviii)アリール低級アルケニル基、
(lix)低級アルキル基を有していてもよいピリジルアミノ基、
(lx)アリール低級アルキル基(アリール基上及び/又は低級アルキル基上には、ハロゲン、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルコキシ基、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)、
(lxi)低級アルキニル基、
(lxii)アリールオキシ低級アルキル基(アリール基上には、低級アルコキシ基;低級アルコキシ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル基;及びオキソ基を有していてもよいピロリジニル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)、
(lxiii)オキソ基を有していてもよいイソキサゾリジニル基、
(lxiv)ジヒドロインデニル基、
(lxv)アリール低級アルコキシ低級アルキル基、
(lxvi)テトラヒドロピラニル基、
(lxvii)低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアゼチジニル基、
(lxviii)低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアゼチジニル低級アルキル基、
(lxix)テトラゾリル基、
(lxx)オキソ基を有していてもよいインドリニル基、
(lxxi)低級アルキル基及び低級アルキルチオ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいトリアゾリル基、
(lxxii)カルバモイル基を有していてもよいイミダゾリル基、
(lxxiii)低級アルキル基を有していてもよいオキサゾリル基、
(lxxiv)低級アルキル基を有していてもよいイソチアゾリル基、
(lxxv)ベンゾイミダゾリル基、
(lxxvi)オキソ基を有していてもよいジヒドロベンゾチアゾリル基、
(lxxvii)低級アルコキシカルボニル基を有していてもよいチエニル基ならびに
(lxxviii)低級アルキル基を有していてもよいオキサゾリル低級アルキル基、
(29)アミノ基上に、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、アリール基、アリール低級アルキル基、アロイル基及びアミノ置換アルキル基(アミノ置換アルキル基のアミノ基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)からなる群から選ばれた基を有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(30)低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいカルバモイル基が置換した低級アルキル基、
(31)低級アルキル基を有していてもよいチオカルバモイル基、
(32)スルファモイル基、
(33)オキソ基を有していてもよいオキサゾリジニル基、
(34)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいイミダゾリジニル基、
(35)オキソ基を有していてもよいピロリジニル基、
(36)イミダゾリル基、
(37)トリアゾリル基、
(38)イソキサゾリル基、
(39)低級アルキル基;低級アルカノイル基;アリールスルホニル基;オキソ基;ヒドロキシ基;及び低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアミノ基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいピペリジル基、
(40)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノイル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、カルバモイル基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基(アミノ基上に低級アルキル基、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよい)、ピペリジル基(ピペリジル基上には、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、ピペラジニル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デシル基、モルホリニル基、ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基(ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、ピリジル基、ピリジルオキシ基、ピリジル低級アルコキシ基、テトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を有していてもよい)、ベンゾジオキソリル基、アリール低級アルコキシ基(アリール基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、アリール基(アリール基上にはハロゲン、低級アルコキシ基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、アリールオキシ基(アリール基上にはシアノ基、ハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、アリール低級アルキル基(アリール基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)及びアロイル基(アリール基上にはハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいピペリジルカルボニル基、
(41)置換基としてヒドロキシ低級アルキル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アミノ基、アミノ基(アミノ基上には、低級アルキル基、低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基、ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、アリールオキシ基(アリール基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を有していてもよい)、アリールオキシ低級アルキル基(アリール基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を有していてもよい)及びテトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を有していてもよい)からなる群から選ばれた基を有していてもよいピロリジニルカルボニル基、
