JP3972172B2 - 流体を分配するための取り外し可能な部品のマニホルド装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の背景】
【関連出願】
本出願は、１９９８年７月８日付けで出願された、米国特許出願第０９／１１１，９９９号の一部継続出願である。
【０００２】
【発明の分野】
本発明は、流体を分配することを可能にするマニホルド装置、より具体的には、複数の個々のマニホルドブロックをガススティックに組み立てることにより半導体の製造環境内にてガスを分配することを可能にする半導体加工装置に任意に適応可能であるモジュラーマニホルド装置に関する。
【０００３】
【関連技術の説明】
ウェハ製造装置は、一般に、化学的蒸着、プラズマ蒸着、プラズマエッチング、スパッタリング等が実施される領域を含む構造とされている。これらの方法を行うためには、その工程に使用される工具及び機械に対し製造ステップを可能にする正確な量の加工ガスを供給することが必要である。これらのガスは、不活性、反応性とすることができ、又は特定の製造方法に必要とされるように、反応性薬剤を提供することができる。
【０００４】
例えば、エピタキシャル（ｅｐｉｔａｘｉａｌ）蒸着を実行するためには、乾燥した窒素のようなキャリアガスを通じて四塩化ケイ素を発泡させる。その後、そのキャリアガスは、四塩化ケイ素の蒸気をエピタキシャル蒸着チャンバ内に運ぶ。蒸着した酸化物被覆としても知られる酸化ケイ素の誘電性被覆を蒸着するためには、シラン（ＳｉＨ４）を工具内に流動させ且つ酸素を工具内に流動させ、この工具内にてそれら成分が反応しウェハの表面上に二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）を形成するようにする。四塩化炭素及び六フッ化イオウをプラズマエッチャー工具に供給することによりプラズマエッチングが行われる。成分をイオン化して、反応性のハロゲン種を形成し、次に、そのハロゲン種はシリコンウェハをエッチングする。ジクロロシラン及びアンモニアを工具内で反応させることにより窒化シリコンを蒸着することができる。各場合において、純粋なキャリアガス又は反応性ガスは、汚染物質の無い、正確に計測された量にて工具に供給しなければならないことが理解できる。
【０００５】
ある典型的なウェハの製造施設において、不活性で且つ反応性のガスは、施設の基礎に配置することのできるタンク内に貯蔵され、又そのタンクは、管又は導管を介して弁のマニホルドボックスに接続される。タンク及び弁マニホルドボックスは、施設レベルの装置の一部分であるとみなされる。工具レベルにて、プラズマエッチャー等のような工具装置の全体は、ガスパネル及び工具自体を備えている。工具内に含まれるガスパネルは、手動弁、空圧弁、圧力調節装置、圧力変換器、体積流量制御装置、フィルタ、浄化器等のような作用可能な部品が接続された複数のガス流路を有している。全ては、弁マニホルドボックスから工具自体に正確に計測した量の純粋な不活性又は反応性のガスを供給する目的は有する。
【０００６】
ガスパネルは、工具と共にキャビネット内に配置され、また、典型的に比較的大きいスペースを占める。それは、作用可能な装置の各々は、装置に管を溶接することにより又はキャージョンコーポレーション（Ｃａｊｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）等から入手可能なＶＣＲコネクタのような溶接及びコネクタの組み合わせの何れかを通じてガスパネル内に配管されるからである。
【０００７】
ガスパネルは、製造が比較的難しく、従って高価である。組み合わせたＶＣＲコネクタ及び溶接した管装置において、個々の部品は、ＶＣＲ接続具に接続する前に、整合状態とすべくシム付きの支持体上にて保持される。ＶＣＲ接続具における整合外れは漏洩を生じる可能性がある。
【０００８】
更に、ＶＣＲ接続具は、輸送中に緩み易いことがしばしばであることが判明し、一部のガスパネルの製造メーカは、ＶＣＲ接続具は輸送中に緩み、装置に汚染物質が入ったものと想定する。
【０００９】
かかる装置において、溶接は比較的高くつくが、通常、管副軸及び管を共に溶接するため旋回溶接ヘッドを備える、タングステン不活性ガス（ＴＩＧ）装置を使用して溶接が行われる。この溶接は、アルゴンのような不活性な雰囲気中で行われなければならず、この不活性な雰囲気の場合でさえ、管内の表面仕上げ部分が劣化することがある。現代のガスパネル装置及びガス取り扱い装置の重要な特徴の一つは、ガス又は蒸気が接触し易いガス取り扱い装置の表面を可能な限り平滑で且つ非反応性であるように形成し、汚染物質が管内に付着し、加工されるウェハを汚染する可能性のあるパーティキュレート又はダストが形成されるであろう核形成箇所及び集め領域の数を少なくしなければならないことである。
【００１０】
従来のガスパネルに伴う更なる問題点は、現在、使用されている型式の組み合わせたＶＣＲ及び溶接装置は、使用する間に、ＶＣＲ接続部にアクセスし且つ開放し得るようにするため、典型的に相当なスペースを各部品の間に必要とすることに関する。更に、作用可能な部品を現在のガスパネルから除去するためには、その周囲の部品の支持体の多くを緩め、対象とする作用可能な部品を除去し得るように、部品を拡げ得るものでなければならない。
【００１１】
例えば、ガスパネルのシラン線に「ダストが付着する」とき迄は単に時間の問題に過ぎないことを殆どのウェハの製造メーカは知っている。空気が作用可能なシラン線内に洩れるときに、「ダストの付着」が生じ、発熱反応を生じさせて、管内にルーズなパーティキュレートのシラン二酸化物を発生させ、これによりその線を汚染させる。その他の線もまた、汚染される可能性がある。例えば、エッチャーにて使用される塩素ガスを運び又はその他の反応に使用される水素塩化物を運ぶものがある。空気の湿度中に含まれる水分と混合する水素塩化物は、塩化水素酸を発生させ、この塩化水素酸は、管の内側を腐食させ、その内側を粗面にし且つ核形成箇所の数を増し、管の内部に望ましくない付着が生じる可能性を増す。これらの場合の双方又はその他の場合において、ガスパネルを清浄にするためガスパネルのパーティキュレート線を開放することが必要となるであろう。更に、個々の部品が故障すると、線を清浄にするためその線を開放することが必要となり、このことは時間を消費し且つ非経済的である。
【００１２】
流体分配装置の例は、半導体の分野のみならず、生物化学に関係する産業界のような他の分野でも見ることができる。米国特許第５，６５３，２５９号には、一般の流体流路の鋸歯の設計による特別な形態のマニホルドブロック及び弁装置を使用することが開示されている。米国特許第４，１６８，７２４号には、適当な弁部材に接続することのできる一般の導管線を有するマニホルドブロックが開示されている。
【００１３】
