JP3296147B2 - トリフェニルアミン重合体、その製造方法及び用途 - Google Patents
トリフェニルアミン重合体、その製造方法及び用途Info
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はトリフェニルアミン
構造を有する、有機エレクトロルミネッセンス素子の有
機化合物薄膜形成材料に関し、該トリフェニルアミン重
合体は、平面光源や表示に使用される有機エレクトロル
ミネッセンス(EL)素子の正孔輸送材料として利用で
きる。
構造を有する、有機エレクトロルミネッセンス素子の有
機化合物薄膜形成材料に関し、該トリフェニルアミン重
合体は、平面光源や表示に使用される有機エレクトロル
ミネッセンス(EL)素子の正孔輸送材料として利用で
きる。
【0002】
【従来の技術】感光材料や正孔輸送材料として開発され
ている有機光導電材料は、低コスト、加工性が多様であ
り、無公害性などの多くの利点があり、多くの化合物が
提案されている。例えば、オキサジアゾール誘導体(米
国特許第3,189,447号)、オキサゾール誘導体
(米国特許第3,257,203号)、ヒドラゾン誘導
体(米国特許第3,717,462号、特開昭54−5
9,143号、米国特許第4,150,978号)、ト
リアリールピラゾリン誘導体(米国特許第3,820,
989号、特開昭51−93,224号、特開昭55−
108,667号)、アリールアミン誘導体(米国特許
第3,180,730号、米国特許第4,232,10
3号、特開昭55−144,250号、特開昭56−1
19,132号)、スチルベン誘導体(特開昭58−1
90,953号、特開昭59−195,658号)など
の有機光導電性材料が開示されている。
ている有機光導電材料は、低コスト、加工性が多様であ
り、無公害性などの多くの利点があり、多くの化合物が
提案されている。例えば、オキサジアゾール誘導体(米
国特許第3,189,447号)、オキサゾール誘導体
(米国特許第3,257,203号)、ヒドラゾン誘導
体(米国特許第3,717,462号、特開昭54−5
9,143号、米国特許第4,150,978号)、ト
リアリールピラゾリン誘導体(米国特許第3,820,
989号、特開昭51−93,224号、特開昭55−
108,667号)、アリールアミン誘導体(米国特許
第3,180,730号、米国特許第4,232,10
3号、特開昭55−144,250号、特開昭56−1
19,132号)、スチルベン誘導体(特開昭58−1
90,953号、特開昭59−195,658号)など
の有機光導電性材料が開示されている。
【0003】正孔輸送材料を利用した技術の一つとして
は、有機EL素子が挙げられる。有機物質を使用したE
L素子は、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素
子としての用途が有望視され、多くの開発が行われてい
る。一般にEL素子は発光層および該層をはさんだ一対
の対向電極から構成されている。発光は、両電極間に電
界が印加されると、陰極側から電子が注入され、陽極側
から正孔が注入され、この電子が発光層において正孔と
再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る
際にエネルギーを光として放出する現象である。
は、有機EL素子が挙げられる。有機物質を使用したE
L素子は、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素
子としての用途が有望視され、多くの開発が行われてい
る。一般にEL素子は発光層および該層をはさんだ一対
の対向電極から構成されている。発光は、両電極間に電
界が印加されると、陰極側から電子が注入され、陽極側
から正孔が注入され、この電子が発光層において正孔と
再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る
際にエネルギーを光として放出する現象である。
【0004】従来の有機EL素子は、無機EL素子に比
べて駆動電圧が高く、発光輝度や発光効率も低かった。
また、特性劣化も著しく実用化には至っていなかった。
近年、10V以下の低電圧で発光する高い蛍光量子効率
を持った有機化合物を含有した薄膜を積層した有機EL
素子が報告され、関心を集めている(アプライド・フィ
ジクス・レターズ、51巻、913ページ、1987年
参照)。この方法は、金属キレート錯体を蛍光体層、ア
ミン系化合物を正孔注入層に使用して、高輝度の緑色発
光を得ており、6〜7Vの直流電圧で輝度は数100c
d/m2、最大発光効率は1.5lm/Wを達成して、
実用領域に近い性能を持っている。
べて駆動電圧が高く、発光輝度や発光効率も低かった。
また、特性劣化も著しく実用化には至っていなかった。
近年、10V以下の低電圧で発光する高い蛍光量子効率
を持った有機化合物を含有した薄膜を積層した有機EL
素子が報告され、関心を集めている(アプライド・フィ
ジクス・レターズ、51巻、913ページ、1987年
参照)。この方法は、金属キレート錯体を蛍光体層、ア
ミン系化合物を正孔注入層に使用して、高輝度の緑色発
光を得ており、6〜7Vの直流電圧で輝度は数100c
d/m2、最大発光効率は1.5lm/Wを達成して、
実用領域に近い性能を持っている。
【0005】しかしながら、現在までの有機EL素子
は、構成の改善により発光強度は改良されているが、未
だ充分な発光輝度は有していない。また、繰り返し使用
時の安定性に劣るという大きな問題を持っている。従っ
て、より大きな発光輝度を持ち、繰り返し使用時での安
定性の優れた有機EL素子の開発のために、優れた正孔
輸送能力を有し、耐久性のある正孔輸送材料の開発が望
まれている。
は、構成の改善により発光強度は改良されているが、未
だ充分な発光輝度は有していない。また、繰り返し使用
時の安定性に劣るという大きな問題を持っている。従っ
て、より大きな発光輝度を持ち、繰り返し使用時での安
定性の優れた有機EL素子の開発のために、優れた正孔
輸送能力を有し、耐久性のある正孔輸送材料の開発が望
まれている。
【0006】
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、優れ
た正孔輸送能力を有し、耐久性のある正孔輸送材料とし
て有用なトリフェニルアミン重合体からなる、有機エレ
クトロルミネッセンス素子の有機化合物薄膜形成材料お
よびそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子
を提供することにある。
た正孔輸送能力を有し、耐久性のある正孔輸送材料とし
て有用なトリフェニルアミン重合体からなる、有機エレ
クトロルミネッセンス素子の有機化合物薄膜形成材料お
よびそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子
を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記一
般式[1]で示されるトリフェニルアミン重合体からな
る、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機化合物薄
膜形成材料である。 一般式[1]
般式[1]で示されるトリフェニルアミン重合体からな
る、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機化合物薄
膜形成材料である。 一般式[1]
【化3】 [式中、R1〜R3は、それぞれ独立に、水素原子、置換
もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のア
ルコキシ基、置換もしくは未置換のジアルキルアミノ基
である。nは、1以上5000以下の整数である。]
もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のア
ルコキシ基、置換もしくは未置換のジアルキルアミノ基
である。nは、1以上5000以下の整数である。]
【0009】
【0010】
【0011】更に、本発明は、一対の電極間に発光層ま
たは発光層を含む複数層の有機化合物薄膜を備えた有機
エレクトロルミネッセンス素子において、少なくとも一
層が上記有機薄膜形成材料を含有する有機エレクトロル