(42)置換基として低級アルキル基、シクロC3-C8アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、低級アルキル基が置換していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、テトラヒドロフリル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基(低級アルキル基上には、フェニル基が置換していてもよい)、イミダゾリル低級アルキル基、フリル低級アルキル基、ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、置換基として低級アルキル基を有していてもよいピペリジル基、ピリジル基(ピリジル基上には、低級アルキル基、シアノ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基が置換していてもよい)及びチエノ[2,3-b]ピリジル基、アリール基(アリール基上にハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基を有していてもよい)、アロイル基、フリルカルボニル基、アリール低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピペラジニルカルボニル基、
(43)ヘキサヒドロアゼピニルカルボニル基、
(44)置換基として低級アルキル基及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニルカルボニル基、
(45)低級アルキル基を有していてもよいジヒドロピロリルカルボニル基、
(46)チオモルホリニルカルボニル基、
(47)低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基及びアリール基からなる群から選ばれた基を有していてもよいモルホリニルカルボニル基、
(48)低級アルコキシ基及びシアノ基からなる群から選ばれた基を有してもよいアリール基を有していてもよいチアゾリジニルカルボニル基、
(49)アザビシクロ[3.2.2]ノニルカルボニル基、
(50)ハロゲン置換又は無置換のアリールオキシ基を有していてもよい8−アザビシクロ[3.2.1]オクチルカルボニル基、
(51)インドリニルカルボニル基、
(52)テトラヒドロキノリルカルボニル基、
(53)テトラヒドロピリド[3.4-b]インドリルカルボニル基、
(54)モルホリニル低級アルキル基、
(55)ピペラジニル基上に低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル低級アルキル基、
(56)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(57)ピペラジニル基上に低級アルキル基を有していてもよいピペラジニルカルボニル低級アルキル基、
(58)オキソ基、
(59)アミノ低級アルコキシ基(アミノ基上に低級アルキル基を有していてもよい)、
(60)低級アルコキシ低級アルコキシ基、
(61)オキソ基、低級アルキル基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいピペラジニル基、
(62)モルホリニル基、
(63)オキソ基及びアリール基からなる群から選ばれた基を有していてもよい1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカニルカルボニル基、
(64)ピリジル基を有していてもよいテトラヒドロピリジルカルボニル基、
(65)チオキソ基を有していてもよいイミダゾリジニルカルボニル基、ならびに
(66)1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デカニル基]
で表される複素環化合物又はその塩。 - R1が以下の基(I A)、(II)、(III A)及び(IV)からなる群から選ばれたシクロC5−C6アルキル基、芳香環基又は複素環基を示す、請求項1に記載の複素環化合物又はその塩:
(I A)シクロC5−C6アルキル基、
(II)フェニル基、ナフチル基、ジヒドロインデニル基及びテトラヒドロナフチル基からなる群から選ばれた芳香環基、
(III A)ピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、イソオキサゾリル、チアゾリル、ピラニル、チエニルから選ばれた窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から2個有する飽和又は不飽和複素単環基、
(IV)[1]テトラヒドロキノキサリニル基、[2]テトラヒドロキナゾリニル基、[3]ジヒドロキナゾリニル基、[4]インドリニル基、[5]インドリル基、[6]イソインドリニル基、[7]ベンゾイミダゾリニル基、[8]ジヒドロベンゾイミダゾリル基、[9]テトラヒドロベンゾアゼピニル基、[10]テトラヒドロベンゾジアゼピニル基、[11]ヘキサヒドロベンゾアゾシニル基、[12]ジヒドロベンゾオキサジニル基、[13]ジヒドロベンゾオキサゾリル基、[14]ベンゾイソキサゾリル基、[15]ベンゾオキサジアゾリル基、[16]テトラヒドロベンゾオキサゼピニル基、[17]ジヒドロベンゾチアジニル基、[18]ベンゾチアゾリル基、[19]ベンゾオキサチオリル基、[20]クロメニル基、[21]ジヒドロベンゾフリル基、[22]カルバゾリル基、[23]ジベンゾフリル基及び[24]キノキサリニル基からなる群より選ばれた窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1から4個有するベンゼン縮合複素環基、
ここで、上記R1で示されるシクロC5−C6アルキル基、芳香環及び複素環上には、下記(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい:
(1)低級アルキル基、
(2)低級アルケニル基、
(3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(5A)フェノキシ基、
(6)低級アルキルチオ基、
(7)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(8)ヒドロキシ基、
(9A)フェニル低級アルコキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(11A)低級アルコキシ低級アルキル基、
(12)ハロゲン、
(13)シアノ基、
(14A)フェニル基、
(15)ニトロ基、
(16)アミノ基、
(17A)置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有するアミノ基(18)低級アルカノイル基、
