JP2009046650A - 紫外線遮断剤を含有する高分子複合粒子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 球状の高分子粒子と紫外線遮断剤がハイブリッドされた球状の高分子複合粒子であって粒子自体の分散安定性が大きく増加し紫外線吸収能が非常に優れており、化粧品製品などへの適用が容易な高分子複合粒子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）ラジカル重合性単量体と多官能性架橋単量体が重合された高分子粒子；および（ｂ）紫外線遮断剤がハイブリッドされた高分子複合粒子を提供する。また、本発明は、（ａ）紫外線遮断剤をラジカル重合性単量体または多官能性架橋単量体に溶解および分散させ開始剤を添加する工程；（ｂ）前記紫外線遮断剤を含有する分散体を分散安定化剤の存在下に溶媒に乳化させて液滴を形成する工程；（ｃ）前記液滴を重合反応させて高分子複合粒子を製造する工程；および（ｄ）前記で製造した高分子複合粒子を洗浄および乾燥する工程を含むことを特徴とする高分子複合粒子の製造方法を提供する。
【選択図】 図１

Description

本発明は紫外線遮断剤を含有する高分子複合粒子およびその製造方法に関し、特に球状の高分子粒子と紫外線遮断剤がハイブリッドされた球状の高分子複合粒子であって粒子自体の分散安定性が大きく増加し紫外線吸収能が非常に優れており、化粧品製品などへの適用が容易な高分子複合粒子およびその製造方法に関するものである。

一般に地表面に到達する太陽光の約１％は人体に有害な紫外線である。このような紫外線は可視光線や赤外線に比べて波長が短い光であり、光が有するエネルギーは波長に反比例するので、紫外線は可視光線や赤外線に比べてエネルギーが大きい光である。したがって人に紫外線が多く照射されるほど紫外線の大きなエネルギーによるいろいろな化学反応が起こり、生理的な変化を誘発させることができる。

紫外線はエネルギーが大きいため、いろいろな化学物質を活性化させてこれらの構造を変化させたり機能を麻痺させる。特に化粧品や生活用品などに多く使用される有機色素は紫外線によって増感されて活性化されることによってその本来の機能を容易に失う物質である。このような理由で化粧品や生活用品などの配合には以前から紫外線遮断剤が必須的に使用された。

最近はオゾン層破壊によって地表への紫外線照射量が増加することにより紫外線遮断を主目的とする製品の市場が毎年大きく成長している。
大部分の有機系紫外線遮断剤は有害な紫外線を効果的に遮断するために必要な程度の量を使用した時、人体に生理学的な損傷が起こることがあるという問題点を有している。人体に対する損傷、具体的に皮膚トラブルは紫外線遮断剤の皮膚浸透によって発生する。

また、紫外線遮断剤は熱と光に対する安定性が低下し溶剤に対する溶解性が良くなくて使用方法に限界があり使用感が悪い。このような問題点を克服するために有機系紫外線遮断剤をシリコン樹脂やガラスでカプセル化して、コア−セル形態で使用したりもするが、これはセルが弱い衝撃でもこわれ、コア物質が皮膚に多量接触される危険があって、使用方法に多くの弱点を有しており、コア−セル形態にて製造するためカプセルのサイズ調節に多くの困難がある。

下記特許文献１には有機系紫外線吸収剤を高分子の樹脂でカプセル化させる製造方法が記載されているが、前記カプセル型は製造工程中にカプセルの外部に紫外線吸収剤が流出され、皮膚に有害な作用をしたり使用感を低下させることがある。また、カプセル化された製品もカプセルに使用される高分子壁材が剥離されたり溶剤に対する耐溶剤性が低下しカプセル中に捕集されている紫外線吸収剤が流出されることがあって使用に制限を受ける。

