JP3365762B2 - 光情報記録媒体用の反射層または半透明反射層、光情報記録媒体及び光情報記録媒体用スパッタリングターゲット - Google Patents
光情報記録媒体用の反射層または半透明反射層、光情報記録媒体及び光情報記録媒体用スパッタリングターゲットInfo
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Description
され、結晶粒成長が抑制された光情報記録媒体用の反射
層または半透明反射層(光ディスク用反射層または光デ
ィスク用半透明反射層)、光情報記録媒体、及び光情報
記録媒体の反射層用または半透明反射層用スパッタリン
グターゲットに関するものである。本発明の反射層また
は半透明反射層は高い反射率を有している為、CD−R
OM、DVD−ROM等の読み出し専用光ディスク(書
き込み・変更不可能);CD−R、DVD−R等の追記
型光ディスク(一回限りの記録と繰返し再生が可能);
CD−RW、DVD−RAM、DVD−RW、DVD+
RW、PD等の書き換え型光ディスク(繰返し記録・再
生が可能)等に好適に用いられる。
記録再生原理の観点からすれば、読み出し専用光ディ
スク、書き換え型光ディスク、及び追記型光ディス
クの三種類に大別される。
基本的に、ポリカーボネート基体等の透明プラスチック
基体上に、Ag,Al,Au等を母材とする反射膜層、
および紫外線硬化樹脂保護膜層等の保護膜層が積層して
なるものである。上記読み出し専用光ディスクは、透明
プラスチック基体上に設けられた凹凸のピットにより記
録データを形成し、ディスクに照射されたレーザー光の
位相差や反射差を検出することによりデータの再生を行
うものである。上記積層タイプの他、図1に示す様に、
透明プラスチック基体1上に、半透明反射膜層2を設け
た基材と、反射膜層4を設けた基材とを、接着層3を介
して張り合わせ、更に紫外線硬化樹脂保護膜層5を積層
してなるものもある。この様なデータは読み出し専用
(書き込み・記録不可)の方式を採用した光ディスクと
して、CD−ROM、DVD−ROM等が挙げられる。
光ディスクは、レーザー光のパワーと照射時間をコント
ロールし、記録層に結晶質相と非晶質相の異相状態を形
成することによりデータを記録し、両相の反射率変化を
レーザーで検出することによりデータの再生を行うもの
である。この記録再生方式では繰返し記録・再生が可能
であり、通常、数千回から数十万回程度、繰返し記録す
ることができる。 上記書き換え型の光ディスクの基本
構造は図2に示す様に、透明プラスチック基体1上に、
誘電体層7、記録層8、誘電体層7、反射層4、及び紫
外線硬化樹脂保護膜層5の各種薄膜層が積層してなるも
のであり、かかる方式を採用する光ディスクとしては、
CD−RW、DVD−RAM、DVD−RW、DVD+
RW等が挙げられる。
ザー光のパワーにより記録薄膜層(有機色素層)の色素
を発熱・変質させ、グルーブ(基板に予め刻まれている
溝)を変形させることによりデータを記録し、変質箇所
の反射率と未変質箇所の反射率との差を検出することに
よりデータの再生を行うものである。図3に、追記型光
ディスクの基本構造を示す。図中、1は透明プラスチッ
ク基体、6は有機色素層、4は反射膜層、5は紫外線硬
化樹脂保護層である。この記録再生方式では、一度記録
されたデーターが書換えられないこと(一回限りの記録
と繰返し再生)が特徴であり、かかる方式を採用する光
ディスクとしては、CD−R、DVD−R等が挙げられ
る。
には、反射率、熱伝導率、耐熱衝撃性、化学的安定性
[特に耐食性(耐酸化性)]等の諸特性に優れ、記録特
性の経時変化が少ないこと等が要求されている。
射層は放熱薄膜層を兼ねていることから、上記特性の
他、更に熱伝導率が高いことが要求される。特に高記録
密度においては、記録密度向上の観点から、反射層の熱
伝導率が高いことが不可欠である。ところが、かかる要
求特性を満足する反射層材料は未だ提供されていないの
が実情である。
として汎用されているAl合金は、記録再生に使用され
るレーザー波長(780nm、650nm)に対し、比
較的高い反射率及び耐食性(化学的耐食性)を有してい
るが、反射率の点では未だ不充分であり、Au系やAg
系に比較して反射率が低いという欠点がある。更にAu
系に比べ、化学的安定性に劣る他、熱伝導率が低いとい
