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JP3506419B2 - 磁気ヘッドスライダの製造方法およびバーの固定方法 - Google Patents

磁気ヘッドスライダの製造方法およびバーの固定方法

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JP3506419B2
JP3506419B2 JP28295999A JP28295999A JP3506419B2 JP 3506419 B2 JP3506419 B2 JP 3506419B2 JP 28295999 A JP28295999 A JP 28295999A JP 28295999 A JP28295999 A JP 28295999A JP 3506419 B2 JP3506419 B2 JP 3506419B2
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bar
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスクな
どの記録媒体に対して情報の記録あるいは再生を行う薄
膜磁気ヘッド素子を含む磁気ヘッドスライダの製造方
法、および磁気ヘッドスライダを加工するためのバーの
固定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスク装置などの磁気記録装置
では、磁気情報の記録あるいは再生を行う薄膜磁気ヘッ
ド素子は、磁気記録媒体の記録面に対向配置された磁気
ヘッドスライダに搭載されている。
【０００３】この磁気ヘッドスライダは、例えば特開平
１０−２２８６１７号公報で提案されているように、次
のような工程により製造されるようになっている。
【０００４】まず、例えばセラミックス材料からなる基
体（ウエハ）上に、薄膜プロセスによって薄膜磁気ヘッ
ド素子を多数個形成する。続いて、そのウエハをダイシ
ング・ソーなどを用いて切断し、それぞれが少なくとも
一つの磁気ヘッドスライダを含む複数のバーを形成す
る。こうして得られた複数のバーの表面に、研磨加工を
施した後、フォトリソグラフィ法を用いたエッチング工
程などによって所定形状のスライダレールを形成する。
スライダレールが加工されたバーをさらに切断すること
により、個々の磁気ヘッドスライダとなる。
【０００５】スライダレールを形成する工程では、セラ
ミックなどからなる支持基板上に複数のバーの被加工面
（すなわち、スライダレールが形成される面）と反対側
の面を直接に接着固定するようにしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに複数のバーの被加工面と反対側の面を支持基板に直
接固定する方法では、バー毎に厚さがばらついている
と、バー毎に被加工面の高さ（すなわち、支持基板表面
からの被加工面までの距離）にもばらつきが生じてしま
う。従って、例えばフォトリソグラフィ法を用いた加工
工程において、複数のバーを同時に露光する所謂一括露
光を行うと、露光焦点が合うバーと露光焦点が合わない
バーとが生じる。露光焦点が合わないバーでは、マスク
となるフォトレジストパターンの大きさや形状が目標通
りにならないことから、スライダレールの形状に誤差が
生じ、結果的に磁気ヘッドスライダの特性（例えば磁気
ヘッドスライダと記録媒体との間に生じるクリアランス
であるヘッド浮上量など）に影響を及ぼすという問題が
ある。
【０００７】このような問題を解決するためには、一括
露光の代わりに、バーを一本ずつ露光する所謂ステップ
アンドリピート方式の露光を行えば良いが、ステップア
ンドリピート方式の露光装置は高価なため、製造コスト
が上昇するという問題がある。また、バーを一本ずつ露
光するため、製造に時間がかかるという問題もある。
【０００８】また、特開平８−３１５３４１号公報で
は、複数のバーを、その被加工面が所定の基準面に沿う
ように固定する方法が提案されている。具体的には、複
数のバーの被加工面を共通のガラス板に一旦接着した
後、これら複数のバーの周囲に低融点金属を流し、その
まま固化させる。ガラス板を除去すると、バーは被加工
面を露出させた状態で低融点金属により保持される。こ
の方法によれば、各バーの被加工面は同じ高さになる。
【０００９】しかしながら、この特開平８−３１５３４
１号公報に記載の方法では、基準面（すなわち、ガラス
板の表面）と平行な面内におけるバーの位置決めを正確
に行うのは困難である。そのため、複数のバーを共通の
レジストパターンを用いて露光する一括露光ではレジス
トパターンとバーの位置がずれる可能性があり、正確な
形状のスライダレールの形成が難しい。また、バーを切
断して個々の磁気ヘッドスライダに分離する際、バーと
共に周囲の低融点金属を切断しなければならないことか
ら、切断用のブレードなどの寿命が短くなるという問題
もある。
【００１０】また、特開平６−２３６５０８号公報で
は、複数のバーを支持基板に固定する際に、支持基板表
面と平行な面内における位置調節を一本ずつ行うように
した方法が提案されている。具体的には、吸着保持具に
よってバーの被加工面を吸着してこれを持ち上げ、ＸＹ
Ｚテーブルに搭載された支持基板をバーに対して適当な
位置に位置決めした後、バーの被加工面と反対側の面を
支持基板に固定する。しかしながら、この特開平６−２
３６５０８号公報に記載の方法では、被加工面と反対側
の面を支持基板に直接固定するようになっているため、
特開平１０−２２８６１７号と同様の問題、すなわちバ
ーの厚さのばらつき分だけ被加工面の高さがばらつき、
その結果、フォトリソグラフィ法を用いた加工工程など
において正確な形状のスライダレールの形成が難しいと
いう問題がある。
【００１１】本発明は、かかる問題点に鑑みて成された
もので、その目的は、製造コストを上昇させることなく
加工精度を向上させることができる磁気ヘッドスライダ
の製造方法およびバーの固定方法を提供することを目的
とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明によるバーの固定
方法は、少なくとも一つの磁気ヘッドスライダを含む長
尺部材であるバーの所定の面を加工するために、平坦な
基準面を有する基準部材を用いて、複数のバーを所定の
支持部材に所定の配列状態で固定する方法であって、位
置決め機構を用いて１つのバーを基準面と平行な面内方
向において配列状態に応じた位置に位置決めする毎にそ
の位置決めの済んだバーの被加工面を基準面に吸着保持
させる工程、を繰り返すことにより、複数のバーを基準
面に沿って配列する配列工程と、配列工程により配列さ
れた複数のバーを、それぞれのバーの相対位置関係を維
持しつつ一括して支持部材に移し載せる転載工程とを含
むようにしたものである。
【００１３】本発明によるバーの固定方法では、複数の
バーの被加工面が基準面に沿うようになっているため、
例えばフォトリソグラフィ法を用いた加工工程において
例えば一括露光を行った場合でも、複数のバーの全ての
被加工面に露光焦点を合わせることができ、正確なスラ
