JP4583128B2 - 半導体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4583128B2 JP4583128B2 JP2004288973A JP2004288973A JP4583128B2 JP 4583128 B2 JP4583128 B2 JP 4583128B2 JP 2004288973 A JP2004288973 A JP 2004288973A JP 2004288973 A JP2004288973 A JP 2004288973A JP 4583128 B2 JP4583128 B2 JP 4583128B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor laser
- laser element
- electrode
- terminal
- wire
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4031—Edge-emitting structures
- H01S5/4043—Edge-emitting structures with vertically stacked active layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/02208—Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
- H01S5/02212—Can-type, e.g. TO-CAN housings with emission along or parallel to symmetry axis
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0233—Mounting configuration of laser chips
- H01S5/02345—Wire-bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0235—Method for mounting laser chips
- H01S5/02355—Fixing laser chips on mounts
- H01S5/0237—Fixing laser chips on mounts by soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4087—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar emitting more than one wavelength
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
図1は、第1の実施の形態に係る半導体レーザ装置の一例を示す模式的断面図である。
図3は、第2の参考の形態に係る半導体レーザ装置の一例を示す模式的断面図である。図4(a)は、図3の半導体レーザ装置を台座上に組み立てた際の模式的断面図であり、図4(b)は、図3の半導体レーザ装置を台座上に組み立てた際の上面図である。
図5は、第3の参考の形態に係る半導体レーザ装置の一例を示す模式的断面図である。
図7は、第4の参考の形態に係る半導体レーザ装置の一例を示す模式的断面図である。
図9は、第5の参考の形態に係る半導体レーザ装置を台座上に組み立てた際の模式的断面図である。
1P 第1の端子
1Wa,1Wb,2Wa,2Wb,3W,4W ワイヤ
2 赤外半導体レーザ素子
2P 第2の端子
3 青紫色半導体レーザ素子
3P 第3の端子
4P 第4の端子
11 赤色発光点
12,22,32 p電極
12a,22a p型パッド電極
13,23,35 n電極
21 赤外発光点
31 青紫色発光点
50 フォトダイオード
60 絶縁性サブマウント
100,200,300,400,550 半導体レーザ装置
500 台座
501 ステム
Claims (9)
- 導電性の筐体と、
前記筐体に設けられた導電性の台座と、
前記筐体に設けられかつ前記筐体から絶縁された第1、第2および第3の端子と、
前記筐体に設けられかつ前記台座に電気的に接続された第4の端子と、
前記台座上に設けられかつそれぞれ一方電極を有する第1、第2および第3の半導体レーザ素子とを備え、
前記第1の端子および前記第2の端子は、第1の方向に沿って配置され、
前記第3の端子および前記第4の端子は、前記第1の方向に交差する第2の方向に沿って配置され、
前記第1、第2および第3の半導体レーザ素子は、前記第1の半導体レーザ素子の前記一方電極が前記第2および第3の半導体レーザ素子の前記一方電極よりも前記第1の端子に近く、前記第2の半導体レーザ素子の前記一方電極が前記第1および第3の半導体レーザ素子の前記一方電極よりも前記第2の端子に近く、前記第3の半導体レーザ素子の前記一方電極の少なくとも一部が前記第1の方向において前記第1の半導体レーザ素子の前記一方電極と前記第2の半導体レーザ素子の前記一方電極との間に位置するように配置され、
前記第1の端子と前記第1の半導体レーザ素子の前記一方電極とが第1のワイヤにより接続され、前記第2の端子と前記第2の半導体レーザ素子の前記一方電極とが第2のワイヤにより接続され、
前記第1の半導体レーザ素子および前記第2の半導体レーザ素子は、前記第3の半導体レーザ素子上に互いに間隔を空けてそれぞれ配置され、
前記第3の端子と前記第3の半導体レーザ素子の前記一方電極とが、前記第1の半導体レーザ素子と前記第2の半導体レーザ素子の間を通る第3のワイヤにより接続され、
前記第3の半導体レーザ素子は、前記台座に電気的に接続された他方電極をさらに有することを特徴とする半導体レーザ装置。 - 前記第3の半導体レーザ素子の上面には、前記第3の半導体レーザ素子の発光点上の領域を除いて、前記発光点上の領域の両側に絶縁膜が形成され、
前記発光点上の領域に、前記第3の半導体レーザ素子の前記一方電極が形成され、
前記発光点上の領域の一方側の絶縁膜上に、前記第1の半導体レーザ素子の前記一方電極が形成され、
前記発光点上の領域の他方側の絶縁膜上に、前記第2の半導体レーザ素子の前記一方電極が形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。 - 前記第3の半導体レーザ素子は、前記第3の半導体レーザ素子の一方電極側に形成されたリッジ部を有し、
前記リッジ部の下方に前記発光点を有し、
