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JP4415941B2 - チップとそのチップを用いた装置およびその使用方法 - Google Patents

チップとそのチップを用いた装置およびその使用方法 Download PDF

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Description

本発明は、試料に対して所定の操作を施すチップとそのチップを用いた装置およびその使用方法に関する。
近年、試料の前処理・反応・分離・検出などの化学操作をマイクロチップ上で行うマイクロ化学分析(μ−TAS)が急速に発展しつつある。マイクロ化学分析によれば、使用する試料が微量ですみ、環境負荷も小さく高感度な分析が可能となる。
μ−TASをはじめとする化学分析や生化学分析に用いられるチップは、基板に形成された流路や反応槽等の流路内で試料に対して所定の操作を行うように構成されているが、流路では、試料の漏出や乾燥が生じやすいため、試料の損失や分析感度の低下を生じやすかった。
特許文献1には、溝を形成したプラスチック製の板状部材の表面にプラスチックフィルム製のシール部材を接合することにより、キャピラリー電気泳動用の微細な管が形成されたチップが記載されている。このように、流路が一部の開口を残して被覆され、開放できない構成のチップの場合、上述の乾燥や漏出に対しては有効であると考えられる。
ところが、チップに設けられた流路を被覆し、開放できない構成とすると、流路内の液体や成分に直接操作することが困難となる。このため、操作の選択肢が限定される傾向にあった。また、流路内の液体や成分をチップ上の他の領域に移動させるための操作が必要であった。
たとえば、試料中に含まれる成分の質量分析を実施するには、分離された成分を真空中あるいは大気中に露出させ、レーザービームを照射するなどして気化させる必要がある。ところが、被覆された分離用チップを用いて分離を行った場合、被覆が妨げとなるため、分離された成分を直接気化することは困難であった。このため、チップの流路内に存在する物質の質量分析を行う際には、ポンプ等の駆動手段を用いて測定対象の物質をチップ外に取り出す必要があった(非特許文献1)。
また、チップに設けられた流路が被覆されていると、流路内の試料を別の試料で置き換えたり、試料内の成分を外部から直接操作したりすることが困難であった。
特許文献2では、泳動バッファーを充填したリザーバを、剥離可能なシールで封止した電気泳動チップが提案されている。特許文献2のチップは、使用時に泳動用のリザーバや流路に泳動バッファーを隙間なく充填するという手間のかかる手順を省いて操作を迅速化することを目的としている。つまり、あらかじめ泳動用のリザーバや流路に泳動バッファーを充填してあり、さらにリザーバをシールで封止してあるチップが提供される。このチップにおいて、フィルムには、手動でその一部を基板からひき剥がすことができるよう、一部接着されていない部分が設けられている。そして、チップの使用時にリザーバを被覆しているフィルムを、この接着されていない部分からひき剥がして露出させ、リザーバを満たしている泳動バッファーをピペットにて直接除去し、泳動させたい試料液に置き換えることで試料の充填を可能にしている。
特開2003−4700号公報 特開2000−314719号公報 Daria Peterson、他4名、「A New Approach for Fabricating a Zero Dead Volume Electrospray Tip for Non−Aqueous Microchip CE−MS」、Micro Total Analysis Systems 2002、2002年、第2巻、p.691−693 M.Baba、他5名、「DNA size separation using artificially nanostructured matrix」、Applied Physics Letters、2003年、83巻、p.1468
しかし、従来のチップは、以下の点で改善を要していた。まず、チップに設けられた流路を開放状態にすることが困難であった。このため、流路内の試料を他の操作に供する場合、流路内の試料をチップ内外の所定の場所に移動させるための駆動手段が必要であった。そのため、チップを含めた装置構成が複雑であり製造コストが高くなることがあった。また、流路内の試料を移動させることにより、試料に対する処理の全工程の終了までに要する時間が長くなっていた。
また、特許文献2に記載のチップの場合、フィルムをひき剥がしてリザーバを開放する構成であるため、開放する際に、互いに接近したリザーバの場合には、リザーバ内の試料が混ざり合って汚染しあうことがあった。このため、リザーバの集積化が困難であった。
すなわち、フィルムを引きはがす際は、剥がれつつあるフィルムと基板との間に僅かな隙間が必ず生じる。この隙間による毛細管効果により、流路内の試料がフィルムと基板の界面に沿って漏れ出す。さらに熱融着や接着剤により強固に接着されたフィルムを剥がす際は、振動を生じる。この振動がもとで、流路中の溶液が飛散するため、やはり近傍の流路内の試料が混ざりあい、汚染してしまう。そのため、特に複数の流路が互いに接近している集積度の高いチップに対して流路を開放する場合には、特許文献2に記載の構成を適用するのが困難であった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、チップに形成された流路内の試料を汚染することなく、流路を開放する技術を提供することである。
本発明によれば、基板の表面に溝状に形成された流路と、前記流路を覆う除去可能な蓋と、を有することを特徴とするチップとそのチップを用いた装置およびその使用方法が提供される。
本発明において、「チップ」とは、導入された試料に対し所定の操作を行う機能が付与された基板と蓋のことをいう。試料は、流路内にあれば、流路の内容物となる。また、試料は液体あるいは溶液であってもよく、また試料中には1つ以上の成分が含まれていてもよい。また、流路の形状は、たとえばストライプ状とすることができる。本発明におけるチップは、たとえば、基板表面に流路溝が設けられ、この流路溝中に液体が流動するように構成することができる。試料は、毛細管現象等を利用して流路中を移動するようにしてもよいし、電界や圧力などの外力を付与することにより移動するようにしてもよい。試料を移動させることにより、試料に対し分離、分析等の所定の操作を施すことができる。
本発明のチップは、除去可能な蓋を有する。このため、蓋を除去する前においては、蓋が流路の上面を形成し、流路と流路外部とを区画することができる。このため、流路内の試料の蒸発や乾燥、試料の漏出、または外来物質の侵入を抑制しつつ、試料に対して所定の処理を施すことが可能となる。また、使用後においては、流路内の試料を安定的に保持しつつ、蓋を除去し、流路の上部を開放することができる。このため、開放する際に、流路内の試料が流路の外部に毛細管現象等によって漏出したり、流路内の試料が混和により汚染したりすることを抑制することができる。
なお、本明細書において、流路の「汚染」として、たとえば流路の内容物の乾燥や蒸発、試料の漏出、流路への外来物質の侵入、異なる流路内の試料に含まれる成分同士の混和、または電気泳動などにより一つの流路内で空間的に分離されていた成分同士の混和等が挙げられる。
また、流路の開放時に生じる流路内の試料の汚染には、一つの流路中の所定の範囲にとどまっていた試料が、流路中を大きく移動し、分離されていた成分同士が混和する場合、または、基板に複数の流路が設けられており、これらの流路内の試料が互いに混和する場合が考えられる。本発明のチップでは、これらの汚染を抑制することができる。本発明のチップによれば、試料を汚染せずに流路を開放することができるため、流路内の微小空間内の任意の領域に存在する試料に直接操作を加えることが可能となる。よって、迅速で確実な操作が可能となる。
また、本発明のチップにおいては、基板の表面上に溝状に形成された流路と、前記蓋が前記流路を覆う構成となっている。溝状に形成された流路を覆う蓋を設けることにより、これらの流路内の試料に対して所定の操作を安定的に施すことができる。また、蓋を基板の表面から除去する際に、流路内の試料が基板と蓋との隙間から毛細管現象により移動し、流路中で分離されていた試料中の成分が混和してしまわないようにすることができる。また、流路内の試料を流路の出口から順次他の処理場に運搬する必要がなく、流路中の所定の領域に存在する試料に対し、所定の操作を施すことができる。また、試料に対し、連続的な処理が可能となる。
本発明のチップにおいて、前記蓋は、板状部材からなってもよい。また、前記蓋を板状の蓋とすることができる。こうすることにより、流路の上部を確実に被覆することができる、試料の乾燥または漏出を抑制することができる。
本発明によれば、前記チップの使用方法であって、前記基板と前記蓋とを当接させた状態で、前記蓋の表面に垂直な方向に圧力を付与することを特徴とするチップの使用方法が提供される。この方法によれば、基板の表面に溝状に形成された流路を蓋によりさらに確実に被覆することができる。また、流路の上部を開放させる際には、圧力を解除し、容易に前記蓋を前記基板より除去することができる。なお、基板の表面に蓋を圧接する手段は、たとえばねじ、油圧装置、水圧装置、または気圧装置とすることができる。こうすることにより、基板と蓋とが密着した状態で固定することができる。
本発明のチップにおいて、前記基板と接触する前記蓋の表面が疎水性または撥水性の材料により構成されてもよい。また、本発明のチップにおいて、前記蓋の表面の前記基板と接触する部分もしくは全面が疎水性または撥水性であってもよい。また、本発明のチップにおいて、前記流路を形成する溝の壁面もしくは前記蓋の表面または前記壁面と前記蓋の前記表面との両方が疎水性または撥水性であってもよい。こうすることにより、流路内の試料が蓋の表面に移動することが抑制される。このため、蓋を除去する際の流路内の試料の汚染を確実に抑制することができる。
本発明のチップにおいて、前記基板の前記流路が形成された表面が疎水化または撥水化された構成とすることができる。こうすることにより、流路の試料が基板の表面に移動することが抑制される。このため、蓋を除去する際の流路内の試料の汚染を確実に抑制することができる。
本発明のチップにおいて、前記蓋の少なくとも一部が弾性材料により構成されてもよい。こうすることにより、蓋を基板表面にさらに確実に密着させることができる。このため、流路をさらに確実に被覆することができる。この構成において、前記弾性材料は、前記基板と密着し、粘弾性を備えていることができる。こうすれば、蓋と基板との密着性をさらに向上させることができる。
本発明のチップにおいて、前記基板は複数の前記流路を有し、前記基板または前記蓋に、混入防止剤が設けられてもよい。こうすることにより、蓋を基板から脱離させる際に、基板と蓋との間隙を流路中の水系溶媒が一の流路から毛細管現象により移動し、他の流路に混入しないようにすることができる。このため、これらの複数の流路内の試料の混和を抑制することができる。よって、流路の汚染を防止することができる。たとえば、本発明のチップにおいて、前記基板または前記蓋の表面に、前記混入防止剤を保持する溝部が設けられていてもよい。
本発明のチップにおいて、前記混入防止剤が油脂であってもよい。こうすることにより、水系の試料が流路から基板と蓋との間隙を経由して他の流路に混入しないようにすることができる。
本発明のチップにおいて、前記蓋は、前記基板の表面に吸着する吸盤部を有することができる。吸盤部を有する蓋を基板の表面に吸着させることにより、流路をさらに確実に被覆することができる。また、所望のタイミングで容易に除去することができる。
本発明のチップにおいて、前記基板と接触する前記蓋の表面に、疎水性または撥水性の接着剤が設けられてもよい。こうすることにより、さらに確実に流路を被覆することができる。
本発明のチップにおいて、前記流路の所定の位置を開口させるストリップ部を有してもよい。こうすることにより、流路内の試料の汚染をさらに確実に抑制することができる。このため、チップ中に流路を高集積で形成することが可能となる。本発明において、前記ストリップ部はテープ状とすることができる。こうすることにより、さらに容易に流路を開放することができる。また、前記ストリップ部は、前記基板に接合されていない領域を一部に有していてもよい。
また、前記ストリップ部は、前記シート中の複数の切込を外周とする領域とすることができる。また、この構成において、シートが配向性高分子の膜であって、切込が前記配向性高分子の配向方向に沿って設けられていてもよい。こうすれば、さらに容易にストリップ部を基板から剥離することができる。
本発明のチップにおいて、前記ストリップ部は、前記蓋の表面に接合された除去用フィルムを含み、前記除去用フィルムを剥離することにより前記開放部を開放するように構成されてもよい。こうすることにより、流路の所定の位置を容易に開放することができる。本発明において、前記除去用フィルムの外周の長手方向に沿って前記蓋に前記切込が設けられていてもよい。こうすることにより、さらに容易にストリップ部を基板から剥離することができる。
本発明のチップにおいて、前記ストリップ部は、前記流路の近傍において前記蓋に設けられ、前記ストリップ部は前記基板の熱収縮率よりも大きい熱収縮率を有する材料により構成されてもよい。こうすることにより、ストリップ部を加熱して蓋を破断させ、流路を開放することができる。また、ストリップ部の所定の位置を加熱することにより、開放される流路の位置を選択することができる。
また、本発明によれば、前記チップの使用方法であって、前記ストリップ部にレーザー光を照射することにより前記流路を開放することを特徴とするチップの使用方法が提供される。本発明によれば、レーザー光を照射することにより、基板の表面の所定の位置を選択的に加熱することができる。このため、ストリップ部を確実に加熱し、流路上部に設けられた蓋を除去することができる。
本発明のチップにおいて、前記基板または前記蓋がシリコーン樹脂により形成されてもよい。こうすることにより、基板と蓋とをさらに確実に密着させることができる。このため、流路内の試料の乾燥や漏出を確実に抑制することができる。また、蓋を除去する際に、基板または蓋の表面に流路内の試料が漏出することを抑制できる。このため、流路内の試料の汚染をさらに確実に抑制することができる。
本発明のチップにおいて、前記蓋は、シリコーン樹脂を含むシールであって、前記シールは、粘着力の低下が、−20℃以上30℃以下の温度範囲の粘着力の最高値の20%以内である使用温度範囲に、−20℃以上30℃以下の温度範囲を含んでもよい。こうすることにより、前記温度範囲内においては、基板と蓋とをより一層確実に密着させることができるとともに、前記温度範囲以下においては、蓋の除去をより一層容易な構成とすることができる。
本発明のチップにおいて、前記基板または前記蓋がアクリル樹脂により形成されてもよい。こうすることにより、基板と蓋とをさらに確実に密着させることができる。このため、流路内の試料の乾燥や漏出を確実に抑制することができる。また、蓋を除去する際に、基板または蓋の表面に流路内の試料が漏出することを抑制できる。このため、流路内の試料の汚染をさらに確実に抑制することができる。
本発明のチップにおいて、前記蓋は、アクリル樹脂を含むシールであって、前記シールは、粘着力の低下が、−20℃以上30℃以下の温度範囲の粘着力の最高値の20%以内である使用温度範囲に、−20℃以上30℃以下の温度範囲を含んでもよい。こうすることにより、前記温度範囲内においては、基板と蓋とをより一層確実に密着させることができるとともに、前記温度範囲以下においては、蓋の除去をより一層容易な構成とすることができる。
本発明のチップにおいて、前記基板の前記蓋との接触面または前記蓋の前記基板との接触面に導気溝が形成されてもよい。また、本発明のチップにおいて、前記基板の表面に少なくとも一部が外気に開放された導気溝を有する構成とすることができる。こうすれば、導気溝に気体を導入し、基板と蓋との界面に気体を流通させることができる。このため、蓋を気体の圧力によって基板の表面から容易に脱離させ、その際の流路内の試料の汚染を抑制することができる。また、前記蓋を前記基板に密着させるときに、空気抜きの穴として作用し、前記蓋と前期基板の間に気泡が残ることを防止することが出来る。
本発明のチップにおいて、前記基板の前記流路内の少なくとも前記蓋がある部分に、凸構造を設けたことを特徴とするチップであってもよい。こうすることにより、前記蓋のたわみにより、前記流路が潰れることを防ぐことができる。また、こうすることにより、前記蓋を除去する時、またそれ以降の実験手順において、前記流路内に試料を保持することができる。
本発明のチップにおいて、流路幅方向に80μm以下の間隔で1つ以上の前記凸構造が形成され、且つ流路長手方向に80μm以下の間隔で1つ以上の前記凸構造が形成され、且つ前記凸構造の上面が、前記蓋と接触している構造を特徴とするチップであってもよい。こうすることにより、前記蓋のたわみにより、前記流路が潰れることを確実に防ぐことができる。
本発明のチップにおいて、前記凸構造が、特に前記凸構造の中心間が20μm以内の間隔であるように形成されたことを特徴とするチップであってもよい。こうすることにより、前記蓋のたわみにより、前記流路が潰れることを、より確実に防ぐことができる。また、前記流路内の試料と前記凸構造との間の接触面積、ひいては摩擦抵抗を増大させることができる。このため、前記蓋を除去する時、またそれ以降の実験手順において、前記流路内に試料を保持することができる。