下記特許文献２には紫外線散乱用無機系紫外線遮断剤を高分子中に分散させて複合粒子を製造する方法が記載されているが、無機系紫外線遮断剤は紫外線を単純に散乱させるため紫外線遮断機能が低く、使用時に無機系特有の白濁現象が発生するという問題点がある。
従って、このような紫外線遮断剤を安定的で効率的に使用できる技術の開発が切実に要求されている。

大韓民国特許公開第２００５−００２２０３６号公報 大韓民国特許公開第２００３−００２０５１５号公報

本発明は、使用に多くの制約を受ける紫外線遮断剤を球状の高分子物質とハイブリッドして皮膚に対する刺激を最少化させ、効率的で安定的に使用でき、同時に紫外線遮断効果が優れている高分子複合粒子およびその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、前記紫外線遮断剤を含有する高分子複合粒子を有効成分として含有する紫外線遮断用化粧料組成物を提供することを目的とする。

本発明は前記問題を解決するために、下記１〜８の高分子複合粒子、および９〜１３の高分子複合粒子の製造方法を提供する。
１．（ａ）ラジカル重合性単量体と多官能性架橋単量体が重合された高分子粒子；および
（ｂ）紫外線遮断剤がハイブリッドされた高分子複合粒子。
２．前記（ａ）ラジカル重合単量体と多官能性架橋単量体の含量比は５〜９５質量部：９５〜５質量部である前項１に記載の高分子複合粒子。
３．前記（ｂ）紫外線遮断剤はラジカル重合性単量体および多官能性架橋単量体１００質量部に対して０．１〜２００質量部である前項１に記載の高分子複合粒子。
４．前記ラジカル重合性単量体が、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン、フロロスチレン、クロロスチレン、ビニルトルエンから選択される芳香族ビニル系化合物；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、フルオロエチルアクリレートから選択されるアクリル系ビニル単量体；（メタ）アクリロニトリルから選択されるシアン化ビニル系単量体およびこれらの混合物からなる群より１種以上選択される前項１に記載の高分子複合粒子。
５．前記多官能性架橋単量体が、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチレンプロパントリメタアクリレート、１，３−ブタンジオールメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、アリル（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレートおよびこれらの混合物からなる群より１種以上選択される前項１に記載の高分子複合粒子。
６．前記（ｂ）紫外線遮断剤が、ＰＡＢＡ（ｐ−アミノ安息香酸；p-aminobenzoic acid）誘導体、シンナメート（cinnamate）誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン（benzophenone）、ジベンゾールメタン（dibenzole methane）、アントラニレート（antranilate）、ショウノウ誘導体（camphor derivatives）、メチレンビスベンゾトリアゾイルテトラメチルブチルフェノール（methylene bis-benzotriazoyl tetramethylbutyl phenol）、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（bis-ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine）からなる群より１種以上選択される前項１に記載の高分子複合粒子。
７．前記高分子複合粒子の平均粒径が０．０１μｍ〜１０００μｍである前項１に記載の高分子複合粒子。
８．前記高分子複合粒子が紫外線遮断用である前項１に記載の高分子複合粒子。
９．（ａ）紫外線遮断剤をラジカル重合性単量体または多官能性架橋単量体に溶解および分散させ開始剤を添加する工程；
（ｂ）前記紫外線遮断剤を含有する分散体を分散安定化剤の存在下に溶媒に乳化させて液滴を形成する工程；
（ｃ）前記液滴を重合反応させて高分子複合粒子を製造する工程；および
（ｄ）前記で製造した高分子複合粒子を洗浄および乾燥する工程を含むことを特徴とする高分子複合粒子の製造方法。
１０．前記（ａ）工程での開始剤が、ベンゾイルパーオキシド、ラウリルパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、メチルエチルケトンパーオキシド、ｔ−ブチルヒドロパーオキシドなどのパーオキシド系；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２’−アゾビス−２−メチルイソブチロニトリルから選択されるアゾ系化合物からなる群より１種以上選択され、前記ラジカル重合性単量体および多官能性架橋単量体総１００質量部に対して０．１〜１０質量部で含まれる前項９に記載の高分子複合粒子の製造方法。
１１．前記（ｂ）工程での分散安定化剤が、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースから選択されるセルロース誘導体；ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸、ポリビニルアセテートまたはポリビニルピロリドンとビニルアセテートの共重合体；コロイドシリカからなる群より１種以上選択され、前記ラジカル重合性単量体および多官能性架橋単量体総１００質量部に対して０．１〜２０質量部含まれる前項９に記載の高分子複合粒子の製造方法。
１２．前項１の高分子複合粒子を有効成分として含有することを特徴とする紫外線遮断用化粧料組成物。
１３．前記化粧料組成物が紫外線遮断剤を含有する高分子複合粒子を組成物総質量に対して０．０１〜５０質量部で含有する前項１２に記載の紫外線遮断用化粧料組成物。