前記リッジ部は、前記第1の半導体レーザ素子と前記第2の半導体レーザ素子との間に設けられたことを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ装置。 - 前記第1のワイヤと前記第1の半導体レーザ素子の前記一方電極との第1の接続位置、前記第3のワイヤと前記第3の半導体レーザ素子の前記一方電極との第3の接続位置および前記第2のワイヤと前記第2の半導体レーザ素子の前記一方電極との第2の接続位置が前記第1の方向において前記第1の端子側から前記第2の端子側に順に配置されたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
- 前記第3の接続位置は、前記第1および第2の接続位置のうち少なくとも一つの接続位置よりも前記第1、第2および第3の半導体レーザ素子のレーザ光の出射側と反対側に設定されることを特徴とする請求項4記載の半導体レーザ装置。
- 前記第1、第2および第3の端子は、前記第1の方向および前記第2の方向に交差する第3の方向に沿って一方側から他方側に延び、
前記第1、第2および第3の半導体レーザ素子は、前記第3の方向に沿って前記他方側に主たるレーザ光を出射するように配置され、
前記第1および第2の半導体レーザ素子はそれぞれ他方電極をさらに有し、
前記第1の接続位置よりも前記第1の半導体レーザ素子のレーザ光の出射側の位置において、前記第1の半導体レーザ素子の前記他方電極が第4のワイヤにより前記台座に電気的に接続されたことを特徴とする請求項4または5記載の半導体レーザ装置。 - 前記第2の接続位置よりも前記第2の半導体レーザ素子のレーザ光の出射側の位置において、前記第2の半導体レーザ素子の前記他方電極が第5のワイヤにより前記台座に電気的に接続されたことを特徴とする請求項6記載の半導体レーザ装置。
- 前記第3の半導体レーザ素子は、窒化物系半導体からなる活性層を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
- 前記第3の端子の長さは、前記第1および第2の端子の長さよりも短く、
前記第1、第2および第3の端子は、前記第1の方向および前記第2の方向に交差する第3の方向に沿って一方側から他方側に延び、
前記第1、第2および第3の半導体レーザ素子は、前記第3の方向に沿って前記他方側に主たるレーザ光を出射するように配置され、
前記第1、第2および第3の半導体レーザ素子は、前記第1の方向において前記第1の端子と前記第2の端子との間に配置され、
前記第3の端子の長さは、前記第3の方向において前記第1、第2および第3の半導体レーザ素子のレーザ光の出射側と反対側の端面に重ならないように設定されたことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004288973A JP4583128B2 (ja) | 2004-03-30 | 2004-09-30 | 半導体レーザ装置 |
TW094104588A TWI252619B (en) | 2004-03-30 | 2005-02-17 | Semiconductor laser device |
CN 200910005323 CN101478116B (zh) | 2004-03-30 | 2005-03-11 | 半导体激光装置 |
CNB2005100539431A CN100524987C (zh) | 2004-03-30 | 2005-03-11 | 半导体激光装置 |
US11/081,726 US7551659B2 (en) | 2004-03-30 | 2005-03-17 | Semiconductor laser apparatus |
US12/476,677 US20090238230A1 (en) | 2004-03-30 | 2009-06-02 | Semiconductor laser apparatus |
US13/276,004 US20120033702A1 (en) | 2004-03-30 | 2011-10-18 | Semiconductor laser apparatus |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004101490 | 2004-03-30 | ||
JP2004288973A JP4583128B2 (ja) | 2004-03-30 | 2004-09-30 | 半導体レーザ装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010111768A Division JP5216807B2 (ja) | 2004-03-30 | 2010-05-14 | 半導体レーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005317896A JP2005317896A (ja) | 2005-11-10 |
JP4583128B2 true JP4583128B2 (ja) | 2010-11-17 |
Family
ID=35050154
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004288973A Expired - Fee Related JP4583128B2 (ja) | 2004-03-30 | 2004-09-30 | 半導体レーザ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US7551659B2 (ja) |
JP (1) | JP4583128B2 (ja) |
CN (1) | CN100524987C (ja) |
TW (1) | TWI252619B (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4568133B2 (ja) * | 2004-03-30 | 2010-10-27 | 三洋電機株式会社 | 半導体レーザ装置および光装置 |
JP4660224B2 (ja) | 2004-03-30 | 2011-03-30 | 三洋電機株式会社 | 半導体レーザ装置 |
JP2011023754A (ja) * | 2004-03-30 | 2011-02-03 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP4614715B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2011-01-19 | 三洋電機株式会社 | 半導体レーザ装置およびその製造方法 |
US7579204B2 (en) * | 2005-01-26 | 2009-08-25 | Sony Corporation | Method of production of semiconductor light emission device and method of production of light emission apparatus |
KR100738110B1 (ko) | 2006-04-11 | 2007-07-12 | 삼성전자주식회사 | 반도체 레이저 다이오드 어레이 |
