JP2972096B2 - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、リードフレームの両面
に半導体チップを搭載した面実装型の樹脂封止型半導体
装置に関するものである。
に半導体チップを搭載した面実装型の樹脂封止型半導体
装置に関するものである。
【0002】
【従来技術】現在、一般的に利用されている樹脂封止型
半導体装置は図6に示すように、半導体チップ1、ダイ
パッド2、インナーリード3、金ワイヤー5、封止樹脂
7より構成されている。また、リードフレームはダウン
セットと呼ばれるダイパッド2を一段押し下げた構造を
もち、このリードフレームのダイパッド2の片面に1つ
の半導体チップ1をダイボンドする。更に、このダイボ
ンドしたリードフレームにワイヤーボンド技術で半導体
チップ1とインナーリード3とを金ワイヤー5で電気的
に接続し、封止樹脂7により半導体チップ1、ダイパッ
ド2、インナーリード3等を包含した構造をとってい
る。
半導体装置は図6に示すように、半導体チップ1、ダイ
パッド2、インナーリード3、金ワイヤー5、封止樹脂
7より構成されている。また、リードフレームはダウン
セットと呼ばれるダイパッド2を一段押し下げた構造を
もち、このリードフレームのダイパッド2の片面に1つ
の半導体チップ1をダイボンドする。更に、このダイボ
ンドしたリードフレームにワイヤーボンド技術で半導体
チップ1とインナーリード3とを金ワイヤー5で電気的
に接続し、封止樹脂7により半導体チップ1、ダイパッ
ド2、インナーリード3等を包含した構造をとってい
る。
【0003】近年、電子機器は高機能化・小型化・軽量
化が進行しており、1つの基板上に多くの部品を搭載し
たり、又は小型の基板に元の基板と同数若しくはそれ以
上の部品を搭載しようとする傾向にある。よって、LS
Iの実装密度を効率良く上げる必要があり、1つの樹脂
封止体内部に複数の半導体チップを封入する技術が開発
されている。
化が進行しており、1つの基板上に多くの部品を搭載し
たり、又は小型の基板に元の基板と同数若しくはそれ以
上の部品を搭載しようとする傾向にある。よって、LS
Iの実装密度を効率良く上げる必要があり、1つの樹脂
封止体内部に複数の半導体チップを封入する技術が開発
されている。
【0004】例えば、1つのパッケージに複数の半導体
チップを封入する技術としては、図7に示すようにリー
ドフレーム上の片面側に複数の半導体チップ1を搭載す
る技術がある。この技術では、半導体チップ1とインナ
ーリード3との間及び半導体チップ1と半導体チップ1
との間を金ワイヤー5を介して電気的に接続する場合に
ワイヤーボンド技術等を用いて接続する。しかし、この
従来技術では、半導体チップ1を平面的に並べるため、
パッケージ本体が大型化し、実装密度向上の面で問題が
あった。
チップを封入する技術としては、図7に示すようにリー
ドフレーム上の片面側に複数の半導体チップ1を搭載す
る技術がある。この技術では、半導体チップ1とインナ
ーリード3との間及び半導体チップ1と半導体チップ1
との間を金ワイヤー5を介して電気的に接続する場合に
ワイヤーボンド技術等を用いて接続する。しかし、この
従来技術では、半導体チップ1を平面的に並べるため、
パッケージ本体が大型化し、実装密度向上の面で問題が
あった。
【0005】そこで、上記問題を解決する技術として
は、例えば、図8に示す、実開昭62−147360号
公報に記載の、半導体チップ1の裏面を接着面としてダ
ウンセットしていないダイパッド2の両面に半導体チッ
プ1をダイボンドし、更に、このダイボンドした半導体
チップ1とインナーリード3とはワイヤーボンド技術で
接合し、それを封止樹脂7にて包含した構造とする技術
がある。
は、例えば、図8に示す、実開昭62−147360号
公報に記載の、半導体チップ1の裏面を接着面としてダ
ウンセットしていないダイパッド2の両面に半導体チッ
プ1をダイボンドし、更に、このダイボンドした半導体
チップ1とインナーリード3とはワイヤーボンド技術で
接合し、それを封止樹脂7にて包含した構造とする技術
がある。
【0006】更に、図9に示す、特開平2−10545
0号公報に記載の、ダウンセットしていないリードフレ
