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JP2005191518A - 斜行バイアが形成された印刷回路基板およびパッケージ - Google Patents

斜行バイアが形成された印刷回路基板およびパッケージ Download PDF

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キム、ハン
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チェ、ボン−キュ
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ソ、デ−チョル
Kim Heung-Kyu
キム、フン−キュ
Sang-Kab Park
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Abstract

【課題】高周波に対する損失を最小化することができるような、バイアコンタクト構造を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁層と多数の回路層を形成している印刷回路基板やパッケージにおいて、回路層面に対して斜行して、電力および信号線に鈍角をなすように形成された斜行バイアを形成する。また、印刷回路基板上の、独立した第1および第2回路層に位置している、第1および第2導体線間の信号伝達装置において、回路層面に対して斜行して信号線に鈍角をなすように形成された斜行バイアを利用した信号伝達装置である。デジタル信号の高速化によって発生する高周波での信号障害問題を解決するようにする效果がある。バイアコンタクト構造を採用しているICパッケージやPCBなどの基板で、バイアコンタクトで発生する高周波損失を減少させて、今後の高周波帯域での信号伝逹を改善する效果がある。
【選択図】図2

Description

本発明はバイアコンタクト(via contact)が形成された印刷回路基板およびパッケージに関する。特に高周波に対する損失を最小化することができるように、バイアを印刷回路基板およびパッケージの回路層平面に対して斜めに形成した、斜行バイアが形成された印刷回路基板およびパッケージに関するものである。
バイアというのは、多層印刷回路基板およびパッケージの層間電気的信号接続通路に該当し、基本的に両面印刷回路基板で上面と下面の配線を接続するためのもので、一般的にホールを加工してホールを通じて基板の下面と上面を電気的に接続するためにホールの内壁をメッキする。
かつては機械式ドリル(Mechanical Drill)でホールを加工したが、近来ではレーザードリルを用いてホールを加工している。
バイアの種類にはその形態によって、全層を完全に貫いて接続するPTH(Plated Through Hole)形態のバイアと、内部層の間を貫いて接続するIVH(Interstitial via hole)形態のバイアがあり、完全に貫通せず途中で行き止まりになったバイアである埋め込みバイア(Buried via)あるいはブラインドバイア(Blind via)がある。
また、100マイクロメートル以下の小さな直径を持ったバイアであるマイクロバイア、銅でバイアホール内部が満たされている銅充填(copper fill)形態のバイア、バイアの上にバイアが垂直に積み重なった積層バイアなどがある。
従来のICパッケージや印刷回路基板で使用中のバイアコンタクトの構造はバイアの種類と関係なくすべての回路層面と垂直を成している。
したがって、印刷配線回路基板(PCB)またはICパッケージ内の任意の1ヶ所から他の点へ電力や信号を伝達するためには、電力や信号の経路が、何回か直角に折れ曲がった導電線とバイアの組合せとして形成される。
図1は従来技術によるCPUやグラフィックチップセット(Graphic Chip Set)のような高速製品のフリップチップボンディングパッケージ(Flip-Chip Bonding Package)120がPCBマザーボード100に実装されているようすを示す断面図である。
図1を参照すれば、PCBマザーボード100に電源供給線と接地線が内蔵されており、ボールボンディング110によってフリップチップ基板120がPCBマザーボードに接続されていて、フリップチップ基板120には、はんだバンプ(solder bump)130によってチップ140が実装されている。