ミネッセンス素子である。
たは発光層を含む複数層の有機化合物薄膜を備えた有機
エレクトロルミネッセンス素子において、少なくとも一
層が上記有機薄膜形成材料を含有する有機エレクトロル
ミネッセンス素子である。
【0012】
【0013】
【発明の実施の形態】本発明における一般式[1]で示
される化合物の、R1〜R3は、それぞれ独立に、水素原
子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未
置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換のジアルキル
アミノ基である。R1〜R3の具体例としては、例えば置
換もしくは未置換のアルキル基として、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ステアリル基、トリクロロメチル基等
がある。置換もしくは未置換のアルコキシ基としては、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n−ブトキシ
基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ステアリルオキシ
基、トリフロロメトキシ基等がある。置換もしくは未置
換のジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミ
ノ基等がある。
される化合物の、R1〜R3は、それぞれ独立に、水素原
子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未
置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換のジアルキル
アミノ基である。R1〜R3の具体例としては、例えば置
換もしくは未置換のアルキル基として、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ステアリル基、トリクロロメチル基等
がある。置換もしくは未置換のアルコキシ基としては、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n−ブトキシ
基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ステアリルオキシ
基、トリフロロメトキシ基等がある。置換もしくは未置
換のジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミ
ノ基等がある。
【0014】本発明において、一般式[1]で示される
化合物は、新規物質であり、例えば以下の方法により製
造することができる。酢酸溶媒中、シクロヘキサノン
に、2〜4倍モルの前記一般式[2]で示される置換基
を有するトリフェニルアミン化合物を、メタンスルホン
酸等の酸触媒と共に100℃にて30時間脱水反応させ
ることにより、一般式[1]で示されるトリフェニルア
ミン重合体を製造することができる。また、本発明で用
いられる酸触媒としては、メタンスルホン酸の代わり
に、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸の様な
有機酸、または、硫酸、塩酸、ルイス酸等も可能であ
る。また、有機溶剤としては、酢酸の他に、1,4−ジ
オキサン、エーテル、石油エーテル等も可能である。こ
こで、反応時間を50時間以上にすることにより、分子
量1万以上の化合物が多く合成され、逆に20時間以下
であると、分子量2000以下となる。
化合物は、新規物質であり、例えば以下の方法により製
造することができる。酢酸溶媒中、シクロヘキサノン
に、2〜4倍モルの前記一般式[2]で示される置換基
を有するトリフェニルアミン化合物を、メタンスルホン
酸等の酸触媒と共に100℃にて30時間脱水反応させ
ることにより、一般式[1]で示されるトリフェニルア
ミン重合体を製造することができる。また、本発明で用
いられる酸触媒としては、メタンスルホン酸の代わり
に、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸の様な
有機酸、または、硫酸、塩酸、ルイス酸等も可能であ
る。また、有機溶剤としては、酢酸の他に、1,4−ジ
オキサン、エーテル、石油エーテル等も可能である。こ
こで、反応時間を50時間以上にすることにより、分子
量1万以上の化合物が多く合成され、逆に20時間以下
であると、分子量2000以下となる。
【0015】以下に、本発明の化合物の代表例を、表
1,表2に具体的に例示するが、本発明は以下の代表例
に限定されるものではない。
1,表2に具体的に例示するが、本発明は以下の代表例
に限定されるものではない。
【0016】
【表1】
【0017】
【0018】
【0019】
【0020】
【表2】
【0021】本発明の正孔輸送材料は、他の正孔もしく
は電子輸送性化合物と混合して使用してもさしつかえな
い。本発明の化合物は正孔輸送性に優れているので、正
孔輸送性材料として極めて有効に使用することができ
る。
は電子輸送性化合物と混合して使用してもさしつかえな
い。本発明の化合物は正孔輸送性に優れているので、正
孔輸送性材料として極めて有効に使用することができ
る。
【0022】
【0023】まず、一般式[1]で示される化合物を有
機EL素子の正孔輸送材料として用いる場合について説
明する。図4〜6に、本発明で使用される有機EL素子
の模式図の一例を示した。図中、一般的に電極Aである
2は陽極であり、電極Bである6は陰極である。また、
(電極A/発光層/電子注入層/電極B)の層構成で積
層した有機EL素子もあり、一般式[1]の化合物は、
どの素子構成においても好適に使用することが出来る。
一般式[1]の化合物は、大きな正孔輸送能力をもって
いるので、正孔注入層3もしくは発光層4のいずれの層
においても、正孔輸送材料として使用できる。
機EL素子の正孔輸送材料として用いる場合について説
明する。図4〜6に、本発明で使用される有機EL素子
の模式図の一例を示した。図中、一般的に電極Aである
2は陽極であり、電極Bである6は陰極である。また、
(電極A/発光層/電子注入層/電極B)の層構成で積
層した有機EL素子もあり、一般式[1]の化合物は、
どの素子構成においても好適に使用することが出来る。
一般式[1]の化合物は、大きな正孔輸送能力をもって
いるので、正孔注入層3もしくは発光層4のいずれの層
においても、正孔輸送材料として使用できる。
【0024】図4の発光層4には、必要があれば、本発
明の一般式[1]の化合物に加えて、発光物質、発光補
助材料、キャリア輸送を行う正孔輸送材料や電子輸送材
料を使用することもできる。図5の構造は、発光層4と
正孔注入層3を分離している。この構造により、正孔注
入層3から発光層4への正孔注入効率が向上して、発光
輝度や発光効率を増加させることができる。この場合、
発光効率のためには、発光層に使用される発光物質自身
が電子輸送性であること、または発光層中に電子輸送輸
送材料を添加して発光層を電子輸送性にすることが望ま
しい。
明の一般式[1]の化合物に加えて、発光物質、発光補
助材料、キャリア輸送を行う正孔輸送材料や電子輸送材
料を使用することもできる。図5の構造は、発光層4と
正孔注入層3を分離している。この構造により、正孔注
入層3から発光層4への正孔注入効率が向上して、発光
輝度や発光効率を増加させることができる。この場合、
発光効率のためには、発光層に使用される発光物質自身
が電子輸送性であること、または発光層中に電子輸送輸
送材料を添加して発光層を電子輸送性にすることが望ま
しい。
【0025】図6の構造は、正孔注入層3に加えて電子
注入層5を有し、発光層4での正孔と電子の再結合の効
率を向上させている。このように、有機EL素子を多層
構造にすることにより、クエンチングによる輝度や寿命
の低下を防ぐことができる。図5および図6の素子にお
いても、必要があれば、発光物質、発光補助材料、キャ
リア輸送を行う正孔輸送材料や電子輸送材料を組み合わ
せて使用することが出来る。また、正孔注入層、発光
層、電子注入層は、それぞれ二層以上の層構成により形
成されても良い。
注入層5を有し、発光層4での正孔と電子の再結合の効
率を向上させている。このように、有機EL素子を多層