ームに半導体チップ1をダイボンドし、ワイヤーボンド
工程まで実施したものを半導体チップ1のダイボンドさ
れていない面同士を合わせて樹脂封止した構造とする技
術もある。
0号公報に記載の、ダウンセットしていないリードフレ
ームに半導体チップ1をダイボンドし、ワイヤーボンド
工程まで実施したものを半導体チップ1のダイボンドさ
れていない面同士を合わせて樹脂封止した構造とする技
術もある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のリード
フレームの両面に半導体チップを搭載する半導体パッケ
ージの薄型化を図る場合、例えば、1mm厚の半導体パ
ッケージの場合、リードフレームの厚さを0.1mm、
半導体チップの厚さを0.2mm、金ワイヤーの高さを
0.15mmとすると、片側の金ワイヤー上の樹脂の厚
さは、0.1mmとなり、非常に薄くなる。
フレームの両面に半導体チップを搭載する半導体パッケ
ージの薄型化を図る場合、例えば、1mm厚の半導体パ
ッケージの場合、リードフレームの厚さを0.1mm、
半導体チップの厚さを0.2mm、金ワイヤーの高さを
0.15mmとすると、片側の金ワイヤー上の樹脂の厚
さは、0.1mmとなり、非常に薄くなる。
【0008】従来の半導体パッケージでは、ダイパッド
部分はサポートバーのみで支持しており、樹脂成形時に
半導体チップに圧力が加わるとダイバッドを支えるサポ
ートバーに変形が発生し易く、ダイバッドが傾いて成型
される場合がある。これまでと同等のダイバッドの傾き
でも、封止樹脂の厚さを薄くするため、金ワイヤーや半
導体チップがパッケージ表面に露出する外観不良の原因
となる。
部分はサポートバーのみで支持しており、樹脂成形時に
半導体チップに圧力が加わるとダイバッドを支えるサポ
ートバーに変形が発生し易く、ダイバッドが傾いて成型
される場合がある。これまでと同等のダイバッドの傾き
でも、封止樹脂の厚さを薄くするため、金ワイヤーや半
導体チップがパッケージ表面に露出する外観不良の原因
となる。
【0009】また、リードフレームの両面に半導体チッ
プを搭載するパッケージ構造ではダイパッドにダウンセ
ットを施していないため、ダイパッドが変形し易くなっ
ている。
プを搭載するパッケージ構造ではダイパッドにダウンセ
ットを施していないため、ダイパッドが変形し易くなっ
ている。
【0010】一方、インナーリード先端部は1本づつ切
り離された状態で存在するため、上述したように、リー
ドフレームの厚さが薄くなると樹脂成型時に樹脂の圧力
の影響で変形し、金ワイヤーが押し上げられパッケージ
表面に露出したり、途中で破断したり、若しくは隣接す
るインナーリードと接触するという問題点がある。
り離された状態で存在するため、上述したように、リー
ドフレームの厚さが薄くなると樹脂成型時に樹脂の圧力
の影響で変形し、金ワイヤーが押し上げられパッケージ
表面に露出したり、途中で破断したり、若しくは隣接す
るインナーリードと接触するという問題点がある。
【0011】また、大型の半導体チップを封止しようと
した場合、従来のパッケージでは、ダイパッド部とイン
ナーリード先端部分が離れているため、半導体チップ端
からパッケージ樹脂部外側までの距離が一定以上必要と
なり、また、通常インナーリード先端部のみに半導体チ
ップとの電気的接続のための銀メッキが施されており、
小型の半導体チップと同一のパッケージサイズで封止す
ることができなかった。つまり、半導体チップからイン
ナーリードのボンディング位置までの距離をダイパッド
とインナーリード先端との距離以上とる必要があったた
め、大型の半導体チップを樹脂封止するとパッケージサ
イズを大きくしなければならなかった。
した場合、従来のパッケージでは、ダイパッド部とイン
ナーリード先端部分が離れているため、半導体チップ端
からパッケージ樹脂部外側までの距離が一定以上必要と
なり、また、通常インナーリード先端部のみに半導体チ
ップとの電気的接続のための銀メッキが施されており、
小型の半導体チップと同一のパッケージサイズで封止す
ることができなかった。つまり、半導体チップからイン
ナーリードのボンディング位置までの距離をダイパッド
とインナーリード先端との距離以上とる必要があったた