そして、図1ではマイクロバイア160、電力や信号流れにおいて階段経路を持つ互い違いバイア(staggered via)170、多数のマイクロバイアが積層されている積層バイア(stacked via)180が形成されているようすが示されている。
図1に示されるように、チップからPCBマザーボード100まで電力や信号が伝達するためには、電力や信号の経路150が、何回か直角に折れ曲がった導体線とバイアの組合せとして形成されている。
そして、このようにチップ140からPCBマザーボードまで電力や信号が伝達するためには、電力や信号の経路150が何回か直角に折れ曲がった導体線とバイアの組合せとして形成されている理由は、従来のバイアコンタクト構造がバイアの種類にかかわらず信号ラインに垂直である構造を成しているからである。
しかし、チップ140からPCBマザーボード100まで電力や信号が伝達するためには、導体線とバイアの組合せとして形成される電力や信号の経路が、何回か直角で折って構成されているために、デジタル信号の高速化によって発生する高周波損失をもたらす。
高周波損失というのは、電子回路で回路や素子等を高周波が通過するときに生ずる損失である。電子製品の使用周波数が高くなるにつれて、損失ももっと増加するようになって信号伝達特性が劣化する。
したがって、高い周波数で正常に電力や信号の伝達するためには、ICパッケージやPCBで最大限高周波損失を減らす対策が必要である。たとえば現在使われているCPUは2〜3GHz帯域で動作しているが、今後のより円滑な動作のために10GHz〜20GHz台まで、必要によってはそれ以上に動作周波数が高くなる見込みである。
このように動作周波数が高くなると、高周波損失によって既存のバイアコンタクト構造を有するICパッケージ(package)やPCBでは動作が保証されず、既存のバイアでは使用周波数範囲が制限される。
また今後、ますますもっと多い電子製品で高周波を使うようになると考えられるが、より一層バイアコンタクトでの高周波損失節減に対する必要性が増加する。
図2の(a)、図3の(a)に既存のバイアコンタクト構造を示す。図4の(a)では既存のバイアコンタクト構造で表わす電磁場の分布を示した。
また、図5は既存のバイアコンタクト構造が0〜10GHz帯域で持つ損失値を拡散パラメータ(scattering parameters)を抽出して表わしたものである。図5で損失値(S-parameter)の大きさ(magnitude)(db)は対数スケールであり、負方向に絶対値が大きく(下方に)なるほど高周波損失が少なくなることを表わす。
大韓民国特許出願公開第2001−7002973号明細書(段落[0006]〜[0007])
本発明は上記のような問題点を解決するために案出されたものであり、高周波に対する損失を最小化することができるような、バイアコンタクト構造を提供することを目的とする。
上記のような目的を達成するために、本発明は絶縁層と多数の回路層を形成している印刷回路基板やパッケージにおいて、回路層面に対して斜行して、電力および信号伝逹用導体線に鈍角をなすようにバイアが形成されることを特徴とする。
また、本発明は印刷回路基板上の、独立した第1および第2回路層に位置している、第1および第2導体線間の信号伝達装置において、回路層面に対して斜行して信号ラインに鈍角をなすように形成された斜行バイアを利用した信号伝達装置であることを特徴とする。
上記のような本発明によれば、デジタル信号の高速化によって発生する高周波での信号障害問題を解決するようにする效果がある。
また、本発明によれば、バイアコンタクト構造を採用しているICパッケージやPCBなどの基板でバイアコンタクトで発生されている高周波損失を減少させて今後の高周波帯域での信号伝逹を改善する效果がある。
実施の形態
図2以下の図面を参照して、本発明の実施の形態を詳しく説明する。
図2は、印刷回路基板(PCB)の上部層に形成された導体線200a、200bをPCBの下部層に形成された導体線220a、220bに接続するバイア210a、210bの構造を示す図である。
図2の(a)に示す既存のバイアコンタクト構造は、導体線220a、220bと垂直に繋がれた構造である。このような構造は背景技術の説明で言及したように、高周波損失の主要原因になっている。
すなわち、信号および電力伝達通路の急激な形状変更は形状変更部位での電磁気ノイズを誘発させて、信号および電力の伝達を邪魔するようになる。このような效果は特に高周波になるほどひどくなる。図2の(b)に、このような観点で改善された、本発明のバイアコンタクト構造を示す。