(19A)フェニル基上に低級アルキル基を有していてもよいフェニルスルホニル基、
(20)カルボキシ基、
(21)低級アルコキシカルボニル基、
(22)カルボキシ低級アルキル基、
(23)低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、
(24)低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基、
(25)カルボキシ低級アルケニル基、
(26)低級アルコキシカルボニル低級アルケニル基、
(27A)置換基として低級アルキル基及びハロゲン原子が1〜3個置換した低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル低級アルケニル基、
(28A)以下の基(i)−(vi)、(vii A)、(viii A)、(ix)、(x)、(xi A)、(xii A)、(xiii A)、(xiv)−(xvi)、(xvii A)、(xviii)、(xix A)、(xx)、(xxi)、(xxii A)、(xxiii A)、(xxiv A)、(xxv A)、(xxvi)、(xxvii A)、(xxviii)、(xxix)、(xxx A)、(xxxi)、(xxxii A)、(xxxiii A)、(xxxiv A)、(xxxv A)、(xxxvi A)、(xxxvii A)、(xxxviii A)、(xxxix A)、(xl)、(xli A)、(xlii A)、(xliii)−(xlv)、(xlvi A)、(xlvii A)、(xlviii)、(xlix A)、(l)、(li A)、(lii)−(lvi)、(lvii A)、(lviii A)、(lix A)、(lx A)、(lxi)、(lxii A)、(lxiii A)、(lxiv)、(lxv A)、(lxvi)、(lxvii A)、(lxviii A)、(lxix)、(lxx A)、(lxxi A)、(lxxii A)、(lxxiii A)、(lxxiv A)、(lxxv)、(lxxvi A)、(lxxvii A)及び(lxxviii A)からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルコキシ基、
(iii)ヒドロキシ低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ低級アルキル基、
(v)アリールオキシ低級アルキル基、
(vi)ハロゲン置換低級アルキル基、
(vii A)低級アルキル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル基及びカルバモイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(viii A)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシカルボニル基及びフェニル低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいシクロC3-C8アルキル基、
(ix)シクロC3-C8アルキル置換低級アルキル基、
(x)低級アルケニル基、
(xi A)置換基として低級アルキル基、低級アルキル基を有していてもよいフェニル基及び低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイルを1〜2個有する低級アルキル基、
(xii A)1〜2個の低級アルコキシカルボニルを有する低級アルキル基、
(xiii A)フリル基低級アルキル基(フリル基上には、1〜2個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xiv)テトラヒドロフリル低級アルキル基、
(xv)1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、
(xvi)テトラヒドロピラニル低級アルキル基、
(xvii A)ピロリル低級アルキル基(ピロリル基上には、1〜2個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xviii)オキソ基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基で置換された低級アルキル基、
(xix A)ピラゾリル低級アルキル基(ピラゾリル基上には、1〜3個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xx)イミダゾリル低級アルキル基、
(xxi)ピリジル低級アルキル基、
(xxii A)ピラジニル低級アルキル基(ピラジニル基上には、1〜3個の低級アルキル基が置換していてもよい)、
(xxiii A)ピロリジニル低級アルキル基(ピロリジニル基上には、オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基が1〜2個置換していてもよい)、
(xxiv A)ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、ベンゾイル基及び低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい)、
(xxv A)ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が1〜3個置換していてもよい)、
(xxvi)モルホリニル低級アルキル基、
(xxvii A)チエニル低級アルキル基(チエニル基上には、低級アルキル基が1〜3個置換していてもよい)、
(xxviii)チアゾリル低級アルキル基、
(xxix)ジヒドロベンゾフリル低級アルキル基、
(xxx A)ベンゾピラニル低級アルキル基(ベンゾピラニル基上には1個のオキソ基が置換していてもよい)、
(xxxi)ベンズイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxii A)低級アルキル基上に、低級アルコキシカルボニル基を1〜3個有していてもよいインドリル低級アルキル基、
(xxxiii A)低級アルキル基上に、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有するイミダゾリル低級アルキル基、
(xxxiv A)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピリジル基、
(xxxv A)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピロリジニル基、
(xxxvi A)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基及びベンゾイル基(フェニル基上に低級アルキル基及びハロゲンからなる群から選ばれた基を有していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピペリジル基、