め、大型の半導体チップを樹脂封止するとパッケージサ
イズを大きくしなければならなかった。
【0012】また、半導体チップをリードフレーム両面
にダイボンドするため、ワイヤーボンドのときインナー
リード側のボンディング位置をずらさなければならず、
大型の半導体チップを封止する妨げになっていた。
にダイボンドするため、ワイヤーボンドのときインナー
リード側のボンディング位置をずらさなければならず、
大型の半導体チップを封止する妨げになっていた。
【0013】以上のように、1つの半導体パッケージ内
に2つの半導体チップを搭載する場合、半導体チップを
ダイボンドしたダイパッドが成型時の樹脂圧力により傾
くことを極力防止する必要があり、また、大型の半導体
チップを封止しようとする場合、パッケージサイズを大
型化しないようにするため、チップからワイヤーボンド
位置までを近づける必要がある。
に2つの半導体チップを搭載する場合、半導体チップを
ダイボンドしたダイパッドが成型時の樹脂圧力により傾
くことを極力防止する必要があり、また、大型の半導体
チップを封止しようとする場合、パッケージサイズを大
型化しないようにするため、チップからワイヤーボンド
位置までを近づける必要がある。
【0014】本発明は、樹脂成型時の圧力によるダイパ
ッド変形を防止し、また、大型の半導体チップをパッケ
ージサイズを大きくすることなく樹脂封止することがで
きる手段を提供することを目的とする。
ッド変形を防止し、また、大型の半導体チップをパッケ
ージサイズを大きくすることなく樹脂封止することがで
きる手段を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の本発明
の樹脂封止型半導体装置は、ダイパッドの両面に搭載さ
れた複数の半導体チップがワイヤーボンディングにより
インナーリードと電気的に接続されている樹脂封止型半
導体装置において、上記ダイパッド、該ダイパッド近傍
のサポートバー及び上記インナーリード先端部のそれぞ
れの両面に、上記半導体チップの回路形成面と反対の面
が、ワイヤーボンディング工程時の加熱温度より融点の
高い絶縁性樹脂を介して固定されていることを特徴とす
るものである。
の樹脂封止型半導体装置は、ダイパッドの両面に搭載さ
れた複数の半導体チップがワイヤーボンディングにより
インナーリードと電気的に接続されている樹脂封止型半
導体装置において、上記ダイパッド、該ダイパッド近傍
のサポートバー及び上記インナーリード先端部のそれぞ
れの両面に、上記半導体チップの回路形成面と反対の面
が、ワイヤーボンディング工程時の加熱温度より融点の
高い絶縁性樹脂を介して固定されていることを特徴とす
るものである。
【0016】また、請求項2に記載の本発明の樹脂封止
型半導体装置は、複数の半導体チップがワイヤーボンデ
ィングによりインナーリードと電気的に接続されている
樹脂封止型半導体装置において、上記インナーリード先
端部の両面に、上記半導体チップの回路形成面と反対の
面が、ワイヤーボンディング工程時の加熱温度より融点
の高い絶縁性樹脂を介して固定されていることを特徴と
するものである。
型半導体装置は、複数の半導体チップがワイヤーボンデ
ィングによりインナーリードと電気的に接続されている
樹脂封止型半導体装置において、上記インナーリード先
端部の両面に、上記半導体チップの回路形成面と反対の
面が、ワイヤーボンディング工程時の加熱温度より融点
の高い絶縁性樹脂を介して固定されていることを特徴と
するものである。
【0017】更に、請求項3に記載の本発明の樹脂封止
型半導体装置は、上記インナーリード全体に銀メッキが
施されていることを特徴とする、請求項1又は請求項2
記載の樹脂封止型半導体装置である。
型半導体装置は、上記インナーリード全体に銀メッキが
施されていることを特徴とする、請求項1又は請求項2
記載の樹脂封止型半導体装置である。
【0018】
【作用】請求項1及び請求項2に記載の構成にすること
によって、樹脂成型時に半導体チップが受ける圧力でダ
イパッドのサポートバーが変形することを抑え、金ワイ
ヤーや半導体チップ表面の露出等の外観不良を防止す
る。
によって、樹脂成型時に半導体チップが受ける圧力でダ
イパッドのサポートバーが変形することを抑え、金ワイ
