JP3331629B2 - アルカンよりニトリルを製造するための触媒 - Google Patents
アルカンよりニトリルを製造するための触媒Info
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 40
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 title claims description 24
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 title claims description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 39
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 18
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 18
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 16
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 10
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 9
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 5
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 38
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 11
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical class [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- FXADMRZICBQPQY-UHFFFAOYSA-N orthotelluric acid Chemical compound O[Te](O)(O)(O)(O)O FXADMRZICBQPQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- XFHGGMBZPXFEOU-UHFFFAOYSA-I azanium;niobium(5+);oxalate Chemical compound [NH4+].[Nb+5].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O XFHGGMBZPXFEOU-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 5
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XNDZQQSKSQTQQD-UHFFFAOYSA-N 3-methylcyclohex-2-en-1-ol Chemical compound CC1=CC(O)CCC1 XNDZQQSKSQTQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- -1 NbCl 5 Chemical compound 0.000 description 1
- 229910018553 Ni—O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020923 Sn-O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001502 inorganic halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
るものである。詳しくは、アルカンを原料とする改良さ
れたニトリルの製造法に関するものである。
等のニトリル類は、繊維、合成樹脂、合成ゴムなどの重
要な中間体として工業的に製造されているが、その製造
法としては、従来、プロピレン、イソブテン等のオレフ
ィンを、触媒の存在下でアンモニアおよび酸素と気相に
おいて高温で接触反応させる方法が最も一般的な方法と
して知られている。
差、あるいは、イソブタンとイソブテンとの間の価格差
のために、プロパン、イソブタン等の低級アルカンを出
発原料とし、触媒の存在下でアンモニアおよび酸素と気
相で接触反応させる、いわゆるアンモ酸化反応法により
アクリロニトリル、メタクリロニトリルを製造する方法
の開発に関心が高まっている。
−O系触媒(特開昭48−16887号)、V−Sb−
O系触媒(特開昭47−33783号、特公昭50−2
3016号、特開平1−268668号)、Sb−U−