本発明のバイアコンタクト構造では、高周波の流れをなだらかにするように、バイアを回路層に対して斜めに形成することで、既存バイアコンタクト構造に比べて高周波での損失が減少する。
図3は、積層(Stack)になった多層印刷回路基板における、バイアコンタクトの構造を示している。
図3の(a)は従来の多層印刷回路基板での積層になったバイアコンタクト構造を表わしており、多層印刷回路基板にバイアが基板に垂直方向に形成されて整列したのちの、積層の構造を示している。
特に、図3の(a)で見られる構造は、多層でバイアコンタクトの構成が垂直になっていて、これを多数積層して接続した形が見られる。このような構造は多層のバイアコンタクトが基本的に垂直を成しているので、高周波損失の減少に限界がある。
図3の(b)は、本発明の一実施例である印刷回路基板(PCB)の上部層に形成された導体線300bを、PCBの下部層に形成された導体線330bに接続する多層の導電性バイア310bの構造を示す図である。
この構造は基本的に垂直バイアを使わないで、斜めにバイアを形成したのち積層したものであって、高周波損失減少に效果的である。
図4は、バイアが形成された印刷回路基板の電場分布を表わす図面である。
図4の(a)は既存の垂直バイアコンタクト構造で電場の分布を表わしたしもので、図4の(b)は本発明である斜行バイアコンタクト構造の電場の分布を表わしたものである。
図面を参照すれば、既存のバイアより本発明のバイアコンタクト構造で電場の強さが減少したことが表わされている。矢印に表示された部分では電場の滲み出しが減少していることが見られる。
図5は高周波損失が減少するかどうかを確認するために、拡散パラメーター(scattering parameter)値を周波数別に求めたグラフである。
周波数帯域は0〜10GHz帯域を対象として、X軸に表わし、拡散パラメーター値はY軸に対数スケールで表わした。既存バイアコンタクト構造が有する高周波損失値に比較して、本発明のバイアコンタクト構造では0〜10GHzで平均的に20dB以上減少できることがわかる。
図6から図7cまでは、本発明で提案した斜行バイアコンタクト構造が、印刷回路基板に適用された例である。
図6を参照すれば、印刷回路基板は銅箔積層版(CCL;Copper Clad Laminate)601に斜めに加工された斜行バイアホール604が形成されており、斜行バイアホール604には導電性を付与するために銅鍍金層605が形成されている。
図7aは、本発明の実施の形態によるCPUやグラフィックチップセット(Graphic Chip Set)のような、高速製品のフリップチップボンディングパッケージ(Flip-Chip Bonding Package)が、斜行互い違いバイアを形成したPCBマザーボード(Mother Board)に実装されたことを示す図面である。図7bは、本発明の他の実施例によるCPUやグラフィックチップセットのような、高速製品のフリップチップボンディングパッケージが、斜行マイクロバイアを形成したPCBマザーボードに実装されたことを示す図面である。図7cは、本発明のまた他の実施例によるCPUやグラフィックチップセットのような、高速製品のフリップチップボンディングパッケージが、斜行積層バイアを形成したPCBマザーボードに実装されたことを示す図面である。
図7aでは互い違いバイア750が電力や信号流れに対して斜行して、鈍角を持つように形成されていて高周波損失を防止するように形成されている。
このような互い違いバイア750は、チップ740からPCBマザーボード700へ電力や信号が流れる場合に、斜行するように電力や信号が流れるようになり、高周波信号が印加される場合に損失を防止することができる。
そして、図7bではマイクロバイア760が電力や信号流れに対して斜行して、鈍角を持つように形成されていて高周波損失を防止するように形成されている。
また、図7cでは積層バイア770が電力や信号流れに対して斜行して、鈍角を持つように形成されていて高周波損失を防止するように形成されている。
一方、一般的にPCBを製造する場合に、銅版に回路パターンを形成(Patterning)してPCBの内層(Inner Layer)/外層(Out Layer)を形成するが、最近では高分子重合体(Polymer)と硝子纎維(Glass fiber)を利用して、光で信号を送受信することができる光導波路をPCBに挿入するようになっている。これをEOCB(Electro-Optical Circuit Board)という。
