JP2832166B2 - ガス供給集積ユニット - Google Patents
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- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 61
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 195
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Pipeline Systems (AREA)
- Valve Housings (AREA)
Description
産業用製造装置で使用されるガス供給装置に関し、さら
に詳細には、複数種類のガスを供給する複数のガス供給
装置ユニットを集積させてコンパクト化可能なガス供給
集積システムに関するものである。
トレジスト加工のエッチング等に腐食性ガスが使用され
ている。ホトレジスト加工(ホトレジスト塗布、露光、
現像、エッチング)は、半導体製造工程において腐食性
ガスの種類を変えて複数回繰り返されるため、実際の半
導体製造工程では、複数種類の腐食ガスを必要に応じて
供給するガス供給装置が使用されている。ここで、ガス
を供給するガス供給装置には、流量を正確に計測するた
めのマスフローコントローラと、マスフローコントロー
ラ内に腐食性ガス等の供給ガスを残留させないためにマ
スフローコントローラの前後に設けられる入口開閉弁、
出口開閉弁、及びパージ弁と、供給ガスの供給または遮
断を手動で行うための手動弁と、供給ガスのガス圧を調
整するレギュレータと、供給ガスの圧力をモニターする
ための圧力計と、供給ガスの混入不純物を除去するため
のフィルタとが構成要素として必要である。従って、従
来のガス供給装置は、それらが直列に接続されて構成さ
れている。
1の右から、手動弁ブロック104の出力ポートが、継
手101、パイプ、継手101を介して、レギュレータ
ブロック103の入力ポートに接続している。手動弁ブ
ロック104の上部には、手動弁18が取り付けられて
いる。また、レギュレータブロック103の上部には、
レギュレータ17が取り付けられている。レギュレータ
ブロック103の出力ポートは、継手101、三又パイ
プ102、継手101を介して、フィルタ15の入力ポ
ートに接続している。三又パイプ102の上部には、圧
力計16が取り付けられている。また、フィルタ15は
長手方向の一方から入って他方に出るタイプであり、フ
ィルタ15の出力ポートは、継手101、パイプ、継手
101を介して、入力ブロック108の入力ポートに接
続している。
フローコントローラ11は、入力ブロック108、流路
方向変換ブロック27、マスフローコントローラブロッ
ク28、流路方向変換ブロック29、出力ブロック10
5によりマスフローユニットを構成している。このマス
フローユニットについては、本出願人らが特開平6−2
41400号で提案し説明しているので、詳細な説明を
省略する。入力ブロック108の上部には、入口開閉弁
14及びパージ弁13が取り付けられている。入力ブロ
ック108の下部は、パージ弁13の入力ポートと連通
するパージガス供給流路が形成されたパージ共通流路ブ
ロック19に固設されている。また、入力ブロック10
8の出力ポートは、流路方向変換ブロック27の入力ポ
ートに接続している。また、流路方向変換ブロック27
の出力ポートは、マスフローコントローラブロック28
の入力ポートに接続している。また、マスフローコント
ローラブロック28の上部には、マスフローコントロー
ラ11が取り付けられている。
の出力ポートは、流路方向変換ブロック29を介して出
力ブロック105の入力ポートに接続している。出力ブ
ロック105には、出口開閉弁12が取り付けられてい
る。出力ブロック105の下部は、出口開閉弁12の出
力ポートと連通する出力ガス供給流路が形成された出力
共通流路ブロック20に固設されている。図11の流路
を、図10に空圧回路図で示す。パージ弁13Aは、マ
スフローコントローラ11Aと入口開閉弁14Aとの間
の流路と、パージ用の窒素ガス供給管19とに接続す
る。出口開閉弁12Aは、エッチングの行われる真空チ
ャンバーへ連通する供給ガス管路20に接続している。
