JP2018017888A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. ガラス板と、
   シリカを主成分とするバインダー、前記バインダーによって固定されたシリカ微粒子、及び前記バインダーによって固定されたチタニア微粒子を含み、前記ガラス板の一方の主面の少なくとも一部に形成された低反射コーティングと、を備え、
   前記低反射コーティングにおける、前記シリカ微粒子の含有率、前記チタニア微粒子の含有率、及び前記バインダーにおけるシリカの含有率を、それぞれ、Ｃ_SP質量％、Ｃ_TP質量％、及びＣ_Binder質量％と定義したとき、前記低反射コーティングは以下の関係を満たし、
   ３０質量％＜Ｃ_SP＜６８質量％、
   １２質量％≦Ｃ_TP＜５０質量％、
   ２０質量％＜Ｃ_Binder＜４３．７５質量％、
   Ｃ_TP／Ｃ_Binder≧０．６、
   Ｃ_SP≧５５質量％であるときにＣ_Binder＜２５質量％、及び
   Ｃ_SP＜５５質量％であるときにＣ_TP＞２０質量％
   当該低反射コーティング付ガラス板における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率から前記低反射コーティングが形成されていない前記ガラス板における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率を差し引いた透過率ゲインが２．０％以上である、
   低反射コーティング付ガラス板。
2. 前記低反射コーティングは、Ｃ_TP／Ｃ_Binder＞０．８の関係をさらに満たす、請求項１に記載の低反射コーティング付ガラス板。
3. 前記低反射コーティングは、以下の関係をさらに満たす、請求項１又は２に記載の低反射コーティング付ガラス板。
   ３０質量％＜Ｃ_SP≦６５質量％、
   １５質量％≦Ｃ_TP≦４０質量％、及び
   ２０質量％＜Ｃ_Binder≦３０質量％
4. 前記低反射コーティングは、以下の関係をさらに満たす、請求項１〜３のいずれか１項に記載の低反射コーティング付ガラス板。
   ３５質量％≦Ｃ_SP≦６０質量％、
   １５質量％≦Ｃ_TP≦４０質量％、及び
   ２０質量％＜Ｃ_Binder＜２５質量％
5. 前記低反射コーティングの、日本工業規格（JIS）R 1703-1:2007に定められた水に対する限界接触角が５°以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の低反射コーティング付ガラス板。
6. JIS R 1703-1:2007に準拠して、前記低反射コーティングにオレイン酸を塗布した後に１.０ｍＷ／ｃｍ²の強度の紫外線を照射したときに、前記紫外線の照射開始から前記低反射コーティングにおける水の接触角が５°になるまでの時間が４０時間以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の低反射コーティング付ガラス板。
7. 低反射コーティング付基材を製造する方法であって、
   前記低反射コーティング付基材は、
   基材と、
   シリカを主成分とするバインダー、前記バインダーによって固定されたシリカ微粒子、及び前記バインダーによって固定されたチタニア微粒子を含み、前記基材の一方の主面の少なくとも一部に形成された低反射コーティングと、を備え、
   前記低反射コーティングにおける、前記シリカ微粒子の含有率、前記チタニア微粒子の含有率、及び前記バインダーにおけるシリカの含有率を、それぞれ、Ｃ_SP質量％、Ｃ_TP質量％、及びＣ_Binder質量％と定義したとき、前記低反射コーティングは以下の関係を満たし、
   ３０質量％＜Ｃ_SP＜６８質量％、
   １２質量％≦Ｃ_TP＜５０質量％、
   ２０質量％＜Ｃ_Binder＜４３．７５質量％、
   Ｃ_TP／Ｃ_Binder≧０．６、
   Ｃ_SP≧５５質量％であるときにＣ_Binder＜２５質量％、及び
   Ｃ_SP＜５５質量％であるときにＣ_TP＞２０質量％
   当該低反射コーティング付基材における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率から前記低反射コーティングが形成されていない前記基材における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率を差し引いた透過率ゲインが２．０％以上であり、
   コーティング液を前記基材に塗布してコーティング膜を形成し、前記コーティング膜を乾燥及び硬化させて前記低反射コーティングを形成し、
   前記コーティング膜を乾燥及び硬化させるときの前記基材の表面の最高温度が１２０℃以上３５０℃以下である、
   方法。
8. 前記コーティング膜を乾燥及び硬化させるときの前記基材の表面の温度が２００℃以上である時間が５分以下である、請求項７に記載の方法。
9. 前記コーティング膜を乾燥及び硬化させるときの前記基材の表面の温度が１２０℃以上である時間が３分以下である、請求項７に記載の方法。
10. 前記コーティング液は、シリカ微粒子、チタニア微粒子、前記バインダーの原料、及び溶媒を含み、
    前記バインダーの原料は、シリコンアルコキシドを含み、
    前記溶媒は、水と混和し、かつ、１５０℃以下の沸点を有する有機溶媒を主成分として含む、請求項７〜９のいずれか１項に記載の方法。
11. 低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液であって、
    前記低反射コーティングは、シリカを主成分とするバインダー、前記バインダーによって固定されたシリカ微粒子、及び前記バインダーによって固定されたチタニア微粒子を含み、前記基材の一方の主面の少なくとも一部に形成されており、
    前記低反射コーティングにおける、前記シリカ微粒子の含有率、前記チタニア微粒子の含有率、及び前記バインダーにおけるシリカの含有率を、それぞれ、Ｃ_SP質量％、Ｃ_TP質量％、及びＣ_Binder質量％と定義したとき、前記低反射コーティングは以下の関係を満たし、
    ３０質量％＜Ｃ_SP＜６８質量％、
    １２質量％≦Ｃ_TP＜５０質量％、
    ２０質量％＜Ｃ_Binder＜４３．７５質量％、
    Ｃ_TP／Ｃ_Binder≧０．６、
    Ｃ_SP≧５５質量％であるときにＣ_Binder＜２５質量％、及び
    Ｃ_SP＜５５質量％であるときにＣ_TP＞２０質量％
    当該低反射コーティング付ガラス板における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率から前記低反射コーティングが形成されていない前記ガラス板における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率を差し引いた透過率ゲインが２．０％以上であり、
    当該コーティング液は、シリカ微粒子、チタニア微粒子、前記バインダーの原料、及び溶媒を含み、
    前記バインダーの原料は、シリコンアルコキシドを含み、
    前記溶媒は、水と混和し、かつ、１５０℃以下の沸点を有する有機溶媒を主成分として含む、
    コーティング液。
12. 前記シリコンアルコキシドの加水分解触媒として酸解離定数ｐＫａが２．５以下である酸をさらに含む、請求項１１に記載のコーティング液。