イダレールの加工を行うことができる。また、各バーに
ついて基準面と平行な面内における位置調節を行うよう
にしているため、例えばフォトリソグラフィ法における
レジストパターンとバーの位置を合わせ易く、従って正
確なスライダレールの加工を行うことができる。また、
バーを一本ずつ露光するステップアンドリピート方式の
露光を行う必要が無いため、製造時間が短縮される上、
高価な露光装置が不要になり製造コストが低減される。
【００１４】なお、上記の転載工程では、複数のバーの
被加工面と反対側の面と支持部材との間に接着剤を介在
させて複数のバーを前記支持部材に固定するようにする
ことが望ましい。このようにすれば、複数のバーの厚さ
のばらつき分だけ接着剤の厚さを異ならせることができ
るので、複数のバーを、それぞれの被加工面の位置を基
準面に合わせつつ保持することが可能になる。
【００１５】また、上記の配列工程において、基準面を
規定する面を有する基準部材を用い、複数のバーの被加
工面を基準面に当接させ、基準部材によって複数のバー
を保持するようにすることが望ましい。このようにすれ
ば、簡単な方法で、複数のバーの被加工面を基準面に合
わせることができる。
【００１６】加えて、上記の転載工程は、支持部材上に
接着剤を塗布し、その接着剤に基準部材により支持され
る複数のバーの被加工面と反対側の面を接触させ、接着
剤が硬化した後、基準部材を複数のバーから離間させる
ことが望ましい。
【００１７】さらに、上記の配列工程では、それぞれの
バーに形成された所定のマークを観察しながら、複数の
バーの基準面と平行な面内における位置調節を行うよう
にすることが望ましい。このようにすれば、各バーの正
確且つ簡単な位置決めが可能になる。
【００１８】また、上記の配列工程よりも前に、バーの
被加工面以外の少なくとも一つの面に保護膜を形成する
工程を設けても良い。このようにすれば、バーの被加工
面以外の面に形成された例えば薄膜磁気ヘッド素子を、
加工工程（例えばフォトリソグラフィ法におけるエッチ
ング処理）などにおける損傷から保護することができ
る。
【００１９】また、上記の複数のバーは、長さの異なる
複数種類のバーを含むようにすることが望ましい。この
ようにすれば、ウエハから無駄なくバーを切り出すこと
ができるため、材料の節約が可能になる。
【００２０】 本発明による磁気ヘッドスライダの製造
方法は、所定の基体上に薄膜磁気ヘッド素子を形成する
工程と、基体を切断して、それぞれに薄膜磁気ヘッド素
子が形成された少なくとも一つの磁気ヘッドスライダを
含むバーを複数形成する切断工程と、複数のバーを、平
坦な基準面を有する基準部材における前記基準面に沿っ
て配列する配列工程と、配列工程により配列された複数
のバーを、それぞれのバーの相対位置関係を維持しつつ
一括して支持部材に移し載せることにより、複数のバー
を支持部材に所定の配列状態で固定する転載工程と、支
持部材により支持された複数のバーの被加工面に所定の
加工を施す加工工程と、バーを切断して個々の磁気ヘッ
ドスライダに分離する分離工程とを含み、配列工程にお
いて、位置決め機構を用いて１つのバーを基準面と平行
な面内方向において上記の配列状態に応じた位置に位置
決めする毎にその位置決めの済んだバーの被加工面を基
準面に吸着保持させる工程、を繰り返すことにより、複
数のバーを基準面に沿って配列するようにしたものであ
る。
【００２１】本発明による磁気ヘッドスライダの製造方
法では、複数のバーの特定の面、すなわち被加工面が基
準面に沿うようになっているので、例えばフォトリソグ
ラフィ法における例えば一括露光を行った場合でも、複
数のバーの全ての被加工面に露光焦点を合わせることが
でき、正確なスライダレールの加工を行うことができ
る。また、各バーについて基準面と平行な面内における
位置調節を行うようにしているため、例えば一括露光の
際のレジストパターンとバーの位置を合わせ易く、従っ
て正確なスライダレールの加工を行うことができる。ま
た、バーを一本ずつ露光するステップアンドリピート方
式の露光を行う必要が無いため、製造時間が短縮される
上、高価な露光装置が不要になることから製造コストが
低減される。
【００２２】
【発明の実施の形態】＜磁気ヘッドスライダの構成＞最
初に、図１ないし図５を参照して、本発明の実施の形態
に係る磁気ヘッドスライダの製造方法およびバーの固定
方法が適用される磁気ヘッドスライダの構造について説
明する。
【００２３】図１は、本実施の形態に係る磁気ヘッドス
ライダの製造方法およびバーの固定方法が適用される磁
気ヘッドスライダ２を備えたアクチュエータアーム３の
構成を表すものである。このアクチュエータアーム３
は、例えば、図示しないハードディスク装置などで用い
られるものであり、薄膜磁気ヘッド素子１が形成された
磁気ヘッドスライダ２を有している。この磁気ヘッドス
ライダ２は、例えば、支軸２ｂにより回動可能に支持さ
れた腕部２ｃの先端に搭載されている。この腕部２ｃ
は、例えば、図示しないボイスコイルモータの駆動力に
より回動するようになっており、これにより磁気ヘッド
スライダ２がハードディスクなどの磁気記録媒体Ｍの記
録面（図１においては記録面の下面）に沿ってトラック
ラインを横切る方向ｘに移動するようになっている。な
お、磁気記録媒体Ｍは、例えば、磁気ヘッドスライダ２
がトラックラインを横切る方向ｘに対してほぼ直交する
方向ｚに回転するようになっており、このような磁気記
録媒体Ｍの回転および磁気ヘッドスライダ２の移動によ
り磁気記録媒体Ｍに情報が記録され、または記録された
情報が読み出されるようになっている。
【００２４】図２は、図１に示した磁気ヘッドスライダ
２の構成を表すものである。この磁気ヘッドスライダ２
は、例えば、Ａｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣ（アルティック）より
なるブロック状の基体２ｄを有している。この基体２ｄ
は、例えば、ほぼ六面体状に形成されており、そのうち
の一面（図中上側の面）が磁気記録媒体Ｍ（図１）の記
録面に近接して対向するように配置されている。この磁
気記録媒体Ｍの記録面と対向する面には、２本の平行な
スライダレール２ａが形成されている。スライダレール
２ａの表面は、エアベアリング面（ＡＢＳ）２ｅと呼ば
れ、磁気記録媒体Ｍが回転する際には、磁気記録媒体Ｍ
の記録面とエアベアリング面２ｅとの間に生じる空気流
により、磁気ヘッドスライダ２が記録面との対向方向ｙ
において記録面から離れるように微少量移動し、エアベ
アリング面２ｅと磁気記録媒体Ｍとの間に一定のクリア
ランスができるようになっている。基体２ｄのエアベア
リング面２ｅに対する一側面（図２においては左側の側
面）には、薄膜磁気ヘッド素子１が設けられている。
【００２５】図３は、薄膜磁気ヘッド素子１の構成を分
解して表すものである。また、図４は、図３に示した矢
印ＩＶ方向から見た平面構造を表し、図５は、図４に示
したＶ−Ｖ線に沿った矢視方向の断面構造を表すもので
ある。この薄膜磁気ヘッド素子１は、磁気記録媒体Ｍ
（図１）に記録された磁気情報を再生する再生ヘッド部
１ａと、磁気記録媒体Ｍに磁気情報を記録する記録ヘッ