本発明で説明したバイアは通常的なバイアコンタクトに適用することができるが、EOCBに使われる光バイアコンタクトにも適用可能である。
また、最近の移動通信端末は、高速および大容量のデータ通信だけではなく、携帯が容易なように小型化および軽量化が要求されている。
したがって移動通信端末機に使われる部品は、小型化および複合機能化が進展しており、関連部品はこれに対応するために低温共焼結セラミック(LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramic)上に多数のベアチップ(Bare-Chip)を実装するMCM(Multi-Chip Module)化に急速に進んでいる。
このようなLTCCでは、800ないし1000℃位の低温でセラミックスと金属の同時塑性方法を利用して基板を形成する技術として、融点が低いガラスとセラミックスを混合して適当な誘電率を持つグリーンシーツ(Green Sheet)を形成させて、その上に導電性ペーストを印刷したのち、積層して基板を形成する。したがって、本発明で説明した斜行バイアコンタクト構造は、上記LTCCを利用した基板に適用可能である。
上記に説明したように、斜行バイアコンタクト構造は印刷回路基板だけではなく、既存の垂直バイアコンタクト構造を持つ基板で高周波損失を減らすために使用可能である。
一方、本発明の詳細な説明では具体的な実施の形態に関して説明したが、本発明の範囲から脱しない限りさまざまな変形が可能のは勿論のことである。したがって、本発明の範囲は説明された実施の形態に限定されるものではないし、特許請求の範囲だけではなく、この特許請求の範囲と均等なものによって決められなければならない。
従来技術によるCPUやグラフィックチップセットのような、高速製品のフリップチップボンディングパッケージが、PCBマザーボードに実装されたことを示す断面図である。 (a)は既存のバイアコンタクト構造を示す図、(b)は本発明の斜行バイアコンタクト構造を示す図である。 (a)は既存の積層バイア形態の図、(b)は本発明で提案した斜行積層バイアの形態の図である。 本発明の実施の形態による斜行バイアが形成された印刷回路基板やパッケージ一部分での電場分布を表わす図である。 本発明の実施の形態による斜行バイアが形成された印刷回路基板やパッケージの一部分に対する周波数別スケトリングパラメーター値を示す図である。 本発明の実施の形態による斜行バイアが形成された印刷回路基板やパッケージの断面図である。 本発明の実施の形態によるCPUやグラフィックチップセットのような高速製品のフリップチップボンディングパッケージが斜行互い違いバイアを形成したPCBマザーボードに実装されたことを示す図である。 本発明の実施の形態の他の実施例によるCPUやグラフィックチップセットのような、高速製品のフリップチップボンディングパッケージが、斜行マイクロバイアを形成したPCBマザーボードに実装されたことを示す図である。 本発明の実施の形態のまた他の実施例によるCPUやグラフィックチップセットのような、高速製品のフリップチップボンディングパッケージが、斜行積層バイアを形成したPCBマザーボードに実装されたことを示す図である。
符号の説明
100 PCBマザーボード
110、710 ボールボンディング
120、720 フリップチップ基板
130、730 はんだバンプ(solder bump)
140、740 チップ
150 電力や信号の経路
200a、200b、220a、220b 導体線
210a、210b バイア
300a、300b、330a、330b 導体線
310a、310b バイア
750 互い違いバイア
760 マイクロバイア
770 積層バイア

Claims (2)

  1. 絶縁層と多数の回路層およびバイアコンタクトを形成している印刷回路基板またはICパッケージにおいて、回路層に対して斜行して信号および電力伝達方向に鈍角をなすようにバイアが形成されることを特徴とする印刷回路基板またはICパッケージ。
  2. 斜行して、信号および電力の伝達方向に対して鈍角をなすように形成されたバイアを含む印刷回路基板またはICパッケージ。
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