米国特許第３，３８４，１１５号には、空圧論理装置を共通のマニホルドブロックに取り付けることが開示されている。米国特許第４，１８１，１４１号には、円筒状のコネクタプラグを使用することによりモジュールを順次に接続することを許容する空圧制御回路が開示されている。
【００１４】
米国特許第４，３５２，５３２号には、空圧及び電気的に作動される制御装置を複数、取り外し可能に保持することのできるマニホルド装置が開示されている。同様に、米国特許第４，０９３，３２９号には、複数の特性制御装置を有するマニホルドアセンブリが開示されている。国際公開第９８２５０５８号には、相互に接続した複数の別個のブロックを有するガスパネルが開示されている。米国特許第４，５２４，８０７号には、スナップ止め式のモジュラーマニホルド構造体が開示されている。米国特許第３，０２５，８７８号、米国特許第４，９２１，０７２号、米国特許第５，６６２，１４３号、米国特許第５，１７８，１９１号及び国際公開第９５１０００１号は、一般的な関連技術として引用してある。
【００１５】
従来技術は、未だ、ガスのような流体を半導体製造装置に供給することを最適化しようとしており、密封及び除去を容易に行うことのできる標準的な部品の相互接続面を許容し、これにより規模による経済性を実現する表面取り付け型のガス供給装置を提供することが望まれる。
【００１６】
【発明の概要】
本発明は、半導体加工ガスのような流体を分配することを可能にし且つ作用可能な部品の相互接続面を標準化することを可能にする、改良された表面取り付け型のガス供給装置を提供するような設計としたものである。部品の相互接続面を標準化することにより、ガス供給物品の製造、販売、それらの工場及び現場での在庫数を最小にすることができ、また、顧客の需要に合うように任意の設計を許容しつつ、規模による経済性を実現することが可能となる。
【００１７】
本発明は、マニホルドブロックの各々が共通の表面にアクセスする入口及び出口ポートを有する流体路を備える、複数の個々のマニホルドブロックを提供することにより、従来技術の問題点の解決策を提供するものである。一般的な表面は、体積流量制御装置、圧力及び流量測定センサ、圧力調整装置、ガス乾燥器、フィルタ、浄化器、弁等のような作用可能な標準的部品を取り付け、それぞれの隣接するマニホルドブロックの各々が密封条件を容易にし得るように、共通の面内に維持される。作用可能な部品は、隣接するマニホルドブロックを亙って架橋結合し又はそのブロックを渡って伸びて、マニホルドブロックの各々は、取り外し可能に整合され且つ相互に連結されて、それぞれの流体流路を密封相互接続可能であるように、作用可能に位置決めすることを許容する。マニホルドブロックは、取り付け面の均一さ及び正確な製造管理を保証すべく同一の形態とすることができる。
【００１８】
マニホルドブロックの第一の実施の形態において、本体中央部分は、該本体中央部分から片持ち状とした相補的な形態とされた第一フランジたる上側フランジ及び第二のフランジたる下側フランジを支持することができる。第一のフランジたる上側フランジ及び第二のフランジたる下側フランジの寸法及び位置は互いに相補的であるようにする、すなわち、それぞれのフランジを通って伸びる適当な固着穴により相互に接続されたとき、この入口ポート及び出口ポートに対する共通の面が共通の面内に保持され、これにより、通路を容易に密封することが確実であるようにする。これらポートの1つは、上側フランジ内に且つマニホルドブロックの本体中央内に伸びる。自己整合穴は、隣接するマニホルドブロックの下側フランジにおける相補的なねじ付き穴を合わさるように上側フランジに位置決めすることができる。従って、ねじ付きねじ又はボルトは、自己整合し且つアレンレンチのような簡単な工具により隣接するマニホルドブロックを相互に接続するために使用することができる。それぞれの上側フランジ及び下側フランジは、一対の隣接するマニホルドブロックを取り外し可能に相互に係止する手段を提供する働きをする。
【００１９】
一対の隣接するマニホルドブロックを相互に係止する第二の代替的な実施の形態として、別個のコネクタプレートがマニホルドブロックを亙って伸び又は跨ぎ、特別な半導体の用途の条件に適合するように、任意の設計とすることのできるモジュラーマニホルドアセンブリを提供する。個々のマニホルドブロックは、同一であることが好ましいが、特殊な用途には、特殊な取り付けフランジ又は追加的な流体路を提供することができる。
【００２０】
相互係止を可能にする本発明の第三の実施の形態は、一対の隣接するマニホルドブロックの下方を伸びる薄い平坦なプレートを備えることができる。該プレートは、共通の面が密封目的のため共通の平面内に保たれるようにすることを保証するようにこれらマニホルドブロックを共に十分な強度にて係止する。
【００２１】
本発明の第四の実施の形態は、特殊な流体分配装置を受け入れ得るように相互に接続することのできる個々のマニホルドブロックを複数、有している。マニホルドブロックの各々は、共通の上面にアクセスするための少なくとも１つの入口及び出口ポートを有している。作用可能な部品は、シールと共に、共通の上面に取り付けられている。作用可能な部品は、分配装置内にて固着すべく１つのマニホルドブロックに更に、直接的に更に取り付けることができる。マニホルドブロックの各々は、第一のフランジたる上側フランジ及び第二のフランジたる下側フランジを有する本体中央部分を備えている。非限定的に、一対の円筒状ポストのような垂直整合装置は、１つのフランジ面から伸びる一方、他のフランジ面は、非限定的に、隣接するマニホルドブロックにおける垂直の整合面と相互に反応する一対の円形の開孔のような相補的な垂直受け装置を支持することができる。
【００２２】
理解し得るように、各実施の形態における個々のマニホルドブロックの各々は、所望であるならば、支持面に固着することができる。適当なボア穴は、取り外し可能な接続を容易にし得るように貫通して伸びるようにする。
【００２３】
第一の実施の形態において、マニホルドブロックの本体中央は、隣接するマニホルドブロックからずらされており、これにより、それぞれのマニホルドブロックを亙って架橋結合し得るように体積流量制御装置のような作用可能な部品の部材を受け入れるのみならず、洩れの検出を容易にし得るように、外部のガスが流れることも許容する。
【００２４】
モジュラー式の複合的マニホルド装置を提供することにより、標準化した個々のマニホルドブロックを標準化した設置スペースと共に使用して、ガスパネル線のそれぞれのステーションの各々にて作用可能な部品に接続することができる。このように、複合的マニホルドブロックを次のように配置することができる、すなわち、入口にてマニホルドブロックがガス、流体又は蒸気を受け取り、その流体を複数の内部通路まで通すことができるような配置にする。これら複数の内部通路は、密封され且つ作用可能な部品を受け入れる複数のステーションに接続されており、流体は、最終的に、半導体製造装置に供給される。
