JP4708287B2 - 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、転写材料、液晶表示装置、及び偏光紫外線露光装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルムの製造方法及びそれに有用な偏光紫外線露光装置に関する。また、本発明は前記方法を利用して製造される光学フィルム、及びそれを用いた偏光板、転写材料ならびに液晶表示装置に関する。特に、垂直配向型液晶表示素子の視野角特性の改善に寄与する光学フィルム、及び視野角特性の改善された液晶表示装置に関する。

ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなどに用いられる表示装置としては、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）がこれまで主に使用されてきた。近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）が、薄型、軽量、且つ消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されてきている。一般的には、液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を有し、偏光板は保護フィルムと偏光膜とからなる。偏光板は、一般的には、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。例えば、透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償フィルムを配置することもある。一方、反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償フィルム、及び偏光板の順に配置するのが一般的である。液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板及び液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過型、反射型及び半透過型のいずれにも適用でき、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。しかしながら、従来の液晶表示装置で表示し得る色やコントラストは、ＬＣＤを見る時の角度によって変化する。そのため、液晶表示装置の視野角特性は、ＣＲＴの性能を越えるまでには至っていない。

近年、この視野角特性を改良するＬＣＤの方式として、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、電圧を印加しない状態で液晶分子の長軸を基板に略垂直な方向に配向させ、これを薄膜トランジスタにより駆動する垂直配向ネマチック型液晶表示装置（以下、ＶＡモードという）が提案されている（特許文献１参照）。このＶＡモードは、正面から見た場合の表示特性がＴＮモードと同様に優れているのみならず、視野角補償用位相差板（光学補償フィルム）を適用することで広い視野角特性を発現する。ＶＡモードでは、フィルム面に垂直な方向に光学軸を有する負の一軸性位相差板（負のｃ−ｐｌａｔｅ）を用いることでより広い視野角特性を得ることができ、このＬＣＤに更に面内のレターデーション値が５０ｎｍである正の屈折率異方性を有する一軸配向性位相差板（正のａ−ｐｌａｔｅ）を用いることで、更により広い視野角特性を実現できることも知られている（非特許文献１参照）。

しかし、このように位相差板の枚数を増やすと生産コストが上昇してしまう。また、多数のフィルムを貼り合わせるために歩留まりの低下を引き起こしやすいだけでなく、貼合角度のずれによって表示品位の低下をも引き起こしやすい。さらに、複数のフィルムを用いるために厚さが増し、表示装置の薄形化に不利となる場合もある。

また、通常正のａ−ｐｌａｔｅには延伸フィルムが用いられるが、連続搬送工程における縦延伸フィルムを用いる場合、ａ−ｐｌａｔｅの遅相軸がフィルムの搬送（ＭＤ）方向となる。ところが、ＶＡモードの視野角補償では偏光板の吸収軸であるＭＤ方向に対してａ−ｐｌａｔｅの遅相軸を直交させなければならないため、ロール・トゥ・ロールでの貼合ができず、コストが著しく上昇する。これを解決する方法としてＭＤと直交する方向（ＴＤ方向）に延伸するいわゆる横延伸フィルムを用いることが挙げられるが、横延伸フィルムにはボウイングと呼ばれる遅相軸の歪みが発生しやすく、歩留まりが上がらないためにコストが上昇する。さらに、延伸フィルムの積層には粘着層を用いるため、温湿度変化により粘着層が収縮してフィルム間の剥離や反りといった不良が発生することもある。これらを改善する方法として、棒状液晶を塗布してａ−ｐｌａｔｅを作製する方法が知られている（特許文献２参照）。

さらに近年、ｃ−ｐｌａｔｅとａ−ｐｌａｔｅの組み合わせに代わって、二軸性位相差板を用いる方法が提案された（非特許文献２）。二軸性位相差板を用いることにより、コントラスト視野角だけでなく色味も改善できるようになるメリットがあるが、通常二軸性位相差板を作製するのに用いられる二軸延伸は、横延伸と同様にフィルムの全領域に渡って均一な軸制御が難しく、歩留まりが上がらないためにコストが上昇する。

そこで、特殊なコレステリック液晶に偏光紫外線照射する方法（特許文献３）や、特殊な円盤状液晶に偏光紫外線照射する方法（特許文献４）によって、延伸を用いることなく二軸性位相差板を作製する方法が提案された。この方法により延伸に起因する種々の問題が解決できる。

ところで、偏光紫外線照射を行うには、３８０ｎｍ以下の紫外線領域で偏光分離特性のある偏光フィルタを用いる必要があるが、偏光フィルタの原理的な問題から少なくとも半分の偏光成分は使うことができないため、非偏光照射と比較すると照射量は小さくなる。高い生産性を維持するには搬送速度を速くする必要があるが、搬送速度を速くするとそれに反比例して偏光紫外線の照射量は小さくなってしまう。

上記二軸位相差板等を作製する際に利用する偏光紫外線の照射量が小さいと、硬化後の膜の強度が不足したり、また硬化時に液晶の分子配向をともなう場合には、分子配向にも影響を及ぼし、その結果、作製される光学フィルム等の光学特性にも影響を及ぼす。

偏光光照射による液晶配向方法について、特許文献５には光を部分的に平行化又は偏光する手段が具体的に記載されている。また特許文献６にはワイヤグリッド偏光素子を利用して光の利用効率を高めた偏光光照射装置について記載されている。しかし、光学異方性層を形成する際に行う偏光紫外線の照射が、層中の液晶分子の配列及び層の硬化の双方に関係がある場合、所望の光学特性と膜強度を得るためには、膜厚方向に一様に、且つ十分に液晶配列及び硬化を進める必要がある。
特開平２−１７６６２５号公報 特開２０００−３０４９３０号公報 ＥＰ１３８９１９９ Ａ１ 特開２００２−６１３８号公報 特表２００１−５１２８５０号公報 特表２００２−５１２８５０号公報 ＳＩＤ ９７ ＤＩＧＥＳＴ ８４５頁〜８４８頁 ＳＩＤ ２００３ ＤＩＧＥＳＴ １２０８頁〜１２１１

本発明は、偏光紫外線照射工程を含む光学フィルムの製造方法において、良好な光学特性及び膜強度を示す光学フィルムを高い生産性で製造可能な方法、及び該方法に有用な偏光紫外線露光装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置、の視野角特性の改善に寄与する光学フィルムを、連続的に、欠陥なくもしくは少なく、さらに安定的に製造可能な方法を提供することを課題とする。
また、本発明は、かかる光学フィルムを有し、液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置、の一部材として使用可能な偏光板、及び液晶セル内に光学異方性層を簡易に形成可能とする転写材料を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ薄層化が可能な、視野角特性が良好な液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置を提供することを課題とする。

［１］ 下記工程（１）〜（３）：
（１） 配向膜の表面に、重合性液晶化合物及び二色性重合開始剤を含有する重合性組成物からなる層を形成し、
（２） 前記層中の重合性液晶化合物の分子を第１の配向状態とし、
（３） 前記層に偏光紫外線を照射して、前記重合性液晶化合物の重合を進行させるとともに、前記重合性液晶化合物の分子を第２の配向状態に固定して光学異方性層を形成する、
を（１）〜（３）の順に含む光学フィルムの製造方法であって、
前記偏光紫外線の単位面積当たりの照射量（Ｊ／ｃｍ²）のうち、消光比が１以上８以下の偏光紫外線が占める割合が１５％以下であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
［２］ 工程（３）における前記層の膜面温度が（Ｔ_iso−５０）〜Ｔ_iso℃（但し、Ｔ_iso（℃）は前記重合性液晶化合物の等方相転移温度）である［１］の方法。
［３］ 工程（３）において、照射量２００ｍJ／ｃｍ²〜２Ｊ／ｃｍ²で偏光紫外線を照射する［１］又は［２］の方法。
［４］ 工程（３）の後に、非偏光の紫外線を照射することを含む［１］〜［３］のいずれかの方法。
［５］ ［１］〜［４］のいずれかの光学フィルムの製造方法に用いられる偏光紫外線露光装置であって、紫外線光源と、該光源からの非偏光紫外線を偏光紫外線にする機構と、消光比が１以上８以下の偏光紫外線が被照射体に照射されるのを妨げる機構を有する偏光紫外線露光装置。
［６］ ［１］〜［４］のいずれかの方法で作製された光学フィルム。
［７］ 偏光膜と、［６］の光学フィルムとを有する偏光板。
［８］ ［１］〜［４］のいずれかの方法で作製された光学フィルムと、該光学フィルムの光学異方性層上に、感光性樹脂層とを有する転写材料。
［９］ ［７］の偏光板、［６］の光学フィルム及び［８］の転写材料から転写された光学異方性層のうち少なくとも一つを有する液晶表示装置。
［１０］ ［８］の転写材料から転写された光学異方性層を、液晶セル内に有する液晶表示装置。
［１１］ 表示モードがＶＡモードである［９］又は［１０］の液晶表示装置。

本発明によれば、偏光紫外線照射工程を含む光学フィルムの製造方法において、良好な光学特性及び膜強度を示す光学フィルムを高い生産性で製造可能な方法を提供することができる。
また、本発明によれば、液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置、の視野角特性の改善に寄与する光学フィルムを、連続的に、欠陥なくもしくは少なく、さらに安定的に製造可能な方法を提供することができる。
また、本発明によれば、かかる光学フィルムを有し、液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置、の一部材として使用可能な偏光板、及び液晶セル内に光学異方性層を簡易に形成可能とする転写材料を提供することができる。
また、本発明によれば、液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ薄層化が可能な、視野角特性が良好な液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置を提供することができる。

発明の実施の形態

以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

なお本発明において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、波長λにおける正面レターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して角度を変えて、傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定した複数のレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨが算出する。

本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。

［光学フィルムの製造方法］
本発明は、下記工程（１）〜（３）：
（１） 配向膜の表面に、重合性液晶化合物及び二色性重合開始剤を含有する重合性組成物からなる層を形成し、
（２） 前記層中の重合性液晶化合物の分子を第１の配向状態にし、
（３） 前記層に偏光紫外線を照射して、前記重合性液晶化合物の重合を進行させるとともに、前記重合性液晶化合物の分子を第２の配向状態に固定して光学異方性層を形成する、
をこの順に含む光学フィルムの製造方法であって、前記偏光紫外線の単位面積当たりの照射量（Ｊ／ｃｍ²）のうち、消光比が１以上８以下の偏光紫外線が占める割合が１５％以下であることを特徴とする光学フィルムの製造方法に関する。以下、本発明の方法について実施の形態を挙げて説明する。

［工程（１）］
前記工程（１）では、配向膜の表面に、重合性液晶化合物及び二色性重合開始剤を含有する重合性組成物からなる層を形成する。該層は、例えば、重合性液晶化合物、二色性重合開始剤及び所望により添加剤を含有する重合性組成物を塗布液として調製し、該塗布液を配向膜表面に塗布・乾燥することで形成することができる。
前記重合性液晶化合物については特に制限されない。一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、偏光紫外線の照射により、面内レターデーションを効率的に発生することができるという観点から、棒状液晶化合物を用いることが好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、又は棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。本発明では、反応性基を有する重合性液晶化合物を用いるが、反応性基を一分子中に２以上有する重合性液晶化合物を少なくとも一種用いるのが好ましい。反応性基を有さない液晶化合物を併用してもよい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。

前記円盤状液晶化合物は、特に限定されず、公知のものを用いることができる。棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。重合性液晶化合物は、低分子液晶化合物であっても、高分子液晶化合物であってもよい。前記重合性液晶化合物の好ましい例として、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶化合物を挙げることができる。

一般式（Ｉ）：Ｑ¹−Ｌ¹−Ａ¹−Ｌ³−Ｍ−Ｌ⁴−Ａ²−Ｌ²−Ｑ²
式中、Ｑ¹及びＱ²はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表すが、Ｌ³及びＬ⁴の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましい。Ａ¹及びＡ²はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。

式中、Ｑ¹及びＱ²がそれぞれ表す反応性基は、重合反応性であり、付加重合（開環重合を含む）反応性又は縮合重合反応性であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。

Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ²−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ²−、−ＮＲ²−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ²−、−ＮＲ²−ＣＯ−Ｏ−、及びＮＲ²−ＣＯ−ＮＲ²−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ²は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。この場合、Ｌ³及びＬ⁴の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）である。前記式（Ｉ）中、Ｑ¹−Ｌ¹及びＱ²−Ｌ²−は、ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＯ−Ｏ−及びＣＨ₂＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。

Ａ¹及びＡ²は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。

Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（ＩＩ）で表される基が好ましい。
一般式（ＩＩ） ： −（−Ｗ¹−Ｌ⁵）_n−Ｗ²−
式中、Ｗ¹及びＷ²は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基又は二価のヘテロ環基を表し、Ｌ５は単結合又は連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ¹〜Ｌ⁴で表される基の具体例、−ＣＨ₂−Ｏ−、及びＯ−ＣＨ₂−が挙げられる。ｎは１、２又は３を表す。

Ｗ¹及びＷ²としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ¹及びＷ²は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。

前記一般式（ＩＩ）で表されるメソゲン基の基本骨格の好ましい例を、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。

以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、前記重合性液晶化合物の例はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。

前記工程（１）に用いられる二色性重合開始剤とは、光重合開始剤のうち、ある光の偏光方向に対して吸収選択性を有し、その偏光により励起されてフリーラジカルを発生させるものをいう。その詳細及び具体例については、ＷＯ０３／０５４１１ Ａ１に記載がある。また、前記二色性光重合開始剤とともに、従来の重合性開始剤、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）を用いてもよい。

前記工程（１）に用いられる重合性組成物には、上記重合性液晶化合物及び二色性重合開始剤の他に、添加剤を含有させてもよい。添加剤の一例として、上記（２）の工程において、重合性液晶化合物の分子を第１の配向状態にするのを促進する剤が挙げられる。例えば、上記（２）の工程で、前記重合性液晶化合物の分子を水平配向させる態様では、添加剤として、下記の水平配向剤を添加するのが好ましい。

前記重合性組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物（水平配向剤）の少なくとも一種を含有させ、かかる化合物の存在下で、液晶性化合物の分子を配向させることで、該分子を実質的に水平配向させることができる。尚、本発明で「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度であることが好ましく、０〜３度であることがより好ましく、０〜２度であることがさらに好ましく、０〜１度であることが最も好ましい。

式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ¹〜Ｒ³で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基又はフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲ^a−（Ｒ^aは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲ^a−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ₂−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。

式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³で表される置換基の好ましい範囲として挙げてものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。

式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²及びＲ³で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。
これらの水平配向剤の具体例については、特願２００５−９９２４８号明細書に記載の具体例と同様であり、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。

前記重合性組成物は、塗布液として調製し、該塗布液を配向膜の表面に塗布・乾燥することで、該組成物からなる層を形成してもよい。前記塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、例えば連続搬送工程を用いて公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。上記工程（１）では、二以上の層を同時に形成してもよく、かかる場合に利用可能な同時塗布の方法については、米国特許第２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
塗布量については特に制限されず、最終的に形成される光学異方性層の好ましい厚みに応じて決定することができる。最終的に形成される前記光学異方性層の厚さは、一般的には、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。

前記重合性組成物中における二色性光重合開始剤の含有量は、組成物の全質量（塗布液として調製された場合はその固形分の全質量）に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。また、前記一般式（１）〜（３）で表される化合物を添加する場合は、その添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０１〜１０質量％であることがより好ましく、０．０２〜１質量％であることが特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（３）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。

前記工程（１）で利用される配向膜については特に制限されない。その好ましい例としては、ポリマー層の表面をラビング処理して作製された配向膜、無機化合物の斜方蒸着によって形成された配向膜、及びマイクログルーブを有する配向膜、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、又は電場もしくは磁場の付与により誘電体を配向させた配向膜を挙げることができる。

前記配向膜の形成には、ポリマーを使用することが好ましい。該ポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマーが含まれる。また、シランカップリング剤等の化合物を利用して形成してもよい。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコール及びアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙げることができる。

利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、上記（２）の工程で、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向膜の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いることができる。具体的なポリマーの種類については液晶セル又は光学補償フィルムについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。形成される光学異方性層との密着性を改善する目的で、重合性基を有するポリマーを使用するのも好ましい。重合性基は、側鎖に重合性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として、ポリマー中に導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向膜を用いることがより好ましく、かかる配向膜としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向膜の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。

また、液晶表示装置の液晶セルの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も前記配向膜として利用してもよい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。更に、上記ポリマーに反応性基を導入することにより、あるいは上記ポリマーをイソシアネート化合物及びエポキシ化合物などの架橋剤と共に使用して、これらのポリマーを硬化させることにより得られる硬化膜を、前記配向膜として利用してもよい。

前記配向膜は、前記いずれかのポリマーを含む組成物を塗布液として調製し、該塗布液を表面に塗布して、ポリマー層を形成し、該ポリマー層の表面をラビング処理して形成するのが好ましい。配向膜形成用塗布液は、側鎖に反応性基を有する高分子、又は反応性基を有するモノマー又はオリゴマー、具体的には、側鎖に反応性基を有する変性ポリビニルアルコールを含むことが好ましい。また、反応性基は光学異方性層の形成に用いる重合性液晶化合物の有する反応性基と直接反応できることが好ましい。配向膜中のポリマーと光学異方性層中の重合性液晶化合物が直接架橋反応することにより、完成したフィルムの強度（光学異方性層と配向膜との密着性）が改善される。

前記配向膜形成用塗布液は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書）によって塗布することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許第２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。

前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。本発明では、上記した通り、ロール状の支持体を送り出し搬送しながら、配向膜形成用溶液を表面に塗布及び乾燥してポリマー層を形成した後、連続搬送しつつ、ポリマー層をラビング処理して、配向膜を形成するのが好ましい。

なお、配向膜は、上記ポリマー材料からなるものに限定されず、上記した通り、無機斜方蒸着膜等であってもよい。無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ₂を代表とし、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ₂等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ₂等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成して、配向膜として利用することができる。

前記（１）の工程で利用される配向膜は、プラスチックフィルム等からなる支持体上に形成された配向膜であってもよい。ロール状に巻き取られた長尺状のプラスチックフィルムを、順次送り出しながら、その表面に、配向膜を連続的に形成してもよい。支持体については、特に制限されず、種々のポリマーフィルムを利用することができる。液晶表示装置の光学補償フィルム等を製造する場合は、可視光に対して光透過性であることや、光学補償に影響しない又は光学補償に寄与する光学特性が要求される。セルロースアシレートフィルムを用いるのが好ましい。支持体として利用可能なセルロースアシレートについては、後述する。また、後述する転写材料を製造する場合は、被転写材料に転写された後は、支持体は剥離されてしまうので、特にその材料については制限はない。

［工程（２）］
次に、前記工程（２）では、形成された重合性組成物からなる層（以下、「重合性組成物層」という）中の重合性液晶化合物の分子を第１の配向状態にする。前記重合性組成物の塗布液を、配向膜表面に塗布・乾燥する過程で所望の配向状態になる場合は加熱等のエネルギーの供与は必要ないが、一般的には、該液晶化合物の転移温度に応じて加熱又は冷却することにより、所望の第１の配向状態にする。前記工程（２）で、重合性棒状液晶化合物の分子を、ホモジニアス配向させる場合は、一般的には、室温以上に加熱して配向させる。好ましい温度範囲は、該液晶化合物の転移温度に応じて決定することができる。また、安定的な配向状態とするために、その配向状態を熟成させるのが好ましく、そのためには、所定の温度に維持された雰囲気中に、ある程度の時間、例えば、
３０秒〜５分程度放置するのが好ましい。但し、熟成時間は、連続製造においては搬送時間、及び熟成温度に応じて、好ましい範囲が異なるので、この限りではない。

［工程（３）］
次に、前記工程（３）で、前記重合性組成物からなる層に偏光紫外線を照射して、前記重合性液晶化合物の重合を進行させるとともに、重合性液晶化合物の分子を第２の配向状態に固定して光学異方性層を形成する。前記偏光紫外線を照射する際の単位面積当たりの照射量（Ｊ／ｃｍ²）のうち、消光比が１以上８以下の偏光紫外線が占める割合が１５％以下の条件で、偏光照射を実施する。前記工程（３）では、偏光紫外線の照射によって二色性重合開始剤からラジカルが発生し、重合性液晶化合物の重合が進行する。二色性重合開始剤を用いているので、ラジカルは一様に発生するのではなく、紫外線の偏光方向に対して所定の方向（一般的には平行な方向）に優先的に発生し、ラジカルが優先的に発生した箇所において、重合が局所的に進行する。その結果、液晶分子の配向状態は、第１の配向状態から少なからず変化した第２の配向状態となって固定され、光学異方性層が形成される。光学異方性層には、用途（例えば、ＶＡモードの液晶セルの光学補償）に要求される光学特性を満足すること、及びその後の使用に耐えられる程度の強度を有することが必要である一方で、高い生産性で製造するためには、連続生産における搬送速度を速くできるほど、即ち、偏光照射が短時間であるほど好ましい。本発明では、前記偏光紫外線を照射する際の単位面積当たりの照射量（Ｊ／ｃｍ²）のうち、消光比が１以上８以下の偏光紫外線が占める割合が１５％以下の条件で、偏光照射を実施しているので、良好な生産性で、所望の光学特性及び強度を示す光学異方性層が形成できる。

ここで、消光比とは、測定の対象となる平面偏光ビームの光路に、その偏光軸が該ビームの面に平行である偏光子を置き、該偏光子を透過した平面偏光ビームのパワーと、その偏光軸がビーム面に垂直である偏光子を置き、該偏光子を透過した平面偏光ビームとのパワーの比（光学技術用語辞典第３版、小柳修爾著、オプトロニクス社）をいう。一般的にはＰ偏光とＳ偏光のビームの局所的エネルギー密度あるいはビーム全体のエネルギー密度を積分することで得られる平均値を意味するが、本発明においてはＰ偏光とＳ偏光のエネルギー密度の比を意味し、さらにはその比が１以上となるものを意味する。

消光比は、紫外線ビーム面内における任意の位置において紫外線を偏光せしめる偏光子と被照射面との間、好ましくは被照射面から近い直上であって、偏光子の直下に偏光子の偏光軸と平行あるいは垂直な透過軸を持つ検光子を配置し、それぞれにおける被照射面の照度（Ｗ／ｃｍ²）の比により求めることができる。

図１に、本発明の方法に利用可能な偏光紫外線照射装置の一例の概略図を示す。図１（ａ）は概略斜視図である、及び図１（ｂ）は概略断面図である。図１に示す偏光紫外線照射装置は、棒状のランプ２、ランプ２からの光を被照射面７の方向に反射する反射鏡１、ランプ２からの光の向きを調節する光学部品３、照射波長を調整する波長選択フィルタ４、ランプ２からの光の偏光成分を分離して偏光とする偏光子６、そして、不要な光を遮光するアパーチャ５を備える。

図１に示す偏光紫外線照射装置は、上記アパーチャ５によって、消光比の低い光を遮光し、単位面積当たりの照射量における消光比が１以上８以下の光の割合を軽減可能に構成されている。図１の偏光紫外線照射装置のアパーチャ５のスリット幅８を９０ｍｍ、６０ｍｍ、４０ｍｍ、２０ｍｍ及び１０ｍｍにそれぞれ調整した際の、搬送方向に対する被照射面７の照度分布を図２に、及び搬送方向に対する消光比の分布を図３に、それぞれ示す。搬送方向に対する光の光学特性は、連続生産する際には、実際に被照射面が経験する光であることから重要である。なお照度計は（ＵＶＰＦ−Ａ１、アイグラフィックス社製）、偏光子及び検光子にはワイヤグリッド偏光フィルタ（ＰｒｏＦｌｕｘ ＰＰＬ０２（高透過率タイプ）、Ｍｏｘｔｅｋ社製）、光源として３５０〜４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ−Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置を使用した。