ヤーや半導体チップ表面の露出等の外観不良を防止す
る。
【0019】また、請求項3に記載の構成にすることに
よって、半導体チップとインナーリード側のワイヤーボ
ンディング位置との距離を短くでき、更に、リードフレ
ームサイズの変更なしに、各種半導体チップサイズに対
応できる。
よって、半導体チップとインナーリード側のワイヤーボ
ンディング位置との距離を短くでき、更に、リードフレ
ームサイズの変更なしに、各種半導体チップサイズに対
応できる。
【0020】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明について詳細
に説明する。
に説明する。
【0021】図1(a)は本発明の第1の実施例の樹脂
封止型半導体装置の平面図であり、同(b)は同樹脂封
止型半導体装置の断面図であり、図2(a)は本発明の
第2の実施例の樹脂封止型半導体装置の平面図であり、
同(b)は同樹脂封止型半導体装置の断面図であり、図
3は第1の実施例の樹脂封止型半導体装置の製造工程図
であり、図4は本発明の第3の実施例の樹脂封止型半導
体装置の断面図であり、図5は本発明の第4の実施例の
樹脂封止型半導体装置の断面図である。
封止型半導体装置の平面図であり、同(b)は同樹脂封
止型半導体装置の断面図であり、図2(a)は本発明の
第2の実施例の樹脂封止型半導体装置の平面図であり、
同(b)は同樹脂封止型半導体装置の断面図であり、図
3は第1の実施例の樹脂封止型半導体装置の製造工程図
であり、図4は本発明の第3の実施例の樹脂封止型半導
体装置の断面図であり、図5は本発明の第4の実施例の
樹脂封止型半導体装置の断面図である。
【0022】図1乃至図5において、1は半導体チッ
プ、2はダイパッド、3はインナーリード、4はサポー
トバー、5は金ワイヤー、6は絶縁性樹脂、7は封止樹
脂を示す。
プ、2はダイパッド、3はインナーリード、4はサポー
トバー、5は金ワイヤー、6は絶縁性樹脂、7は封止樹
脂を示す。
【0023】請求項1に記載の本発明は、従来ダイパッ
ド2をサポートバー4のみで支えていたのを、インナー
リード3の先端部とダイバッド2とサポートバー4とを
絶縁性樹脂6で固定し、インナーリード3とサポートバ
ー4とでダイパッド2を支える構成にしたことに特徴が
ある。また、請求項2に記載の本発明は、ダイパッド2
を用いず、インナーリード3の先端部を固定した絶縁性
樹脂6に半導体チップ1を搭載する構成とすることを特
徴とする。
ド2をサポートバー4のみで支えていたのを、インナー
リード3の先端部とダイバッド2とサポートバー4とを
絶縁性樹脂6で固定し、インナーリード3とサポートバ
ー4とでダイパッド2を支える構成にしたことに特徴が
ある。また、請求項2に記載の本発明は、ダイパッド2
を用いず、インナーリード3の先端部を固定した絶縁性
樹脂6に半導体チップ1を搭載する構成とすることを特
徴とする。
【0024】以下、図3を用いて本発明の一実施例の樹
脂封止型半導体装置の製造工程を説明する。
脂封止型半導体装置の製造工程を説明する。
【0025】まず、ダウンセットを行っていないフラッ
トなリードフレームのダイパッド2、ダイパッド近傍の
サポードバー4及びインナーリード3先端部に絶縁性樹
脂6を塗布する。この絶縁性樹脂としては、ポリイミド
等のワイヤーボンディング時の加熱温度より融点の高い
絶縁性樹脂を用いる。以下、ポリイミド樹脂を用いた場
合について説明する。例えば、ポリイミド樹脂には、熱
硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との2種類があり、熱硬化性
ポリイミド樹脂を用いる場合は、溶剤に溶かし粘度のあ
る状態で樹脂をポッティングによりダイパッド2、ダイ
パッド2近傍のサポートバー4及びインナーリード3先
端部の両面に、滴下及び塗布する。そして、塗布後、低
温、例えば100℃程度で1時間の1次乾燥を行い、そ
の後、表面にテフロン加工した金型によりリードフレー
ム両面よりプレスし、インナーリード3上の樹脂厚を一
定にする。更に、高温、例えば260℃程度で1時間の
2次乾燥を行い、溶剤を除去し、絶縁性樹脂6を硬化さ
せる(図3(a))。
トなリードフレームのダイパッド2、ダイパッド近傍の