【００２５】
モジュラー式マニホルド装置は、任意に伸び且つ作用可能な部品の各々の本体を個々のマニホルドブロックの面に対し実質的に直角に位置決めすることができる。このマニホルドブロックの面は共通の面に沿って整合される。作用可能な部品は修理又は交換のために容易に除去することができ、また、複数のアレンボルトによりマニホルドブロックに取り付けることができる。マニホルド装置は自己整合式とし、マニホルドブロックの各々が予め製造された反復可能な機械の部品であるようにする。作用可能な装置は、適当なシールにより個々のマニホルドブロック上に直接、支持され且つそのマニホルドブロックに接続されているため、溶接接続部又はＶＣＲ管接続部を提供する必要は全くない。
【００２６】
本発明の正確な性質、及びその目的並びに利点は、図面の全体を通じて同様の部品を同様の参照番号で表示する添付図面と共に検討したとき、以下の詳細な説明から容易に明らかになるであろう。
【００２７】
【好ましい実施の形態の説明】
以下の説明は、当業者が本発明を実施し且つ使用することを可能にし得るように記載したものであり、また、本発明を実施する発明者達が意図する最良の形態を挙げるものである。しかし、本発明の全体的な原理が本明細書に具体的に記載されており、作用可能な部品をガス通路と相互に接続し得るように適宜に密封することを許容するため任意の形態とされ且つ相互に接続することのできるモジュラー式マニホルドブロックを利用することにより、半導体分野におけるガスのような流体を分配することを可能にする改良されたマニホルドを提供するものとして具体的に記載されているから、当業者には色々な改変例が容易に明らかであろう。
【００２８】
現代のＩＣチップ製造メーカは、直径３００ｍｍサイズのウェハのような大径のウェハ上にてより多くの半導体を加工することによりその製品の効率を向上させている。かかる設計の目的は、その加工工具に対する作業スペースが最優先事項であるから、装置のサイズ及び製造の増加を最小にすべく工具の製造メーカに対して更なる要求を課している。また、稼動停止時間を短くするため、補助装置のサイズを小さくし且つその信頼性を向上させることも望まれる。
【００２９】
一般に、半導体加工工具は、ＩＣパターン及びウェハの製造に関係する全ての工程を取り扱うことができる自己密閉型工具である。多くの補助装置の１つはガス供給装置である。このガス供給装置は、ＩＣパターンを現像する上で極めて重要であり、清浄で且つ制御されたガスを確実に且つ維持可能な仕方にて供給しなければならない。ガス供給装置は、加工工具の容積の僅か１０％乃至２０％しか占めないが、寸法が小さければ、３００ｍｍウェハを受け入れるべくより大きく形成しなければならない加工チャンバのような他の部品に必要とされる膨張を相殺するのに役立つから、その寸法を少しでも縮小することは有益である。通路付きのステンレス鋼ブロックの形態にて製造したガススティックに基づくガス供給装置は、本発明の譲受人により１９９６年１０月３０日付けで出願された、ガスパネル（Ｇａｓ Ｐａｎｅｌ）という米国特許出願第０８７３９，９３６号におけるようなものが提案されている。この係属中の米国特許出願は、参考として引用し本明細書に含めてある。
【００３０】
本発明を具体化するガスパネルアセンブリは、作用可能な装置の各々が別個に整合される点にて製造が容易である。例えば、一対のマニホルドブロックの表面上における圧力調整器と装置の受け入れステーションとが整合外れ状態となったとしても、その結果として、隣接する弁の体積流量制御装置等が全体的なマニホルド構造体から非整合状態に配置されることはない。このように、生ずるであろう全ての整合外れは、本発明のマニホルド装置を使用することを通じて隣接するステーションから絶縁される。また、作用可能な装置と接続し且つ整列するマニホルドブロックの同時的能力によって許容公差が累積する問題点も解消される。
【００３１】
マニホルド装置に接続される作用可能な装置の各々は、次のように製造することができる、すなわち、これらの装置が組み合わせシール及びねじの捕捉機構の部品を含み、シールは、該シールを作用可能な装置と整合状態に保持する止め具を含み、ねじは、該ねじを作用可能な装置の取り付け部分のボア内に保持するためナイロン割り型リングにより捕捉状態に保持される。このことは、迅速に且つ容易に組み立てることを許容する。作用可能な装置は、作用可能な領域の端縁シール上に着座する。これらの端縁シールは、広範囲で且つ精密な表面仕上げを必要とせず、しかも、マニホルド装置と作用可能な装置との間のガス入口及び出口にて漏洩無し且つ汚染無しの優れた継手を提供する。シールは、修理中、交換のため容易に取り外し可能である。これらシールは、現場にてマニホルド表面上の作用可能な装置を交換するときに特に有用な自己係止する止め具を備えている。
【００３２】
本発明のガスパネルマニホルド装置は、また、マニホルドアセンブリの全体、又はスティックには加熱されたテープ又はその他の型式のヒータが取り付けられ、作用可能な装置の部品間にて伸びるマニホルドボアの全てを加熱し且つ装置の加工ガス管の各々の全体を通じて低蒸気圧力のガス又は蒸気を蒸気状態に保つことを可能にする。
【００３３】
本発明のガスパネルマニホルド装置は、溶接及びＶＣＲ接続部が破損してはならないような分野にてユーザが容易にガスパネルの形態を再設定することを許容する。作用可能な装置は、その装置を持ち上げて作用可能な装置及び新たに接続された装置との接続から分離するだけで交換し又は追加することができる。
【００３４】
マニホルド装置の上流端及び下流端の双方に一対の窒素パージ入口を設け、作用可能な装置をマニホルド装置から取り外すことが必要であるならば、マニホルド装置を通じて乾燥窒素を後方に且つ前方の双方に吹き出すことができる。乾燥した清浄な窒素は、作用可能な装置の露出した入口ポートおよび出口ポートの双方から出て、また、作用可能な装置領域を交換する過程中にマニホルド装置の他の部分の汚染を解消することができる。
【００３５】