(xxxvii A)1個のオキソ基を有していてもよいテトラヒドロフリル基、
(xxxviii A)1個のオキソ基を有していてもよいヘキサヒドロアゼピニル基、
(xxxix A)置換基として低級アルキル基、フェニル基及びフリル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピラゾリル基、
(xl)チアゾリル基、
(xli A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいチアジアゾリル基、
(xlii A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいイソキサゾリル基、
(xliii)インダゾリル基、
(xliv)インドリル基、
(xlv)テトラヒドロベンゾチアゾリル基、
(xlvi A)置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びオキソ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいテトラヒドロキノリル基、
(xlvii A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいキノリル基、
(xlviii)ベンゾジオキソリル低級アルキル基、
(xlix A)フェニル基又はナフチル基、(それぞれ置換基としてハロゲン;低級アルキル基;低級アルコキシ基;ハロゲン置換低級アルキル基;ハロゲン置換低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキル基及びアリール基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ基;スルファモイル基;低級アルキルチオ基;低級アルカノイル基;低級アルコキシカルボニル基;ピロリル基;低級アルキニル基;シアノ基;ニトロ基;フェニルオキシ基;フェニル低級アルコキシ基;ヒドロキシ基;ヒドロキシ低級アルキル基;低級アルキル基及びフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基;ピラゾリル基;オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基;オキサゾリル基;低級アルキル基を1〜3個有していてもよいイミダゾリル基;オキソ基を1個有していてもよいジヒドロフリル基;オキソ基を2個有していてもよいチアゾリジニル低級アルキル基;イミダゾリル低級アルカノイル基及びピペリジニルカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、
(l)シアノ低級アルキル基、
(li A)低級アルキル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいジヒドロキノリル基、
(lii)ハロゲン置換低級アルキルアミノ基、
(liii)低級アルキルチオ低級アルキル基、
(liv)低級アルキル基を有していてもよいアミジノ基、
(lv)アミジノ低級アルキル基、
(lvi)低級アルケニルオキシ低級アルキル基、
(lvii A)フェニル基上に低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン置換低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいフェニルアミノ基、
(lviii A)フェニル低級アルケニル基、
(lix A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいピリジルアミノ基、
(lx A)フェニル低級アルキル基(フェニル基上及び/又は低級アルキル基上には、ハロゲン、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルコキシ基、カルバモイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい)、
(lxi)低級アルキニル基、
(lxii A)フェニルオキシ低級アルキル基(フェニル基上には、低級アルコキシ基、N−低級アルコキシ−N−低級アルキルカルバモイル基及びオキソピロリジニル基からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい)、
(lxiii A)オキソ基を1個有していてもよいイソキサゾリジニル基、
(lxiv)ジヒドロインデニル基、
(lxv A)フェニル低級アルコキシ低級アルキル基、
(lxvi)テトラヒドロピラニル基、
(lxvii A)低級アルカノイル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいアゼチジニル基、
(lxviii A)低級アルカノイル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいアゼチジニル低級アルキル基、
(lxix)テトラゾリル基、
(lxx A)オキソ基を1個有していてもよいインドリニル基、
(lxxi A)低級アルキル基及び低級アルキルチオ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいトリアゾリル基、
(lxxii A)カルバモイル基を1〜3個有していてもよいイミダゾリル基、
(lxxiii A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいオキサゾリル基、
(lxxiv A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいイソチアゾリル基、
(lxxv)ベンゾイミダゾリル基、
(lxxvi A)オキソ基を1個有していてもよいジヒドロベンゾチアゾリル基、
(lxxvii A)低級アルコキシカルボニル基を1〜3個有していてもよいチエニル基ならびに
(lxxviii A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいオキサゾリル低級アルキル基(29A)アミノ基上に、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、フェニル基、フェニル低級アルキル基、ベンゾイル基及びアミノ置換アルキル基(アミノ置換アルキル基のアミノ基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(30A)低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基が1個置換した低級アルキル基、
(31A)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいチオカルバモイル基、