サポードバー4及びインナーリード3先端部に絶縁性樹
脂6を塗布する。この絶縁性樹脂としては、ポリイミド
等のワイヤーボンディング時の加熱温度より融点の高い
絶縁性樹脂を用いる。以下、ポリイミド樹脂を用いた場
合について説明する。例えば、ポリイミド樹脂には、熱
硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との2種類があり、熱硬化性
ポリイミド樹脂を用いる場合は、溶剤に溶かし粘度のあ
る状態で樹脂をポッティングによりダイパッド2、ダイ
パッド2近傍のサポートバー4及びインナーリード3先
端部の両面に、滴下及び塗布する。そして、塗布後、低
温、例えば100℃程度で1時間の1次乾燥を行い、そ
の後、表面にテフロン加工した金型によりリードフレー
ム両面よりプレスし、インナーリード3上の樹脂厚を一
定にする。更に、高温、例えば260℃程度で1時間の
2次乾燥を行い、溶剤を除去し、絶縁性樹脂6を硬化さ
せる(図3(a))。
【0026】その後ダイボンド剤を用いて半導体チップ
1を両面にダイボンドする(図3(b))。
1を両面にダイボンドする(図3(b))。
【0027】一方、熱可塑性のポリイミド樹脂を用いる
場合は、熱硬化性樹脂と同様に、ワニス状に溶かし、こ
れをダイパッド2、ダイパッド2近傍のサポートバー4
及びインナーリード3先端部に塗布し、その後熱を加え
ながら1次乾燥を行い、その後高温の金型によるプレス
を行いながら溶剤を除去する。このとき、金型でインナ
ーリード3上の樹脂厚を一定にする。このように、塗布
した熱可塑性のポリイミド樹脂は、熱を加えることによ
り粘度が下がるので、ダイボンド時は熱を加えることに
よるダイボンド剤として、このポリイミド樹脂を用いる
ことが可能となる。このとき、インナーリード3と半導
体チップ1との間の樹脂厚は、電気的絶縁性を確保する
ため、20〜30μm程度となるように制御する。
場合は、熱硬化性樹脂と同様に、ワニス状に溶かし、こ
れをダイパッド2、ダイパッド2近傍のサポートバー4
及びインナーリード3先端部に塗布し、その後熱を加え
ながら1次乾燥を行い、その後高温の金型によるプレス
を行いながら溶剤を除去する。このとき、金型でインナ
ーリード3上の樹脂厚を一定にする。このように、塗布
した熱可塑性のポリイミド樹脂は、熱を加えることによ
り粘度が下がるので、ダイボンド時は熱を加えることに
よるダイボンド剤として、このポリイミド樹脂を用いる
ことが可能となる。このとき、インナーリード3と半導
体チップ1との間の樹脂厚は、電気的絶縁性を確保する
ため、20〜30μm程度となるように制御する。
【0028】上記絶縁性樹脂6を用いて、ダイパッド
2、ダイパッド近傍のサポートバー4及びインナーリー
ド3先端部を固定し、半導体チップ1とダイパッド2と
のダイボンド実施後にワイヤーボンド技術で半導体チッ
プ1とインナーリード3とを金ワイヤー5を介して接合
を行う(図3(c))。このとき、ワイヤーボンドは、
まず、片側の半導体チップ1に通常の手順でワイヤーボ
ンドを実施した後、半導体チップ1を実装した面を下側
にし、半導体チップ1表面又はダイパッド2端部を支え
ることでワイヤーボンドを実施する。このとき、ワイヤ
ーボンドするインナーリード3は裏面にワイヤーボンド
してある位置より外側で支えるため、ワイヤーボンドす
る位置は上下両面で異なる。また、半導体チップ1との
電気的接続をとるための銀メッキエリアをインナーリー
ド3全体とすることで、チップサイズに応じて、リード
フレームの形状を変更する必要はなく、同一のリードフ
レームで対応することができる。尚、絶縁性樹脂6は、
上記ワイヤーボンディング工程時の加熱温度(250℃
程度)より融点の高い樹脂を選ぶことが望ましい。
2、ダイパッド近傍のサポートバー4及びインナーリー
ド3先端部を固定し、半導体チップ1とダイパッド2と
のダイボンド実施後にワイヤーボンド技術で半導体チッ
プ1とインナーリード3とを金ワイヤー5を介して接合
を行う(図3(c))。このとき、ワイヤーボンドは、
まず、片側の半導体チップ1に通常の手順でワイヤーボ
ンドを実施した後、半導体チップ1を実装した面を下側
にし、半導体チップ1表面又はダイパッド2端部を支え