の腐食性ガスを切り替えて使用することにより、複雑な
工程のエッチングを行っている。従って、1つの真空チ
ャンバー毎に複数種類のガスを供給する必要がある。1
つの真空チャンバーに7種類の腐食性ガス等を供給する
回路図を図10に示す。また、図10の回路図を具体化
したガス供給ユニットを図12に平面図として示す。す
なわち、図11のガス供給装置を、図12では、7連並
列に配設している。図11に示すガス供給装置は、設置
する方向は特に規制がなく自由であるが、できるだけコ
ンパクトにまとめるため、図12に示すように7連並列
に配設してガス供給ユニットA,B,C,D,E,F,
Gを構成させているのである。
設されたエッチング装置の配置図を示す。中央に設置さ
れたロボット53を中心にして、4つの真空チャンバー
51A,51B,51C,51Dが配設されている。ま
た、真空チャンバー51に未エッチングのウエハ等を供
給し、加工済みウエハを回収するための2台の搬送装置
52が配設されている。ここで、一つ一つの真空チャン
バー51に対して、図12で示したガス供給ユニットが
必要となるので、図13で示すように、壁際に4つのガ
スボックス50A,50B,50C,50Dを設け、各
々を真空チャンバー51A,51B,51C,51Dに
接続している。
装置には次のような問題点があった。 (1)ガス供給ユニットは、図12に示すように、長さ
が520mm、幅が約300mmと広いフロアスペース
を占めるため、真空チャンバー51A〜51Dの近くに
配設すると、作業等の邪魔になる。しかし、図13に示
すように、複数の真空チャンバー51A〜51Dにガス
を供給するガス供給装置を壁際にガスボックスとしてま
とめると、ガス供給装置から真空チャンバー51A〜5
1Dまでの配管が長くなり、マスフローコントローラ1
1で流量を正確に計測しても、長い配管のため、実際に
真空チャンバー51A〜51Dに供給されるガス流量が
不正確となる問題があった。また、供給するガスの種類
によっては、常温で液化するものもあり、保温等が必要
な場合がある。その場合に、ガスボックス50A〜50
Dから真空チャンバー51A〜51Dまでの配管が長い
と、保温された配管全体がスペースをとり、作業スペー
スを狭くする問題がある。また、十分に保温されずにエ
ッチングに悪影響を与える恐れもある。
をパージ共通流路ブロック19に対して、上方向からの
2本の取付ボルト106で取り付けている。また、出口
開閉弁12を出力共通流路ブロック20に対して、上方
向からの2本の取付ボルト107で取り付けている。し
かし、上方向からのパージ弁13及び出口開閉弁12の
着脱を可能にするために、取付ボルト106及び取付ボ
ルト107が、パージ弁13及び出口開閉弁12の横方
向に位置する。このため、ガス供給集積システムの横幅
が大きくなる問題があった。
であり、マスフローコントローラ、レギュレータ、圧力
計、フィルタを含むガス供給装置ユニットを複数台有す
るガス供給システムであって、狭いフロアスペースで配
設可能に集積されたガス供給集積システムを提供するこ
とを目的とする。
に、本発明のガス供給集積ユニットは、以下の様な構成
を有している。 (1)供給ガスの搬送管路上にあって該供給ガスの流れ
を遮断する第一開閉弁及び第二開閉弁と、該第一及び第
二開閉弁の中間にあって該供給ガスの流量を制御するマ
スフローコントローラとが一体的に構成されたマスフロ
ーユニットを有するガス供給集積ユニットであって、供
給ガスのガス圧を調整するレギュレータと、供給ガスの
圧力をモニターするための圧力計と、供給ガスの流れを
手動により遮断する手動弁と、供給ガスの混入不純物を
除去するためのフィルタとのうち少なくとも1つが、マ
スフローユニットと並列に配設され、かつ一体的なユニ
ットを構成すると共に、第二開閉弁の流路とガス供給シ
ステム本体の共通流路とを連通し、ユニット全体をガス
供給システム本体に対して着脱自在に取り付ける着脱部
材を有している。
前記レギュレータ、前記圧力計、前記手動弁、前記フィ
ルタとのうち少なくとも1つが、前記マスフローコント
ローラの取付方向と反対方向から取付ボルトで取り付け
られていることを特徴とする。 (3)(1)または(2)に記載するものにおいて、前
記着脱部材が取付ボルトにより、着脱される取付ブラケ
ットであることを特徴とする。 (4)(3)に記載するものにおいて、前記マスフロー
