JP4528044B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
なお、複数のポートを有するレジスタファイルに関しては、例えば特許文献1に開示された技術がある。
また、フリップフロップ回路を備えるレジスタファイルでは、書込用ビット線対の電圧レベルは(Hレベル,Lレベル)又は(Lレベル,Hレベル)のいずれかの状態になっている。このため、データを書き込む場合、書き込むデータの電圧レベルの状態に応じて、この状態を反転させた後、書込用ワード線にパルスが入力されてHレベルとされ、フリップフロップ回路へのデータの書き込みが行なわれるようになっている。
本発明は、このような課題に鑑み創案されたもので、書込用ビット線対に供給される電圧を反転させてフリップフロップ回路にデータを書き込む場合に、書込用ビット線を流れる電流波形のピークを鈍らせて、電源ノイズを低減させ、ひいては低消費電力化を図ることができるようにした、半導体装置を提供することを目的とする。
(第1実施形態)
まず、本発明の第1実施形態にかかる半導体装置の構成について、図1〜図3を参照しながら説明する。
本実施形態にかかる半導体装置[例えばCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)デバイス]は、例えばレジスタファイル(RF)やキャッシュメモリなどのSRAM(Static Random Access Memory)構造のメモリ(半導体記憶装置)に適用される。特に、書き込みポートや読み出しポートを複数有するマルチポートレジスタファイル(マルチポートメモリ)に適用するのが好ましい。
本レジスタファイルは、図1に示すように、データを保持するメモリセル1と、メモリセル1にデータを書き込むための2つの書込用ビット線対(WBLA,/WBLA),(WBLB,/WBLB)及び2つの書込用ワード線WL-WA,WL-WBと、メモリセル1からデータを読み出すための2つの読出用ビット線RBLA,RBLB及び2つの読出用ワード線WL-RA,WL-RBと、2つの書込用ビット線対(WBLA,/WBLA),(WBLB,/WBLB)にそれぞれ設けられる2つのデータ駆動用のライトバッファ2,3[図3(A),(B)参照]とを備えて構成される。
ここでは、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)及び書込用ワード線WL-WAを用いてデータを書き込む場合を例に説明する。
まず、データを書き込む場合、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の電圧レベルは(Hレベル,Lレベル)又は(Lレベル,Hレベル)のいずれかの状態になっている。このため、書き込むデータの電圧レベルの状態に応じて、この状態を反転させる。ここでは、図2中、実線で示すように、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の電圧レベルは(Hレベル,Lレベル)の状態になっており、書き込むデータの電圧レベルが(Lレベル,Hレベル)であるため、この状態を反転させて、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の電圧レベルを(Lレベル,Hレベル)とする。
これにより、フリップフロップ回路4へのデータの書き込みが行なわれることになる。ここでは、フリップフロップ回路4に書き込まれたデータは、内部ノードAの電圧として読み出すようになっているため、図1に示すように、読出用ビット線RBLA,RBLBが内部ノードAに接続されている。内部ノードをデータ読出用ノードともいう。
この場合、電流ピーク波形を鈍らせるために、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)に供給される電圧の立ち上がり/立ち下がり(rise-fall)を鈍らせるのが望ましい。つまり、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)に供給される電圧を反転させてフリップフロップ回路4にデータを書き込む場合に、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)に供給される電圧のスルーレート[電圧の立ち上がり/立ち下がりの変化率であり、立ち上がり波形/立ち下がり波形の傾きの大きさ(絶対値)で示す]を所定値以下に小さくするのが望ましい。なお、所定値は、電源ノイズの原因にならない程度に電流ピーク波形を所望の値以下に小さくできるように設定すれば良い。
つまり、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の電圧レベルを(Lレベル,Hレベル)の状態にしてフリップフロップ回路4にデータを書き込む場合、即ち、内部ノードAの電圧をHレベルにする場合、図2に示すように、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の一方のビット線/WBLAに設けられるライトバッファ2の駆動能力によって、しきい値電圧VTHまでは速やかに上昇させることができるが、トランスファーゲートがNチャネル型トランジスタTr1であるため、それ以上に電圧レベルを高めることができない。
例えば、フリップフロップ回路4が2つのCMOSインバータにより構成されている場合には、内部ノードAの電圧は、CMOSインバータを構成するPチャネル型トランジスタ(負荷トランジスタ;例えばPMOS)の駆動能力によって高められることになる。
このように、上述のように構成されるレジスタファイルでは、内部ノードAの電圧は、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の一方のビット線/WBLAに設けられるライトバッファ2の駆動能力によってしきい値電圧VTHまでは速やかに上昇し、その後、Pチャネル型トランジスタの駆動能力によって徐々に高められることになる。