ることでワイヤーボンドを実施する。このとき、ワイヤ
ーボンドするインナーリード3は裏面にワイヤーボンド
してある位置より外側で支えるため、ワイヤーボンドす
る位置は上下両面で異なる。また、半導体チップ1との
電気的接続をとるための銀メッキエリアをインナーリー
ド3全体とすることで、チップサイズに応じて、リード
フレームの形状を変更する必要はなく、同一のリードフ
レームで対応することができる。尚、絶縁性樹脂6は、
上記ワイヤーボンディング工程時の加熱温度(250℃
程度)より融点の高い樹脂を選ぶことが望ましい。
【0029】更に、このポリイミド樹脂をポッティング
以外に、基材両面にポリイミド樹脂接着剤を塗布したテ
ープ、片面にポリイミド樹脂接着剤を塗布したテープ及
び基材なしでポリイミド樹脂接着剤のみのテープとして
貼り付けることも可能である。熱硬化性接着剤を用いた
場合、テープの片面に接着剤を塗布しておき、接着剤を
塗布した面をリードフレームに貼り付ける。このテープ
をリードフレームの両面に貼り付け、半導体チップ1を
ペーストを用いてダイボンドする。
以外に、基材両面にポリイミド樹脂接着剤を塗布したテ
ープ、片面にポリイミド樹脂接着剤を塗布したテープ及
び基材なしでポリイミド樹脂接着剤のみのテープとして
貼り付けることも可能である。熱硬化性接着剤を用いた
場合、テープの片面に接着剤を塗布しておき、接着剤を
塗布した面をリードフレームに貼り付ける。このテープ
をリードフレームの両面に貼り付け、半導体チップ1を
ペーストを用いてダイボンドする。
【0030】一方、熱可塑性接着剤を用いた場合、この
接着剤をテープの両面に塗布したものをリードフレーム
の両面から接着する。その後、半導体チップ1を熱可塑
性接着剤を用いてダイボンドする。このとき、熱可塑性
のポリイミド樹脂がダイボンド剤の役割も兼ねるので、
ペーストは必要としないが、接着剤を基材の片面にのみ
塗布し、ダイボンドはペーストを用いて行うことも可能
である。また、基材を用いないテープを使用した場合で
も、基材有りの場合と同様熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹
脂を使用することが可能である。これらのテープは、2
50℃〜300℃でツールで押し付けることにより貼り
付ける。また、テープを使用した場合、テープ貼り付け
時にリードフレーム両面から表面にテフロン加工を施し
た金型でプレスすることによりインナーリード3間の隙
間を絶縁性樹脂6で埋める。
接着剤をテープの両面に塗布したものをリードフレーム
の両面から接着する。その後、半導体チップ1を熱可塑
性接着剤を用いてダイボンドする。このとき、熱可塑性
のポリイミド樹脂がダイボンド剤の役割も兼ねるので、
ペーストは必要としないが、接着剤を基材の片面にのみ
塗布し、ダイボンドはペーストを用いて行うことも可能
である。また、基材を用いないテープを使用した場合で
も、基材有りの場合と同様熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹
脂を使用することが可能である。これらのテープは、2
50℃〜300℃でツールで押し付けることにより貼り
付ける。また、テープを使用した場合、テープ貼り付け
時にリードフレーム両面から表面にテフロン加工を施し
た金型でプレスすることによりインナーリード3間の隙
間を絶縁性樹脂6で埋める。
【0031】その後、封止樹脂7でモールドし(図3
(d))、アウターリードの成形等行い樹脂封止型半導
体装置を完成する(図3(e))。
(d))、アウターリードの成形等行い樹脂封止型半導
体装置を完成する(図3(e))。
【0032】図2に示す本発明の第2の実施例のよう
に、ダイパッドを持たずインナーリード3のみのフラッ
トなリードフレームを用い、パッケージの中央部に上述
の絶縁性樹脂6を塗布する又は、テープとして貼り付け
インナーリード3先端部を固定する。そして、この絶縁
性樹脂6を介してリードフレームの両面に半導体チップ
1を搭載する構成としても、上記第1の実施例と同様の
効果を奏する。
に、ダイパッドを持たずインナーリード3のみのフラッ
トなリードフレームを用い、パッケージの中央部に上述
の絶縁性樹脂6を塗布する又は、テープとして貼り付け