本発明のチップにおいて、前記凸構造が、凸構造の流路上面に垂直な面への投影面積の全周にわたる総和が、前記蓋が流路内の試料と接する表面積に対して0.5倍以上であるような構造であることを特徴とするチップであってもよい。凸構造の流路上面に垂直な面への投影面積の全周にわたる総和とは、たとえば凸構造の側面が上面に対する傾斜面あるいは垂直面である場合、その凸構造を流路上面に対して垂直な面へ投影した場合の、その投影面積を凸構造の外周に沿って積分した面積を、意味する。こうすることにより、前記蓋のたわみにより、前記流路が潰れることを、より確実に防ぐことができる。また、前記流路内の試料と前記凸構造との間の接触面積、ひいては摩擦抵抗を増大させることができる。このため、前記蓋を除去する時、またそれ以降の実験手順において、前記流路内に試料を保持することができる。
本発明のチップにおいて、前記凸構造が、流路上面の面積の0.06%より多い面積を前記凸構造の上面の面積がしめていることを特徴とするチップであってもよい。こうすることにより、前記凸構造が作製プロセスの容易な柱状構造であるときに、前記蓋のたわみにより、前記流路が潰れることを、より確実に防ぐことができる。また、前記流路内の試料と前記凸構造との間の接触面積、ひいては摩擦抵抗を増大させることができる。このため、前記蓋を除去する時、またそれ以降の実験手順において、前記流路内に試料を保持することができる。
本発明のチップにおいて、凸構造上面の面積が、凸構造底面の面積よりも大きい構造を特徴とするチップであってもよい。凸構造上面の面積が、凸構造底面の面積よりも大きい構造とは、逆テーパー形状、あるいはハンマーヘッド形状を含む。こうすることにより、前記蓋を除去する時、またそれ以降の実験手順において、前記流路内に試料を保持することができる。
本発明のチップにおいて、前記流路の側面が凹構造であることを特徴とするチップであってもよい。こうすることにより、前記蓋を除去する時、またそれ以降の実験手順において、前記流路内に試料を保持することができる。
本発明のチップにおいて、前記蓋が冷却により前記基板との密着状態を失う性質を有することを特徴とするチップであってもよい。こうすることにより、前記蓋を前記基板から除去するときに、前記蓋を冷却することによって、容易に蓋を除去することができる。さらに、流路と流路内の試料に前記蓋の成分が残留することで生じる汚染も防ぐことが出来る。また、冷却により、流路内の試料が凍結する場合においては、試料中の成分を分離した状態で、試料を固定することが出来る。このため、流路内の試料中の汚染を防ぎながら、容易に蓋を除去することが出来る。
本発明のチップにおいて、前記蓋は、前記流路を覆うように構成された隔壁と、前記流路内の試料と前記隔壁との間に形成された空間を満たす液体とを含んでもよい。こうすることにより、流路内の試料と蓋との間に空隙が生じないようにすることができる。このため、試料の漏出または乾燥をさらに確実に抑制することができる。
本発明のチップにおいて、前記液体の比重が前記流路内の試料の比重よりも小さくてもよい。こうすることにより、液体と試料との混和を抑制し、液体によって試料を確実に被覆することができる。
本発明のチップにおいて、前記液体の凝固点が前記流路内の試料の凝固点より低い構成とすることができる。こうすることにより、試料のみを選択的に凝固させることができる。このため、試料を固定化した状態で、液体を除去し、流路の上部を開放することが可能となる。
本発明によれば、内部に流路が形成され、表面に溝が設けられたチップであって、前記溝に沿って割断したとき、前記流路の一部が開放されるように構成されたことを特徴とするチップが提供される。
本発明のチップは、溝に沿って割断したときに流路の一部が開放されるように構成されているため、所望のタイミングでチップを割断し、流路を開放することができる。このため、流路内の試料に対して直接操作を加えることが可能となる。また、流路を開放する際の試料の汚染を抑制することができる。なお、流路を開放する位置または方向は、溝を設ける位置により適宜設計することができる。
本発明のチップにおいて、表面に流路が設けられた基板と、前記流路を覆う蓋と、を有し、前記溝が前記基板または前記蓋の少なくともいずれかに設けられてもよい。こうすることにより、切込に沿ってチップを割断し、基板の表面に形成された流路を切込側から露出させることができる。このため、微小空間を確実に開放し、試料に対して直接操作を加えることができる。また、表面に流路が設けられた基板と蓋とを別々に作製し、組み合わせて用いることができる。このため、チップの設計の自由度を高めることができる。また、チップを安定的に作製することができる。本発明において、前記切込は、たとえば前記流路が設けられた面に水平な面に設けることができる。
本発明のチップにおいて、前記蓋は、前記基板に接合されて前記流路を覆い、前記流路の形成方向に沿って、前記基板との非接触面から前記基板との接触面に向かう切込が前記非接触面に設けられ、前記切込に沿って割断したときに、前記流路が開放されるように構成されてもよい。こうすることにより、切込から蓋を割断した際にも、流路を容易に開放することができる。また、開放する際の流路の汚染を抑制することができる。
本発明のチップにおいて、前記切込が、前記流路の形成方向に沿って前記基板の底面にさらに設けられてもよい。こうすることにより、さらに小さい力で確実に基板および蓋を割断し、流路を開放することができる。
本発明において、前記流路内の試料を凍結膨張させて、前記蓋を前記切込から割断することができる。試料を凍結させることにより、外力を付与することなく、容易に流路を開放することができる。
本発明のチップにおいて、前記基板と接触する前記蓋の表面に多孔質層が設けられてもよい。こうすることにより、基板と蓋とを脱離させる際の流路内の試料の汚染を抑制する一方、基板の表面に垂直な方向に外力を付与した際には、流路の試料を多孔質層の空隙に確実に移動させ、蓋に転写することが可能となる。このため、流路内の試料を容易に流路の外部に取り出すことが可能となる。本発明のチップにおいて、基板の表面に垂直な方向に付与する外力は、たとえば電圧とすることができる。
本発明のチップにおいて、前記基板が多孔質材料により構成されてもよい。こうすることにより、基板に垂直な方向に気圧を付与し、流路内の試料を容易に蓋に移動させることができる。
本発明のチップにおいて、前記流路内の試料が凍結状態であってもよい。こうすることにより、流路内の試料中の成分の混和などの汚染を防ぐことが出来る。特に、流路内の試料に対して、分離などの処理を行い、試料中で空間的に分離されていた成分同士の混和を防ぐことが出来る。また、前記蓋を除去するときに、前記蓋と前記基板との間に生じる僅かな隙間にて試料が漏れ出すことを防ぐことが出来る。
本発明のチップを用いた装置において、前記チップと、前記流路内の試料を前記流路内で固定する機構とを、少なくとも備えた装置であってもよい。こうすることにより、流路内の試料を固定する作業が容易になる。
本発明のチップを用いた装置において、前記チップと、前記流路内の試料を前記流路内で固定する機構と、前記蓋により密閉された前記流路の内容物を含む領域を開放する機構を具備していることを特徴とする装置であってもよい。こうすることにより、流路内の試料を固定する作業と流路を開放する作業が容易になる。
本発明のチップを用いた装置において、前記チップと、前記流路内の試料を前記流路内で固定する機構と、前記蓋により密閉された前記流路内の試料を含む領域を開放する機構とを有し、且つ溶媒乾燥機構を具備していることを特徴とする装置であってもよい。こうすることにより、流路内の試料を固定する作業、流路を開放する作業、流路内の試料を乾燥させる作業が本装置によってなされるため、作業が容易になる。
本発明のチップを用いた装置において、前記チップと、前記流路内の試料を前記流路内で固定する機構とを有し、前記固定する機構が、前記流路内の試料の流動性を喪失させることによって固定化する機構であることを特徴とする装置であってもよい。こうすることにより、流路内の試料の流動性を喪失させることによって容易に固定することができ、作業が容易になる。
本発明のチップを用いた装置において、前記チップと、前記流路内の試料を前記流路内で固定する機構とを有し、前記固定する機構が、特に前記流路中の前記溶液を凍結するチップ冷却機構である装置であってもよい。こうすることにより、流路内の試料を凍結させて、流路内の試料の流動性を喪失させることができる。このため、固定のための作業が容易になる。
本発明のチップを用いた装置において、前記チップと、前記流路内の試料を前記流路内で固定する機構と、前記蓋により密閉された前記内の試料を含む領域を開放する機構とを有し、且つ溶媒乾燥機構を具備しており、前記溶媒乾燥機構が、特に密閉槽と溶媒が昇華可能な圧力まで前記密閉槽内を減圧する機構からなる装置であってもよい。こうすることにより、流路内の試料を固定し、流路を開放した状態で、流路内の試料の溶媒を昇華させる作業が容易になる。
本発明のチップを用いた装置において、前記チップと、前記流路内の試料を前記流路内で固定する機構と、前記蓋により密閉された前記流路内の試料を含む領域を開放する機構とを有し、且つ溶媒乾燥機構を具備しており、前記溶媒乾燥機構が、特に溶媒が蒸発可能な温度まで前記チップを加熱する機構からなることを特徴とする装置であってもよい。こうすることにより、流路内の試料を固定し、流路を開放した状態で、流路内の試料の溶媒を蒸発させる作業が容易になる。
本発明によれば、前記チップの使用方法であって、前記流路内の試料を固定化した後、前記流路を開放することを特徴とするチップの使用方法が提供される。こうすることにより、蓋を基板から脱離させる際の、微小空間の試料の運動を抑制することができる。このため、試料の汚染をさらに好適に抑制することができる。また、本発明において、基板の表面に溝状に形成された流路と、前記流路を覆う除去可能な蓋を有し、前記流路を被覆した状態で、前記流路の試料を固定化した後、前記流路を開放してもよい。
本発明のチップの使用方法において、前記流路内の試料を凍結させることにより固定化してもよい。こうすることにより、流路内の試料を容易に不動化することができる。このため、試料の汚染を容易に抑制することができる。
なお、本発明に係るチップにおいて、流路内の試料に所定の操作を加える際には、外力の付与によりその機能を果たす形態とすることもできるが、試料の流動にしたがって自動的に所定成分の移動が生じる構成とすることが好ましい。こうすれば、外部の駆動装置を用いることなくチップ自体の構成によって、試料の分離や分析等の操作を実行することができる。こうした構成は、液体を移動させる駆動力として毛細管現象等を利用することにより実現できる。
本発明によれば、前記チップの使用方法であって、前記流路を開放した後に、前記流路内の試料を自然乾燥させることを特徴とするチップの使用方法が提供される。この構成によれば、流路内の試料を汚染することなく乾燥することができるため、チップの取り扱い性が向上する。
本発明によれば、前記チップの使用方法であって、前記流路を開放した後に、前記流路内の試料を凍結乾燥させることを特徴とするチップの使用方法が提供される。この構成によれば、流路内の試料が大量である場合でも、試料を汚染することなく乾燥することができるため、チップの取り扱い性が向上する。
本発明のチップの使用方法において、基板の表面に垂直な方向に外力を付与した際には、流路内の試料を多孔質層の空隙に確実に移動させ、蓋に転写することが可能となる。こうすることにより、流路内の試料を容易に不動化することができる。このため、試料の汚染を容易に抑制することができる。また、流路内の試料を容易に流路の外部に取り出すことが可能となる。
以上説明したように、本発明によれば、チップに形成された流路内の試料を汚染することなく、流路を開放する技術が実現される。
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
本実施形態に係るチップの構成部品を示す上面図である。 本実施形態に係るチップの構成部品を示す上面図である。 本実施形態に係るチップの構成部品を示す上面図である。 本実施形態に係るチップの構成を示す断面図である。 本実施形態に係るチップを固定装置に固定した状態を示す斜視図である。 図5のB−B’断面図である。 本実施形態に係るチップを固定装置に固定した状態を示す断面図である。 本実施形態に係るチップおよび固定装置の台を組み立てた状態を示す上面図である。 本実施形態に係るチップを固定装置に固定した様子を示す断面図である。 本実施形態に係るチップのフタの構成を示す上面図である。 本実施形態に係るチップの構成を示す断面図である。 本実施形態に係るチップの構成を示す断面図である。 本実施形態に係るチップの構成を示す上面図である。 図13のC−C’断面図である。 本実施形態に係るチップの構成を示す上面図である。 図15のC−C’断面図である。 図15のC−C’断面図である。 本実施形態に係るチップの構成を示す上面図である。 図18のA−A’断面図である。 本実施形態に係るチップの構成を示す上面図である。 本実施形態に係るチップの構成部品を示す上面図である。 本実施形態に係るチップの構成部品を示す上面図である。 本実施形態に係るチップの使用手順を説明するための断面図である。 本実施形態に係るチップの使用手順を説明するための断面図である。 本実施形態に係るチップの使用手順を説明するための断面図である。 本実施形態に係るチップの使用手順を説明するための断面図である。 本実施形態に係るチップへのサンプル導入方法を模式的に示す断面図である。 本実施形態に係るチップの使用手順を説明するための断面図である。 本実施形態に係るチップの使用手順を説明するための断面図である。 本実施形態に係るチップの使用手順を説明するための断面図である。 本実施形態に係るチップの使用手順を説明するための断面図である。 本実施形態のチップの構成部品を示す上面図である。 本実施形態のチップの構成部品を示す上面図である。 本実施形態に係るチップの構成を示す断面図である。 本実施形態のチップの流路の構成を示す斜視図である。 本実施形態のチップの流路の構成を示す断面図である。 本実施形態のチップの流路の構成を示す平面図である。 本実施形態のチップの基板の構成を示す平面図である。 本実施形態に係るチップの構成を示す断面図である。 本実施形態に係る凍結乾燥用アタッチメントの構成を示す断面図である。 実施形態に係るチップの構成を示す断面図である。 本実施形態に係るチップの凍結乾燥装置を示す図である。 図42に示した凍結乾燥装置の乾燥室とチップ台の構造を示す図である。 図42に示した凍結乾燥装置の乾燥フィルタの構造を示す図である。 図42に示し凍結乾燥装置のヒータユニットの構造を示す図である。 実施例に係る等電点分離後のタンパク質のフォトンカウントの結果を示す図である。 実施例に係る等電点分離および凍結乾燥後のタンパク質のフォトンカウントの結果を示す図である。 本実施形態に係るチップを用いた装置の構成を示す図である。 本実施形態に係るチップを用いた装置の構成を示す図である。
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、共通の構成要素には同じ符号を付し、適宜説明を省略する。
本発明において、チップは流路を有し、流路は開放可能である。また、流路を開放した際の流路内の試料の汚染が抑制される構成となっている。以下、本発明のチップにおいて、流路が、基板の表面に設けられた流路溝である場合を例に説明する。基板の表面に溝が形成されている態様において、流路の用途は流路に限定されない。たとえば、流路は試料に対して所定の反応を行う反応槽や、試料中の成分の検出を行う検出槽などの液溜めであってもよいし、その他の態様であってもよい。また、溝状の流路の一部に拡張領域が設けられていてもよい。このとき、拡張領域を上記の反応槽や検出槽とし、それ以外を流路とすることもできる。
本発明のチップは、試料中の成分の分離、分析、分注、希釈等種々の操作に適用可能であるが、以下においては、特に示さない限り、チップ中の流路で試料中の成分の分離を行う場合を例に説明する。以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。また、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
(第1の実施形態)
本実施形態は、基板の表面に設けられた流路を被覆するフタが基板表面に装着されるチップに関する。図1〜図3は、本実施形態のチップの構成部品を示す上面図である。図4は、図1〜図3のA−A’断面図であり、本実施形態のチップ112を組み立てた状態を示す図である。図5は本実施形態のチップ112を固定装置に固定した様子を示す斜視図であり、図6は図5のB−B’断面図である。図48は、本実施の形態のチップを用いた装置の図である。図49は、本実施の形態のチップを用いた装置の図である。以下、図1〜図6、図48、図49を用いて本実施形態のチップについて説明する。
図4に示すように、チップ112は、基板103およびフタ113を含む。フタ113は、樹脂層102および板状フタ101を含み、これらは接合されていてもよい。また、板状フタ101が樹脂であり、樹脂層102であってもよい。板状フタ101、樹脂層102、および基板103の大きさは同程度とすることができる。
図3に示すように、基板103に流路107aおよび流路107bが形成され、これらの流路の両端には、それぞれリザーバ105aおよび105b、105cおよび105dが形成されている。ここで、流路107aおよび流路107bは上述の流路に相当する。ここでは、流路107aを投入用流路とし、流路107bを分離用流路とする。基板103の材料として、たとえば石英もしくはガラス、シリコン等の微細加工しやすい材料が好適に用いられる。
図1および図2に示すように、板状フタ101と樹脂層102には、基板103に設けられたリザーバ105a、リザーバ105b、リザーバ105c、リザーバ105dに対応する位置に、これらのそれぞれと同程度の大きさを有する穴115a、穴115b、穴115c、および穴115dが設けられている。これらの穴115a〜115dを介して、基板103上の流路107a、流路107bに泳動バッファーを導入することができる。また、電気泳動用の電極を設置する。