構造にすることにより、クエンチングによる輝度や寿命
の低下を防ぐことができる。図5および図6の素子にお
いても、必要があれば、発光物質、発光補助材料、キャ
リア輸送を行う正孔輸送材料や電子輸送材料を組み合わ
せて使用することが出来る。また、正孔注入層、発光
層、電子注入層は、それぞれ二層以上の層構成により形
成されても良い。
【0026】有機EL素子の陽極に使用される導電性物
質としては、4eVより大きな仕事関数を持つものが好
適であり、炭素、アルミニウム、バナジウム、鉄、コバ
ルト、ニッケル、タングステン、銀、金、白金、パラジ
ウム等およびそれらの合金、ITO基板、NESA基板
と称される酸化スズ、酸化インジウム等の酸化金属、さ
らにはポリチオフェンやポリピロール等の有機導電性樹
脂が用いられる。陰極に使用される導電性物質として
は、4eVより小さな仕事関数を持つものが好適であ
り、マグネシウム、カルシウム、錫、鉛、チタニウム、
イットリウム、リチウム、ルテニウム、マンガン等およ
びそれらの合金が用いられるが、これらに限定されるも
のではない。陽極および陰極は、必要があれば二層以上
の層構成により形成されていても良い。
質としては、4eVより大きな仕事関数を持つものが好
適であり、炭素、アルミニウム、バナジウム、鉄、コバ
ルト、ニッケル、タングステン、銀、金、白金、パラジ
ウム等およびそれらの合金、ITO基板、NESA基板
と称される酸化スズ、酸化インジウム等の酸化金属、さ
らにはポリチオフェンやポリピロール等の有機導電性樹
脂が用いられる。陰極に使用される導電性物質として
は、4eVより小さな仕事関数を持つものが好適であ
り、マグネシウム、カルシウム、錫、鉛、チタニウム、
イットリウム、リチウム、ルテニウム、マンガン等およ
びそれらの合金が用いられるが、これらに限定されるも
のではない。陽極および陰極は、必要があれば二層以上
の層構成により形成されていても良い。
【0027】有機EL素子では、効率良く発光させるた
めに、2で示される電極Aまたは6で示される電極Bの
うち、少なくとも一方は素子の発光波長領域において充
分透明にすることが望ましい。また、基板1も透明であ
ることが望ましい。透明電極は、上記した導電性物質を
使用して、蒸着やスパッタリング等の方法で所定の透光
性が確保するように設定する。発光面の電極は、光透過
率を10%以上にすることが望ましい。
めに、2で示される電極Aまたは6で示される電極Bの
うち、少なくとも一方は素子の発光波長領域において充
分透明にすることが望ましい。また、基板1も透明であ
ることが望ましい。透明電極は、上記した導電性物質を
使用して、蒸着やスパッタリング等の方法で所定の透光
性が確保するように設定する。発光面の電極は、光透過
率を10%以上にすることが望ましい。
【0028】基板1は、機械的、熱的強度を有し、透明
なものであれば限定されるものではないが、例示する
と、ガラス基板、ポリエチレン板、ポリエーテルサルフ
ォン板、ポリプロピレン板等の透明樹脂があげられる。
なものであれば限定されるものではないが、例示する
と、ガラス基板、ポリエチレン板、ポリエーテルサルフ
ォン板、ポリプロピレン板等の透明樹脂があげられる。
【0029】本発明に係わる有機EL素子の各層の形成
は、真空蒸着、スパッタリング等の乾式成膜法やスピン
コーティング、ディッピング等の湿式成膜法のいずれの
方法を適用することができる。膜厚は特に限定されるも
のではないが、各層は適切な膜厚に設定する必要があ
る。膜厚が厚すぎると、一定の光出力を得るために大き
な印加電圧が必要になり効率が悪くなる。膜厚が薄すぎ
るとピンホール等が発生して、電界を印加しても充分な
発光輝度が得られない。通常の膜厚は5nmから10μ
mの範囲が好適であるが、10nmから0.2μmの範
囲がさらに好ましい。
は、真空蒸着、スパッタリング等の乾式成膜法やスピン
コーティング、ディッピング等の湿式成膜法のいずれの
方法を適用することができる。膜厚は特に限定されるも
のではないが、各層は適切な膜厚に設定する必要があ
る。膜厚が厚すぎると、一定の光出力を得るために大き
な印加電圧が必要になり効率が悪くなる。膜厚が薄すぎ
るとピンホール等が発生して、電界を印加しても充分な
発光輝度が得られない。通常の膜厚は5nmから10μ
mの範囲が好適であるが、10nmから0.2μmの範
囲がさらに好ましい。
【0030】湿式成膜法の場合、各層を形成する材料
を、クロロフォルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等の適切な溶媒に溶解または分散して薄膜を形成する
が、その溶媒はいずれであっても良い。また、いずれの
薄膜においても、成膜性向上、膜のピンホール防止等の
ため適切な樹脂や添加剤を使用しても良い。このような
樹脂としては、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ
アリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリ
メチルアクリレート、セルロース等の絶縁性樹脂、ポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の光導電性樹
脂、ポリチオフェン、ポリピロール等の導電性樹脂を挙
げることができる。
を、クロロフォルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等の適切な溶媒に溶解または分散して薄膜を形成する
が、その溶媒はいずれであっても良い。また、いずれの
薄膜においても、成膜性向上、膜のピンホール防止等の
ため適切な樹脂や添加剤を使用しても良い。このような
樹脂としては、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ
アリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリ
メチルアクリレート、セルロース等の絶縁性樹脂、ポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の光導電性樹
脂、ポリチオフェン、ポリピロール等の導電性樹脂を挙
げることができる。
【0031】本有機EL素子は、発光層、正孔注入層、
電子注入層において、必要があれば、一般式[1]の化
合物に加えて、公知の発光物質、発光補助材料、正孔輸
送材料、電子輸送材料を使用することもできる。
電子注入層において、必要があれば、一般式[1]の化
合物に加えて、公知の発光物質、発光補助材料、正孔輸
送材料、電子輸送材料を使用することもできる。
【0032】公知の発光物質または発光物質の補助材料
としては、アントラセン、ナフタレン、フェナントレ
ン、ピレン、テトラセン、コロネン、クリセン、フルオ
レセイン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレ
ン、ペリノン、フタロペリノン、ナフタロペリノン、ジ
フェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマ
リン、オキサジアゾール、アルダジン、ビスベンゾキサ
ゾリン、ビススチリル、ピラジン、シクロペンタジエ
ン、オキシン、アミノキノリン、イミン、ジフェニルエ
チレン、ビニルアントラセン、ジアミノカルバゾール、
ピラン、チオピラン、ポリメチン、メロシアニン、イミ
ダゾールキレート化オキシノイド化合物、キナクリド
ン、ルブレン等およびそれらの誘導体があるが、これら
に限定されるものではない。
としては、アントラセン、ナフタレン、フェナントレ
ン、ピレン、テトラセン、コロネン、クリセン、フルオ
レセイン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレ
ン、ペリノン、フタロペリノン、ナフタロペリノン、ジ
フェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマ
リン、オキサジアゾール、アルダジン、ビスベンゾキサ
ゾリン、ビススチリル、ピラジン、シクロペンタジエ
ン、オキシン、アミノキノリン、イミン、ジフェニルエ
チレン、ビニルアントラセン、ジアミノカルバゾール、
ピラン、チオピラン、ポリメチン、メロシアニン、イミ
ダゾールキレート化オキシノイド化合物、キナクリド