V−Ni−O系触媒(特公昭47−14371号)、S
b−Sn−O系触媒(特公昭50−28940号)、V
−Sb−W−P−O系触媒(特開平2−95439
号)、V−Sb−W−O系酸化物とBi−Ce−Mo−
W−O系酸化物を機械的に混合して得た触媒(特開昭6
4−38051)が知られているほか、本発明者等もM
o−V−Te−Nb−O系触媒(特開平2−257号)
を報告している。
の方法はいずれも目的とするニトリル類の収率が十分満
足できるものではない。また、ニトリル類の収率を向上
させるために、反応系に少量の有機ハロゲン化物、無機
ハロゲン化物、またはイオウ化合物を添加する方法、あ
るいは水を添加する方法等が試みられているが、前者は
反応装置の腐食の問題があり、また後者は副反応による
副生物の生成とその処理などの問題があり、いずれも工
業的実施上難点がある。
発明者等が報告したMo−V−Te−Nb−O系触媒を
除き、一般に500℃前後ないしはそれ以上の極めて高
い反応温度を必要とするため、反応器の材質、製造コス
ト等の面で有利ではない。
を原料とするニトリルの製造法について種々検討した結
果、特定の結晶構造を有するモリブデン(Mo)、バナ
ジウム(V)、テルル(Te)及びある種の金属から成
る触媒の存在下で、アルカンをアンモニアと気相接触反
応させることにより、反応系にハロゲン化物や水等を存
在させることなく、しかも400〜450℃程度の比較
的に低い温度において従来法より著しく高い収率で目的
とするニトリルを製造し得ることを見い出し、本発明に
到達したものである。
発明の、アルカンをアンモニアと気相接触酸化反応させ
ることにより、ニトリルを製造するための触媒の特徴
は、以下の点,により存する。 触媒の実験式は、 Moa Vb Tec Xx On (1) (式(1)において、XはNb,Ta,W,Ti,A
l,Zr,Cr,Mn,Fe,Ru,Co,Rh,N
i,Pd,Pt,Sb,BiおよびCeの中から選ばれ
た1つまたはそれ以上の元素を表わし、 a=1とするとき、 b=0.01〜1.0 c=0.01〜1.0 x=0.01〜1.0 であり、また、nは他の元素の酸化状態により決定され
る。)により表わされる。 触媒のX線回折線において、下記に示す回折角2θ
にX線回折ピークを示す。
あって、Xとして上記の元素が用いられるが、好ましく
はNb,Ta,W,Tiであり、特に好ましくはNbで
ある。また、式(1)の係数として、a=1とすると
き、b=0.1〜0.6,c=0.05〜0.4,x=
0.01〜0.6が特に好ましい。しかし、該酸化物
は、ただ単に(1)式の組成を示すだけでは本発明の反
応触媒として十分ではなく、特定の結晶構造を有するこ
とが重要である。
晶構造を有することを示す指標は粉末X線回折のパター
ンである。該酸化物のX線回折ピーク(X線源としてC
u−Kα線を使用)のパターンと、は特定の回折角2θ
において以下に示す5つの主要回折ピークが認められる
ことにある。
よってずれる場合があるが、2θ=22.1°のピーク
強度を100とした場合の相対強度は通常上記の範囲に
ある。また、一般的には2θ=22.1°及び28.2
°のピーク強度が大きく表われる。しかしながら、上記
5本の回折ピークを認める限り該5本の回折ピーク以外
の2θにピークを有するものがあっても基本的な結晶構
造には変わりはなく、本発明に好適に用いることができ
る。
方法は次のようである。例えば、Moa Vb Tec Nb
x On の場合、所定量のメタバナジン酸アンモニウム塩
を含む水溶液に、テルル酸の水溶液、シュウ酸ニオブア
ンモニウム塩の水溶液およびパラモリブデン酸アンモニ
ウム塩の水溶液を各々の金属元素の原子比が所定の割合
となるような量比で順次添加し、蒸発乾固法、噴霧乾燥
法、真空乾燥法等で乾燥させ、最後に、残った乾燥物を
焼成して目的の酸化物とする。また、焼成を効率よく行
うためには、最終の焼成前に、上記乾燥物を、通常、空
気あるいは窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気中、1
50〜350℃で加熱分解してもよい。
調製方法の焼成条件が特に重要である。通常の酸化物を
調製する場合の焼成処理は、酸素雰囲気中で行う方法が
最も一般的である。しかしながら、本発明においては、
焼成の雰囲気をむしろ実質的に酸素不存在下とすること
が好ましく、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不
活性ガス雰囲気中、また、そのガス中に水素、炭化水素
等の還元性ガスあるいは水蒸気を含んでいてもよく、あ
るいは、真空中で通常350〜700℃、好ましくは4
00〜650℃の温度で通常0.5〜30時間好ましく
は1〜10時間実施される。該温度範囲より低い温度で
は高い触媒活性を有する前記結晶構造の形成が不十分で
あり、また、該温度範囲より高い温度では結晶構造の一
部が熱的に分解することがあるので好ましくない。
