JP4516386B2 - 薄膜磁気ヘッド構造体およびその製造方法、ならびに薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
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- 基体の一面に、
再生ヘッド部および記録ヘッド部の双方を含むと共に記録媒体に対向する記録媒体対向面を有する複数の薄膜磁気ヘッドを形成するための前準備体として、前記再生ヘッド部および前記記録ヘッド部の双方を含む複数の薄膜磁気ヘッド前駆体と、
前記基体と共に前記薄膜磁気ヘッド前駆体を併せて研磨して前記記録媒体対向面を形成することにより前記薄膜磁気ヘッドを形成する際に、前記再生ヘッド部に対する研磨処理の進行度を制御するために使用されると共に、幅および高さが異なる複数の形状を有する複数の第1の抵抗膜パターンと、
前記基体と共に前記薄膜磁気ヘッド前駆体を併せて研磨して前記記録媒体対向面を形成することにより前記薄膜磁気ヘッドを形成する際に、前記記録ヘッド部に対する研磨処理の進行度を制御するために使用される複数の第2の抵抗膜パターンと
を備えたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド構造体。 - 前記第1の抵抗膜パターンが、研磨量に応じて電気抵抗が変化することにより、その電気抵抗の変化に基づいて前記再生ヘッド部の研磨量を把握するために使用されるものであり、
前記第2の抵抗膜パターンが、研磨量に応じて電気抵抗が変化することにより、その電気抵抗の変化に基づいて前記記録ヘッド部の研磨量を把握するために使用されるものである
ことを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気ヘッド構造体。 - 前記複数の薄膜磁気ヘッド前駆体が、複数列に渡って配列されており、
前記複数の第1の抵抗膜パターンおよび前記複数の第2の抵抗膜パターンが、前記複数の薄膜磁気ヘッド前駆体の配列方向に対応して複数列に渡って配列されている
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の薄膜磁気ヘッド構造体。 - 前記薄膜磁気ヘッド前駆体が、前記基体の一面のうちの第1の領域に配置されており、
前記第1の抵抗膜パターンおよび前記第2の抵抗膜パターンが、前記基体の一面のうちの前記第1の領域とは異なる第2の領域に配置されている
ことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッド構造体。 - 前記再生ヘッド部が、前記記録媒体対向面から後方に向かって延在して再生処理を実行する磁気抵抗効果素子を含む積層構造を有していると共に、前記記録ヘッド部が、前記記録媒体対向面から後方に向かって延在すると共に前記記録媒体の記録トラック幅を規定するトラック幅規定部分を有して記録処理を実行する磁極層を含む積層構造を有しており、
前記第1の抵抗膜パターンが、前記再生ヘッド部のうちの前記磁気抵抗効果素子と同一階層に配置されており、
前記第2の抵抗膜パターンが、前記記録ヘッド部のうちの前記磁極層と同一階層に配置されている
ことを特徴とする請求項4記載の薄膜磁気ヘッド構造体。 - 前記第1の抵抗膜パターンが、前記磁気抵抗効果素子の延在方向におけるその磁気抵抗効果素子の寸法が所定の寸法となるように、前記再生ヘッド部の研磨量を把握するために使用されるものであり、
前記第2の抵抗膜パターンが、前記磁極層の延在方法における前記トラック幅規定部分の寸法が所定の寸法となるように、前記記録ヘッド部の研磨量を把握するために使用されるものである
ことを特徴とする請求項5記載の薄膜磁気ヘッド構造体。 - 前記第1の抵抗膜パターンが、前記磁気抵抗効果素子と並列的に形成されたものであり、
前記第2の抵抗膜パターンが、前記磁極層と並列的に形成されたものである
ことを特徴とする請求項5または請求項6に記載の薄膜磁気ヘッド構造体。 - 前記磁極層が、前記記録媒体をその表面と直交する方向に磁化させるための磁束を放出するように構成されている
ことを特徴とする請求項5ないし請求項7のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッド構造体。 - 基体の一面に、
再生ヘッド部および記録ヘッド部の双方を含むと共に記録媒体に対向する記録媒体対向面を有する複数の薄膜磁気ヘッドを形成するための前準備体として、前記再生ヘッド部および前記記録ヘッド部の双方を含むように、複数の薄膜磁気ヘッド前駆体をパターン形成する第1の工程と、
前記基体と共に前記薄膜磁気ヘッド前駆体を併せて研磨して前記記録媒体対向面を形成することにより前記薄膜磁気ヘッドを形成する際に、前記再生ヘッド部に対する研磨処理の進行度を制御可能となると共に、幅および高さが異なる複数の形状を有するように、複数の第1の抵抗膜パターンを形成する第2の工程と、
前記基体と共に前記薄膜磁気ヘッド前駆体を併せて研磨して前記記録媒体対向面を形成することにより前記薄膜磁気ヘッドを形成する際に、前記記録ヘッド部に対する研磨処理の進行度を制御可能となるように、複数の第2の抵抗膜パターンを形成する第3の工程と
を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッド構造体の製造方法。 - 前記第2の工程において、研磨量に応じて電気抵抗が変化することにより、その電気抵抗の変化に基づいて前記再生ヘッド部の研磨量を把握可能となるように、前記第1の抵抗膜パターンを形成し、
前記第3の工程において、研磨量に応じて電気抵抗が変化することにより、その電気抵抗の変化に基づいて前記記録ヘッド部の研磨量を把握可能となるように、前記第2の抵抗膜パターンを形成する
ことを特徴とする請求項9記載の薄膜磁気ヘッド構造体の製造方法。 - 前記第1の工程において、複数列に渡って配列されるように前記複数の薄膜磁気ヘッド前駆体を形成し、
前記第2の工程および第3の工程において、前記複数の薄膜磁気ヘッド前駆体の配列方向に対応して複数列に渡って配列されるように、前記複数の第1の抵抗膜パターンおよび前記複数の第2の抵抗膜パターンを形成する