ン、ルブレン等およびそれらの誘導体があるが、これら
に限定されるものではない。
【0033】一般式[1]の正孔輸送材料と併せて使用
できる正孔輸送材料としては、正孔を輸送する能力を持
ち、発光層または発光物質に対して優れた正孔注入効果
を有し、発光層で生成した励起子の電子注入層または電
子輸送材料への移動を防止し、かつ薄膜形成能の優れた
化合物が挙げられる。具体的には、フタロシアニン系化
合物、ナフタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合
物、オキサジアゾール、トリアゾール、イミダゾール、
イミダゾロン、イミダゾールチオン、ピラゾリン、ピラ
ゾロン、テトラヒドロイミダゾール、オキサゾール、オ
キサジアゾール、ヒドラゾン、アシルヒドラゾン、ポリ
アリールアルカン、スチルベン、ブタジエン、ベンジジ
ン型トリフェニルアミン、スチリルアミン型トリフェニ
ルアミン、ジアミン型トリフェニルアミン等と、それら
の誘導体、およびポリビニルカルバゾール、ポリシラ
ン、導電性高分子等の高分子材料等があるが、これらに
限定されるものではない。
できる正孔輸送材料としては、正孔を輸送する能力を持
ち、発光層または発光物質に対して優れた正孔注入効果
を有し、発光層で生成した励起子の電子注入層または電
子輸送材料への移動を防止し、かつ薄膜形成能の優れた
化合物が挙げられる。具体的には、フタロシアニン系化
合物、ナフタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合
物、オキサジアゾール、トリアゾール、イミダゾール、
イミダゾロン、イミダゾールチオン、ピラゾリン、ピラ
ゾロン、テトラヒドロイミダゾール、オキサゾール、オ
キサジアゾール、ヒドラゾン、アシルヒドラゾン、ポリ
アリールアルカン、スチルベン、ブタジエン、ベンジジ
ン型トリフェニルアミン、スチリルアミン型トリフェニ
ルアミン、ジアミン型トリフェニルアミン等と、それら
の誘導体、およびポリビニルカルバゾール、ポリシラ
ン、導電性高分子等の高分子材料等があるが、これらに
限定されるものではない。
【0034】電子輸送材料としては、電子を輸送する能
力を持ち、発光層または発光物質に対して優れた電子注
入効果を有し、発光層で生成した励起子の正孔注入層ま
たは正孔輸送材料への移動を防止し、かつ薄膜形成能の
優れた化合物が挙げられる。例えば、フルオレノン、ア
ントラキノジメタン、ジフェノキノン、チオピランジオ
キシド、オキサジアゾール、ペリレンテトラカルボン
酸、フレオレニリデンメタン、アントラキノジメタン、
アントロン等とそれらの誘導体があるが、これらに限定
されるものではない。また、正孔輸送材料に電子受容物
質を、電子輸送材料に電子供与性物質を添加することに
より増感させることもできる。
力を持ち、発光層または発光物質に対して優れた電子注
入効果を有し、発光層で生成した励起子の正孔注入層ま
たは正孔輸送材料への移動を防止し、かつ薄膜形成能の
優れた化合物が挙げられる。例えば、フルオレノン、ア
ントラキノジメタン、ジフェノキノン、チオピランジオ
キシド、オキサジアゾール、ペリレンテトラカルボン
酸、フレオレニリデンメタン、アントラキノジメタン、
アントロン等とそれらの誘導体があるが、これらに限定
されるものではない。また、正孔輸送材料に電子受容物
質を、電子輸送材料に電子供与性物質を添加することに
より増感させることもできる。
【0035】図4,5および6に示される有機EL素子
において、本発明の一般式[1]の化合物は、いずれの
層に使用することができ、一般式[1]の化合物の他
に、発光物質、発光補助材料、正孔輸送材料および電子
輸送材料の少なくとも1種が同一層に含有されてもよ
い。また、本発明により得られた有機EL素子の、温
度、湿度、雰囲気等に対する安定性の向上のために、素
子の表面に保護層を設けたり、シリコンオイル等を封入
して素子全体を保護することも可能である。以上のよう
に、本発明では有機EL素子に一般式[1]の化合物を
用いたため、発光効率と発光輝度を高くできた。また、
この素子は熱や電流に対して非常に安定であり、さらに
は低い駆動電圧で実用的に使用可能の発光輝度が得られ
るため、従来まで大きな問題であった劣化も大幅に低下
させることができた
において、本発明の一般式[1]の化合物は、いずれの
層に使用することができ、一般式[1]の化合物の他
に、発光物質、発光補助材料、正孔輸送材料および電子
輸送材料の少なくとも1種が同一層に含有されてもよ
い。また、本発明により得られた有機EL素子の、温
度、湿度、雰囲気等に対する安定性の向上のために、素
子の表面に保護層を設けたり、シリコンオイル等を封入
して素子全体を保護することも可能である。以上のよう
に、本発明では有機EL素子に一般式[1]の化合物を
用いたため、発光効率と発光輝度を高くできた。また、
この素子は熱や電流に対して非常に安定であり、さらに
は低い駆動電圧で実用的に使用可能の発光輝度が得られ
るため、従来まで大きな問題であった劣化も大幅に低下
させることができた
【0036】本発明の有機EL素子は、壁掛けテレビ等
のフラットパネルディスプレイや、平面発光体として、
複写機やプリンター等の光源、液晶ディスプレイや計器
類等の光源、表示板、標識灯等へ応用が考えられ、その
工業的価値は非常に大きい。
のフラットパネルディスプレイや、平面発光体として、
複写機やプリンター等の光源、液晶ディスプレイや計器
類等の光源、表示板、標識灯等へ応用が考えられ、その
工業的価値は非常に大きい。
【0037】次に、本発明の一般式[1]で示される化
合物を電子写真感光体として用いる場合について説明す
る。本発明の一般式[1]で示される化合物は、電子写
真感光体の何れの層においても使用できるが、高い正孔
輸送特性を有することから正孔輸送材料として使用する
ことが望ましい。該化合物は正孔輸送物質として作用
し、光を吸収することにより発生した電荷を極めて効率
よく輸送でき、高速応答性に優れた感光体を得ることが
できる。また、該化合物は、耐オゾン性、光安定性に優
れているので、耐久性に優れた感光体を得ることができ
る。
合物を電子写真感光体として用いる場合について説明す
る。本発明の一般式[1]で示される化合物は、電子写
真感光体の何れの層においても使用できるが、高い正孔
輸送特性を有することから正孔輸送材料として使用する
ことが望ましい。該化合物は正孔輸送物質として作用
し、光を吸収することにより発生した電荷を極めて効率
よく輸送でき、高速応答性に優れた感光体を得ることが
できる。また、該化合物は、耐オゾン性、光安定性に優
れているので、耐久性に優れた感光体を得ることができ
る。
【0038】電子写真感光体は、導電性基板上に電荷発
生材料と、必要があれば電荷輸送材料を結着樹脂に分散
させてなる感光層を設けた単層型感光体、導電性基板上
に下引き層、電荷発生層、正孔輸送層の順に積層した、
もしくは導電性基板または下引き層上に正孔輸送層、電
荷発生層の順に積層した積層型感光体等がある。ここ
で、下引き層は必要がなければ使用しなくても良い。上
記感光体は、必要があれば活性ガスからの表面保護およ
びトナーによるフィルミング防止等の意味でオーバーコ
ート層を設けることも出来る。
生材料と、必要があれば電荷輸送材料を結着樹脂に分散
させてなる感光層を設けた単層型感光体、導電性基板上
に下引き層、電荷発生層、正孔輸送層の順に積層した、
もしくは導電性基板または下引き層上に正孔輸送層、電
荷発生層の順に積層した積層型感光体等がある。ここ
で、下引き層は必要がなければ使用しなくても良い。上
記感光体は、必要があれば活性ガスからの表面保護およ
びトナーによるフィルミング防止等の意味でオーバーコ
ート層を設けることも出来る。
【0039】電荷発生材料としては、ビスアゾ、キナク
リドン、ジケトピロロピロール、インジゴ、ペリレン、
ペリノン、多環キノン、スクアリリウム塩、アズレニウ
ム塩、フタロシアニン、ナフタロシアニン等の有機化合
物、もしくは、セレン、セレン−テルル合金、硫化カド
ミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機物質
が挙げられる。
リドン、ジケトピロロピロール、インジゴ、ペリレン、
ペリノン、多環キノン、スクアリリウム塩、アズレニウ
ム塩、フタロシアニン、ナフタロシアニン等の有機化合