含有量を調べてみると、例えばMo a Vb Tec Nbx
On の場合において、nの値は、Mo,V,Te,Nb
の最高酸化状態に対応する値である(3a+2.5b+
3c+2.5x)より小さく、その80〜97%であっ
た。すなわち、本発明の触媒として用いる特定の構造の
酸化物は、同じ原料乾燥物を通常の酸素雰囲気下で焼成
して得られる酸化物よりわずかに含有酸素量が少ないも
のにすぎない。
るばかりでなく、更に、アルカンを原料とするニトリル
への反応において、従来の触媒に比べ著しく優れた活性
を発現することは全く予想外であり驚くべきことであ
る。なお、上記の酸化物の原料は前述したものに限定さ
れるのではなく、メタバナジン酸アンモニウムの代わり
に例えば、V2 O5 ,V2 O3 ,VOCl3 あるいはV
Cl4 等を使用することができ、テルル酸の代わりにT
eO2 などが使用され、シュウ酸ニオブアンモニウム塩
の代わりに、NbCl5 ,Nb2 O5 ,ニオブ酸等が使
用され、パラモリブデン酸アンモニウム塩の代わりにM
oO3 ,MoCl5 、等を使用することができる。
の担体、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、アルミ
ノシリケート、珪藻土等と共に使用することもできる。
また、反応の規模、方式等により適宜の形状および粒径
に成型される。本発明では、上述の触媒の存在下で、ア
ルカンをアンモニアと気相接触酸化反応させることによ
り効率よくニトリルを製造することができる。
アルカンとしては、特に限られるものではなく、例え
ば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、イソブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等があ
げられるが、得られるニトリルの工業的用途を考慮する
と、炭素数1〜4の低級アルカン、特にプロパン、イソ
ブタンを用いるのがよい。
ではないが、上述の酸化物中に存在する酸素原子、ある
いは供給ガス中に存在させる分子状酸素によって行なわ
れる。供給ガス中に分子状酸素を存在させる場合、分子
状酸素は純酸素ガスでもよいが、特に純度は要求されな
いので、一般には空気のような酸素含有ガスを使用する
のが経済的である。供給ガスとしては、通常、アルカ
ン、アンモニアと酸素含有ガスの混合ガスを使用する
が、アルカンとアンモニアの混合ガスと酸素含有ガスと
を交互に供給してもよい。
ルカンとアンモニアのみを供給ガスとして気相接触反応
させることもできる。かかる場合は、反応帯域より触媒
の一部を適宜抜き出して、該触媒を酸化再生器に送り込
み、再生後、触媒を反応帯域に再供給する方法が好まし
い。触媒の再生方法としては、触媒を、酸素、空気、一
酸化窒素等の酸化性ガスを再生器内の触媒に対して、通
常300〜600℃で流通させる方法が例示される。
空気を使用する場合について、本発明をさらに詳細に説
明するに、反応に供給する空気の割合は、生成するアク
リロニトリルの選択率に関して重要であり、空気は通常
プロパンに対して25モル倍量以下、特に1〜15モル
場合の範囲が高いアクリロニトリル選択率を示す。ま
た、反応に供与するアンモニアの割合は、プロパンに対
して0.2〜5モル倍量、特に0.5〜3モル倍量の範
囲が好適である。なお、本反応は通常大気圧下で実施さ
れるが、低度の加圧下または減圧下で行なうこともでき
る。他のアルカンについても、プロパンの場合の反応条
件に準じて供給ガスの組成が選択される。
アンモ酸化反応におけるよりも低い温度、例えば、34
0〜480℃で実施することができ、特に好ましいのは
400〜450℃程度である。また、気相反応における
ガス空間速度SVは、通常100〜10000h-1、好
ましくは、300〜2000h-1の範囲である。なお、
空間速度と酸素分圧を調整するための希釈ガスとして、
窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスを用いること
ができる。本発明の方法により、プロパンのアンモ酸化
反応を行なった場合、アクリロニトリルの外に、一酸化
炭素、二酸化炭素、アセトニトリル、青酸、アクロレイ
ン等が副生するが、その生成量はきわめて少ない。
てさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えな
いかぎりこれらの実施例に限定されるものではない。な
お、以下の実施例および比較例における転化率(%)、
選択率(%)および収率(%)は、各々次式で示され
る。
ル数/供給アルカンのモル数)×100 目的ニトリルの選択率(%)=(生成目的ニトリルのモ
ル数/消費アルカンのモル数)×100 目的ニトリルの収率(%)=(生成目的ニトリルのモル
数/供給アルカンのモル数)×100
化物を次のように調製した。温水117mlに4.21
gのメタバナジン酸アンモニウム塩を溶解し、これにテ