なお、穴115a〜穴115dの内径に等しい外径の管110をそれぞれの穴に設けてもよい。管110を設けることにより、管110の長さを調節して穴115a〜穴115dの深さを容易に調節することができる。たとえば、管110を板状フタ101の上面よりも突出させることにより、穴115a〜穴115dを充分深くすることができる。このため、電気泳動の際に、穴115a〜穴115dの中の液体の乾燥を抑制し、電極間に確実に電圧を印加することができる。
板状フタ101の材料としては、たとえば石英、ガラス、PMMA(ポリメチルメタクリレート)などのアクリル樹脂、PDMS(ポリジメチルシロキサン)等のシリコーン樹脂など、丈夫で平坦に加工しやすい性質の材料や、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、PP(ポリプロピレン)、PE(ポリエチレン)、ポリ塩化ビニルなどのポリオレフィン、またはポリエステルなどが好適に用いられる。また、樹脂層102の材料としては、たとえば、PDMSや、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、PP(ポリプロピレン)、PE(ポリエチレン)、ポリ塩化ビニルなどのポリオレフィン、アクリル樹脂、またはポリエステルなどが用いられる。樹脂層102として、多少の弾性変形を許す材料を用いることが好ましい。弾性変形を有する材料とすることにより、板状フタ101を基板103の表面に圧接させて、樹脂層102を基板103の表面に確実に密着させることができる。また、樹脂層102は、たとえばPTFE等のフッ素系樹脂などの撥水性、撥油性を有する材料が好適に用いられる。また、樹脂層102は、主な部分を他の材料とし、その表面にPTFEなどによる撥水または撥油処理を施してもよい。
チップ112の作製は、たとえば次のようにして行う。基板103に溝を形成し、流路107aおよび流路107bとする。また、これらの流路に連通するリザーバ105a〜リザーバ105dを形成する。これらの形成は、基板103としてプラスチック材料を用いる場合、エッチングやエンボス成形等の金型を用いたプレス成形、射出成形、光硬化による形成等、基板103の材料の種類に適した方法で行うことができる。流路107aおよび流路107bの幅は、流路中で試料に施す操作に応じて適宜設定される。たとえば、細胞の液状分画成分(細胞質)のうち、高分子量成分(DNA、RNA、タンパク質、糖鎖)の抽出を行う場合、5μm〜1000μm、とすることができる。また、板状フタ101と樹脂層102とを接合する場合、これらの固定はたとえば接着剤を用いた接着や、熱融着等によることができる。得られたフタ113に、穴115a〜穴115dを形成する。
図5および図6に示したように、本実施形態のチップ112は、固定装置111に固定して用いてもよい。固定装置111は、押さえ板104、基板103を設置する台108および押さえ板104を押しつける圧力を調整可能なねじ106を有する。
固定装置111の材料として、アルミニウム、ステンレススチール(SUS)、チタン等、強度の高い材料が好適に用いられる。また、固定装置111に適用するチップ112が電気泳動用チップである場合、固定装置111の表面をエポキシ樹脂などの絶縁性材料で被覆することができる。
固定装置111を用いると、チップ112のフタ113を基板103上に固定することができる。このとき、フタ113を基板103に押しつけて固定するため、これらを密着させ、流路107aおよび流路107bを被覆した状態で安定に、流路から試料が漏れることなく固定することができる。
次に、本実施形態のチップ112の使用方法について説明する。まず、基板103上の流路107a、流路107bを被覆するために、基板103にリザーバ105a〜リザーバ105dの位置を合わせながらフタ113を載せて台108に設置する。次に図6に示したように、フタ113の一部を、押さえ板104で押さえ、ねじ106を回し下げることで、フタ113を基板103に押しつけてゆく。樹脂層102が多少変形し、流路107aおよび流路107bがフタ113により隙間なく完全に被覆されるまでねじ106を回し下げる。こうして、基板103上にフタ113が固定される。
また、流路107aおよび流路107bを開放する際は、固定装置111のねじ106を回し上げることで、フタ113を基板103に押しつける圧力を解除し、押さえ板104とともにフタ113を取り除く。基板103とフタ113との間に狭い隙間が生じた場合にも、樹脂層102をPTFE系樹脂やPDMSなどの疎水性の材料とすることにより、隙間で起こる毛細管現象を抑制し、流路の内部の液体の汚染を避けることができる。
このように、本実施形態のチップ112を固定装置111と組み合わせて用いることにより、フタ113を基板103上に押しつけて固定することができる。このため、流路107aおよび流路107bを確実に被覆することができる。また、フタ113の表面を疎液性または撥液性の材料で構成することにより、試料のフタ113への付着を確実に抑制することができる。たとえば、フタ113の表面を疎水性または撥水性とすることができる。また、フタ113は基板103上から容易に除去することが可能であるため、流路107aまたは流路107b内の試料に対し、直接アプローチすることが可能となる。
なお、フタ113において、板状フタ101と樹脂層102とが独立の部材であってもよい。
なお、固定装置111は、温度制御機能を備えていてもよい。温度制御機能としては、ペルチェなどを備えていてもよい。これにより、試料の分離において、分離性能の向上などを目的として温度制御が必要とされる場合に、固定装置111を用いることができる。チップ112を固定装置に装着し、分離に最適な温度で分離を行うことができる。
また、固定装置111は、流路107a、流路107b中で試料を固定するために用いることができる。例えば、固定装置111が、冷却機能を持つ場合には、流路107a、流路107b内で、試料を凍結させることができる。したがって、試料中の成分ごと、試料をその空間位置を固定することができる。
なお、流路107a、流路107b中の試料を固定するための装置は、図48の試料固定装置4000であってもよい。このため、固定装置111を、試料を固定するために用いるときには、試料固定装置4000でもある。また、試料固定装置4000は、フタ113を固定する機構は持たず、試料を固定する機構、たとえば試料を冷却する温度調整機構または冷却機構のみをもっていてもよい。
また、図48および図49に示したように、固定装置111はチップ112と共に密閉槽4007を具備していてもよい。特に、密閉槽4007内には、試料固定装置4000を配置していてもよく、試料固定装置4000は、チップ112のみ、あるいはチップ112と固定装置111と接していてもよい。
また、図48および図49に示したように、チップ112のみ、あるいはチップ112と固定装置111は、密閉槽4007に配置されていてもよい。特に、密閉槽4007内には、試料固定装置4000を配置していてもよく、試料固定装置4000は、チップ112のみ、あるいはチップ112と固定装置111と接していてもよい。
また、密閉槽4007には、真空引き用バルブ4005があり、真空引き用バルブ4005は、金属や樹脂製のチューブによって、真空ポンプ4006につながっていてもよい。これにより、密閉槽4007を真空状態にすることができる。また、密閉槽4007には、チップ112の電極と通じている導線を密閉槽4007外部に延長するコネクターがあり、このコネクターを通して外部の電源4001から、電極へ電圧を印加することができる。
また、密閉槽4007の外側あるいは内側に、試料中の成分の分離状態などをモニターするための測定機構4004があってもよい。測定機構4004の検出方法は、光学的な方法であってもよい。光学的検出としては、たとえば、あらかじめ試料中の成分に蛍光物質を結合させておき、流路107a、流路107bに沿ってレーザーを照射し、試料中の成分から発せられる蛍光を観測することによって行うことができる。このとき、たとえばX−Y自動ステージと蛍光顕微鏡とフォトマルチプライヤーとを組み合わせた蛍光測定システムを使って、測定をおこなってもよい。蛍光顕微鏡の台として、X−Y自動ステージを使用する。チップはX−Y自動ステージのステージ上に載せ、流路107a、流路107bに蛍光顕微鏡の光学系を通じて励起光を照射する。流路107a、流路107bの蛍光測定では、蛍光顕微鏡の光学系を通じてフォトマルチプライヤーにてフォトンカウントをおこなうことができる。
また、密閉槽4007は、基板103からフタ113を取り除くために用いられる図49の開放機構4002を備えていてもよい。開放機構4002は、さらにフタ113を取り除くための作業を行うロボットアーム4003を備えていてもよい。なお、開放機構は、これに限らず、真空ピンセットなどを備えていてもよい。このロボットアーム4003を用いて、フタ113を固定しているねじ106を外し、押さえ板104を取り除くことができる。
なお、図48および図49に示した構成については、第12の実施形態においても後述する。
図5、図6に戻り、チップ112に所定の流路やリザーバを設けることにより、分離、分析等所望の操作を試料と試料中の成分に施すことができる。たとえばチップ112を用いて電気泳動と質量分析を連続して行うことが可能である。この場合、まず、チップ112を固定装置111に装着し、流路107aおよび流路107bがフタ113により完全に被覆された状態で、リザーバ105a〜リザーバ105dのいずれかのリザーバから泳動バッファーを導入し、流路107aおよび流路107b内に泳動バッファーを充填する。
次に、流路107aのリザーバ105aに、泳動する試料を導入する。次いで、白金電極をリザーバ105a〜105dに挿入する。白金電極を介してリザーバ105aと105b間に電圧を印加すると、リザーバ105a内部の試料がリザーバ105bの方向へ流れだし、流路107aを満たす。この時点で、流路107aと流路107bとの交点には、流路107aと流路107bのそれぞれの流路幅程度の長さの辺をもった長方形状、つまり狭いバンド状になった試料が存在する状態になる。この状態で、リザーバ105cと105dとの間に電圧を印加し、流路107b内で試料中の成分を電気泳動により分離する。
固定装置111に備わった温度調節機構を用いて、電気泳動による分離が終了した後、試料と泳動バッファーとを冷却し、凍結してもよい。凍結することによって、分離された試料中の成分同士の混和を防ぐことができる。この段階では、チップ112は冷凍されており、流路107b中に、凍結した試料とその成分を、流路107a中に、凍結した泳動バッファーを、保持した状態である。
固定装置111に備わった温度調節機構により、流路内の試料と泳動バッファーとを凍結状態に保ったまま、開放機構4002のロボットアーム4003により、白金電極を外し、固定装置111のねじ106をゆるめ、押さえ板104およびフタ113を外し、流路107a、流路107bを開放状態にする。
引き続き、泳動後の試料中の成分について質量分析を行うが、基板103を冷却して試料を凍結したままでは、取り扱いが難しいため、試料中の溶媒を乾燥させることが望ましい。たとえば、凍結した試料は、そのまま固定装置111から離すと、温度が上昇することによって容易に融解してしまい、試料中の成分が拡散してしまう。よって、試料中の成分を分離したままで、試料中の溶媒を乾燥させる方法が必要となる。
試料がきわめて少量の場合には、基板103を、固定装置111に備わっている温度調節機能により基板103を加熱しただけで、汚染なく乾燥させることができる。
しかし、多くの場合、基板103を加熱しただけでは、凍結した試料において融解する部分と蒸発する部分ができてしまう。この状態の基板103上では、融解した試料部分が蒸発した試料部分の流路に流れ込む、または融解した試料部分内で混和する等の現象がおこり、分離された試料中の成分が拡散してしまう。この問題を解決するためには、凍結した試料を融解させず、その溶媒を昇華させればよい。
本実施形態においては、泳動後の試料をさらに凍結乾燥し、その溶媒を昇華させてもよい。
基板103のみ、あるいは基板103と固定装置111を共に密閉槽4007(図48、図49)内に配置してある場合には、基板103を、固定装置111の温度調節機構、あるいは試料固定装置4000の冷却機構により凍結したままで保つことができる。その後真空引き用バルブ4005を開き、真空ポンプ4006で密閉槽4007を真空状態にすることができる。これにより、流路107a、流路107b中の試料の溶媒を昇華させることができる。これにより、流路107a、流路107b中の試料の溶媒を昇華させ、その試料中の成分の位置関係を保ち、成分同士で混和させることなく、乾燥させることができる。
引き続き、電気泳動によって分離された後に乾燥した試料中の成分について質量分析を行う。流路107bの内部の成分を質量分析するには、板状フタ101を除去した基板103を、密閉槽4007内に配置されている場合は、その中から取り出して、マトリックスを添加し、乾燥させた後に、質量分析装置の真空チャンバーにセットし、レーザーが流路107bの上に照射されるよう照射部位を調節してからレーザー照射をすればよい。これにより試料に含まれていた成分の分子量を知ることができる。
なお、本実施形態において、以上の構成に加えて、さらに、板状フタ101を弾性体、たとえばシリコーン樹脂、ブタジエンゴムなどで構成し、得られた板状フタ101の基板103と密着する表面を、板状フタ101の中央付近で最も基板103に接近し、板状フタ101の辺縁部分で、基板103から最も離れるような形状に加工してもよい。このようにすれば、固定装置111の圧力を解除した際、弾性体がもとの形状に戻ろうとする力によって、フタ113をより円滑に除去することが可能になる。
以上の構成によれば、チップの流路を隙間なく被覆し、かつチップの流路内の溶液もしくは試料中の成分を汚染することなく、容易に開放することのできるチップとそのチップを用いた装置を得ることができる。
(第2の実施形態)
第1の実施形態に記載のチップ112を固定する固定装置は、上記構成に限定されず、たとえば加圧手段を油圧プレス装置等により行うこともできる。図7は、本実施形態に係るチップを固定装置に設置した様子を示す断面図である。図8は、チップにフタを載せる前の、チップと固定装置の台とを組み立てた状態を示す上面図である。
本実施形態のチップ212は、固定装置208に設置して用いる。固定装置208は、チップ212のフタを、その上面から基板の表面に押しつけて圧接できる構成となっている。チップ212は、基板201および板状フタ205を有する。基板201には、流路202とリザーバ203が形成されている。また、板状フタ205には、基板201のリザーバ203部分に、それと同程度のサイズの穴213が設けられている。たとえばチップ212を用いて電気泳動を行う場合、この穴213を介して、基板201上の流路202に泳動バッファーを導入し、電気泳動のための電極(不図示)を設置することができる。
基板201の形状および材料は、たとえば第1の実施形態と同様とすることができる。板状フタ205の材料は、第1の実施形態で示した固定装置111(図5)と同様に、石英板もしくはガラス板またはアクリル樹脂板等の丈夫で平坦に加工しやすい材料を用いることができる。また、基板201側の板状フタ205表面を、PTFE系樹脂等を用いて撥水性、撥油性に加工することで、より効果的に漏れを防止することができる。
固定装置208には、たとえば卓上型のサーボプレス装置や油圧プレス装置等を用いることができる。加圧ピストン204には、たとえば油圧ピストン、水圧ピストン、空気圧ピストン等が好適に用いられる。
チップ112中の流路すなわち流路202の上部の被覆は以下の手順で行うことができる。すなわち、基板201を台207に載せる。そして、基板201の上に板状フタ205を載せる。ついで、板状フタ205を加圧ピストン204で押さえ、下方向に加圧することにより固定する。また逆に、この加圧ピストン204の圧力を解除することで基板201からフタを外すことにより、流路202の上部を開放することができる。
本実施形態においても、基板201と板状フタ205とを当接させた状態で板状フタ205の上面から加圧することにより、流路202の上部を確実に被覆することができる。このため、流路202中の液体の蒸発を抑制することができる。また、加圧ピストン204の圧力を解除することにより、板状フタ205を基板201上から容易に除去することができる。このため、処理後の流路202中の液体を容易に取り出すことができる。
本実施形態のチップ212は、第1の実施形態と同様、分離、分析等の所望の操作に適用可能である。たとえば、チップ212を用いて電気泳動を行う場合、以下の手順で行うことができる。まず、固定装置208に基板201、板状フタ205をセットし、泳動バッファーが漏れないように加圧ピストン204により加圧し、板状フタ205を基板201上に固定する。これにより、流路202上部が被覆される。次に、第1の実施の形態の場合と同様に、穴213部分から泳動バッファーおよび試料を導入したのち、白金電極を穴213からリザーバ203に挿入し、電気泳動を行う。これにより、試料中の成分を分離することができる。電気泳動が終了した後、電極を外し、加圧ピストン204の圧力を解除し、板状フタ205を外す。
(第3の実施形態)
本実施形態は、流路を有するチップのフタを多孔質とする態様に関する。本実施形態では、チップ中の流路内の試料を多孔質内に転写可能に構成される。以下、多孔質体への転写を電圧印加により実現する場合を例に説明する。
図9は、本実施形態のチップを固定装置に固定した様子を示す断面図である。図9において、チップ312は、基板301およびフタ313を含む。基板301には流路302が設けられる。基板301に設けられた流路302は、フタ313により被覆されている。流路302は、たとえば流路や液溜め等とすることができる。基板301の材料として、たとえば(100)シリコン基板を用いることができる。また基板301には、白金、焼結炭素、等の伝導性材料を成型して用いてもよい。