図２に示す結果から、アパーチャ５のスリット幅８を大きくするほど、照度（ｍＷ／ｃｍ²）が高くなり、重合性組成物層の硬化を短時間で行える傾向にあることが理解できる。一方で、図３に示す通り、スリット幅を広げると、消光比の低い成分も照射され、二色性重合開始剤から発生するラジカルの偏在化が不十分になる傾向があることが理解できる。アパーチャ５のスリット幅８を調整することにより、消光比が１以上５以下の偏光成分の割合が、単位面積当たりの照射量の１５％を超えた割合であたるのを防止することができる。なお、消光比の低い光の割合は、図３に示す通り、ランプ２から被照射面に垂直におろした位置から左右にはずれるほど高くなるので、スリット幅８は、ランプ２の中心から被照射面に垂直におろした線を中心として、左右に等しい幅にするのが好ましい。

偏光紫外線照射装置が有するランプ２としては、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ等の棒状のランプが用いられる。好ましくは、少なくとも２００ｎｍ〜４００ｎｍの発光光線を照射可能な光源である。偏光紫外線の波長としては、３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。また、照射安定性が高く、照射量が多く、ランプの寿命が長いものが好ましい。

偏光紫外線照射装置が有する反射鏡１は、必要な紫外線波長に対して高い反射率を有しているものが好ましい。また、熱による照射物の変形・変性を避ける為、可視及び赤外の波長領域において低い反射率を有するものが好ましい。

偏光紫外線照射装置が有する偏光素子６としては、必要な紫外線波長に対して偏光分離特性を有していれば特に限定はなく、種々のものを用いることができる。吸収型偏光子としては、ヨウ素や二色性色素をドープしたポリビニルアルコールを延伸してできた偏光子や二色性針状結晶を配列させた偏光子が挙げられ、非吸収型偏光子としてはブリュースター角を用いた偏光子、誘電体多層膜による偏光子、ワイヤグリッド偏光子、散乱型偏光子などが挙げられる。非吸収型偏光子が好ましく、中でも広い波長域において高い偏光分離能を有し、加工成形性の高いワイヤグリッド偏光子が特に好ましい。

ワイヤグリッド偏光子は、従来、電波を用いたレーダ、赤外線を用いた天体観測装置等の分野で使用されており、最近では液晶プロジェクタシステムのような可視光を使用する分野でも使用され始めている。ワイヤグリッド偏光子は、基板によって支持された複数の平行導電性電極で構成される。導体のピッチ又は周期、個々の導体の幅、及び導体の厚さによって特徴つけられる。ワイヤグリッド偏光子の電気導体には、例えば銀・クロム・アルミニウム等の金属線を使用できる。

ワイヤグリッド偏光子の直線状の電気導体は、リソグラフィ技術やエッチング技術を利用して作製される。電気導体の断面形状は、ピッチ・電気導体の幅、電気導体の高さ・電気導体の長さによって定義され、直線状電気導体を作製する際に使用するリソグラフィ技術やエッチング技術で製作可能な形状の範囲である。ワイヤグリッド偏光子の構造については、電気導体の大きさ及び構成は、照射する光の波長に応じて、好ましい範囲が決定される。電気導体の長さは、作製可能な範囲で偏光波長よりも長ければよく、１００ｎｍよりも長い電気導体が一般的に用いられる。電気導体のピッチは、照射する紫外線の波長以下、望ましくは波長の１／３以下がよく、１．５〜０．０６μｍであるのが好ましい。電気導体の幅は、照射する紫外線の波長以下、望ましくは波長の１／３以下がよく、さらに、ピッチの１０％〜９０％の幅であるのが好ましい。電気導体の高さは、０．００５〜０．５μｍであることが好ましい。ワイヤグリッド偏光子は、偏光分離可能な波長範囲は、その電気導体のピッチに依存する。具体的には、偏光紫外線とする紫外線の波長に対して、±５０〜±１００ｎｍ程度の範囲であれば、消光比を低下させることなく偏光させることができるが、その範囲を超えた波長の光は消光比が低下する。

偏光紫外線照射装置が有する波長選択フィルタ４については特に制限はない。その例には、エッジフィルタ及びバンドパスフィルタが含まれる。波長選択フィルタ４の位置についても特に制限はないが、偏光子６を、波長選択フィルタ４よりも、光照射方向のより前方（即ち、被照射サンプルにより近い位置）に配置するのが好ましい。エッジフィルタやバンドパスフィルタの特性は、一般的に、透過率の波長依存性で定義されており、透過率が０．００５のときの波長（λａ）と、透過率が０．５のときの波長（λｃ）と、透過率が０．９５以上となる波長（λｐ）とにより示される。例えば、３５０ｎｍ〜４００ｎｍの近紫外線光によるラジカル発生を励起したい場合、λａは３４０ｎｍ程度、λｐは３７０ｎｍ程度に設定することが望ましい。λａとλｐとが狭い波長範囲で収まることにより光フィルタの波長選択性は向上し、このようなエッジフィルタやバンドパスフィルタの特性によって、重合性組成物の層の硬化度を調節できる、あるいは不要な光が照射されるのを防いで、素材の変質を防ぐ等の効果が得られる場合がある。

エッジフィルタやバンドパスフィルタは、屈折率が互いに異なる層を積層し、層間で反射した光が波長の１／２位相変化することで入射光を打ち消す光干渉を利用したものである。エッジフィルタやバンドパスフィルタの代表的な例としては、基板に無機材料からの薄膜が複数形成されたものがある。その無機材料としては、ＡｌＦ₃、ＢａＦ₂、ＣａＦ₂、Ｎａ₃ＡｌＦ₆、ＤｙＦ₃、ＧｄＦ₃、ＬａＦ₃、ＭｇＦ₂、ＮｄＦ₂、ＴｄＦ₃、ＹｂＦ₃、ＹＦ₃などのフッ化物；ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＨｆＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＴｉＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＷＯ₃などの酸化物；ＳｉＯＮ、Ｓｉ₃Ｎ₄などの窒化物；ＳｉＣ、Ｂ₄Ｃなどの炭化物；ならびにＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃／Ｐｒ₆Ｏ₁₁、Ａｌ₂Ｏ₃／Ｌａ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂／Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂／ＭｇＯ、ＺｒＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂／Ｐｒ₆Ｏ₁₁、ＴｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂／Ｌａ₂Ｏ₃などの酸化物の混合物；が用いられる。これら無機材料は、真空蒸着、電子ビーム蒸着、イオンビーム蒸着、プラズマ蒸着、もしくはスパッタリングにより、基板上に薄膜形成される。基板としては、紫外線の透過率に優れ、紫外線光源からの熱に安定なオゾンレス石英ガラス、合成石英ガラス、天然石英ガラスが好ましい。

偏光紫外線照射装置が有する光の向きを調節する光学部品３としては、光の向きを変更可能な部品であればいずれも用いることができる。例えば、光学レンズ（シリンドリカルレンズやコリメータレンズ）等を用いてもよく、その材質としては、紫外線の透過率に優れ、紫外線光源からの熱に安定な、オゾンレス石英ガラス、合成石英ガラス、及び天然石英ガラスが好ましい。また、光学部品の位置は、偏光子に対してランプ側でも照射面側でもよく、その両方でもよい。

偏光紫外線照射装置が有するアパーチャ５は、紫外線に対して低反射加工を施した金属プレートを、所定のスリット幅８で配置したもの、及び紫外線を吸収可能な所定のスリット幅を有する光学フィルタを用いるのが好ましい。またその位置は偏光子６に対してランプ２側でも、被照射面７側でもよく、その両方に配置してもよい。

本発明の方法に利用可能な偏光紫外線照射装置は、図１に示す構成に限定されず、その他の部材を含んでいてもよい。例えば、照射幅に合わせてランプ長手方向に複数の前記偏光紫外線照射装置を配列してもよいし、また前記偏光紫外線照射装置の各構成要素を冷媒により冷却する機構を有していてもよい。紫外線が照射される全ての部材、例えば、アパーチャ５、波長選択フィルム４、偏光子６、及び調光機器（ランプ２からの光を被照射面７の方向に反射する反射鏡１、ランプ２からの光の向きを調節する光学部品３）のいずれも、冷却機構を備えているのが好ましい。中でも、偏光子６及び波長選択フィルム４等の光学フィルタは、紫外線照射による発熱によって、性能が変動する可能性があり、また短寿命化する可能性も高いので、冷却機構を備えているのが特に好ましい。偏光子６や波長選択フィルタ４を支持する基板等を備えている場合は、冷却機構は、該基板の側面に形成された、冷媒が注入される注入口、冷媒が排出される排出口、及び基板内部に形成された冷媒が循環可能な空洞や流路などにより構成される。かかる冷却機構を備えていると、紫外線照射によって偏光子や波長選択フィルタ等の光学フィルタが過度に加熱され、劣化するのを軽減することができる。その結果、より安定的に製膜工程を実施することができ、生産性がさらに改善される。基板部の内部における冷媒の流路の形状については特に限定されず、注入口から排出口へと貫く直線的な形状であっても、複数の偏光子を配置した場合は、複数のこれらの光学フィルタがより効率的に冷却される様に、屈曲部や分岐部を有していてもよい。また基板部の内部全体が空洞になっていてもよい。

用いる冷媒は特に材料に制限はない。また、偏光子が冷却ユニットの下部に配置されている場合は、用いる液状冷媒の屈折率は、１．３０〜１．６０であると好ましい。同様に、冷媒が光源からの紫外線を吸収して照射効率が低下してしまうのを避けるため、冷媒は、少なくとも照射紫外線の波長に吸収がない材料から選択されるのが好ましく、波長２４０〜７８０ｎｍ、好ましくは３００〜７００ｎｍ、さらに好ましくは３３０〜６００ｎｍに実質的に吸収がない材料から選択されるのがより好ましい。屈折率が前記範囲で且つ前記波長領域に吸収がない冷媒の例には、空気、純水、アルコール類（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）、シリコンオイルが含まれる。純水とアルコール類の混合液も好ましい。
冷媒の温度は１０〜７０℃であることが好ましく、１５〜６０℃であることがさらに好ましく、２０〜５０℃であることがさらに好ましい。

また、前記偏光紫外線照射装置は、例えば、偏光紫外線が照射される重合性組成物層を有する長尺状の支持体（例えば高分子フィルム）を搬送するための搬送手段や、偏光子を介さずに試料に紫外線を照射可能にするため、偏光子を移動可能に支持する支持部材等を有していてもよいし、また偏光子を介さずに紫外線等を被照射体に照射可能な他の光源が、試料の搬送方向に対してより上流又はより下流に配置されていてもよい。

前記工程（３）において、偏光紫外線照射の照射量は、１００ｍＪ／ｃｍ²〜５Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１５０ｍＪ／ｃｍ²〜３Ｊ／ｃｍ²であることがさらに好ましく、２００ｍJ／ｃｍ²〜２Ｊ／ｃｍ²であるのがよりさらに好ましい。照射量は、偏光紫外線照射に用いる光源の照度と、照射時間とによって決定される。照度は２０ｍＷ／ｃｍ²〜２０００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましく、１００ｍＷ／ｃｍ²〜１５００ｍＷ／ｃｍ²であることがより好ましく、２００ｍＷ／ｃｍ²〜１０００ｍＷ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。上記した通り、消光比が低い成分の除去をアパーチャにより行う場合は、スリット幅を狭くするほど好ましいが、一方で、照度が低下する。スリット幅を狭くすることで照度が低下しつつも、照射量を上記適切な範囲とするためには、照射時間を調整するのが好ましい。前記支持体を搬送しながら連続的に実施する場合は、搬送速度を制御することで、照射時間を好ましい範囲に設定することができる。例えば、スリット幅が、２０〜９０ｍｍの範囲では、搬送速度は、１ｍ／分〜１０ｍ／分の範囲であるのが好ましく、１ｍ／分〜５ｍ／分の範囲であるのがより好ましい。但し、光源の灯数を増加する又は光源の位置を調整すること等により、より速い搬送速度に設定し、且つスリット幅を狭くしても、上記適切な照射量が得られる場合もあるので、搬送速度は前記範囲に限定されるものではない。
また、アパーチャを用いて消光比が低い光を除去する場合は、良好な生産性を維持する（即ち、搬送速度を適切な範囲に維持する）ためには、消光比１以上８以下の偏光紫外線が照射量に対して占める割合は、５％を超えて１５％以下であるのが好ましく、７％〜１５％であるのがより好ましい。