う欠点も抱えている。特に、書き換え型及び追記型の各
光ディスクで要求される高熱伝導性に劣るという欠点も
ある。従って、Al合金を反射層に使用したのでは、当
該反射層に要求される諸特性を具備させることは困難で
あり、その結果、光ディスクの構造や設計に制約が生じ
るという不具合があった。
uを反射用材料として使用することが提案されている
が、夫々以下に掲げる問題を抱えている。
金は、化学的安定性に優れ、記録再生特性の経時変化が
少なく、且つ、高反射率、高耐食性及び高熱伝導率が得
られるという利点はあるが、Auは極めて高価であり、
実用的でない。更に、次世代の主たるレーザー波長とな
る青色(青紫色、紫色)レーザー(波長405nm)に
対し、充分に高い反射率が得られないという問題があ
る。
金は安価であるが、耐食性(特に耐酸化性)に劣る他、
Au系と同様、青色レーザーに対する反射率が低いとい
う欠点を抱えている。その結果、光ディスクの信頼性
(耐久性)低下を招く恐れがある。
金では、実用波長域の400〜480nmでは充分高い
反射率を示すものの、耐食性及び記録再生特性の経時変
化では、Au系反射膜よりも劣るという欠点がある。特
にAg系合金では、Agが容易に拡散することから、結
晶粒成長等の組織変化が容易に発生し、膜特性が劣化す
るという問題がある。
においても、上記の書き換え型光ディスクと同様の問
題が生じている。
として、Au又はAuを主成分とする合金が汎用されて
いる。これらの材料は、記録再生に使用されるレーザー
波長(780nm、650nm)に対し、有機色素層が
存在しても70%以上の高反射率を達成することができ
る。しかしながら前述した通り、Auは極めて高価であ
り、コスト上昇の主な原因となっている。
Alを反射層材料として用いることが提案されている。
ところが純Ag、純Cuを主成分とする合金では、前述
の如く耐食性に劣るという欠点がある。
合金では耐久性に劣るという問題がある。即ち、純A
l、純Alを主成分とする合金を光ディスクの反射層に
用いると、化学反応による反射率の低下、エラーの増加
等のディスク特性の経時変化を生じ易い為、高度の信頼
性が要求される追記型光ディスクに使用するのは困難で
ある。更にAl材料は反射率が低く、特に合金元素を添
加したAl基合金では反射率が一層低くなり、有機色素
層が存在すると70%以上の高反射率を達成することが
できないという問題もある。
反射層には、信頼性の高い媒体を得るべく、高反射率、
化学的安定性(特に耐酸化性)、組織安定性(Agの拡
散が抑制され、結晶粒成長が抑制されるという意味での
組織安定性)、記録再生特性の安定性、低コスト等の諸
特性を満たすことが要求されているにもかかわらず、こ
れらの要求特性全てを満足する金属層は未だ提供されて
いない。反射率、化学的安定性等の点ではAuが最も優
れているが、コストが高くつく他、次世代規格の青色レ
ーザー(波長405nm)では反射率が大幅に低下する
という問題がある。
あり、その目的は、高反射率を有することは勿論のこ
と、Agの結晶粒成長が抑制され、組織安定性に優れた
新規な光情報記録媒体用反射層・半透明反射層、光情報
記録媒体、及び光情報記録媒体用スパッタリングターゲ
ットを提供することにある。
明に係るAgの結晶粒成長が抑制された光情報記録媒体
用反射層または半透明反射層は、Ndを0.1〜3.0
%含有するAg基合金で構成されているところに要旨を
有するものである。尚、本発明における半透明反射層と
は、ディスク片面に2層以上の多層記録を行う媒体の反
射層として用いられる薄膜で、透過率・反射率はディス
クの構成によって規定されるが、おおよそ20〜80%
の透過率を有する薄膜を意味する。また、本発明におけ
る反射層とは、ディスク片面に単層記録の反射膜、若し
くは多層記録の最下層の反射層として用いられる薄膜
で、透過率はほぼ0%で、反射率はディスクの構成によ
り規定されるが、おおよそ70%以上である。
層または半透明反射層は、Agの拡散が抑制され、結晶
粒成長が抑制される結果、結晶組織の安定性に優れてお
り、記録再生特性の安定性、ひいては耐久性という実用
上の効果につながるものである。
u,Cu,Pd,Mg,Ti,およびTaよりなる群か
ら選択される少なくとも1種の元素を合計で0.5〜
5.0%含有するものは耐酸化性が高められるので好ま
しい態様である。とりわけAu,Cu,Pdを添加した