ルル酸4.13g、パラモリブデン酸アンモニウム塩1
5.89gを順次添加し、均一な水溶液を調製した。さ
らに、シュウ酸ニオブアンモニウム塩3.99gを1
7.9mlの水に溶解した液を混合し、スラリーを調製
した。このスラリーを約150℃で蒸発乾固して乾燥物
を得た。
φ×3mmLに成型したのち、粉砕し、16〜28メッ
シュに篩別し、窒素気流中620℃で2時間焼成した。
このようにして得た酸化物の粉末X線回折線ピークのチ
ャートを図1に、また、その主要回折線ピーク強度を表
−1に示す。また、該酸化物中の酸素含有量を酸素分析
計にて測定したところ31.0重量%であった。この測
定値よりO(酸素)の係数nを算出すると4.25とな
る。n=4.25とは、該酸化物の構成元素の最高酸化
状態が、Moが6価、Vが5価、Teが6価、Nbが5
価としたときにn=4.85となることから、その8
7.6%に相当する。
器に装填し、反応温度440℃、空間速度SVを100
0h-1に固定して、プロパン:アンモニア:空気=1:
1.2:10モル比でガスを供給し気相接触反応を行な
った。その結果を表−2に示す。
外は実施例1と同様に実験組成Mo1 V0.4 Te0.2 N
b0.1 On を有する酸化物を調製した。該酸化物の粉末
X線回折の結果を表−1に示す。また、気相接触反応を
行った結果を表−2に示す。
同様に調製し、実験組成Mo1 V0.4 Te0.2 On の酸
化物を得た。該酸化物のX線回折パターンは実施例1の
ものとは全く異っていた。また、気相接触反応を行った
結果を表−2に示す。
以外は実施例1と同様に実験組成Mo1 V0.4 Te0.2
Nb0.1 On を有する酸化物を調製した。得られた酸化
物の粉末X線回折パターンを図2に示す。実施例1の図
1とは全くパターンが異なる。また、気相接触反応を行
った結果を表−2に示す。
相接触反応を行った。結果を表−2に示す。
化物を次のように調製した。温水117mlに4.21
gのメタバナジン酸アンモニウム塩を溶解し、これにテ
ルル酸4.13g、パラモリブデン酸アンモニウム塩1
5.9gを順次添加し、均一な水溶液を調製した。これ
に1.56gの塩化酸化アンチモンを17.9mlの水
に溶解して混合した。得られた水溶液を蒸発乾固させ乾
燥物を得た。この乾燥物を打錠成型器を用いて5mmφ
×3mmLに成型したのち、粉砕し、16〜28メッシ
ュに篩別し、窒素気流中500℃で2時間焼成した。得
られた酸化物の粉末X線回折の結果を表−1に示す。こ
のようにして得た酸化物につき、気相接触反応を行った
結果を表−2に示す。
以外は実施例4と同様にMo1 V0.4 Te0.2 Sb0.1
On を有する酸化物を調製した。得られた酸化物のX線
回折パターンは実施例4のものとは全く異なっていた。
また、得られた酸化物を用いて気相接触反応を行った結
果を表−2に示す。
ルミニウム・9水和物3.38gを用いた以外は実施例
4と同様に酸化物を調製した。得られた酸化物の実験組
成はMo1 V0.4 Te0.2 Al0.1 On である。このよ
うにして得た酸化物の粉末X線回折の結果を表−1に示
す。また、得られた酸化物を用いて気相接触反応を行っ
た結果を表−2に示す。
以外は実施例5と同様にMo1 V0.4 Te0.2 Al0.1
On を有する酸化物を調製した。得られた酸化物のX線
回折パターンは実施例5のものとは全く異なった。ま
た、得られた酸化物を用いて気相接触反応を行った結果
を表−2に示す。
ラジウム0.415gを用い、また、焼成温度を600
℃とした以外は実施例4と同様に酸化物を調製した。得
られた酸化物の実験組成はMo1 V0.4 Te0.2 Nb
0.1 Pd0.02Onである。このようにして得た酸化物の
粉末X線回折の結果を表−1に示す。また、得られた酸
化物を用いて気相接触反応を行った結果を表−2に示
す。
成温度を全て600℃とした以外は実施例1と同様の方
法で各実験組成の酸化物を調製した。各酸化物の粉末X
線回折の結果を表−1に示す。また、各酸化物を用いて
気相接触反応を行った結果を表−3に示す。
0.2 Nb0.1 On )を用いて種々の条件で気相接触酸化
反応を行った結果を表−4に示す。
化物を次のように調製した。温水325ミリリットルに
15.7gのメタバナジン酸アンモニウム塩を溶解し、
これにテルル酸23.6g、パラモリブデン酸アンモニ
ウム塩78.9gを順次添加し、均一な水溶液を調製し
た。さらにニオブの濃度が0.456モル/kgのシュ
ウ酸ニオブアンモニウム水溶液117.5gを混合し、
スラリーを調製した。このスラリーを蒸発乾固させ、固
体を得た。この固体を打錠成型器を用いて5mmφ×3
mmLに成型したのち、粉砕し、16〜28メッシュに
篩別し、窒素気流中600℃で2時間焼成した。
測定を行なったところ(Cu−Kα線を使用)、回折角
2θ(°)として、22.1(100)、28.2(9
0.0)、36.2(25.7)、45.1(15.