フタ313は、押さえ板303の表面に多孔質層304が設けられた構成である。押さえ板303は導電性物質により構成することができる。たとえば、押さえ板303を、厚さ数mm程度の丈夫なステンレス、真鍮などの金属板とすることができる。
多孔質層304は、押さえ板303の下面に、ポーラスシリコンを堆積すること、またはシリカゲル粉末を塗布し焼結することで形成できる。多孔質層304の材料は、たとえばポーラスガラス、ポーラスシリコン等の多孔質材料とすることができる。また多孔質層304の厚さは、たとえば厚さ数十nm〜数百mm程度とすることができる。多孔質層304の材料が、ポーラスガラスのように親水性の場合、その表面にシリコーン処理などの疎水性処理を施すことで、流路302内の溶液が毛細管効果により多孔質層304中に進入することを防止することができる。また、多孔質層304を導電性のポーラスシリコンで形成する場合で、数ミリメートル〜数十ミリメートルと十分厚くできる場合等では、押さえ板303は省くことができる。チップ312を固定装置に設置し、フタ313の上面からこれを加圧することにより、流路302をフタ313で被覆することができる。
固定装置は、固定台306、押さえ板305、ねじ307、および電極310を有する。固定装置の基本構成は第1の実施形態で説明した固定装置と同様であるが、固定台306で、化学チップの底面が接触する部分には電極310が設けられており、チップ312を設置した際に電極310と押さえ板303との間に電圧を印加することができるように構成されている。電極310と押さえ板303との間に電源装置308からの電圧を印加することにより、フタ313の多孔質層304に流路302中の物質の転写が可能である。電圧の印加方向は、流路302内の物質の電荷によって異なる。物質が正の電荷を帯びている場合、電極310を正極に、押さえ板303を負極になるように電圧を印加する。また、負の電荷を帯びている場合は、上記と逆向きに電圧を印加する。
次に、試料中の成分として、SDS処理されたタンパク質をあげる。タンパク質をSDS処理して回収する処理を例に、チップ312の使用方法を説明する。まず、押さえ板303と多孔質層304からなるフタ313を基板301に載せ、押さえ板303を固定装置の押さえ板305で、図9のようにはさむ。そして、ねじ307を回し下げることにより、押さえ板303を基板301に押しつけ、流路302を被覆する。この状態で、タンパク質を含む試料とSDSを流路に導入し、固定装置ごとオーブンに入れ、100℃程度の温度で1時間程度加熱処理する。これを室温に戻した後、押さえ板303を正極、固定装置の底板に設置された電極310を負極として、たとえば1000V程度の直流電圧を30分程度印加する。これにより、SDSが吸着して負に帯電したタンパク質が、押さえ板303方向へと泳動され、多孔質層304の内部へと転写される。最後に、ねじ307を回し上げて押さえ板305の圧力を解除し、化学チップを固定装置から外し、フタ313を外す。その後、フタ313の多孔質層304面に転写固定されたSDS吸着タンパク質に対して、質量分析等の所望の処理を実施する。
以上により、チップ312上の流路302を取り外し可能なフタ313で被覆し、流路302内の試料あるいは試料中の成分を多孔質体のフタ313に転写することで、流路302内の試料の汚染を防ぎつつ、流路302を容易に開放することのできるチップ312が得られる。流路302中の物質が多孔質体に格納されることにより、電気泳動等で流路302内に生じた試料中の成分の空間位置が拡散で失われることを防ぎつつ、これを回収し、さらに急速に乾燥させることができる。
なお、以上においては、転写に電圧を利用したが、本実施形態のチップ312を使用する際に、試料の転写に空気圧を用いることもできる。その場合、押さえ板303を通気性の材料、たとえば、ポーラスガラスなどとする。また、この場合、押さえ板303は必ずしも伝導性材料である必要はなく、固定台306の底面に電極310を設置する必要もない。基板301も、押さえ板303と同様に通気性の材料、たとえば、ポーラスガラス等で構成する。その際、基板301と、多孔質層304の表面を疎水性処理しておくことで、フタ313を基板301から除去する際の汚染を抑制することができる。
空気圧を利用して物質を転写する場合、上記において電圧を印加して転写するかわりに、流路302の直上に吸引ポンプにつないだ耐圧チューブの端を設置する。これにより大気が基板301と多孔質層304、押さえ板303を介して吸引されるのに伴って、流路302内の溶液あるいは物質が多孔質層304内へと吸引され保持される。
(第4の実施形態)
本実施形態は、基板の表面に吸着するフタを有するチップに関する。以下、図10〜図12を参照して本実施形態のチップについて説明する。図10は本実施形態のフタの構造を示す平面図である。図11は、図10のフタが基板に吸着する前の状態を示す断面図である。図12は、図10のフタが基板に吸着した状態を示す断面図である。
図11および図12に示したように、チップ1012は、基板1001とフタ1004とを含む。基板1001には、流路1002およびリザーバ(不図示)が設けられている。
フタ1004は、流路1002を被覆するための被覆部1005と、吸盤効果を実現するための吸盤部1006、吸盤部1006への通気手段としてのつまみ1007からなる。被覆部1005は平坦な形状をしており、吸盤部1006は圧迫しない状態では基板1001から浮き上がった「くぼみ」を有し、そのくぼみの近傍に、つまみ1007が設けられている。吸盤部1006は、流路1002とリザーバ(不図示)以外の部分に形成されている。つまみ1007は、被覆部1005の縁端近傍に位置している。
被覆部1005には、基板1001のリザーバ(不図示)と同位置に、同等の大きさの穴1003が形成されている。吸盤部1006およびつまみ1007は、ゴムやPDMSなどの材料を用いて射出成型等によって被覆部1005と一体に成型することができる。
つぎに、チップ1012の使用方法について説明する。まず、基板1001に、リザーバと穴1003の位置が一致するようにフタ1004を載せる(図11)。次に、吸盤部1006を上から押さえ、被覆部1005を基板1001に吸着させる(図12)。このとき、流路1002の上部で被覆部1005を基板1001に向かって押しつけながら、空気を吸盤部1006よりも基板1001の外周側に逃がすようにして吸盤部1006を基板1001の表面に吸着させるとよい。こうすれば、流路1002の上部に被覆部1005を密着させることができる。
被覆部1005に開けられた穴1003から基板1001の流路1002に泳動バッファーおよびサンプルを導入し、電気泳動等の処理を行う。その後、つまみ1007を引き上げて、基板1001とフタ1004との間に隙間を形成する。こうすると、吸盤部1006へ空気を導入されるため、フタ1004を基板1001から分離させた後、フタ1004を除去して流路1002を開放する。
以上においては、つまみ1007の部分を引き上げることにより吸盤部1006に通気したが、他の通気手段を用いることもできる。たとえば、吸盤部1006を構成する樹脂を一部薄くしておき、フタ1004を除去する際には、この隔膜を針等で貫通して通気させることによって、フタ1004を基板1001から分離できる。
本実施形態では、弾性体からなるフタ1004にくぼみを設け吸盤として用いることにより、フタ1004で基板1001上の流路1002を確実に被覆し、また開放することができる。また、フタ1004におけるくぼみ部分の上面近傍で、基板1001の周縁部近傍に、くぼみ部分に空気を導入する通気手段を設けることにより、さらに容易にフタを脱着することができる。このため、固定装置を用いることなく、チップの流路を被覆し、かつ容易に開放することができる。
なお、本実施形態において、吸盤部1006のくぼみが、端が閉じた溝を要素とするパターンを成してもよい。こうすれば、くぼみ部分への空気の導入がさらに容易となる。このため、流路1002をより容易に開閉することができる。また、以上ではつまみ突起形状の通気手段を用いたが、通気手段はフタ1004の一部をなす貫通可能な隔膜としてもよい。こうすれば、穿刺等により隔膜を貫通させてくぼみ部分に空気を容易に導入することができる。このため、流路1002を容易に開放することができる。
(第5の実施形態)
本実施形態は、基板の流路を被覆する部分シールとシリコーン樹脂を有するチップに関する。以上の実施形態では、フタを基板から除去する際に、全面にわたって除去したが、本実施形態のチップでは、開放したい流路の近傍の部分のみで、フタを除去する。
図13および図14は、本実施形態に係るチップの構成を示す図である。図13はチップの上面図であり、図14はそのC−C’断面図である。
基板401には、流路として流路402とリザーバ403が設けられており、それらの流路はシール404で被覆されている。シール404には、基板401のリザーバ403と同位置に穴413が設けられており、さらに基板401の流路402の上部に位置するシール404上には、長方形のシール405が貼り付けられている。シール405においては、シール404の接着剤よりも強固な接着剤を使用する。また、その少なくとも片側には容易に剥離するきっかけとなるように、シール404の流路よりも長くし、一端を接着せずに遊離させた状態としておく。
シール404の材料として、たとえば、ポリエステル、ポリエチレン等の樹脂材料フィルムを用いることができる。また、シール404の材料として、高密度ポリエチレンのように一定の方向に裂けやすい性質の樹脂フィルムを用いることもできる。その場合、基板の流路402に沿ってシール404が裂ける方向に貼り付けることが好ましい。シール404は、たとえば接着剤で接着したり、熱融着したりすることにより、基板401に接合することができる。
また、フィルム状のシール405の材料としてシリコーン樹脂、たとえば、PDMS等を用いることができる。シリコーン樹脂の密着性により、基板の表面に設けられた流路を緻密に被覆することができ、さらにシリコーン樹脂の撥水性により、シール405を除去する際に生じる毛細管効果を抑制して、流路内の試料あるいは試料中の成分の汚染を防ぐことができる。さらにシリコーン樹脂の密着性による高い被覆効果は、基板401をシリコーン樹脂でつくることによっても実現できる。
本実施形態のチップを使用する場合、まず、基板401にシール404を接合する。この時、シール405が基板の流路402に重なるようにする。次に、リザーバ403から流路402に泳動バッファーおよび試料を導入する。続いて第1の実施形態と同様にして、白金電極をリザーバ403に挿入し、サンプルを電気泳動させ、成分を分離する。電気泳動が終了した後、必要があれば流路内の泳動バッファーおよび試料を凍結させるなどして分離後のパターンを不動化した後に、シール405を端から引き剥がすことによって流路402が開放される。
この構成により、特別な固定装置を用いることなく近傍の流路からの汚染を避けながら、チップの流路を被覆しかつ容易に開放することのできるチップが提供できる。
(第6の実施形態)
本実施形態の特徴は、フタと基板を接着した後、フタと基板の熱膨張率の違いを利用してフタを基板から剥がす点にある。図15は本実施形態に係るチップの構成を示す上面図である。図16および図17は、図15のC−C’断面図である。図16は、フタにより流路が被覆された状態を示し、図17は、被覆が除去された状態を示す。
本実施形態のチップは、基板501およびフタに相当する熱収縮樹脂のシールを有する。基板501には、流路として流路502とリザーバ(不図示)が設けられている。基板501の表面は、熱収縮樹脂シール504で被覆される。
熱収縮樹脂シール504には、基板501のリザーバ(不図示)と同位置に同程度のサイズの穴503が開けられている。熱収縮樹脂シール504は、図15に図解されるように伸展しつつ、基板501に熱融着する。
本実施形態のチップは以下のようにして使用する。まず、熱収縮樹脂シール504に開けられた穴503から流路502に泳動バッファーおよび試料を導入し、電気泳動を行う。その後、流路502を開放する際は、開口したい流路502の上部よりわずかに外側の位置に、流路502の延在方向にそってレーザーを照射する(図16)。その結果、進展されていた熱収縮樹脂シール504が収縮して破断され、図16で示されるように流路502の上部が開放される。
なお、本実施形態のフタに用いられる材料は、熱収縮樹脂に限らない。たとえば、膨張率の異なる樹脂、ガラスなどからなる板状フタを用いることができる。この場合、板状フタを基板501にたとえばエポキシ樹脂系等の接着剤により接着することができる。また、熱融着により接着してもよい。チップ全体を加熱、あるいは冷却すると、熱膨張、収縮率の差による応力がもとで、板状フタと基板501の界面にずれが生じ、接着が解除されることから、板状フタを除去できる。さらに、板状フタと基板501の接着部分を流路の近傍に限ることで、板状フタと基板501の離脱に必要な応力が、より小さくできることから、さらに容易に板状フタが除去できる。
以上の構成によれば、特別な固定装置を用いることなく、チップの流路を被覆し、かつ容易に開放することのできるチップが提供できる。
(第7の実施形態)
本実施形態のチップは、流路を開放するための切込を有する。切込は、これに沿って流路を開放可能に設けられている。ここでは、基板の表面に形成された流路内の溶液を固定化し、不動化した後に、チップを割断して流路を開放する場合を例に説明する。図18および図19は、本実施形態に係るチップの構成を示す図である。図18はチップの上面図であり、図19は、図18のA−A’断面図である。
本実施形態のチップは、基板601とフタ605とを有する。基板601の基本構成には、たとえば、以上の実施形態に記載のチップに用いる基板の構成を利用することができる。たとえば、基板103、201、および301と同様とすることができる。基板601上には、流路602とリザーバ603が設けられている。本実施形態では、基板601と完全に接着するフタ605を用いる。たとえば、基板601がシリコンの場合には、フタをパイレックス(登録商標)ガラスとし、これを静電接合することによって、完全に接着することができるが、接着方法はこれに限られない。フタ605には、基板601のリザーバ603に対応する位置に、穴(不図示)が設けられている。基板601、フタ605には、それぞれ図19のように流路602に沿ってダイシングソー等を用いて切込604および切込606を入れたものを使用する。
切込606の深さは、たとえばフタ605の厚さの1/4以上、好ましくは、フタ605の厚さの2/3以上とすることができる。こうすることにより、小さい力でフタ605を容易に割断することができる。また、切込606の深さは、たとえばフタ605の厚さの9/10以下、好ましくは、5/6以下とすることができる。こうすることにより、フタ605の強度を確保することができる。
以上の構成で、本実施の形態の装置の動作は次のように行う。フタ605に開けられた穴からリザーバ603を介して基板の流路602に泳動バッファーおよびサンプルを導入し、電気泳動を行う。次に、泳動バッファーを凍らせ、外力を加えることで、基板601の切込604とフタ605の切込606に沿って割断し、流路602を開口させる。凍結により流路すなわち流路602内の試料もしくは試料中の成分は、流路602内に固定されることから、汚染を防ぎながら流路を開放することができる。
本実施の形態では、流路内の試料を凍結させることにより固定化したが、さらに、溶液を他の方法で凝固させることも可能である。たとえば、熱により凝固するポリマー溶液、たとえば、メチルセルロース溶液、卵白アルブミン溶液を基質とする溶液を流路に充填しておき、チップ全体を加温することで、この溶液を凝固させることにより、固定化することも可能である。
本実施形態の構成によれば、チップに設けられた流路内の溶液もしくは物質を汚染することなく、容易に開放することのできるチップが提供できる。
なお、以上においては、基板601とフタ605の両方に切込606が設けられた構成を示したが、本実施形態のチップにおいては、基板601とフタ605のうち少なくとも一方に切込606が設けられていればよい。基板601とフタ605の両方に切込606を形成することにより、確実にチップを割断し、流路602を開放することができる。また、基板601の表面に垂直な方向にチップを割断し、流路602の測面を開放する場合を例に説明したが、流路602の上面を開放する切込606を設けてもよい。
また、フタ605が基板601表面から除去できないように接合した構成としたが、基板601の表面からフタ605を除去できるようにこれらが接合されていてもよい。このようにすれば、流路602の開放方法として、フタ605の除去またはチップの割断を適宜選択することが可能となる。このため、操作に応じて流路602の開放面を選択することが可能となる。よって、チップの使用に際して操作の自由度を増すことができる。また、基板601とフタ605とを別々の部材として有する場合に限らず、たとえばこれらが一体に形成されていてもよい。
(第8の実施形態)
図20〜図27は、本実施形態に係るチップの構成を示す図である。図20はチップの上面図、図21および図22はチップの構成部品の上面図である。また、図23〜26は、チップの使用手順を説明するための断面図である。図27は、チップへのサンプル導入方法を模式的に示す断面図である。
本実施形態のチップにおいて、基板701の基本構成には、たとえば以上の実施形態に記載のチップに用いる基板の構成を利用することができる。たとえば、基板103、201、および301と同様とすることができる。図21においては、基板701に流路703およびリザーバ702が設けられている。本実施形態では、フタとして、流路703中の液体よりも比重の小さい液体を用いる。また、液体のフタを基板701上に確実に設けるため、シール704と板状フタ705を使用する。シール704と板状フタ705のいずれについても、基板701のリザーバ702に対応する位置に、同程度の大きさ、形状の穴722が開けられている(図22)。さらに板状フタ705の、基板701側の表面には、両面接着型のスペーサー708をその全周に貼りつけてある。