Ag−Nd合金は非常に有用であり、合金化による反射
率の低下を抑制しながら、耐酸化性を一層向上させるこ
とができるものである。
透明反射層は、読み出し専用型、書き換え型、追記型の
いずれにも適用され得るが、特に追記型及び読み出し専
用型の光ディスクに好適に用いることができる。
半透明反射を備えた光情報記録媒体、及び上記Ag基合
金で構成された光情報記録媒体用スパッタリングターゲ
ットも本発明の範囲内に包含される。
により作製された純Ag薄膜は、原子空孔等の多くの欠
陥を含み、Agが拡散して容易に凝集する為、環境試験
の条件下ではAg結晶粒の増大が起り易くなる。これに
対し、純Au薄膜の場合は、同様に環境試験下で実施し
たとしてもAu結晶粒の増大は殆ど認められず、純Ag
薄膜と純Au薄膜との組織安定性には大きな差異がある
ことが分かった。この様な結晶粒の増大は、薄膜の熱伝
導率や変化、応力状態、膜強度、界面性状の変化を伴
い、最終的には、媒体の記録再生特性の劣化につながる
ものである。
の増大を防止し得る組織安定性に優れた光情報記録媒体
用反射層または半透明反射層(以下、「反射層」で代表
させる場合がある)を提供すべく鋭意検討した。具体的
には、Agに種々の元素を添加して作製したAg基合金
スパッタリングターゲットを用い、スパッタリング法に
より種々の成分組成からなるAg基合金薄膜を形成し、
反射層としての特性を評価した。その結果、AgにNd
を添加すれば、Agの拡散を抑制し、結晶粒の成長を抑
制し得る結果、組織安定性に極めて優れた反射層が得ら
れることが明らかになった。更に上記Ag−Nd合金に
おいて、Au,Cu,Pd,Mg,Ti,およびTaよ
りなる群から選択される少なくとも1種の元素を所定量
添加する(より好ましくはAu,Cu,Pdの少なくと
も一種を含む)と耐食性(特に耐酸化性)が向上するこ
とを見出し、本発明を完成した。
構成する要件について、順次説明する。
%含有するAg基合金で構成されている。即ち、上記発
明の最重要ポイントは、Ag基合金にNdを0.1〜
3.0%添加すると、Agの結晶粒成長が抑制され、記
録再生特性の安定性に優れる結果、耐久性が向上するこ
とを明らかにしたところにある。
d合金薄膜では、環境試験(温度80℃、湿度90%R
H)において、Ndを0.1%以上添加すれば、Agの
拡散に起因する結晶粒成長は抑制されることが分かっ
た。好ましくは0.3%以上である。但し、反射率を考
慮すると、その上限を3.0%に定めることが必要であ
る。本発明では、反射率の目標レベルの一つとして、一
般的なDVDで使用されるレーザー波長650nmにお
いて、純Au薄膜と同程度の反射率にすることを掲げて
いるが、Ndの添加量が多いほど反射率は低下する傾向
にあり、特に添加量が3.0%を超えると、反射率が著
しく低下するからである。より好ましくは2.0%以下
である。更に、上記範囲では、化学的安定性(特に耐酸
化性)も純Agに比べ、良好であることから、所望の薄
膜が得られることが分かった。
つ、更に、Ag結晶粒の成長を抑制する為には、Ndの
添加量を0.1%以上(好ましくは0.3%以上)、
3.0%以下(好ましくは2.0%以下)に定めた。
u,Cu,Pd,Mg,Ti,およびTaよりなる群か
ら選択される少なくとも1種の元素を合計で0.5〜
5.0%含有するものは、耐酸化性が一層高められるの
で好ましい態様である。前述した通り、AgにNdを添
加したAg基合金薄膜は、純Agに比べ、耐酸化性が向
上するが、更に上記の元素を添加したときには、合金化
による反射率の低下を抑制しながら、更に耐酸化性が向
上するというメリットがある。一般に、光情報記録媒体
の耐酸化性は、環境試験前後の反射率の減少量で評価さ
れるが、光情報記録媒体に用いられる実用的なレーザー
波長である780,650,405nm近傍の波長域に
おける反射率の減少量から耐酸化性を評価したところ、
これらの元素を合計で0.5%以上添加すると耐酸化性
が向上するが、5%を超えると純Agに比べ、耐酸化性
は低下することが明らかになった。ちなみに、レーザー
の波長に関し、一世代前の規格(CD)では780nm
であったが、これからの規格(DVD)では650nm
となり、更に2002年以降の次世代規格では、青色レ
ーザー(405nm)が標準になることが予想されてい
る。
の種類によっても若干相違するが、Cu:0.5〜5.