ド部１ｂとが一体に構成されたものである。
【００２６】図３および図５に示したように、再生ヘッ
ド部１ａは、例えば、基体２ｄの上に、絶縁層１１，下
部シールド層１２，下部シールドギャップ層１３，上部
シールドギャップ層１４および上部シールド層１５がエ
アベアリング面２ｅの側においてこの順に積層された構
造を有している。絶縁層１１は、例えば、積層方向の厚
さ（以下、単に厚さと記す）が２μｍ〜１０μｍであ
り、Ａｌ2 Ｏ3 （アルミナ）により構成されている。下
部シールド層１２は、例えば、厚さが１μｍ〜３μｍで
あり、ＮｉＦｅ（ニッケル鉄合金：パーマロイ）などの
磁性材料により構成されている。下部シールドギャップ
層１３および上部シールドギャップ層１４は、例えば、
厚さがそれぞれ１０ｎｍ〜１００ｎｍであり、Ａｌ2 Ｏ
3 またはＡｌＮ（チッ化アルミニウム）によりそれぞれ
構成されている。上部シールド層１５は、例えば、厚さ
が１μｍ〜４μｍであり、ＮｉＦｅなどの磁性材料によ
り構成されている。なお、この上部シールド層１５は、
記録ヘッド部１ｂの下部磁極としての機能も兼ね備えて
いる。
【００２７】また、下部シールドギャップ層１３と上部
シールドギャップ層１４との間には、ＭＲ（Magneto-Re
sistive ）素子１ｃが埋設されている。ＭＲ素子１ｃ
は、図示しない磁気記録媒体に書かれた情報を読み取る
ためのものであり、エアベアリング面２ｅの側に配置さ
れている。ＭＲ素子１ｃは、ＡＭＲ（Anisotropic Magn
eto-Resistive ）膜やＧＭＲ（Giant Magneto-Resistiv
e ）膜からなるＭＲ膜２０を含んでいる。なお、ＡＭＲ
膜は、例えばＮｉＦｅからなる磁性層を含む単層構造を
有するものである。ＧＭＲ膜は、軟磁性層のほか、例え
ばＣｏＦｅ（鉄コバルト合金）からなる強磁性層、例え
ばＭｎＰｔ（マンガン白金合金）からなる反強磁性層お
よび例えばＣｕ（銅）からなる非磁性金属層などを含む
多層構造を有するものである。
【００２８】ＭＲ膜２０のトラック幅方向（図中Ｘ方
向）における両側には、例えば硬磁性材料からなる磁区
制御膜３０ａ，３０ｂが形成されている。この磁区制御
膜３０ａ，３０ｂは、ＭＲ膜２０に一定方向のバイアス
磁界を印加することによりバルクハウゼンノイズの発生
を抑えるためのものである。ＭＲ膜２０には、トラック
幅方向においてＭＲ膜２０を挟んで対向するように配置
された一対のリード層３３ａ，３３ｂが電気的にそれぞ
れ接続されている。これらリード層３３ａ，３３ｂは、
ＭＲ膜２０と同様に、下部シールドギャップ層１３と上
部シールドギャップ層１４との間にそれぞれ形成されて
いる。リード層３３ａ，３３ｂは、例えばタンタル（Ｔ
ａ）などの金属により構成されている。
【００２９】リード層３３ａ，３３ｂは、エアベアリン
グ面２ｅと反対側に向かってそれぞれ延長されており、
上部シールドギャップ層１４に形成された図示しない開
口部を介して、上部シールドギャップ層１４上に所定の
パターンに形成された出力端子３３ｃ，３３ｄに電気的
に接続されている。
【００３０】記録ヘッド部１ｂは、例えば、図３ないし
図５に示したように、上部シールド層１５の上に、Ａｌ
2 Ｏ3 などの絶縁膜よりなる厚さ０．１μｍ〜０．５μ
ｍの記録ギャップ層４１を有している。この記録ギャッ
プ層４１は、後述する薄膜コイル４３，４５の中心部に
対応する位置に開口部４１ａを有している。この記録ギ
ャップ層４１の上には、スロートハイトを決定する厚さ
１．０μｍ〜５．０μｍのフォトレジスト層４２を介し
て、厚さ１μｍ〜３μｍの薄膜コイル４３およびこれを
覆うフォトレジスト層４４がそれぞれ形成されている。
このフォトレジスト層４４の上には、厚さ１μｍ〜３μ
ｍの薄膜コイル４５およびこれを覆うフォトレジスト層
４６がそれぞれ形成されている。なお、本実施の形態で
は薄膜コイルが２層積層された例を示したが、薄膜コイ
ルの積層数は１層または３層以上であってもよい。
【００３１】記録ギャップ層４１およびフォトレジスト
層４２，４４，４６の上には、例えば、ＮｉＦｅまたは
ＦｅＮ（窒化鉄）などの高飽和磁束密度を有する磁性材
料よりなる厚さ約３μｍの上部磁極４７が形成されてい
る。この上部磁極４７は、薄膜コイル４３，４５の中心
部に対応して設けられた記録ギャップ層４１の開口部４
１ａを介して、上部シールド層１５と接触しており、磁
気的に連結している。この上部磁極４７の上には、図３
ないし図５では図示しないが、例えば、Ａｌ2Ｏ3よりな
る厚さ２０μｍ〜３０μｍのオーバーコート層が全体を
覆うように形成されている。これにより、この記録ヘッ
ド部１ｂは、薄膜コイル４３，４５に流れる電流によっ
て下部磁極である上部シールド層１５と上部磁極４７と
の間に磁束を生じ、記録ギャップ層４１の近傍に生ずる
磁束によって磁気記録媒体Ｍ（図１）を磁化し、情報を
記録するようになっている。
【００３２】このような構造の薄膜磁気ヘッド素子１
は、次のように作用する。すなわち、記録ヘッド部１ｂ
の薄膜コイル４３，４５に電流を流すことにより、書き
込み用の磁束を発生させ、磁気記録媒体Ｍ（図１）に情
報を記録する。また、再生ヘッド部１ａのＭＲ膜２０に
センス電流を流し、磁気記録媒体Ｍからの信号磁界によ
る抵抗変化を検出することにより、磁気記録媒体Ｍに記
録されている情報を読み出す。
【００３３】［バー固定装置の構成］図６は、本実施の
形態に係る磁気ヘッドスライダの製造方法において使用
するバー固定装置の基本構成を表すものである。このバ
ー固定装置６は、複数のバー５を、その被加工面が所定
の基準面に沿うように配列し、且つバー５を上記基準面
と平行な面内において位置決めするよう構成されてい
る。図６に示したように、このバー固定装置６では、バ
ー５を水平面内における一方向（図６において左下から
右上に向かう方向）に搬送しつつ、必要な作業を行うよ
うになっている。以下の説明では、バー固定装置６にお
いてバー５が搬送される方向をＹ方向とし、水平面内お
いてＹ方向に直交する方向をＸ方向とする。
【００３４】バー固定装置６は、Ｙ方向に沿って、複数
のバー５を水平に載置するパレット６２と、パレット６
２上に載置されたバー５を一本ずつ取り出すロボット６
４と、ロボット６４により取り出されたバー５を１本ず
つ受け取って搬送するキャリア７０と、キャリア７０に
よって搬送されたバー５を複数吸着保持する吸着プレー
ト８０と、吸着プレート８０からバー５を転載されこれ
を支持する支持基板９０とを有している。なお、支持基
板９０は、後述のフォトリソグラフィ法を用いた加工工
程において複数のバー５を保持するためのものである。
ロボット６４、キャリア７０、および支持基板９０を駆
動するための各機構は、制御部Ｃによって駆動制御され
る。
【００３５】パレット６２は、所定の本数（例えば５０
本）のバー５を載置するだけの面積を持つ板状部材であ
る。ロボット６４は、パレット６２上のバー５を一本ず
つ把持してキャリア７０に載置するという一連の動作を
行うものである。このような動作を行うことができるも
のであれば、ロボット６４の具体的な構成はどのような
ものであっても良い。
【００３６】図７は、キャリア７０とそれを駆動する駆