上記の作業の利点は、個々のマニホルドブロックに対して３１６Ｌステンレス鋼を使用し、ステンレス鋼ブロックに穿孔された内部通路は特殊なガスによる腐食を最小にすべく酸化クロムにて不動態化することによって本発明により更に発展させることができる。各部品の入口ポート及び出口ポートは、マニホルドブロックの内部のＶ字形の通路形態に合うように位置決めされる。このことは、ガススティックを通る流路を完成させるべく隣接する部品の内部を接続することを可能にし且つ管及び接続具に対するスペースを形成する必要性を解消することになる。このように、従来の溶接装置よりも５０％ほど縮小したガスパネルの寸法を実現する本発明の設計上の目的が実現される。また、マニホルドブロックのモジュラー式の方策は、非限定的に、アレンレンチのような手動工具のみにて作用可能な部品を取り付け且つ取り外すことによって各部品へ直接、アクセスすることを許容する。作用可能な部品への直接的なアクセスを可能にすることにより、損傷した作用可能な部品のみを除去するだけで修理を簡単に行うことができ、これにより運転停止時間を短縮することができる。マニホルドブロックは標準化されているため、作用可能な部品をこのガススティック上の任意の箇所に設けることができるから、従来の溶接装置に内在する設計上の自由さが維持される。モジュラー装置内にシールを設け、密封過程中、作用可能な部品の取り付け相互接続面及びマニホルドブロックの双方が、漏れ無しの装置を提供し得るように展性のニッケルシール又はこれと代替的に、ステンレス鋼シールを備える、機械のグランドを内蔵している。取り付ける間、シールは、全体として、０.１μｍ以上のパーティキュレートを発生させることはなく、発生される可能性のあるパーティクルは、典型的に、１分以内にてガス装置外に排出することができる。
【００３６】
図１を参照すると、本発明の第一の実施の形態が開示されており、ここで、複合的マニホルドアセンブリ２は、作用可能な装置を形成し得るように、個々のマニホルドブロックを組み合わせることにより適当な支持面上に取り付けることができる。開示したように、３つのマニホルドブロック４の各々は、同一であり且つ３１６Ｌステンレス鋼のようなステンレス鋼材料にて形成されている。Ｖ字形のガス通路がマニホルドブロックの各々に設けられており、また、図１に図示するように、これらの通路は、共通の上面３８上に配置されたアクセスポートを有している。説明の容易化のため、流路は、左方向から右方向に伸びるものとみなすが、通路は逆方向にすることも容易であり、従って、入口ポート６は、出口ポート８と共に上面３８上に示してある。入口ポート６は、マニホルド本体中央部分１２から片持ち状にされた上側フランジ部材１０上に部分的に位置している。下側フランジ部材１４は、直ぐ隣接するマニホルドブロックの上側フランジ部材１０に合う相補的な形態となる寸法とされている。以下に説明するように、図１に図示しない作用可能な部品は、１つのマニホルドブロック４上の入り口ポート６を渡って隣接するマニホルドブロック上の出口ポート８まで架橋する。上側フランジ部材１０は、約５．０８ｍｍ（約０．２インチ）の隙間だけマニホルドの本体中央部分１２からずらしてあり、それぞれの出口ポートの中央点と出口ポートとの間の距離は約１２．７ｍｍ（約１／２インチ）である。作用可能な部品の下方のこの隙間は、当業者に理解され得るように、少しのガスの漏洩をも検知することを容易にすることができる。本出願の何れの図面にも図示しないが、ガススティックは、安全上の目的のため、また、ガス供給装置からの全ての漏洩ガスのパージを制御し得るように密封したハウジング内に取り付けることができる。
【００３７】
図２を参照すると、入口ポート６と出口ポート８との間のＶ字形のガス通路はが仮想線で示してある。上側フランジ部材１０上における一対の適当なボア穴１６、１８は、任意のボルト締結具を自己整合することを可能にする斜角付きの下面を有している。それぞれのボア１６、１８は、隣接するマニホルドブロックの下側フランジ部材１４のねじ付き開孔２０、２２と適正に整合する。
【００３８】
図４及び図５にて理解し得るように、フランジを作用可能な部品の上にて締結することを可能にし得るように一対のねじ付きボア２４、２６、２８、２９が各周側部に設けられている。最後に、両側部に一対のリセス部３０、３２も設けられており、止め具部材を使用可能な部品の底部に締結すべくねじの任意の突出部を受け入れ得るようにしてある。ボア開口部１６、１８は、十分な深さであり、このため、適正な締結具を密封したとき、依然として、止め具部材と関係した任意の締結ねじ又はボルトの突出する頭部を受け入れるべく締結具の上方に十分な垂直方向隙間が存在する。
【００３９】
再度、図１及び図２に図示するように、下側支持面７に取り付けるべく締結具３１を受け入れ得るように、下側フランジ部材１４の両側部に貫通穴３４、３６が設けられている。上側フランジ部材１０は、例えば、アレンレンチによって、かかる任意の締結具３１にアクセスすることを容易にすべく適宜にテーパーが付けられ又は切り込まれている。
【００４０】
理解し得るように、本発明の第一の実施の形態は、個々のマニホルドブロックを相互に接続して、特定の流体分配装置を受け入れ得るようにマニホルド本体中央部分１２から片持ち状に設けられた特定の上側フランジ部材１０及び下側フランジ部材１４を有する複数のマニホルドブロック４を利用する。マニホルドブロック４の各々は、共通の上面３８にアクセスする入口ポート６及び出口ポート８を有する流体路を備えている。上側フランジ部材１０及び下側フランジ部材１４の寸法は次のようになっている、すなわち、これらの部材は、互いに渡って伸びて、これにより、一対の隣接するマニホルドブロック４を取り外し可能に相互に係止し、それぞれの流体通路を相互接続可能に位置決めすることを作用可能に許容し得るようにしてある。
【００４１】
図３を参照すると、入口ポート６から出口ポート８まで伸びる長手方向中心線に沿った断面図が、マニホルドブロック装置内の端部片として使用することのできる代替的なマニホルドブロック４０に対して図示されている。この端部片マニホルドブロック４０は、また、図４及び図５に図示したガススティック内の二重の下側フランジマニホルドブロック４２と相互に接続することもできる。図示するように、一連の３つの同一のマニホルドブロック４が二重の下側フランジマニホルド４２から積み重ねられ且つ接続端部片４４にて終わっている。
【００４２】
接続端部片マニホルドブロック４４は、基本的に、Ｔ字形の形態の通路を開示し、ここで、入口ポート４６は、マニホルドブロック４４の両側部にて一対の出口ポート４８、５０と流体的に接続されている。図４に図示したガススティック装置の長手方向軸線に対して直角にガススティック装置が伸びることを可能にし得るように同等の穴及びボアが含まれている。
【００４３】
図５に図示するように、適当なシール５６及び一対の割り型リングプラスチックリテーナ５８を支持する止め部材５４によって管カプラー５２が端部片４０のマニホルドブロックの頂部に取り付けられている。一対のねじ付きボルト６０、６２が端部片マニホルドブロック４０を二重の下側フランジマニホルドブロック４２に相互に係止することができる。シールは、それぞれのねじ付きボルト６０を単に締め付けるだけで実現される。ねじ又は締結具６４は、密封部材５６及び割り型リテーナ５８が所定位置にある状態にて止め部材５４を管カプラー５２の底部に対して保持することができる。一対のボルト６６が管カプラー５２を入口ポート６８と整合状態にて端部片マニホルドブロック４０の表面に対して固着する。
【００４４】
弁アセンブリ７０、７２のような作用可能な部品の各々に対して同様の配置が提供される。適当な止め部材７４、７６は、シール７８、８０及び割り型リングリテーナ８２、８４を支持する。