0%、Au:0.5〜5.0%、Pd:0.5〜3.0
%、Mg:0.5〜3.0%、Ti:0.5〜3.0
%、Ta:0.5〜3.0%の範囲に制御することが推
奨される。このうちMg、Ti及びTaは、耐酸化性向
上作用はCu、Au、Pdに比べて劣るものの、コスト
が安くつくというメリットがある。また、AuやPd以
外の貴金属元素(Ru,Rh,Ir等)も同様に耐酸化
性向上作用は見られるものの、コストが高く、実用的で
ない。尚、これらの元素は単独で使用しても良いし、二
種以上を併用しても構わない。
成分を含有し、残部Agであるが、更に本発明の作用を
損なわない範囲で、上記成分以外の他の成分を添加して
も良い。また、O,N等のガス成分等の不純物が含まれ
ていても構わない。
り形成されたものであることが推奨される。本発明に用
いられる元素は、平衡状態ではAgに対する固溶限が極
めて小さい(尚、Auは全率固溶する)が、スパッタリ
ング法により形成された薄膜では、スパッタリング法固
有の気相急冷によって非平衡固溶が可能になる為、その
他の薄膜形成法でAg基合金薄膜を形成した場合に比
べ、上記合金元素がAgマトリックス中に均一に存在
し、その効果がより顕著になるからである。
リングターゲット材として、溶解・鋳造法で作製したA
g基合金(以下、「溶製Ag基合金ターゲット材」とい
う)を使用することが好ましい。
ただし、下記実施例は本発明を制限するものではなく、
前・後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施することは
全て本発明の技術範囲に包含される。
電子顕微鏡(TEM)を用いて観察した。
パッタリングを用い、透明ポリカーボネート基板(基板
サイズ:直径50mm、厚さ1mm)上に厚さ1500
Åの各種薄膜(反射層)、即ち、純Ag、純Au、Ag
−0.9%Cu−1.0%Au、Ag−0.5%Nd、
Ag−0.5%Nd−0.9%Cu−1.0%Auの各
合金薄膜を形成した試料を用いた。
90%RH、保持時間48時間とした。これらの結果を夫
々、図4〜13に示す。このうち、図4は純Agにおけ
る高温高湿試験前の結晶粒径を示す写真、図5は純Ag
における高温高湿試験後の結晶粒径を示す写真、図6は
純Auにおける高温高湿試験前の結晶粒径を示す写真、
図7は純Auにおける高温高湿試験後の結晶粒径を示す
写真、図8はAg−0.9%Cu−1.0%Auにおけ
る高温高湿試験前の結晶粒径を示す写真、図9はAg−
0.9%Cu−1.0%Auにおける高温高湿試験後の
結晶粒径を示す写真、図10はAg−0.5%Ndにお
ける高温高湿試験前の結晶粒径を示す写真、図11はA
g−0.5%Ndにおける高温高湿試験後の結晶粒径を
示す写真、図12はAg−0.5%Nd−0.9%Cu
−1.0%Auにおける高温高湿試験前の結晶粒径を示
す写真、図13はAg−0.5%Nd−0.9%Cu−
1.0%Auにおける高温高湿試験後の結晶粒径を示す
写真である。
晶粒の変化が殆ど見られない(図6及び7)のに対し、
純Ag薄膜(図4及び5)及びAg−0.9%Cu−
1.0%Au薄膜(図8及び9)では、約5倍程度まで
結晶粒が大きく成長していることが分かる。これに対
し、AgにNdを添加したAg−0.5%Nd薄膜(図
10及び11)及びAg−0.5%Nd−0.9%Cu
−1.0%Au薄膜(図12及び13)では、試験の前
後で結晶粒の変化は殆どなく、Ndの添加によりAg基
合金薄膜の結晶粒成長が著しく抑制されることが分か
る。
て調べた。
試料を作製し、結晶粒をTEM像により算出した。その
結果を図14に示す。
g−1%Ndは、いずれも保持時間が増加しても、結晶
粒径の変化が殆どないのに対し、Nd以外の元素を添加
したAg合金では、保持時間が増加するにつれ、結晶粒
径が著しく増加した。純Agにおいても、保持時間の増
加に伴い、結晶粒は増加するが、特に、AgにAu,C
u,In,Zn,Snを添加したときには、純Agに比
