ES2868829T3

ES2868829T3 - Lámina de vidrio con revestimiento de baja reflexión, método para producir base con revestimiento de baja reflexión, y líquido de revestimiento para formar revestimiento de baja reflexión de base con revestimiento de baja reflexión

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Publication number: ES2868829T3
Application number: ES17833997T
Authority: ES
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 2016-07-28
Filing date: 2017-07-07
Publication date: 2021-10-22
Anticipated expiration: 2037-07-07
Also published as: WO2018020989A1; US11442200B2; CL2019000205A1; BR112019001437A2; EP3492953A4; JP2018017888A; EP3492953B1; CN109791221B; BR112019001437A8; EP3492953A1; CN109791221A; JP6650368B2; US20190162877A1

Abstract

Una lámina de vidrio con revestimiento de baja reflexión que comprende: una lámina de vidrio; y un revestimiento de baja reflexión formado en al menos una parte de la superficie principal de la lámina de vidrio, comprendiendo el revestimiento de baja reflexión un aglutinante que contiene sílice como componente principal, partículas finas de sílice unidas por el aglutinante y partículas finas de titania unidas por el aglutinante, caracterizada porque el revestimiento de baja reflexión satisface las siguientes relaciones cuando el contenido de partículas finas de sílice en el revestimiento de baja reflexión, el contenido de partículas finas de titania en el revestimiento de baja reflexión y el contenido de sílice del aglutinante en el revestimiento de reflexión se define como % en masa de CSP, % en masa de CTP y % en masa de CAglutinante, respectivamente: 30% en masa <CSP < 68% en masa; 12% en masa <= CTP < 50% en masa; 20% en masa < CAglutinante < 43,75% en masa; CTP/CAglutinante >= 0,6; CAglutinante < 25% en masa en el caso de CSP >= 55% en masa; y CTP > 20% en masa en el caso de CSP < 55% en masa, y la lámina de vidrio revestida de baja reflexión tiene una ganancia de transmitancia de 2,0% o más, la ganancia de transmitancia se determina restando una transmitancia de luz promedio de la lámina de vidrio sin el revestimiento de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm de una transmitancia de luz promedio de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm.

Description

DESCRIPCIÓN

Lámina de vidrio con revestimiento de baja reflexión, método para producir base con revestimiento de baja reflexión, y líquido de revestimiento para formar revestimiento de baja reflexión de base con revestimiento de baja reflexión Campo técnico

La presente invención se refiere a una lámina de vidrio revestida de baja reflexión y a un método para producir un sustrato revestido de baja reflexión.

Técnica anterior

Es una práctica convencional formar un revestimiento de baja reflexión sobre una lámina de vidrio con el fin de mejorar la función de la lámina de vidrio, tal como aumentar la cantidad de luz que se transmite a través de la lámina de vidrio o permitir la prevención del deslumbramiento. Una lámina de vidrio revestida de baja reflexión que incluye una lámina de vidrio y un revestimiento de baja reflexión formado sobre la lámina de vidrio se utiliza, por ejemplo, en un dispositivo de conversión fotoeléctrica tal como una célula solar de película delgada. En este caso, la colocación del revestimiento de baja reflexión sobre el lado de la luz solar incidente de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión permite que se introduzca más luz solar en la capa de conversión fotoeléctrica o elemento de célula solar del dispositivo de conversión fotoeléctrica. Esto puede dar como resultado un aumento en la electricidad generada por el dispositivo de conversión fotoeléctrica.

Por ejemplo, la Bibliografía de Patentes 1 describe un vidrio protector para dispositivos de conversión fotoeléctrica que tiene una película reductora de la reflexión. Este vidrio protector que tiene la película reductora de la reflexión se produce aplicando un líquido de revestimiento que contiene partículas finas de sílice y un compuesto como fuente de aglutinante a una lámina de vidrio que tiene ciertas asperezas superficiales mediante pulverización, seguido de secado y sinterización. La transmitancia de luz media de este vidrio protector en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 1100 nm se puede aumentar en 2,37% o más, en comparación con la de una lámina de vidrio que no tiene película reductora de la reflexión.

La Bibliografía de Patentes 2 describe un sustrato de vidrio que incluye una lámina de vidrio y una capa antirreflectante porosa formada sobre la lámina de vidrio. Este sustrato de vidrio se produce depositando una mezcla para imprimar en una superficie de una lámina de vidrio ultra transparente mediante revestimiento por inmersión, a continuación, secando la mezcla sobre la lámina de vidrio para obtener un sustrato, a continuación, depositando una mezcla sobre el sustrato mediante revestimiento por inmersión, y sometiendo finalmente el sustrato a un determinado tratamiento térmico. La mezcla para imprimación se prepara añadiendo tetraetoxisilano (TEOS) y acetilacetonato de circonio a una solución dada. La mezcla se prepara añadiendo tetraetoxisilano (TEOS), acetilacetonato de aluminio y sílice coloidal a una solución dada. Se ha observado que este sustrato de vidrio exhibe un aumento de 2,2% a 2,6% en la transmitancia de luz en el intervalo de longitud de onda de 300 nm a 1100 nm. La Bibliografía de Patentes 3 describe una composición de revestimiento preparada utilizando un sol de sílice disperso en PGME y una solución aglutinante. El sol de sílice disperso con PGME se prepara añadiendo monometil éter de propilenglicol (PGME) a una dispersión de sílice, y la solución de aglutinante es una que se prepara mezclando tetraetoxisilano y nitrato de aluminio no hidratado. En el sol de sílice dispersa con PGME se utiliza una dispersión acuosa de sílice coloidal que tiene un diámetro de partícula dispersa mayor que un diámetro medio de partícula primaria. Un revestimiento obtenido mediante el uso de esta composición de revestimiento tiene un índice de refracción de 1,2656 a 1,2960 a una longitud de onda de 633 nm. La Bibliografía de Patentes 4 y 5 describen artículos de vidrio con una reflectancia reducida de la luz incidente sobre una lámina de vidrio debido a una película de fotocatalizador que contiene partículas de óxido de silicio, partículas de óxido de titanio y un aglutinante compuesto por un componente de óxido de silicio.

LISTA DE REFERENCIAS

Bibliografía de patentes

Bibliografía de patentes 1: JP 2014-032248 A

Bibliografía de patentes 2: JP 2013-537873 A

Bibliografía de patentes 3: JP 2014-015543 A

Bibliografía de patentes 4: EP 2468694

Bibliografía de patentes 5: EP 2810924

Problema técnico

Una propiedad llamada "ganancia de transmitancia" es importante para las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión. El término "ganancia de transmitancia" se utiliza, con relación a la transmitancia de luz promedio en un intervalo de longitud de onda predeterminado, para referirse a un aumento en la transmitancia promedio provocado por la formación de un revestimiento de baja reflexión. Específicamente, la ganancia de transmitancia se determina restando una transmitancia de luz promedio de una lámina de vidrio sin un revestimiento de baja reflexión en un intervalo de longitud de onda predeterminado de una transmitancia de luz promedio de la lámina de vidrio provista del revestimiento de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda predeterminado.