動機構の構成例を表す斜視図である。図７に示したよう
に、キャリア７０は、一本のバー５を載置するに十分な
面積を持つ載置面７０ａを有する長尺形状のブロックに
より構成されている。載置面７０ａには、キャリア７０
の長手方向に沿って吸着孔７０ｂが一列に形成されてい
る。吸着孔７０ｂはキャリア７０の外部に向けて伸びる
パイプ７０ｃに連結されており、このパイプ７０ｃには
バルブ機構７１ａにより開閉制御されるバルブ７１が設
けられている。キャリア７０は、バルブ７１の開放によ
りバー５を載置面７０ａで吸着保持し、バルブ７１の閉
鎖によりバー５の吸着を解除するよう構成されている。
【００３７】 キャリア７０は、鉛直方向に昇降可能で
且つ水平面内で回転可能に構成された昇降・回転アクチ
ュエータ７２に搭載され、この昇降・回転アクチュエー
タ７２は水平面内に移動可能に構成されたＸＹテーブル
７５に搭載されている。昇降・回転アクチュエータ７２
は、ベース７２０と、そのベース７２０上で例えばウォ
ームギアを含む昇降機構７２３（図６）によって昇降駆
動される昇降板７２２と、この昇降板７２２上で例えば
ギア列を含む回転機構７２５（図６）によって回転駆動
される回転板７２４を備えている。ＸＹテーブル７５
は、昇降・回転アクチュエータ７２を支持するＸテーブ
ル７５０と、このＸテーブル７５０をＸ方向に直進駆動
するＸテーブル駆動機構７５２と、これらを搭載したＹ
テーブル７５４と、このＹテーブル７５４をＹ方向に直
進駆動するＹテーブル駆動機構７５６とを備えている。
なお、Ｘテーブル駆動機構７５２は、Ｘ方向に延びる一
対の案内軸７５２ａ，７５２ｂと、同じくＸ方向に延び
るボールねじ７５２ｃと、このボールねじ７５２ｃを回
転させるモータ７５２ｄを有している。同様に、Ｙテー
ブル駆動機構７５６は、Ｙ方向に延びる一対の案内軸７
５６ａ，７５６ｂと、同じくＸ方向に延びるボールねじ
７５６ｃと、このボールねじ７５６ｃを回転させるモー
タ７５６ｄを有している。Ｙテーブル７５４の移動範囲
は、ロボット６４に近接した位置から、吸着プレート８
０の下方位置までである。なお、上記昇降・回転アクチ
ュエータ７２は、比較的粗い位置調整を行う機構と微調
整を行う機構とを組み合わせて構成しても良いが、これ
らについては詳細説明を省略する。
【００３８】図８は、吸着プレート８０の構成例を表す
斜視図である。吸着プレート８０は例えば５０本のバー
５を保持するに十分な面積を持つ例えばステンレス鋼製
の平板状部材であり、その下面は平滑面となっている。
吸着プレート８０の下面には、図示しない吸着孔が複数
列形成されている。この吸着孔の列は、吸着されるバー
５の数に対応しており、列毎に独立したパイプ８０ａに
連結されている。各パイプ８０ａには、バルブ機構８１
ａによってそれぞれ独立して開閉制御されるバルブ８１
が設けられており、吸着孔の吸着を列毎にオンオフでき
るようになっている。
【００３９】なお、吸着プレート８０には、バー５の吸
着位置などを観察するため、吸着プレート８０を厚み方
向に貫通する２つのスリット８７ａ，８７ｂが形成され
ている。スリット８７ａ，８７ｂは、吸着プレート８０
に吸着されるバー５の長手方向（Ｘ方向）両端に対応す
る位置に形成され、バー５の配列方向（すなわちＹ方
向）に長く延びている。吸着プレート８０の上方には、
スリット８７ａ，８７ｂを通して（吸着プレート８０に
吸着される）バー５の長手方向両端が観察できるよう
に、２つのカメラ８５ａ，８５ｂがＸ方向に所定間隔を
開けて配置されている。カメラ８５ａ，８５ｂは、カメ
ラ駆動機構８２（図６）によってスリット８７ａ，８７
ｂに沿って移動する。
【００４０】図６に示したように、支持基板９０は、所
定の本数（例えば５０本）を搭載するに十分な面積を持
つ例えばウエハ形状のセラミックス基板である。支持基
板９０の表面には、例えば数回のフォトリソグラフィ工
程に耐えることができ、かつアルコールやアセトンに溶
解し難い材料、例えばポリイミドがコーティングされて
いる。ここで用いるポリイミドの具体例としては、東レ
株式会社製セミコファイン（商標）などがある。支持基
板９０の表面に接着剤を塗布するため、支持基板９０の
近傍にはディスペンサ９４が設けられている。ディスペ
ンサ９４は、公知のディスペンサ駆動機構９５によって
支持基板９０の表面に沿って移動すると共に、先端部か
ら液状の接着剤を吐出するよう構成されている。なお、
接着剤については後述する。
【００４１】 支持基板９０は、支持基板駆動機構９８
によってＹ方向に移動可能に構成されている。支持基板
９０は、吸着プレート８０の下方位置と吸着プレート８
０から離間した位置との間で水平移動可能に構成されて
おり、支持基板９０が吸着プレート８０の下部に移動し
た状態で、吸着プレート８０に保持された複数のバー５
が支持基板９０に移し載せられるようになっている。な
お、バー５の移し載せの際に、吸着プレート８０により
保持されたバー５に支持基板９０上の接着剤（後述）を
接触させるため、支持基板９０は支持基板駆動機構９８
により上下に例えば数ｍｍ駆動されるようになってい
る。
【００４２】ここで、支持基板９０は、本発明における
「支持部材」の一具体例に対応する。また、吸着プレー
ト８０は、本発明における「基準部材」の一具体例に対
応し、吸着プレート８０の吸着面（下面）は、本発明に
おける「基準面」の一具体例に対応する。さらに、キャ
リア７０は、本発明における「キャリア」の一具体例に
対応する。
【００４３】［磁気ヘッドスライダの製造方法］図９
は、磁気ヘッドスライダの製造方法を表す流れ図であ
る。図１０および図１１は、図９に示した製造方法を説
明するための工程毎の斜視図である。図１０（Ａ）に示
したように、例えばＡｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣからなる３〜６
インチのウエハ４に、薄膜プロセスなどを用いて薄膜磁
気ヘッド素子１を多数個形成する（Ｓ１０）。
【００４４】ここで、ステップＳ１０の薄膜プロセス
を、図３ないし図５を参照して簡単に説明する。
【００４５】 まず、例えば、前述のウエハ４の上に、
スパッタリング法などによりＡｌ2 Ｏ3 などの絶縁材料
よりなる絶縁層１１を形成する。次いで、絶縁層１１の
上に、例えばスパッタリング法により、ＮｉＦｅなどの
磁性材料よりなる下部シールド層１２を選択的に形成す
る。続いて、下部シールド層１２の上に、例えばスパッ
タリング法によりＡｌ2 Ｏ3 膜を成膜し、これを加熱す
ることにより、高絶縁性の下部シールドギャップ層１３
を形成する。
【００４６】次に、下部シールドギャップ層１３の上
に、例えばスパッタリング法によりＭＲ膜２０を形成す
るための積層膜を形成したのち、その上に選択的にフォ
トレジストパターンを形成する。そののち、このフォト
レジストパターンをマスクとして、例えばイオンミリン
グにより積層膜をエッチングし、所定の平面形状および
サイズを有するＭＲ膜２０を形成する。次に、下部シー
ルドギャップ層１３の上に、例えばスパッタリング法に
より、磁区制御膜３０ａ，３０ｂおよびリード層３３
ａ，３３ｂをそれぞれに形成する。
【００４７】次に、下部シールドギャップ層１３，ＭＲ