べ、結晶粒が著しく増加している。但し、これらの元素
にNdを添加すると(例えばAg−1%Nd−1%Cu
−1%Au合金)、結晶粒の変化は殆ど見られないこと
から、Nd添加による結晶粒径増大抑制効果は極めて大
きいことが分かる。
加量と環境試験前後の結晶粒径との相関関係について調
べた。
試料を作製し、結晶粒径をTEM像により算出した。そ
の結果を図15に示す。
大抑制作用が顕著に見られる。この様な作用は、0.1
%の添加により発揮されるが、それ以上添加しても、当
該作用は飽和してしまうことが分かる。
加量と初期反射率との相関関係を調べた。
元基合金薄膜(反射層)を形成した試料を作製した後、
測定レーザー波長650nmにおける反射率を測定し
た。その結果を図16に示す。
率の低下は殆ど見られないのに対し、その他の元素で
は、添加量の増加に比例して反射率が低下した。尚、初
期反射率は、現状、DVDなどに使用されている純Au
(初期反射率85.8%)と同程度であることが基準と
されるが、かかる観点からすれば、Ndの添加量は3.
0%以下、Ti,Mg,Taの各添加量は2.0%以下
に制御することが推奨される。
ける耐食性を評価した。耐食性(耐酸化性)は、高温高
湿試験(温度80℃、湿度90%RH、保持時間48時
間)前後の反射率の低下量を調べて評価した。具体的に
は、高温高湿試験終了後の各試料について反射層の反射
率(レーザー波長650nm)を測定し、試験前後の反
射率の差(即ち、試験終了後の反射率の減少量)を算出
することにより耐食性(耐酸化性)を評価した。これら
の結果を表1に示す。参考までに、純Au及び純Agの
耐食性を併記する。
と大きく低下し、耐食性に劣っているが、AgにNdを
添加した合金では、反射率低下量は約−2.0%とな
り、耐食性は改善されている。更に、Ag−Ndに、T
i,Mg,Taを添加した合金では、耐食性は一層改善
されており、Au,Cu,Pdを添加した合金では、更
に一層耐食性が改善されていることが分かる。
半透明反射層は上記の様に構成されているので、高反射
率を有することは勿論のこと、Agの拡散に起因する結
晶粒の増大が抑制されるため、光情報記録媒体(読込み
型、追記型、および書換え型の各光ディスク)の性能や
信頼性を格段に高めることができた。また、本発明のス
パッタリングターゲットは、上記光情報記録媒体用反射
層または半透明反射層をスパッタリングにより形成する
ときに好適に使用され、形成される反射層の成分組成が
安定しやすくなるというメリットの他、密着性、組織安
定性、耐食性(特に耐酸化性)等の諸特性にも優れた反
射層が効率よく得られるというメリットも奏する。本発
明の光情報記録媒体は、特に光磁気記録媒体を除く光情
報記録媒体に有用である。
す模式図である。
式図である。
模式図である。
粒径を示す写真である。
粒径を示す写真である。
粒径を示す写真である。
粒径を示す写真である。
おける高温高湿試験前の結晶粒径を示す写真である。
おける高温高湿試験後の結晶粒径を示す写真である。
高湿試験前の結晶粒径を示す写真である。
高湿試験後の結晶粒径を示す写真である。
u−1.0%Auにおける高温高湿試験前の結晶粒径を
示す写真である。
u−1.0%Auにおける高温高湿試験後の結晶粒径を
示す写真である。
験時間と結晶粒径の関係を示すグラフである。
加量と結晶粒径の関係を示すグラフである。
加量と初期反射率の関係を示すグラフである。
Claims (6)
- 【請求項1】 Ndを0.1〜3.0%(原子%の意
味、以下同じ)含有するAg基合金で構成されているこ
とを特徴とするAgの結晶粒成長が抑制された光情報記
録媒体用の反射層または半透明反射層。 - 【請求項2】 Au,Cu,Pd,Mg,Ti,および
Taよりなる群から選択される少なくとも1種の元素を
合計で0.5〜5.0%含有するものである請求項1に
記載の反射層または半透明反射層。 - 【請求項3】 Au,Cu,およびPdよりなる群から
選択される少なくとも1種の元素を合計で0.5〜5.