Dependiendo del entorno en el que se utilice la lámina de vidrio revestida de baja reflexión, puede ser deseable que el revestimiento de baja reflexión de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión muestre una alta actividad fotocatalítica. Sin embargo, las Bibliografías de Patentes 1 a 3 no proporcionan ninguna discusión particular sobre la actividad fotocatalítica de los revestimientos de baja reflexión de las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión. Por lo tanto, un objeto de la presente invención es proporcionar una nueva lámina de vidrio revestida de baja reflexión que tenga una alta ganancia de transmitancia y sea capaz de exhibir una alta actividad fotocatalítica.

Solución al problema

La presente invención proporciona una lámina de vidrio revestida de baja reflexión que incluye:

una lámina de vidrio; y

un revestimiento de baja reflexión formado en al menos una parte de la superficie principal de la lámina de vidrio, incluyendo el revestimiento de baja reflexión un aglutinante que contiene sílice como componente principal, partículas finas de sílice unidas por el aglutinante y partículas finas de titania unidas por el aglutinante, en donde

el revestimiento de baja reflexión satisface las siguientes relaciones cuando el contenido de partículas finas de sílice en el revestimiento de baja reflexión, el contenido de partículas finas de titania en el revestimiento de baja reflexión y el contenido de sílice del aglutinante en el revestimiento de baja reflexión se define como % en masa de Csp, % en masa de Ctp y % en masa de CAglutinante, respectivamente:

30% en masa < Csp < 68% en masa;

12% en masa < C^tp<50% en masa;

20% en masa <CAglutinante <43,75% en masa;

CTP/CAglutinante — 0,6;

CAglutinante < 25% en masa en el caso de Csp — 55% en masa; y

C^tp> 20% en masa en el caso de C^sp<55% en masa, y

la lámina de vidrio revestida de baja reflexión tiene una ganancia de transmitancia de 2,0% o más, determinándose la ganancia de transmitancia restando una transmitancia de luz promedio de la lámina de vidrio sin el revestimiento de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm de una transmitancia de luz promedio de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm.

La presente invención también proporciona un método para producir un sustrato revestido de baja reflexión,

incluyendo el sustrato revestido de baja reflexión:

un sustrato; y

un revestimiento de baja reflexión formado en al menos una parte de la superficie principal del sustrato, incluyendo el revestimiento de baja reflexión un aglutinante que contiene sílice como componente principal, partículas finas de sílice unidas por el aglutinante y partículas finas de titania unidas por el aglutinante, en donde

el revestimiento de baja reflexión satisface las siguientes relaciones cuando el contenido de partículas finas de sílice en el revestimiento de baja reflexión, el contenido de partículas finas de titania en el revestimiento de baja reflexión y el contenido de sílice del aglutinante en el revestimiento de baja reflexión se define como % en masa de C^sp, % en masa de C^tpy % en masa de CAglutinante, respectivamente:

30% en masa < C^sp< 68% en masa;

12% en masa < Ctp < 50% en masa;

20% en masa < CAglutinante < 43,75% en masa;

CTP/CAglutinante — 0,6;

CAglutinante < 25% en masa en el caso de Csp — 55% en masa; y

Ctp > 20% en masa en el caso de Csp <55% en masa, y

el sustrato revestido de baja reflexión tiene una ganancia de transmitancia de 2,0% o más, determinándose la ganancia de transmitancia restando la transmitancia de luz promedio del sustrato no provisto del revestimiento de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm de un promedio transmitancia de luz del sustrato revestido de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm,

incluyendo el método: formar una película de revestimiento aplicando un líquido de revestimiento al sustrato; y formar el revestimiento de baja reflexión secando y curando la película de revestimiento, en donde la temperatura máxima alcanzada por una superficie del sustrato durante el secado y curado de la película de revestimiento es 120°C o más y 350°C o menos.

Efectos ventajosos de la invención

Una lámina de vidrio revestida de baja reflexión de la presente invención tiene una alta ganancia de transmitancia y es capaz de exhibir una alta actividad fotocatalítica.

DESCRIPCIÓN DE REALIZACIONES

Una lámina de vidrio revestida de baja reflexión según la presente invención incluye una lámina de vidrio y un revestimiento de baja reflexión. El revestimiento de baja reflexión incluye un aglutinante que contiene sílice como componente principal, partículas finas de sílice unidas por el aglutinante y partículas finas de titania unidas por el aglutinante. El revestimiento de baja reflexión se forma en al menos una parte de la superficie principal de la lámina de vidrio. El contenido de partículas finas de sílice en el revestimiento de baja reflexión, el contenido de partículas finas de titania en el revestimiento de baja reflexión y el contenido de sílice del aglutinante en el revestimiento de baja reflexión se definen como % en masa de C^sp, % en masa de C^tpy % en masa de CAglutinante, respectivamente. El revestimiento de baja reflexión satisface las siguientes relaciones: 30% en masa < C^sp< 68% en masa; 12% en masa < C^tp< 50% en masa; 20% en masa < CAglutinante < 43,75% en masa; CTp/CAglutinante ^ 0,6; CAglutinante < 25% en masa en el caso de C^sp^ 55% en masa; y C^tp> 20% en masa en el caso de C^sp< 55% en masa. La lámina de vidrio revestida de baja reflexión tiene una ganancia de transmitancia de 2,0% o más, la ganancia de transmitancia se determina restando una transmitancia de luz promedio de la lámina de vidrio sin el revestimiento de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm de una transmitancia de luz promedio de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm. Por tanto, la lámina de vidrio revestida de baja reflexión tiene una alta ganancia de transmitancia y es capaz de exhibir una alta actividad fotocatalítica tras la irradiación de luz. El "componente principal" como se describe en la presente memoria se refiere a un componente cuyo contenido es más alto en base a la masa. Las "partículas finas" como se describen en la presente memoria se refieren a partículas que tienen un diámetro medio de partículas de menos de 1 pm. El "diámetro medio de partícula" como se describe en la presente memoria se determina observando una sección transversal del revestimiento de baja reflexión con un microscopio electrónico de barrido (SEM). Específicamente, se seleccionan al azar 50 partículas, la totalidad de cada una de las cuales es observable, se miden los diámetros más grande y más pequeño de cada partícula, el promedio de los diámetros más grande y más pequeño se determina como el diámetro de partícula de la partícula, y el promedio de los diámetros de partícula de las 50 partículas se determinan como el "diámetro medio de partícula".