コントローラ内に残留する前記供給ガスを排除するパー
ジガスを供給するためのパージ弁と、前記パージ弁の流
路と連通し、取付ボルトにより前記ガス供給システム本
体のパージ共通流路に連通して、着脱自在に取り付けら
れるパージ取付ブラケットを有することを特徴とする。
給ガスの流れを遮断する第一開閉弁及び第二開閉弁と、
該第一及び第二開閉弁の中間にあって該供給ガスの流量
を制御するマスフローコントローラとが一体的に構成さ
れたマスフローユニットを有するガス供給集積ユニット
であって、供給ガスの供給または遮断を手動で行うため
の手動弁と、供給ガスのガス圧を調整するレギュレータ
と、供給ガスの圧力をモニターするための圧力計とのう
ち少なくとも1つが、マスフローユニットと同一平面内
で取付方向が正反対かつ並列に配設される。
記手動弁と、前記圧力計とが、前記第一開閉弁と同一ブ
ロックに反対方向からボルトで取り付けられていること
を特徴とする。 (7)(5)または(6)に記載するものにおいて、前
記レギュレータに、入力パイプと、出力パイプと、前記
入力パイプに接続して流路を変換する入力変換ブロック
と、前記出力パイプに接続して流路を変換する出力変換
ブロックとが一体的に固設されていることを特徴とす
る。 (8)(6)に記載するものにおいて、前記供給ガスの
不純物を除去するためのフィルタが、前記同一ブロック
に前記手動弁、前記圧力計と前記第一開閉弁とに対して
直交する方向から取り付けられていることを特徴とす
る。
ットのマスフローユニットは、マスフローコントローラ
と第一開閉弁、第二開閉弁を接続するのに、パイプを使
用せずに、流路が形成された流路ブロックで接続してい
るので、流れ方向の長さをコンパクト化することができ
ている。そして、供給ガスの供給または遮断を手動で行
うための手動弁と、供給ガスのガス圧を調整するレギュ
レータと、供給ガスの圧力をモニターするための圧力計
とが一体化され、かつマスフローユニットとほぼ同じ長
さのユニットを構成しており、マスフローユニットと並
列に配設されているので、ガス供給集積ユニット全体を
コンパクトに一体的化できている。また、着脱部材であ
る取付ブラケットをシステム本体に取り付けているボル
トを外すだけで、ガス供給集積ユニットをガス供給シス
テム本体から容易に着脱できるため、各部品等の交換が
容易となり、メンテナンス性が向上した。
とが、第一開閉弁、第二開閉弁、及びマスフローコント
ローラからなるマスフローユニットの取り付けボルトと
反対方向からボルトで取り付けられているので、全体が
マスフローユニットと同じ平面で構成でき、ガス供給集
積ユニットの厚みを薄くすることができる。また、レギ
ュレータに、入力パイプと、出力パイプと、入力パイプ
に接続して流路を変換する入力変換ブロックと、出力パ
イプに接続して流路を変換する出力変換ブロックとが一
体的に固設されているので、レギュレータを交換すると
きに、それらを一体的に交換することにより、容易かつ
短時間で交換作業を行うことができる。
ス供給集積ユニットについて、図面を参照して説明す
る。図4は、ガス供給集積ユニットの構成を示す回路図
である。供給ガスである腐食性ガスFの配管は、腐食性
ガスFのガス圧を調整するためのレギュレータ17に接
続している。また、レギュレータ17は、腐食性ガスF
の供給または遮断を行うための手動弁18に接続してい
る。一方、レギュレータ17と手動弁18との間には、
腐食性ガスFの圧力をモニターするための圧力計16が
接続されている。また、手動弁18は、腐食性ガスFの
混入不純物を除去するためのフィルタ15に接続してい
る。
入口開閉弁14に接続している。入口開閉弁14は、腐
食性ガスFの流量を計測して一定量の腐食性ガスFを供
給するためのマスフローコントローラ11に接続してい
る。マスフローコントローラ11は、通常使用されてい
るものを利用しているので、詳細な説明を省略する。ま
た、マスフローコントローラ11は、第二開閉弁である
出口開閉弁12に接続している。出口開閉弁12の出口
ポートは、出力共通流路20aに接続している。出力共
通流路20aは、半導体工程のチャンバー51に接続し
ている。一方、入口開閉弁14とマスフローコントロー
ラ11の間には、残留する腐食性ガスFを窒素ガスに置
換するためのパージ弁13の入力ポートが接続してい
る。また、パージ弁13の出力ポートは、パージ共通流