0%含有するものである請求項2に記載の反射層または
半透明反射層。 - 【請求項4】 Cuを0.5〜5.0%含有するもので
ある請求項3に記載の反射層または半透明反射層。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載のAg基
合金で構成されている反射層または半透明反射層を備え
た光情報記録媒体。 - 【請求項6】 請求項1〜4のいずれかに記載のAg基
合金で構成されていることを特徴とする光情報記録媒体
用スパッタリングターゲット。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005056850A1 (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-23 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | 反射率維持特性に優れた銀合金 |
WO2008053999A1 (fr) | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Support d'enregistrement d'informations optique, procédé de fabrication de support d'enregistrement d'informations optique, et procédé de marquage bca (zone de découpage par rafale) |
EP2031086A1 (en) | 2007-08-29 | 2009-03-04 | Kobelco Research Institute , Inc. | Ag base alloy sputtering target and method for manufacturing the same |
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Families Citing this family (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7384677B2 (en) | 1998-06-22 | 2008-06-10 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
US6852384B2 (en) | 1998-06-22 | 2005-02-08 | Han H. Nee | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7314657B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7316837B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7374805B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-05-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7314659B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
JP4638014B2 (ja) * | 2000-10-31 | 2011-02-23 | 株式会社フルヤ金属 | 高耐熱性反射膜、これを用いた積層体、液晶表示素子用反射板及び建材ガラス |
JP4638015B2 (ja) * | 2000-10-31 | 2011-02-23 | 株式会社フルヤ金属 | 薄膜形成用スパッタリングターゲット材、それを用いて形成されて成る薄膜及び光学記録媒体 |
JP2002237097A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-08-23 | Mitsubishi Chemicals Corp | 光学記録媒体 |
ATE423377T1 (de) | 2000-12-28 | 2009-03-15 | Sony Corp | Optisches aufzeichnungsmedium |
JP4801279B2 (ja) * | 2001-05-09 | 2011-10-26 | 石福金属興業株式会社 | スパッタリングターゲット材 |
JP3778425B2 (ja) * | 2001-10-03 | 2006-05-24 | 日立金属株式会社 | 表示装置に用いられる電子部品用Ag合金膜および表示装置に用いられる電子部品用Ag合金膜形成用スパッタリングターゲット材 |
ES2263985T3 (es) * | 2002-06-28 | 2006-12-16 | Williams Advanced Materials Inc. | Aleaciones metalicas de plata resistentes a la corrosion para el almacenamiento optico de grabacion que las contine. |
US7514037B2 (en) | 2002-08-08 | 2009-04-07 | Kobe Steel, Ltd. | AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film |
JP4671579B2 (ja) * | 2002-12-16 | 2011-04-20 | 株式会社アルバック | Ag合金反射膜およびその製造方法 |
JP4667721B2 (ja) | 2003-02-06 | 2011-04-13 | ソニー株式会社 | 光記録媒体およびその製造方法 |
EP1603129A4 (en) * | 2003-03-13 | 2008-03-26 | Mitsubishi Materials Corp | SILVER ALLOY SPUTTER TARGET FOR FORMING A REFLECTIVE LAYER ON AN OPTICAL RECORDING MEDIUM |
TWI368819B (en) | 2003-04-18 | 2012-07-21 | Target Technology Co Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
WO2004102553A1 (ja) * | 2003-05-16 | 2004-11-25 | Mitsubishi Materials Corporation | 光記録媒体の反射層形成用銀合金スパッタリングターゲット |
US20070020138A1 (en) * | 2003-12-10 | 2007-01-25 | Tomokazu Obata | Silver alloy excellent inreflectance maintenance property |
JP2006001271A (ja) * | 2004-05-17 | 2006-01-05 | Kobe Steel Ltd | Ag系2層膜および透明導電体 |
JP4918231B2 (ja) * | 2004-06-16 | 2012-04-18 | 株式会社アルバック | Ag合金膜の製造方法 |
EP1612784B1 (en) * | 2004-06-29 | 2007-11-28 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target |