Se puede considerar que, si el contenido de un aglutinante que contiene sílice como componente principal es alto en un revestimiento de baja reflexión, las partículas finas de titania quedan cubiertas por el aglutinante, y esto hace que sea difícil lograr una alta actividad fotocatalítica. Además, un alto contenido de un aglutinante que contiene sílice como componente principal en un revestimiento de baja reflexión de una lámina de vidrio revestida de baja reflexión puede parecer desventajoso para aumentar la ganancia de transmitancia de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión. Por tanto, el contenido de un aglutinante que contiene sílice como componente principal en un revestimiento de baja reflexión se controla habitualmente a 20% en masa o menos. Sin embargo, los autores de la presente invención hicieron sorprendentemente nuevos descubrimientos consistentes en que una lámina de vidrio revestida de baja reflexión puede tener una alta ganancia de transmitancia y exhibir una alta actividad fotocatalítica incluso cuando el contenido de sílice en un aglutinante contenido en un revestimiento de baja reflexión de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión se incrementa al 20% en masa o más. Un alto contenido de sílice de un aglutinante en un revestimiento de baja reflexión es ventajoso para aumentar la resistencia mecánica del revestimiento de baja reflexión. Basándose en los nuevos descubrimientos, los autores de la presente invención llevaron a cabo estudios intensivos para descubrir las condiciones que permiten que una lámina de vidrio revestida de baja reflexión que tiene un revestimiento de baja reflexión que contiene un aglutinante tenga una alta ganancia de transmitancia y exhiba una alta actividad fotocatalítica junto con un mayor contenido de sílice del aglutinante en el revestimiento de baja reflexión. En consecuencia, los autores de la presente invención, basándose en los nuevos descubrimientos anteriores, han inventado la lámina de vidrio revestida de baja reflexión según la presente invención.

Para asegurar que la lámina de vidrio revestida de baja reflexión tenga una alta ganancia de transmitancia y sea capaz de exhibir una alta actividad fotocatalítica, es deseable que la capa de baja reflexión satisfaga adicionalmente la relación CTp/CAglutinante > 0,8.

Para asegurar que la lámina de vidrio revestida de baja reflexión tenga una alta ganancia de transmitancia y sea capaz de exhibir una alta actividad fotocatalítica, es deseable que el revestimiento de baja reflexión satisfaga las relaciones de 30% en masa < C^sp< 65% en masa, 15% en masa < C^tp< 40% en masa y 20% en masa < CAglutinante < 30% en masa.

Para asegurar que la lámina de vidrio revestida de baja reflexión tenga una alta ganancia de transmitancia y sea capaz de exhibir una alta actividad fotocatalítica, es más deseable que el revestimiento de baja reflexión satisfaga las relaciones de 35% en masa < Csp < 60% en masa, 15% en masa < Ctp < 40% en masa y 20% en masa < CAglutinante < 25% en masa.

Por ejemplo, el ángulo de contacto crítico del agua en el revestimiento de baja reflexión, como se define en las Normas Industriales Japonesas (JIS) R 1703-1: 2007, es de 5° o menos. Por tanto, el revestimiento de baja reflexión tiene una propiedad que permite eliminar fácilmente la suciedad adherida al revestimiento de baja reflexión.

Para la lámina de vidrio revestida de baja reflexión según la presente invención, el tiempo tc es de 40 horas o menos, por ejemplo. El tiempo tc es un parámetro medido de acuerdo con JIS R 1703-1: 2007 aplicando ácido oleico al revestimiento de baja reflexión e irradiando el revestimiento con luz ultravioleta a una intensidad de 1,0 mW/cm2 y se refiere a un período de tiempo desde el inicio de la irradiación ultravioleta hasta el punto en el que el ángulo de contacto del agua sobre el revestimiento de baja reflexión alcanza 5°. Un tiempo tc más corto indica que la lámina de vidrio revestida de baja reflexión puede exhibir una mayor actividad fotocatalítica. Por tanto, la lámina de vidrio revestida de baja reflexión según la presente invención puede exhibir una alta actividad fotocatalítica que se distingue por un tiempo tc de 40 horas o menos.

El aglutinante puede contener, por ejemplo, un compuesto de aluminio además de sílice. Cuando el revestimiento de baja reflexión contiene un compuesto de aluminio, el compuesto de aluminio se obtiene preferiblemente a partir de un compuesto de aluminio inorgánico soluble en agua añadido a un líquido de revestimiento para formar el revestimiento de baja reflexión y se obtiene más preferiblemente a partir de un haluro de aluminio, nitrato de aluminio, o fosfato de aluminio. Un haluro de aluminio preferido en este caso es el cloruro de aluminio. El contenido de compuesto de aluminio en el revestimiento de baja reflexión, calculado suponiendo que el compuesto de aluminio es AhO³, es, por ejemplo, de 2 a 7% en masa y preferiblemente de 4 a 7% en masa. Cuando el revestimiento de baja reflexión contiene un compuesto de aluminio en tal cantidad, el revestimiento de baja reflexión tiende a tener una resistencia química mejorada.

En el revestimiento de baja reflexión de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión según la presente invención pueden estar contenidos otros aditivos. Los ejemplos de los otros aditivos incluyen un compuesto de titanio, un compuesto de circonio, un compuesto de zinc y un compuesto de niobio. La inclusión de dicho aditivo puede, por ejemplo, aumentar la resistencia química del revestimiento de baja reflexión, tal como la resistencia del revestimiento de baja reflexión a los álcalis. El revestimiento de baja reflexión también puede contener, por ejemplo, de 0,1 a 5% en masa de un compuesto de fósforo calculado como P²O⁵.

Se puede utilizar un compuesto de silicio hidrolizable, tal como un alcóxido de silicio, como fuente de sílice en el aglutinante. El alcóxido de silicio utilizado en este caso puede ser, por ejemplo, tetrametoxisilano, tetraetoxisilano o tetraisopropoxisilano. También es posible utilizar un alcóxido de silicio trifuncional o difuncional, ejemplos de los cuales incluyen metiltrimetoxisilano, metiltrietoxisilano, dimetildietoxisilano, dietildietoxisilano, feniltrietoxisilano, glicidoxialquiltrialcoxisilano (tal como 3-glicidoxipropiltrimetoxisilano), otros epoxisilanos, acrilsilanos, metacrilsilanos y aminosilanos. La sílice del aglutinante se forma mediante un procedimiento sol-gel que hace que dicho compuesto de silicio hidrolizable experimente hidrólisis y policondensación.

El revestimiento de baja reflexión reduce la reflexión de la luz, debido a que contiene partículas finas de sílice. Con el fin de que la lámina de vidrio revestida de baja reflexión tenga una alta ganancia de transmitancia, es deseable que se formen espacios de tamaño apropiado entre las partículas finas de sílice adyacentes. Desde este punto de vista, por ejemplo, se satisface 30% en masa < Csp < 68% en masa, y se satisface deseablemente 30% en masa < C^sp< 65% en masa, y se satisface deseablemente 35% en masa < C^sp< 60% en masa.