なお、Pチャネル型トランジスタに代えて抵抗を用いる高抵抗負荷型メモリセルの場合には、内部ノードAの電圧をHレベルまで高めるのにさらに時間がかかることになるため、よりマージンが小さくなる。また、本実施形態のように、読出用バッファ5が設けられている場合には、この読出用バッファ5が書き込みの際に負荷になり、内部ノードAの電圧をHレベルまで高めるための時間に影響を与え、よりマージンが小さくなることが考えられる。
そこで、本実施形態では、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の電圧レベルを(Hレベル,Lレベル)の状態にしてフリップフロップ回路4にデータを書き込む場合、即ち、内部ノードAの電圧をLレベルにする場合、図2中、実線で示すように、書込用ビット線/WBLAに供給される電圧の立ち下がり波形、及び、書込用ビット線WBLAに供給される電圧の立ち上がり波形をいずれも鈍らせるようにしている。つまり、書込用ビット線/WBLAに供給される電圧の立ち下がり波形のスルーレート、及び、書込用ビット線WBLAに供給される電圧の立ち上がり波形のスルーレートをいずれも所定値以下に小さくしている。
このように、本実施形態では、フリップフロップ回路4にHレベルのデータを書き込む場合、即ち、内部ノードAの電圧をHレベルにする場合に、図2中、実線で示すように、プルアップさせる(電圧を上げる側の)書込用ビット線/WBLAに供給される電圧の立ち上がり波形に対して、プルダウンさせる(電圧を下げる側の)書込用ビット線WBLAに供給される電圧の立ち下がり波形を鈍らせるようにしている。つまり、プルアップさせる書込用ビット線/WBLAに供給される電圧の立ち上がり波形のスルーレート(傾きの大きさ;絶対値)に対して、プルダウンさせる書込用ビット線WBLAに供給される電圧の立ち下がり波形のスルーレートを小さくしている。
つまり、本実施形態では、図3(A),(B)に示すように、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)に設けられるライトバッファ(駆動バッファ,バッファ回路,駆動回路;ここでは2つのCMOSインバータにより構成される)2,3のサイズを所定サイズ以下に小さくする(即ち、駆動能力を低下させる)ことで、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)に供給される電圧の立ち上がり波形/立ち下がり波形を鈍らせる、即ち、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)に供給される電圧の立ち上がり波形/立ち下がり波形のスルーレートを所定値以下に小さくしている。なお、所定サイズは、スルーレートを所定値以下にすることができるサイズとして設定される。
また、書込用ビット線/WBLAに設けられるライトバッファ2の電圧を上げる場合の駆動能力よりも、書込用ビット線/WBLAに設けられるライトバッファ2の電圧を下げる場合の駆動能力又は書込用ビット線WBLAに設けられるライトバッファ3の電圧を上げる場合の駆動能力が低くなるようにしている。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態にかかる半導体装置について、図4,図5を参照しながら説明する。
特に、本実施形態では、図4中、実線で示すように、フリップフロップ回路にHレベルのデータを書き込む場合に、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の電圧を上げる側(プルアップ側)の書込用ビット線/WBLAに供給される電圧の反転タイミングに対して、電圧を下げる側(プルダウン側)の書込用ビット線WBLAに供給される電圧の反転タイミングを遅らせるようにしている。
具体的には、以下のようにして、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の電圧を上げる側の書込用ビット線/WBLAに供給される電圧の反転タイミングに対して、電圧を下げる側の書込用ビット線WBLAに供給される電圧の反転タイミングを遅らせるようにしている。
本実施形態では、図5(B)の等価回路に示すように、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)にそれぞれ設けられるライトバッファ2′,3′を、いずれも所定サイズよりも大きくしている。つまり、ライトバッファ2′,3′を構成する後段のCMOSインバータINV5,INV6のPチャネル型トランジスタ(Pch)及びNチャネル型トランジスタ(Nch)のサイズを所定サイズよりも大きくし、プルアップ側及びプルダウン側の駆動能力が所定駆動能力よりも高くなるようにしている。
したがって、本実施形態にかかる半導体装置によれば、データの書き込みの際に、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の電圧レベルを反転させる動作を行なった場合に、図4中、実線で示すように、ビット線を流れる電流波形のピークを鈍らせることができ、これにより、電源ノイズを低減させることができるという利点がある。また、電流波形のピークを鈍らせることができるため、低消費電力化にも寄与することになる。特に、本実施形態のように、マルチポートレジスタファイルである場合には、複数の書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)が設けられることになるため、低消費電力化を図る上で効果が高い。なお、図4中、点線は反転タイミングをずらさない場合の電流波形のピークを示している。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態にかかる半導体装置について、図6,図7を参照しながら説明する。
つまり、フリップフロップ回路4にLレベルのデータを書き込む場合に、Hレベルのデータを書き込む場合の書込用ビット線/WBLAに供給される電圧の立ち上がり波形のスルーレートに対して、書込用ビット線/WBLAに供給される電圧の立ち下がり波形のスルーレートを小さくするようにしている。