ことを特徴とする請求項9または請求項10に記載の薄膜磁気ヘッド構造体の製造方法。 - 前記第1の工程において、前記基体の一面のうちの第1の領域に配置されるように、前記薄膜磁気ヘッド前駆体を形成し、
前記第2の工程および前記第3の工程において、前記基体の一面のうちの前記第1の領域とは異なる第2の領域に配置されるように、前記第1の抵抗膜パターンおよび前記第2の抵抗膜パターンを形成する
ことを特徴とする請求項9ないし請求項11のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッド構造体の製造方法。 - 前記第1の工程において、前記再生ヘッド部が前記記録媒体対向面から後方に向かって延在して再生処理を実行する磁気抵抗効果素子を含む積層構造を有すると共に、前記記録ヘッド部が前記記録媒体対向面から後方に向かって延在すると共に前記記録媒体の記録トラック幅を規定するトラック幅規定部分を有して記録処理を実行する磁極層を含む積層構造を有するように、前記薄膜磁気ヘッド前駆体を形成し、
前記第2の工程において、前記再生ヘッド部のうちの前記磁気抵抗効果素子と同一階層に配置されるように、前記第1の抵抗膜パターンを形成し、
前記第3の工程において、前記記録ヘッド部のうちの前記磁極層と同一階層に配置されるように、前記第2の抵抗膜パターンを形成する
ことを特徴とする請求項12記載の薄膜磁気ヘッド構造体の製造方法。 - 前記第2の工程において、前記磁気抵抗効果素子の延在方向におけるその磁気抵抗効果素子の寸法を所定の寸法に設定するために、前記再生ヘッド部の研磨量を把握可能となるように、前記第1の抵抗膜パターンを形成し、
前記第3の工程において、前記磁極層の延在方法における前記トラック幅規定部分の寸法を所定の寸法に設定するために、前記記録ヘッド部の研磨量を把握するために使用可能となるように、前記第2の抵抗膜パターンを形成する
ことを特徴とする請求項13記載の薄膜磁気ヘッド構造体の製造方法。 - 前記第2の工程において、前記磁気抵抗効果素子と並列的に前記第1の抵抗膜パターンを形成し、
前記第3の工程において、前記磁極層と並列的に前記第2の抵抗膜パターンを形成する
ことを特徴とする請求項13または請求項14に記載の薄膜磁気ヘッド構造体の製造方法。 - 請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載した薄膜磁気ヘッド構造体を使用した薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、
複数の薄膜磁気ヘッド前駆体の配列方向に沿って前記薄膜磁気ヘッド構造体を切断することにより、複数の薄膜磁気ヘッド前駆体と、再生ヘッド部に対する研磨処理の進行度を制御するために使用されると共に幅および高さが異なる複数の形状を有する複数の第1の抵抗膜パターンと、記録ヘッド部に対する研磨処理の進行度を制御するために使用される複数の第2の抵抗膜パターンとを含むように、複数の薄膜磁気ヘッドバーを形成する第1の工程と、
前記第1の抵抗膜パターンの電気抵抗値または前記第2の抵抗膜パターンの電気抵抗値を検出する工程と、前記第1の抵抗膜パターンの電気抵抗値および前記第2の抵抗膜パターンの電気抵抗値を検出する工程とを含み、それらの電気抵抗値の研磨量に応じた変化に基づき、その研磨量を把握しながら、前記薄膜磁気ヘッドバーのうちの前記基体と共に前記薄膜磁気ヘッド前駆体を併せて研磨して記録媒体対向面を形成することにより、前記再生ヘッド部および前記記録ヘッド部の双方を含むと共に前記記録媒体対向面を有するように、前記薄膜磁気ヘッドを形成する第2の工程と
を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1の工程において、前記再生ヘッド部が前記記録媒体対向面から後方に向かって延在して再生処理を実行する磁気抵抗効果素子を含む積層構造を有すると共に、前記記録ヘッド部が前記記録媒体対向面から後方に向かって延在すると共に前記記録媒体の記録トラック幅を規定するトラック幅規定部分を有して記録処理を実行する磁極層を含む積層構造を有する前記薄膜磁気ヘッド前駆体を使用し、
前記第2の工程において、電気抵抗値に基づいて、前記磁気抵抗効果素子の延在方向におけるその磁気抵抗効果素子の寸法が所定の寸法となるように前記再生ヘッド部を研磨すると共に、前記磁極層の延在方法における前記トラック幅規定部分の寸法が所定の寸法となるように前記記録ヘッド部を研磨する
ことを特徴とする請求項16記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第2の工程が、
前記第1の抵抗膜パターンの電気抵抗値または前記第2の抵抗膜パターンの電気抵抗値に基づいて、前記磁気抵抗効果素子の延在方向におけるその磁気抵抗効果素子の寸法が目標寸法よりも大きなプレ寸法となるまで前記薄膜磁気ヘッドバーをプレ研磨する工程と、
前記第1の抵抗膜パターンの電気抵抗値および前記第2の抵抗膜パターンの電気抵抗値に基づいて、前記プレ寸法を維持したまま前記薄膜磁気ヘッドバーの研磨面の傾きを調整する工程と、
前記第1の抵抗膜パターンの電気抵抗値または前記第2の抵抗膜パターンの電気抵抗値に基づいて、前記磁気抵抗効果素子の延在方向におけるその磁気抵抗効果素子の寸法が前記プレ寸法から前記目標寸法となるまで前記薄膜磁気ヘッドバーを仕上げ研磨する工程と
を含むことを特徴とする請求項17記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
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JP2008077786A (ja) | 2006-09-22 | 2008-04-03 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘッド構造体及びその製造方法 |
US8222087B2 (en) | 2006-12-19 | 2012-07-17 | HGST Netherlands, B.V. | Seed layer for a heat spreader in a magnetic recording head |