Las finas partículas de sílice contenidas en el revestimiento de baja reflexión son sólidas (no porosas) y sustancialmente esféricas. Cuando una partícula fina se describe como "sustancialmente esférica", esto significa que la relación entre el diámetro mayor y el diámetro menor (diámetro mayor/diámetro menor) de la partícula fina como se observa con un SEM es 1,5 o menos. En el revestimiento de baja reflexión, por ejemplo, las partículas finas de sílice pueden estar completamente encerradas por el aglutinante. Sin embargo, es deseable que las partículas finas de sílice contenidas en el revestimiento de baja reflexión tengan al menos una parte expuesta fuera del aglutinante, en lugar de estar completamente encerradas por el aglutinante. Para que las partículas finas de sílice se unan firmemente al aglutinante en el revestimiento de baja reflexión, el diámetro medio de las partículas finas de sílice es deseablemente de 600 nm o menos, más deseablemente de 500 nm o menos, e incluso más deseablemente de 150 nm o menos. Para evitar que las partículas finas de sílice se agreguen en el revestimiento de baja reflexión, el diámetro medio de partícula de las partículas finas de sílice es deseablemente de 30 nm o más y más deseablemente de 70 nm o más.

En virtud de que las partículas finas de titania están contenidas en el revestimiento de baja reflexión, la lámina de vidrio revestida de baja reflexión puede exhibir actividad fotocatalítica tras la irradiación de luz. Para que se muestre la actividad fotocatalítica, el revestimiento de baja reflexión debe contener partículas finas de titania en una cantidad apropiada. Desde este punto de vista, por ejemplo, se satisface 12% en masa < C^tp< 50% en masa, se satisface deseablemente 15% en masa < Ctp < 40% en masa, y se satisface más deseablemente 15% en masa < Ctp < 40% en masa.

Las partículas finas de titania contenidas en el revestimiento de baja reflexión son sólidas (no porosas) y sustancialmente esféricas. La inclusión de partículas finas de titania en el revestimiento de baja reflexión confiera propiedades fotocatalíticas al revestimiento de baja reflexión. Además, debido a que contiene las partículas finas de titania, el revestimiento de baja reflexión exhibe un efecto hidrófilo cuando se irradia con luz que tiene una longitud de onda predeterminada (400 nm o menos, por ejemplo). En un aspecto, el diámetro medio de partícula de las partículas finas de sílice es deseablemente cinco o más veces el diámetro medio de partícula de las partículas finas de titania. En este caso, las partículas finas de titania pueden entrar suficientemente en los espacios formados por las superficies de las partículas finas de sílice adyacentes y la única superficie principal de la lámina de vidrio. Además, en este caso, es probable que la lámina de vidrio revestida de baja reflexión mantenga su capacidad para exhibir propiedades fotocatalíticas y el carácter hidrófilo tras la irradiación de luz. Para que las partículas finas de titania entren más fácilmente en la región del revestimiento de baja reflexión que está en contacto con la única superficie principal de la lámina de vidrio, el diámetro medio de partículas de las partículas finas de titania es, por ejemplo, 50 nm o menos, deseablemente 30 nm o menos, y más deseablemente 20 nm o menos. Para que las partículas finas de titania se dispersen uniformemente en un líquido de revestimiento para formar el revestimiento de baja reflexión, el diámetro medio de partículas de las partículas finas de titania es, por ejemplo, 3 nm o más y deseablemente 5 nm o más. En otro aspecto, el diámetro medio de partícula de las partículas finas de sílice está, por ejemplo, en el intervalo de dos a nueve veces el diámetro medio de las partículas finas de titania, y es deseablemente siete o menos veces el diámetro medio de las partículas finas de titania. Esto proporciona una mejora en la durabilidad de la película junto con la retención de suficiente actividad fotocatalítica. Si la razón (diámetro medio de partícula de partículas finas de sílice/diámetro medio de partícula de partículas finas de titania) es excesivamente grande, es probable que el aglutinante, mediante una fuerza capilar, se introduzca en los espacios entre las partículas finas de titania en la película, por lo que la cantidad de aglutinante que participa en la unión a las partículas finas de sílice o la lámina de vidrio se reduce y que la película tienda a tener baja durabilidad. Si la razón es pequeña, el aglutinante se puede distribuir apropiadamente entre las partículas finas de titania mismas y entre las partículas finas de titania y las partículas finas de sílice o la lámina de vidrio, uniendo así las partículas y la lámina de vidrio para mejorar la durabilidad de la película. Sin embargo, si la razón es excesivamente pequeña, el área superficial de las partículas finas de titania en la película se reduce, de modo que la actividad fotocatalítica tiende a disminuir. Desde este punto de vista, el diámetro medio de partícula de las partículas finas de titania es, por ejemplo, de 30 a 70 nm, deseablemente más de 30 nm y 60 nm o menos, y más deseablemente de 35 a 50 nm.

Como se mencionó anteriormente, el revestimiento de baja reflexión se forma en al menos una parte de la superficie principal de una lámina de vidrio. La morfología de la única superficie principal de la lámina de vidrio no está particularmente limitada. Por ejemplo, la rugosidad media aritmética Ra de la lámina de vidrio es de 1 nm o menos y deseablemente de 0,5 nm o menos. La rugosidad media aritmética Ra se define en la presente memoria de acuerdo con JIS B 0601: 1994.

La lámina de vidrio puede ser vidrio en forma de figura que tenga una superficie principal con asperezas. El espaciado medio Sm de las asperezas es 0,3 mm o más y 2,5 mm o menos, deseablemente 0,3 mm o más, más deseablemente 0,4 mm o más, y particularmente deseablemente 0,45 mm o más. La separación media Sm es 2,5 mm o menos, deseablemente 2,1 mm o menos, más deseablemente 2,0 mm o menos, y particularmente deseablemente 1,5 mm o menos. El espaciado medio Sm como se define en la presente memoria se refiere a un promedio de longitudes de períodos pico-valle en un perfil de rugosidad que se determinan basándose en los puntos en los que el perfil de rugosidad interseca la línea media. Adicionalmente, es deseable que las asperezas superficiales de la lámina de vidrio labrado tengan una altura máxima Ry de 0,5 pm a 10 pm, particularmente de 1 |jm a 8 pm, además de tener un espaciado medio Sm dentro del intervalo anterior. El espaciado medio Sm y la altura máxima Ry según se define en la presente memoria corresponden a los especificados en JIS B 0601: 1994. Es deseable que las asperezas de la superficie de la lámina de vidrio en forma de vidrio perfilado tengan una rugosidad media aritmética Ra de 0,3 pm a 5,0 pm, particularmente de 0,4 pm a 2,0 pm, más concretamente de 0,5 pm a 1,2 pm, además de tener un espaciado medio Sm y una altura máxima Ry dentro de los intervalos anteriores. El vidrio labrado como se describe anteriormente exhibe un efecto anti-deslumbramiento suficiente atribuido a sus asperezas superficiales; sin embargo, cuando la rugosidad de la superficie es excesivamente grande, es probable que el color reflejado se vuelva desigual en la superficie. Es deseable que la lámina de vidrio esté tan libre de componentes colorantes como sea posible, aunque la composición de la lámina de vidrio no está particularmente limitada. En la lámina de vidrio, por ejemplo, el contenido de óxido de hierro, que es un componente colorante típico, es deseablemente de 0,06% en masa o menos y más deseablemente de 0,02% en masa o menos cuando se calcula como contenido de Fe²O³.