JP3907666B2 (ja) | 2004-07-15 | 2007-04-18 | 株式会社神戸製鋼所 | レーザーマーキング用再生専用光情報記録媒体 |
JP2006294195A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Kobe Steel Ltd | 光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
JPWO2006132415A1 (ja) * | 2005-06-10 | 2009-01-08 | 田中貴金属工業株式会社 | 反射率・透過率維持特性に優れた銀合金 |
JP2007002275A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Toyoshima Seisakusho:Kk | 薄膜形成用材料、及びそれを用いて形成された薄膜並びにその形成方法 |
JP2007035104A (ja) | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Kobe Steel Ltd | 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
JP4377861B2 (ja) | 2005-07-22 | 2009-12-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
JP4527624B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2010-08-18 | 株式会社神戸製鋼所 | Ag合金反射膜を有する光情報媒体 |
US8815149B2 (en) | 2005-12-29 | 2014-08-26 | Mitsubishi Materials Corporation | Semi-reflective film and reflective film for optical recording medium, and Ag alloy sputtering target for forming semi-reflective film or reflective film for optical recording medium |
US8092889B2 (en) | 2006-08-28 | 2012-01-10 | Kobe Steel, Ltd. | Silver alloy reflective film for optical information storage media, optical information storage medium, and sputtering target for the deposition of silver alloy reflective film for optical information storage media |
CN101461002A (zh) * | 2006-11-17 | 2009-06-17 | 田中贵金属工业株式会社 | 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质 |
US7833604B2 (en) | 2006-12-01 | 2010-11-16 | Kobe Steel, Ltd. | Ag alloy reflective layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target for forming Ag alloy reflective layer for optical information recording medium |
JP4540687B2 (ja) | 2007-04-13 | 2010-09-08 | 株式会社ソニー・ディスクアンドデジタルソリューションズ | 読み出し専用の光情報記録媒体 |
KR101153435B1 (ko) | 2008-06-17 | 2012-06-07 | 가부시키가이샤 아루박 | 태양전지 및 그 제조 방법 |
JP4678062B2 (ja) | 2008-09-22 | 2011-04-27 | Tdk株式会社 | 光メディア、およびその製造方法 |
JP4735734B2 (ja) | 2009-04-02 | 2011-07-27 | Tdk株式会社 | 光メディア用スパッタリングターゲット、その製造方法、ならびに、光メディア、およびその製造方法 |
CN106086502B (zh) * | 2010-03-12 | 2018-12-04 | 克斯塔里克公司 | 具有涂层的物件及涂布方法 |
JP5628662B2 (ja) * | 2010-12-29 | 2014-11-19 | 石福金属興業株式会社 | Ag基合金からなる反射膜 |
-
2000
- 2000-12-26 JP JP2000395894A patent/JP3365762B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005056850A1 (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-23 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | 反射率維持特性に優れた銀合金 |
US7575714B2 (en) | 2003-12-10 | 2009-08-18 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Silver alloy excellent in reflectance maintenance property and method for producing an optical recording medium |
US7790064B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-09-07 | Pioneer Corporation | Polycrystalline aluminum thin film and optical recording medium |
US7897065B2 (en) | 2005-12-22 | 2011-03-01 | Pioneer Corporation | Polycrystalline aluminum thin film and optical recording medium |
WO2008053999A1 (fr) | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Support d'enregistrement d'informations optique, procédé de fabrication de support d'enregistrement d'informations optique, et procédé de marquage bca (zone de découpage par rafale) |
EP2031086A1 (en) | 2007-08-29 | 2009-03-04 | Kobelco Research Institute , Inc. | Ag base alloy sputtering target and method for manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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