本発明の紫外線遮断剤を含有する高分子複合粒子は使用に多くの制約を受ける紫外線遮断剤を球状の高分子物質とハイブリッドして皮膚に対する刺激を最少化させ、効率的で安定的に使用でき、同時に紫外線遮断効果が優れている。
また、本発明の高分子複合粒子は０．０１μｍ〜１０００μｍまで所望のサイズを調節することが容易であり、物理的紫外線遮断剤まで担持させることができて、その活用度が非常に高い。

従って、本発明の紫外線遮断剤を含有する高分子複合粒子は化学的紫外線遮断剤（紫外線吸収剤）を球状の高分子物質の中に含有させることによって、オゾン層の破壊によってさらに優れた紫外線遮断能力を有する遮断剤が要求される時点で、紫外線遮断効果は良好であるが、接触性皮膚炎など身体に有害であり、溶解度が良くなくて使用範囲が限定され使用感も悪く、保全安定性も良くなくて使用に制限を受ける、化学的紫外線遮断剤が有していた問題点を解決することができる。

本発明の高分子複合粒子は、（ａ）ラジカル重合性単量体と多官能性架橋単量体が重合された高分子粒子；および（ｂ）紫外線遮断剤がハイブリッドされた高分子複合粒子であることを特徴とする。

本発明の前記ラジカル重合性単量体は、ビニル系架橋単量体と共重合の可能なものであって、特別な制限はない。ラジカル重合性単量体の具体的な例としては、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン、フロロスチレン、クロロスチレン、ビニルトルエンの芳香族ビニル系化合物；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、フルオロエチルアクリレートなどのアクリル系ビニル単量体；（メタ）アクリロニトリルなどのシアン化ビニル系単量体などがあり、前記単量体を単独で使用したりまたは２種以上混合して使用することができる。

前記多官能性架橋単量体は粒子の架橋のためのものであって、前記ラジカル重合単量体と共重合の可能な多官能性のビニル系架橋単量体を使用する。具体的な例としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチレンプロパントリメタアクリレート、１，３−ブタンジオールメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、アリル（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレートなどがあり、これを単独で使用したりまたは２種以上混合して使用することができる。
好ましくは、前記ラジカル重合単量体と多官能性架橋単量体の含量比は５〜９５質量部：９５〜５質量部であるのがよく、さらに好ましくは３０〜７０質量部：７０〜３０質量部である。

前記範囲内である場合には製造される高分子複合粒子の物性および化粧品などへの適用に適した粒度大きさに調整することができてさらに良く、特に多官能性架橋単量体の含量が５質量部未満である場合には製造された粒子の耐溶剤性、耐熱性および機械的な特性が低下するという問題点がある。