【００４５】
それぞれの作用可能な部品７０，７２上におけるフランジ８８、９０を端部片マニホルドブロック４０、二重の下側フランジマニホルドブロック４２及びマニホルドブロック４の上面に対し締結するためボルト８６が使用される。このように、作用可能な部品７０は、管カプラー５２に直ぐ隣接する位置に配置される一方、該管カプラー５２は、適当なガス管（図示せず）に接続することができる。作用可能な部品７２は、図４に図示するように、二重の下側フランジマニホルドブロック４２の上面及び隣接するマニホルドブロック４を架橋する。
【００４６】
本発明の１つの代替的な実施の形態が図６及び図７に図示されている。この実施の形態において、コネクタプレート９２は、個々のマニホルドブロック９４の下面を渡って伸びるように個々に設けられている。この場合にも、個々のブロック９４の各々は、同一であり、マニホルドブロック４に関して説明したように、適当なガス通路、ねじ付きボア及びボア開口部を有している。第一の実施の形態に関して上記に説明したように、適当なシール止め具１００及びシール１０２内にてそれぞれのマニホルドブロック９４の共通の上面に作用可能な部品９６、９８を取り付けることができる。コネクタプレート９２の各々の隅部は、該隅部の各々に適当なボア１０６を有する状態にて適宜に切欠き又はリセス部が形成されている。マニホルドブロック９４の各々の底部にてねじ付きボア（図示せず）と螺着可能に係合し得るように、締結具ボルト１０８は上方に伸びることができる。コネクタプレート９２の厚さ及び切欠き１０４の垂直方向寸法は、締結具の頭部を切欠き内に受け入れることを許容し得るようなものとする。
【００４７】
第二の実施の形態において、コネクタプレート９２は、同一に製造し且つマニホルドブロック９４の各々の下方にて架橋し又は交差するとき、集合的なマニホルドブロック９４の共通面を共通の平面内に保持するのに十分な強度を提供するようにする。
【００４８】
このように、第二の実施の形態において、コネクタプレート９２が同一であるの結果、そのそれぞれの流体路を作用可能な部品と相互に接続するために位置決めすることを作用可能に許容し得るように一対の隣接するマニホルドブロック９４を取り外し可能に相互に係止する手段が実現される。
【００４９】
本発明の第三の実施の形態が図８、図９及び図１０に開示されている。図９には、マニホルドブロック１１０の断面図が開示されている。マニホルドブロック１１０の底側部の平面図は図１０に図示されており、ここで、中央リブ部材１１２は、Ｖ字形のガス通路を受け入れる。コネクタプレート１１４は、該コネクタプレート１１４の各側部にて適正に切欠いており、これにより、リブの突起１１２を受け入れる。図８のガススティックの分解図にて示すように、Ｌ字形の端部マニホルドブロック１１６から開始し、後続の隣接するマニホルドブロック１１０、Ｔ字形のマニホルドブロック１１８へと続き、他端のマニホルドブロック１１６にて終わる、複数の異なるマニホルドブロックをこの装置内に使用することができる。適当な止め具及びシールに関して上述したように、個々のマニホルドブロックを適当なコネクタプレートに接続するために適正な締結具ボルトを使用することができる。
【００５０】
理解し得るように、個々のマニホルドブロックの形状は変更可能であるが、マニホルドブロックの各々は、共通の面にアクセスするための入口及び出口ポートを有すすることができる。共通の面上にて相互に接続し得るようにそれぞれの流体通路を位置決めすることを作用可能に許容し得るように、一対の隣接するマニホルドブロックを取り外し可能に相互に係止する手段は、コネクタプレート１１４及びスペーサコネクタプレート１２０により提供することができる。
【００５１】
本発明の第四の実施の形態が図１１乃至図２２に開示されている。この第四の実施の形態は、１つのマニホルド装置を構成し且つガススティック内にて作用可能な部品を容易に取り外し且つ交換することを許容するため個々のマニホルドブロックを使用することができるという利点がある。この第四の実施の形態は、集合的な面が共通の平面内にある状態にて共通の面をマニホルドブロックの個々の面の各々に保つことを確実にして、作用可能な部品とそのそれぞれのマニホルドブロックとの密封接続を容易にすることに役立つ垂直整合装置を開示するという利点を更に提供する。更に、この第四の実施の形態は、１つの作用可能な部品を単一のマニホルドブロックにのみ確実に固定することができる一方にて、作用可能な部品が隣接する個々の一対のマニホルドブロックの上方を架橋し、これらの個々のマニホルドブロックと共に、作用可能なガススティックを形成し、ガスを半導体工具に供給することを可能にする。
【００５２】
図１２、図１４乃至図１６から理解し得るように、マニホルドブロックの異なる形態は、第四の実施の形態のマニホルド装置を構成するために使用される複数のマニホルドブロックを備えることができる。異なるマニホルドブロックは、異なる型式の作用可能な部品を受け入れて、一対以上の入口及び出口ポートと相互に接続することのできる流体通路及び作用可能な部品を架橋することができる。これら入口及び出口ポートの各々は、共通の面を共有し且つ共通の長手方向平面内に配置されるように、マニホルドブロックの上面に設けられる。
【００５３】
この第四の実施の形態において、本体中央部分から伸びる上側フランジ及び下側フランジは、雄型又は雌型の構造に又は蟻継ぎの形状にて更に画定される。しかし、フランジ間の相互接続部の特別な形状は、整合装置及び組みの取り付け開孔を受け入れ、作用可能な部品の各々とマニホルドブロックとのそれらの相互接続面との間に正確な密封を確保する能力としては重要ではない。
【００５４】
図１１及び図１２を参照すると、複数の個々のマニホルドブロックにて形成されたマニホルド装置２０２と共に、ガススティック２００が図示されている。一端のマニホルドブロック２０４は、本体中央部分２０８に接続された上側フランジ部分２０６を有している。この端部マニホルドブロック２０４は第一の隣接するマニホルドブロック２１４とのみ相互接続する設計とされているから、このブロックは、上側フランジ部分２０６と反対側の中央フランジ部分２０８の側部に相補的な下側フランジを備えていない。上側フランジ２０６は、より大きい本体中央部分２０８から片持ち式の実質的に四角の形態とした雄型部材を提供する。上側フランジ部材２０６は、本体中央部分２０８を貫通して伸びるＶ字形の流体路２１１により接続された出口ポートを有し、また、流体路の一部分は、図１３、及び更に図２２に見ることができる。流体路２１１は入口ポート２１２に接続する。
【００５５】