膜２０およびリード層３３ａ，３３ｂの上に、下部シー
ルドギャップ層１３と同様にして、上部シールドギャッ
プ層１４を形成する。そののち、上部シールドギャップ
層１４の上に、例えば、スパッタリング法により上部シ
ールド層１５を選択的に形成する。
【００４８】 上部シールド層１５を形成したのち、そ
の上に、例えば、スパッタリング法により、Ａｌ2 Ｏ3
などの絶縁材料よりなる記録ギャップ層４１を形成す
る。そののち、記録ギャップ層４１の上に、フォトリソ
グラフィ技術を用いてフォトレジスト層４２を選択的に
形成する。次いで、フォトレジスト層４２の上に、例え
ばメッキあるいはスパッタリング法により、薄膜コイル
４３を選択的に形成する。続いて、フォトレジスト層４
２および薄膜コイル４３の上に、フォトレジスト層４２
と同様にして、フォトレジスト層４４を選択的に形成
し、その上に、薄膜コイル４３と同様にして、薄膜コイ
ル４５を選択的に形成する。更に、フォトレジスト層４
４および薄膜コイル４５の上に、フォトレジスト層４２
と同様にして、フォトレジスト層４６を選択的に形成す
る。
【００４９】 フォトレジスト層４６を形成したのち、
記録ギャップ層４１を部分的にエッチングし、薄膜コイ
ル４３，４５の中心部近傍に開口４１ａを形成する。そ
ののち、記録ギャップ層４１、フォトレジスト層４４，
４６の上に、例えばスパッタリング法により、ＮｉＦｅ
あるいはＦｅＮなどの磁性材料よりなる上部磁極４７を
形成する。続いて、上部磁極４７をマスクとして、例え
ばイオンミリング法により、記録ギャップ層４１および
上部シールド層１５の一部をエッチングする。そのの
ち、上部磁極４７の上に、例えばスパッタリング法によ
り、例えばＡｌ2 Ｏ3 よりなるオーバーコート（図示せ
ず）を形成する。
【００５０】このようにして、図１０（Ａ）に示したよ
うに、ウエハ４上に、薄膜磁気ヘッド素子１が多数形成
される。
【００５１】続いて、図１０（Ｂ）に示したように、ウ
エハ４を数個のブロックに切断し、例えば３種類の大き
さのブロック４ａ，４ｂ，４ｃを得る（Ｓ１２）。ブロ
ック４ａ，４ｂ，４ｃは、それぞれ同じ長さのバー５を
積層状態で一体にしたものに相当する。また、各バー５
は、それぞれに少なくとも一つの薄膜磁気ヘッド素子１
が形成された磁気ヘッドスライダ２が複数個一体となっ
たものである。
【００５２】 次に、ブロック４ａ，４ｂ，４ｃからの
バー５の切り出しおよびラッピング加工を行う（Ｓ１
４）。具体的には、図１１（Ａ）に示したように、ブロ
ック４ａに含まれる一つのバー５のエアベアリング面に
対応する端面Ｓを砥石１０２により研磨する。なお、こ
のとき、ブロック４ａを、その研磨面と反対側の端面で
固定治具１００に固定する。続いて、図１１（Ｂ）に示
したように、ブロック４ａの研磨済みの端面に保護フィ
ルム１０４を接着すると共に、その保護フィルム１０４
を介してブロック４ａの研磨済みの端面を別の治具（図
示せず）で吸着保持し、固定治具１００と共にブロック
４ａを両端面から挟み込むように保持する。次に、研磨
済みの面を有するバー５と隣接するバー５との間をブレ
ード１０６で切断する。切断後、バー５から保護フィル
ム１０４を剥がし、これにより、図１１（Ｃ）に示した
ような研磨済みの面を有する一つのバー５が得られる。
【００５３】図１１（Ａ）ないし（Ｃ）に示した工程を
繰り返すことにより、ブロック４ａに含まれる全てのバ
ー５について、エアベアリング面となる面の研磨と切り
出しを行うことができる。ブロック４ｂ，４ｃについて
も、ブロック４ａと同様のバーの研磨・切り出しが行わ
れる。このようにして、所定の本数（例えば５０本）の
バー５が得られる。
【００５４】なお、図１１（Ａ）に示した研磨工程で
は、研磨量に応じて変化する薄膜磁気ヘッド素子１の抵
抗を測定し、この抵抗測定値に応じて研磨制御を行う所
謂ＲＬＧ（Resistance Lapping Guide）研磨法を用いて
も良い。このＲＬＧ研磨法は公知なので、説明を省略す
る。また、粗研磨と仕上げ研磨を組み合わせて行っても
良い。
【００５５】 以上の工程により得られた複数のバー５
を、図６に示したバー固定装置６によって配列し、支持
基板９０に接着固定する（Ｓ１６）。
【００５６】図１２は、図９のステップ１６で実行され
る配列プロセスを表す流れ図である。図１３ないし図１
６は、図１２に示した配列プロセスを説明するための斜
視図であり、図１７は図１２に示した配列を説明するた
めの断面図である。図１３に示したように、各バー５の
薄膜磁気ヘッド素子１が形成された面に、矢印Ｋで示し
たようにインク（例えば、ドミノ株式会社製ＢＫ２７０
１Ｒ（製品番号））を吹きつけ、薄膜磁気ヘッド素子１
を保護する保護膜を形成する（Ｓ１００）。次に、図１
４に示したように、所定の本数（例えば５０本）のバー
５を、そのエアベアリング面となる面（図中符号Ｓで示
す。）を上にしてパレット６２上に載置する（Ｓ１０
１）。このとき、バー５を、一定の順序（例えば、ウエ
ハ４から切り出される前と同じ順序）で配列する。な
お、パレット６２上での各バー５の位置精度は、ロボッ
ト６４によるバー５の取り出しに支障をきたさない程度
であれば良い。
【００５７】続いて、図６に示したように、ロボット６
４を駆動してバー５を一本ずつ取り上げて、キャリア７
０に移す（Ｓ１０２）。このとき、制御部Ｃは、パレッ
ト６２上に並べられたバー５を一定の順序（例えば、ロ
ボット６４に近い側の端に位置するバー５から順番に）
で取り上げてキャリア７０に移すようロボット６４を制
御する。
【００５８】次に、制御部Ｃは、Ｙテーブル駆動機構７
５６を駆動して、キャリア７０を吸着プレート８０の下
部まで移動させ、次に昇降機構７２３を駆動してキャリ
ア７０を吸着プレート８０の下面すれすれまで上昇させ
る。この状態で、キャリア７０に搭載されたバー５の吸
着プレート８０に対する水平面内における位置調節を行
う（Ｓ１０４）。図１５に示したように、吸着プレート
８０の上方に設けられたカメラ３５ａ，３５ｂは、バー
５の両端に位置する磁気ヘッドスライダ２の薄膜磁気ヘ
ッド素子１の、例えば図１６（Ａ）および（Ｂ）に示し
たような画像情報を取り込むようになっている。制御部
Ｃ（図６）は、バー５の両端に位置する磁気ヘッドスラ
イダ２の薄膜磁気ヘッド素子１の像と予め記憶したパタ
ーンＰとのずれに基づいてバー５のＸ，Ｙ方向の位置ず
れと傾きについての制御情報を取得し、その制御情報に
基づいてＸテーブル駆動機構７５２、Ｙテーブル駆動機
構７５６および回転機構７２５を駆動し、これによりキ
ャリア７０の水平面内における位置調節を行う。
【００５９】吸着プレート８０に対するキャリア７０の
位置調節が完了すると、制御部Ｃはバルブ機構８１ａを
駆動して、吸着プレート８０のバー５を吸着する列の吸
着孔に対応するバルブ８１を選択的に開放する。同時
に、制御部Ｃは、バルブ機構７１ａを駆動してバルブ７
１を閉鎖し、キャリア７０の真空吸着を解除する。これ
により、バー５はキャリア７０を離れて吸着プレート８
０に吸着される（Ｓ１０６）。バー５が吸着プレート８
０に吸着されると、制御部Ｃは、キャリア７０を移動さ
せてロボット６４に近接した位置まで戻す。また、制御