前記（ｂ）紫外線遮断剤は化学的紫外線遮断剤を使用することができる。紫外線遮断剤は吸収を通じて紫外線を遮断する化学的紫外線遮断剤（紫外線吸収剤）と、反射および散乱を通じて紫外線を遮断する物理的紫外線遮断剤とに区分され、本発明に使用するものは化学的紫外線遮断剤である。有／無機系化学的紫外線遮断剤を使用できるが、好ましくは有機系紫外線遮断剤である。具体的な例としては、ＰＡＢＡ（ｐ−アミノ安息香酸；p-aminobenzoic acid）誘導体、シンナメート（cinnamate）誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン（benzophenone）、ジベンゾールメタン（dibenzole methane）、アントラニレート（antranilate）、ショウノウ誘導体（camphor derivatives）、メチレンビスベンゾトリアゾイルテトラメチルブチルフェノール（methylene bis-benzotriazoyl tetramethylbutyl phenol）、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（bis-ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine）などがあり、これら紫外線遮断剤を単独で使用したりまたは２種以上混合して使用することができる。前記紫外線遮断剤はラジカル重合性単量体および多官能性架橋単量体１００質量部に対して０．１〜２００質量部で含まれるのが好ましい。

前記高分子複合粒子は多様な大きさに製造可能であり、平均粒径が０．０１μｍ〜１０００μｍであるのが好ましい。

また、本発明の高分子複合粒子は、（ａ）紫外線遮断剤をラジカル重合性単量体または多官能性架橋単量体に溶解および分散させ開始剤を添加する工程；（ｂ）前記紫外線遮断剤を含有する分散体を分散安定化剤の存在下に溶媒に乳化させて液滴を形成する工程；（ｃ）前記液滴を重合反応させて高分子複合粒子を製造する工程；および（ｄ）前記で製造した高分子複合粒子を洗浄および乾燥する工程を含んで製造することができる。

本発明の前記（ａ）工程での溶解および分散は通常的に使用される方法を利用でき、添加する開始剤は自由ラジカルを形成できるものであれば特別な制限なしに使用することができる。具体的な例としては、ベンゾイルパーオキシド、ラウリルパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、メチルエチルケトンパーオキシド、ｔ−ブチルヒドロパーオキシドなどのパーオキシド系；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２’−アゾビス−２−メチルイソブチロニトリルなどのアゾ系化合物またはこれらの混合物を挙げることができる。

前記開始剤は前記ラジカル重合性単量体および多官能性架橋単量体１００質量部に対して０．１〜１０質量部、好ましくは０．５〜５質量部を使用するのが良い。前記範囲内である場合には収率を高め重合過程で発熱を抑制し粒子の大きさの調節が容易である。

前記（ｂ）工程では（ａ）工程で製造された分散体を分散安定化剤の存在下で溶媒に乳化させて液滴を形成し、液滴の形成は通常的に使用される方法を利用することができる。
前記分散安定化剤は重合反応で形成される粒子の凝集および沈殿を防止するために使用され、具体的な例としては、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどのセルロース誘導体；ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸、ポリビニルアセテートまたはポリビニルピロリドンとビニルアセテートの共重合体；コロイドシリカなどがある。

前記分散安定化剤はラジカル重合性単量体および多官能性架橋単量体の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部で含まれるのが好ましく、さらに好ましくは０．５〜１０質量部を使用する。その濃度が０．１質量部未満である場合には凝集されるという問題点があり、２０質量部を超過する場合には分散安定化剤がゲル（gel）化され副反応が発生できるという問題点がある。

また、前記乳化時に使用する溶媒としては、イオン交換水、蒸溜水、アルコール、エーテルアルコールなどを使用することができ、単独で使用したりまたは２種以上混合して使用することができる。

前記（ｃ）工程での重合は当業界で通常的に使用される重合方法を利用することができる。具体的な例として、懸濁重合、乳化重合、溶液重合または塊状重合などが可能であり、特に本発明では懸濁重合が好ましい。重合時には５０〜９０℃で５〜５０時間重合が進められるのが好ましい。これは高い転換率を得ることができるためである。この時、前記重合反応時に撹拌速度が速すぎる場合には凝集現象が発生したりまたは粒子が変化して大きさ調節に問題が発生することができるので、適切な撹拌速度を維持するのが良い。