上述したように、マニホルドブロックは、３１６Ｌステンレス鋼にて形成することができる。雄型の形態の上側フランジ２１６及び雌型の形態の下側フランジ２１８の双方を有する複数の同一マニホルドブロック２１４は、図１１に図示するように相互に接続することができる。下側フランジ２１８は、本体中央部分２２０から共通の面の連続部分により３側部にて取り囲まれており、これにより、上側フランジ２１６の形態をレリーフする。下側フランジ２１８の両側部から上方に伸びる、形成される側脚部又は分岐部２２２は、取り付け開孔２２４を支持することが好ましい。作用可能な部品の端部又は隅部を単一のマニホルドブロックに強固に固着することを可能にするため、追加の対の取り付け開孔２２４が本体中央部分２２０の上にも設けられている。隣接する上側フランジ２１６又は雄型部品は、雌型部品内に取り付けることができ、その垂直方向厚さは、共通の上面に対し本体中央部分２２０を提供するようなものとする。要するに、出口ポートを有する雄型上側フランジ２１６は、下側フランジ２１８の面と作用可能な部品の底部との間に圧縮し又は挾持し、出口ポート２１０の適正な整合を保証する。
【００５６】
図１７には、マニホルドブロック２１４における入口ポートと出口ポートとの間の通路が仮想線で開示されている。
一対の止めピン又は取付けポスト２２６を備えることができる垂直整合装置は、下側フランジ２１８の面から垂直上方に伸びている。円筒状の止めピン２２６は、ポスト部材を形成し得るように、下側フランジ２１８の表面に穿孔され且つ寸法決めされた適当な開孔内に押し込み嵌めすることができる。押し込み嵌め配置状態にある止めピン２２６を使用することにより、機械加工コストを著しく削減し且つ正確な寸法の止めピン２２６を得ることができる。垂直受け部装置は、ポスト部材２２６を受け入れ得るように適正に隔て且つ寸法決めした一対の貫通ボア２２８を含むことができる。
【００５７】
止めピン２２６の高さに対する雄型部材の厚さは、相互に接続し且つ整合させたとき、ガススティックの長さに亙って蓄積する曲がりが存在しないように、隣接するマニホルドブロック間に何ら傾動が存在しないことを確実にする。一対のポスト部材を有する垂直整合装置が開示されているが、楕円形のピン、菱形、四角等のような水平方向への回動を防止する形態の単一のピンを使用してもよい。
【００５８】
マニホルドブロック２１４の一対の雄型端部を連結するため二重の雌型コネクタブロック２３０を使用することができる。二重の出口ポートの端部マニホルドブロック２３２は、このマニホルド装置２０２を完成させる。従来の取付け通路２３４を取付けブラケット２３６、２３８と共に組み合わせて、マニホルド装置を支持面（図示せず）に固着することができる。アレンレンチを受け入れる六角頭２４０を有するボルトを使用して、取付けブラケットを取付け通路２３４に固着することができる。理解し得るように、取付けブラケットの特定の形態及びその取付け穴の配分は、マニホルドブロックの寸法及び形態の相違に対応し得るように変更することができる。当該技術分野で公知であるように、取付け通路２３４に沿った任意の位置に任意に配置することのできるばねナット２４２にボルト２４０を固着することができる。
【００５９】
図１１、図１２及び図２２に図示するように、最初のＶＣＲ接続具２４４をマニホルドブロック２０４に直接、固着して、ガス供給源に接続する接続具を提供することができる。上側フランジ２０６における出口ポート２１０は、隣接するマニホルドブロック２１４における下側フランジ２１８内に且つその上方にて入れ子式に収容される。垂直整合受け部を構成する取付け開孔２４６は、下側フランジ２１８から垂直上方に伸びるポスト部材２２６を受け入れる。上側フランジ２０６の垂直方向への相対的厚さは、取付け開孔２４６内に受け入れたとき、ポスト部材２２６の許容公差が小さいため、何ら傾動が存在しないことを確実にする。また、端部取付けマニホルドブロック２０４の水平方向上面は、隣接するマニホルドブロック２１４の水平方向上面と共通の平面内にある。
【００６０】
従って、手動オン／オフ弁２５０のような作用可能な部品を本体中央部分に対し且つ下側フランジ２１８を取り巻く分岐部２２２の開孔に対し密封可能に取り付けたとき、入口ポート２５２との密封接続部が形成され、このため、手動オン／オフ弁２５０はガススティック内へのガスの供給を制御することができる。この構成において、手動オン／オフ弁２５０の基部は、図１３の断面形態に示すように、端部マニホルドブロック２０４及びマニホルドブロック２１４の共通の面を亙って密封されるが、ボルト２７８によりマニホルドブロック２１４にのみ強固に定着される。図１３において、マニホルド装置の断面図は、中心線に沿って描いたものであり、このため、作用可能な部品の取付け開孔は図示されていない。手動オン／オフ弁２５０のような作用可能な部品は、端部マニホルドブロック２０４及び直ぐ隣接するマニホルドブロック２１４のような、隣接するマニホルドブロックを架橋して、ガススティックを通る流体路の連続部分を提供する。しかし、作用可能な部品２５０は、ボルト２７８により適当な圧力シールを提供し得るように定着され且つ固着されているだけであり、このボルト２７８は、マニホルド装置の上方から手動で締め付けることができ、ボルト２７８は、中央部分２２０の組みの取付け開孔２２４及びマニホルドブロック２１４の分岐部２２２を通って伸びる。その全てが共通の水平面を共用する、隣接するマニホルドブロック上に作用可能な部品を取り付ける同様の配置は、図１１及び図１３に示したガススティックを渡って繰り返す。このように、圧力調整器２５４は、第二のマニホルドブロック２１４上にのみ定着される一方、空圧遮断弁２５６は、同様に、後続のマニホルドブロック２１４にのみ取り付けられる。
【００６１】
体積流量制御装置２５８は、二重の雌型コネクタマニホルドブロック２３０にのみ取り付けられる一方、空圧遮断弁２６０は、別のマニホルドブロック２１４上に直接、取り付けられ、その雄型の上側フランジ部材は、二重の雌型コネクタマニホルドと雄型フランジ部材の垂直受入れ部装置との間にて適正に整合させることにより整合され且つ捕捉される。
【００６２】
最後に、一対のＶＣＲ接続具２６２、２６４は、二重出口ポートのマニホルドブロック２３２上に取り付ける。これらの接続具は、ガス流路を隣接する組みのマニホルド分配装置に分岐させることを可能にする。
【００６３】
図１２及び図１３に図示するように、取付けブラケット２３６、２３８は、ボルト２４０を通じて、ばねナット２４２を介して取付け通路２３４に取り付けることができる。ねじ２６６は、適当なマニホルドブロックをねじ付き開孔を介して固着するため適当な取付けブラケット２３６、２３８の下方から取り付けることができる。
【００６４】
図１８の取付けブラケット及びマニホルドブロックの雌型部分の斜視図を参照すると、取付け開孔２２４は、水平面から垂直下方に伸びるのが分かる。下側フランジ２１８は、ポスト部材２２６を支持する。取付けブラケットに取り付けるためねじ２６６を受け入れることのできるねじ付き穴２６８が取付けポスト２２６の間の中央に配置されている。更に、ねじ付き穴は、所望であるならば、雄型の上側フランジを雌型の相互接続部から解放するとき、上向きの力を付与し得るように、より長いねじを受けるようにすることもできる。しかし、図２０及び図２２に示すように、雄型の形態は、より小さく且つ雌型接続部の内壁と接触しない寸法とされている。