路19aに接続している。パージ共通流路19aは、パ
ージ切換弁47、窒素ガス配管46を介して窒素ガスの
供給タンクに接続している。
図2、図5及び図6に示す。図2は、腐食性ガスFを供
給するためのガス供給集積ユニットの1単位ユニットの
構成を示す平面図であり、図1は、その側面図であり、
図5は供給ガスの流路を示すための部分断面図であり、
図6は供給ガスの流路をしめすための斜視説明図であ
る。また、図3は、複数のガス供給集積ユニットをガス
供給システムに取り付けた状態を示す斜視図である。始
めに、腐食性ガスFは、図示しないシステム本体のガス
供給口から入力ブロック21に形成された入力流路21
a、入力パイプ24、レギュレータ入力ブロック26、
レギュレータ入力パイプ30を介してレギュレータブロ
ック33に形成された入力流路33aに接続している。
入力流路33aは、レギュレータ17の入力ポートに接
続している。
17の出力ポートは、出力流路33b、レギュレータ出
力パイプ40、レギュレータ出力ブロック31を介して
流路方向変換ブロック29に形成された入力流路29a
に接続している。入力流路29aは、流路ブロック32
に形成された手動弁入力流路32aを介して手動弁18
の入力ポートに接続している。一方、手動弁入力流路3
2aは、圧力計16に接続している。手動弁18の出力
ポートは、流路ブロック32に形成されたフィルタ入力
流路32bを介してフィルタ15の入力ポートに接続し
ている。フィルタ15の出力ポートは、入口弁入力流路
32cを介して入口開閉弁14の入力ポートに接続して
いる。入口開閉弁14の出力ポートは、パージ流路32
d、流路方向変換ブロック29に形成されたマスフロー
バルブ入力流路29bを介してマスフローコントローラ
11の入力ポートに接続している。
の出力ポートに接続している。パージ弁13の入力ポー
トは、パージ入力流路32e、パージガスパイプ35を
介してパージ入力ブロック36に形成されたパージ入力
流路36aに接続している。パージ入力流路36aは、
パージ共通流路ブロック19に形成されたパージ共通流
路19aに接続している。マスフローコントローラ11
の出力ポートは、流路方向変換ブロック27に形成され
た出力流路27a、出力ブロック25に形成された出力
弁入力流路25bを介して出口開閉弁12の入力ポート
に接続している。出口開閉弁12の出力ポートは、出力
弁出力流路25a、出力パイプ23を介して出力ブロッ
ク22に形成された出力流路22aに接続している。出
力流路22aは、出力共通流路ブロック20に形成され
た出力共通流路20aに接続している。
より出力共通流路ブロック20に対して着脱自在であ
り、着脱部材である取付ブラケットを構成している。ま
た、パージ入力ブロック36は、4本のボルトによりパ
ージ共通流路ブロック19に対して着脱自在であり、着
脱部材である取付ブラケットを構成している。図3に示
すように、ガス供給集積ユニット9は、ガス供給システ
ム本体8に対して8本の取付ボルトにより取り付けられ
ている。これらのボルト及び入力ブロック21の取付ボ
ルトを取り外すことにより、ガス供給システム本体8に
対してガス供給集積ユニット9を容易に取り外すことが
可能である。ここで、図3に示すように、ガス供給集積
ユニット9をボックス7に収納してもよい。ボックス7
に収納することにより、取り外したときの取扱いが便利
となる。
口開閉弁12、マスフローコントローラ11、パージ弁
13及び入口開閉弁14から構成されるマスフローコン
トローラユニットと、レギュレータ17、圧力計16及
び手動弁18を同じ平面上で反対側に取り付けており、
かつ出力ブロック22及びパージ入力ブロック36をガ
ス供給集積ユニット9の外側の同じ平面内に設けている
ので、ガス供給集積ユニット9の体積をコンパクト化で
き、ガス供給システムの集積度を向上させることができ
る。
イプ30、レギュレータ入力ブロック26、レギュレー
タ出力パイプ40、及びレギュレータ出力ブロック31
と一体的に組み立てられており、レギュレータユニット
として、流路方向変換ブロック27、29に対して、下
方向から4本のボルトで取り付けられており、レギュレ
ータ17は、ユニットとして、下方向から取り外し及び
取り付け可能である。また、圧力計16は、圧力計ブロ
ック16aにより、流路ブロック32に対して下方向か