したがって、本実施形態にかかる半導体装置によれば、データの書き込みの際に、書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)の電圧レベルを反転させる動作を行なった場合に、図6中、実線で示すように、ビット線を流れる電流波形のピークを鈍らせることができ、これにより、電源ノイズを低減させることができるという利点がある。また、電流波形のピークを鈍らせることができるため、低消費電力化にも寄与することになる。特に、本実施形態のように、マルチポートレジスタファイルである場合には、複数の書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)が設けられることになるため、低消費電力化を図る上で効果が高い。なお、図6中、点線は書込用ビット線対(WBLA,/WBLA)に供給される電圧の立ち上がり波形/立ち下がり波形を鈍らせない場合の電流波形のピークを示している。
例えば、上述の第3実施形態において、反転タイミングをずらす(遅らせる)方の書込用ビット線WBLAに供給される電圧(入力データ電圧)の立ち上がり波形/立ち下がり波形のスルーレートを、第1実施形態と同様に、所定値以下に小さくする(鈍らせる)ようにしても良い。
データを保持するフリップフロップ回路と、トランスファーゲートとを含むメモリセルと、
前記メモリセルにデータを書き込むための書込用ビット線対とを備え、
前記書込用ビット線対に供給される電圧を反転させて前記フリップフロップ回路にデータを書き込む場合に、前記書込用ビット線対に供給される電圧のスルーレートを所定値以下にするように構成されることを特徴とする、半導体装置。
前記トランスファーゲートが、Nチャネル型トランジスタであり、
前記フリップフロップ回路にHレベルのデータを書き込む場合に、前記書込用ビット線対のいずれか一方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち上がり波形のスルーレートに対して、他方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち下がり波形のスルーレートを小さくするように構成されることを特徴とする、付記1記載の半導体装置。
前記書込用ビット線対にはそれぞれバッファが設けられており、
前記一方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を上げる場合の駆動能力よりも、前記他方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を下げる場合の駆動能力が低くなるように構成されることを特徴とする、付記1又は2記載の半導体装置。
前記フリップフロップ回路にLレベルのデータを書き込む場合に、Hレベルのデータを書き込む場合の前記一方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち上がり波形のスルーレートに対して、前記一方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち下がり波形又は前記他方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち上がり波形のスルーレートを小さくするように構成されることを特徴とする、付記1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。
前記書込用ビット線対にはそれぞれバッファが設けられており、
前記一方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を上げる場合の駆動能力よりも、前記一方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を下げる場合の駆動能力又は前記他方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を上げる場合の駆動能力が低くなるように構成されることを特徴とする、付記4記載の半導体装置。
前記書込用ビット線対にはそれぞれバッファが設けられており、
前記書込用ビット線対のいずれか一方の書込用ビット線に設けられるバッファは、電圧を上げる側の駆動能力が所定駆動能力よりも高くなり、電圧を下げる側の駆動能力が所定駆動能力以下に小さくなるように構成され、
他方の書込用ビット線に設けられるバッファは、電圧を上げる側及び電圧を下げる側の駆動能力が所定駆動能力以下に小さくなるように構成されることを特徴とする、付記1記載の半導体装置。
前記書込用ビット線対に供給される電圧を反転させて前記フリップフロップ回路にデータを書き込む場合に、前記書込用ビット線対のいずれか一方の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングに対して、前記他方の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングをずらすように構成されることを特徴とする、付記1〜6のいずれか1項に記載の半導体装置。
データを保持するフリップフロップ回路と、トランスファーゲートとを含むメモリセルと、
前記メモリセルにデータを書き込むための書込用ビット線対とを備え、
前記書込用ビット線対に供給される電圧を反転させて前記フリップフロップ回路にデータを書き込む場合に、前記書込用ビット線対のいずれか一方の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングに対して、他方の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングをずらすように構成されることを特徴とする、半導体装置。
前記トランスファーゲートが、Nチャネル型トランジスタであり、