部Ｃは、吸着プレート８０による一本のバー５の吸着保
持が完了する毎に、カメラ駆動機構８２を駆動してカメ
ラ８５ａ，８５ｂをバー５の配列ピッチ分だけ移動させ
る。
【００６０】このようなロボット６４によるキャリア７
０へのバー５の搭載（Ｓ１０２）、キャリア７０による
バー５の位置調節（Ｓ１０４）およびキャリア７０から
吸着プレート８０へのバー５の受け渡し（Ｓ１０６）
を、バー５の本数分だけ繰り返すことにより（Ｓ１０
８）、所定の本数のバー５の全てを吸着プレート８０に
吸着させることができる。
【００６１】このようにして、これら複数のバー５は、
そのエアベアリング面となる面が基準面（吸着プレート
８０の下面）に沿った状態で、吸着プレート８０により
保持される。
【００６２】次に、制御部Ｃは、ディスペンサ駆動機構
９５を駆動し、ディスペンサ９４により支持基板９０の
表面に接着剤を塗布する（Ｓ１１０）。ここで、接着剤
としては、硬化速度が速い接着剤が望ましく、特にシア
ノアクリル系の接着剤を用いるのが望ましい。また、接
着剤は、支持基板９０の表面全体に塗布しても良いし、
予め定められた例えばジグザグ状のパターンに沿って塗
布しても良い。
【００６３】 続いて、制御部Ｃは、支持基板駆動機構
９８を駆動し、図１７（Ａ）に示したように支持基板９
０を吸着プレート８０の下方位置まで水平に移動させた
のち吸着プレート８０に向けて上昇させ、吸着プレート
８０に保持されているバー５に支持基板９０上の接着剤
Ｂを接触させる。このとき、図１７（Ｂ）に示したよう
に、バー５の被加工面が吸着プレート８０の下面を基準
面として位置合わせされた状態で接着剤Ｂが硬化するた
め、バー５の厚さのばらつき分だけ接着剤Ｂの厚さが異
なり、全てのバー５の被加工面は基準面に沿う。接着剤
Ｂが硬化した後、吸着プレート８０の吸着を解除し、そ
ののち支持基板９０を吸着プレート８０から離間させる
ことによって、バー５は吸着プレート８０から支持基板
９０に移し載せられる（Ｓ１１２）。
【００６４】 このようにして、複数のバー５を、それ
ぞれの被加工面（エアベアリング面となる面）が基準面
に沿うようにしつつ、支持基板９０上に配列することが
できる。すなわち、複数のバー５のエアベアリング面と
なる面の高さ（すなわち、支持基板９０の表面からエア
ベアリング面となる面までの距離）が互いに同じにな
る。このように配列された複数のバー５は、支持基板９
０と共に図６のバー固定装置６から取り出され、フォト
リソグラフィ工程のための装置に装填される。
【００６５】続いて、再び図９の流れ図に戻り、ステッ
プＳ１８のフォトリソグラフィ法によるレール形成工程
を実行する。このレール形成工程では、支持基板９０上
に配列されたバー５に図示しないドライフィルムレジス
トをラミネートした後、図示しない一括露光装置を用い
てバー５を露光する。露光完了後、アルカリを用いた現
像を行い、イオンミリングなどを用いたエッチングを行
った後、レジストを除去する。このようにして、図１８
に示したように、各バー５のそれぞれの磁気ヘッドスラ
イダ２の中央部分が除去され、その中央部分を挟む両側
がスライダレール２ａとなり、スライダレール２ａの表
面がエアベアリング面２ｅとなる。
【００６６】このとき、各バー５の被加工面（エアベア
リング面となる面）の高さが正一致しているので、全て
のバー５の被加工面について正確に露光焦点を合わせる
ことが可能である。そのため、フォトレジストパターン
のバー毎のばらつきを無くすることができるようにな
り、従って正確な形状のスライダレール２ａの形成が可
能になる。
【００６７】スライダレール２ａを形成した後、図１９
に矢線Ｃで示したように、支持基板９０上で支持された
複数のバー５を切断し、それぞれの磁気ヘッドスライダ
２に分離する（Ｓ２０）。さらに、溶剤を用いて接着剤
Ｂを溶解し、それぞれの磁気ヘッドスライダ２を支持基
板９０から離間する（Ｓ２２）。これにより、図２に示
したような磁気ヘッドスライダ２が得られる。なお、接
着剤を溶解してバー５を支持基板９０から離間してか
ら、それぞれのバー５を別々に切断しても良い。
【００６８】以上、説明したように、本実施の形態によ
れば、複数のバー５を、その被加工面（エアベアリング
面となる面）が基準面に沿うようにして配置することと
したので、スライダレール２ａを形成する際に一括露光
を行っても露光焦点を全ての被加工面に正確に合わせる
ことが可能になり、従って正確な形状のスライダレール
２ａを形成することができる。また、一括露光は、バー
５を一本ずつ露光する所謂ステップアンドリピート方式
の露光に比べて安価な設備で行うことが可能なので、製
造コストを低減させることができる。加えて、吸着プレ
ート８０の吸着面と平行な面内におけるバー５の位置調
節を行うようにしたので、一括露光の際の露光パターン
とバー５との位置ずれが生じず、正確な形状のスライダ
レール２ａを形成することができる。
【００６９】加えてまた、基準面を規定する面を持つ吸
着プレート８０でバー５を一旦保持し、これを支持基板
９０に転載するようにしたため、複数のバー５を一度に
支持基板９０に移すことができ、それだけ製造時間を短
縮することができる。
【００７０】さらに、バー５の転載の際に、複数のバー
５の被加工面と反対側の面と支持基板９０との間に接着
剤を介在させたことにより、被加工面を基準面に合わせ
た状態を維持しつつ複数のバー５を保持することが可能
になる。
【００７１】さらに、それぞれのバー５の両端に位置す
る磁気ヘッドスライダ２の薄膜磁気ヘッド素子１を観察
しながら、バー５の基準面に対する位置調節を行うよう
にしたので、例えばフォトリソグラフィ法を用いたレー
ル加工工程における露光パターンと各バー５の位置を正
確に合わせることができる。
【００７２】また、バー５の薄膜磁気ヘッド素子１を形
成した面に保護膜を形成するようにしたため、薄膜磁気
ヘッド素子１を例えばフォトリソグラフィ法におけるエ
ッチングによる損傷から守ることができる。
【００７３】さらに、本実施の形態では、一枚のウエハ
４から長さの異なる複数種類のバー５を切り出すように
したので、ウエハ４を効率的に利用することができ、材
料の無駄を低減させることができる。
【００７４】以上、本発明は上記実施の形態に限定され
るものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上
記実施の形態では、バー５を５０本単位で支持基板９０
に固定するようにしたが、支持基板９０に固定するバー
５の本数は何本であっても良い。また、本発明は、フォ
トリソグラフィ法を用いたレール加工以外の加工にも適
用することができ、例えばＲＬＧ研磨と呼ばれる研磨工
程などに適用しても良い。
【００７５】また、薄膜磁気ヘッド素子１は、ＡＭＲ膜
やＧＭＲ膜を用いたものには限定されず、他のＭＲ膜
（例えばＴＭＲ（Tunnel-type Magneto-Resistive ）
膜）を用いたものであっても良い。また、薄膜磁気ヘッ
ド素子は、再生専用ヘッドあるいは記録専用ヘッドであ
っても良い。
【００７６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のバーの固