ら4本のボルトで取り付けられており、圧力計16は、
ユニットとして、下方向から取り外し及び取り付け可能
である。
するため、継手によりパイプに連結されていたので、継
手部においてシール材によるパーティクルの発生が問題
となっていたが、本実施例の圧力計16ユニットによれ
ば、継手部がないため、パーティクルの発生を減少させ
ることができる。また、フィルタ15は、流路ブロック
32に対して横方向から4本のボルトで取り付けられて
おり、フィルタ15は、横方向から取り外し及び取り付
け可能である。
複数台集積して配設する場合について説明する。図8に
必要とするガス供給装置の回路図を示す。真空チャンバ
ーへ供給するガスとしては、Fa,Fb,Fc,Fd,
Fe,Ff,Fgの7つの種類の腐食性ガスが用意され
ている。各腐食性ガスの供給ラインに上記説明したガス
供給集積ユニットが使用される。すなわち、各腐食性ガ
スの供給ラインに取り付けられるガス供給集積ユニット
は、レギュレータ17、圧力計16、手動弁18、フィ
ルタ15、入口開閉弁14、パージ弁13、マスフロー
コントローラ11及び出口開閉弁12を有している。ま
た、パージ弁13の出力ポートは、パージ共通流路ブロ
ック19、パージ切換弁47を介して窒素ガス配管46
へ接続している。窒素ガス配管46は、図示しない窒素
ガスの供給タンクに接続している。また、出口開閉弁1
2A〜Fの出力ポートは、出力共通流路20aに統合さ
れて真空チャンバーへ接続している。また、出力共通流
路ブロック20と窒素ガス配管46とを接続する配管上
には、出力共通流路ブロック20に残留する腐食性ガス
を置換するためのパージ弁48が取り付けられている。
ガス供給集積システムを説明する。図3に斜視図を示
す。7つのガス供給集積ユニット9A,9B,9C,9
D,9E,9F,9Gが、密着して重ねられてガス供給
システム本体8に取り付けられている。これによれば、
図3に示すように、占有する床面積を従来と比較して面
積が1/2以下であり、大幅に縮小することができる。
占有面積を縮小できたので、図9に示すように、ガス供
給システム本体8A,8B,8C,8Dを、各真空チャ
ンバー51A,51B,51C,51Dのすぐ近くに配
設しても、作業の邪魔になることがない。
ス供給集積ユニット9によれば、腐食性ガスFの搬送管
路上にあって腐食性ガスFの流れを遮断する入口開閉弁
14及び出口開閉弁12と、入口開閉弁14と出口開閉
弁12の中間にあって腐食性ガスFの流量を制御するマ
スフローコントローラ11とが一体的に構成されたマス
フローユニットを有するものであって、腐食性ガスFの
ガス圧を調整するレギュレータ17と、腐食性ガスFの
圧力をモニターするための圧力計16と、腐食性ガスF
の流れを手動により遮断する手動弁18とが、マスフロ
ーコントローラユニットと並列に配設され、かつ一体的
なユニットを構成すると共に、出口開閉弁12の出力ポ
ートとガス供給システム本体8の出力共通流路20aと
を連通し、ガス供給集積ユニット9全体をガス供給シス
テム本体8に対して着脱自在に取り付ける出力ブロック
22を有しているので、ガス供給装置システム全体をコ
ンパクト化することができ、床の占有面積を大幅に縮小
することができるため、ガス供給集積システムを真空チ
ャンバー51のすぐ近くに配設することが可能となると
共に、システム本体から容易に着脱できるため、各部品
等の交換が容易となり、メンテナンス性が向上した。
よれば、手動弁18と、レギュレータ17と、圧力計1
6とが、入口開閉弁14、出口開閉弁12、及びマスフ
ローコントローラ11の取り付けボルトと反対方向から
ボルトで取り付けられているので、ガス供給集積ユニッ
ト9の厚みを薄くできよりコンパクト化できる。また、
本実施例のガス供給集積システムによれば、上記したガ
ス供給集積ユニットを2以上並列に積み重ねて配設する
と共に、各ガス供給集積ユニットの出口開閉弁12A,
12B,12C,12D,12E,12F,12Gの出
力ポートを連通させる共通出力流路ブロック20を有し
ているので、複数の腐食性ガスFを供給する装置全体を
小型化することができ、床占有面積を従来と比較して大
幅に減少させることができたため、ガス供給集積システ
ムを真空チャンバー51A,51B,51C,51Dの
近傍に配設することができ、マスフローコントローラ1
1のガス供給精度を向上させることができる。