前記（ｄ）工程では（ｃ）工程で製造した高分子複合粒子を洗浄および乾燥する。
前記洗浄は、合成された粒子のろ過後の粒子内に存在する未反応単量体の量を減らすと同時に重合反応後の残存する開始剤などの不純物を除去して、乾燥時に温度を高めても不純物による変色が発生しないように防止するために実施し、アルコール類（メチルアルコール、エチルアルコール、ブチルアルコール、アミルアルコール、オクチルアルコールまたはベンジルアルコールなど）、多価アルコール類（エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなど）、これらの水溶液または水などを使用することができる。好ましくは、エタノール、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ペンチルアルコール、ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、またはオクチルアルコールなどを用いて洗浄するのが良い。この時、前記水溶液は洗浄溶液の１〜３０質量％で使用するのが良く、前記範囲で使用される場合に不純物の除去効率を高めることができる。

前記乾燥は不純物の除去と洗浄工程を経た粒子のガラス転移温度を考慮して、ガラス転移温度より低い温度の真空状態下で乾燥を実施するのが良い。
前記のような工程を通じて製造された本発明のポリメチルメタアクリレートビードは以後に分級する工程を追加的に実施して粒度分布図を調節することができる。この時、前記分級は通常の方法によって実施することができ、具体的に前記分級は篩いかけや通常の分級機のフィーディング速度、回転数、および風量を調節しながらビードの粒度分布を調節することができる。

また、本発明は前記紫外線遮断剤を含有する高分子複合粒子を有効成分として含有することを特徴とする紫外線遮断用化粧料組成物を提供する。

前記化粧料組成物は紫外線遮断剤を含有する高分子複合粒子を化粧料組成物の各種剤型に添加して使用することができ、好ましくは組成物総質量に対して０．０１〜５０質量％を含有する。その含量が０．０１質量％未満である場合には紫外線遮断効果が非常に微小であるという問題点があり、５０質量％を超過する場合には剤型上問題が発生することができる。

前記化粧料組成物は、スキンケア、サンケア（sun care）、メイクアップ、ヘアケア、およびボディケアなどの化粧品またはパーソナルケア製剤を含む。また、一般的な紫外線遮断製品だけでなく、紫外線遮断機能を有するあらゆる種類の化粧品またはパーソナルケア製剤を含む。

以下、本発明の理解のために好ましい実施例を提示するが、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範囲が下記の実施例に限定されるのではない。

実施例１：
撹拌機付き分離型反応器に全体反応物１００質量部に対してラジカル重合性単量体としてメチルメタアクリレート１３質量部、多官能性架橋単量体としてエチレングリコールジメタクリレート１．３質量部、開始剤として２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル０．２質量部、紫外線遮断剤としてブチルメトキシジベンゾイルメタン４．５質量部、分散安定化剤としてポリビニルアルコール０．３質量部、溶媒としてイオン交換水８０．７質量部を投入した後、乳化機（ホモゲナイザー）を用いて８０００ｒｐｍで１０分間乳化させた。乳化を終えた後に昇温を始めて６０℃で２０時間重合した。ここで、収得した多分散性高分子粒子を減圧フィルターを利用して脱水した後にエタノールで数回洗浄し真空乾燥させて最終生成物を得た。

実施例２：
前記実施例１で紫外線遮断剤としてブチルメトキシジベンゾイルメタンを６．５質量部使用したことを除いては前記実施例１と同一に行った。

実施例３：
前記実施例１で紫外線遮断剤としてブチルメトキシジベンゾイルメタンの代わりにオクチルメトキシシンナメート６．５質量部を使用したことを除いては前記実施例１と同一に行った。

実施例４：
前記実施例１で紫外線遮断剤としてブチルメトキシジベンゾイルメタンの代わりにブチルメトキシジベンゾイルメタン４．５質量部とオクチルメトキシシンナメート４．５質量部を混合して使用したことを除いては前記実施例１と同一に行った。