2)、50.0(16.3)に主要回折ピークが観察さ
れた(数字のカッコ内は、22.1°のピークを100
としたときの相対ピーク強度を示す。)。
器に充填し、反応温度420℃、空間速度SVを100
0h-1に固定して、イソブタン:アンモニア:空気=
1:1.2:15のモル比でガスを供給し、気相接触反
応を行なった。その結果、イソブタンの転化率は61.
4%、メタクリロニトリル選択率は29.7%、メタク
リロニトリルの収率は19.1%であった。
ソブタンの気相接触酸化反応を行なった。その結果、イ
ソブタンの転化率は52.1%、メタクリロニトリル選
択率は31.0%、メタクリロニトリルの収率は16.
2%であった。
ソブタンの気相接触酸化反応を行なった。その結果、イ
ソブタンの転化率は11.0%、メタクリロニトリル選
択率は42.7%、メタクリロニトリルの収率は4.7
%であった。
化物に、更にシリカが全体の10wt%を占める物質を
次のように調製した。温水117mlに3.79gのメ
タバナジン酸アンモニウム塩を溶解し、これにテルル酸
3.72g、パラモリブデン酸アンモニウム塩14.3
0gを順次添加し、均一な水溶液を調製した。さらにシ
ュウ酸ニオブアンモニウム塩3.59gを17.9ml
の水に溶解した液、シリカゾル(シリカ含有量20wt
%)10.24gを混合し、スラリーを調製した。この
スラリーを150℃で蒸発乾固して乾燥物を得た。
φ×3mmLに成型したのち、粉砕し、16〜28メッ
シュに篩別し、窒素気流中600℃で4時間焼成した。
このようにして得た酸化物の粉末X線回折測定を行なっ
たところ、回折角2θ(°)として、22.1(10
0)、28.2(41.7)、36.2(10.0)、
45.2(13.1)、50.0(7.1)に主要回折
ピークが観察された(数字のカッコ内は、22.1℃の
ピークを100としたときの相対ピーク強度を示
す。)。
器に充填し、反応温度420℃、空間速度SVを100
0h-1に固定して、プロパン:アンモニア:空気=1:
1.2:15のモル比でガスを供給し気相接触酸化反応
を行なった。その結果、プロパンの転化率は88.9
%、アクリロニトリル選択率は60.5%、アクリロニ
トリルの収率は53.8%であった。
して新規な酸化物を使用することにより、反応系にハロ
ゲン化物や水等を存在させることなく、しかも400〜
450℃程度の比較的に低い温度において、高い収率で
目的とするニトリルを製造することができる。
す。
す。
Claims (4)
- 【請求項1】 以下の,の条件を満たすアルカンよ
りニトリルを製造するための触媒。 触媒の実験式が、 Moa Vb Tec Xx On (1) (式(1)において、XはNb,Ta,W,Ti,A
l,Zr,Cr,Mn,Fe,Ru,Co,Rh,N
i,Pd,Pt,Sb,BiおよびCeの中から選ばれ
た1つまたはそれ以上の元素を表わし、 a=1とするとき、 b=0.01〜1.0 c=0.01〜1.0 x=0.01〜1.0 であり、また、nは他の元素の酸化状態により決定され
る。)により表わされる。 触媒のX線回折線において、下記に示す回折角2θ
にX線回折ピークを示す。 【表1】回折角2θ(°) 22.1±0.3 28.2±0.3 36.2±0.3 45.2±0.3 50.0±0.3 - 【請求項2】 モリブデン、バナジウムおよびテルルの
化合物と、ニオブ、タンタル、タングステン、チタン、
アルミニウム、ジルコニウム、クロム、マンガン、鉄、
ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウ
ム、白金、アンチモン、ビスマスおよびセリウムの中か
ら選ばれた1つまたはそれ以上の元素の化合物とから成
る水溶液を乾燥し、残った乾燥物を酸素不存在下で焼成
することを特徴とする請求項1の触媒の製造法。 - 【請求項3】 アルカンを、以下の,の条件を満た
す触媒の存在下、アンモニアと気相接触酸化反応させる
ことを特徴とするニトリルの製造法。 触媒の実験式が、 Moa Vb Tec Xx On (1) (式(1)において、XはNb,Ta,W,Ti,A
l,Zr,Cr,Mn,Fe,Ru,Co,Rh,N
i,Pd,Pt,Sb,BiおよびCeの中から選ばれ
た1つまたはそれ以上の元素を表わし、 a=1とするとき、 b=0.01〜1.0 c=0.01〜1.0 x=0.01〜1.0 であり、また、nは他の元素の酸化状態により決定され
る。)により表わされる。 触媒のX線回折線において、下記に示す回折角2θ
にX線回折ピークを示す。 【表2】回折角2θ(°) 22.1±0.3 28.2±0.3 36.2±0.3 45.2±0.3 50.0±0.3 - 【請求項4】 モリブデン、バナジウムおよびテルルの
化合物と、ニオブ、タンタル、タングステン、チタン、
アルミニウム、ジルコニウム、クロム、マンガン、鉄、
ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウ
ム、白金、アンチモン、ビスマスおよびセリウムの中か
ら選ばれた1つまたはそれ以上の元素の化合物とから成
る水溶液を乾燥し、残った乾燥物を酸素不存在下で焼成
して得られる以下のの条件を満たす触媒の存在下、ア
ルカンをアンモニアと気相接触酸化反応させることを特
徴とするニトリルの製造法。 触媒の実験式が、 Moa Vb Tec Xx On (1) (式(1)において、XはNb,Ta,W,Ti,A