(32)スルファモイル基、
(33A)オキソ基を1個有していてもよいオキサゾリジニル基、
(34A)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいイミダゾリジニル基、
(35A)オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基、
(36)イミダゾリル基、
(37)トリアゾリル基、
(38)イソキサゾリル基、
(39A)低級アルキル基;低級アルカノイル基;低級アルキルフェニルスルホニル基;オキソ基;ヒドロキシ基;ならびに低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいピペリジル基、
(40A)置換基として低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノイル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、カルバモイル基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基(アミノ基上に低級アルキル基、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよい)、ピペリジル基(ピペリジル基上には、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、ピペラジニル基(ピペラジニル基上には、低級アルキル基が1〜3個置換していてもよい)、1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デシル基、モルホリニル基、ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基(ヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニル基上には、1個の低級アルキル基が置換していてもよい)、ピリジル基、ピリジルオキシ基、ピリジル低級アルコキシ基、テトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を1個有していてもよい)、ベンゾジオキソリル基、フェニル低級アルコキシ基(フェニル基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、フェニル基(フェニル基上にはハロゲン、低級アルコキシ基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、フェニルオキシ基(フェニル基上にはシアノ基、ハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、フェニル低級アルキル基(フェニル基上にはハロゲン、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)及びベンゾイル基(フェニル基上にはハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)からなる群から選ばれた置換基を有していてもよいピペリジルカルボニル基、
(41A)置換基としてヒドロキシ低級アルキル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アミノ基、アミノ基(アミノ基上には、低級アルキル基、低級アルカノイル基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基、ピペラジニル低級アルキル基(ピペラジニル基上には、1個の低級アルキル基が置換していてもよい)、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、1個の低級アルキル基が置換していてもよい)、フェニルオキシ基(フェニル基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を1〜3個有していてもよい)、フェニルオキシ低級アルキル基(フェニル基上にはハロゲン置換低級アルコキシ基を1〜3個有していてもよい)及びテトラヒドロキノリル基(テトラヒドロキノリル基上にはオキソ基を有していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピロリジニルカルボニル基、
(42A)置換基として低級アルキル基、シクロC3-C8アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ低級アルキル基(アミノ基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)、ピペリジル低級アルキル基(ピペリジル基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)、モルホリニル低級アルキル基、ピロリジニル低級アルキル基、1,3−ジオキソラニル低級アルキル基、テトラヒドロフリル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基(低級アルキル基上には、フェニル基が1〜2個置換していてもよい)、イミダゾリル低級アルキル基、フリル低級アルキル基、ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、置換基として低級アルキル基を1〜2個有していてもよいピペリジル基、ピリジル基(ピリジル基上には、低級アルキル基、シアノ基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい)及びチエノ[2,3-b]ピリジル基、フェニル基(フェニル基上にハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい)、ベンゾイル基、フリルカルボニル基、フェニル低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピペラジニルカルボニル基、
(43)ヘキサヒドロアゼピニルカルボニル基、
(44A)置換基として低級アルキル基及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいヘキサヒドロ−1,4−ジアゼピニルカルボニル基、
(45A)低級アルキル基を1〜3個有していてもよいジヒドロピロリルカルボニル基、
(46)チオモルホリニルカルボニル基、
(47A)低級アルキル基、ピペリジル低級アルキル基及びフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいモルホリニルカルボニル基、
(48A)低級アルコキシ基及びシアノ基からなる群から選ばれた基を1〜3個有してもよいフェニル基を1〜3個有していてもよいチアゾリジニルカルボニル基、
(49)アザビシクロ[3.2.2]ノニルカルボニル基、