実施例５：
前記実施例１で紫外線遮断剤としてブチルメトキシジベンゾイルメタンの代わりにブチルメトキシジベンゾイルメタン６．５質量部とオクチルメトキシシンナメート６．５質量部を混合して使用したことを除いては前記実施例１と同一に行った。

試験例１：特性および紫外線遮断能実験
剤型例１および比較例１
前記実施例１で製造した高分子複合粒子の紫外線遮断能を確認するために、実施例１で製造した複合粒子を利用してＷ／Ｏエマルジョン形態の紫外線遮断用化粧品をそれぞれ製造した。基本組成を下記表１に示した。

剤型例２および比較例２
実施例２で製造した複合粒子を利用してＷ／Ｏエマルジョン形態の紫外線遮断用化粧品をそれぞれ製造した。基本組成を下記表２に示した。

剤型例３および比較例３
実施例３で製造した複合粒子を利用してＷ／Ｏエマルジョン形態の紫外線遮断用化粧品をそれぞれ製造した。基本組成を下記表３に示した。

剤型例４および比較例４
実施例４で製造した複合粒子を利用してＷ／Ｏエマルジョン形態の紫外線遮断用化粧品をそれぞれ製造した。基本組成を下記表４に示した。

剤型例５および比較例５
実施例５で製造した複合粒子を利用してＷ／Ｏエマルジョン形態の紫外線遮断用化粧品をそれぞれ製造した。基本組成を下記表５に示した。

前記実施例１〜５の最終生成物を粒度分析器と電子走査顕微鏡を利用して粒度と形状を測定し、前記剤型例１〜５で製造されたＷ／ＯエマルジョンをOptometrix（米国）のＳＰＦ２９０（Sun Protection Factor）分析器で紫外線遮断能を測定した。その結果を下記表６に示した。
測定の結果、平均粒径４．７μｍの球状の高分子粒子が観察され、この微細なパウダー１２％を添加してＷ／Ｏタイプのクリームを製造して、紫外線遮断能力を測定した結果、非常に高いＰＦ（Protection factor）値とＳＰＦ（Sun Protection Factor）指数を示した。
また根前記実施例１〜５で製造した紫外線遮断剤を含有している高分子粒子の電子顕微鏡写真を図１〜５に示した。

試験例２：皮膚刺激性試験
前記剤型例１〜５で製造された紫外線遮断用化粧料組成物のうちの効果が最も優れた剤型例５とそれに対する比較例５の紫外線遮断用化粧品を使用して、試験対象２０人に対して皮膚パッチテストを実施して皮膚刺激性を試験した。その結果は表７に示した。

前記表７で確認できるように、比較例５の場合は１２人に皮膚トラブルが現れ、軽微なトラブルは４人であるのに対して、剤型例５の製品の場合は弱いトラブルが１人、軽微なトラブルが５人であった。

剤型例６
前記実施例５で製造した高分子複合粒子を利用してＷ／Ｏエマルジョン形態の紫外線遮断用化粧品を製造した。基本組成を下記表８に示した。

剤型例７
前記実施例５で製造した高分子複合粒子を利用してＷ／Ｏエマルジョン形態の紫外線遮断用化粧品を製造した。基本組成を下記表９に示した。

本発明の単純な変形乃至変更はこの分野の通常の知識を有している者によって容易に実施され、このような変形や変更は全て本発明の範囲に含まれる。

実施例１で製造した紫外線遮断剤を含有している高分子複合粒子の電子顕微鏡写真である。 実施例２で製造した紫外線遮断剤を含有している高分子複合粒子の電子顕微鏡写真である。 実施例３で製造した紫外線遮断剤を含有している高分子複合粒子の電子顕微鏡写真である。 実施例４で製造した紫外線遮断剤を含有している高分子複合粒子の電子顕微鏡写真である。 実施例５で製造した紫外線遮断剤を含有している高分子複合粒子の電子顕微鏡写真である。