前記フリップフロップ回路にHレベルのデータを書き込む場合に、前記書込用ビット線対の電圧を上げる側の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングに対して、電圧を下げる側の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングを遅らせるように構成されることを特徴とする、付記8記載の半導体装置。
前記書込用ビット線対として、複数の書込用ビット線対を備えることを特徴とする、付記1〜9のいずれか1項に記載の半導体装置。
(付記11)
前記メモリセルからデータを読み出すための読出用ビット線を備え、
前記読出用ビット線にバッファを備えることを特徴とする、付記1〜10のいずれか1項に記載の半導体装置。
前記フリップフロップ回路が、2つのCMOSインバータをクロスカップルして構成されることを特徴とする、付記1〜11のいずれか1項に記載の半導体装置。
2,2′,3,3′ ライトバッファ
4 フリップフロップ回路
5 読出用バッファ
6 ディレイ用バッファ
A,B ノード
Tr1〜Tr6 トランジスタ
INV1〜INV9 インバータ
Claims (8)
- データを保持するフリップフロップ回路と、トランスファーゲートとを含むメモリセルと、
前記メモリセルにデータを書き込むための書込用ビット線対とを備え、
前記トランスファーゲートが、Nチャネル型トランジスタであり、
前記書込用ビット線対に供給される電圧を反転させて前記フリップフロップ回路にHレベルのデータを書き込む場合に、前記書込用ビット線対のいずれか一方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち上がり波形のスルーレートに対して、他方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち下がり波形のスルーレートを小さくするように構成されることを特徴とする、半導体装置。 - 前記書込用ビット線対にはそれぞれバッファが設けられており、
前記一方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を上げる場合の駆動能力よりも、前記他方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を下げる場合の駆動能力が低くなるように構成されることを特徴とする、請求項1記載の半導体装置。 - 前記フリップフロップ回路にLレベルのデータを書き込む場合に、Hレベルのデータを書き込む場合の前記一方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち上がり波形のスルーレートに対して、前記一方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち下がり波形又は前記他方の書込用ビット線に供給される電圧の立ち上がり波形のスルーレートを小さくするように構成されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 前記書込用ビット線対にはそれぞれバッファが設けられており、
前記一方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を上げる場合の駆動能力よりも、前記一方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を下げる場合の駆動能力又は前記他方の書込用ビット線に設けられるバッファの電圧を上げる場合の駆動能力が低くなるように構成されることを特徴とする、請求項3記載の半導体装置。 - データを保持するフリップフロップ回路と、トランスファーゲートとを含むメモリセルと、
前記メモリセルにデータを書き込むための書込用ビット線対とを備え、
前記書込用ビット線対に供給される電圧を反転させて前記フリップフロップ回路にデータを書き込む場合に、前記書込用ビット線対に供給される電圧のスルーレートを所定値以下にするように構成され、
前記書込用ビット線対にはそれぞれバッファが設けられており、
前記書込用ビット線対のいずれか一方の書込用ビット線に設けられるバッファは、電圧を上げる側の駆動能力が所定駆動能力よりも高くなり、電圧を下げる側の駆動能力が所定駆動能力以下に小さくなるように構成され、
他方の書込用ビット線に設けられるバッファは、電圧を上げる側及び電圧を下げる側の駆動能力が所定駆動能力以下に小さくなるように構成されることを特徴とする、半導体装置。 - 前記書込用ビット線対に供給される電圧を反転させて前記フリップフロップ回路にデータを書き込む場合に、前記書込用ビット線対のいずれか一方の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングに対して、前記他方の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングをずらすように構成されることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体装置。
- データを保持するフリップフロップ回路と、トランスファーゲートとを含むメモリセルと、
前記メモリセルにデータを書き込むための書込用ビット線対とを備え、
前記トランスファーゲートが、Nチャネル型トランジスタであり、
前記書込用ビット線対に供給される電圧を反転させて前記フリップフロップ回路にHレベルのデータを書き込む場合に、前記書込用ビット線対の電圧を上げる側の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングに対して、電圧を下げる側の書込用ビット線に供給される電圧の反転タイミングを遅らせるように構成されることを特徴とする、半導体装置。 - 前記メモリセルからデータを読み出すための読出用ビット線を備え、
前記読出用ビット線にバッファを備えることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置。
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