定方法または磁気ヘッドスライダの製造方法によれば、
複数のバーをその被加工面を基準として位置合わせする
ようにしたので、全てのバーの被加工面を同一面内に収
めることができる。さらに、複数のバーを基準面と平行
な面内において位置合わせするようにしたので、例えば
フォトリソグラフィ工程において露光パターンとバーと
を正確に位置合わせすることができ、従って正確な加工
形状が得られるという効果を奏する。
【００７７】 また、本発明のバーの固定方法または磁
気ヘッドスライダの製造方法によれば、フォトリソグラ
フィ法によりスライダレールなどを形成する際に、全て
のバーの被加工面を同一面内に収めることができるの
で、露光焦点を合わせ易くなり、従って加工精度が向上
する。従って、磁気ヘッドスライダの特性（例えば磁気
ヘッドスライダと記録媒体とのクリアランスなど）を一
定に保つことができる。また、例えばフォトリソグラフ
ィ法における一括露光などが可能になるため、製造にか
かる時間が短縮されると共に、例えばバーを１本ずつ処
理するステップアンドリピート方式と異なり、高価な露
光装置を必要としないので製造コストを低減することが
できる。
【００７８】 また、本発明のバーの固定方法または磁
気ヘッドスライダの製造方法によれば、バーの被加工面
と反対側の面と支持部材との間に接着剤を介在させるよ
うにしたので、バーの被加工面を基準面に合わせた状態
を維持したまま、支持部材によって複数のバーを保持す
ることが容易になる。
【００７９】 加えて、本発明のバーの固定方法または
磁気ヘッドスライダの製造方法によれば、基準部材の基
準面に複数のバーの被加工面を当接させ、基準部材によ
って複数のバーを保持するようにしたので、簡単な方法
で、複数のバーの被加工面を基準面に合わせることがで
きる。
【００８０】 加えてまた、本発明のバーの固定方法ま
たは磁気ヘッドスライダの製造方法によれば、基準部材
に設けた吸着手段によって複数のバーを保持するように
したので、簡単な方法でバーを保持できるようになる。
【００８１】 加えてまた、本発明のバーの固定方法ま
たは磁気ヘッドスライダの製造方法によれば、基準部材
により支持される複数のバーの被加工面と反対側の面
を、支持部材上に塗布した接着剤に接触させ、その状態
で接着剤を硬化させるようにしたので、バー毎の厚さの
ばらつき分だけ接着剤の厚みを異ならせ、その結果、複
数のバーの被加工面を基準面に合わせることが容易にな
る。
【００８２】 さらに、本発明のバーの固定方法または
磁気ヘッドスライダの製造方法によれば、それぞれのバ
ーに形成された所定のマークを観察しながら、バーの基
準面に対する面方向の位置調節を行うようにしたので、
例えばフォトリソグラフィ法における露光パターンと各
バーの被加工面の位置とを正確に合わせることができ
る。
【００８３】 また、本発明のバーの固定方法または磁
気ヘッドスライダの製造方法によれば、バーの被加工面
以外の少なくとも一つの面に保護膜を形成するようにし
たので、例えば薄膜磁気ヘッド素子を加工工程（例えば
フォトリソグラフィ法におけるエッチング）における損
傷から守ることができる。
【００８４】 さらに、本発明のバーの固定方法または
磁気ヘッドスライダの製造方法によれば、長さの異なる
複数種類のバーを形成するようにしたので、例えば円板
形状のウエハから効率的にバーを切り出すことが可能に
なり、材料の無駄が低減される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る磁気ヘッドスライダ
の製造方法およびバーの固定方法が適用される磁気ヘッ
ドスライダを備えたアクチュエータアームの構成を表す
斜視図である。
【図２】図１に示したアクチュエータアームにおける磁
気ヘッドスライダの構成を表す斜視図である。
【図３】図２に示した磁気ヘッドスライダに搭載された
薄膜磁気ヘッド素子の構成を表す分解斜視図である。
【図４】図３に示した薄膜磁気ヘッドのＩＶ矢視方向か
ら見た構造を表す平面図である。
【図５】図３に示した薄膜磁気ヘッドの図４におけるＶ
−Ｖ線に沿った矢視方向の構造を表す断面図である。
【図６】本発明の実施の形態における磁気ヘッドスライ
ダの製造方法および固定方法において用いられるバー固
定装置の概略構成を表す図である。
【図７】図６に示したバー固定装置におけるキャリアお
よびその駆動機構を表す斜視図である。
【図８】図６に示したバー固定装置における吸着プレー
トを表す斜視図である。
【図９】本発明の実施の形態における磁気ヘッドスライ
ダの製造方法を表す流れ図である。
【図１０】 図９に示した製造方法におけるウエハ上の
薄膜磁気ヘッド素子の形成工程およびブロック切り出し
工程を説明するための工程毎の斜視図である。
【図１１】図９に示した製造方法におけるバーの切り出
し・研磨方法を説明するための工程毎の斜視図である。
【図１２】図９に示した製造方法におけるバーの固定方
法を表す工程図である。
【図１３】図１２に示したバーの固定方法における保護
膜の形成方法を表す斜視図である。
【図１４】図１２に示したバーの固定方法においてパレ
ット上にバーを載置した状態を表す斜視図である。
【図１５】図１２に示したバーの固定方法におけるバー
の観察方法を表す斜視図である。
【図１６】図１５に示したバーの観察方法により得られ
る画像の例を表す図である。
【図１７】図１２に示したバーの固定方法におけるバー
の転載方法を説明するための工程毎の断面図である。
【図１８】図９に示した製造方法におけるスライダレー
ルの形成方法を説明するための斜視図である。
【図１９】図９に示した製造方法におけるバーの切断方
法を説明するための工程毎の斜視図である。
【符号の説明】
１…薄膜磁気ヘッド素子、１ａ…再生ヘッド部、１ｂ…
記録ヘッド部、２…磁気ヘッドスライダ、２ａ…スライ
ダレール、２ｅ…エアベアリング面、３…アクチュエー
タアーム、４…ウエハ、５…バー、６…バー固定装置、
６２…パレット、６４…ロボット、７０…キャリア、７
０ｃ…パイプ、７１…バルブ、７２…回転・昇降アクチ
ュエータ、７５…ＸＹテーブル、８０…吸着プレート、
８０ａ…パイプ、８１…バルブ，８２…カメラ駆動機
構、８５ａ，８５ｂ…カメラ、９０…支持基板、９４…
ディスペンサ、Ｍ…磁気記録媒体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−315341（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−236508（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−21527（ＪＰ，Ａ) 特開2000−339654（ＪＰ，Ａ) 特開2001−6142（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−228617（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/56 - 5/60 G11B 21/16 - 21/26