図20および図23〜図26を用いて、本実施形態のチップを使用する方法について説明する。まず、基板701にシール704を貼り付けて図20に示した状態とする。そして、リザーバ702より泳動バッファーを導入し、流路703に充填する(図23)。次に、泳動バッファー707を凍結させてからシール704を剥がす(図24)。続いて、基板701に、スペーサー708を接着した板状フタ705を貼り付けて図25の状態にする。この段階で、流路703は泳動バッファー707で満たされるが、フタとの間に空間709を有する状態になる。続いて、この空間709を満たすようにオイル710を重層する(図26)。オイル710は、用途に応じて0℃近傍で不凍の物質や絶縁性の物質等を適宜使い分けることができる。たとえば、オイル710として凝固点が−100℃以上−20℃以下の物質を用いてもよい。こうすれば、オイル710を凍結させずに、流路703中の液体のみを凍結させた状態とすることができる。このため、流路703内の試料を凍結させた状態で、流路703の上部をオイル710で確実に被覆することができる。
以上の過程を経ることにより、試料および白金電極を導入する準備が整う。本実施の形態では、試料は、サンプルあるいは生体サンプルとして説明する。泳動バッファー707を溶解した後に、リザーバ702からサンプルを導入する。図27に示したように、サンプル712は、板状フタ705に設けられた穴722からピペット711をリザーバ702のひとつに挿入して充填する。このとき、重層されたオイル710の層を突き抜けて泳動バッファー707に直接注入する。次に白金電極をリザーバ702に挿入し、サンプルを電気泳動により成分分離する。電気泳動が終了した後、電極を外し、必要があれば流路内の泳動バッファー707を凍らせるなどして、分離パターンが乱れないようにしてから、スペーサー708と板状フタ705を除去させ、流路703を開口させる。フタとして用いた不要なオイル710は、窒素ガスで吹き飛ばすなどして取り除くことができる。
この構成によれば、チップの流路を隙間なく被覆し、かつチップの流路内の試料もしくは試料中の成分を汚染することなく、容易に開放することのできるチップを得ることができる。
(第9の実施形態)
本実施形態は、基板からフタを外す際に、流路中の試料が漏出したり、汚染したりするのを防止するよう構成されたチップに関する。図28〜図31は本実施形態に係るチップの構成を示す断面図である。以下、これらの図を用いて本実施形態のチップの使用手順についても説明する。
本実施形態のチップにおいて、基板801の基本構成には、たとえば以上の実施形態に記載のチップに用いる基板の構成を利用することができる。たとえば、基板103、201、および301と同様とすることができる。図28においては、基板801上に流路802およびリザーバ(不図示)が設けられている。また、フタ806の基本構成としては以上の実施形態で述べてきたすべてのフタを適用できる。
本実施形態のチップは以下のように用いる。スタンプ台803に疎水性インク804を塗布し、乾燥させる。スタンプ台803には、たとえばPDMSやPMMA等の樹脂を用いることができるが、他の物質でも構わない。疎水性インク804としては、油や疎水性の自己組織化単分子膜等が利用可能であるが他の疎水性物質や撥水性物質としてもよい。疎水性インク804は、基板801と化学結合し流路部分へ飛散しないという点から、自己組織化単分子膜が好適に用いられる。疎水性インク804を塗布する方法としては、スピンコート等があげられる。続いて、疎水性インク804のついたスタンプ台803の上に、基板801の流路802側を下にして接触させ(図29)、その後基板801をスタンプ台803上から離す。この段階の基板801は、流路802以外のチップ上面のみに疎水性インク804が印刷されている状態(図30)である。
図31は、この疎水性インク804のついた基板801にフタ806をして、電気泳動が可能となった状態を示す。第1の実施形態の方法などを用いて流路802で試料の電気泳動を行う。その後、フタ806を基板801上から除去することができる。この構成によれば、チップの流路を被覆し、かつチップの流路内の溶液もしくは試料中の成分を汚染することなく、容易に開放することのできるチップが提供される。
(第10の実施形態)
本実施形態は、基板からフタを外す際に、流路中の試料が漏出したり、汚染したりするのを防止するよう構成されたチップの別の態様に関する。図32および図33は本実施形態のチップの構成部品を示す上面図である。また、図34は本実施形態のチップを組み立てた状態を示す図である。また、図34は、図32および図33のA−A’断面図である。
本実施形態のチップにおいて、基板901の基本構成には、以上の実施形態に記載のチップに用いる基板の構成を利用することができる。たとえば、基板103、201、および301と同様とすることができる。また、図33に示したように、基板901上に2本の流路902がストライプ状に形成されていてもよい。流路902はリザーバ903に連通する。基板901には、さらに、オイル用流路904とそのリザーバ905が形成されている。オイル用流路904は、泳動バッファーおよびサンプル用の流路とリザーバとを取り囲むように設計されていればその形状に特に制限はない。
フタ906としては、第1、2の実施形態で述べてきたすべてのフタを適用できる。図32に示したように、フタ906には、リザーバ903およびリザーバ905に対応する位置に、穴913および穴915が設けられている。
本実施形態のチップは以下のようにして用いる。すなわち、まず、基板901の上にフタ906をする。次に、オイル用のリザーバ905にオイルを導入し、オイル用流路904にオイルを満たす。このオイルにより、基板の表面を伝わって泳動バッファー等が漏れることを防ぐことができる。
続いて、サンプル用のリザーバに、泳動バッファーあるいは試料を導入し、電気泳動が可能となった状態が図34である。以降、上記の実施形態と同様にして電気泳動を行う。その後、流路902内の試料を凍結した状態で固定装置を調節し、フタ906を除去する。基板901上に付着したオイルは、オイル用流路904に空気や不活性ガスなどの気体を導入することにより除去することができる。なお、オイルは、用途により、たとえば0℃で不凍の物質や絶縁性物質等を適宜選択して使い分けることができる。たとえば、オイルの凝固点が−100℃以上−20℃以下であってもよい。こうすれば、フタ906の除去を、流路902中の液体のみを凍結させた状態で行うことができる。
この構成によれば、チップの流路を被覆し、かつチップの流路内の溶液もしくは試料中の成分を汚染することなく、容易に開放することのできるチップが提供できる。
(第11の実施形態)
以上の実施形態に記載のチップにおいて、基板に導気路を設けてもよい。導気路は、たとえば基板の表面に形成された導気用流路とすることができる。また、フタが液体でない場合には、フタに導気用の溝を形成しておいてもよい。以下、第10の実施形態のチップの構成を例に説明する。この場合、オイル用流路904(図33)を導気用流路とすることができる。
本実施形態では、当初はオイル用流路904を空にしておき、流路を用いた処理が終了した後、気体を導入する。このようにすれば、チップの使用中または使用後に、導気溝となるオイル用流路904に気体を導入して、容易にフタ906を除去することができる。このとき、たとえば、オイル用流路904のオイル導入口部分に、ポンプから導かれた気体を導く耐圧チューブを設置してもよい。オイル用流路904に導入する気体は、たとえば空気とすることができる。また、窒素またはヘリウム等の不活性ガスとしてもよい。
この構成によれば、基板の表面に形成された流路を被覆し、さらに容易に開放することのできるチップが提供できる。たとえば、以上の実施形態に記載のチップにおいて、基板をシリコンとし、板状フタをガラスとした場合、板状フタを基板の表面から除去しようとした際に、界面に存在する水の存在によって脱着が困難であることがある。このような場合にも、導気溝から気体を導入することにより、容易に板状フタを脱着させることが可能となる。
(第12の実施形態)
第1の実施形態に記載のチップ112において、フタ113の樹脂層102が流路内の試料の漏出を防止する程度に疎水性であり、またフタ113の粘着力が高ければ、流路から試料が漏れることを抑えるための固定装置を使用しなくてもよい。
図41は、本実施形態のチップ112を組み立てた状態を示す図である。図41は、図1〜図3のA−A’断面と同じ方向から見た図である。本実施形態においても、チップ112の構成部材である基板103、樹脂層102および板状フタ101の基本構成は第一の実施形態において前述した基本構成(図1〜図3)とすることができる。ただし、図41においては、管110が板状フタ101上に配置されて突出し、リザーバ105dおよびリザーバ105cが板状フタ101の上面よりも上方に形成された構成である。図48は、本実施の形態のチップを用いた装置の図である。図49は、本実施の形態のチップを用いた装置の図である。
図41に示すように、チップ112は、基板103およびフタ113を含む。フタ113は、樹脂層102および板状フタ101を含み、これらは熱融着や接着成分により、接合されていてもよい。板状フタ101、樹脂層102、および基板103の大きさは同程度とすることができる。
流路構造は適宜選択されるが、たとえば、図3で示される基板103において、直線の流路107bのみが形成され、流路の両端には、リザーバ105cおよび105dが形成された構成とする。ここで、流路107bは上述した流路に相当する。ここでは、流路107bを導入用流路かつ分離用流路とする。この構成においても、図1および図2を参照して前述したように、板状フタ101と樹脂層102には、基板103に設けられたリザーバ105c、リザーバ105dに対応する位置に、これらのそれぞれと同程度の大きさを有する穴115c、および穴115dが設けられている。これらの穴115c、115dを介して、基板103上の流路107bに泳動に使用する液体を導入することができる。また、これらの穴115c、115dを介して、電気泳動用の電極を設置する。
なお、穴115c、穴115dの内径と同程度、あるいは幾分大きな内径の管110を穴115cの上に、穴が通じるように配置してもよい。管110のサイズは穴115cまたは穴115dの形状または大きさに応じて適宜選択される。管110を設けることにより、管110の長さを調節して穴115c、穴115dの深さを容易に調節し、充分に深くすることができる。このため、電気泳動の際に、穴115c、穴115dの中の液体の乾燥を抑制し、電極間に確実に電圧を印加することができる。
チップ112において、流路107b中に、フタ113を支持する凸構造を設けてもよい。図35は、凸構造を有する流路の構成を示す斜視図である。図35では、基板103に対応する基板2003に、流路107bに対応する凹部が設けられ、凹部の底面に凸構造2001が設けられている。なお、図35に示されている溝状構造2002については、後述する。
凸構造2001は、複数の円柱形状の突起からなる。この凸構造2001は、フタ113のたわみにより、流路107bが潰れることを防ぐ効果と、フタ113を除去する時、またそれ以降の実験手順において、流路107b内に試料を保持する効果を持つ。
なお、本実施の形態のチップ112において、流路幅方向に80μm以下の間隔で1つ以上の凸構造2001が形成され、且つ流路長手方向に80μm以下の間隔で1つ以上の凸構造2001が形成され、且つ凸構造2001の上面が、フタ113と接触していてもよい。これにより、フタ113のたわみにより、流路107bが潰れることを確実に防ぐことができる。
なお、チップ112において、凸構造2001が、特に凸構造2001の中心間が20μm以内の間隔であるように形成されていてもよい。これにより、フタ113のたわみにより、流路107bが潰れることを、より確実に防ぐことができる。また、流路107b内の試料と凸構造2001との間の接触面積、ひいては摩擦抵抗を増大させることができる。このため、フタ113を除去する時、またそれ以降の実験手順において、流路107b内に試料を保持することができる。まず、フタ113を剥がすときに、凍結した試料が樹脂層102側に付着して取り去られるという問題が解決される。また、乾燥させた試料の成分を保持する効果も増加する。なお、凸構造の中心間の下限に特に制限はないが、たとえば、1μm以上とすることができる。
本実施形態のチップにおいて、凸構造2001が、凸構造2001の流路107b上面に垂直な面への投影面積の全周にわたる総和が、フタ113が流路107b内の試料と接する表面積に対して0.5倍以上であるような構造であることを特徴とするチップであってもよい。これにより、フタ113のたわみにより、流路107bが潰れることを、より確実に防ぐことができる。また、流路107b内の試料と凸構造2001との間の接触面積、ひいては摩擦抵抗を増大させることができる。このため、フタ113を除去する時、またそれ以降の実験手順において、流路107b内に試料を保持することができる。まず、フタ113を剥がすときに、凍結した試料が樹脂層102側に付着して取り去られるという問題が解決される。また、乾燥させた試料の成分を保持する効果も増加する。
本実施形態のチップにおいて、凸構造2001が、流路107b上面の面積の0.06%より多い面積を凸構造2001の上面の面積がしめていることを特徴とするチップであってもよい。こうすることにより、凸構造2001が作製プロセスの容易な柱状構造であるときに、フタ113のたわみにより、流路107bが潰れることを、より確実に防ぐことができる。また、流路107b内の試料と凸構造2001との間の接触面積、ひいては摩擦抵抗を増大させることができる。このため、フタ113を除去する時、またそれ以降の実験手順において、流路107b内に試料を保持することができる。まず、フタ113を剥がすときに、凍結した試料が樹脂層102側に付着して取り去られるという問題が解決される。また、乾燥させた試料の成分を保持する効果も増加する。
本発明者は、本実施の形態の流路において、上記の凸構造を形成することにより、それぞれに記載の効果があることを、実験によって確認している。
本実施形態のチップにおいて、流路107bの側面が凹構造であることを特徴とするチップであってもよい。たとえば、流路107bの側面に所定の形状の凹部が形成された構成とすることができる。こうすることにより、フタ113を除去する時、またそれ以降の実験手順において、流路107b内に試料を保持することができる。
なお、本発明者は、上記の流路107b側面を凹構造に形成することで、流路107b内に試料を保持する効果があることを確認している。
本実施形態のチップにおいて、フタ113が冷却により基板103との密着状態を失う性質を有するチップであってもよい。こうすることにより、フタ113を基板103から除去するときに、フタ113を冷却することによって、容易にフタ113を除去することができる。さらに、こうすることにより、流路107bと流路107b内の試料に対する汚染も防ぐことが出来る。また、冷却により、流路107b内の試料が凍結する場合においては、試料中の成分を分離した状態で、試料を固定することが出来る。このため、流路107b内の試料中の汚染を防ぎながら、容易にフタ113を除去することが出来る。
図3および図35を参照すると、基板103としてたとえば石英を素材として用いた場合、ドライエッチングにより流路107bを作製する。このときに用いるマスクに流路107b中に凸構造2001を形成するためのパターンをあらかじめレイアウトしておくことで、凸構造2001を同時に形成することができる。
また、流路107bの壁面、底面あるいは凸構造2001表面に微小な凹凸を形成させてもよい。微小な凹凸により、フタ113側よりも流路107bの側の表面積が大きくなり、流路107b内に試料を保持することができる。微小な凹凸は、ポーラスアルミナにより作製してもよい。たとえば、基板103を石英で作製した場合には、アルミを基板103表面に真空蒸着したのちに、陽極酸化法によりポーラスアルミナへと酸化させ、微小な凹凸を形成してもよい。
また、流路107b中の凸構造2001表面と流路107bの壁面は、親水性であってもよい。親水性表面の実現方法としては、基板103全体にプラズマアッシング処理を行ってもよい。また、基板103表面または流路107bに、たとえばアクリルアミド等の親水性樹脂、光硬化性のメタクリル酸ヒドロキシエチル(HEMA)、光触媒である酸化チタンを含有したシリコーン樹脂もしくはアクリル樹脂などをコーティングしてもよい。この際、コーティング前にあらかじめ基板103表面を親水性に改質しておくことが望ましい。以上のような親水性を有する表面は、濡れ性が良くアンカー効果から強く凍結した溶液と固着するため、流路107b内の試料をより一層確実に保持することができる。
なお、図35においては、凸構造2001を構成する円柱体の形状が円柱状である場合を例示したが、凸構造2001は、フタ113を支持できる形状であればよく、たとえば、円錐台形状、ドーナツ形状、四角柱等の角柱状等とすることもできる。また、図35では、凸構造2001が複数の柱状体を有する構成を例示したが、柱状体の数に特に制限はなく、単数とすることもできるし、複数とすることもできる。
凸構造2001は、凸構造2001上面の面積が、凸構造2001底面の面積よりも大きい構造であってもよい。凸構造2001上面の面積が、凸構造2001底面の面積よりも大きい構造とは、逆テーパー形状、あるいはハンマーヘッド形状を含む。こうすることにより、フタ113を除去する時、またそれ以降の実験手順において、流路107b内に試料を保持することができる。本発明者は、凸構造2001(図35)により、流路107b中に凍結した試料を確実に保持したまま、開放できることを確認した。