前記工程（３）では、加熱しつつ偏光紫外線照射を実施してもよい。重合性組成物層の膜面温度を重合性液晶化合物の等方相転移温度Ｔ_iso程度の温度に維持して、偏光紫外線照射を実施するのが好ましい。具体的には、偏光紫外線照射時に、重合性組成物層の膜面温度を、Ｔ_iso−５０〜Ｔ_iso℃に維持するのが好ましく、Ｔ_iso−３０〜Ｔ_iso℃に維持するのがより好ましい。膜面温度が前記範囲であると、前記範囲未満の温度で偏光紫外線照射を実施するよりも、より配向の乱れを軽減でき、形成される光学異方性層の面状が良好になる。なお、膜面温度は、赤外放射温度計（例えば、ＩＴ２−０１、ＫＥＹＥＮＣＥ社製）により測定することができる。

また膜面温度を前記範囲にするために、偏光紫外線照射開始の１０秒前から、偏光紫外線照射開始後３００秒以下の間、加熱するのが好ましく、更に偏光紫外線照射開始の１０秒前から、偏光紫外線照射開始後１０秒以下の間、加熱するのがより好ましい。膜面の温度を上記の温度範囲に保つ時間が短すぎると、皮膜を形成する重合性組成物の反応を促進できず、また設備が大きくなるなどの製造上の問題も生じる。

加熱する方法に特に限定はないが、上記温度範囲の酸素遮蔽ガスを、偏光紫外線照射工程、並びに所望により実施される搬送工程及び後加熱工程において、ゾーン中に噴射するのが好ましい。また、噴射とともに、又は噴射に代えて、ロールを加熱して支持体であるポリマーフィルムに接触させる方法、加熱した窒素を吹き付ける方法、遠赤外線あるいは赤外線の照射などを適用してもよい。特許２５２３５７４号公報に記載の回転金属ロールに、温水や蒸気を流して加熱する方法も利用できる。
本発明のように光学異方性層の中に液晶化合物を含む場合、かつ、膜内での液晶の分布又は配向膜の乱れが直接光学特性に影響する場合は、支持体を含むフィルム全体の膜厚方向の温度分布を一定に保つ必要がある。加熱した窒素を吹き付ける方法や、遠赤外線あるいは赤外線の照射が好適に使用できる。前記加熱したロールに接触させてフィルムの温度制御を行う場合は、フィルム厚み方向の温度分布を均一に保つ必要が生じるが、その際には、加熱した窒素を吹き付ける方法と組み合わせて実施することが有効である。

また、形成される光学異方性層の強度の点で、前記工程（３）において、偏光紫外線照射は、酸素濃度３体積％以下の雰囲気下で実施されるのが好ましく、酸素濃度１％体積以下で実施されるのがより好ましく、酸素濃度０．５体積％以下で実施されるのがさらに好ましい。酸素濃度が上記範囲である不活性ガス雰囲気下で偏光紫外線の照射を行うと、形成される光学異方性層の強度の点で好ましい。また偏光紫外線照射前、及び所望により実施される硬化後の加熱時の酸素濃度は１０体積％以下が好ましく、５体積％以下がより好ましく、３体積％以下が更に好ましく、１体積％がよりさらに好ましい。酸素濃度を低下させる手段としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の不活性気体で置換する手段が取られる。不活性気体の例には、化学的に不活性なガス（ヘリウム、アルゴン、窒素）や、酸素欠乏等防止規則の別表第六に記載されている、フロン、炭酸ガス等が含まれる。化学的に安定で且つ安価という点で、特に窒素は安価で好適に使用できる。

酸素濃度を前記範囲に維持するとともに、所定の温度とするために、前記硬化工程及び／又は搬送工程において、所定の温度（好ましくは４０℃以上）の酸素遮蔽ガスをゾーン中に噴射するのが好ましい。前記硬化工程及び／又は搬送工程を行うゾーンの酸素濃度を下げるために使用した不活性気体を、それ以前の低酸素濃度ゾーン及び／又はそれ以降の搬送工程のゾーンに排気してもよい。かかる構成にすると、不活性気体を有効に利用し、製造コスト低減の観点から好ましい。

前記工程（３）を経て形成される光学異方性層の一例は、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償フィルムの法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償フィルムの法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しい光学特性を有する、いわゆる二軸性の光学異方性層である。かかる光学異方性層は、重合性の棒状液晶化合物を用いて、前記工程（２）で、棒状液晶分子を配向させて、コレステリック配向、又は傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向を形成し（第１の配向状態）、前記工程（３）で、偏光紫外線照射によって二色性重合開始剤から発生するラジカルを局在化させて重合を進行させることで、かかるコレステリック又はハイブリッドコレステリック配向を歪ませること（第２の配向状態）で形成することができる。偏光紫外線照射によって配向を歪ませるのに寄与する二色性重合開始剤は、国際公開ＷＯ０３／０５４１１１号公報に記載がある。

本発明の方法により前記工程（３）で形成される二軸性光学異方性層のＲｅは５〜２５０ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましく、２０〜８０ｎｍであることがさらに好ましい。Ｒｔｈは透明支持体のＲｔｈとの合計で３０〜５００ｎｍであることが好ましく、４０〜４００ｎｍであることがより好ましく、１００〜３５０ｎｍであることが最も好ましい。
かかる光学特性の二軸性光学異方性層は、ＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に特に有用である。

［（４）後処理光照射工程］
前記光学異方性層と配光膜との密着性や、光学異方性層の強度をより高めるために、前記工程（３）の後に、偏光又は非偏光紫外線をさらに照射（以下、「（４）後処理光照射工程」という）してもよい。後処理光照射に利用する紫外線は、偏光及び非偏光のいずれであってもよいが、大きな照射量を得ることができる点では、非偏光であることが好ましい。後処理光照射は、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射時には、不活性ガス置換をしてもしなくてもよいが、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。後処理光照射における紫外線の照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜１０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、２０〜３００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照度は２０〜１２００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましく、５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ²であることがより好ましく、１００〜８００ｍＷ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。

前記工程（３）を経て、又はさらに所望により前記工程（４）を経て製造された光学フィルムは、光学補償フィルム等として、そのまま、液晶表示装置に組み込むことができる。また、長尺状のポリマーフィルムを連続的に送り出しながら、配向膜を形成し、その後、上記工程（１）〜（３）、及び所望により工程（４）を実施して、作製された長尺状の光学フィルムを一旦ロール状に巻き取ってもよい。その後、液晶表示装置の大きさ等に応じて、所定の大きさに裁断して、用途に供することができる。
さらに下記の（５）偏光膜を積層する工程を経て、光学異方性層付き偏光板を製造してもよいし、又は下記の（６）感光性樹脂層を形成する工程を経て、転写材料を製造してもよい。

［（５）偏光膜の積層工程］
上記した通り、一旦ロール状に巻き取られた長尺状の光学フィルムと、同様にロール状に巻き取られた長尺状の偏光膜及び保護膜用ポリマーフィルムとの合計３枚のフィルムを、ロール・トゥ・ロールで貼り合わせて、偏光板を作製してもよい。ロール・トゥ・ロールで積層を行うと、生産性の観点だけでなく、偏光板の寸法変化やカールの発生が起こりにくく、高い機械的安定性が付与できるので好ましい。なお、偏光膜と貼り合せる光学フィルムの裏面（光学異方性層が形成されていない側の面）及び保護膜用ポリマーフィルムの表面には、鹸化処理を施してもよい。貼り合せの際には、接着剤を用いるのが好ましく、一般的には、偏光膜と同様の材質であるポリビニルアルコール系接着剤を用いるのが好ましい。
なお、勿論、前記３枚のフィルムを所定の大きさに裁断した後、積層して偏光板を作製してもよい。

［（６）感光性樹脂層形成工程］
上記工程（３）を経て、又はさらに所望により上記工程（４）を経て形成された光学異方性層の上に、感光性樹脂層を形成して、転写材料を作製することができる。かかる転写材料は、前記光学異方性層を、被転写基板に転写するとともに、その後、所望のパターンにパターニングする場合に特に有用である。例えば、液晶セル基板に光学異方性層を転写し、Ｒ、Ｇ及びＢの副画素に応じて光学異方性層をドメイン化し、光学補償を最適化する場合などに特に有用である。

前記感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物を塗布液として調製し、該塗布液を前記光学異方性層の表面に塗布・乾燥することで形成することができる。感光性樹脂組成物は、ポジ型であってもネガ型であってもよい。感光性樹脂組成物の一例として、少なくとも（１）アルカリ可溶性樹脂と、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系と、を含む樹脂組成物が挙げられる。また、液晶セル内に、光学異方性層を転写する際に、同時に転写される感光性樹脂層を、カラーフィルタとして利用する態様では、上記（１）〜（３）の成分に加えて、（４）染料又は顔料のような着色剤を含む着色樹脂組成物を利用するのが好ましい。
以下、これら（１）〜（４）の成分について説明する。

（１）アルカリ可溶性樹脂
前記アルカリ可溶性樹脂（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、感光性樹脂組成物の全固形分に対する含有量は２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。

（２）モノマー又はオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるラジカル重合性モノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。

更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報及び特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、感光性樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。

前記感光性樹脂層に使用されるカチオン重合性モノマー又はオリゴマーとしては、環状エーテル、環状ホルマール、アセタール、ビニルアルキルエーテル、チイラン基を含む化合物、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、エポキシ化不飽和脂肪酸、エポキシ化ポリブタジエンなどのエポキシ化合物を挙げることができる。そのようなモノマー又はオリゴマーの例としては、垣内弘編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂（１９８５年刊）、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社（１９６９年刊）等に記載された化合物類の他、３官能グリシジルエーテル類（トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレートなど）、４官能以上のグリシジルエーテル類（ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど）、３官能以上の脂環式エポキシ類（エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど）、３官能以上のオキセタン類（ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）など）などが挙げられる。

（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系
前記感光性樹脂層に使用される光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。感光性樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。

前記カチオン重合開始剤としては、エトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェノールなどルイス酸のアリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム艶などの複塩、ベンジルシリルエーテル、ｏ−ニトロベンジルシリルエーテル、トリフェニル（ｔ−ブチル）ペルオキシシランなどのシラノール発生性シラン化合物とトリス（エチルアセト酢酸）アルミニウムなどのアルミニウム錯体との混合系などを挙げることができる。感光性樹脂組成物の全固形分に対するカチオン重合開始剤の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。

（４）着色剤
上記した通り、感光性樹脂組成物には、用途に応じて、着色剤（染料、顔料）を添加することができる。着色剤は公知の着色剤から広く選択することができる。中でも、顔料を用いる場合には、感光性樹脂組成物中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒径が０．１μｍ以下、特には０．０８μｍ以下であることが好ましい。
上記着色剤として利用可能な公知の染料及び顔料としては、特開２００４−３０２０１５号公報の段落番号［００３３］、米国特許第６，７９０，５６８号明細書カラム１４に記載の顔料等が挙げられる。

着色剤としては、（ｉ）Ｒ（レッド）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４が、（ｉｉ）Ｇ（グリーン）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６が、（ｉｉｉ）Ｂ（ブルー）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６が好適なものとして挙げられる。更に顔料は組み合わせて用いてもよい。

本発明において、併用するのが好ましい顔料の組み合わせは、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０との組み合わせが挙げられる。

このように併用する場合の顔料中のＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６の含有量は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６は５０質量％以上が好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。

上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダ）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。

前記着色剤（顔料）は、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。顔料数平均粒径が０．００１μｍ未満であると、粒子表面エネルギーが大きくなり凝集し易くなり、顔料分散が難しくなると共に、分散状態を安定に保つのも難しくなり好ましくない。また、顔料数平均粒径が０．１μｍを超えると、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下し、好ましくない。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値を言う。