La lámina de vidrio revestida de baja reflexión puede incluir adicionalmente una película de electrodo transparente sobre una superficie principal de la lámina de vidrio opuesta a la superficie principal sobre la que se va a formar el revestimiento de baja reflexión. En este caso, por ejemplo, se apilan en orden una o más capas de base y una capa de electrodo transparente que contiene óxido de estaño dopado con flúor como componente principal en la superficie principal de la lámina de vidrio opuesta a la superficie principal sobre la que se va a formar el revestimiento de baja reflexión.

El espesor del revestimiento de baja reflexión no está particularmente limitado y es, por ejemplo, de 80 nm a 500 nm, deseablemente de 100 nm a 300 nm y más deseablemente de 100 nm a 180 nm.

A continuación, se describirá un ejemplo del método para producir la lámina de vidrio revestida de baja reflexión según la presente invención. La lámina de vidrio revestida de baja reflexión se puede producir aplicando un líquido de revestimiento para formar el revestimiento de baja reflexión a al menos una parte de la superficie principal de la lámina de vidrio y secando y curando la película resultante del líquido de revestimiento aplicado.

El líquido de revestimiento es un líquido que contiene una fuente de aglutinante, partículas finas de sílice y partículas finas de titania. La fuente del aglutinante se prepara, por ejemplo, añadiendo un catalizador de hidrólisis y un compuesto de silicio hidrolizable tal como un alcóxido de silicio secuencialmente a un disolvente determinado con agitación. La hidrólisis del compuesto de silicio hidrolizable se puede llevar a cabo de cualquier manera apropiada. La hidrólisis del compuesto de silicio hidrolizable se lleva a cabo deseablemente en una solución que contiene las partículas finas de sílice, ya que esto promueve una reacción de policondensación entre los grupos silanol presentes en las superficies de las partículas finas de sílice y los grupos silanol formados por hidrólisis del compuesto de silicio hidrolizable, lo que conduce a un aumento en la proporción de sílice que contribuye a la unión entre las partículas finas de sílice en el aglutinante. Específicamente, el líquido de revestimiento se prepara, por ejemplo, añadiendo un catalizador de hidrólisis y un compuesto de silicio hidrolizable tal como un alcóxido de silicio secuencialmente a una dispersión de partículas finas de sílice con agitación. En algunos casos, la preparación del líquido de revestimiento se puede realizar mediante la hidrólisis del compuesto de silicio hidrolizable seguido de la adición de partículas finas de sílice. Las partículas finas de titania se pueden añadir en cualquier momento durante la preparación del líquido de revestimiento. El líquido de revestimiento se prepara, por ejemplo, añadiendo un catalizador de hidrólisis y un compuesto de silicio hidrolizable tal como un alcóxido de silicio secuencialmente a una mezcla de una dispersión de partículas finas de sílice y una dispersión de partículas finas de titania con agitación. Por ejemplo, cuando el revestimiento de baja reflexión va a contener un compuesto de aluminio, se añade nitrato de aluminio o un haluro de aluminio tal como cloruro de aluminio como precursor del compuesto de aluminio al líquido de revestimiento. Se puede utilizar un ácido o una base como catalizador de hidrólisis. Es deseable utilizar un ácido, particularmente un ácido inorgánico, más concretamente ácido clorhídrico, en términos de estabilidad del líquido de revestimiento. Es deseable utilizar como catalizador de hidrólisis un ácido que tenga un alto grado de disociación electrolítica en una solución acuosa. Específicamente, es deseable utilizar un ácido que tenga una constante de disociación ácida pKa (que se refiere a la primera constante de disociación ácida cuando el ácido es un ácido polibásico) de 2,5 o menos. Los ejemplos de ácidos deseados como catalizador de hidrólisis incluyen: (i) ácidos inorgánicos volátiles tales como ácido clorhídrico y ácido nítrico; (ii) ácidos orgánicos tales como ácido trifluoroacético, ácido metanosulfónico, ácido bencenosulfónico y ácido p-toluenosulfónico; (iii) ácidos polibásicos tales como ácido maleico, ácido fosfórico y ácido oxálico; (iv) ácido sulfúrico; y (v) ácido sulfámico. Un catalizador de hidrólisis ácida permite una mejor dispersión de las partículas finas de sílice y las partículas finas de titania que un catalizador de hidrólisis alcalino. Además, los iones de cloro derivados del ácido clorhídrico mejoran el efecto (alta resistencia química del revestimiento de baja reflexión a la niebla salina) proporcionado por la inclusión de un compuesto de aluminio en el revestimiento de baja reflexión.

El líquido de revestimiento contiene un disolvente y el disolvente contiene, por ejemplo, un disolvente orgánico como componente principal, siendo el disolvente orgánico miscible con agua y con un punto de ebullición de 150°C o inferior. El punto de ebullición del disolvente orgánico contenido como componente principal en el disolvente es, por ejemplo, de 70°C o superior. Deseablemente, el líquido de revestimiento contiene adicionalmente un disolvente orgánico de alto punto de ebullición miscible con agua y con el disolvente orgánico anterior como componente principal y que tiene un punto de ebullición superior a 150°C. El punto de ebullición del disolvente orgánico de alto punto de ebullición es deseablemente 200°C o menos. El disolvente orgánico de alto punto de ebullición utilizado puede ser, por ejemplo, propilenglicol (punto de ebullición: 187°C), alcohol de diacetona (punto de ebullición: 168°C), hexilenglicol (punto de ebullición: 198°C) o 3-metoxibutanol. (punto de ebullición: 161°C). Cuando el líquido de revestimiento contiene un disolvente de alto punto de ebullición, se puede obtener fácilmente una película continua sin defectos y uniforme, y tal película tiene una durabilidad mejorada. El solvente de alto punto de ebullición actúa, en el procedimiento de secado de una película líquida del líquido de revestimiento aplicado, reduciendo la tasa de volatilización del solvente e igualando la tasa de volatilización sobre la superficie de la película. Por tanto, se mantiene la estabilidad de la dispersión de las partículas finas de titania y las partículas finas de sílice en la película líquida, de modo que se puede evitar la agregación de estas partículas finas durante el procedimiento de secado. Adicionalmente, se puede evitar el menisco no deseable causado por el secado local de la película líquida para mejorar la nivelación de la película líquida. El contenido de disolvente de alto punto de ebullición en el líquido de revestimiento es preferiblemente de 1 a 20% en masa.