Claims (13)

1. （ａ）ラジカル重合性単量体と多官能性架橋単量体が重合された高分子粒子；および
   （ｂ）紫外線遮断剤がハイブリッドされた高分子複合粒子。
2. 前記（ａ）ラジカル重合単量体と多官能性架橋単量体の含量比は５〜９５質量部：９５〜５質量部である請求項１に記載の高分子複合粒子。
3. 前記（ｂ）紫外線遮断剤はラジカル重合性単量体および多官能性架橋単量体１００質量部に対して０．１〜２００質量部である請求項１に記載の高分子複合粒子。
4. 前記ラジカル重合性単量体が、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン、フロロスチレン、クロロスチレン、ビニルトルエンから選択される芳香族ビニル系化合物；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、フルオロエチルアクリレートから選択されるアクリル系ビニル単量体；（メタ）アクリロニトリルから選択されるシアン化ビニル系単量体およびこれらの混合物からなる群より１種以上選択される請求項１に記載の高分子複合粒子。
5. 前記多官能性架橋単量体が、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチレンプロパントリメタアクリレート、１，３−ブタンジオールメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、アリル（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレートおよびこれらの混合物からなる群より１種以上選択される請求項１に記載の高分子複合粒子。
6. 前記（ｂ）紫外線遮断剤が、ＰＡＢＡ（ｐ−アミノ安息香酸；p-aminobenzoic acid ）誘導体、シンナメート（cinnamate）誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン（benzophenone）、ジベンゾールメタン（dibenzole methane）、アントラニレート（antranilate）、ショウノウ誘導体（camphor derivatives）、メチレンビスベンゾトリアゾイルテトラメチルブチルフェノール（methylene bis-benzotriazoyl tetramethylbutyl phenol）、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（bis-ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine）からなる群より１種以上選択される請求項１に記載の高分子複合粒子。
7. 前記高分子複合粒子の平均粒径が０．０１μｍ〜１０００μｍである請求項１に記載の高分子複合粒子。
8. 前記高分子複合粒子が紫外線遮断用である請求項１に記載の高分子複合粒子。
9. （ａ）紫外線遮断剤をラジカル重合性単量体または多官能性架橋単量体に溶解および分散させ開始剤を添加する工程；
   （ｂ）前記紫外線遮断剤を含有する分散体を分散安定化剤の存在下に溶媒に乳化させて液滴を形成する工程；
   （ｃ）前記液滴を重合反応させて高分子複合粒子を製造する工程；および
   （ｄ）前記で製造した高分子複合粒子を洗浄および乾燥する工程を含むことを特徴とする高分子複合粒子の製造方法。
10. 前記（ａ）工程での開始剤が、ベンゾイルパーオキシド、ラウリルパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、メチルエチルケトンパーオキシド、ｔ−ブチルヒドロパーオキシドなどのパーオキシド系；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２’−アゾビス−２−メチルイソブチロニトリルから選択されるアゾ系化合物からなる群より１種以上選択され、前記ラジカル重合性単量体および多官能性架橋単量体総１００質量部に対して０．１〜１０質量部で含まれる請求項９に記載の高分子複合粒子の製造方法。
11. 前記（ｂ）工程での分散安定化剤が、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースから選択されるセルロース誘導体；ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸、ポリビニルアセテートまたはポリビニルピロリドンとビニルアセテートの共重合体；コロイドシリカからなる群より１種以上選択され、前記ラジカル重合性単量体および多官能性架橋単量体総１００質量部に対して０．１〜２０質量部含まれる請求項９に記載の高分子複合粒子の製造方法。
12. 請求項１の高分子複合粒子を有効成分として含有することを特徴とする紫外線遮断用化粧料組成物。
13. 前記化粧料組成物が紫外線遮断剤を含有する高分子複合粒子を組成物総質量に対して０．０１〜５０質量部含有する請求項１２に記載の紫外線遮断用化粧料組成物。