(50A)ハロゲン置換又は無置換のフェニルオキシ基を1〜3個有していてもよい8−アザビシクロ[3.2.1]オクチルカルボニル基、
(51)インドリニルカルボニル基、
(52)テトラヒドロキノリルカルボニル基、
(53)テトラヒドロピリド[3.4-b]インドリルカルボニル基、
(54)モルホリニル低級アルキル基、
(55A)ピペラジニル基上に低級アルキル基を1〜3個有していてもよいピペラジニル低級アルキル基、
(56)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(57A)ピペラジニル基上に低級アルキル基を1〜3個有していてもよいピペラジニルカルボニル低級アルキル基、
(58)オキソ基、
(59A)アミノ低級アルコキシ基(アミノ基上に低級アルキル基を1〜2個有していてもよい)、
(60)低級アルコキシ低級アルコキシ基、
(61A)オキソ基、低級アルキル基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピペラジニル基、
(62)モルホリニル基、
(63A)オキソ基及びフェニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよい1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカニルカルボニル基、
(64A)ピリジル基を1〜3個有していてもよいテトラヒドロピリジルカルボニル基、
(65A)チオキソ基を1個有していてもよいイミダゾリジニルカルボニル基、ならびに
(66)1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デカニル基。 - Aが低級アルキレン基である請求項1又は2に記載の複素環化合物又はその塩。
- R1が以下の基(I A)、(II A)、(III A’)からなる群から選ばれたシクロC5−C6アルキル基、芳香環基又は複素環基を示す請求項3に記載の複素環化合物又はその塩:
(I A)シクロC5−C6アルキル基、
(II A)フェニル基、
(III A’)ピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル及びチアゾリルから選ばれた窒素原子を1〜2個有する飽和又は不飽和複素単環基。
ここで、上記R1で示されるシクロC5−C6アルキル基、芳香環及び複素環上には、請求項2で定義された(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)、(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。 - R1がシクロC5−C6アルキル基を示す請求項4に記載の複素環化合物又はその塩:
ここで、上記R1で示されるシクロC5−C6アルキル基上には、請求項2で定義された(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)、(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。 - R1がフェニル基を示す請求項4に記載の複素環化合物又はその塩:
ここで、上記R1で示されるフェニル基上には、請求項2で定義された(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)、(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。 - R1がピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル及びチアゾリルから選ばれた窒素原子を1〜2個有する飽和又は不飽和複素単環基を示す請求項4に記載の複素環化合物又はその塩:
ここで、上記R1で示される複素環上には、請求項2で定義された(1)〜(4)、(5A)、(6)〜(8)、(9A)、(10)、(11A)、(12)、(13)、(14A)、(15)、(16)、(17A)、(18)、(19A)、(20)〜(26)、(27A)、(28A)、(29A)、(30A)、(31A)、(32)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)〜(38)、(39A)、(40A)、(41A)、(42A)、(43)、(44A)、(45A)、(46)、(47A)、(48A)、(49)、(50A)、(51)〜(54)、(55A)、(56)、(57A)、(58)、(59A)、(60)、(61A)、(62)、(63A)、(64A)、(65A)及び(66)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。 - R1が以下の基(I A)、(II A)、(III A’)からなる群から選ばれたシクロC5−C6アルキル基、芳香環基又は複素環基を示す請求項4に記載の複素環化合物又はその塩:
(I A)シクロC5−C6アルキル基、
(II A)フェニル基、
(III A’)ピロリジニル、ピペリジル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル及びチアゾリルから選ばれた窒素原子を1〜2個有する飽和又は不飽和複素単環基。
ここで、上記R1で示されるシクロC5−C6アルキル基、芳香環及び複素環上には、下記(1)、(4)、(10)、(17A)、(18)、(21)、(28A’)、(29A)、(30A)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)、(39A)、(61A)及び(62)からなる群から選ばれた基が1〜5個置換していてもよい。
(1)低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(17A)置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有するアミノ基
(18)低級アルカノイル基、
(21)低級アルコキシカルボニル基、
(28A’)以下の基(i) (ii) (iv) (xii A) (xxi)からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルコキシ基、
(iv)低級アルコキシ低級アルキル基、
(xii A)1〜2個の低級アルコキシカルボニルを有する低級アルキル基、
(xxi)ピリジル低級アルキル基、
(29A)アミノ基上に、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、フェニル基、フェニル低級アルキル基、ベンゾイル基及びアミノ置換アルキル基(アミノ置換アルキル基のアミノ基上には、低級アルキル基が1〜2個置換していてもよい)からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(30A)低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基が1個置換した低級アルキル基、