La técnica utilizada para aplicar el líquido de revestimiento a una superficie principal de la lámina de vidrio no está particularmente limitada y puede ser, por ejemplo, revestimiento mediante rotación, revestimiento mediante rodillo, revestimiento mediante barra, revestimiento mediante inmersión o revestimiento mediante pulverización. Desde el punto de vista de la eficacia de la producción en masa y la uniformidad del aspecto de la película del líquido de revestimiento aplicado, es deseable utilizar revestimiento mediante rodillo o revestimiento mediante barra para aplicar el líquido de revestimiento a una superficie principal de la lámina de vidrio. Desde el punto de vista de la eficacia de la producción en masa, se puede emplear un revestimiento mediante pulverización para aplicar el líquido de revestimiento a una superficie principal de la lámina de vidrio.

La técnica utilizada para secar y curar la película del líquido de revestimiento aplicado a la superficie principal de la lámina de vidrio no está particularmente limitada y, por ejemplo, la película del líquido de revestimiento aplicado se puede secar y curar mediante secado con aire caliente. En este caso, condiciones tales como la temperatura de la lámina de vidrio no están particularmente limitadas. Cuando la película del líquido de revestimiento aplicado se seca y cura mediante secado con aire caliente, por ejemplo, es deseable que la temperatura máxima alcanzada por la superficie principal de la lámina de vidrio sobre la que se ha aplicado el líquido de revestimiento sea de 200°C o superior y 350°C o inferior y que el período de tiempo durante el cual la superficie principal de la lámina de vidrio tiene una temperatura de 200°C o más sea de 5 minutos o menos. En este caso, es probable que la lámina de vidrio revestida de baja reflexión tenga una alta ganancia de transmitancia y exhiba una alta actividad fotocatalítica. Cuando la película del líquido de revestimiento aplicado se seca y cura mediante secado con aire caliente, la temperatura máxima alcanzada por la superficie principal de la lámina de vidrio sobre la que se ha aplicado el líquido de revestimiento puede ser de 120°C o superior y 250°C o inferior, y el período de tiempo durante el cual la superficie principal de la lámina de vidrio tiene una temperatura de 120°C o más puede ser de 3 minutos o menos.

Ejemplos

A continuación, la presente invención se describirá con más detalle mediante ejemplos. Se debe entender que la presente invención no se limita a los ejemplos que se proporcionan a continuación. En primer lugar, se describirán métodos de ensayo o medición realizados en láminas de vidrio revestidas de baja reflexión según los Ejemplos y los Ejemplos Comparativos.

(Ganancia de transmitancia)

El espectro de transmitancia de cada una de las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión de acuerdo con los Ejemplos y Ejemplos Comparativos se midió utilizando un espectrofotómetro (UV-3100 PC fabricado por Shimadzu Corporation). Los valores de transmitancia se promediaron en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm en el espectro de transmitancia para calcular una transmitancia promedio. Para la medición del espectro de transmitancia, se aplicó luz incidente al revestimiento de baja reflexión de cada una de las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión de acuerdo con los Ejemplos y Ejemplos Comparativos. Además, para cada una de las láminas de vidrio utilizadas en los Ejemplos y Ejemplos Comparativos, la medición del espectro de transmitancia y el cálculo de la transmitancia media se realizaron en ausencia de cualquier revestimiento de baja reflexión formado sobre la lámina de vidrio. En cada uno de los ejemplos y ejemplos comparativos, se calculó una ganancia de transmitancia restando la transmitancia promedio de la lámina de vidrio sin ningún revestimiento de baja reflexión de la transmitancia promedio de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión que no había sido sometida a ninguna prueba de abrasión recíproca. Los resultados se muestran en la Tabla 1.

(Ángulo de contacto crítico del agua)

Para cada una de las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión de acuerdo con los Ejemplos y Ejemplos Comparativos, el revestimiento de baja reflexión se irradió con luz ultravioleta (longitud de onda dominante: 351 nm, densidad de energía: 1 mW/cm2) utilizando luz negra durante 16 horas. Después de eso, se midió el ángulo de contacto de una gota de agua en la superficie del revestimiento de baja reflexión utilizando un medidor de ángulo de contacto (fabricado por Kyowa Interface Science Co., Ltd., nombre del producto: DropMaster 300). Los resultados se muestran en la Tabla 1. Antes de la irradiación ultravioleta, se limpió la superficie del revestimiento de baja reflexión con un paño impregnado con metanol.

(Actividad fotocatalítica)

De acuerdo con JIS R 1703-1:2007, se aplicó ácido oleico a cada uno de los revestimientos de baja reflexión de los ejemplos, posteriormente se irradió el revestimiento de baja reflexión con luz ultravioleta a una intensidad de 1,0 mW/cm2 y se midió el tiempo tc desde el inicio de la irradiación ultravioleta hasta el punto en el que el ángulo de contacto del agua sobre el revestimiento de baja reflexión alcanzó 5°. Para la medición del ángulo de contacto del agua sobre el revestimiento de baja reflexión, se utilizó un medidor de ángulo de contacto (fabricado por Kyowa Interface Science Co., Ltd., nombre del producto: DropMaster 300). Los resultados se muestran en la Tabla 1.

(Observación SEM)

El revestimiento de baja reflexión de cada una de las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión de acuerdo con los Ejemplos y Ejemplos Comparativos se observó con un microscopio electrónico de barrido de emisión de campo (fabricado por Hitachi, Ltd., modelo: S-4500), que se abrevia como FE-SEM. Basándose en una imagen de sección transversal FE-SEM del revestimiento de baja reflexión observado desde arriba en un ángulo de 30°, se midió el espesor del revestimiento de baja reflexión en cinco puntos de medición, y el promedio de los cinco valores medidos fue determinado como el espesor medio del revestimiento de baja reflexión. Los resultados se muestran en la Tabla 1.