インナーリード3先端部を固定する。そして、この絶縁
性樹脂6を介してリードフレームの両面に半導体チップ
1を搭載する構成としても、上記第1の実施例と同様の
効果を奏する。
【0033】また、図4に示すように、リードフレーム
の両面に各々複数の半導体チップ1を搭載することも可
能であり、また、図5に示すようにリードフレームの両
面で、半導体チップ1の搭載状態が非対称である場合、
絶縁性樹脂6の塗布領域をリードフレームの各面で変更
する必要がある。
の両面に各々複数の半導体チップ1を搭載することも可
能であり、また、図5に示すようにリードフレームの両
面で、半導体チップ1の搭載状態が非対称である場合、
絶縁性樹脂6の塗布領域をリードフレームの各面で変更
する必要がある。
【0034】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように請求項1及
び請求項2に記載の本発明を用いることにより、樹脂に
よる封止時のダイパッド及びインナーリード変形を防止
し、金ワイヤーや半導体チップの露出による歩留りの低
下を抑制することができるという効果を奏する。
び請求項2に記載の本発明を用いることにより、樹脂に
よる封止時のダイパッド及びインナーリード変形を防止
し、金ワイヤーや半導体チップの露出による歩留りの低
下を抑制することができるという効果を奏する。
【0035】また、請求項3に記載の本発明を用いるこ
とにより、上記効果の他に同一パッケージサイズで大型
のチップサイズの半導体チップを搭載することが可能に
なり、従来より、大容量化・低価格化が図れる、更に、
リードフレームがチップサイズによって変える必要がな
いため、多種類のチップサイズのものに同一のリードフ
レームで対応でき、チップサイズの違いによる新規リー
ドフレームの作成費用の低減が図れるという効果を奏す
る。
とにより、上記効果の他に同一パッケージサイズで大型
のチップサイズの半導体チップを搭載することが可能に
なり、従来より、大容量化・低価格化が図れる、更に、
リードフレームがチップサイズによって変える必要がな
いため、多種類のチップサイズのものに同一のリードフ
レームで対応でき、チップサイズの違いによる新規リー
ドフレームの作成費用の低減が図れるという効果を奏す
る。
【図1】(a)は本発明の第1の実施例の樹脂封止型半
導体装置の平面図であり、(b)は本発明の第1の実施
例の樹脂封止型半導体装置の断面図である。
導体装置の平面図であり、(b)は本発明の第1の実施
例の樹脂封止型半導体装置の断面図である。
【図2】(a)は本発明の第2の実施例の樹脂封止型半
導体装置の平面図であり、(b)は本発明の第2の実施
例の樹脂封止型半導体装置の断面図である。
導体装置の平面図であり、(b)は本発明の第2の実施
例の樹脂封止型半導体装置の断面図である。
【図3】本発明の第1の実施例の樹脂封止型半導体装置
の製造工程図である。
の製造工程図である。
【図4】本発明の第3の実施例の樹脂封止型半導体装置
の断面図である。
の断面図である。
【図5】本発明の第4の実施例の樹脂封止型半導体装置
の断面図である。
の断面図である。
【図6】第1の従来の樹脂封止型半導体装置の断面図で
ある。
ある。
【図7】第2の従来の樹脂封止型半導体装置の断面図で
ある。
ある。
【図8】第3の従来の樹脂封止型半導体装置の断面図で
ある。
ある。
【図9】第4の従来の樹脂封止型半導体装置の断面図で
ある。
ある。
1 半導体チップ 2 ダイパッド 3 インナーリード 4 サポートバー 5 金ワイヤー 6 絶縁性樹脂 7 封止樹脂
Claims (3)
- 【請求項1】 ダイパッドの両面に搭載された複数の半
導体チップがワイヤーボンディングによりインナーリー
ドと電気的に接続されている樹脂封止型半導体装置にお
いて、 上記ダイパッド、該ダイパッド近傍のサポートバー及び
上記インナーリード先端部のそれぞれの両面に、上記半
導体チップの回路形成面と反対の面が、ワイヤーボンデ
ィング工程時の加熱温度より融点の高い絶縁性樹脂を介
して固定されていることを特徴とする樹脂封止型半導体
装置。 - 【請求項2】 複数の半導体チップがワイヤーボンディ
ングによりインナーリードと電気的に接続されている樹