Claims (18)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも一つの磁気ヘッドスライダを
    含む長尺部材であるバーの所定の面を加工するために、
    平坦な基準面を有する基準部材を用いて、複数のバーを
    所定の支持部材に所定の配列状態で固定する方法であっ
    て、位置決め機構を用いて１つのバーを前記基準面と平行な
    面内方向において前記配列状態に応じた位置に位置決め
    する毎に その位置決めの済んだバーの被加工面を前記基
    準面に吸着保持させる工程、を繰り返すことにより、複
    数のバーを前記基準面に沿って配列する配列工程と、 前記配列工程により配列された前記複数のバーを、それ
    ぞれのバーの相対位置関係を維持しつつ一括して前記支
    持部材に移し載せる転載工程とを含むことを特徴とする
    バーの固定方法。
  2. 【請求項２】 前記バーにおける前記被加工面は、前記
    磁気ヘッドスライダの記録媒体に対向する面であるエア
    ベアリング面となる面であることを特徴とする請求項１
    記載のバーの固定方法。
  3. 【請求項３】 前記加工は、フォトリソグラフィ法を用
    いた加工を含むことを特徴とする請求項１または請求項
    ２に記載のバーの固定方法。
  4. 【請求項４】 前記転載工程では、 前記複数のバーの被加工面と反対側の面と前記支持部材
    との間に接着剤を介在させて、前記複数のバーを前記支
    持部材に固定するようにしたことを特徴とする請求項１
    ないし請求項３のいずれか１に記載のバーの固定方法。
  5. 【請求項５】 前記転載工程は、さらに、 前記支持部材上に接着剤を塗布する工程と、 その接着剤に、前記基準部材により保持された前記複数
    のバーの前記被加工面と反対側の面を接触させる工程
    と、 前記接着剤が硬化した後、前記基準部材を前記複数のバ
    ーから離間させる工程とを含むことを特徴とする請求項
    １ないし請求項４のいずれか１に記載のバーの固定方
    法。
  6. 【請求項６】 前記配列工程では、 前記基準面に対して前記基準面と平行な面内において相
    対移動可能なキャリアを用いて前記複数のバーを１本ず
    つ搬送するようにしたことを特徴とする請求項１ないし
    請求項５のいずれか１に記載のバーの固定方法。
  7. 【請求項７】 前記配列工程では、 それぞれのバーに形成された所定のマークを観察しなが
    ら、前記複数のバーの前記基準面と平行な面内における
    位置調節を行うようにしたことを特徴とする請求項１な
    いし請求項６のいずれか１に記載のバーの固定方法。
  8. 【請求項８】 前記配列工程よりも前に、 前記バーの被加工面以外の少なくとも一つの面に保護膜
    を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１ないし
    請求項７のいずれか１に記載のバーの固定方法。
  9. 【請求項９】 前記複数のバーは、長さの異なる複数種
    類のバーを含んでいることを特徴とする請求項１ないし
    請求項８のいずれか１に記載のバーの固定方法。
  10. 【請求項１０】 所定の基体上に薄膜磁気ヘッド素子を
    形成する工程と、 前記基体を切断して、それぞれに前記薄膜磁気ヘッド素
    子が形成された少なくとも一つの磁気ヘッドスライダを
    含むバーを複数形成する切断工程と、平坦な基準面を有する基準部材を用い、前記基準部材の
    基準面と平行な面内において前記一つのバーの位置調節
    を行う毎に、その位置調節の済んだバーの被加工面を前
    記基準面に吸着保持させる工程を繰り返すことにより、
    前記複数のバーを前記基準面に沿って配列する 配列工程
    と、 前記配列工程により配列された前記複数のバーを、それ
    ぞれのバーの相対位置関係を維持しつつ一括して前記支
    持部材に移し載せる転載工程と、 前記支持部材により支持された前記複数のバーの前記被
    加工面に所定の加工を施す加工工程と、 前記バーを切断して個々の前記磁気ヘッドスライダに分
    離する分離工程とを含むことを特徴とする磁気ヘッドス
    ライダの製造方法。
  11. 【請求項１１】 前記バーにおける前記被加工面は、前
    記磁気ヘッドスライダの記録媒体に対向する面であるエ
    アベアリング面となる面であることを特徴とする請求項
    １０記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
  12. 【請求項１２】 前記加工は、フォトリソグラフィ法を
    用いた加工を含むことを特徴とする請求項１０または請
    求項１１に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
  13. 【請求項１３】 前記転載工程では、 前記複数のバーの被加工面と反対側の面と前記支持部材
    との間に接着剤を介在させるようにしたことを特徴とす
    る請求項１０ないし請求項１２のいずれか１に記載の磁
    気ヘッドスライダの製造方法。
  14. 【請求項１４】 前記転載工程は、さらに、 前記支持部材上に接着剤を塗布する工程と、 その接着剤に、前記基準部材により保持された前記複数
    のバーの前記被加工面と反対側の面を接触させる工程
    と、 前記接着剤が硬化した後、前記基準部材を前記複数のバ
    ーから離間させる工程とを含むことを特徴とする請求項
    １０ないし請求項１３のいずれか１に記載の磁気ヘッド
    スライダの製造方法。
  15. 【請求項１５】 前記配列工程では、 前記基準面に対して前記基準面と平行な面内において相
    対移動可能なキャリアを用いて前記複数のバーを１本ず
    つ搬送するようにしたことを特徴とする請求項１０ない
    し請求項１４のいずれか１に記載の磁気ヘッドスライダ
    の製造方法。
  16. 【請求項１６】 前記配列工程では、 それぞれのバーに形成された所定のマークを観察しなが
    ら、前記複数のバーの前記基準面と平行な面内における
    位置調節を行うようにしたことを特徴とする請求項１０
    ないし請求項１５のいずれか１に記載の磁気ヘッドスラ
    イダの製造方法。
  17. 【請求項１７】 前記配列工程よりも前に、 前記バーの被加工面以外の少なくとも一つの面に保護膜
    を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１０ない
    し請求項１６のいずれか１に記載の磁気ヘッドスライダ
    の製造方法。
  18. 【請求項１８】 前記切断工程では、 長さの異なる複数種類のバーを切り出すようにしたこと
    を特徴とする請求項１０ないし請求項１７のいずれか１
    に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
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