<Ejemplo 1>

Se agitaron y mezclaron 30,1 partes en masa de una dispersión de partículas finas de sílice (fabricadas por FUSO CHEMICAL CO., LTD.; nombre del producto: "QuartronpL-7", diámetro medio de partícula primaria de partículas finas de sílice: 125 nm, concentración de sólidos: 23% en peso), 58,2 partes en masa de 1-metoxi-2-propanol (disolvente) y 1,0 partes en masa de ácido clorhídrico 1 N (catalizador de hidrólisis). Mientras se agitaba adicionalmente la mezcla, se añadieron a la mezcla 10,6 partes en masa de tetraetoxisilano (ortosilicato de etilo, fabricado por TAMA CHEMICALS CO., LTD.; una fuente de sílice para el aglutinante). Se continuó agitando durante 8 horas manteniendo la temperatura a 40°C, y el tetraetoxisilano se hidrolizó así para obtener un líquido materia prima según el Ejemplo 1. se agitaron y mezclaron 47,7 g del líquido materia prima, 1,0 g de propilenglicol (disolvente), 47,2 g de 1-metoxi-2-propanol y 4,1 g de una dispersión de partículas finas de titania (una dispersión acuosa acidulada con ácido nítrico, fabricada por ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.; nombre del producto: "Photocatalytic Titanium Dioxide, STS-01", concentración de sólidos: 30% en masa, diámetro medio de partícula primaria de partículas finas de titania: 7 nm) para obtener un líquido de revestimiento según el Ejemplo 1. La concentración de sólidos en el líquido de revestimiento total según el Ejemplo 1 fue de 6,0 % en masa, donde la masa de sólidos en el líquido de revestimiento se definió como la suma de la masa de tetraetoxisilano (fuente de sílice para el aglutinante) calculada como SiO², la masa de sólidos de la dispersión de partículas finas de sílice, la masa de sólidos de la dispersión de partículas finas de titania, la masa del compuesto de aluminio opcionalmente añadido calculada como AhO³y la masa del aditivo opcionalmente añadido calculada como óxido metálico. Cabe señalar que no se añadió compuesto de aluminio ni ningún otro aditivo al líquido de revestimiento según el Ejemplo 1. Los sólidos del líquido de revestimiento según el Ejemplo 1 incluían 55,1% en masa de partículas finas de sílice, 20,5% en masa de partículas finas de titania, y 24,4% en masa de tetraetoxisilano calculado como SiO².

Se preparó una lámina de vidrio con una película conductora transparente. Esta lámina de vidrio era una lámina de vidrio de 3,2 mm de espesor fabricada por Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Esta lámina de vidrio tenía una composición típica de silicato de cal sodada y tenía una película conductora transparente formada por CVD en línea en la superficie principal de la lámina de vidrio, incluyendo la película conductora transparente una capa conductora transparente. Como se observa por el hecho de que esta lámina de vidrio tenía una película conductora transparente formada por CVD en línea, la lámina de vidrio revestida con la película conductora transparente era una lámina de vidrio formada por un procedimiento de flotación. La película conductora transparente estaba ubicada sobre la superficie principal de la lámina de vidrio que estaba formada por vidrio que no había estado en contacto con un estaño fundido en un baño de flotación (esta superficie principal generalmente se denomina "superficie superior"). Esta lámina de vidrio se cortó en una pieza de 200 mm x 300 mm, que se sumergió en una solución alcalina (LBC-1, un líquido limpiador alcalino fabricado por LEYBOLD Co., Ltd.) y se lavó con un limpiador ultrasónico. La pieza de lámina de vidrio se enjuagó con agua desionizada y a continuación se secó a temperatura normal. De este modo se produjo una lámina de vidrio para la formación de un revestimiento de baja reflexión. El líquido de revestimiento según el Ejemplo 1 se aplicó utilizando un rodillo de revestimiento a la superficie principal de la lámina de vidrio opuesta a la superficie principal revestida con la película conductora transparente. La aplicación del líquido de revestimiento se realizó de tal manera que el líquido aplicado formara una película que tenía un espesor de 1 jm a 5 |jm. A continuación, la película del líquido de revestimiento aplicado a la lámina de vidrio se secó y se curó utilizando un secador de aire caliente del tipo de cinta transportadora. Específicamente, la lámina de vidrio se movió hacia adelante y hacia atrás dos veces en el interior del secador de aire caliente para pasar la lámina de vidrio bajo una boquilla de inyección de aire caliente cuatro veces, con la temperatura del aire caliente ajustada a 300°C, la distancia entre la boquilla de inyección de aire y lámina de vidrio ajustadas a 5 mm, y la velocidad de transporte ajustada a 0,5 m/min. En este procedimiento, el período de tiempo durante el cual la lámina de vidrio con el líquido de revestimiento aplicado estuvo en contacto con el aire caliente fue de 140 segundos y la temperatura máxima alcanzada por la superficie principal de la lámina de vidrio con el líquido de revestimiento aplicado fue de 199°C. Después de eso, la lámina de vidrio se dejó enfriar a temperatura ambiente para obtener una lámina de vidrio revestida de baja reflexión de acuerdo con el Ejemplo 1. Así, en el Ejemplo 1, se formó el revestimiento de baja reflexión sobre la superficie principal de la lámina de vidrio que estaba formado por vidrio que había estado en contacto con un estaño fundido en un baño de flotación (esta superficie principal se denomina generalmente "superficie inferior").

<Ejemplos 2 a 8>

Los líquidos de revestimiento según los Ejemplos 2 a 8 se prepararon de la misma manera que el líquido de revestimiento según el Ejemplo 1, excepto porque se ajustaron las cantidades de las materias primas añadidas de modo que, en los sólidos de cada uno de los líquidos de revestimiento según los Ejemplos 2 a 8, el contenido de partículas finas de sílice, el contenido de partículas finas de titania y el contenido de tetraetoxisilano (fuente de sílice para el aglutinante) calculado como SiO²serían los mostrados en la Tabla 1. La concentración de sólidos en cada uno de los líquidos de revestimiento de acuerdo con los Ejemplos 2 a 8 fue de 5% en masa. Se fabricaron láminas de vidrio revestidas de baja reflexión según los Ejemplos 2 a 8 de la misma manera que las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión según el Ejemplo 1, excepto que se utilizaron los líquidos de revestimiento según los Ejemplos 2 a 8 en lugar del líquido de revestimiento según el Ejemplo 1.

<Ejemplos Comparativos 1 a 3>

Los líquidos de revestimiento según los Ejemplos Comparativos 1 a 3 se prepararon de la misma manera que el líquido de revestimiento según el Ejemplo 1, excepto porque se ajustaron las cantidades de las materias primas añadidas de modo que, en los sólidos de cada uno de los líquidos de revestimiento según los ejemplos comparativos 1 a 3, el contenido de partículas finas de sílice, el contenido de partículas finas de titania y el contenido de tetraetoxisilano (fuente de sílice para el aglutinante) calculado como SiO²serían los mostrados en la Tabla 1. La concentración de sólidos en cada uno de los líquidos de revestimiento de acuerdo con los Ejemplos Comparativos 1 a 3 fue de 5% en masa. Se fabricaron láminas de vidrio revestidas de baja reflexión según los Ejemplos Comparativos 1 a 3 de la misma manera que las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión según el Ejemplo 1, excepto que se utilizaron los líquidos de revestimiento según los Ejemplos Comparativos 1 a 3 en lugar del líquido de revestimiento según el Ejemplo 1.