基本的な構成等は、第一の実施例とほぼ同じなので、異
なる点のみ説明する。図7に第二の実施例のガス供給集
積ユニット9を斜視図で示す。入力ブロック21の代わ
りに入力継手37aを、出力ブロック22の変わりに出
力継手38aを、パージ入力ブロック36の代わりにパ
ージ入力継手39aを使用している。また、出力共通流
路ブロック20の代わりに出力共通流路パイプ41を、
パージ共通流路ブロック19の代わりにパージ共通流路
パイプ42を使用している。ガス供給システム本体8側
には、入力継手37aと連結するための入力継手37
b、出力継手38aと連結するための出力継手38b、
パージ入力継手39aと連結するためのパージ入力継手
39bが固設されている。この出力継手38a及びパー
ジ入力継手39aが、着脱部材を構成している。入力継
手37a、出力継手38a、及びパージ入力継手39a
を外すことにより、ガス供給集積ユニット9をガス供給
システム本体8から容易に取り外すことが可能である。
供給集積ユニット9によれば、腐食性ガスFの搬送管路
上にあって腐食性ガスFの流れを遮断する入口開閉弁1
4及び出口開閉弁12と、入口開閉弁14と出口開閉弁
12の中間にあって腐食性ガスFの流量を制御するマス
フローコントローラ11とが一体的に構成されたマスフ
ローユニットを有するものであって、腐食性ガスFのガ
ス圧を調整するレギュレータ17と、腐食性ガスFの圧
力をモニターするための圧力計16と、腐食性ガスFの
流れを手動により遮断する手動弁18とが、マスフロー
コントローラユニットと並列に配設され、かつ一体的な
ユニットを構成すると共に、出口開閉弁12の出力ポー
トとガス供給システム本体8の出力共通流路パイプ41
とを連通し、ガス供給集積ユニット9全体をガス供給シ
ステム本体8に対して着脱自在に取り付ける出力継手3
8を有しているので、ガス供給装置システム全体をコン
パクト化することができ、床の占有面積を大幅に縮小す
ることができるため、ガス供給集積システムを真空チャ
ンバー51のすぐ近くに配設することが可能となった。
明したが、本発明は、上記実施例に限定されることな
く、色々に変形実施することが可能である。また、本実
施例では、圧力計16としてセンサータイプを使用して
いるが、ブルドン管タイプを使用してもよい。また、レ
ギュレータ17を使用しない場合には、レギュレータ1
7をバイパスするだけでよい。また、フィルタ15のエ
レメントとしては、セラミックタイプでもメタルタイプ
のどちらでもよい。どちらの場合でも、本実施例によれ
ば、交換が容易である。
発明のガス供給集積ユニットによれば、供給ガスの搬送
管路上にあって該供給ガスの流れを遮断する第一開閉弁
及び第二開閉弁と、該第一及び第二開閉弁の中間にあっ
て該供給ガスの流量を制御するマスフローコントローラ
とが一体的に構成されたマスフローユニットを有するも
のであって、供給ガスのガス圧を調整するレギュレータ
と、供給ガスの圧力をモニターするための圧力計と、供
給ガスの流れを手動により遮断する手動弁と、供給ガス
の混入不純物を除去するためのフィルタのうちの少なく
とも1つが、マスフローユニットと並列に配設され、か
つ一体的なユニットを構成すると共に、第二開閉弁の流
路とガス供給システム本体の共通流路とを連通し、ユニ
ット全体をガス供給システム本体に対して着脱自在に取
り付ける着脱部材を有しているので、ガス供給装置全体
をコンパクト化することができ、床の占有面積を大幅に
縮小することができるため、ガス供給集積システムを真
空チャンバーのすぐ近くに配設することが可能となっ
た。
れば、供給ガスの搬送管路上にあって該供給ガスの流れ
を遮断する第一開閉弁及び第二開閉弁と、該第一及び第
二開閉弁の中間にあって該供給ガスの流量を制御するマ
スフローコントローラとが一体的に構成されたマスフロ
ーユニットを有するものであって、供給ガスの流れを手
動により遮断する手動弁と、供給ガスのガス圧を調整す
るレギュレータと、供給ガスの圧力をモニターするため
の圧力計とのうちの少なくとも1つが、マスフローユニ
ットと同一平面内で取付方向が正反対かつ並列に配設さ
れているので、ガス供給装置全体をコンパクト化するこ
とができ、床の占有面積を大幅に縮小することができる
ため、ガス供給集積システムを真空チャンバーのすぐ近
くに配設することが可能となった。
9の具体的な構成を示す側面図である。