前記感光性樹脂層を転写後にカラーフィルタとして利用する場合は、表示ムラ（膜厚変動による色ムラ）を効果的に防止するという観点から、該感光性樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。前記界面活性剤は、他の成分と混合可能であればいずれも使用可能である。本発明に用いる好ましい界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報［００９０］〜［００９１］、特開２００３−１７７５２２号公報［００９２］〜［００９３］、特開２００３−１７７５２３号公報［００９４］〜［００９５］、特開２００３−１７７５２１号公報［００９６］〜［００９７］、特開２００３−１７７５１９号公報［００９８］〜［００９９］、特開２００３−１７７５２０号公報［０１００］〜［０１０１］、特開平１１−１３３６００号公報の［０１０２］〜［０１０３］、特開平６−１６６８４号公報の発明として開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。より高い効果を得る為にはフッ素系界面活性剤、及び／又はシリコン系界面活性剤（フッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤、フッソ原子と珪素原子の両方を含有する界面活性剤）のいずれか、あるいは２種以上を含有することが好ましく、フッ素系界面活性剤が最も好ましい。フッ素系界面活性剤を用いる場合、該界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ素原子数は１〜３８が好ましく、５〜２５がより好ましく、７〜２０が最も好ましい。フッ素原子数が多すぎるとフッ素を含まない通常の溶媒に対する溶解性が落ちる点で好ましくない。フッ素原子数が少なすぎると、ムラの改善効果が得られない点で好ましくない。

特に好ましい界面活性剤として、下記一般式（ａ）及び、一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有するものが挙げられる。

式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ⁴は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは１〜１８の整数、ｍは２〜１４の整数を示す。ｐ、ｑは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも同時に０になる場合は含まない。

特に好ましい界面活性剤の一般式（ａ）で表されるモノマーをモノマー（ａ）、一般式（ｂ）で表されるモノマーをモノマー（ｂ）と記す。一般式（ａ）に示すＣ_mＦ_2m+1は、直鎖でも分岐鎖でもよい。ｍは２〜１４の整数を示し、好ましくは４〜１２の整数である。Ｃ_mＦ_2m+1の含有量は、モノマー（ａ）に対して２０〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは４０〜６０質量％である。Ｒ₁は水素原子又はメチル基を示す。またｎは１〜１８を示し、中でも２〜１０が好ましい。一般式（ｂ）に示すＲ₂及びＲ₃は、各々独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ₄は水素原子又は炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｐ及びｑは０〜１８の整数を示すが、ｐ及びｑの双方が同時に０は含まない。ｐ及びｑは好ましくは２〜８である。

また、特に好ましい界面活性剤１分子中に含まれるモノマー（ａ）としては、互いに同じ構造のものでも、上記定義範囲で異なる構造のものを用いてもよい。このことは、モノマー（ｂ）についても同様である。

特に好ましい界面活性剤の重量平均分子量Ｍｗは、１０００〜４００００が好ましく、更には５０００〜２００００がより好ましい。本発明用界面活性剤は前記一般式（ａ）及び一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有することを特徴とする。特に好ましい界面活性剤１００質量部は、モノマー（ａ）が２０〜６０質量部、モノマー（ｂ）が８０〜４０質量部、及びその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましく、更には、モノマー（ａ）が２５〜６０質量部、モノマー（ｂ）が６０〜４０質量部、及びその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましい。

モノマー（ａ）及び（ｂ）以外の共重合可能なモノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、ビニル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、アミノスチレン等のスチレン及びその誘導体、置換体、ブタジエン、イソプレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、部分エステル化マレイン酸、スチレンスルホン酸無水マレイン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル系単量体等が挙げられる。

特に好ましい界面活性剤は、モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）等の共重合体であるが、そのモノマー配列は特に制限はなくランダムでも規則的、例えば、ブロックでもグラフトでもよい。更に、特に好ましい界面活性剤は、分子構造及び／又はモノマー組成の異なるものを２以上混合して用いることができる。

前記界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、特に０．１〜７質量％が好ましい。前記界面活性剤は、特定構造の界面活性作用を有する基とエチレンオキサイド基、及びポリプロピレンオキサイド基とを所定量含有するものであり、かかる界面活性剤を特定範囲で含有することにより、感光性樹脂層を転写後にカラーフィルタとして利用した場合に、液晶表示装置の表示ムラが改善される。

また、下記市販の界面活性剤をそのまま用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えばエフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、（新秋田化成（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１８９、Ｒ０８（大日本インキ（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーＫＰ−３４１（信越化学工業（株）製）、トロイゾルＳ−３６６（トロイケミカル（株）製）もシリコン系界面活性剤として用いることができる。

本発明の方法により転写材料を作製する場合は、転写時に剥離される仮支持体上に、配向膜を形成し、その上に、光学異方性層及び感光性樹脂層を形成するのが好ましい。仮支持体の材料については特に制限されず、ポリエチレンテレフタレート等の種々のポリマーフィルムを利用することができる。仮支持体の剥離性を改善するため、又は転写を容易にするために、仮支持体であるポリマーフィルムと配向膜との間に、熱可塑性樹脂層や中間層等を形成してもよい。

次に、本発明の方法によって作製可能な光学補償フィルム、偏光板及び転写材料のいくつかの態様について説明する。
［光学補償フィルム］
図４は、本発明の方法によって作製された光学補償フィルムの一例の概略断面図である。図４に示す光学補償フィルムは、透明支持体１１上に光学異方性層１２を有する。透明支持体１１と硬化した光学異方性層１２との間には、前記工程（２）において、重合性液晶化合物の分子の配向を制御して、第１の配向状態にするのに利用される配向層１３が配置されている。光学異方性層１２の光学特性は、上記した通り、正面レターデーション（Ｒｅ）が０でなく、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償フィルムの法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償フィルムの法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しく調整されている、いわゆる二軸性の光学異方性であってもよい。かかる態様の光学補償フィルムは、特にＶＡモードの液晶セルの光学補償に有用である。

前記光学補償フィルムが有する支持体は透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であるポリマーフィルムを用いることが好ましい。支持体の厚みは１０〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがより好ましく、３５〜１１０μｍが最も好ましい。

前記支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、使用目的に応じて適宜定められる。当該樹脂のガラス転移温度は、好ましくは７０℃以上、より好ましくは７５℃〜２００℃、特に好ましくは８０℃〜１８０℃の範囲である。この範囲のガラス転移温度を有する樹脂を採用すると、耐熱性と成形加工性とが高度にバランスされ好適である。

支持体のＲｅは−２００〜１００ｎｍの範囲に、そして、Ｒｔｈは−１００〜１００ｎｍの範囲に調節することが好ましい。Ｒｅは−５０〜３０ｎｍがなお好ましく、−３０〜２０ｎｍが最も好ましい。本明細書において負のＲｅとは支持体面内遅相軸が、フィルム搬送方向と直交する方向（ＴＤ方向）にあることを指し、負のＲｔｈとは厚み方向の屈折率が面内平均屈折率よりも大きいことを指す。色味改善のためには、支持体の面内遅相軸がＴＤ方向にあることが好ましい。

支持体を構成するポリマーとしては、例えば、セルロース系ポリマー及びシクロオレフィン系ポリマー等を用いることができ、具体的には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステル及びポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーを用いることができる。低複屈折性の観点からはセルロースエステル及びノルボルネン系が好ましく、市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。

特に、支持体を偏光膜の保護フィルムとしても利用する場合にはセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。セルロースの低級脂肪酸エステルのなかでは、セルロースアセテートであることが最も好ましい。セルロースエステルのアシル基置換度は、２．５０〜３．００であることが好ましく、２．７５〜２．９５であることがさらに好ましく、２．８０〜２．９０であることが最も好ましい。

セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｍ／Ｍｎ（Ｍｍは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。Ｍｍ／Ｍｎの値は、１．０〜５．０であることが好ましく、１．３〜３．０であることがさらに好ましく、１．４〜２．０であることが最も好ましい。

セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位及び６位のヒドロキシル基が均等に置換されるのでなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明において、セルロースエステルの６位置換度は、２位及び３位と同程度又はそれ以上であることが好ましい。２位、３位及び６位の置換度の合計に対する６位置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましい。６位置換度の割合は、３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。セルロースの６位は、アセチル以外に炭素数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位の置換度は、ＮＭＲによって測定することができる。６位置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、及び段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３を参照して合成することができる。

セルロースエステルフィルムには、機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、ビフェニルジフェニルホスフェート及びトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰ及びＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。

セルロースエステルフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。さらに、ライトパイピング防止に、極少量の染料を添加してもよい。透過率の観点からは、波長４２０ｎｍの光の透過率が５０％以上となるように、種類及び量を調整することが好ましい。染料の添加量としては、０．０１ｐｐｍ〜１ｐｐｍであることが好ましい。

セルロースエステルフィルムには、ＲｅやＲｔｈを制御するため、レターデーション制御剤を添加することができる。レターデーション制御剤は、セルロースエステル１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することが最も好ましい。二種類以上のレターデーション制御剤を併用してもよい。レターデーション制御剤については国際公開ＷＯ０１／８８５７４号、国際公開ＷＯ００／２６１９号の各パンフレット、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号の各公報に記載がある。

セルロースエステルフィルムは、セルロースエステル及び他の成分を含む溶液をドープとして用いて、ソルベントキャスト法により製造することができる。ドープを、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成することができる。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０質量％となるように濃度を調整することが好ましい。固形分量は１８〜３５質量％であることがさらに好ましい。ドープを２層以上流延することもできる。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。

ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。そして、得られたフィルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃で逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させる方法（特公平５−１７８４４号公報記載）を採用できる。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。複数のセルロースエステル溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースエステルを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい（特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び同１１−１９８２８５号の各公報記載）。２つの流延口からセルロースエステル溶液を流延することによりフィルムを作製することもできる（特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、同６１−９４７２４５号、同６１−１０４８１３号、同６１−１５８４１３号及び特開平６−１３４９３３号の各公報に記載）。高粘度セルロースエステル溶液の流れを低粘度のセルロースエステル溶液で包み込み、高粘度及び低粘度のセルロースエステル溶液を同時に押出すセルロースエステルフィルムの流延方法（特開昭５６−１６２６１７号公報記載）を採用してもよい。

セルロースエステルフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％の範囲にあることが好ましい。テンター延伸が好ましい。遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度及び離脱タイミングの差をできる限り小さくすることが好ましい。延伸処理については国際公開ＷＯ０１／８８５７４号パンフレットの３７頁８行〜３８頁８行目に記載がある。

セルロースエステルフィルムには、表面処理を施すことができる。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理及び紫外線照射処理が挙げられる。フィルムの平面性を保持する観点から、表面処理においてセルロースエステルフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。

セルロースエステルフィルムの厚さは、製膜により作製する場合は、リップ流量とラインスピード、又は延伸もしくは圧縮により、調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により、偏光板の保護フィルムとしての好ましい透湿性の範囲にすることが可能である。また、前記セルロースエステルフィルムの自由体積は、製膜により作製する場合は、乾燥温度と時間により調整することができる。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により保護フィルムとして好ましい透湿性の範囲にすることが可能である。セルロースエステルフィルムの親疎水性は、添加剤により調整することができる。自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。この様に種々の方法により、セルロースエステルフィルムの透湿性を調整することで、偏光板の保護フィルムとして好ましい透湿性の範囲とすることができ、光学異方性層の支持体を偏光板の保護フィルムと兼ねることができて、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することができる。

［偏光板］
図５（ａ）〜（ｄ）は、本発明の方法により作製された光学フィルムを有する偏光板の概略断面図である。偏光板は、一般的には、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって偏光膜２１を得、その両面に保護フィルム２２及び２３を積層して作製することができる。光学異方性層を支持するポリマーフィルム等からなる支持体を有する光学フィルムを用いると、この支持体を保護フィルム２２及び２３の少なくとも一方にそのまま用いることができる。この際、光学異方性層１２は偏光層２１側に（即ち、光学異方性層１２が支持体１１より偏光層２１により近くに）配置されていても、偏光層２１と反対側に（即ち、光学異方性層１２が支持体１１より偏光層２１により遠くに）配置されていてもよいが、図５（ａ）に示した様に、光学異方性層１２は、偏光層２１と反対側にあることが好ましい。また、図５（ｂ）のように偏光層２１の一方の保護フィルム２２の外側に粘着剤等を介して貼合することも可能である。

図５（ｃ）及び（ｄ）は、図５（ａ）に示した構成の偏光板に、さらに他の機能性層２４を配置した偏光板の構成例である。図５（ｃ）は、本発明の光学補償フィルムと偏光層２１を挟んで反対側に配置された保護フィルム２３の上に、他の機能性層２４を配置した構成例であり、図５（ｄ）は、本発明の光学補償フィルムの上に、他の機能性層２４を配置した構成例である。他の機能性層の例としては特に制限されず、λ／４層、反射防止層、ハードコート層等、種々の特性を付与する機能性層が挙げられる。これらの層は、λ／４板、反射防止フィルム、ハードコートフィルム等の一部材として、例えば粘着剤によって貼合してもよいし、図５（ｄ）の構成例では、本発明の光学補償フィルム（光学異方性層１２）上に、他の機能性層２４を形成してから、偏光層２１と貼り合わせて作製することもできる。また、本発明の光学補償フィルムと反対側の保護フィルム２３そのものを、λ／４板、反射防止フィルム、ハードコートフィルム等の他の機能性フィルムにすることもできる。

偏光膜としては、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜が挙げられる。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。保護フィルムの種類は特に限定されず、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができる。透明保護フィルムは、通常、ロール形態で供給され、長尺の偏光膜に対して、長手（ＭＤ）方向が一致するようにして連続して貼り合わされることが好ましい。ここで、保護フィルムの配向軸（遅相軸）はいずれの方向であってもよい。また、保護フィルムの遅相軸（配向軸）と偏光膜の吸収軸（延伸軸）の角度も特に限定はなく、偏光板の目的に応じて適宜設定できる。

偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせてもよい。水系接着剤中の接着剤溶剤は、保護フィルム中を拡散することで乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。光学補償フィルムの透湿性は、ポリマーフィルム（及び重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、もしくは親疎水性などにより決定される。偏光板の保護フィルムの透湿性は、１００〜１０００（ｇ／ｍ²）／２４ｈｒｓの範囲にあることが好ましく、３００〜７００（ｇ／ｍ²）／２４ｈｒｓの範囲にあることが更に好ましい。

本発明では、薄型化等を目的に、偏光膜の保護フィルムのうち一方が、光学異方性層の支持体を兼ねていてもよい。光学補償フィルムと偏光膜は、光学軸のズレ防止やゴミなどの異物の侵入防止などの点から、固着処理されていることが好ましい。その固着積層には例えば透明接着層を介した接着方式などの適宜な方式を適用することができる。その接着剤等の種類について特に限定はなく、構成部材の光学特性の変化防止などの点から、接着処理時の硬化や乾燥の際に高温のプロセスを要しないものが好ましく、長時間の硬化処理や乾燥時間を要しないものが望ましい。このような観点から、親水性ポリマー系接着剤や粘着層が好ましく用いられる。

偏光膜の片面又は両面に、上記の保護フィルムに準じた耐水性等の各種目的の保護フィルム、表面反射の防止等を目的とした反射防止層又は／及び防眩処理層などの適宜な機能層を形成した偏光板を用いてもよい。前記反射防止層は、例えばフッ素系ポリマーのコート層や多層金属蒸着膜等の光干渉性の膜などとして適宜に形成することができる。また防眩処理層も例えば微粒子含有の樹脂塗工層やエンボス加工、サンドブラスト加工やエッチング加工等の適宜な方式で表面に微細凹凸構造を付与するなどにより表面反射光が拡散する適宜な方式で形成することができる。

なお前記の微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜２０μｍのシリカや酸化カルシウム、アルミナやチタニア、ジルコニアや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系微粒子や、ポリメチルメタクリレートやポリウレタンの如き適宜なポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子などの適宜なものを一種又は二種以上用い得る。また上記した接着層ないし粘着層は、斯かる微粒子を含有して光拡散性を示すものであってもよい。

本発明の偏光板は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）と同等以上の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）を有することが好ましい。具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度√｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝ ≧ ０．９９９５（ただし、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、温度６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間及び８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が絶対値に基づいて３％以下、更には１％以下、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。

［転写材料］
図６（ａ）〜（ｅ）は、本発明の方法によって作製された光学フィルムの上に、感光性樹脂層を形成して作製された、本発明の転写材料の概略断面図である。本発明の転写材料は、支持体と、少なくとも一層の光学異方性層と少なくとも一層の感光性樹脂層とを有し、少なくとも前記光学異方性層及び前記感光性樹脂層を、他の基板上に転写するのに用いられる材料である。図６（ａ）に示す本発明の転写材料は、透明又は不透明な仮支持体１１上に光学異方性層１２と感光性樹脂層１４とを有する。本発明の転写材料は他の層を有していてもよく、例えば、図６（ｂ）に示す様に、仮支持体１１と光学異方性層１２との間には、転写時に相手基板側の凹凸を吸収するためのクッション性のような力学特性コントロールあるいは凹凸追従性付与のための層１５を有していてもよいし、また、図６（ｃ）に示す様に、光学異方性層１２中の液晶性分子の配向を制御するための配向層として機能する層１３が配置されてもよいし、さらに図６（ｄ）に示す様に双方の層を有していてもよい。また、図６（ｅ）感光性樹脂層の表面保護などの目的から、最表面に剥離可能な保護層１６を設けてもよい。

［液晶表示装置用被転写基板］
本発明の転写材料は、液晶表示装置用基板に転写され、液晶セルの視野角補償のための光学異方性層を構成し得る。さらに、カラーフィルタとの組み合わせによってＲ、Ｇ、Ｂの色ごとに液晶セルの視野角補償のための光学異方性層を構成し得る。かかる層が転写された基板は、液晶セルの一対の基板のいずれか一方に用いられてもよいし、両方に用いられてもよい。図７（ａ）に本発明の転写材料により作製された、光学異方性層付き基板の一例の概略断面図である。被転写基板３０としては透明であれば特に限定はないが、複屈折が小さいことが望ましく、ガラスや低複屈折性ポリマー等が用いられる。基板上には本発明の転写材料を用いて形成された光学異方性層２７があり、その上にブラックマトリクス２９、さらにはカラーフィルタ層２８が形成されている。図７（ａ）中では省略したが、光学異方性層２７と基板３０との間には、転写材料中の構成層である感光性樹脂層が配置されていて、光学異方性層２７と基板３０とは、感光性樹脂層を介して接着している。カラーフィルタ層２８のさらにその上には透明電極層２５、さらにその上には液晶セル中の液晶分子を配向させるための配向層２６が形成されている。本発明の転写材料を利用して光学異方性層２７を基板３０上に形成した後に、レジストを均一に塗布し、その後、マスク照射後現像で不要部を除去する方法によりブラックマトリクス２２及びカラーフィルタ層２８を作製してもよいし、また、近年提案されている印刷方式やインクジェット方式を利用して形成してもよい。後者の方がコスト面からは好ましい。

図７（ｂ）に本発明の転写材料により作製された、光学異方性層付きカラーフィルタを有する基板の一例の概略断面図である。被転写基板３０としては透明な基板であれば特に限定はないが、複屈折が小さい基板が望ましく、ガラスや低複屈折性ポリマー等が用いられる。基板上には一般にブラックマトリクス２９が形成され、その上に本発明の転写材料から転写後、マスク照射等によりパターニングされた感光性樹脂層からなるカラーフィルタ層２８及び光学異方性層２７’が形成されている。図４には、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層２８を形成した態様を示したが、最近よくみられる様に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（白）の層からなるカラーフィルタ層を形成してもよい。光学異方性層２７’はｒ、ｇ、ｂ領域に分割され、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれのフィルタ層２８の色に対して、それぞれ最適な位相差特性を有している。光学異方性層２７’の上には転写材料から転写された他の層があってもよいが、液晶セル内には極力不純物は混入させないようにしなければならないため、パターニング時の現像、洗浄処理時に取り除かれていることが好ましい。光学異方性層２７’の上には透明電極層２５、さらにその上には液晶セル中の液晶分子を配向させるための配向層２６が形成されている。

さらに本発明の転写材料を用い、図７（ｃ）に示す様に、一の基板上に、本発明の転写材料を用い、パターニングされていないベタの光学異方性層２７とパターニングされた光学異方性層２７’の二つを形成してもよい。なお、図は省略するが、本発明の転写材料を用い、液晶セルの一対の対向基板の一方の基板にベタの光学異方性層２７を形成し、他方の基板にパターニングされた光学異方性層２７’をカラーフィルタ層２８とともに形成してもよい。一対の対向基板側の一方には、一般にＴＦＴアレイなどの駆動用電極が配置されていることが多く、駆動用電極上にベタの光学異方性層２７を形成してもよいし、駆動用電極上にパターニングされた光学異方性層２７’をカラーフィルタ層２８とともに形成してもよい。光学異方性層は、基板上であればどの位置に形成されてもよいが、ＴＦＴを有するアクティブ駆動型の場合、光学異方性層の耐熱性からシリコン層よりも上に形成されるのが好ましい。

本発明の転写材料を用いることにより、１回の転写−照射−現像プロセスで、１色のカラーフィルタとそれに対応した光学異方性層が同時に形成可能であるので、特開平３−２８２４０４号公報に記載されているようなカラーフィルタ製造工程の場合と同じ工程数で、液晶表示装置の視野角特性を改良することができる。

［液晶表示装置］
図８は、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置の一例である。液晶表示装置は、上下の電極基板間にネマチック液晶を挟持してなる液晶セル５５、及び液晶セルの両側に配置された一対の偏光板５６及び５７を有しており、偏光板の少なくとも一方には図５に示した本発明の偏光板を用いている。本発明の偏光板を用いる際には、光学異方性層が偏光層と液晶セルの電極基板の間になるように配置することができる。ネマチック液晶分子は、電極基板上に施された配向層及びその表面のラビング処理あるいはリブ等の構造物を設けることによって、所定の配向状態になるように制御されている。

偏光板に挟持された液晶セルの下側には輝度向上フィルムや拡散フィルムのような調光フィルム５４を１枚以上有していてもよい。さらに調光フィルムの下側には冷陰極管５１から出た光を正面に照射するための反射板５２と導光板５３を有している。この冷陰極管と導光板からなるバックライトユニットの代わりに、最近では冷陰極管を液晶セルの下に数本配列した直下型バックライトや、光源としてＬＥＤを用いたＬＥＤバックライト、あるいは有機ＥＬ、無機ＥＬ等を用いて面発光させるようなバックライトも用いられていて、本発明でも使用することができる。

さらに、図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置するのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。

図９は本発明の転写材料を用いた液晶表示装置の一例の概略断面図である。図９（ａ）〜（ｃ）の例はそれぞれ図７（ａ）〜（ｃ）のガラス基板を上側基板として用い、３２に示すＴＦＴ付ガラス基板を対向基板として間に液晶３１を挟んだ液晶セル３７を用いた液晶表示装置である。液晶セル３７の両側には、２枚のセルロースエステルフィルム３４、３５に挟まれた偏光層３３からなる偏光板３６が配置されている。液晶セル側のセルロースエステルフィルム３５として、光学補償に寄与する光学フィルムを用いてもよいし、３４と同様、保護フィルムとしての機能のみであってもよい。図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろんフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。本液晶表示装置の表示モードは特に制限がなく、全ての透過型及び反射型液晶表示装置に用いることが可能である。ＶＡモード、ＳＴＮモード、ＴＮモード、ＯＣＢモードなどの液晶表示装置に利用することができる。中でも色視野角特性改良が望まれるＶＡモードに対して、本発明は効果を発揮する。