図36は、本実施形態のチップの流路中の構造の他の例を示す断面図である。また、図37は、図36に示した構成の流路構造の平面図である。図36および図37では、基板103に対応する基板2103に流路107bに対応する凹部が形成され、凹部に凸構造2102が設けられている様子を示す。図36に示したように、流路107bの壁面2101あるいは凸構造2102を逆メサ構造あるいは凹構造、あるいは大きな凸凹構造にしてもよい。
壁面2101あるいは凸構造2102を上記いずれかの構造に加工することにより、試料と壁面2101との間の接触面積、摩擦抵抗を増大させることができる。図1〜3、図42および図36および図37に示した構成のチップを用いて本発明者が検討した結果、壁面2101あるいは凸構造2102を上記いずれかの構造に加工することにより、試料を流路107b中に保持できることを確認した。なお、図36および図37に示した構成は、たとえば基板2103として石英基板を用いる場合、メタルマスクを使用してドライエッチングをおこなう際に、適当なガス混合比を選択することによりサイドエッチングを制御して実現できる。
図35に戻り、基板2003表面の流路107bとなる凹部の形成領域以外の領域に、空気の抜け穴用として、別の溝状構造2002を設けてもよい。この溝状構造2002は、流路107b以外の領域で、基板2003の端まで延在しており、空気が自由に出入りすることができる。フタ113を、基板2003に載せるとき、両者の間に空気が入り、気泡が残りやすい。しかし、溝状構造2002を設けることにより、気泡を完全になくすことができる。
本実施形態において、基板103の材料としては、たとえば石英もしくはガラス、シリコン等の微細加工しやすい材料が好適に用いられるが、樹脂材料、たとえばPDMSまたはPMMAなどを用いてもよい。
また、板状フタ101の材料としては、たとえば第一の実施形態にて例示した材料が挙げられる。
また、樹脂層102の材料としては、たとえば第一の実施形態にて例示した材料が挙げられる。本実施形態においても、樹脂層102として、多少の弾性変形を許す材料を用いることが好ましい。弾性変形を有する材料とすることにより、基板103の表面に確実に密着させることができる。また、樹脂層102は、粘着力を備えていてもよく、その粘着性により、基板103の表面に確実に密着させることができる。特に、PDMSなどのシリコーン樹脂は自己粘着性を持つため、好適である。
特に、シートの粘着力の低下が、−20℃以上30℃以下の温度範囲の粘着力の最高値の20%以内である使用温度範囲に、−20℃以上30℃以下の温度範囲を含むものが望ましい。フタ113が必要な段階では、上記の温度範囲で実験を行うため、フタとしての機能を十分に果たすことができる。また、フタ113が不必要になった段階では、上記の温度範囲以下にチップ112を冷却することで、樹脂層102を硬化させて、糊残りなく、かつ容易にフタ113を剥離することができる。
たとえば、シリコーン系樹脂を粘着剤として用いているシール9795(3M社製)は、粘着力の低下が20%以内である度範囲に−30〜30℃を含む。したがって、−150℃で硬化し、自然に基板から剥離される。このため、糊残りなく容易に剥離することができる。
また、アクリル系樹脂を粘着剤として用いているシール5564A(3M社製)は、粘着力の低下が20%以内である温度範囲に−20〜30℃を含む。したがって、−100℃で硬化し、自然に基板から剥離される。このため、糊残りなく容易に剥離することができる。
また、樹脂層102は、粘着力を備え、UV照射により硬化して剥離できるものでもよい。UV照射前には、その粘着性により、フタとしての機能を十分に果たすことができる。また、フタ113が不必要になった段階では、適正な波長のUVを必要量照射し、樹脂層102を硬化させて、糊残りなく容易にフタ113を剥離することができる。
また、板状フタ101と樹脂層102は接合されていてもよい。また、板状フタ101のみ、または樹脂層102のみでもよい。また、樹脂層102は、たとえばPTFE等のフッ素系樹脂などの撥水性、撥油性を有する材料が好適に用いられる。また、樹脂層102は、主な部分を他の材料とし、その表面にPTFEなどによる撥水または撥油処理を施してもよい。
チップ112の作製は、たとえば第一の実施形態に記載の方法を用いて行うことができる。基板103に溝を形成し、流路107bとする。基板103にフタ113を密着させる。また、流路107bに連通するリザーバ105c、リザーバ105dを形成する。これらの形成は、基板103としてプラスチック材料を用いる場合、エッチングやエンボス成形等の金型を用いたプレス成形、射出成形、光硬化による形成等、基板103の材料の種類に適した方法で行うことができる。流路107bの幅は、流路中で試料に施す操作に応じて適宜設定される。たとえば、高分子量成分(DNA、RNA、タンパク質、糖鎖)の分画を行う場合、5μm〜10mmとすることができる。また、フタ101と樹脂層102とを接合する場合、これらの接合はたとえば接着剤を用いた接着や、熱融着等によることができる。得られたフタ113に、穴115c、穴115dを形成する。
また、チップ112は、図48および図49を参照して前述した密閉槽4007に配置されることで、取り扱い性をより良くすることができる。密閉槽4007内には、試料固定装置4000を配置しており、試料固定装置4000は流路107b中の試料を固定することができる。たとえば、試料固定装置4000は、温度調整機構あるいは冷却機構を備えていてもよい。これにより、流路107b中の試料を凍結させて、固定することができる。また、試料固定装置4000は、チップ112と接していることで、より短時間かつ省力で流路107b内の試料を固定することができる。
また、密閉槽4007には、真空引き用バルブ4005があり、真空引き用バルブ4005は、金属や樹脂製のチューブによって、真空ポンプ4006につながっていてもよい。これにより、密閉槽4007を真空状態にすることができる。また、密閉槽4007には、チップ112の電極と通じている導線を密閉槽4007外部に延長するコネクターがあり、このコネクターを通して外部の電源4001から、電極へ電圧を印加することができる。
また、密閉槽4007の外側あるいは内側に、試料中の成分の分離状態などをモニターするための測定機構4004があってもよい。測定機構4004の検出方法は、光学的な方法であってもよい。光学的検出としては、たとえば、あらかじめ試料中の成分に蛍光物質を結合させておき、流路107bに沿ってレーザーを照射し、試料中の成分から発せられる蛍光を観測することによって行うことができる。このとき、たとえばX−Y自動ステージと蛍光顕微鏡とフォトマルチプライヤーとを組み合わせた蛍光測定システムを使って、測定をおこなってもよい。蛍光顕微鏡の台として、X−Y自動ステージを使用する。チップはX−Y自動ステージのステージ上に載せ、流路107bに蛍光顕微鏡の光学系を通じて励起光を照射する。流路107bの蛍光測定では、測定機構4004である蛍光顕微鏡の光学系を通じてフォトマルチプライヤーにてフォトンカウントをおこなうことができる。また、密閉槽4007は、基板103からフタ113を取り除くために用いられる図49の開放機構4002を備えていてもよい。開放機構4002は、さらにフタ113を取り除くための作業を行うロボットアーム4003を備えていてもよい。なお、開放機構は、これに限らず、真空ピンセットなどを備えていてもよい。このロボットアーム4003を用いて、フタ113を取り除くことができる。
次に、本実施形態のチップ112とチップ112を用いた装置の使用方法について説明する。まず、基板103上の流路107bを被覆するために、基板103にリザーバ105c、リザーバ105dの位置を合わせながらフタ113を載せる。次に、リザーバ105c、リザーバ105dをフタ113上に形成する。
また、逆に流路107bを開放する際は、まずチップ112を冷却し、流路107b中の試料を冷凍した後にフタ113を除去してもよい。試料を冷凍することで、たとえば分離した試料中の成分などが拡散する前に固定させることができる。基板103からフタ113を除去する際、試料を冷凍させた後にフタ113を取り除くことで、試料の成分同士の混和、試料の汚染および漏出を避けることができる。
このように、本実施形態のチップ112では、流路107bを確実に被覆することができる。また、たとえば、フタ113の表面を疎液性または撥液性の材料で構成することにより、フタ113の表面を疎水性または撥水性とすることができ、試料のフタ113への付着を抑制することができる。また、流路107b中に凸構造2001を作製することにより、試料中の成分の拡散を抑制するとともに、凍結した試料が、フタ113に付着することを防止することができる。
チップ112に所定の流路やリザーバを設けることにより、分離、分析等所望の操作を試料中の成分に施すことができる。たとえばチップ112を用いて電気泳動した後、質量分析を連続して行うことが可能である。この場合、まず、チップ112の流路107bがフタ113により完全に被覆された状態で、リザーバ105c、リザーバ105dのいずれかのリザーバから試料中の成分を含んだ泳動のための溶液を導入し、流路107b内に充填する。
この泳動のための溶液は、用途に応じて適宜選択されるが、等電点電気泳動のための溶液であってもよい。等電点電気泳動とは、試料中の成分であるタンパク質等両性担体に固有の等電点(pI)に応じて、両性担体を分離する電気泳動の手法のひとつである。pIとは、試料中の成分が持つ正電荷と負電荷がちょうど等しくなるpHのことを指す。試料中の成分は、自身が溶解している溶液のpHに応じた電荷をもっており、各々のpI領域まで電気泳動する。各々のpIに達すると、試料中の成分の電気泳動移動度がゼロになり、電気泳動を終了する。この現象により、試料中の成分をそれぞれのpIごとに濃縮、分離することができる。等電点電気泳動のための溶液には、分離する試料中の成分以外に、pH勾配を形成するための両性担体(carrier ampholytes)が含まれている。流路107b中にpH勾配をつくるためには、等電点電気泳動のための溶液を流路107bに導入し、次にリザーバ105cに酸溶液、105dにアルカリ溶液を入れ、リザーバ内に配置した電極間に、電圧を印加すればよい。
本実施の形態では、試料中の成分と、成分を含んでいる泳動のための溶液を試料として説明する。流路107b中に、試料を導入した後に、リザーバ105c、105dにそれぞれ酸溶液、アルカリ溶液を入れ、白金電極をリザーバ105c、105dに挿入する。この白金電極を介してリザーバ105cと105d間に電圧を印加することができる。まず、チップ112に対して、このように流路107b中に試料を導入し、リザーバ105c、105dにそれぞれ酸溶液、アルカリ溶液を入れる。
次に、チップ112を、図49の密閉槽4007中に配置することができる。まず、チップ112を、図49の密閉槽4007中に配置した場合について、説明する。チップ112を、図49の密閉槽4007中に配置することにより、流路107bを開放するときに、密閉槽4007内の試料固定機構4000を用いて、試料を固定することができる。試料固定機構4000の冷却機構により、チップ112を冷却し、流路107b中の試料を冷凍した後に、フタ113を除去して流路107bを開放する。試料の成分を分離した後に、試料ごと冷凍することで、分離した試料の成分、たとえばタンパク質やDNAなどの拡散を防ぐことができる。試料を冷凍させた後にフタ113を取り除くことで、試料中の成分の拡散を含めた流路の内部の成分同士の混和、また試料の汚染および漏出を避けることができる。密閉槽4007中に配置されたチップ112のリザーバ105c、105dに白金電極を挿入し、密閉槽4007を密閉する。白金電極は、電源4001に導線で通じており、この電源4001を通して、電極間に電圧を印加すると、流路107b中では、個々の試料中の成分がそれぞれのpIによって分離される。本実施の形態のチップにおいては、検出部109は、流路全体にわたる。分離された試料中の成分は、検出部109(図5)で、測定機構4004による光学的な方法で検出される。光学的検出としては、たとえば、あらかじめ分子に蛍光物質を結合させておき、検出部109に対応する流路107b上に、流路107bに沿ってレーザーを照射し、分子から発せられる蛍光を観測することによって行うことができる。
流路107b中では、個々の試料中の成分がそれぞれのpIによって分離された結果、その成分は流路の一部分に濃縮され、流路幅の帯のような状態(バンド状態)になる。等電点電気泳動による分離が終了し、電圧の印加を止めた後、このバンド状態に濃縮された試料中の成分が拡散することを防ぐために、試料固定装置4000を用いて、試料を固定する。試料固定装置4000に冷却機構がある場合、チップ112ごと試料を急速に冷凍して固定することができる。試料中の成分は、液体中ではブラウン運動などにより容易に拡散してしまうが、固体中では拡散しないため、試料中の成分を分離した後はできるだけ早く、流路中の試料を固定化することが望ましい。
また、試料固定装置4000による冷却機構としては、たとえば冷凍庫や液体窒素などを用いて、−20〜−200℃の範囲で適宜選択された温度に冷却された台、つまり冷却ステージであってもよく、その上にチップ112を載せてもよい。また、ペルチェの冷却ステージであってもよい。たとえば銅、アルミなど熱伝導性に優れた金属などのブロックの台による冷却ステージであってもよく、たとえば冷凍庫で、あるいは液体窒素中でこのブロック台を冷却し、ここにチップ112を載せる、またはブロック台をチップ112の上に載せることによって、効率よく冷凍することができる。また、冷却するブロック台の材料はこれに限らずステンレス鋼など加工性に優れた材料でもよい。
また、冷凍する場合に、試料が大量に存在するリザーバ105c、または105dから凍らせると、試料が固体化するときに膨張するため、流路中の試料を押し出しつつ凍っていく。その結果、試料が移動し、分離した試料の成分が混和してしまう。しかし、本発明者がリザーバ部分を除いた形状の冷却ステージに載せて、流路107b部分から凍らせることで、試料の移動を最小限に抑えることができた。また、このとき、流路の途中により早く凍る部分を作ることによって、試料の移動を更に抑制することができる。
たとえば、図3では流路107bの平面形状が直線状である構成を例示したが、図38に示されるように、流路107bをメアンダ構造に作りこむこともできる。図38は、チップ112の基板103の別の構成を示す平面図である。また、図39は、図38に示した基板2203を有するチップ2208の断面図である。図38に示したチップ2208では、基板103に対応する基板2203に、メアンダ状の流路2205が形成されている。流路2205の両端にはそれぞれリザーバ2204aおよびリザーバ2204bが設けられている。リザーバ2204aおよびリザーバ2204bは、それぞれリザーバ105cおよびリザーバ105dに対応する。
また、図39に示したように、フタ113に対応するフタ2207は、板状フタ101に対応する板状フタ2201と樹脂層102に対応する樹脂層2202とが積層された構成となっている。
図38に示したチップでは、基板2203を冷却用ステージ2206上に載置して、図中A−A’側から冷凍し、徐々にB−B’側が凍るように、図に矢印2209で示した向きに冷却することができる。
メアンダ状の流路2205を設けることにより、試料の移動を抑え、かつ分離された試料の成分が構成するバンド状態が混和することなく、固体化できる。また、基板2203の底面のリザーバ2204aおよびリザーバ2204bの形成領域以外の領域に、予め金属蒸着を施しておいてもよい。たとえばアルミニウムなどの熱伝導率のよい材料で、充分な膜厚、たとえば100nm以上の膜厚の金属蒸着膜を形成することにより、アルミニウムを通して冷却される流路107bは、空気を通して冷却されるリザーバ2204aおよびリザーバ2204b部分よりも効率よく冷却される。
よって、冷却用ステージ2206にチップ112を載せるだけで、流路2205部分から冷却することができる。また、冷却用ステージ2206の流路2205部分を高くする、あるいは基板2203のリザーバ2204aの形成領域が冷却用ステージ2206と接触しない形状にするなど、冷却用ステージ2206の表面に高低差をつけることによって、同様な効果が実現できる。また、熱伝導率の異なる素材を冷却用ステージに用いることにより、流路部分は低温、リザーバ部分は流路部分より高温という温度分布を持つステージを実現できる。これらの冷却用ステージ2206により、流路部分から冷却できる。
図41に戻り、この段階では、チップ112は冷凍されており、流路107b中に、凍結した試料を保持した状態である。流路107b中の試料は固体化し、樹脂層102は硬化している。次に、図49の開放機構4002とロボットアーム4003を用いて、フタ113を基板103上から除去し、流路107bを開放する。このとき、たとえば、粘着性能が高い粘着剤を樹脂層102として用いる場合、室温でフタ113を除去すると、基板103側に樹脂層102の一部が残るという問題がある。残った一部は、流路107bの汚染原因となることがある。しかし、フタ113を除去する前に、−20℃以上30℃以下の温度範囲の粘着力の最高値の20%以内である使用温度範囲以下にチップ112を冷却して樹脂層102を硬化させると、難剥離性のために生じる糊残りなしに剥がすことができる。この段階では、チップ112は冷却されており、フタ113を除去した流路107b中に凍結した試料を保持した状態である。
引き続き、泳動後の試料中の成分について質量分析を行うが、基板103を凍結したままでは、取り扱いが難しいため、試料を乾燥させることが望ましい。たとえば、凍結した試料は、そのまま冷却台から離すと、温度が上昇することによって容易に融解してしまい、試料の成分が拡散してしまう。よって、試料の成分を分離したままで、試料を乾燥させる方法が必要となる。多くの場合、基板103を加熱しただけでは、凍結した試料が融解する部分と蒸発する部分ができてしまう。この状態の基板103上では、融解した部分が蒸発した流路に試料が流れ込む、または融解した部分内で混和する等の現象がおこり、分離された試料が拡散してしまう。この問題を解決するためには、凍結した試料を融解させず、昇華させればよい。