平面図である。
ス供給システムを示す斜視図である。
ある。
分断面図である。
視説明図である。
ト9の構成を示す斜視図である。
の全体構成を示す平面図である。
である。
面図である。
面図である。
装置の全体構成を示す平面図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 供給ガスの搬送管路上にあって該供給ガ
スの流れを遮断する第一開閉弁及び第二開閉弁と、該第
一及び第二開閉弁の中間にあって該供給ガスの流量を制
御するマスフローコントローラとが一体的に構成された
マスフローユニットを有するガス供給集積ユニットにお
いて、 前記供給ガスのガス圧を調整するレギュレータと、前記
供給ガスの圧力をモニターするための圧力計と、前記供
給ガスの流れを手動により遮断する手動弁と、前記供給
ガスの混入不純物を除去するためのフィルタのうちの少
なくとも1つが、前記マスフローユニットと並列に配設
され、かつ一体的なユニットを構成すると共に、 前記第二開閉弁の流路とガス供給システム本体の共通流
路とを連通し、前記ユニット全体を前記ガス供給システ
ム本体に対して着脱自在に取り付ける着脱部材を有する
ことを特徴とするガス供給集積ユニット。 - 【請求項2】 請求項1に記載するものにおいて、 前記レギュレータ、前記圧力計、前記手動弁、前記フィ
ルタのうちの少なくとも1つが、前記マスフローコント
ローラの取付方向と反対方向から取付ボルトで取り付け
られていることを特徴とするガス供給集積ユニット。 - 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載するもの
において、 前記着脱部材が取付ボルトにより、着脱される取付ブラ
ケットであることを特徴とするガス供給集積ユニット。 - 【請求項4】 請求項3に記載するものにおいて、 前記マスフローコントローラ内に残留する前記供給ガス
を排除するパージガスを供給するためのパージ弁と、 前記パージ弁の流路と連通し、取付ボルトにより前記ガ
ス供給システム本体のパージ共通流路に連通して着脱自
在に取り付けられるパージ取付ブラケットを有すること
を特徴とするガス供給集積ユニット。 - 【請求項5】 供給ガスの搬送管路上にあって該供給ガ
スの流れを遮断する第一開閉弁及び第二開閉弁と、該第
一及び第二開閉弁の中間にあって該供給ガスの流量を制
御するマスフローコントローラとが一体的に構成された
マスフローユニットを有するガス供給集積ユニットにお
いて、 前記供給ガスの供給または遮断を手動で行うための手動
弁と、前記供給ガスのガス圧を調整するレギュレータ
と、前記供給ガスの圧力をモニターするための圧力計と
のうち少なくとも1つが、前記マスフローユニットと同
一平面内で取付方向が正反対かつ並列に配設されること
を特徴とするガス供給集積ユニット。 - 【請求項6】 請求項5に記載するものにおいて、 前記手動弁と、前記圧力計とが、前記第一開閉弁と同一
ブロックに反対方向からボルトで取り付けられているこ
とを特徴とするガス供給集積ユニット。 - 【請求項7】 請求項5または請求項6に記載するもの
において、 前記レギュレータに、入力パイプと、出力パイプと、前
記入力パイプに接続して流路を変換する入力変換ブロッ
クと、前記出力パイプに接続して流路を変換する出力変
換ブロックとが一体的に固設されていることを特徴とす
るガス供給集積ユニット。 - 【請求項8】 請求項6に記載するものにおいて、 前記供給ガスの不純物を除去するためのフィルタが、前
記同一ブロックに前記手動弁、前記圧力計と前記第一開
閉弁とに対して直交する方向から取り付けられているこ
とを特徴とするガス供給集積ユニット。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7145432A JP2832166B2 (ja) | 1995-05-19 | 1995-05-19 | ガス供給集積ユニット |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7145432A JP2832166B2 (ja) | 1995-05-19 | 1995-05-19 | ガス供給集積ユニット |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08312900A JPH08312900A (ja) | 1996-11-26 |
