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JP2006514220A - 弁座における多段円錐ジオメトリを備えた弁体 - Google Patents

弁座における多段円錐ジオメトリを備えた弁体 Download PDF

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Abstract

本発明は、高い圧力下にある液体を制御するための弁(1)であって、弁座領域(5)が設けられており、該弁座領域(5)で高圧領域(6,23)と低圧領域(7)とが互いに接続可能であるかまたは互いに分離可能である形式のものに関する。弁ボディ(2)に円錐形の弁部材(3)に対する座面(29)が形成されており、弁ボディ(2)に設けられた座面(29)が傾けられて延びている。円錐形の弁部材(3)が、少なくとも1つの第1の円錐面(20)と1つの第2の円錐面(21)とを備えた多段円錐ジオメトリ(19)を弁座領域(5)に有しており、円錐面(20,21)が、互いに異なる座角度差(18,18a,27,28)を有している。

Description

技術分野
たとえば混合気圧縮型のまたは自己着火式の内燃機関に使用される燃料噴射システムには、今日、燃料量を制御するための電磁弁が使用される。閉鎖された状態でこの電磁弁は、燃料が、閉じ込められた容積から流出し得ないために働く。これに対して、開放した状態では、燃料通流が可能となる。このような形式の弁によって、たとえば直接噴射式の内燃機関に用いられる燃料噴射装置での使用時に、1500barよりも多いオーダにある高いシステム圧が形成されなければならない。この弁に形成された弁座は、単段円錐を備えてI型弁(内向きに開放する配置形式)構成もしくはA型弁(外向きに開放する配置形式)構成で製造される。
背景技術
自己着火式の内燃機関に用いられる燃料噴射装置に使用される弁は、構成スペース制限されてますます小さくなる。これに対して、形成したいシステム圧は、激しく高まる傾向を有している。これによって、このような形式の弁において、特に弁座領域により高い負荷が生ぜしめられる。このより高い負荷によって、キャビテーション効果のほかに、機械的な弁座摩耗もシール領域に生ぜしめられ得る。ドイツ連邦共和国特許第4238727号明細書に基づき、このような弁が公知である。
より高い負荷時に弁座領域に生ぜしめられる摩耗によって、このような形式の弁の耐用年数にわたる開閉過程に関する切換特性の変化ひいては単段円錐を備えた弁の耐用年数の増加につれて噴射量のドリフトが生ぜしめられる。
たとえば高圧噴射システムに使用されるような電磁弁の慣用の弁座では、弁ニードルと、この弁ニードルがガイドされた弁ボディとが、互いに異なる円錐角で製造されている。これに基づき、弁座領域に生ぜしめられる座角度差が得られる。この座角度差は、一方では、新規状態における正確に規定されたシール縁部を生ぜしめる。さらに、座角度差は、単段円錐を備えた弁座では、弁ニードルと弁ボディとの間の減衰ギャップの構成を生ぜしめる。
電磁弁の耐用年数にわたって生ぜしめられる、シール領域における機械的な摩耗に基づき、弁ニードルと弁ボディとの円錐角が運転期間の増加につれて同化する。電磁弁の新規状態で線形に延びるシール部(シール縁部)から、運転時間の経過において、すり合わせ運転された状態で面状のシール部が形成される。シール面の、摩耗に基づき生ぜしめられる表面構造の構成に応じて、シール面が高圧によって徐々に浸透させられ得る。新規状態における線形のシール部から、すり合わせ運転された状態における面状のシール部への移行に基づき、ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.が元々のシール縁部から摩耗領域に移動する。このことは、元々ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.が減少することを意味している。すり合わせ運転された状態で面状のシール部に生ぜしめられたハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.Betrieb,DLは、新規状態におけるハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.よりも僅かである。これによって、ハイドロリック的に有効な面が変化する。電磁弁の弁座領域におけるハイドロリック的に有効な面の変化に基づき、弁ニードルに作用する力比が変化する。このことは、耐用年数にわたる電磁弁の切換特性の望ましくない変化を生ぜしめ、したがって、量ドリフトを生ぜしめる。
発明の開示
内燃機関の燃焼室内に噴射したい燃料量の可能な限り僅かな量ドリフトを耐用年数にわたって達成するためには、ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.が弁の耐用年数にわたって十分にコンスタントなままであることが必要となる。このことを達成するためには、本発明により提案された、高圧燃料噴射システムに使用するための電磁弁の弁座が、たとえば二段円錐ジオメトリもしくは多段円錐ジオメトリをアンダカットを含めて有している。本発明により提案された弁座の構成は、弁座のシール領域内に座角度差の減少部が形成されており、弁座のシール領域の後方(自由領域)に座角度差の増加部が形成されていることによって優れている。二段円錐ジオメトリもしくは多段円錐ジオメトリは、弁の新規状態で面状のシール部、すなわち、面状の接触領域を生ぜしめる。なぜならば、弁ニードルと弁ボディとの僅かな座角度差および粗さもしくは平面度誤差によって、弁ニードルの外側の縁部が弁ボディに載置するだけでなく、加工から生じる、弁ニードルと弁ボディとの間の「粗さピーク」も生ぜしめられるからである。したがって、新規状態では、単段円錐を備えた、公知先行技術に基づき公知の構成と異なり、線形のシール領域(シール縁部)は存在しない。自由領域、すなわち、シール領域の背後に位置する領域における増加させられた座角度差に基づき、生ぜしめられる機械的な摩耗の制限を達成することができる。この手段によって、新規状態におけるハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.が減少させられ、弁のすり合わせ運転された状態で安定化される。これによって、ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.を、本発明により提案された弁の耐用年数にわたってほぼコンスタントに保つことができる。これによって、内燃機関の燃焼室内に噴射される燃料量の量ドリフトおよび燃料量のばらつきを弁の耐用年数にわたって減少させることができる。したがって、ほぼコンスタントなハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.に基づき、本発明により提案された座ジオメトリを装備した弁の切換特性の変化を有利な形式で十分に回避することができる。
本発明により提案された、二段円錐ジオメトリまたは多段円錐ジオメトリとしての弁座の構成は、特に自己着火式の内燃機関に使用されるような高圧噴射システムに有利に使用することができる。この高圧噴射システムでは1500barよりも多い圧力が形成可能であり続けなければならない。本発明により提案された弁座の構成は、内向きに開放する弁(I型弁)だけでなく、外向きに開放する弁(A型弁)にも使用することができる。有利な構成では、シール縁部の両側に延びる円錐面に基づき、シール縁部の摩耗の事例では、ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.が不変のままである。なぜならば、運転中のシール縁部の平坦化に基づき生ぜしめられる座同化が同時に半径方向内向きにかつ半径方向外向きに延びているからである。これによって、元々線形のシール部から弁の耐用年数の途中でシール縁部の平坦化の増加時に、両側に向かって対称的に増加するシール面が生ぜしめられる。このシール面の特徴は、コンスタントなハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.である。
構成
以下に、本発明の実施例を図面につき詳しく説明する。
図1には、本発明により提案された、I型弁の弁座領域における多段円錐ジオメトリの構成が示してある。
電磁弁1、たとえば燃料のための高圧噴射装置に使用されるディーゼル電磁弁は、弁ボディ2と、この弁ボディ2内にガイドされた、弁ニードル3として形成された弁部材3とを有している。この弁部材3と弁ボディ2とは対称線に対して対称的に形成されている。弁ボディ2と弁ニードル3との間の弁座領域は符号5によって示してある。この弁座領域5によって、弁ニードル3の閉鎖された状態で、高圧PHDが形成される高圧領域6と、より僅かな圧力PNDが形成される低圧領域7とが互いに分離される。
図1に示した弁座領域5の構成では、シール縁部8が、多段円錐19の第1の円錐面20のシール縁部直径25(d)によって規定される。第1の円錐面20の範囲内には座角度差18が形成されている。この座角度差18はほんの数度(≦5゜)である。弁1の新規状態では、シール縁部直径25dが、ハイドロリック的に有効なシール直径14dhydr,neuにほぼ合致している。本発明により第1の円錐面20に形成された座角度差18に基づき、シール縁部8と座面29との間の接触は運転の経過において面状の接触に移行する。しかし、この場合、僅かな座角度差18に基づき、運転時間の経過において生ぜしめられるハイドロリック的に有効なシール直径15(図1に示した破線参照)dhydr.,Betriebが、新規状態におけるハイドロリック的に有効なシール直径14dhydr.,neuにほぼ合致していることが確保されている。多段円錐ジオメトリ19の、第1の円錐面20に続く第2の円錐面21は、角度範囲28(図1参照)内の角度の円錐面を備えていてよい。弁ボディ2の座面29に接触しない第2の円錐面21を設けることによって、シール作用が、座角度差18で形成された第1の円錐面20と、弁ボディ2の座面29との間にしか生ぜしめられないことが確保されている。これによって、すり合わせ運転幅もしくは摩耗幅が制限される。
多段円錐ジオメトリ19の第2の円錐面21が形成されている傾角は、傾角28によって図示した範囲内にあってよい。多段円錐ジオメトリ19の第2の円錐面21は、弁ニードル3に設けられた第2の周縁部12の下方で多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20に続いている。弁ボディ2の座面29と協働して、弁ニードル3の閉鎖された状態では、この弁ニードル3の新規状態だけでなく、すり合わせ運転された状態でも、低圧PNDが形成される低圧領域7からの、高圧PHDが形成される高圧領域6の面状のシールが達成される。図1には、弁ニードルの外径が符号24(d)によって示してある。
図1に示した、弁ニードル3の第1の円錐面20と弁ボディ2の座面29との間の間隔は、第2の円錐面21の円錐角28の適宜な選択時に減衰角として機能する。なぜならば、弁ニードル3の閉鎖時に、ギャップ内に位置する燃料が押し出されなければならず、これによって、座面29に対する第1の円錐面20の当接が、減衰ギャップ10内にまだ含まれている燃料によって減衰されるからである。
図2から、本発明により提案された、I型弁における弁座領域の別の構成を知ることができる。
高圧流入通路23を介して燃料供給される高圧領域6は、低圧PNDが形成される低圧領域7から弁ニードル3の第1の円錐面20によって分離されている。
図1に示した構成と異なり、図2に示した、本発明により提案されたI型弁22の構成では、第2の円錐面21が内方に折り返されている。すなわち、図1に示した構成に比べて、第2の円錐面21が減衰に貢献していない。
図3から、I型弁の弁ニードルにおける多段円錐ジオメトリを知ることができる。
図3から明らかであるように、シール縁部8は弁1の新規状態でシール縁部直径25(d)で形成されている。このシール縁部直径25(d)は、弁1の新規状態で、ハイドロリック的に有効な直径dhydr.neu(符号14参照)に相当している。弁座領域5におけるシール縁部8の両側には、多段円錐ジオメトリ19の円錐面20,21が延びている。多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20は座角度差18で形成されているのに対して、第2の周縁部12の下方で第1の円錐面20に続く第2の円錐面21は、座面29と第2の円錐面21とに対して別の座角度差27を備えて形成されている。運転の経過において生ぜしめられる、弁ボディ2の、シール縁部8に向かい合って位置する座面29との接触時のシール縁部8の領域における平坦化時には、座同化が同時に半径方向内向きにかつ半径方向外向きに行われ、これによって、増加するすり合わせ運転と、生ぜしめられる摩耗とに基づき、ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.,Betriebがほぼ不変のままとなる。図3では、シール縁部8が弁ニードル3の第2の周縁部12に合致している。
図4から、図3に示した、本発明により提案された弁座の構成を知ることができる。
図3に示した構成と異なり、図4に示した構成では、第2の円錐面21の下方に別の第3の円錐面41が形成されている。この別の第3の円錐面41は第1の円錐面20の可能なすり合わせ運転領域もしくは摩耗領域を制限しており、これによって、摩耗が最大で第2の周縁部12にまでしか拡幅し得ない。図4に示した弁座の機能形式は、図3に示した弁座の機能形式に類似している。
図5から、本発明により提供された弁座領域の別の構成を知ることができる。
図1〜図4に示した構成と異なり、図5に示した構成によれば、弁ボディ2の座面29にポケット36(アンダカット)が形成されている。このポケット36は第2の周縁部12に向かい合って位置している。この第2の周縁部12は多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20を第2の円錐面21から分離している。座面29に形成されたポケット36の役割は、第1の円錐面20と座面29との接触時に生ぜしめられる摩耗を円錐面20に制限することにある。
第1の円錐面20は座角度差18で形成されているのに対して、第2の円錐面21は、弁ニードル3に設けられた第2の周縁部12の下方に円錐角27を有している。この円錐角27は第1の円錐面20の座角度差18よりも高く設定されている。この事例でも、シール縁部直径25(d)は多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20の外径に合致している。弁ニードル3のニードル直径24(d)は同時に弁ボディ2のガイド直径に相当している。図5に示したI型弁22の構成でも、ほぼコンスタントなハイドロリック的なシール直径を新規状態で、弁座のすり合わせ運転された状態に比べて達成することができる。
図1〜図5に示した本発明による構成では、I型弁座22、すなわち、内向きに開放する弁を説明しているのに対して、以下に概略的に示す構成では、A型弁を説明する。符号22で示したI型弁では、弁ニードル3が高圧流入通路23に向かって開放しかつ高圧領域6と低圧領域7との間の流れ接続部を解放する。これに対して、以下で説明する、図6〜図10により形成された構成は、弁ニードル3が高圧領域6への高圧流入通路23に対して高圧領域6から離れる方向、すなわち、外向きに開放するA型弁である。
図6には、外向きに開放する弁体を備えたA型弁のための弁座領域の第1の構成が示してある。
図6に示した電磁弁1は弁ボディ2を有している。この弁ボディ2には座面29が形成されている。電磁弁1の弁ボディ2を貫通した高圧流入通路23を介して、高い圧力下にある燃料が、高圧PHDが形成される高圧領域6に流入する。電磁弁1の弁ニードル3は対称線4に対して対称的に形成されている。外向きに開放する弁ニードル3の第1の周縁部は符号32で示してあるのに対して、外向きに開放する弁ニードル3の別の第2の周縁部は符号33で示してある。弁ボディ2の座面29に向かい合って位置する弁座領域5には多段円錐ジオメトリ19が形成されている。この多段円錐ジオメトリ19は第1の円錐面20と第2の円錐面21とを有している。多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20は座角度差18で形成されているのに対して、弁ニードル3の第1の周縁部32に沿って第1の円錐面20に続く第2の円錐面21は、座角度差18に比べて大きな円錐角27で形成されている。図6に示した、外向きに開放する弁ニードル3の開放された状態では、高圧領域6と、低圧PNDが形成される低圧領域7とが互いに接続されている。シール縁部直径25dは、弁1の新規状態におけるハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.,neu14にほぼ相当している。多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20は座角度差18で形成されているのに対して、第2の円錐面21は別の座角度差27で延びている。この座角度差27は第1の円錐面20の座角度差18よりも大きく選択されている。これによって、弁ニードル3における摩耗領域が、シール縁部8と、外向きに開放する弁ニードル3に設けられた第1の周縁部32との間の領域に制限されている。この領域(符号9参照)は、弁ボディ2に設けられた座面29と、多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20との間のすり合わせ運転領域もしくは摩耗領域を特徴付けている。
シール縁部8は、図6に示したA型弁37では、第1の円錐面20に向かい合って位置する座面29の縁部に形成されている。
図7には、多段円錐ジオメトリが形成された弁ニードルを備えたA型弁の別の構成が示してある。
図6に示した、本発明により提案された弁座領域5の構成と異なり、弁ボディ2には、ポケット状に形成された切欠きが位置している。弁ボディ2の、高圧流入通路23が開口した切欠きの内部では、シール縁部8が座面29に形成されている。シール縁部8は、図7に示した、本発明により提案された電磁弁1における弁座領域5の構成でも、第1の円錐面20に向かい合って位置している。多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20は弁ボディ2の座面29に対して座角度差18を備えて延びている。電磁弁1の、外向きに開放する弁ニードル3の第1の周縁部32には、多段円錐ジオメトリ19の第2の円錐面21が続いている。この第2の円錐面21は第1の円錐面20に比べて円錐角(27)で形成されている。第1の円錐面20はシール面17を形成している。これに対して、多段円錐ジオメトリ19の第2の円錐面21は、より大きな円錐角27に基づき、摩耗を制限するための自由面を成している。
弁ボディ2と弁ニードル3との間の高圧領域6にポケットを形成することに基づき、図7に示した構成では、弁ニードル3の直径d24と座直径d25とは合致せず、この座直径d25が弁ニードル3のニードル直径d24を上回っている。図6に示したA型弁37の構成に比べて、図7に示した構成によるシール縁部8は、弁ボディ2に設けられたポケット深さの量だけ外方に移動させられており、これによって、図6に示した構成に比べて、より大きな座直径d25が生ぜしめられる。
弁1の新規状態では、この弁のハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.,neuがシール縁部直径25(d)にほぼ合致している。これに対して、弁の運転の経過において、ハイドロリック的に有効なシール直径25,dhydr.,Betriebは、図7に破線で示したように、僅かしか移動しない。
図7に示したA型弁37における構成では、シール縁部8が、座角度差18を有する多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20のほぼ真ん中に向かい合って位置している。多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20はシール面として機能するのに対して、弁ボディ2の座面29に対して座角度差27を備えた第2の円錐面21は自由面として働く。
図8には、弁ボディの座面に形成された斜面を備えた、本発明により提案された弁座領域の構成が示してある。
座面29が一貫して延びている、図6および図7に示したA型弁37に関する構成と異なり、図8に示した構成による座面29には、この座面29に対して所定の角度だけ傾けられて形成された面取り部38が設けられている。この面取り部38への座面29の移行部が、弁ボディ2に設けられたシール縁部8を形成している。図6および図7に示した、弁ニードル3に設けられた多段円錐ジオメトリ19に類似して、図8に示した弁ニードル3には、第1の円錐面20と第2の円錐面21とが形成されている。両円錐面20,21は、互いに異なる円錐角18;27、すなわち、つまり、第1の円錐面21の座角度差18および角度差27を有している。シール縁部直径25(d)は、新規状態におけるハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.,neuと同一である。運転の経過において、すり合わせ運転領域もしくは摩耗領域が半径方向内向きにならびに半径方向外向きに延びて拡幅し、これによって、ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.Betriebがコンスタントなままとなる。
第1の円錐面20と第2の円錐面21とは、外向きに開放する弁ニードル3の第1の周縁部32によって互いに分離されている。外向きに開放する弁ニードル3の第2の周縁部33は、弁ニードル3に設けられた第2の円錐面21の制限部を形成している。弁ボディ2の座面29が面取り部38に移行する移行箇所はシール縁部8を形成している。
図8に示した、弁ボディ2内での弁ニードル3の位置では、高圧領域6に開口した高圧流入通路23と、低圧PNDが形成される低圧領域7とが互いに接続されており、これによって、高圧流入通路23を介して燃料が高圧領域6を介して電磁弁1の低圧領域7に流入する。
図9から、外向きに開放する弁ニードルの別の構成を知ることができる。
弁ニードル3のシール縁部8は多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20に位置していて、座角度差18,18aで形成されている。シール縁部8の両側に弁ニードル3に対して半径方向内向きにもしくは半径方向外向きに延びるように、第1の円錐面20が座角度差18,18aを有している。シール縁部8が、A型弁37の、外向きに開放する弁ニードル3の運転中に弁ボディ2の座面29に当接すると、座角度差18,18aに基づき両側にシール縁部8の平坦化部が対称的に第1の円錐面20に延びる、すなわち、対称的に半径方向外向きにならびに対称的に半径方向内向きに延びる。これによって、電磁弁1の運転中に、均一に延びる平坦化部がシール縁部8に達成される。すり合わせ運転領域もしくは摩耗領域の制限は、図9に示した、本発明により提案された弁座領域5の構成では、多段円錐ジオメトリ19の第2の円錐面21が、第1の円錐面20に比べて鋭角の円錐角を有していることによって行われる。
図9に示した構成による弁1の新規状態では、弁ニードル3に設けられたシール縁部8のシール縁部直径25と、ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.,neu14とが合致している。運転の経過において、ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.,Betrieb15が生ぜしめられる。このシール直径dhydr.,Betrieb15は、弁1の新規状態におけるハイドロリック的に有効なシール直径14と僅かしか異なっていない。
弁ニードル3の多段円錐ジオメトリ19の、自由面として働く第2の円錐面21の制限部は、外向きに開放する弁ニードル3の第2の周縁部32を形成している。図9に示した弁ニードル3の位置では、弁ボディ2の高圧流入通路23と、高圧PHDが形成される高圧領域6と、低圧PNDが形成される低圧領域7とが互いに流れ接続されている。
さらに、図10には、弁ボディで座面に形成されたポケットを備えたA型弁の構成が示してある。
図10に示した、弁座領域5の本発明による構成によれば、弁ボディ2の座面29が、ポケット状に形成された切欠き36を有している。
弁ボディ2の座面29に形成されたポケット36は、すり合わせ運転/摩耗領域を、弁ボディ2に設けられたシール縁部8と、多段円錐ジオメトリ19の第1の円錐面20との間の領域に制限する機能を有している。弁ニードル3における同じ機能は、多段円錐ジオメトリ19の第2の円錐面21によって満たされている。なぜならば、この第2の円錐面21の円錐角が第1の円錐面20の円錐角よりも鋭角に延びているからである。
外向きに開放するA型弁37の弁ニードル3は、第1の円錐面20と第2の円錐面21とを有する多段円錐ジオメトリ19を有している。
外向きに開放する弁ニードル3の多段円錐ジオメトリ19の第2の円錐面21は別の座角度差27を備えて形成されている。第1の円錐面20は第1の周縁部32によって制限される。この第1の周縁部32では、第1の円錐面20が第2の円錐面21に移行している。この第2の円錐面21は第2の周縁部33によって制限されている。図10に示した、外向きに開放するA型弁37の構成では、すり合わせ運転/摩耗領域9が、座面29の、シール縁部8とポケット状の切欠き36との間に位置する部分と、第1の円錐面20とに制限されている。
図10に示した、外向きに開放するA型弁37の新規状態では、ハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.,neu(位置14参照)が、弁ボディ2に設けられたシール縁部8の直径に合致している。所定の運転時間後に生ぜしめられるハイドロリック的に有効なシール直径dhydr.,Betrieb(符号15参照)は、外向きに開放するA型弁37のハイドロリック的に有効なシール直径14dhydr.,neuと僅かしか異なっておらず、これによって、外向きに開放するA型弁37のより長い運転後でも、弁座領域5にハイドロリック的な面の変化に基づく、外向きに開放するA型弁37の開閉特性にネガティブな影響を与える許容することができない力が生ぜしめられ得ない。これによって、噴射量の再現可能性だけでなく、開閉時点の再現可能性も保証されている。