JP4930322B2 (ja) * | 2006-11-10 | 2012-05-16 | ソニー株式会社 | 半導体発光素子、光ピックアップ装置および情報記録再生装置 |
US8085825B2 (en) | 2007-03-06 | 2011-12-27 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of fabricating semiconductor laser diode apparatus and semiconductor laser diode apparatus |
JP2010040752A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2010056185A (ja) * | 2008-08-27 | 2010-03-11 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP2010067868A (ja) * | 2008-09-12 | 2010-03-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2010251502A (ja) * | 2009-04-15 | 2010-11-04 | Mitsubishi Electric Corp | 多波長半導体レーザ装置 |
WO2011105136A1 (ja) * | 2010-02-25 | 2011-09-01 | 三洋電機株式会社 | 半導体レーザ装置及び光装置 |
JP5633670B2 (ja) * | 2010-03-01 | 2014-12-03 | ソニー株式会社 | 発光装置およびそれを用いた光装置 |
WO2020155029A1 (zh) * | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 华为技术有限公司 | 一种半导体激光装置及其制造方法和设备 |
JP6924293B2 (ja) | 2019-03-27 | 2021-08-25 | シャープ株式会社 | レーザ素子 |
EP3965146A1 (en) | 2020-09-03 | 2022-03-09 | Schott Ag | Header for an electronic component |
EP3965145A1 (en) * | 2020-09-03 | 2022-03-09 | Schott Ag | Transistor outline header for high-speed optoelectronic package |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01281786A (ja) * | 1988-05-07 | 1989-11-13 | Mitsubishi Electric Corp | アレイレーザ |
JPH07122808A (ja) * | 1993-10-27 | 1995-05-12 | Tera Tec:Kk | 半導体レーザ変調回路装置 |
JPH08181394A (ja) * | 1994-12-21 | 1996-07-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置とこの半導体レーザ装置を備えた光ディスク装置 |
JP2004022717A (ja) * | 2002-06-14 | 2004-01-22 | Sharp Corp | 多波長レーザ装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2605801B1 (fr) * | 1986-10-23 | 1989-03-03 | Menigaux Louis | Procede de fabrication d'une structure semi-conductrice susceptible d'effet laser multi-longueurs d'onde, et dispositif obtenu |
US5465266A (en) * | 1994-06-28 | 1995-11-07 | Xerox Corporation | Index-guided laser on a ridged (001) substrate |
US5703896A (en) * | 1995-06-07 | 1997-12-30 | The Regents Of The University Of Colorado | Silicon quantum dot laser |
US5917847A (en) * | 1997-09-26 | 1999-06-29 | Xerox Corporation | Independently addressable semiconductor laser arrays with buried selectively oxidized native oxide apertures |
US6144683A (en) * | 1998-01-07 | 2000-11-07 | Xerox Corporation | Red, infrared, and blue stacked laser diode array by wafer fusion |
US6136623A (en) * | 1998-05-06 | 2000-10-24 | Xerox Corporation | Multiple wavelength laser arrays by flip-chip bonding |
JP2000223791A (ja) * | 1999-02-04 | 2000-08-11 | Sharp Corp | 半導体レーザ装置およびその製造方法 |
US6410904B1 (en) * | 1999-11-22 | 2002-06-25 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Multi-beam emitting device |
JP3486900B2 (ja) * | 2000-02-15 | 2004-01-13 | ソニー株式会社 | 発光装置およびそれを用いた光装置 |
JP2002299765A (ja) * | 2001-04-03 | 2002-10-11 | Sony Corp | 半導体レーザ素子及びその作製方法 |
JP4219147B2 (ja) | 2002-09-25 | 2009-02-04 | シャープ株式会社 | 多波長レーザ装置 |
JP2004207480A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Pioneer Electronic Corp | 半導体レーザ装置及びその製造方法 |