ＶＡモードの液晶セルは、対向面がラビング処理された上下基板の間に誘電異方性が負の液晶性分子を封入してなる。例えば、Δｎ＝０．０８１３、及びΔε＝−４．６程度の液晶分子を用い、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角が約８９°の液晶セルを作製することができる。この時、液晶層の厚さｄは３．５μｍ程度にすることができる。液晶層の厚さｄ（ｎｍ）と、屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。最大の明るさを得るためには、液晶層の厚さｄは２〜５μｍ（２０００〜５０００ｎｍ）の範囲であることが好ましく、Δｎは、０．０６０〜０．０８５の範囲である。

液晶セルの上下基板の内側には透明電極が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層中の液晶分子は基板面に対して概略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。液晶セルの上側偏光板の吸収軸と下側偏光板の吸収軸とは概略直交しているので、光は偏光板を通過しない。すなわち、ＶＡモードの液晶表示装置では、非駆動状態において理想的な黒表示を実現することができる。これに対し、駆動状態では液晶分子は基板面に平行な方向に傾斜し、液晶パネルを通過する光は傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させ、偏光板を通過する。

ここまでは上下基板間に電界が印加されるため、電界方向に垂直に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が負の液晶材料を使用した例を示したが、電極を一方の基板に配置し、電界が基板面に平行の横方向に印加される場合は、液晶材料は正の誘電率異方性を有するものを使用することもできる。

ＶＡモードの特徴は、高速応答であること及びコントラストが高いことである。しかし、コントラストは、正面では高いが斜め方向では低下するという課題がある。黒表示時に液晶性分子は基板面に垂直に配向しているため、正面から観察すると液晶分子の複屈折はほとんどないので透過率が低く、高コントラストが得られる。しかし、斜めから観察した場合は液晶性分子に複屈折が生じる。さらに上下の偏光板吸収軸の交差角は、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°より大きくなる。この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じやすくなり、コントラストが低下する傾向にある。本発明では、本発明の光学補償フィルムを液晶セルと偏光板との間に配置することにより、本発明の偏光板を用いることにより、及び／又は本発明の転写材料から転写された光学異方性層を少なくとも一層含む（好ましくは、液晶セル内に含む）ことにより、この課題を解決することができる。

ＶＡモードでは、白表示時には液晶性分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶性分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶セルをマルチドメインにすることが好ましい。マルチドメインとは、一つの画素中に、配向状態の異なる複数の領域を形成した構造をいう。例えば、マルチドメイン方式のＶＡモードの液晶セルでは、一つの画素中に、電界印加時の液晶性分子の傾斜角が互いに異なる複数の領域が存在する。マルチドメイン方式のＶＡモード液晶セルでは、電界印加による液晶性分子の傾斜角を画素ごとに平均化することができ、そのことによって、視角特性を平均化することができる。一画素内で配向を分割するには、電極にスリットを設けたり、突起を設けたり、電界方向を変えたり、電界密度に偏りを持たせたりすることで達成できる。全方向に均等な視野角を得るにはこの分割数を多くすればよいが、白表示時の透過率が減少してしまうため、４分割が好適である。

ＶＡモードの液晶表示装置では、Ｔｗｉｓｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃモード（ＴＮモード）の液晶表示装置で一般的に使われているカイラル剤の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。配向分割の領域境界では、液晶分子が応答しづらい。そのためノーマリーブラック表示では黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となる。液晶材料にカイラル剤を添加することは、境界領域を小さくすることに寄与する。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

［実施例１〜５、及び比較例１：光学フィルムの製造］
（透明支持体Ｓ−１の作製）
市販のセルロースアセテートフィルムであるフジタックＴＤ８０ＵＦ（富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝５０ｎｍ）を透明支持体Ｓ−１として用いた。

（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。変性ポリビニルアルコールは特開平９−１５２５０９号公報記載のものを用いた。
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配向層用塗布液組成（質量％）
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変性ポリビニルアルコールＡＬ−１−１ ４．０１
水 ７２．８９
メタノール ２２．８３
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．２０
クエン酸 ０．００８
クエン酸モノエチルエステル ０．０２９
クエン酸ジエチルエステル ０．０２７
クエン酸トリエチルエステル ０．００６
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（中間層／配向層用塗布液ＡＬ−２の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、剥離用中間層／配向層用塗布液ＡＬ−２として用いた。
──────────────────────────────────――
中間層／配向層用塗布液組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製） ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製） １．４８
蒸留水 ５２．１
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────――

（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の表に示す組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。表中、ＬＣ２４２は棒状液晶（重合性液晶、Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）、ＬＣ７５６はカイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）、二色性光重合開始剤ＬＣ−１−１はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ ２１に記載の方法により合成した。水平配向剤ＬＣ−１−２はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（質量％）
─────────────────────────────────―――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）３３．３７
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）３．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−１） １．５５
ＬＣ−１−２ ０．０８
ジアゾキシジアニソール ０．５０
メチルエチルケトン ６１．４０
──────────────────────────────────――

（熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
熱可塑性樹脂層用塗布液組成（質量％）
──────────────────────────────────――
メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、
重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８９
スチレン／アクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
１３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製） ９．２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製） ０．５５
メタノール １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ６．４３
メチルエチルケトン ５２．９７
──────────────────────────────────――

（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
感光性樹脂層用塗布液組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．７万） ５．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４．０万） ２．４５
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製） ３．２
ラジカル重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．７５
増感剤（カヤキュアＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．２５
カチオン重合開始剤
（ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、東京化成製） ０．１
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２７．０
メチルエチルケトン ５３．０
シクロヘキサノン ９．１
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製） ０．０５
──────────────────────────────────――

（セルロースエステルフィルムの片面けん化処理）
セルロースエステルフィルムを温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて１４ｍｌ／ｍ²で塗布した。そして、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーター（（株）ノリタケカンパニー製）の下に１０秒滞留させた後に、同じバーコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後、７０℃の乾燥ゾーンに２秒滞留させて乾燥した。

（偏光ＵＶ照射装置ＰＯＬＵＶ−１、ＰＯＬＵＶ−２）
図１０に示すように紫外線光源として３５０〜４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ−Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ Ｈａｍｍｅｒ １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）９を光源ユニットとして用い、照射面から４ｃｍ離れた位置に波長選択フィルタ４（短波長カットフィルター、ＬＵ０３５０、朝日分光株式会社製）を、照射面から３ｃｍ離れた位置に、ワイヤグリッド偏光フィルタ６（ＰｒｏＦｌｕｘ ＰＰＬ０２（高透過率タイプ）、Ｍｏｘｔｅｋ社製）を、照射面から２．５ｃｍ離れた位置に５０ｍｍ×５０ｍｍのアルミ板を２枚用いてアパーチャ５を設置して偏光ＵＶ照射装置ＰＯＬＵＶ−１を作製した。また、ＰＯＬＵＶ−１のワイヤグリッド偏光フィルタを誘電体ミラー（超広帯域誘電体平面ミラー、ＴＦＭＳ−５０Ｃ０８−４／１１、シグマ光機株式会社製）とした偏光ＵＶ照射装置ＰＯＬＵＶ−２を作製した。

（照射量及び照度の測定）
表１に示す条件で、実施例１、２、及び比較例１〜４の偏光紫外線照射をそれぞれ実施した。
なお、照度測定及び消光比測定には、照度計は（ＵＶＰＦ−Ａ１、アイグラフィックス社製）、偏光子及び検光子にはワイヤグリッド偏光フィルタ（ＰｒｏＦｌｕｘ ＰＰＬ０２（高透過率タイプ）、Ｍｏｘｔｅｋ社製を使用した。

透明支持体Ｓ−１の片面を前述の片面けん化処理法を使ってけん化処理した後、その上に配向層用塗布液ＡＬ−１を＃１４のワイヤーバーコーターで塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥して厚さ１．０μｍの配向層を形成した。続いて、形成した配向層を透明支持体の搬送方向（ＭＤ方向）に対してラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を＃７のワイヤーバーコーターで塗布し、膜面温度（赤外放射温度計ＩＴ２−０１（ＫＥＹＥＮＣＥ社製）により測定。以下、同様である）が９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する光学異方性層を形成した。さらに熟成後直ちに、光学異方性層に対して、膜面温度８０℃、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、偏光ＵＶ照射装置ＰＯＬＵＶ−１及びＰＯＬＵＶ−２を用いて表１に示す条件で偏光紫外線を照射し、実施例１、２及び比較例１〜４の光学フィルムを作製した。偏光紫外線照射時の支持体の搬送速度は５ｍ／分とした。光学異方層は固定化後、昇温しても液晶性を示さなかった。

なお、ＬＣ−１中に用いられた棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）の等方相転移温度は、１００．２℃であった。

表１に示した通り、スリット幅を調整することで、消光比の低い（１以上８以下）光が試料に照射されるのを防ぐことができ、本発明の方法を実施可能である。なお、表１に示す結果から、上記した通り、スリット幅を狭くしていくと、照度が低下して、試料に照射される照射量が小さくなるが、搬送速度等を調整することによって、充分な強度を有する光学異方性層を形成可能な照射量とすることができる。
また、比較例２の誘電体ミラー偏光子については、特表２００２−５１２８５０号公報に記載されている通り、光の利用効率が悪い為、照射量がワイヤグリッド偏光子に比べて低いことも、表１から理解できる。

（位相差測定）
ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）により、５８９ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ及び遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションＲｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）を測定した。光学異方層の位相差は、各角度における光学補償フィルム全体の位相差から各角度における支持体の位相差を差し引くことにより求めた。

（耐擦傷性試験）
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にダスパー（小津産業株式会社製）を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離（片道）：１０ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ²、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：５０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
◎：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△：僅かに弱い傷が見える。
×：傷が見える。

（面状評価）
シャーカステンの上に、クロスニコルの偏光板の間に光学フィルムを配置して、液晶の配向を確認した。
○：全面配向している。
△：部分的に配向が乱れている。
×：全面的に配向が乱れている。

［実施例１及び２と比較例１との比較］
実施例１、２及び比較例１の位相差測定、面状評価、対擦傷性試験結果を表２に示す。

表２に示す通り、比較例１に比べて実施例１及び２の光学異方性層のＲｅ０の値は高く、好ましい光学特性を示した。本発明の範囲である実施例１及び２の条件で偏光紫外線照射を行うと、上記偏光紫外線照射時に二色性重合開始剤からのラジカルの発生が局在化し、重合が局所的に進行したため、コレステリック配向の歪みが十分となり、好ましい光学特性が得られたものと考えられる。

［実施例１〜５の比較（照射量）］
次に、上記と同様の方法で、実施例３〜５について、面状評価及びこすり試験を実施した。以下の表３に、実施例１及び２の結果と合わせて示す。

実施例３〜５は、消光比が１以上８以下の成分の割合が５％であり、偏光紫外線照射としては好ましいが、スリット幅を狭くしたために、照射量が不十分となり、その結果光学異方性層の強度が、実施例１及び２よりも劣っている。特に、実施例５は、光の利用効率が悪い誘電体ミラー偏光子を利用しているため、照射量がさらに低く、強度が低下していることが理解できる。
また、表３には示さないが、実施例３〜５で形成した光学異方性層の光学特性（Ｒｅ０、Ｒｅ（４０）及びＲｅ（−４０））をそれぞれ測定したが、実施例１及び２で形成した光学異方性層の光学特性のほうが優れていたが、搬送速度を遅くすることで、実施例１及び２と比較して同等の光学特性を示す光学異方性層を形成可能であった。

［実施例６〜９の比較（膜面温度）］
光学異方性層用塗布液を塗布して形成した塗膜の膜面温度を表４に示す条件に保持し、表１の実施例２に示す偏光ＵＶを照射した（実施例６〜９）。膜面温度以外の条件は、実施例２と同一とした。形成した光学異方性層について、上記と同様に面状試験を実施した。結果を表４に示す。

表４に示す通り、偏光ＵＶ照射時の膜面温度が低くなると配向が乱れる傾向があり、良好な面状を得るためには、用いた液晶化合物の等方相転移温度に近い温度であるのが好ましいことが理解できる。
また、表４には示さないが、実施例６〜９で形成した光学異方性層の光学特性（Ｒｅ０、Ｒｅ（４０）及びＲｅ（−４０））をそれぞれ測定したが、実施例６で形成した光学異方性層は、実施例２で形成した光学異方性層と同様に光学特性が優れていたが、実施例８及び９で形成した光学異方性層の光学特性は、実施例２と比較して劣っていた。従って、好ましい光学特性を得るという観点からも、膜面温度を等方性転移温度に近い温度で偏光紫外線照射を実施するのが好ましいことが理解できる。