脂封止型半導体装置において、 上記インナーリード先端部の両面に、上記半導体チップ
の回路形成面と反対の面が、ワイヤーボンディング工程
時の加熱温度より融点の高い絶縁性樹脂を介して固定さ
れていることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項3】 上記インナーリード全体に銀メッキが施
されていることを特徴とする、請求項1又は請求項2記
載の樹脂封止型半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6290259A JP2972096B2 (ja) | 1994-11-25 | 1994-11-25 | 樹脂封止型半導体装置 |
US08/455,626 US5646829A (en) | 1994-11-25 | 1995-05-31 | Resin sealing type semiconductor device having fixed inner leads |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6290259A JP2972096B2 (ja) | 1994-11-25 | 1994-11-25 | 樹脂封止型半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08148644A JPH08148644A (ja) | 1996-06-07 |
JP2972096B2 true JP2972096B2 (ja) | 1999-11-08 |
Family
ID=17753826
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6290259A Expired - Fee Related JP2972096B2 (ja) | 1994-11-25 | 1994-11-25 | 樹脂封止型半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5646829A (ja) |
JP (1) | JP2972096B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2603102B2 (ja) * | 1988-05-12 | 1997-04-23 | イビデン株式会社 | 電子部品搭載用基板の製造方法 |
JP2691352B2 (ja) * | 1988-08-24 | 1997-12-17 | イビデン株式会社 | 電子部品塔載装置 |
JPH02105450A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-18 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH02302069A (ja) * | 1989-05-16 | 1990-12-14 | Nec Corp | 混成集積回路装置 |
JPH02304961A (ja) * | 1989-05-19 | 1990-12-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
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-
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- 1994-11-25 JP JP6290259A patent/JP2972096B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1995
- 1995-05-31 US US08/455,626 patent/US5646829A/en not_active Expired - Lifetime
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US5646829A (en) | 1997-07-08 |
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