物、もしくは、セレン、セレン−テルル合金、硫化カド
ミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機物質
が挙げられる。
【0040】感光体の各層は蒸着もしくは分散塗工方式
により成膜することが出来る。分散塗工は、スピンコー
ター、アプリケーター、スプレーコーター、浸漬コータ
ー、ローラーコーター、カーテンコーターおよびビード
コーター等を用いて行い、乾燥は室温から200℃、1
0分から6時間の範囲で静止または送風条件下で行う。
乾燥後の感光層の膜厚は単層型感光体の場合、5μmか
ら50μm、積層型感光体の場合、電荷発生層は0.0
1μmから5μm、好ましくは0.1μmから1μmで
あり、正孔輸送層は5μmから50μm、好ましくは1
0μmから20μmが適している。
により成膜することが出来る。分散塗工は、スピンコー
ター、アプリケーター、スプレーコーター、浸漬コータ
ー、ローラーコーター、カーテンコーターおよびビード
コーター等を用いて行い、乾燥は室温から200℃、1
0分から6時間の範囲で静止または送風条件下で行う。
乾燥後の感光層の膜厚は単層型感光体の場合、5μmか
ら50μm、積層型感光体の場合、電荷発生層は0.0
1μmから5μm、好ましくは0.1μmから1μmで
あり、正孔輸送層は5μmから50μm、好ましくは1
0μmから20μmが適している。
【0041】単層型感光体の感光層、積層型感光体の電
荷発生層もしくは正孔輸送層を形成する際に使用する樹
脂は広範な絶縁性樹脂から選択出来る。また、ポリ−N
−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセンやポリ
シラン類などの有機光導電性ポリマーから選択出来る。
好ましくは、ポリビニルブチラール、ポリアリレート、
ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキシ、アクリ
ル、ポリアミド、ウレタン、エポキシ、シリコン、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、塩酢ビ共重合体、フェノー
ルおよびメラミン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることが出
来る。電荷発生層もしくは正孔輸送層を形成するために
使用される樹脂は、電荷発生材料もしくは正孔輸送材料
に対して、100重量%以下が好ましいがこの限りでは
ない。樹脂は2種類以上組み合わせて使用しても良い。
また、必要があれば樹脂を使用しなくてもよい。また、
電荷発生層を蒸着、スパッタリング等の物理的成膜法に
より形成させることも出来る。蒸着、スパッタリング法
では、好ましくは10-5Toor以下の真空雰囲気下で
成膜することが望ましい。また、窒素、アルゴン、ヘリ
ウム等の不活性ガス中で成膜することも可能である。
荷発生層もしくは正孔輸送層を形成する際に使用する樹
脂は広範な絶縁性樹脂から選択出来る。また、ポリ−N
−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセンやポリ
シラン類などの有機光導電性ポリマーから選択出来る。
好ましくは、ポリビニルブチラール、ポリアリレート、
ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキシ、アクリ
ル、ポリアミド、ウレタン、エポキシ、シリコン、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、塩酢ビ共重合体、フェノー
ルおよびメラミン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることが出
来る。電荷発生層もしくは正孔輸送層を形成するために
使用される樹脂は、電荷発生材料もしくは正孔輸送材料
に対して、100重量%以下が好ましいがこの限りでは
ない。樹脂は2種類以上組み合わせて使用しても良い。
また、必要があれば樹脂を使用しなくてもよい。また、
電荷発生層を蒸着、スパッタリング等の物理的成膜法に
より形成させることも出来る。蒸着、スパッタリング法
では、好ましくは10-5Toor以下の真空雰囲気下で
成膜することが望ましい。また、窒素、アルゴン、ヘリ
ウム等の不活性ガス中で成膜することも可能である。
【0042】電子写真感光体の各層を形成する際に使用
する溶剤は、下引き層や他の感光層に影響を与えないも
のから選択することが好ましい。具体的には、ベンゼ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類、酢酸エチル、メチル
セロソルブ等のエステル類、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエチ
レン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロルベンゼ
ン、ジクロルベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類等
が用いられるがこれらに限られるものではない。
する溶剤は、下引き層や他の感光層に影響を与えないも
のから選択することが好ましい。具体的には、ベンゼ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類、酢酸エチル、メチル
セロソルブ等のエステル類、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエチ
レン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロルベンゼ
ン、ジクロルベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類等
が用いられるがこれらに限られるものではない。
【0043】正孔輸送層は正孔輸送材料のみ、もしくは
正孔輸送材料を樹脂に溶解させた塗液を塗布することに
より形成される。本感光体に使用される正孔輸送材料
は、一般式[1]の化合物に加えて他の正孔輸送材料を
組み合わせて使用することもできる。一般式[1]の化
合物は、他の樹脂との相溶性が良く、結晶が析出しにく
いので、感度、耐久性の向上のために有利である。
正孔輸送材料を樹脂に溶解させた塗液を塗布することに
より形成される。本感光体に使用される正孔輸送材料
は、一般式[1]の化合物に加えて他の正孔輸送材料を
組み合わせて使用することもできる。一般式[1]の化
合物は、他の樹脂との相溶性が良く、結晶が析出しにく
いので、感度、耐久性の向上のために有利である。
【0044】電子写真特性、画像特性等の向上のため
に、必要があれば基板と有機層の間に下引き層を設ける
ことができ、下引き層としてはポリアミド類、カゼイ
ン、ポリビニルアルコール、ゼラチン、ポリビニルブチ
ラール等の樹脂類、酸化アルミニウム等の金属酸化物な
どが用いられる。
に、必要があれば基板と有機層の間に下引き層を設ける
ことができ、下引き層としてはポリアミド類、カゼイ
ン、ポリビニルアルコール、ゼラチン、ポリビニルブチ
ラール等の樹脂類、酸化アルミニウム等の金属酸化物な
どが用いられる。
【0045】本発明の材料は、有機EL素子もしくは電
子写真感光体等の正孔輸送材料としのみでなく、光電変
換素子、太陽電池、イメージセンサー等の分野において
も好適に使用できる。
子写真感光体等の正孔輸送材料としのみでなく、光電変
換素子、太陽電池、イメージセンサー等の分野において
も好適に使用できる。
【0046】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に
説明する。化合物(1)の合成方法 酢酸15部中に、シクロヘキサノン10部、トリフェニ
ルアミン17部、およびメタンスルホン酸0.5部を入
れ、100℃にて10時間加熱撹拌した。その後、50
0部の水で希釈し、希水酸化ナトリウム水溶液で中和し
た。この後、酢酸エチルで抽出を行い、濃縮し、シリカ
ゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製を行
ない白色の蛍光を有する粉末8部を得た。GPCによる
分子量分析の結果、化合物(1)であることを確認し
た。平均分子量は、GPC(GelPermeatio