Como se muestra en la Tabla 1, la ganancia de transmitancia fue de 2,0% o más para las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión según los Ejemplos. Por el contrario, para las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión según los Ejemplos Comparativos, la ganancia de transmitancia fue inferior a 2,0%. Esto indicó que las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión según los Ejemplos tienen una alta ganancia de transmitancia.

Como se muestra en la Tabla 1, el ángulo de contacto crítico del agua sobre el revestimiento de baja reflexión fue de 5° o menos (3,0° o menos, de hecho) para las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión de los Ejemplos. Esto indicó que la suciedad adherida a los revestimientos de baja reflexión de las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión de los Ejemplos se eliminaría fácilmente por lavado.

Como se muestra en la Tabla 1, el tiempo tc como índice de actividad fotocatalítica fue de 40 horas o menos (35 horas o menos, de hecho) para las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión de los Ejemplos. Esto indicó que las láminas de vidrio revestidas de baja reflexión de los Ejemplos pueden exhibir una alta actividad fotocatalítica.

Claims

REIVINDICACIONES

1. Una lámina de vidrio con revestimiento de baja reflexión que comprende:

una lámina de vidrio; y

un revestimiento de baja reflexión formado en al menos una parte de la superficie principal de la lámina de vidrio, comprendiendo el revestimiento de baja reflexión un aglutinante que contiene sílice como componente principal, partículas finas de sílice unidas por el aglutinante y partículas finas de titania unidas por el aglutinante,

caracterizada porque el revestimiento de baja reflexión satisface las siguientes relaciones cuando el contenido de partículas finas de sílice en el revestimiento de baja reflexión, el contenido de partículas finas de titania en el revestimiento de baja reflexión y el contenido de sílice del aglutinante en el revestimiento de reflexión se define como % en masa de C^sp, % en masa de C^tpy % en masa de CAglutinante, respectivamente:

30% en masa <C^sp< 68% en masa;

12% en masa < Ctp < 50% en masa;

20% en masa < CAglutinante < 43,75% en masa;

CTP/CAglutinante — 0,6;

CAglutinante < 25% en masa en el caso de Csp — 55% en masa; y

C^tp> 20% en masa en el caso de C^sp< 55% en masa, y

la lámina de vidrio revestida de baja reflexión tiene una ganancia de transmitancia de 2,0% o más, la ganancia de transmitancia se determina restando una transmitancia de luz promedio de la lámina de vidrio sin el revestimiento de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm de una transmitancia de luz promedio de la lámina de vidrio revestida de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm.

2. La lámina de vidrio revestida de baja reflexión según la reivindicación 1, en donde el revestimiento de baja reflexión satisface adicionalmente la relación CTp/CAglutinante > 0,8.

3. La lámina de vidrio revestida de baja reflexión según la reivindicación 1 o 2, en donde el revestimiento de baja reflexión satisface adicionalmente las siguientes relaciones:

30% en masa < Csp < 65% en masa;

15% en masa < C^tp< 40% en masa; y

20% en masa < CAglutinante < 30% en masa.

4. La lámina de vidrio revestida de baja reflexión según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en donde el revestimiento de baja reflexión satisface adicionalmente las siguientes relaciones:

35% en masa < Csp < 60% en masa;

15% en masa < C^tp< 40% en masa; y

20% en masa < CAglutinante < 25% en masa.

5. La lámina de vidrio revestida de baja reflexión de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, en donde un ángulo de contacto crítico del agua sobre el revestimiento de baja reflexión, como se define en la Norma Industrial Japonesa (JIS) R 1703-1:2007, es de 5° o menos.

6. La lámina de vidrio revestida de baja reflexión según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en donde cuando, según JIS R 1703-1:2007, se aplica ácido oleico al revestimiento de baja reflexión y posteriormente se irradia el revestimiento de baja reflexión con luz ultravioleta a una intensidad de 1,0 mW/cm2, el período de tiempo desde el inicio de la irradiación ultravioleta hasta un punto en el que el ángulo de contacto del agua sobre el revestimiento de baja reflexión alcanza los 5° es de 40 horas o menos.

7. Un método para producir un sustrato revestido de baja reflexión,

incluyendo el sustrato revestido de baja reflexión:

un sustrato; y

un revestimiento de baja reflexión formado en al menos una parte de la superficie principal del sustrato, incluyendo el revestimiento de baja reflexión un aglutinante que contiene sílice como componente principal, partículas finas de sílice unidas por el aglutinante y partículas finas de titania unidas por el aglutinante, comprendiendo el método: formar una película de revestimiento aplicando un líquido de revestimiento al sustrato; y formar el revestimiento de baja reflexión secando y curando la película de revestimiento, en donde la temperatura máxima alcanzada por una superficie del sustrato durante el secado y curado de la película de revestimiento es de 120°C o más y 350°C o menos,

caracterizado porque el revestimiento de baja reflexión satisface las siguientes relaciones cuando el contenido de partículas finas de sílice en el revestimiento de baja reflexión, el contenido de partículas finas de titania en el revestimiento de baja reflexión y el contenido de sílice del aglutinante en el revestimiento de baja reflexión se define como % en masa de C^sp, % en masa de C^tpy % en masa de CAglutinante, respectivamente:

30% en masa < Csp < 68% en masa;

12% en masa < C^tp< 50% en masa;

20% en masa < CAglutinante < 43,75% en masa;

CTP/CAglutinante — 0,6;

CAglutinante < 25% en masa en el caso de Csp — 55% en masa; y

C^tp> 20% en masa en el caso de C^sp<55% en masa, y

el sustrato revestido de baja reflexión tiene una ganancia de transmitancia de 2,0% o más, la ganancia de transmitancia se determina restando una transmitancia de luz promedio del sustrato no provisto del revestimiento de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm de una transmitancia de luz promedio del sustrato revestido de baja reflexión en el intervalo de longitud de onda de 380 nm a 850 nm.

8. El método de acuerdo con la reivindicación 7, en donde en el secado y curado de la película de revestimiento, el período de tiempo durante el cual la superficie del sustrato tiene una temperatura de 200°C o más es de 5 minutos o menos.

9. El método de acuerdo con la reivindicación 7, en donde en el secado y curado de la película de revestimiento, el período de tiempo durante el cual la superficie del sustrato tiene una temperatura de 120°C o más es de 3 minutos o menos.

10. El método de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 7 a 9, en donde

el líquido de revestimiento comprende partículas finas de sílice, partículas finas de titania, un material fuente para el aglutinante y un disolvente,

el material de origen del aglutinante comprende un alcóxido de silicio, y

el disolvente comprende un disolvente orgánico como componente principal, siendo el disolvente orgánico miscible con agua y con un punto de ebullición de 150°C o inferior.