本実施形態においては、泳動後の試料をさらに凍結乾燥してもよい。このとき、チップ112を密閉槽4007内に配置してあった場合には、フタ113を取り除かれた基板103を、固定装置111の温度調節機構、あるいは試料固定装置4000の冷却機構により凍結したままに保ち、真空引き用バルブ4005を開き、真空ポンプ4006で密閉槽4007を真空状態にすることができる。これにより、流路107b中の試料の溶媒を昇華させることができる。これにより、流路107b中の試料の溶媒を昇華させ、その試料中の成分の位置関係を保ち、成分同士で混和させることなく、乾燥させることができる。
さらに、凍結状態または乾燥状態の試料を基板103上に保持した状態で、流路107b中の試料の質量分析を行うことができる。真空ポンプ4006を停止し、試料が飛散しないような速度で密閉槽4007内を大気状態へと戻す。その後、密閉槽4007から基板103を取り出し、引き続き、質量分析を行うことができる。
このとき、チップ112を密閉槽4007内に配置せず、分離を行った場合には、凍結乾燥用のアタッチメントに、試料が凍結状態にある基板103を設置し、さらに密閉容器に入れて凍結乾燥することができる。図40は、アタッチメントの構成を示す断面図である。図40に示したアタッチメント2308は、フタ2302と台2303からなり、蝶番2306により自由に開閉することができる。台2303は、基板103に対応する基板2301に空気が直接吹き付けないように設計された空気導入路2305を備えている。
チップ112中の試料を凍結乾燥する際には、予め冷却されたアタッチメント2308に基板2301を設置し、フタ2302を閉状態に固定するストッパー2307をかける。そして、アタッチメント2308を真空用チャンバー2309内に設置して密閉する。凍結乾燥の前に、アタッチメント2308を冷却しておくことで、真空用チャンバー2309が充分に真空引きされるまで、サイズが小さく熱容量の少ない基板2301を凍結状態に保つことができる。
アタッチメントの材質は、熱容量の大きい金属が望ましい。たとえば、ステンレス鋼などが好適である。ただし、フタ2302は透明な材質の方が使いやすい場合もあり、この場合はアクリル、石英等で作製してもよい。流路内の試料が凍結状態にある基板103を設置した後に、容器(真空用チャンバー2309)に入れて凍結乾燥することができる。凍結乾燥後、真空用チャンバー2309に空気を導入するが、このときに、アタッチメント2308を使用することで、試料の飛散を防止することができる。
さらに、凍結状態または乾燥状態の試料を基板2301上に保持した状態で、流路2205中の試料の質量分析を行うことができる。
本実施の形態の基板において、凍結状態または乾燥状態にある流路内の試料にマトリックス溶液を添加する。マトリックスは、適宜選択されるが、タンパク質にはシナピン酸などが好適である。添加方法は用途に応じて、インクジェットにより吹き付ける方法、ネブライザーを用いてチップに噴霧する方法などから適宜選択される。
たとえば、ネブライザーを用いてチップに噴霧する際に、マトリックス溶液の噴霧量が多く、凍結した試料が溶解し、流路107b中の試料が拡散してしまう懸念がある場合には、あらかじめ基板103を冷却しておいてもよい。冷却したまま基板103にマトリックス溶液を噴霧することで、凍結した試料が溶解することを抑制できる。その後、上記に記載の手順で試料を昇華させてもよい。その結果、流路中の試料の拡散を抑えながら、マトリックスを添加することができる。
この段階で、基板103は、マトリックスと試料の混合物を保持している流路107bが剥き出しになっており、この部分に対して第1の実施形態に記載の方法を用いて質量分析を行うことにより、試料を分析することができる。
(第13の実施形態)
第12の実施形態に示した凍結乾燥手段は、乾燥気体と次の装置を用いて簡便に実現することもできる。
乾燥気体とは、たとえば不活性気体である液化窒素、液化ヘリウム等の気化により発生する極めて低温で乾燥した気体を指し、その圧力、流量、温度を調節して用いる。圧力と流量の調節は、通常、液化窒素ボンベ、液化ヘリウムボンベに付属の調圧弁によって実現できる。ボンベから出たばかりの乾燥気体は、もとの液化気体の沸点に近い低温を保っていることから、チップ上に展開された微量の液体を凍結させ、さらにチップを被覆しているシールをその適用温度以下にしてはがれやすくすることに利用できる。さらに該乾燥気体は、水蒸気分圧の低い極めて乾燥した状態とすることができ、チップ上の微量の液体を該乾燥気体に晒すことで、短時間のうちに乾燥させることができる。さらに、乾燥気体の温度を徐々に室温に近づけることで、チップを乾燥したまま室温条件で取り出すことができる。
以下に示す乾燥気体を利用するチップの凍結乾燥装置は、乾燥気体を用いてチップ上に展開された微量の液体試料を凍結させ、乾燥することによりチップ上に固定するために用いる。
図42は、乾燥気体を利用するチップの凍結乾燥装置の一例を示す立面図である。図43(a)および図43(b)は、それぞれ、図42に示した凍結乾燥装置の乾燥室3000とチップ台3002の構造を示す平面図および立面図である。図44(a)および図44(b)は、それぞれ、図42に示した凍結乾燥装置の乾燥フィルタ3100の構造を示す平面図および立面図である。図45(a)および図45(b)は、それぞれ、図42に示し凍結乾燥装置のヒータユニット3200の構造を示す平面図および立面図である。
以下、乾燥気体を利用するチップの凍結乾燥装置の構造について、図42〜図45を参照して説明する。
図42に示した乾燥気体を利用するチップの凍結乾燥装置は、導管3008、導管3008に設けられたコック3007、導管3008に接続されたヒータユニット3200、ヒータユニットに接続された乾燥フィルタ3100、乾燥フィルタに接続されたチップ室3010、およびチップ室3010内に設けられたチップ台3002を備える。
導管3008の端は、コック3007を介して乾燥気体を供給するボンベ(不図示)に接続されている。導管3008を流れてきた乾燥気体は、ヒータユニット3200内を通過する際に温度が調整され、乾燥フィルタ3100内を通過する際に水蒸気成分が吸収されてさらに乾燥した状態となった後、チップ室3010に設置されたチップ台3002へと導かれる。
チップ台3002へと導かれた乾燥気体は、チップ台3002の側面に複数設けられた気体出口3003から排出されて、チップ室3010の内腔である乾燥室3000内を満たす。そして、乾燥気体は、チップ室3010の上部に設けられたカバー3001に設けられた通気口3009を介して乾燥室3000の外へと放出される。チップ3005は、チップ台3002にチップホルダー3004を介して保持されており、乾燥室3000を満たした乾燥気体により凍結乾燥される。チップ3005の構成は、たとえば第12の実施形態にて前述した構成とすることができる。
カバー3001は、ちょうつがい3006によってチップ室3010と接続され、開閉可能に構成されている。カバー3001を開けることにより、チップ室3010の上部からチップ3005をチップ台3002の上にセットしたり、取り出したりできる。チップ3005を保持するチップ台3002の上端は、チップ室3010の底面から高さHだけ高く保持されており、気体出口3003から吹き出す乾燥気体の噴流がチップ3005に直接吹き出さないように構成されている。これにより、乾燥空気の吹き出しによりチップ3005の上に展開された試料が吹き飛ばされることが抑制されるようになっている。高さHは、気体出口3003から噴出する乾燥気体の流量と勢いに応じてたとえば5cm〜20cm程度とする。
導管3008は、低温や急激な温度変化にさらされても強度劣化が少ない材料、たとえば銅やステンレス等の金属でできた管であり、その周囲は断熱材、たとえば発泡ウレタン等で被覆されてボンベ(不図示)へとつながれる。コック3007は、導管と同じ材質からなるネジ式等のバルブを用いる。
チップ室3010およびカバー3001もまた、低温条件下や温度変化による劣化が少ない金属などの材料を箱状に加工したもので、その内面および外面は、通気口3009部分とちょうつがい3006部分を除いて適切な厚さ(数mm〜数cm)の断熱材で覆われている。
チップ台3002の材料は、低温や急激な温度変化に強く、しかも熱伝導性の高い材料、たとえば、銅、ニッケル、真鍮、鉄、ステンレス等の金属とする。チップ3005を載せるチップ台3002の上端面は、チップ3005とチップ台3002の接着を防ぐために薄いテフロン(登録商標)樹脂のコーティングを施すこともできる。チップホルダー3004は、チップ台3002の表面に鉄鋼、ステンレスなど弾性の高い材料からなる板バネの一端をネジ止め、あるいは溶接し、他端を解放状態にしてチップを挟めるようにすることなどで実現できる。
次に、図43(a)および図43(b)を参照して図42に示した凍結乾燥装置の乾燥室とチップ台の構造をさらに詳細に説明する。図43(a)および図43(b)に示したように、チップ台3002の内部には、導管3013に連通する空所3011が設けられており、その空所3011の一部は、複数の気体出口3003に連通している。空所3011および、空所3011の気体出口3003に連通する部分は、チップ台3002の材料を、その底面からフライス盤等を利用して切削した後、底面を同じ材料からなる板を溶接、あるいはネジ止めなどで封止することにより実現できる。チップ3005は、設置領域3014に設置され、その一部がチップホルダー3004に挟まれることによりチップ台3002上に固定される。
空所3011の上面からチップ台3002の表面までの厚み3012は、不均一に選ばれ、最初に低温としたい部分で薄く、最後に低温としたい部分で厚く選ぶことができる。空所3011に流入した乾燥気体の低温が、チップ台3002の上面に伝わる時間は、空所3011から表面までの厚み3012が薄い程短く、薄い順に冷えるので、その厚みを選ぶことでチップ3005上の所望の場所を最初に凍結させることができる。
次に、図44(a)および図44(b)を参照して図42に示した凍結乾燥装置の乾燥フィルタの構造をさらに詳細に説明する。図44(a)および図44(b)に示したように、乾燥フィルタ3100は、ヒータユニット3200の導管3205と連通する穴の開いた配気管3101と、その周囲に充填された乾燥剤3102、乾燥剤を保持する外筒3106、外筒3106内部を密閉する外筒フタ3104、密閉度を高めるためのパッキング3105、チップ台3002と外筒3106の内部を連通するよう溶接された導管3103とからなる。
外筒フタ3104の内側面と、外筒3106の外筒フタ3104の内面に当たる部分にはネジが切られており、外筒フタ3104を回すことで外筒3106の内部を解放して乾燥剤3102を交換することができる。また、パッキング3105を挟んで外筒フタ3104を絞めることにより、外筒3106の内部を密閉することができる。
配気管3101に流入した乾燥気体は、乾燥剤3102の隙間を流れる間にゴミや水蒸気が除かれ、さらに乾燥した状態となって導管3103を介してチップ台3002へと導かれる。
外筒3106、配気管3101、導管3103、外筒フタ3104もまた、低温条件下や急激な温度変化、圧力に耐え、さらに化学薬品に強い材料、たとえば銅、ニッケル、真鍮、ステンレスなどの金属からなる。その内面は、防食性を高めるためにテフロン(登録商標)等でコーティングを施しても良い。パッキング3105は、柔軟性の高い金属、たとえば、銅、アルミニウムなどを平板リング状に形成したO−リングとすることができる。乾燥剤3102は、ソーダライムあるいは、塩化カルシウム、シリカゲル等の吸湿性の高い薬剤を顆粒状に整形したものとすることができる。
次に、図45(a)および図45(b)を参照して図42に示した凍結乾燥装置のヒータユニットの構造をさらに詳細に説明する。図45(a)および図45(b)に示したように、ヒータユニット3200は、保護筒3201、ラセン管3202、ヒータ3203、断熱材3204、導管3205とからなる。
ラセン管3202は、導管3008と連通しており、ヒータ3203の周囲にラセン状に巻き付けられている。ラセン管3202の出口は、導管3205と連通している。ヒータ3203には、電熱ヒータや、オイルヒータなどを選ぶことができ、その表面は銅などの熱伝導率の高い金属で保護されている。ラセン管3202は、低温条件下や温度変化に対する耐性を有し、熱伝導率の高い銅、真鍮、ニッケル、ステンレスなどの金属からなり、ヒータ3203によって加熱されるため、ラセン管3202の内部を流れるうちに加温され、所望の温度に調節される。
断熱材3204には、低温・高温・温度変化に強く、膨張収縮の少ない材料、たとえば珪藻土などが好適に用いられる。保護筒3201は、低温、高温、または温度変化に強い材料、たとえば、銅、ニッケル、鉄、ステンレスなどの金属から成り、その外壁は難燃性発泡ウレタンなどの断熱材で覆われる。
温度調節精度を高めるために、ラセン管3202、あるいは導管3205の内部にサーミスタ温度計を設けて温度モニターすることも可能である。また、さらに、温度測定結果をヒータ3203の出力にネガティブフィードバックをかけることにより、予め設定した温度に自動調整することなどの改善も可能である。
次に、この乾燥気体を利用する凍結乾燥装置を用いて、チップ上に展開された試料を凍結乾燥する手順について説明する。
まずカバー3001をあけて、試料が展開されたチップ3005をチップホルダー3004に挟み、チップ台3002上に固定する。次に、カバー3001を閉めた後、コック3007を解放してチップ台3002を介して乾燥室3000を乾燥気体で充填する。このとき、ヒータ3203は暖めない。その際、チップ台3002の厚さの薄い部分が先に冷えるためチップの所望の部分から凍結させることができる。凍結と同時に、チップを覆っているフタ113の樹脂層102(シールフタ)の粘着力が低下してはがれてくるので、カバー3001を短時間開き、フタ113(シール)を除去する。
低温の乾燥気体をさらに注入し続けると、試料中の水分が乾燥気体中に蒸散し、試料が乾燥固化する。チップの流路サイズに応じて、乾燥固化にかかる時間は異なるので、予め、適切な凍結乾燥時間を実験で決定しておく。
最後に、ヒータ3203を加熱してラセン管3202を流れる乾燥気体の温度を徐々に上昇させて、最終的に室温(〜25℃)にする。この状態を所定の時間継続することにより、乾燥室3000、チップ台3002とチップの温度がほぼ室温に戻った段階で、カバー3001を開き、試料が乾燥固化されたチップを取り出す。
このようにすれば、チップ中で分離された試料の凍結乾燥を、乾燥気体と次の装置を用いて簡便に行うことができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれらに限定されず、それぞれの実施形態で用いた構成を任意に組み合わせることもできる。
たとえば、本発明は、以下の構成とすることもできる。
(1)流路内に流体を導入することを特徴とするチップ。
(2)流路内に溶液を導入することを特徴とするチップ。
(3)流路内にタンパク質を含んだ溶液を導入することを特徴とするチップ。
(4)(3)に記載のチップにおいて、タンパク質を電気泳動させることを特徴とするチップ。
(5)(3)に記載のチップにおいて、タンパク質を分離することを特徴とするチップ。
(6)(2)に記載のチップにおいて、電気泳動により分離することを特徴とするチップ。
(7)(2)に記載のチップにおいて、等電点電気泳動により分離することを特徴とするチップ。
(8)(2)に記載のチップにおいて、アフィニティーにより分離することを特徴とするチップ。
(9)(3)に記載のチップの使用方法において、凍結乾燥プロセスがあることを特徴とするチップ。
(10)凍結する機構を備えた電気泳動システム。
(11)凍結乾燥する機構を備えた電気泳動システム。
(12)チップを搬送する機構を備えた電気泳動システム。
(13)乾燥する機構を備えた電気泳動システム。
(14)真空引きする機構を備えた電気泳動システム。
(15)(3)に記載のチップにおいて、凍結状態を経ることを特徴とするチップ。
(16)(2)に記載のチップにおいて、質量分析装置にて解析をすることを特徴としたチップ。
また、上記(1)〜(16)の構成は、それぞれ単独で備えていてもよいし、二つ以上の複数の構成を同時に備えていてもよい。
また、本発明は、以下の構成としてもよい。
(17)表面に微小な凹凸を持つ凸構造あるいは壁面を備えた流路構造。
(18)親水性表面の凸構造あるいは壁面を備えた流路構造。
(19)頂上部よりも直径の小さい部分がある凸構造を備えた流路構造。
(20)凸構造の壁面と底面との角度、流路の壁面と底面との角度が90度以下である。
(21)逆メサ構造、あるいは凹構造の凸構造あるいは壁面を備えた流路構造。
(22)基板の流路以外表面に形成される側溝構造。この溝構造は基板端まで抜けている。
(23)シールがシリコーン系樹脂である蓋を有し、粘着力の低下が、−20℃以上30℃以下の温度範囲の粘着力の最高値の20%以内である使用温度範囲に、−20〜30℃を含むことを特徴とするシールチップ。
(24)シールがアクリル系樹脂である蓋を有し、粘着力の低下が、−20℃以上30℃以下の温度範囲の粘着力の最高値の20%以内である使用温度範囲に、−20〜30℃を含むことを特徴とするシールチップ。
(25)凍結した溶液を流路中に保持したチップ。
また、上記(17)〜(25)の構成は、それぞれ単独で備えていてもよいし、二つ以上の複数の構成を同時に備えていてもよい。
また、本発明は、以下の構成としてもよい。
(26)リザーバを流路部分よりも遅く凍らせる温度勾配をつくるための機構を備えたチップ冷却用ステージ。
(27)リザーバを流路部分よりも遅く凍らせる温度勾配をつくるために熱伝導性の異なる部位を備えたチップ冷却用ステージ。
(28)チップの底面、特にリザーバ以外の底面に金属蒸着をしてある。
(29)メアンダ流路構造。