JP2004304111A (ja) * | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Sharp Corp | 多波長レーザ装置 |
-
2004
- 2004-09-30 JP JP2004288973A patent/JP4583128B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-02-17 TW TW094104588A patent/TWI252619B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-03-11 CN CNB2005100539431A patent/CN100524987C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-17 US US11/081,726 patent/US7551659B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-06-02 US US12/476,677 patent/US20090238230A1/en not_active Abandoned
-
2011
- 2011-10-18 US US13/276,004 patent/US20120033702A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01281786A (ja) * | 1988-05-07 | 1989-11-13 | Mitsubishi Electric Corp | アレイレーザ |
JPH07122808A (ja) * | 1993-10-27 | 1995-05-12 | Tera Tec:Kk | 半導体レーザ変調回路装置 |
JPH08181394A (ja) * | 1994-12-21 | 1996-07-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置とこの半導体レーザ装置を備えた光ディスク装置 |
JP2004022717A (ja) * | 2002-06-14 | 2004-01-22 | Sharp Corp | 多波長レーザ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100524987C (zh) | 2009-08-05 |
TW200534554A (en) | 2005-10-16 |
TWI252619B (en) | 2006-04-01 |
CN1677781A (zh) | 2005-10-05 |
US20090238230A1 (en) | 2009-09-24 |
US20050232322A1 (en) | 2005-10-20 |
JP2005317896A (ja) | 2005-11-10 |
US20120033702A1 (en) | 2012-02-09 |
US7551659B2 (en) | 2009-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4583128B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
US8290015B2 (en) | Two-beam semiconductor laser apparatus | |
US8275013B2 (en) | Semiconductor laser device and method of manufacturing the same | |
CN106505410A (zh) | 垂直腔面发射激光器阵列及其制造方法 | |
EP1753105A2 (en) | Laser diode | |
JP4544892B2 (ja) | 半導体レーザ装置およびその製造方法 | |
JP2010040752A (ja) | 半導体レーザ装置およびその製造方法 | |
JP3759081B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP5488881B2 (ja) | 発光装置およびその製造方法 | |
JP4568133B2 (ja) | 半導体レーザ装置および光装置 | |
JP5227666B2 (ja) | 半導体レーザ装置およびその製造方法 | |
JP5216807B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
CN112438000B (zh) | 半导体发光装置及半导体发光装置的制造方法 | |
JP2006278577A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2011029677A5 (ja) | ||
JP2010183111A5 (ja) | ||
JP2013084672A (ja) | 多波長半導体レーザ装置及び多波長半導体レーザ装置の製造方法 | |
JP2021048234A (ja) | 半導体レーザ光源装置 | |
JP5194049B2 (ja) | 半導体レーザ装置および光装置 | |
JP2002232063A (ja) | 半導体レーザ装置及び光ピックアップ装置 | |
JP2007115724A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2005039105A (ja) | 2波長半導体レーザ装置 | |
JPH05102614A (ja) | 光電子装置 | |
JP2010056185A (ja) | 半導体レーザ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061204 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100308 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100316 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100514 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100803 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100831 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130910 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |