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JP2006294195A - 光情報記録用Ａｇ合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット - Google Patents

光情報記録用Ａｇ合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット Download PDF

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JP2006294195A JP2005117313A JP2005117313A JP2006294195A JP 2006294195 A JP2006294195 A JP 2006294195A JP 2005117313 A JP2005117313 A JP 2005117313A JP 2005117313 A JP2005117313 A JP 2005117313A JP 2006294195 A JP2006294195 A JP 2006294195A
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裕基 田内
Junichi Nakai
淳一 中井
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Kobe Steel Ltd
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Abstract

【課題】 レーザーマーキングが容易にできる光情報記録用Ag合金反射膜、この反射膜を備えた光情報記録媒体、及び、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 (1) Agを主成分とし、Bi，Sbの少なくとも１種を合計で0.01〜３at％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42at％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜、(2) 前記Ag合金反射膜がＹを0.1 〜３at％含有するもの、(3) 前記Ag合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体、(4) 前記Ag合金反射膜形成用のAg合金スパッタリングターゲットであって、Agを主成分とし、Sbを0.01〜３at％（またはBiを0.03〜10at％）含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42at％含有することを特徴とするもの等。
【選択図】 図なし

Description

本発明は、光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットに関する技術分野に属し、特には、CD，DVD ，Blu-ray ，HD-DVD等の光情報記録媒体において、ディスク形成後にレーザー等を用いたマーキングを可能とするために、低熱伝導率、低溶融温度、高反射率、高耐食性を有する反射膜、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲット、及び、この反射膜を備えた光情報記録媒体に関する技術分野に属するものである。
光ディスクにはいくつかの種類があるが、記録再生原理から大きくは、再生専用、追記型、書き換え型の３種類に分類される。
この中、再生専用ディスクは、図１に例示するように、透明プラスチック基体上に設けた凹凸のピットにより、製造時に記録データを形成した後にAl、Ag、Au等を母材とする反射膜層を設けた構造を有しており、データ読み出し時にはディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することにより、データの再生を行う。また、それぞれ個別の記録ピットを形成した上に反射膜層を設けた基材と半透明反射層を設けた基材の２枚の基材を張り合わせて２層に記録したデータを読み出すタイプもある。片面でこの記録再生方式では、データは読み出し専用（書き込み、変更不可）であり、該方式を採る光ディスクとしては、CD-ROM、DVD-ROM などが挙げられる。なお、図１は断面構造を示す模式図であって、図１において、符番の１はポリカーボネイト基体、２は半透明反射層（Au，Ag合金，Si）、３は接着層、４は全反射膜層（Ag合金）、５はUV硬化樹脂保護層を示すものである。
このような再生専用の光ディスクでは、あらかじめディスク形成時に情報のパターンを形成したスタンパによるプレス加工でディスクを大量生産することから、ディスク個別にIDをつけることは困難であった。しかしながら、ディスクの不正コピーの防止、商品流通のトレーサビリティの向上、付加価値の向上等の目的から、再生専用光ディスクにおいてもレベルゲート方式や BCA（Burst Cutting Area）方式など、ディスク形成後に、専用の装置を用いてディスク一枚毎のIDを記録したディスクが規格化され始めている。このIDのマーキングは、現状では主に製造後のディスクにレーザー光を照射して、反射膜のAl合金を溶融し、反射膜に穴をあけることにより記録を行うという方法により行われている。
再生専用の光ディスクの反射膜としては、これまで一般構造材として流通量が多く、そのため安価な JIS6061（Al-Mg 系合金）を中心としたAl合金が広く使用されてきた。
しかしながら、上記6061系Al合金はレーザーマーキング加工を前提とした材料でないことから、下記のような課題を残している。
即ち、熱伝導率が高く、マーキングに高いレーザーパワー要し、そのため基材であるポリカーボネート基板や接着層にダメージを与えるという問題点と、耐食性が低く、レーザーマーキングを行った場合、マーキングあとに空洞が出来るため、その後の恒温恒湿試験において反射膜の腐食が発生するという問題点がある。
また、記録型の光ディスクでは、より高反射率なAg合金が広く使用されている。しかしながら、Ag合金を反射膜として使用する場合、Agの耐熱性の低さから、高温でAg膜が凝集し、反射率が低下するという問題があり、耐久性の向上などのため、各種の提案がなされている。例えば、特開２００２−１５４６４号公報では、Agに希土類元素を0.1 〜３原子％含有させることでAgの結晶粒成長（凝集）を抑制する技術が開示されている。また、特開２００４−１３９７１２号公報では、AgにBi又はSbを含有させることで、高い熱伝導率を維持したまま、高い反射率・耐久性を向上させる技術が開示されている。
また、Ag合金の熱伝導率の低減に関して、特開平４−２５２４４０号公報にはAgにGe，Si，Sn，Pb，Ga，In，Tl，Sb，Biを添加して熱伝導率を低減する方法が開示されている。特開平４−２８０３２号公報には、AgにCr，Ti，Si，Ta，Nb，Pt，Ir，Fe，Re，Sb，Zr，Sn，Niを添加して熱伝導率を低減する方法が示されている。しかしながら、これらの反射膜は、レーザー照射により膜を溶融・除去することを前提として検討されていないため、膜の熱伝導率の低下と同時に溶融温度が上昇するものもあり、レーザーマーキング用Ag合金として要求特性を満たすものは未だ提供されていない。
特開２００２−１５４６４号公報 特開２００４−１３９７１２号公報 特開平４−２５２４４０号公報 特開平４−２８０３２号公報
以上述べたように、レーザーマーキングに対応したAg合金には、低熱伝導率、低溶融温度、高耐食性、耐熱性が必要とされる。
現状、再生専用の光ディスクでは、反射膜には6061系Al合金が使用されているが、本合金は熱伝導率、耐食性で上記レーザーマーキングには対応が困難である。
本発明はこのような事情に着目してなされたものであって、その目的は、再生専用光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできる光情報記録用Ag合金反射膜、この反射膜を備えた光情報記録媒体、及び、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲットを提供しようとするものである。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、Agに対して特定の合金元素を特定量含有させたAg合金薄膜が低い熱伝導率、低い溶融温度、高い耐食性を有し、レーザーマーキングに適した光情報記録用反射膜として好適な反射薄膜層（金属薄膜層）であるとの知見を得た。本発明はこのような知見に基づきなされたものであり、本発明によれば上記目的を達成することができる。
このようにして完成され上記目的を達成することができた本発明は、光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットに係わり、特許請求の範囲の請求項１〜２記載の光情報記録用Ag合金反射膜（第１〜２発明に係るAg合金反射膜）、請求項３〜４記載の光情報記録媒体（第３〜４発明に係る光情報記録媒体）、請求項５〜７記載の光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット（第５〜７発明に係るスパッタリングターゲット）であり、それは次のような構成としたものである。
即ち、請求項１記載の光情報記録用Ag合金反射膜は、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、Bi，Sbの少なくとも１種を合計で0.01〜３原子％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42原子％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜である〔第１発明〕。
請求項２記載の光情報記録用Ag合金反射膜は、Ｙを0.1 〜３原子％含有する請求項１記載の光情報記録用Ag合金反射膜である〔第２発明〕。
請求項３記載の光情報記録媒体は、請求項１または２記載のAg合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体である〔第３発明〕。
請求項４記載の光情報記録媒体は、レーザーマーキング用である請求項３記載の光情報記録媒体である〔第４発明〕。
請求項５記載の光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Agを主成分とし、Sbを0.01〜３原子％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42原子％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第５発明〕。
請求項６記載の光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Agを主成分とし、Biを0.03〜10原子％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42原子％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第６発明〕。
請求項７記載の光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Ｙを0.1 〜３原子％含有する請求項５または６記載の光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第７発明〕。
本発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜によれば、再生専用光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできる。本発明に係る光情報記録媒体は、かかるAg合金反射膜を有し、再生専用光ディスクにおけるレーザーマーキングを好適に行うことができる。本発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットによれば、かかるAg合金反射膜を形成することができる。
前述したように、レーザーマーキングに適したAg合金薄膜では、低い熱伝導率、低い溶融温度、高い耐食性を有することが必要である。
本発明者らは、Agに種々の元素を添加したAg合金スパッタリングターゲットを製作し、これらターゲットを使用してスパッタリング法により種々の成分・組成のAg合金薄膜を形成し、その組成及び反射薄膜層としての特性を調べ、以下〔下記(1) 〜(2) 〕のことを見いだした。
(1) AgにCu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種（即ち、Cu，Ge，Mg，Znの１種以上）を合計で３〜42原子％（at％）添加することにより、マーキングに使用するレーザー光の吸収率を増大し得ると共に、熱伝導率を低下し得、且つ、溶融温度（液相線温度）を低下し得、ひいては、より小さなレーザーパワーでマーキングすることが可能となり、レーザーマーキングが容易にできるようになる。この元素の添加量が３at％未満の場合には、これらの効果が小さく、42at％超の場合には、逆に溶融温度の増加や初期反射率の大幅な低下によりレーザーマーキング可能な反射膜として不適なものとなる。
(2) 更にBi，Sbの１種以上を合計で0.01〜３at％添加することにより、耐食性を向上し得、ひいては、高温高湿環境下での反射率低下を大幅に抑制することが可能となる。つまり、耐久性を向上し得る。この元素の添加量が0.01at％未満の場合には、この効果は小さく、３at％超の場合には、反射率の低下や反射膜の着色が生じ、適当でない。
以上のような知見に基づいて本発明は完成されたものであり、前述のような構成の光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットとしている。
このようにして完成された本発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜は、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、Bi，Sbの少なくとも１種を合計で0.01〜３at％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42at％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜である〔第１発明〕。
この光情報記録用Ag合金反射膜は、前記(1) および(2) のことからわかるように、熱伝導率が低く、且つ、溶融温度（液相線温度）が低く、このため、より小さなレーザーパワーでマーキングすることができ、レーザーマーキングが容易にでき、また、耐食性に優れており、このため、高温高湿環境下での反射率低下が大幅に抑制される（耐久性に優れている）。
従って、本発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜は、熱伝導率および溶融温度が低く、耐食性に優れ、レーザーマーキングに良好に対応でき、光情報記録用反射膜として好適に用いることができる。即ち、小さなレーザーパワーでマーキングし得、レーザーマーキングが容易にでき、高温高湿環境下での反射率低下が大幅に抑制される。
本発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜において、更にＹを0.1 〜３at％含有するようにした場合、熱伝導率が更に低くなり、このため、レーザーマーキングをより容易にし得るようになる〔第２発明〕。なお、このＹの添加量が0.1 at％未満の場合には、この効果は小さく、３at％超の場合には、高温高湿環境下での反射率低下が大きくなり、好ましくない。
本発明において、光情報記録用Al合金反射膜の膜厚については、10nm〜200nm とすることが望ましく、更には20nm〜100nm とすることが望ましい。この理由を以下説明する。レーザーによるマーキングは膜厚の薄い方が容易であると考えられるが、膜厚10nm未満と膜が薄い場合には光が透過して、反射率が低下するので、膜厚10nm以上であることが望ましく、更には20nm以上であることが望ましい。一方、膜厚200nm 超と膜厚が厚いとAg合金反射膜を溶融させるためにレーザーが与えるエネルギーを大きくする必要があり、マークの形成が困難になるので、膜厚200nm 以下であることが望ましく、更には100nm 以下であることが望ましい。また、膜厚の増加と共に表面平滑性が低下し、膜厚200nm 超の場合には光が散乱されやすくなり、高い信号出力が得られなくなるため、膜厚200nm 以下とすることが望ましく、更には100nm 以下とすることが望ましい。
本発明に係る光情報記録媒体は、前述のような本発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜を有していることとしている〔第３発明〕。この光情報記録媒体は、レーザーマーキングを好適に行うことができる。このため、過大レーザー出力によるディスク構成材（ポリカーボネイト基板や接着層）の熱ダメージがなく、また、耐食性に優れていることから、高温高湿環境下での反射率低下が生じ難く、かかる点において優れた特性を有することができる。
本発明に係る光情報記録媒体は、上記のように優れた特性を有することができるので、レーザーマーキング用として特に好適に用いることができる〔第４発明〕。
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットは、Agを主成分とし、Sbを0.01〜３at％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42at％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第５発明〕。また、Agを主成分とし、Biを0.03〜10at％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42at％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第６発明〕。
これらのAg合金スパッタリングターゲットによれば、本発明の第１発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜を形成させることができる。即ち、前者の第５発明に係るAg合金スパッタリングターゲットによれば、第１発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜の中、Sbを0.01〜３at％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42at％含有するAg合金反射膜（以下、Ａ型Ag合金反射膜ともいう）を形成させることができる。後者の第６発明に係るAg合金スパッタリングターゲットによれば、第１発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜の中、Biを0.01〜３at％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42at％含有するAg合金反射膜（以下、Ｂ型Ag合金反射膜ともいう）を形成させることができる。なお、第５発明に係るAg合金スパッタリングターゲットとこれにより得られるＡ型Ag合金反射膜とは、Sb量およびCu，Ge，Mg，Znの１種以上の量が同一であり、一方、第６発明に係るAg合金スパッタリングターゲットとこれにより得られるＢ型Ag合金反射膜とは、Cu，Ge，Mg，Znの１種以上の量は同一であるが、Bi量が異なり、スパッタリングターゲットでのBi量が反射膜でのBi量よりも多い。これは、Cu，Ge，Mg，ZnやSbの場合には、ターゲット中に添加された元素量がそのまま薄膜中の含有量に反映されるが、Biの場合には、薄膜中のBi量はターゲット中のBi量の数十％程度に減少してしまうからである。このため、第６発明に係るAg合金スパッタリングターゲットは、上記のような組成（含有量）としている。
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、更にＹを0.1 〜３at％含有するようにした場合は、本発明の第２発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜を形成させることができる〔第７発明〕。なお、Ｙの場合、ターゲット中に添加された元素量がそのまま薄膜中の含有量に反映される。
本発明の実施例および比較例について、以下説明する。なお、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
以下、M1及びM2を含有するAg合金をAg-M1-M2合金と表示、M1、M2及びM3を含有するAg合金をAg-M1-M2-M3 合金と表示する。また、M1をx at％、M2をy at％含有するAg合金をAg-xM1-yM2合金と表示、M1をx at％、M2をy at％、M3をz at％含有するAg合金をAg-xM1-yM2-zM3合金と表示する。即ち、Ag-M1-M2合金とはM1及びM2を含有するAg合金のこと、Ag-M1-M2-M3 合金とはM1、M2及びM3を含有するAg合金のことである。また、Ag-xM1-yM2合金とはM1をx at％、M2をy at％含有するAg合金のこと、Ag-xM1-yM2-zM3合金とはM1をx at％、M2をy at％、M3をz at％含有するAg合金のことである。
〔例１〕
ＤＣマグネトロンスパッタにより、ポリカーボネート基板（厚さ0.6mm 、直径120mm ）上に、Ag-Bi-Cu合金（Bi及びCuを含有するAg合金）薄膜、Ag-Bi-Ge合金薄膜、Ag-Bi-Mg合金薄膜、あるいは、Ag-Bi-Zn合金薄膜を作製（成膜）した。
このようにして成膜されたAg合金薄膜について、溶融温度、熱伝導率および反射率の測定を行い、また、レーザーマーキングを行った。
このとき、Ag合金薄膜の溶融温度は、次のようにして測定した。厚さ１μm に成膜したAg合金薄膜を基板より剥離し、約５mg収集したものを示差熱測定器を用いて測定し、溶け初めの温度と溶け終わりの温度の平均値を溶融温度とした。熱伝導率については、厚さ100nm で作製したAg合金薄膜の電気抵抗率から換算した。
反射率については、波長405nm における反射率を測定して求めた。この反射率の測定には、日本分光製V-570 紫外可視分光光度計を用いた。試料としては、厚さ100nm で作製したAg合金薄膜を用いた。なお、反射率の測定は、成膜後のAg合金薄膜および高温高湿環境下での試験（環境試験）後のAg合金薄膜について行った。この環境試験の条件は、温度80℃，湿度90％RHで保持時間は100hとした。
レーザーマーキングについては、日立コンピュータ機器製POP-120-8Rを用いて行った。このとき、レーザー出力は 1.5Ｗ、レーザースポットサイズは30μm ×１μm 、線速は５ｍ／秒とした。試料としては、厚さ50nmで作製したAg合金薄膜を用いた。マーキングの判定にはレーザー照射面積に対する溶融部分の比をとり、80％以上を可とした。
上記測定の結果を表１に示す。表１からわかるように、Ag-Bi-Cu合金薄膜（No.2〜10）の中でCu量：３at％以上のもの（No.3〜10）、Ag-Bi-Ge合金薄膜（No.11)、Ag-Bi-Mg合金薄膜（No.12)およびAg-Bi-Zn合金薄膜（No.13)は、純Agよりなる薄膜（No.1）に比較し、熱伝導率が低く、且つ、溶融温度が低い。これは、Cuや、Ge，Mg，Znの添加によるものである。即ち、Cuや、Ge，Mg，Znの添加により、熱伝導率および溶融温度が低下する。
Ag-Bi-Cu合金薄膜（No.2〜10）において、Cu量が３at％未満のもの（No.2）は、熱伝導率低下度合いが小さいために熱伝導率が比較的高く、且つ、溶融温度がほとんど低下していないために溶融温度が高く、レーザーマーキングは可でなく、不合格（×）である。42at％超のもの（No.6）は、初期反射率が大きく低下して不充分である。Bi量が0.01at％未満のもの（No.7）は、環境試験での反射率低下が大きい。Bi量が３at％超のもの（No.10)は、初期反射率が大きく低下して不充分であり、また、環境試験での反射率低下も大きい。従って、これらはいずれも、総合評価としては不合格（×）である。
これに対し、Cu量：３〜42at％、及び、Bi量：0.01〜３at％を満たすもの（No.3〜5 、No.8〜9 ）は、熱伝導率低下度合いが大きいために熱伝導率が比較的低く、且つ、溶融温度低下度合いが大きいために溶融温度が低く、レーザーマーキングは可であり、合格（○）である。また、初期反射率が高くて充分であり、環境試験での反射率低下度合いが小さく、環境試験後の反射率も高くて充分である。従って、これらはいずれも、総合評価として合格（○）である。
Ag-Bi-Ge合金薄膜（No.11)、Ag-Bi-Mg合金薄膜（No.12)およびAg-Bi-Zn合金薄膜（No.13)は、Ge、Mg、Znの１種：３〜42at％、Bi量：0.01〜３at％を満たすものであり、熱伝導率低下度合いが大きいために熱伝導率が比較的低く、且つ、溶融温度低下度合いが大きいために溶融温度が低く、レーザーマーキングは可であり、合格（○）である。また、初期反射率が高くて充分であり、環境試験での反射率低下度合いが小さく、環境試験後の反射率も高くて充分である。従って、これらはいずれも、総合評価：合格（○）である。
〔例２〕
前述の例１の場合と同様の基板上に同様の方法により Ag-Bi-Cu-Ｙ合金薄膜を作製（成膜）し、同様の方法により熱伝導率および反射率の測定を行い、同様の方法によりレーザーマーキングを行い、同様の方法により評価した。
上記測定の結果を表２に示す。表２からわかるように、Ｙの添加により更に熱伝導率を小さくでき、ひいてはレーザーマーキングをより容易にすることができる。Ｙの添加量が0.1 at％未満の場合（No.2A)は、この効果が小さく、３at％超の場合（No.6A)は、初期反射率が低く、また、環境試験での反射率低下が大きくなる。
即ち、この表２に示すNo.2A 〜6Aのものは、表１のAg-0.1Bi-15Cu 合金薄膜（No.4）に対して更にＹを含有させたものに相当することから、これらを表１のAg-0.1Bi-15Cu 合金薄膜（No.4）と比較するに、No.2A （Ｙ量：0.05at％）のものは、 Ag-0.1Bi-15Cu合金薄膜（No.4）と、熱伝導率が同等であり、レーザーマーキングの容易性も同等である。No.3A 〜6A（Ｙ量：0.1 〜5.0 at％）のものは、 Ag-0.1Bi-15Cu合金薄膜（No.4）に比べて、熱伝導率が低く、Ｙ量の増大に伴って熱伝導率が低くなり、ひいてはレーザーマーキングをより容易にすることができるようになる。しかし、これらの中、 No.6A（Ｙ量：5.0 at％）のものは、初期反射率が低く、また、環境試験での反射率低下が大きくなる。これに対して、No.3A 〜5A（Ｙ量：0.1 〜3.0 at％）のものは、かかる大きな反射率低下を招かない点において優れている。
Figure 2006294195
Figure 2006294195
なお、以上の例においては、Bi，Sbについては、そのいずれかを添加（単独添加）し、Cu，Ge，Mg，Znについては、そのいずれかを添加（単独添加）したが、Bi及びSbを添加（複合添加）した場合も、Cu，Ge，Mg，Znの２種以上を添加（複合添加）した場合も、以上の例の場合と同様の傾向の結果が得られる。
本発明に係る光情報記録用Ag合金反射膜は、再生専用光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできるので、再生専用光ディスクの光情報記録媒体用反射膜として好適に用いることができて有用である。
再生専用光ディスクの断面構造を示す模式図である。
符号の説明
１--ポリカーボネイト基体、２--半透明反射層（Au，Ag合金，Si）、３--接着層、
４--全反射膜層（Ag合金）、５--UV硬化樹脂保護層。

Claims (7)

  1. 光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、Bi，Sbの少なくとも１種を合計で0.01〜３原子％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42原子％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜。
  2. Ｙを0.1 〜３原子％含有する請求項１記載の光情報記録用Ag合金反射膜。
  3. 請求項１または２記載のAg合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体。
  4. レーザーマーキング用である請求項３記載の光情報記録媒体。
  5. Agを主成分とし、Sbを0.01〜３原子％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42原子％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
  6. Agを主成分とし、Biを0.03〜10原子％含有し、且つ、Cu，Ge，Mg，Znの少なくとも１種を合計で３〜42原子％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
  7. Ｙを0.1 〜３原子％含有する請求項５または６記載の光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
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