n Chromatography)よりポリスチレン
関算の重量平均分子量の値として求めた。以下に生成物
の元素分析結果を示す。 元素分析結果 C66H61N3として 計算値(%):C:88.58 H:6.76
N:4.66 実測値(%):C:88.29 H:6.63
N:5.08 この化合物の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図
1に示す。
説明する。化合物(1)の合成方法 酢酸15部中に、シクロヘキサノン10部、トリフェニ
ルアミン17部、およびメタンスルホン酸0.5部を入
れ、100℃にて10時間加熱撹拌した。その後、50
0部の水で希釈し、希水酸化ナトリウム水溶液で中和し
た。この後、酢酸エチルで抽出を行い、濃縮し、シリカ
ゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製を行
ない白色の蛍光を有する粉末8部を得た。GPCによる
分子量分析の結果、化合物(1)であることを確認し
た。平均分子量は、GPC(GelPermeatio
n Chromatography)よりポリスチレン
関算の重量平均分子量の値として求めた。以下に生成物
の元素分析結果を示す。 元素分析結果 C66H61N3として 計算値(%):C:88.58 H:6.76
N:4.66 実測値(%):C:88.29 H:6.63
N:5.08 この化合物の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図
1に示す。
【0047】化合物(2)の合成方法 酢酸30部中に、シクロヘキサノン10部、4−メチル
トリフェニルアミン28部、およびメタンスルホン酸1
部を入れ、105℃にて30時間加熱撹拌した。その
後、500部の水で希釈し、希水酸化ナトリウム水溶液
で中和した。この後、酢酸エチルで抽出を行い、濃縮
し、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによ
り精製して黄色の蛍光を有する粉末13部を得た。GP
Cによる分子量分析の結果、化合物(2)であることを
確認した。以下に生成物の元素分析結果を示す。 元素分析結果 C144H142N6として 計算値(%):C:88.43 H:7.27
N:4.30 実測値(%):C:88.58 H:7.18
N:4.24 この化合物の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図
2に示す。
トリフェニルアミン28部、およびメタンスルホン酸1
部を入れ、105℃にて30時間加熱撹拌した。その
後、500部の水で希釈し、希水酸化ナトリウム水溶液
で中和した。この後、酢酸エチルで抽出を行い、濃縮
し、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによ
り精製して黄色の蛍光を有する粉末13部を得た。GP
Cによる分子量分析の結果、化合物(2)であることを
確認した。以下に生成物の元素分析結果を示す。 元素分析結果 C144H142N6として 計算値(%):C:88.43 H:7.27
N:4.30 実測値(%):C:88.58 H:7.18
N:4.24 この化合物の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図
2に示す。
【0048】化合物(13)の合成方法 酢酸30部中に、シクロヘキサノン8部、4−メトキシ
トリフェニルアミン25部、およびメタンスルホン酸1
部を入れ、105℃にて30時間加熱撹拌した。その
後、500部の水で希釈し、希水酸化ナトリウム水溶液
で中和した。この後、酢酸エチルで抽出を行い、濃縮
し、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによ
り精製して黄色の蛍光を有する粉末13部を得た。GP
Cによる分子量分析の結果、化合物(13)であること
を確認した。以下に生成物の元素分析結果を示す。 元素分析結果 C225H234N9O9として 計算値(%):C:84.27 H:7.30
N:3.93 実測値(%):C:84.61 H:7.21
N:3.85 この化合物の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図
3に示す。
トリフェニルアミン25部、およびメタンスルホン酸1
部を入れ、105℃にて30時間加熱撹拌した。その
後、500部の水で希釈し、希水酸化ナトリウム水溶液
で中和した。この後、酢酸エチルで抽出を行い、濃縮
し、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによ
り精製して黄色の蛍光を有する粉末13部を得た。GP
Cによる分子量分析の結果、化合物(13)であること
を確認した。以下に生成物の元素分析結果を示す。 元素分析結果 C225H234N9O9として 計算値(%):C:84.27 H:7.30
N:3.93 実測値(%):C:84.61 H:7.21
N:3.85 この化合物の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図
3に示す。
【0049】実施例1 洗浄したITO電極付きガラス板上に、化合物(1)、
トリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体、
ポリカーボネート樹脂(PC−A)を3:2:5の比率
でテトラヒドロフランに溶解させ、スピンコーティング
法により膜厚100nmの発光層を得た。その上に、マ
グネシウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚150
nmの電極を形成して図4に示す有機EL素子を得た。
この素子は、直流電圧5Vで180cd/m2の発光が
得られた。
トリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体、
ポリカーボネート樹脂(PC−A)を3:2:5の比率
でテトラヒドロフランに溶解させ、スピンコーティング
法により膜厚100nmの発光層を得た。その上に、マ
グネシウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚150
nmの電極を形成して図4に示す有機EL素子を得た。
この素子は、直流電圧5Vで180cd/m2の発光が
得られた。
【0050】実施例2 洗浄したITO電極付きガラス板上に、化合物(2)を
テトラヒドロフランに溶解させ、スピンコーティング法
により膜厚50nmの正孔注入層を得た。次いで、トリ
ス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を真空
蒸着して膜厚30nmの発光層を作成し、その上に、マ
グネシウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚100
nmの電極を形成して図5に示す有機EL素子を得た。
正孔注入層および発光層は10-6Torrの真空中で、
基板温度室温の条件下で蒸着した。この素子は、直流電
圧5Vで約230cd/m2の発光が得られた。
テトラヒドロフランに溶解させ、スピンコーティング法
により膜厚50nmの正孔注入層を得た。次いで、トリ
ス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を真空
蒸着して膜厚30nmの発光層を作成し、その上に、マ
グネシウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚100
nmの電極を形成して図5に示す有機EL素子を得た。
正孔注入層および発光層は10-6Torrの真空中で、
基板温度室温の条件下で蒸着した。この素子は、直流電
圧5Vで約230cd/m2の発光が得られた。
【0051】実施例3 洗浄したITO電極付きガラス板上に、化合物(3)を
テトラヒドロフランに溶解させ、スピンコーティング法
により膜厚50nmの正孔注入層を得た。次いで、トリ
ス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を真空
蒸着して膜厚30nmの発光層を作成し、その上に、マ
グネシウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚100
nmの電極を形成して図5に示す有機EL素子を得た。
発光層は10-6Torrの真空中で、基板温度室温の条
件下で蒸着した。この素子は、直流電圧5Vで約400
cd/m2の発光が得られた。
テトラヒドロフランに溶解させ、スピンコーティング法
により膜厚50nmの正孔注入層を得た。次いで、トリ
ス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を真空
蒸着して膜厚30nmの発光層を作成し、その上に、マ
グネシウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚100
nmの電極を形成して図5に示す有機EL素子を得た。
発光層は10-6Torrの真空中で、基板温度室温の条
件下で蒸着した。この素子は、直流電圧5Vで約400
cd/m2の発光が得られた。
【0052】実施例4 正孔注入層に化合物(13)を使用する以外は、実施例
3と同様の方法で有機EL素子を作製した。この素子
は、直流電圧5Vで約510cd/m2の発光が得られ
た。
3と同様の方法で有機EL素子を作製した。この素子
は、直流電圧5Vで約510cd/m2の発光が得られ
た。
【0053】実施例5 正孔注入層に化合物(17)を使用する以外は、実施例
3と同様の方法で有機EL素子を作製した。この素子
は、直流電圧5Vで約420cd/m2の発光が得られ
た。
3と同様の方法で有機EL素子を作製した。この素子
は、直流電圧5Vで約420cd/m2の発光が得られ
た。
【0054】実施例6 正孔注入層に化合物(19)を使用する以外は、実施例
3と同様の方法で有機EL素子を作製した。この素子
は、直流電圧5Vで約500cd/m2の発光が得られ
た。
3と同様の方法で有機EL素子を作製した。この素子
は、直流電圧5Vで約500cd/m2の発光が得られ
た。
【0055】実施例7 洗浄したITO電極付きガラス板上に、化合物(5)を
真空蒸着して、膜厚20nmの正孔注入層を得た。さら
に、N,N'―ジフェニル―N,N'―(3―チルフェニ
ル)―1,1'―ビフェニル―4,4'―ジアミンを真空
蒸着して、厚30nmの正孔輸送層を得た。次いで、ト
リス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を真
空蒸着して膜厚30nmの発光層を作成し、その上に、
マグネシウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚10
0nmの電極を形成して有機EL素子を得た。正孔注入
層および発光層は10-6Torrの真空中で、基板温度
室温の条件下で蒸着した。この素子は、直流電圧5Vで
約310cd/m2の発光が得られた。
真空蒸着して、膜厚20nmの正孔注入層を得た。さら
に、N,N'―ジフェニル―N,N'―(3―チルフェニ
ル)―1,1'―ビフェニル―4,4'―ジアミンを真空
蒸着して、厚30nmの正孔輸送層を得た。次いで、ト
リス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を真
空蒸着して膜厚30nmの発光層を作成し、その上に、
マグネシウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚10
0nmの電極を形成して有機EL素子を得た。正孔注入
層および発光層は10-6Torrの真空中で、基板温度
室温の条件下で蒸着した。この素子は、直流電圧5Vで
約310cd/m2の発光が得られた。
【0056】実施例8 洗浄したITO電極付きガラス板上に、N,N'―ジフ
ェニル―N,N'―(―メチルフェニル)―1,1'―ビ
フェニル―4,4'―ジアミンを真空蒸着し、膜厚50
nmの正孔注入層を得た。次いで、トリス(8−ヒドロ
キシキノリン)アルミニウム錯体と化合物(7)を3:
1の割合で真空蒸着して膜厚50nmの発光層を作成
し、その上に、マグネシウムと銀を10:1で混合した
合金で膜厚150nmの膜厚の電極を形成して図5に示
す有機EL素子を得た。正孔注入層および発光層は10
-6Torrの真空中で、基板温度室温の条件下で蒸着し
た。この素子は、直流電圧5Vで約360cd/m2の
発光が得られた。
ェニル―N,N'―(―メチルフェニル)―1,1'―ビ
フェニル―4,4'―ジアミンを真空蒸着し、膜厚50
nmの正孔注入層を得た。次いで、トリス(8−ヒドロ
キシキノリン)アルミニウム錯体と化合物(7)を3:
1の割合で真空蒸着して膜厚50nmの発光層を作成
し、その上に、マグネシウムと銀を10:1で混合した
合金で膜厚150nmの膜厚の電極を形成して図5に示
す有機EL素子を得た。正孔注入層および発光層は10
-6Torrの真空中で、基板温度室温の条件下で蒸着し
た。この素子は、直流電圧5Vで約360cd/m2の
発光が得られた。
【0057】実施例9 洗浄したITO電極付きガラス板上に、化合物(9)を
クロロホルムに溶解させ、スピンコーティング法により
膜厚50nmの正孔注入層を得た。次いで、真空蒸着法
によりトリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム
錯体の膜厚50nmの発光層を作成し、さらに真空蒸着
法により[2−(4−tert−ブチルフェニル)−5
−(ビフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール]の
膜厚20nmの電子注入層を得た。その上に、マグネシ
ウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚150nmの
電極を形成して図6に示す有機EL素子を得た。この素
子は、直流電圧5Vで約490cd/m2の発光が得ら
れた。
クロロホルムに溶解させ、スピンコーティング法により
膜厚50nmの正孔注入層を得た。次いで、真空蒸着法
によりトリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム
錯体の膜厚50nmの発光層を作成し、さらに真空蒸着
法により[2−(4−tert−ブチルフェニル)−5
−(ビフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール]の
膜厚20nmの電子注入層を得た。その上に、マグネシ
ウムと銀を10:1で混合した合金で膜厚150nmの
電極を形成して図6に示す有機EL素子を得た。この素
子は、直流電圧5Vで約490cd/m2の発光が得ら
れた。
【0058】本実施例で示された全ての有機EL素子に
ついて、1mA/cm2で連続発光させたところ、10
00時間以上安定な発光を観測することができた。本発
明の有機EL素子は発光効率、発光輝度の向上と長寿命
化を達成するものであり、併せて使用される発光物質、
発光補助材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、増感剤、
樹脂、電極材料等および素子作製方法を限定するもので
はない。
ついて、1mA/cm2で連続発光させたところ、10
00時間以上安定な発光を観測することができた。本発
明の有機EL素子は発光効率、発光輝度の向上と長寿命
化を達成するものであり、併せて使用される発光物質、
発光補助材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、増感剤、
樹脂、電極材料等および素子作製方法を限定するもので
はない。
【0059】
【0060】
【0061】
【0062】
【0063】
【0064】
【0065】
【0066】
【0067】
【0068】
【発明の効果】本発明により、優れた正孔輸送能力を有
する有機薄膜形成材料を得ることができた。本発明が提
供した有機薄膜形成材料により、従来に比べて高発光効
率、高輝度であり、長寿命の有機EL素子を得ることが
できた。
する有機薄膜形成材料を得ることができた。本発明が提
供した有機薄膜形成材料により、従来に比べて高発光効
率、高輝度であり、長寿命の有機EL素子を得ることが
できた。
【図1】化合物1の赤外吸収スペクトル図
【図2】化合物2の赤外吸収スペクトル図
【図3】化合物13の赤外吸収スペクトル図