I型弁における二段円錐座ジオメトリの構成を示す図である。 I型弁における弁座領域に設けられた二段円錐座ジオメトリの別の構成を示す図である。 シール縁部の両側に延びる円錐面を備えた、I型弁における弁座領域の別の構成を示す図である。 同じくシール縁部の両側の円錐面を備えた、I型弁の弁座領域に設けられたシール縁部の別の構成を示す図である。 弁ボディに加工されたポケットを備えた弁座領域における多段円錐ジオメトリの構成を示す図である。 A型弁の弁座領域における多段円錐ジオメトリの構成の第1の構成を示す図である。 A型弁における弁座領域の別の構成を示す図である。 斜め面取りされた弁ボディシール面を備えた、A型弁における弁座領域の別の構成を示す図である。 2つの円錐台形面が延びるシール縁部を備えた、本発明により提供された弁座領域の別の構成を示す図である。 弁ボディシール面に統合されたポケットを備えた、A型弁における弁座領域の別構成を示す図である。
符号の説明
1 電磁弁、 2 弁ボディ、 3 弁ニードル、 4 対称線、 5 弁座領域、 6 高圧領域、 7 低圧領域、 8 シール縁部、 9 すり合わせ運転/摩耗領域、 10 減衰ギャップ、 11 周縁部、 12 周縁部、 14 シール直径、 15 シール直径、 17 シール面、 18,18a 座角度差、 19 多段円錐ジオメトリ、 20 円錐面、 21 円錐面、 22 I型弁、 23 高圧流入通路、 24 ニードル直径、 25 シール縁部直径、 27 座角度差、 28 角度範囲、 29 座面、 32 周縁部、 33 周縁部、 36 ポケット、 37 A型弁、 38 面取り部、 41 円錐面

Claims (10)

  1. 高い圧力下にある液体を制御するための弁であって、弁座領域(5)が設けられており、該弁座領域(5)で高圧領域(6,23)と低圧領域(7)とが互いに接続可能であるかまたは互いに分離可能であり、さらに、弁ボディ(2)が設けられており、該弁ボディ(2)に円錐形の弁部材(3)に対する座面(29)が形成されており、弁ボディ(2)に設けられた座面(29)が傾けられて延びている形式のものにおいて、円錐形の弁部材(3)が、少なくとも1つの第1の円錐面(20)と1つの第2の円錐面(21)とを備えた多段円錐ジオメトリ(19)を弁座領域(5)に有しており、第1の円錐面(20)が、弁ボディ(2)の座面(29)に対して座角度差(18,18a)を有していることを特徴とする、高い圧力下にある液体を制御するための弁。
  2. 多段円錐ジオメトリ(19)の第2の円錐面(21)が、第1の円錐面(20)の座角度差(18,18a)を上回る別の座角度差(27)を有している、請求項1記載の弁。
  3. 弁ニードル(3)が、内向きに開放する弁(22)または外向きに開放する弁(37)の弁部材を成している、請求項1記載の弁。
  4. シール縁部(8)が、弁ニードル(3)の周縁部(11,12;32,33)に合致しており、シール縁部(8)から円錐面区分が、半径方向内向きにかつ半径方向外向きに延びており、該円錐面区分が、弁ボディ(2)に設けられた座面(29)に対して、異なる座角度差(18,18a)を有している、請求項2記載の弁。
  5. 第1の円錐面(20)と弁ボディ(2)の座面(29)との間の座角度差(18,18a)が5°よりも少なく設定されている、請求項1記載の弁。
  6. 内向きに開放する弁(22)の弁ボディ(2)の座面(29)または外向きに開放する弁(37)の座面(29)にポケット状の切欠き(36)が形成されている、請求項1または3記載の弁。
  7. シール縁部(8)が、多段円錐ジオメトリ(19)の周縁部(11,12;32,33)に合致していて、第1の円錐面(20)と第2の円錐面(21)との間に配置されている、請求項1記載の弁。
  8. 第1の円錐面(20)における座角度差(18,18a)が、半径方向外向きに延びて形成されている、請求項7記載の弁。
  9. シール縁部(8)が、弁ボディ(2)の座面(29)の縁部として形成されている、請求項1記載の弁。
  10. シール縁部(8)が、座面(29)と、弁ボディ(2)に形成された面取り部(38)との間に位置しており、該面取り部(38)が、座面(29)に対して座角度差(18,18a)を有している、請求項1記載の弁。
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