(33A)オキソを1個有していてもよいオキサゾリジニル基、
(34A)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた置換基を1〜2個有していてもよいイミダゾリジニル基、
(35A)オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基、
(36)イミダゾリル基、
(39A)低級アルキル基;低級アルカノイル基;低級アルキルフェニルスルホニル基;オキソ基;ヒドロキシ基;ならびに低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいアミノ基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいピペリジル基、
(61A)オキソ基、低級アルキル基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜3個有していてもよいピペラジニル基及び
(62)モルホリニル基。 - R1が、フェニル基を示す請求項8に記載の複素環化合物又はその塩:
ここで、上記R1で示される芳香環上には、請求項8で定義された(1)、(4)、(10)、(17A)、(18)、(21)、(28A’)、(29A)、(30A)、(33A)、(34A)、(35A)、(36)、(39A)、(61A)及び(62)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい。 - R1が、フェニル基を示す請求項9に記載の複素環化合物又はその塩:
ここで、上記R1で示される芳香環上には、下記(1)、(4)、(10)、(17A)、(18)、(28A’’)、(33A)、(35A)、(39A’)及び(61A’)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい。
(1)低級アルキル基、
(4)低級アルコキシ基、
(10)ヒドロキシ低級アルキル基、
(17A)置換基として低級アルキル基、アミノ低級アルカノイル基、低級アルカノイルアミノ低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルカノイル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有するアミノ基
(18)低級アルカノイル基、
(28A’’)1個の低級アルコキシ低級アルキル基を有するカルバモイル基、
(33A)オキソを1個有していてもよいオキサゾリジニル基、
(35A)オキソ基を1個有していてもよいピロリジニル基、
(39A’)ピペリジル基及び
(61A’)オキソ基、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよいピペラジニル基。 - R1が、フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のアミノ基(該アミノ基上に1又は2個の低級アルキル基を有する)を有するフェニル基、フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のカルバモイル基(該カルバモイル基上に、低級アルキル基(該低級アルキル基上に2個の低級アルコキシ基を有する)を1個有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピロリジニル基を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピペリジル基を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルカノイル基を有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルカノイル基及び1個のオキソ基を有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルコキシカルボニル基及び1個のオキソ基を有する)を有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のN−[(N−低級アルコキシカルボニルアミノ)低級アルカノイル]アミノ基を有するフェニル基、フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のN−(アミノ低級アルカノイル)アミノ基を有するフェニル基、フェニル基上に、1個の低級アルキル基、1個の低級アルコキシ基、及び1個のN−[(N−
低級アルカノイルアミノ)低級アルカノイル]アミノ基を1個有するフェニル基、
フェニル基上に、1個の低級アルコキシ基、1個の低級アルカノイル基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルコキシカルボニル基を有する)を有するフェニル基、又は
フェニル基上に、1個の低級アルコキシ基、1個のヒドロキシ低級アルキル基、及び1個のピペラジル基(該ピペラジル基上に1個の低級アルコキシカルボニル基を有する)を有するフェニル基である請求項10に記載の複素環化合物又はその塩。 - 一般式(1)で表される複素環化合物が、4−[3−{4−(ベンゾ[b]チオフェン−4−イル)ピペラジン−1−イル}プロポキシ)−N−(2,2−ジメトキシエチル)−3−メトキシ−5−メチルベンズアミドである、請求項11に記載の複素環化合物またはその塩。
- 一般式(1)で表される複素環化合物が、1−アセチル−4−{4−[3−{4−(ベンゾ[b]チオフェン−4−イル)ピペラジン−1−イル}プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}ピペラジンである、請求項11に記載の複素環化合物またはその塩。
- 一般式(1)で表される複素環化合物が、4−{4−[3−{4−(ベンゾ[b]チオフェン−4−イル)ピペラジン−1−イル}プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}−3−オキソ−1−メトキシカルボニルピペラジンである、請求項11に記載の複素環化合物またはその塩。
- 一般式(1)で表される複素環化合物が、2−アミノ−N−{4−[3−{4−(ベンゾ[b]チオフェン−4−イル)ピペラジン−1−イル}プロポキシ]−3−メトキシ−5−メチルフェニル}アセトアミドである、請求項11に記載の複素環化合物またはその塩。
- 一般式(1)で表される複素環化合物が、4−{4−[3−(4−(ベンゾ[b]チオフェン−4−イル)ピペラジン−1−イル}プロポキシ−3−ヒドロキシメチル−5−メトキシフェニル}−1−メトキシカルボニルピペラジンである、請求項11に記載の複素環化合物またはその塩。
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