【００６５】
また、図１８にも図示するように、出口流体路２７０が開示されている。図１９の仮想線２７２にて容易に判断し得るように、作用可能な部品は、隣接するマニホルドブロックの雄型の上側フランジ１２６の上方に架橋することができるが、この部品は、取付け開孔２２４内に適正に取り付けられたとき、１つのマニホルドブロック２１４上にのみ強固に定着される。
【００６６】
図１４を参照すると、１つの入口ポート及び２つの出口ポートを有するマニホルドブロックの平面図が開示されている。貫通穴２８０は、図２１に図示するように、アレン頭部ボルト２８２へ上面からアクセスすることを許容することができる。ねじ付きの取付け穴２２４は、作用可能な部品をマニホルドブロックに締結するため取付けボルト２７８を受け入れることが開示されている。取り付けポスト２４８は、ねじ付き穴２６８の両側部に配置されている。最後に、雄型部材上における取付け開孔２４６が図示されており、この開孔は、取付けポスト２４８と相補的な寸法を有している。
【００６７】
ボア２８６の相手方となる一連の盲穴をマニホルドブロックの水平面上に設け、例えば、ブロックを密封する止め具を取り付けるとき、ねじ頭を受け入れることができる。
【００６８】
分岐機能部分、取付け接続具等を提供する取付け穴としてねじ付き穴２９４を使用することができる。相手方穴２９２は、相手方穴２８６と同様の仕方にて機能することができる。理解し得るように、ねじ付き穴及び相手方穴は、マニホルドブロック上に設ける一方、ガススティックの各構成又は構造にて利用する必要はなく、異なる形態を許容し得るように任意的に設けられる。図１４、図１５及び図１６に図示したマニホルドブロックの各々におけるポート２９６間の点線は、マニホルドブロックの本体を通る流路を開示する。
【００６９】
２つの作用可能な部品間に相補的な流体路の分岐部を提供し得るように図１４のマニホルドブロックを使用することができる。
図１５のマニホルドブロックは、例えば、パージ機能を具体化するため、作用可能な部品がかかる横断状の接続部を通る流れを改変するようにする一方にて、相互に係止するマニホルドブロックの流れ方向に対して直角の流体路と相互に接続する手段を提供する。
【００７０】
図１６のマニホルドブロックは、例えば、Ｔ字形のブロック２３２をガススティックの中間部分に相互に接続し、相互係止するマニホルドブロックの流れ方向に対し直角に流路が分岐することを許容する。
【００７１】
理解し得るように、本発明の利点を依然として享受しつつ、当業者は特定の流れ接続のため他の形態のマニホルドブロックを提供することができる。
図２２を参照すると、端部マニホルドブロック２０４の断面図が図示されている。止め具２７４は、作用可能な部品とマニホルド内の流体導管との間の相互接続部に適正な密封を保証すべく環状シール２７６を取り付けることができる。シール２７６は、取付けボルト２７８の締め付けにより付与される密封圧力の下、変形可能である。作用可能な各部品とその対応するマニホルドブロックとの間に同様の止め具及びシールが取り付けられる。
【００７２】
図２０を参照すると、一対のマニホルドブロック間の相互接続具の図１９の線２０−２０に沿った断面図が図示されており、また、上方に位置する作用可能な部品に対するその関係が開示されている。取付けポスト２８を形成する止めピンは、取付け開孔２４６内で整合されている。下側フランジの２つの開孔間に配置されたねじ付きボア穴は、マニホルドブロックを取付けブラケット２３６に固着する平坦な頭のねじ２６６に優先する。
【００７３】
図１９の線２１−２１に沿って図２１の断面図に１つの代替的な実施の形態が図示されている。貫通穴２８０はねじ付きではなく、また、取付けボルト２８３を受け入れることのできる拡張したずらし部２８２内に開放する。このように、アレンレンチを貫通穴２８０内に挿入して、アレン頭付きボルト２８４の締め付け及び緩めを許容することができる。ばねナット２４２は、取付けブラケット２３８を取付け通路２３４に固着することができる。
【００７４】
当業者は、本発明の範囲及び精神から逸脱せずに、上述した好ましい実施の形態の色々な適用及び改変の形態とすることが可能であることが理解されよう。このため、特許請求の範囲に記載した本発明の範囲内にて、本明細書に具体的に記載した以外にて本発明を実施することが可能であることを理解すべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 複合的マニホルド装置として共に取り付けられた複数のマニホルドブロックを開示する、本発明の第一の実施の形態の斜視図である。
【図２】 取り付け穴及び流体路を開示する、第一の実施の形態を仮想線で開示する図である。
【図３】 第一の実施の形態のマニホルドブロックの断面図である。
【図４】 第一の実施の形態のガススティックの配置を示す斜視図である。
【図５】 第一の実施の形態のマニホルド装置の分解斜視図である。
【図６】 コネクタプレートにより共に保持された相互接続ブロック上に取り付けられた作用可能な部品を開示する、本発明の第二の実施の形態の斜視図である。
【図７】 図６に開示した第二の実施の形態の分解図である。
【図８】 一連のコネクタプレートによって共に保持することのできる代替的な形態の相互接続マニホルドブロックの分解図を開示する、本発明の第三の実施の形態の図である。
【図９】 第三の実施の形態のマニホルド相互接続ブロックの１つの断面図である。
【図１０】 図９の実施の形態の底面図である。
【図１１】 本発明の第四の実施の形態の斜視図である。
【図１２】 図１１の分解図である。
【図１３】 図１１の部分断面図である。
【図１４】 第四の実施の形態の第一のマニホルドブロックの平面図である。
【図１５】 第四の実施の形態の第二のマニホルドブロックの平面図である。
【図１６】 第四の実施の形態の第三のマニホルドブロックの平面図である。
【図１７】 第四の実施の形態の第四のマニホルドブロックの立面側面図である。
【図１８】 第四の実施の形態のマニホルドブロック及び取り付けブラケットの部分斜視図である。
【図１９】 第四の実施の形態にて取り付けられた２つのマニホルドブロックの斜視図である。
【図２０】 図１９の断面線２０−２０に沿った断面図である。
【図２１】 図１９の断面線２１−２１に沿った断面図である。
【図２２】 第四の実施の形態のマニホルドブロックの長手方向部分断面図である。

Claims (24)

1. 流体の分配を可能にするマニホルド装置において、
   マニホルドブロックの各々が共通の面にアクセスする入口及び出口ポートを有する流体路を持つ複数の個々のマニホルドブロックと、