【図4】実施例で使用した有機EL素子の概略構造を表
す断面図
す断面図
【図5】実施例で使用した有機EL素子の概略構造を表
す断面図
す断面図
【図6】実施例で使用した有機EL素子の概略構造を表
す断面図
す断面図
フロントページの続き (72)発明者 榎田 年男 東京都中央区京橋二丁目3番13号 東洋 インキ製造株式会社内 審査官 前田 孝泰 (56)参考文献 特開 平5−40350(JP,A) 特開 昭51−89425(JP,A) 特開 平8−231475(JP,A) 特開 平4−129271(JP,A) 特開 昭59−194393(JP,A) 特開 昭61−173255(JP,A) 特開 昭61−151545(JP,A) 特開 平2−282264(JP,A) 特開 平2−282263(JP,A) 特開 昭63−308019(JP,A) 特開 昭52−60613(JP,A) 特開 平8−227165(JP,A) 特開 平8−314169(JP,A) 特開 平8−40997(JP,A) 特開 平8−87121(JP,A) 色材協会誌,72[12](1999),p. 733−738 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 16/00 - 16/06 H05B 33/00 - 33/28 C09K 11/00 C09K 11/06 - 11/07 G03G 5/06 - 5/07 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (2)
- 【請求項1】下記一般式[1]で示されるトリフェニル
アミン重合体からなる、有機エレクトロルミネッセンス
素子の有機化合物薄膜形成材料。 一般式[1] 【化1】 [式中、R1〜R3は、それぞれ独立に、水素原子、置換
もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のア
ルコキシ基、置換もしくは未置換のジアルキルアミノ基
である。nは、1以上5000以下の整数である。] - 【請求項2】一対の電極間に発光層または発光層を含む
複数層の有機化合物薄膜を備えた有機エレクトロルミネ
ッセンス素子において、少なくとも一層が下記一般式
[1]で示されるトリフェニルアミン重合体を含有する
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 一般式[1] 【化2】 [式中、R1〜R3は、それぞれ独立に、水素原子、置換
もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のア
ルコキシ基、置換もしくは未置換のジアルキルアミノ基
である。nは、1以上5000以下の整数である。]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17173995A JP3296147B2 (ja) | 1994-08-04 | 1995-07-07 | トリフェニルアミン重合体、その製造方法及び用途 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6-183198 | 1994-08-04 | ||
JP18319894 | 1994-08-04 | ||
JP17173995A JP3296147B2 (ja) | 1994-08-04 | 1995-07-07 | トリフェニルアミン重合体、その製造方法及び用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08100038A JPH08100038A (ja) | 1996-04-16 |
JP3296147B2 true JP3296147B2 (ja) | 2002-06-24 |
Family
ID=26494356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17173995A Expired - Fee Related JP3296147B2 (ja) | 1994-08-04 | 1995-07-07 | トリフェニルアミン重合体、その製造方法及び用途 |
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Country | Link |
---|---|
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JP3593719B2 (ja) * | 1994-08-04 | 2004-11-24 | 東洋インキ製造株式会社 | 新規なトリフェニルアミン誘導体、その製造方法及び用途 |
JP3593718B2 (ja) * | 1994-08-04 | 2004-11-24 | 東洋インキ製造株式会社 | 新規なトリフェニルアミン誘導体、その製造方法及び用途 |
JPH1079297A (ja) * | 1996-07-09 | 1998-03-24 | Sony Corp | 電界発光素子 |
KR100360317B1 (ko) * | 1998-12-07 | 2003-02-19 | 주식회사 만도 | 인풋 샤프트의 드릴 홀 가공장치 |
JP4569997B2 (ja) * | 2000-09-07 | 2010-10-27 | 凸版印刷株式会社 | 高分子電荷輸送材料及びそれの製造方法及びそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子 |
TW588105B (en) | 2001-07-19 | 2004-05-21 | Sumitomo Chemical Co | Polymeric fluorescent substance and polymer light-emitting device using the same |
JP2003123968A (ja) | 2001-10-15 | 2003-04-25 | Univ Toyama | 有機電界発光素子の製造方法 |
KR101014837B1 (ko) * | 2002-08-09 | 2011-02-15 | 도소 가부시키가이샤 | 신규 트리아릴아민폴리머, 그 제조방법 및 그 용도 |
JP4506182B2 (ja) * | 2003-01-30 | 2010-07-21 | 三菱化学株式会社 | アリールアミン系化合物、該化合物を用いた正孔輸送材料および電子写真感光体 |
JP4604592B2 (ja) * | 2003-07-29 | 2011-01-05 | 三菱化学株式会社 | アリールアミン誘導体の製造方法及びそれに用いるメタノール誘導体 |
KR100565665B1 (ko) * | 2004-03-22 | 2006-03-30 | 엘지전자 주식회사 | 유기전계발광소자 |
JP4569526B2 (ja) * | 2006-06-16 | 2010-10-27 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 電界発光素子用材料 |
US9123893B2 (en) | 2009-11-25 | 2015-09-01 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Carbon nano-tube dispersant |
CN104030995B (zh) * | 2014-06-19 | 2016-07-06 | 孔庆刚 | 由三苯胺构建的主体大环和多侧枝三苯胺空穴传输材料 |
-
1995
- 1995-07-07 JP JP17173995A patent/JP3296147B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
Title |
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色材協会誌,72[12](1999),p.733−738 |
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JPH08100038A (ja) | 1996-04-16 |
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