［実施例１０〜１５の比較（後処理光照射）］
表５に示す照射条件を用いて表６に示す組み合わせで紫外線照射を実施した。
紫外線ＵＶ照射条件を下記の照射条件Ａ又はＢに代え、照射を複数回行い、後処理光照射を下記照射条件Ｃで行う等、偏光ＵＶ照射条件を代えた以外は、実施例１と同一の条件で光学異方性層を形成した。

上記と同様にして、光学特性、面状評価、及びこすり試験を行った。結果を以下の表７に示す。

表７に示す通り、偏光ＵＶ照射後に非偏光ＵＶを照射することで配向及び硬膜が改善されることがわかる。また、驚くべきことに本実施例においては位相差についても改善傾向があった。

［実施例１６：光学補償フィルム付偏光板の作製］
上記で製造した実施例１の光学フィルム及び市販のフジタックＴＤ８０ＵＦ（富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝５０ｎｍ）を、１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。続いて室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。これを再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。この後、水洗、中和処理を行い、この二枚のケン化済フィルムを、偏光板の保護膜として偏光膜の両面にポリビニルアルコール系接着剤を用いてロール・トゥ・ロールで貼り付け、一体型偏光板を作製した。

［実施例１７：ＶＡ−ＬＣＤ液晶表示装置の作製と評価］
市販のＶＡ−ＬＣＤ（ＳｙｎｃＭａｓｔｅｒ １７３Ｐ、サムスン電子社製）の上下側偏光板を剥がし、上側には通常の偏光板を、下側には、上記実施例１６で作製した実施例１の光学フィルム付偏光板を、光学異方性層が液晶セル基板ガラス面になるように粘着剤で貼合して本発明の液晶表示装置を作製した。作製した液晶表示装置の断面概略図を、各層の光学的軸の角度関係とともに図１１に示す。図１１中、４１は偏光層、４２は透明支持体、４３は配向層、４４は光学異方性層（４２〜４４が実施例１で製造された光学フィルム）、４５は偏光板保護フィルム、４６は液晶セル用ガラス基板、４７は液晶セル及び４８は粘着剤層である。また、偏光層４１中の矢印は吸収軸の向きを、光学異方性層４４やその支持体４４及び保護フィルム４５中の矢印は遅相軸の向きを示し、丸印は矢印が紙面に対する法線方向であることを示す。

（ＶＡ−ＬＣＤ液晶表示装置の評価）
作製した液晶表示装置の視野角特性を視野角測定装置（ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）で測定した。さらに特に斜め４５度方向について目視でも評価した。実施例２のＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔによるコントラスト特性を図１２に、目視評価結果を以下に示す。

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試料 目視評価結果
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実施例１７ 白表示、黒表示いずれも色ズレが少なく、中間調の階調特性が良好
であった。
──────────────────────────────────――

［実施例１８：転写材料の作製］
実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。但し、実施例１で用いた透明支持体Ｓ−１に代えて、厚さ７５μｍのロール状ポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥して形成した熱可塑性樹脂層（膜厚は１４．６μｍ）を形成したものを用い、且つ配向層は、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−２を塗布、乾燥させて形成した（配向層の膜厚は１．６μｍ）であった。それ以外は、実施例１と全く同一の条件で、光学異方性層を形成して、光学フィルムを作製した。次に、形成した光学異方性層の表面に、感光性樹脂組成物ＰＰ−１を塗布、乾燥させて、感光性樹脂層を形成し、本発明の感光性樹脂転写材料を作製した。

前記感光性樹脂転写材料をラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板表面に、感光性樹脂層を基板表面側にして重ね、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートし、仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯にて露光量５０ｍＪ／ｃｍ²で全面露光した。さらに２４０℃で２時間ベークしてＶＡ−ＬＣＤ用ガラス基板を作製した。
次いで、ＦＵＪＩＦＩＬＭ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＆ ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴ Ｎｏ．４４（１９９９）の２５頁に記載のトランサーシステム（富士写真フイルム（株）製）を用い、前記ガラス基板上にブラックマトリクス及びＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタを形成した。

（透明電極の形成）
上記で作製したカラーフィルタ上に透明電極膜をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。

（突起用感光性転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体上に熱可塑性樹脂層用塗布液ＴＰ−１を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１５μｍの熱可塑性樹脂層を設けた。
次に、前記熱可塑性樹脂層上に中間層／配向層用塗布液ＡＬ−２を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。
前記中間層上に、下記の処方からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２．０μｍの液晶配向制御用突起用感光性樹脂層を設けた。
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突起用塗布液組成（％）
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ＦＨ−２４１３Ｆ（富士フイルムアーチ（株）製） ５３．３
メチルエチルケトン ４６．６６
メガファックＦ−１７６ＰＦ ０．０４
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更に、前記感光性樹脂層表面に厚さ１２μｍのポリプロピレン製のフィルムをカバーフィルムとして貼り付け、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層、カバーフィルムがこの順に積層された転写材料を作製した。

（突起の形成）
上で作製した突起用転写材料からカバーフィルムを剥がし、その感光性樹脂層の表面と前記カラーフィルタ側基板のＩＴＯ膜が設けられた側の表面とを重ね合わせ、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、温度１３０℃、搬送速度２．２ｍ／分の条件下で貼り合わせた。その後、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去した。この状態では、カラーフィルタ側基板上に、感光性樹脂層、中間層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されている。
次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方に、フォトマスクが感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー７０ｍＪ／ｃｍ²でプロキシミティー露光した。その後、１％トリエタノールアミン水溶液を、シャワー式現像装置にて３０℃で３０秒間基板に噴霧して、熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この段階では、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。
続いて、０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸ナトリウムと０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウムと１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃３０秒間基板に噴霧しながら現像し、感光性樹脂層の不要部（未硬化部）を現像除去した。すると、カラーフィルタ側基板上に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ側基板を２４０℃下で５０分ベークすることにより、カラーフィルタ側基板上に、高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の液晶配向制御用突起を形成することができた。

（配向層の形成）
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。カラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。

（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ₂Ａｌ₁₆Ｏ₂₇：Ｅｕ，
Ｍｎと、ＬａＰＯ₄：Ｃｅ，Ｔｂとを質量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、
Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に、上記で偏光板を貼り付けた液晶セルを設置し、ＶＡ−ＬＣＤを作製した。

（ＶＡ−ＬＣＤの評価）
作製した液晶表示装置の黒表示（電圧無印加）時におけるＬＣＤの特にコーナーにおける光漏れについて、まず室温条件にて目視観察した後、４０℃、９０％ＲＨの恒温・恒湿条件にて４８時間静置した後、再び観察した。結果を以下に示す。

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試料 目視評価結果
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実施例１８ 黒表示はほとんど変化がなく、コーナーに顕著な光漏れは見られな
かった。
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本発明によれば、偏光紫外線照射工程を含む光学フィルムの製造方法において、良好な光学特性及び膜強度を示す光学フィルムを高い生産性で製造可能な方法を提供することができる。
また、本発明によれば、液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置、の視野角特性の改善に寄与する光学フィルムを、連続的に、欠陥なくもしくは少なく、さらに安定的に製造可能な方法を提供することができる。
また、本発明によれば、かかる光学フィルムを有し、液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置、の一部材として使用可能な偏光板、及び液晶セル内に光学異方性層を簡易に形成可能とする転写材料を提供することができる。
また、本発明によれば、液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ薄層化が可能な、視野角特性が良好な液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置を提供することができる。

本発明における偏光紫外線照射装置の一例の概略図である。 実施例１における搬送方向にたいする照度の分布である。 実施例１における搬送方向にたいする消光比の分布である。 本発明の光学補償フィルムの一例の概略断面図である。 本発明の偏光板の例の概略断面図である。 本発明の転写材料の例の概略断面図である。 本発明の転写材料を用いて作製された液晶セル用基板の例の概略断面図である。 本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。 本発明の転写材料から転写された光学異方性層を含む液晶表示装置の例の概略断面図である。 実施例１で使用した偏光紫外線照射装置の概略図である。 実施例５で作製した液晶表示装置の層構成を層中の光学軸の方向とともに示した概略断面図である。 実施例５で作製した液晶表示装置のコントラスト特性を示す図である。

符号の説明

１ 反射鏡
２ 棒状紫外線ランプ
３ 光の向きを調整する光学部品
４ 波長選択フィルタ
５ 消光比の低い光を遮光するアパーチャ
６ 偏光子
７ 照射面
８ スリット幅
９ 光源ランプユニット
１１ 支持体
１２ 光学異方性層
１３ 配向層
１４ 感光性樹脂層
１５ クッション層
１６ 保護層
２１ 偏光層（偏光膜）
２２、２３ 保護フィルム
２４ λ／４板、反射防止膜等の機能性層
２５ 透明電極層
２６ 配向層
２７ 光学補償層
２７’ パターニングされた光学補償層
２８ カラーフィルタ層
２９ ブラックマトリックス層
３０ 支持体（被転写体でもある）
３１ 液晶層
３２ ＴＦＴ層
３３ 偏光層
３４ 保護フィルム
３５ 保護フィルム（光学補償フィルムである場合もある）
３６ 偏光板
３７ 液晶セル
４１ 偏光層
４２ 透明支持体
４３ 配向層
４４ 光学異方性層
４５ 偏光板保護フィルム
４６ 液晶セル用ガラス基板
４７ 液晶セル
４８ 粘着剤
５１ 冷陰極管
５２ 反射シート
５３ 導光板
５４ 輝度向上フィルム、拡散フィルム等の調光フィルム
５５ 液晶セル
５６ 下側偏光板
５７ 上側偏光板

Claims (6)

1. 下記工程（１）〜（３）：
   （１） 配向膜の表面に、重合性液晶化合物及び二色性重合開始剤を含有する重合性組成物からなる層を形成し、
   （２） 前記層中の重合性液晶化合物の分子を第１の配向状態とし、
   （３） 前記層に偏光紫外線を照射して、前記重合性液晶化合物の重合を進行させるとともに、前記重合性液晶化合物の分子を第２の配向状態に固定して光学異方性層を形成する、
   を（１）〜（３）の順に含む光学フィルムの製造方法であって、
   前記偏光紫外線の単位面積当たりの照射量（Ｊ／ｃｍ²）のうち、消光比が１以上８以下の偏光紫外線が占める割合が１５％以下であり、
   工程（３）における前記層の膜面温度が（Ｔ _iso −５０）〜Ｔ _iso ℃（但し、Ｔ _iso （℃）は前記重合性液晶化合物の等方相転移温度）であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
2. 下記工程（１）〜（３）：
   （１） 配向膜の表面に、重合性液晶化合物及び二色性重合開始剤を含有する重合性組成物からなる層を形成し、
   （２） 前記層中の重合性液晶化合物の分子を第１の配向状態とし、
   （３） 前記層に偏光紫外線を照射して、前記重合性液晶化合物の重合を進行させるとともに、前記重合性液晶化合物の分子を第２の配向状態に固定して光学異方性層を形成する、
   を（１）〜（３）の順に含む光学フィルムの製造方法であって、
   前記偏光紫外線の単位面積当たりの照射量（Ｊ／ｃｍ ² ）のうち、消光比が１以上８以下の偏光紫外線が占める割合が７〜１５％であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
3. 工程（３）において、照射量２００ｍＪ／ｃｍ²〜２Ｊ／ｃｍ²で偏光紫外線を照射する請求項１又は２に記載の方法。
4. 工程（３）の後に、非偏光の紫外線を照射することを含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. 工程（３）において、ワイヤグリッド偏光子を介して、偏光紫外線を照射する請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
6. 工程（３）においてスリットを介して偏光紫外線を照射し、スリット幅を調整することで、消光比が１以上８以下の偏光紫外線が占める割合を前記範囲に調整することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。

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