JP2832166B2 true JP2832166B2 (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=15385116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7145432A Expired - Lifetime JP2832166B2 (ja) | 1995-05-19 | 1995-05-19 | ガス供給集積ユニット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2832166B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5810031A (en) * | 1996-02-21 | 1998-09-22 | Aeroquip Corporation | Ultra high purity gas distribution component with integral valved coupling and methods for its use |
US6293310B1 (en) | 1996-10-30 | 2001-09-25 | Unit Instruments, Inc. | Gas panel |
US6394138B1 (en) | 1996-10-30 | 2002-05-28 | Unit Instruments, Inc. | Manifold system of removable components for distribution of fluids |
US5992463A (en) | 1996-10-30 | 1999-11-30 | Unit Instruments, Inc. | Gas panel |
US6769463B2 (en) | 2001-05-16 | 2004-08-03 | Celerity Group, Inc. | Fluid flow system |
JP4597440B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2010-12-15 | シーケーディ株式会社 | 半導体製造装置用ガス供給集積ユニット |
JP4197648B2 (ja) * | 2001-10-18 | 2008-12-17 | シーケーディ株式会社 | パルスショット式流量調整装置とパルスショット式流量調整方法 |
JP4818589B2 (ja) * | 2004-02-26 | 2011-11-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
DE102010043865A1 (de) | 2009-11-30 | 2011-07-14 | Horiba Stec Co., Ltd. | Fluid device |
JP5437779B2 (ja) * | 2009-11-30 | 2014-03-12 | 株式会社堀場エステック | 流体装置 |
JP5616416B2 (ja) * | 2012-11-02 | 2014-10-29 | 株式会社フジキン | 集積型ガス供給装置 |
JP7153328B2 (ja) * | 2018-12-18 | 2022-10-14 | 株式会社フジキン | 流体制御用ガスボックス |
JP7396933B2 (ja) * | 2020-03-03 | 2023-12-12 | 日本ピラー工業株式会社 | 流路ユニット |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2568365B2 (ja) * | 1993-02-10 | 1997-01-08 | 株式会社東芝 | ガス供給装置 |
-
1995
- 1995-05-19 JP JP7145432A patent/JP2832166B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08312900A (ja) | 1996-11-26 |
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