l,Zr,Cr,Mn,Fe,Ru,Co,Rh,N
i,Pd,Pt,Sb,BiおよびCeの中から選ばれ
た1つまたはそれ以上の元素を表わし、a=1とすると
き、 b=0.01〜1.0 c=0.01〜1.0 x=0.01〜1.0 であり、また、nは他の元素の酸化状態により決定され
る。)により表わされる。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21142592A JP3331629B2 (ja) | 1991-08-08 | 1992-08-07 | アルカンよりニトリルを製造するための触媒 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3-199573 | 1991-08-08 | ||
JP19957391 | 1991-08-08 | ||
JP21142592A JP3331629B2 (ja) | 1991-08-08 | 1992-08-07 | アルカンよりニトリルを製造するための触媒 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05208136A JPH05208136A (ja) | 1993-08-20 |
JP3331629B2 true JP3331629B2 (ja) | 2002-10-07 |
Family
ID=26511611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21142592A Expired - Fee Related JP3331629B2 (ja) | 1991-08-08 | 1992-08-07 | アルカンよりニトリルを製造するための触媒 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3331629B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1142434A (ja) * | 1997-05-28 | 1999-02-16 | Mitsubishi Chem Corp | 炭化水素の気相接触酸化反応触媒の製造方法、及びこれを使用する炭化水素の気相接触酸化反応方法 |
UA54409C2 (uk) * | 1997-07-16 | 2003-03-17 | Асахі Касеі Кабусікі Кайся | Спосіб одержання акрилонітрилу або метакрилонітрилу з пропану або ізобутану шляхом амоксидування |
JPH11169716A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-06-29 | Mitsubishi Chemical Corp | 不飽和ニトリルおよび/または不飽和カルボン酸を製造するための触媒 |
US6171571B1 (en) * | 1999-05-10 | 2001-01-09 | Uop Llc | Crystalline multinary metal oxide compositions, process for preparing and processes for using the composition |
JP3548466B2 (ja) | 1999-09-09 | 2004-07-28 | 独立行政法人 科学技術振興機構 | アンモ酸化反応用Sb−Re複合酸化物触媒 |
EP1090684A1 (en) * | 1999-10-01 | 2001-04-11 | Rohm And Haas Company | A catalyst useful for the gas phase oxidation of alkanes, alkenes or alcohols to unsaturated aldehydes or carboxylic acids |
JP5041509B2 (ja) * | 2006-06-07 | 2012-10-03 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | NbとVを含有する酸化物、及びその製造方法 |
US7795469B2 (en) * | 2006-12-21 | 2010-09-14 | Rohm And Haas Company | Process for the selective (AMM) oxidation of lower molecular weight alkanes and alkenes |
KR101524392B1 (ko) | 2011-03-02 | 2015-05-29 | 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 | 불포화 니트릴의 제조 방법 |
-
1992
- 1992-08-07 JP JP21142592A patent/JP3331629B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05208136A (ja) | 1993-08-20 |
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