   それぞれの流体路を相互接続し得るように位置決めすることを作用可能に許容すべく一対の隣接するマニホルドブロックを取り外し可能に相互に係止する手段とを備え、
   前記手段が、前記複数の個々のマニホルドブロックの第一のマニホルドブロック上において、本体中央部分と、前記本体中央部分から一方向に伸びる第一のフランジと、前記本体中央部分から他方向に伸びる第二のフランジとを含むことを特徴とするマニホルド装置。
2. 請求項１のマニホルド装置において、前記一方向は前記他方向の反対方向である、マニホルド装置。
3. 請求項１又は２のマニホルド装置において、前記第一のフランジが、前記第一のマニホルドブロックの前記本体中央部分の上面から片持ち式に伸び、前記第二のフランジが、前記第一のマニホルドブロックの前記本体中央部分の下面から片持ち式に伸びる、マニホルド装置。
4. 請求項３のマニホルド装置において、前記第一のマニホルドブロックの前記本体中央部の前記上面が、前記共通の面に対して共通の平面である、マニホルド装置。
5. 請求項１乃至４の何れかのマニホルド装置において、前記第一のフランジ及び第二のフランジは、前記第一のマニホルドブロックが隣接するマニホルドブロックに対して相互に係止されることを許容する相補的な形態を有する、マニホルド装置。
6. 請求項１又は２のマニホルド装置において、前記第一のマニホルドブロックの前記本体中央部分が、前記流体路を受け入れるリブを有する、マニホルド装置。
7. 請求項１乃至６の何れかのマニホルド装置において、前記入口及び出口ポートの１つが、前記第一のマニホルドブロックの前記第一のフランジの上に伸びる、マニホルド装置。
8. 請求項１乃至７の何れかのマニホルド装置において、前記第一のフランジが、隣接するマニホルドブロックの片持ちフランジに対して、前記第一のフランジの接続を可能にする少なくとも一つの開孔を有する、マニホルド装置。
9. 請求項１乃至８の何れかのマニホルド装置において、前記第一のフランジ及び前記第二のフランジのそれぞれが、支持面に対して前記第一のマニホルドブロックの取り付けを可能にする少なくとも１つの穴を有する、マニホルド装置。
10. 請求項１乃至９の何れかのマニホルド装置において、前記第一のマニホルドブロックは、作用可能な部品と密封係合状態で、前記第一のマニホルドブロックに対して、前記作用可能な部品を直接取り付けることを許容する締結開孔を有する、マニホルド装置。
11. 請求項１０のマニホルド装置において、前記締結開孔は、前記作用可能な部品と密封係合状態で、当該作用可能な部品を前記第一のマニホルドに直接取り付けることを許容する一方、隣接するマニホルドブロックにも密封接続される、マニホルド装置。
12. 請求項１乃至１０の何れかのマニホルド装置において、前記複数のマニホルドブロックのそれぞれが、前記共通の面を形成する水平な上面上にのみ、入口及び出口ポートを有する、マニホルド装置。
13. 請求項１乃至５の何れかのマニホルド装置において、前記第一のフランジが雄型の形態を有し、前記第二のフランジが雌型の形態を有する、マニホルド装置。
14. 請求項１３のマニホルド装置において、前記第一のマニホルドブロックの前記入口及び出口ポートの１つが前記第一のフランジに位置する、マニホルド装置。
15. 請求項１３又は１４のマニホルド装置において、前記第一のフランジ及び前記第二のフランジの一方が整合開孔を有し、前記第一のフランジ及び前記第二のフランジの他方が相補的な形態の整合ポストを有する、マニホルド装置。
16. 請求項１３又は１４のマニホルド装置において、前記第一のフランジ及び前記第二のフランジの一方が円形の形態の一対の整合開孔を有し、前記第一のフランジ及び前記第二のフランジの他方が円筒状の形態の一対の整合ポストを有し、前記整合開孔及び前記整合ポストが合わさったとき、共通の面が前記第一のマニホルドブロックと隣接するマニホルドブロックとの間にて同一の平面内を伸び、前記第一のマニホルドブロックと前記隣接するマニホルドブロックとが共通の長手方向軸線に沿って維持されるような、前記整合開孔のそれぞれの深さ及び前記整合ポストの高さであるようにした、マニホルド装置。
17. 請求項１乃至５の何れかのマニホルド装置において、前記第一のフランジ及び前記第二のフランジの一方が、当該フランジから伸びる垂直整合装置を備え、前記第一のフランジ及び前記第二のフランジの他方が、隣接するマニホルドブロック上における垂直整合装置と相互作用する相補的な垂直受け部装置を有する、マニホルド装置。
18. 請求項１乃至５、又は、請求項１２乃至１６の何れかのマニホルド装置において、前記複数の個々のマニホルドブロックが前記第一のマニホルドブロックと同一の第二のマニホルドブロックを含み、前記第一のマニホルドブロックの前記第一のフランジが前記第二のマニホルドブロックの前記第二のフランジの上方になる、マニホルド装置。
19. 請求項１乃至１８の何れかのマニホルド装置において、前記複数の個々のマニホルドブロックの少なくとも１つが、複数の出口ポート及び複数の入口ポートの一方を有する、マニホルド装置。
20. 請求項１乃至１９の何れかのマニホルド装置において、前記第一のマニホルドブロックと密封係合する状態で配置される少なくとも一つの作用可能な部品と接続する、マニホルド装置。
21. 請求項２０のマニホルド装置において、前記少なくと一つの作用可能な部品が前記第一のマニホルドブロック及び隣接するマニホルドブロックを渡って架橋する、マニホルド装置。
22. 請求項２０又は２１のマニホルド装置において、前記第一のマニホルドブロック及び前記作用可能な部品が、作用可能なガススティックの少なくとも一部分を形成し、ガスを半導体工具に供給する、マニホルド装置。
23. 請求項２０乃至２２の何れかのマニホルド装置において、シールアセンブリが、前記第一のマニホルドブロックを渡って伸び、且つ、前記第一のマニホルドブロックの前記共通の面に対する共通の平面内に位置し、前記作用可能な部品が、前記シールアセンブリに取り付けられ、且つ、前記第一のマニホルドブロックに締結され、前記作用可能な部品が前記第一のマニホルドブロックを渡って隣接するマニホルドブロックに伸びる、マニホルド装置。
24. 請求項１乃至５、及び請求項１３乃至１８の何れかのマニホルド装置において、前記第一のマニホルドブロックが、作用可能な部品を前記第一のマニホルドブロックにのみ直接、取り付けることを許容する一組の締結開孔を有する一方、前記第一のマニホルドに隣接するマニホルドブロックの第二のフランジの上方に前記第一のマニホルドブロックの第一のフランジが位置する状態で、前記第一のマニホルドブロック及び前記隣接するマニホルドブロックの双方に密封接続される、マニホルド装置。

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