(31)熱伝導率の異なる素材を用いた温度分布を持つチップ冷却用ステージ。
(32)表面に高低差があり、チップとの接触部分がリザーバ以外の部分に限定されるチップ冷却用ステージ。
(33)チップのリザーバ部分を除いた形状のチップ冷却用ステージ。(32)熱容量の大きい素材を用いた、空気導入路を備えた真空凍結乾燥用アタッチメント。
また、上記(26)〜(33)の構成は、それぞれ単独で備えていてもよいし、二つ以上の複数の構成を同時に備えていてもよい。
本実施形態では、第1の実施形態に記載のチップ112および固定装置111(図5、図6)を作製した。基板103はシリコン基板とした。また、板状フタ101にはガラス板を用い、樹脂層102はポリオレフィンを用いた。押さえ板104および台108には、それぞれSUSおよびアルミを用いた。基板103の表面の外形寸法は用途に応じて適宜選択されるが、本実施例では、縦20mm、横70mmとした。
基板103には、図3に示されるように、流路107bを形成し、これと交差するように投入用流路となる流路107aを形成した。流路107a、流路107bには、それぞれその両端にリザーバ105a、リザーバ105b、リザーバ105c、およびリザーバ105dを形成した。流路107aおよび流路107bをドライエッチングにより形成した。それぞれの流路は、ともに深さ0.4〜2μm、幅40〜100μmとした。
次に、基板103に、リザーバ105a〜リザーバ105dの位置を穴115a〜穴115dの位置にそれぞれ合わせつつ、樹脂層102を載せた。この状態で、樹脂層102の各リザーバ位置に内径1.8mm、外径3.0mm、高さ3.0mmのガラスの管110をエポキシ樹脂により接着した。次に、板状フタ101も同様に、各リザーバに対応する穴の位置を合わせつつ載せた。その後、重ねられた基板103、樹脂層102、板状フタ101を固定装置111の台108の上に載せた。その後、押さえ板104をねじ106で締めて加圧した。固定装置111による圧力は、10〜20N/cm2とした。さらに、各リザーバに電極を設ける。これを用いて、流路107a、流路107b、の両端のそれぞれに電界を印加することができる。
リザーバ105a、105b、105c、および105dに泳動バッファーとしてpH7の1M tris−borate−EDTA bufferを導入し、流路構造からの漏れがないことを確認した。板状フタ101と樹脂層102とを備えたフタ113と基板103とを、加圧装置により圧接することで、泳動バッファーの漏れを防止できることが証明された。
さらに、リザーバ105bに、試料としてDNA溶液を導入し、リザーバ105bに設置された電極間に100Vの電圧を印加した。その結果、チップ112が高電圧に耐えられると共に、DNAが流路107b中を電気泳動できることを以下の方法で確認した。本実施例の装置を用いて、試料の成分の電気泳動を行う方法について図5を参照して説明する。まず試料としてDNA溶液をリザーバ105aに注入した。次に、リザーバ105bの方向へ試料が流れるように電圧100Vを印加した。これにより、試料は流路107aへと流入し、結果的に流路107aの全体を満たす。この時、流路107b上では、試料は流路107aとの交点にのみ存在する。
次に、リザーバ105aおよびリザーバ105b間の電圧印加をやめ、リザーバ105cとリザーバ105dとの間に、試料がリザーバ105dの方向へ流れるように100Vの電圧を5分間印加した。これにより試料は流路107bを通過した。
なお、本実施例のチップにおいて、試料中の成分は、検出部109に至ると、光学的な方法で検出される。光学的検出とは、たとえば、あらかじめ分子に蛍光物質を結合させておき、検出部109においてレーザーを照射し、分子から発せられる蛍光を観測することによって行うことができる。
次に、試料を−20℃で1時間静置して凍らせることにより、フタ113を除去する際に、流路107aおよび流路107bの試料が漏出しないようにした。その後、固定装置111のねじ106をゆるめて押さえ板104を取り外し、板状フタ101を基板103上から取り除いた。その後、基板103を固定した状態で、樹脂層102を除去した。その結果、流路107aおよび流路107bは開口され、その流路構造中に試料が保持されていることを確認した。
本実施例では、フタ113を除去することにより流路107aおよび流路107bを開放することができた。これらの流路内の試料の漏れは生じなかった。この段階で、基板103は、試料を保持している流路107bが剥き出しになっており、この部分に対して第1の実施形態に記載の方法を用いて質量分析を行うことにより、DNAを分析することができた。
本実施例では、実施例1と同様の方法によって基板103を作製した。板状フタ101と押さえ板104、ねじ106、台108および管110の材料も実施例1と同様にした。ただし、樹脂層102としては、ポリオレフィンにアクリル系の粘着剤を塗布したものを用いた。樹脂層102を基板103に載せる際に、この粘着剤面を基板103側に面するように載せ、同様にガラスの管110をエポキシ樹脂で接着した。
得られた装置を用いて、実施例1と同様にDNAを電気泳動した。次に、試料を−20℃で1時間静置して凍らせることにより、フタ113を除去する際に、流路内の試料が漏出しないようにした。その後、加圧装置のねじ106をゆるめて押さえ板104を取り外し、板状フタ101を基板103の上部から取り除いた。その後、基板103を固定した状態で、樹脂層102を除去した。その結果、流路107aおよび流路107bは開放され、且つその流路中に試料が保持されていることを確認した。
以上のように、本実施例の装置によって、流路構造からの試料の漏れもなく、かつフタ113を除去することにより流路107aおよび流路107bを開口することができた。この段階で、基板103は、試料を保持している流路107bが剥き出しになっており、この部分に対して実施例1と同様にして質量分析を行うことにより、DNAを分析することができた。
本実施形態では、第12の実施形態に記載のチップ112(図41)において、図3に示した流路形状のうち、流路107bの直線流路のみを有するチップを作製した。基板103は石英ガラス基板とした。板状フタ101にはポリオレフィンを用い、樹脂層102にはシリコーン樹脂を用いた。フタ113は、板状フタ101と樹脂層102が接合されたシートである。基板103の表面の外形寸法は用途に応じて適宜選択されるが、本実施例では、縦20mm、横70mmとした。
基板103には、分離用流路として、図3に示された直線の流路107bを形成し、その両端にリザーバ105c、およびリザーバ105dを形成した。流路107bはドライエッチングにより形成した。流路は、深さ10μm、幅100μm、長さ60mmとした。流路107bには、ピッチ10μm、径4μmでの凸構造を形成した。この凸構造により、フタ113のたわみを防ぐとともに、凍結した溶液を流路内に保持されることを確認した。
次に、基板103に、リザーバ105c、リザーバ105dの位置を穴115c、穴115dの位置にそれぞれ合わせつつ、フタ113を載せた。この状態で、フタ113の各リザーバ位置に内径1.8mm、外径3.0mm、高さ3.0mmのガラスの管110をエポキシ樹脂により接着した。さらに、各リザーバに電極を設けた。これらの電極を用いて、流路107bの両端に電界を印加することができる。
こうして得られたチップを用いて、等電点電気泳動によりタンパク質を分離した。タンパク質は両性電解質であり、固有の等電点(pI)を有する。その結果、タンパク質などのサンプルはpH勾配上の個々の等電点と一致するpHの位置まで泳動することによって分離されると同時に濃縮される。
リザーバ105cに泳動に使用する液体、つまり試料としてタンパク質が入った両性担体(carrier ampholytes)溶液を導入し、次にリザーバ105dを通して流路内を真空引きすることにより、試料を流路内全体に満たした。その後、流路構造から漏れがないことを確認した。タンパク質として用いたものは、Myoglobin(1μg/μl、pI7.2)とβ−LactoglobulinA(1μg/μl、pI5.1)の2種類である。これらのタンパク質は、蛍光色素Cy3を用いて、あらかじめ染色した。
次に、リザーバ105cに0.02M水酸化ナトリウム溶液を、リザーバ105dに0.1Mリン酸溶液をそれぞれ導入し、これらのリザーバのそれぞれに電極をセットして電極間に1.8kVの電圧を印加した。その結果、チップ112に高電圧を印加しても試料が漏れることもなく、使用できることを確認した。
タンパク質は、流路107b中を泳動して、pH勾配上の個々の等電点と一致するpHの位置に集まる。その結果、タンパク質は、それぞれのpIに応じて分離され、バンド状に濃縮された。
本実施例のチップにおいては、検出部109は、流路107bの全体にわたる。分離されたタンパクは、検出部109で、光学的な方法で検出される。光学的検出としては、たとえば、あらかじめ分子に蛍光物質を結合させておき、検出部109においてレーザーを照射し、分子から発せられる蛍光を観測することによって行うことができる。
本実施例では、X−Y自動ステージと蛍光顕微鏡とフォトマルチプライヤーとを組み合わせた蛍光測定システムを使って、測定を行った蛍光顕微鏡の台として、X−Y自動ステージを使用した。チップはX−Y自動ステージのステージ上に載せ、検出部に蛍光顕微鏡の光学系を通じて励起光を照射する。検出部の蛍光測定では、蛍光顕微鏡の光学系を通じてフォトマルチプライヤーにてフォトンカウントを行った。
図46は、タンパク質を等電点分離した後に、フォトンカウントを行った結果である。横軸は、流路に沿ったステージの移動距離であり、右側は酸性側で、左側はアルカリ性側のpIとなっている。縦軸は、フォトンカウント数である。蛍光染色されたタンパク質が濃縮されている部分は、フォトンカウント数が大きく、ピークとして観測される。図46において、矢印A、Bは、それぞれ、Myoglobin、β−LactoglobulinAのピークである。図46より、本実施例のチップを用いて、タンパク質を等電点分離できることが分かった。
次に、分離、濃縮されたタンパク質の拡散を防ぐために、チップ112を急速冷却した。冷却温度は、試料やフタ113の種類、また用途に応じて適宜選択されるが、本実施例では、液体窒素を用いてアルミのブロック台を−150℃まで冷却しておき、そのブロック台を冷却ステージとして、その上にチップを載せることで急速冷却をおこなった。このとき、まず流路中の試料が固体化し、次にシートの粘着剤層が硬化した。試料を凍らせたことにより、流路107b内の試料を漏出させずにフタ113を除去することができた。
その後、硬化することで剥がしやすくなった樹脂層102を糊残りなく、基板103上から取り除いた。このとき、流路内に、ピッチ10μm、径4μmで凸構造が形成されていれば、樹脂層102に凍結した試料が付着することもなく、流路内に保持されることを確認した。その結果、流路107bは開放され、またその流路構造中に凍結した試料が保持された状態となる。
次段階は、分離したタンパク質を保持したチップを質量分析にかけることだが、凍結したままのチップは取り扱いが非常に難しい。凍結した試料は、冷却ステージから離すと、温度が上昇することによって容易に融解してしまい、分離されたタンパク質が拡散してしまう。よって、本実施例においては、第12の実施の形態に記載の方法で、あらかじめ−80℃に冷却しておいたアタッチメント2308を使用して流路107b中のタンパク質を凍結乾燥させた。
アタッチメント2308を用いて凍結乾燥した結果、基板103では、流路107bに試料中の成分が析出しており、分離した試料が乾燥状態で保持されていることを確認した。
図47は、タンパク質を等電点分離した後に凍結乾燥し、フォトンカウントを行った結果である。矢印Aおよび矢印Bは、それぞれ、Myoglobin、β−LactoglobulinAのピークである。図46、図47のピークA、Bは、それぞれ対応している。図47より、分離したタンパク質のピーク同士を分離したまま、乾燥状態で流路107b内に保持できていることを確認した。
次に、流路107b内の乾燥状態のタンパク質に対して、マトリックス溶液(シナピン酸10mg/ml)を添加した。添加方法は、ネブライザーを用いてチップに噴霧する方法とした。その後、基板103上のマトリックス溶液を自然乾燥させた。
この段階で、基板103は、マトリックスとタンパク質の混合物を保持している流路107bが剥き出しになっており、第1の実施形態に記載の方法を用いて質量分析を行うことにより、タンパク質を分析した。図47の矢印A、B部分に対応する流路107b部分に対して質量分析をおこなった。矢印A、B部分の質量分析結果から、それぞれ、Myoglobin、β−LactoglobulinAを帰属することができた。
本実施例では、フタ113を除去することにより、流路107bを開放することができた。これらの流路内の試料の漏れもなく、汚染は生じなかった。また、次にアタッチメント2308を用いて凍結乾燥を行い、分離したタンパク質のピーク同士を分離したまま、溶媒成分を昇華させることができた。この段階で、基板103は、タンパク質を保持している流路107bが剥き出しになっており、この部分に対してマトリックス溶液を添加し、第1の実施形態に記載の方法を用いて質量分析を行うことにより、タンパク質を分析することができた。

Claims (19)

  1. 表面に、試料の流路となる溝状に形成された微小空間を有する基板と、
    前記流路を覆う除去可能な蓋と、
    前記流路の両端それぞれに設置される電極と、
    を有し、
    少なくとも前記蓋に覆われている前記流路内の底面には、前記流路の幅よりも小さな複数の凸構造が設けられ、
    前記凸構造の表面と前記流路内の底面および/または壁面には、さらに微小な凹凸が設けられており、
    前記流路内の前記凸構造の表面は親水性で、前記蓋の表面は疎水性または撥水性であるチップ。
  2. 請求の範囲第1項に記載のチップにおいて、
    前記流路の幅方向に80μm以下の間隔で1つ以上の前記凸構造が形成され、
    且つ前記流路の長手方向に80μm以下の間隔で1つ以上の前記凸構造が形成され、
    且つ前記凸構造の上面が、前記蓋と接触している構造であることを特徴とするチップ。
  3. 請求の範囲第1項または第2項に記載のチップにおいて、
    前記凸構造の中心間が20μm以内の間隔で形成されたことを特徴とするチップ。
  4. 請求の範囲第1項乃至第3項いずれかに記載のチップにおいて、
    前記凸構造の前記流路の上面に垂直な面への投影面積の全周にわたる総和が、前記蓋が前記流路の内容物と接する表面積に対して0.5倍以上であるように構成されたことを特徴とするチップ。
  5. 請求の範囲第1項乃至第4項いずれかに記載のチップにおいて、
    前記流路の上面の面積の0.06%より多い面積を前記凸構造の上面の面積がしめていることを特徴とするチップ。
  6. 請求の範囲第1項乃至第5項いずれかに記載のチップにおいて、
    前記凸構造の上面の面積が、前記凸構造の底面の面積よりも大きい構造であることを特徴とするチップ。
  7. 請求の範囲第1項乃至第6項いずれかに記載のチップと、
    前記流路の内容物を前記流路内で固定する機構と、
    前記蓋により密閉された前記流路の内容物を含む領域を開放する機構と、
    を具備していることを特徴とする装置。
  8. 請求の範囲第7項に記載の装置において、溶媒乾燥機構を具備していることを特徴とする装置。
  9. 請求の範囲第7項に記載の装置において、
    前記固定する機構が、前記流路の内容物の流動性を喪失させることによって固定化する機構であることを特徴とする装置。
  10. 請求の範囲第9項に記載の装置において、
    流路の内容物の流動性を喪失させることによって固定化する前記機構が、前記流路中の溶液を凍結するチップ冷却機構であることを特徴とする装置。
  11. 請求の範囲第8項に記載の装置において、
    前記溶媒乾燥機構が、密閉槽と、溶媒が昇華可能な圧力まで前記密閉槽内を減圧する機構と、からなることを特徴とする装置。
  12. 請求の範囲第8項に記載の装置において、
    前記溶媒乾燥機構が、溶媒が蒸発可能な温度まで前記チップを加熱する機構からなることを特徴とする装置。
  13. 請求の範囲第7項乃至第12項いずれかに記載の装置の使用方法であって、
    前記流路の内容物を固定化した後、前記流路を開放することを特徴とする装置の使用方法。
  14. 請求の範囲第13項に記載の装置の使用方法において、
    前記流路の内容物を凍結させることにより固定化することを特徴とする装置の使用方法。
  15. 請求の範囲第13項に記載の装置の使用方法において、
    前記流路を開放した後に、前記流路の内容物を凍結乾燥させることを特徴とする装置の使用方法。
  16. 請求の範囲第13項に記載の装置の使用方法において、
    前記流路を開放した後に、前記流路の内容物を自然乾燥させることを特徴とする装置の使用方法。
  17. 請求の範囲第8項に記載の装置の使用方法であって、
    前記流路に試料中の成分を含んだ溶液を充填する工程と、
    前記流路にて前記試料を電気泳動により分離する工程と、
    前記蓋を外すことで前記流路を開放する工程と、
    を有する装置の使用方法。
  18. 請求の範囲第17項に記載の装置の使用方法において
    前記流路を開放する工程は、前記電気泳動による分離状態を維持した状態で前記試料を前記流路内に固定した後、前記蓋を外す使用方法。
  19. 請求の範囲第17項または第18項に記載の装置の使用方法であって、
    前記流路を開放後、前記流路の内容物を乾燥させる工程と、
    前記装置から前記乾燥後の内容物を取り出し、その後、次段階解析として試料の質量分析を行う工程と、
    を有する装置の使用方法。
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