US7716814B2 (en) | 2007-02-05 | 2010-05-18 | Headway Technologies, Inc. | Method of manufacturing magnetic head, and magnetic head substructure |
US7770281B2 (en) * | 2007-05-10 | 2010-08-10 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for redefining the trailing shield throat height in a perpendicular magnetic recording write head |
JP2009076122A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Shinka Jitsugyo Kk | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
US7854060B2 (en) | 2007-12-06 | 2010-12-21 | Tdk Corporation | Magnetic head substructure for use for manufacturing a magnetic head |
US8151441B1 (en) | 2008-03-27 | 2012-04-10 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing and utilizing an electronic lapping guide in a magnetic recording transducer |
US8427790B2 (en) | 2008-06-30 | 2013-04-23 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head having similarly structured resistive film pattern and magnetic bias layer |
JP2010092571A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Toshiba Storage Device Corp | 磁気ディスク装置および磁気記録に用いるスライダ |
US8018678B1 (en) | 2008-11-26 | 2011-09-13 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for simultaneous electronic lapping guide (ELG) and perpendicular magnetic recording (PMR) pole formation |
US8165709B1 (en) | 2009-02-26 | 2012-04-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Four pad self-calibrating electronic lapping guide |
US8291743B1 (en) | 2009-05-27 | 2012-10-23 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for calibrating an electronic lapping guide for a beveled pole in a magnetic recording transducer |
US8443510B1 (en) | 2009-05-28 | 2013-05-21 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for utilizing an electronic lapping guide for a beveled pole in a magnetic recording transducer |
US8072231B2 (en) * | 2009-05-28 | 2011-12-06 | Tdk Corporation | Testing method of wafer with thin-film magnetic heads and manufacturing method of thin-film magnetic head |
US8351152B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-01-08 | International Business Machines Corporation | Magnetic writer structures formed using post-deposition tilting |
US8240024B2 (en) * | 2009-08-25 | 2012-08-14 | International Business Machines Corporation | Methods for fabricating magnetic transducers using post-deposition tilting |
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US8509036B2 (en) | 2010-12-09 | 2013-08-13 | Tdk Corporation | Method of burn-in testing for thermally assisted head |
CN102213732B (zh) * | 2010-03-31 | 2014-11-19 | 新科实业有限公司 | 使用公共测量器测量不同类型长形条的磁头电阻的方法 |
US8375565B2 (en) | 2010-05-28 | 2013-02-19 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing an electronic lapping guide corresponding to a near-field transducer of an energy assisted magnetic recording transducer |
US8343364B1 (en) | 2010-06-08 | 2013-01-01 | Western Digital (Fremont), Llc | Double hard-mask mill back method of fabricating a near field transducer for energy assisted magnetic recording |
US8758083B1 (en) | 2010-09-13 | 2014-06-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for adjusting lapping of a transducer using a disk windage |
US8749790B1 (en) | 2011-12-08 | 2014-06-10 | Western Digital (Fremont), Llc | Structure and method to measure waveguide power absorption by surface plasmon element |
US20130219699A1 (en) * | 2012-02-29 | 2013-08-29 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Manufacturing method of a slider and manufacturing apparatus thereof |
US9321146B1 (en) | 2012-09-28 | 2016-04-26 | Western Digital (Fremont), Llc | Systems and methods for shaping leads of electronic lapping guides to reduce calibration error |
US9387568B1 (en) | 2013-02-27 | 2016-07-12 | Western Digital Technologies, Inc. | Systems and methods for correcting fabrication error in magnetic recording heads using magnetic write width measurements |
CN104070448A (zh) * | 2013-03-28 | 2014-10-01 | 新科实业有限公司 | 长形条研磨用夹具、研磨装置以及研磨方法 |
US9441938B1 (en) | 2013-10-08 | 2016-09-13 | Western Digital (Fremont), Llc | Test structures for measuring near field transducer disc length |
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US10518381B2 (en) * | 2017-06-28 | 2019-12-31 | Seagate Technology Llc | Methods and articles for lapping stacked row bars having in-wafer ELG circuits |
Family Cites Families (9)
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---|---|---|---|---|
US4914868A (en) | 1988-09-28 | 1990-04-10 | International Business Machines Corporation | Lapping control system for magnetic transducers |
JPH10228617A (ja) * | 1996-12-09 | 1998-08-25 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッドスライダの製造方法及びそれに使用するガイド板 |
JPH11863A (ja) | 1997-06-12 | 1999-01-06 | Hitachi Metals Ltd | 磁気ヘッドの加工制御方法 |
JP3421983B2 (ja) * | 1997-12-25 | 2003-06-30 | ティーディーケイ株式会社 | 複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
JP3506419B2 (ja) * | 1999-10-04 | 2004-03-15 | Tdk株式会社 | 磁気ヘッドスライダの製造方法およびバーの固定方法 |
JP2001126225A (ja) * | 1999-10-21 | 2001-05-11 | Tdk Corp | 磁気ヘッドスライダの製造方法およびバーの固定方法ならびに硬化剤 |
JP4124753B2 (ja) * | 2004-04-27 | 2008-07-23 | Tdk株式会社 | 薄膜磁気ヘッド素子の研磨加工方法、薄膜磁気ヘッド素子のウエハ、および薄膜磁気ヘッド素子の研磨加工装置 |
US6884148B1 (en) * | 2004-05-26 | 2005-04-26 | Headway Technologies, Inc. | Independently controlled read and write head stripe height parameters in slider back end process |
JP2006048806A (ja) * | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッドとその製造方法 |
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