JP2004503576A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. 化粧品として受容可能な媒体中に少なくとも一つのブロックコポリマーを含む化粧組成物であって、該ブロックコポリマーが少なくとも二つのポリマーブロックＡ及びＢから成り、それぞれのポリマーブロックＡが隣接する一又は複数のポリマーブロックＢの屈折率より少なくとも０．１単位大きいか又は小さい屈折率を有していることを特徴とする、組成物。
2. ブロックコポリマー中に存在するブロックの数が２に等しいか又はそれより大きいことを特徴とする、請求項１に記載の化粧組成物。
3. ブロックを以下から選択するモノマーから製造することを特徴とする、請求項１に記載の化粧組成物：アクリル酸、メタクリル酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、４級化したか又は４級化していないジメチルアミノエチルメタクリレート、メタクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、マレイン酸及びそのヘミエステル、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸、アクリルアミド、ヒドロキシル化した（メタ）アクリレート、例えばヒドロキシエチルメタクリレート、ジアリルジメチルアンモニウムクロリド、ビニルピロリドン、ビニルエーテル、マレイミド、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、他の極性ヘテロ環式ビニル化合物、スチレンスルホネート、アリル系アルコール、ビニルアルコール、上記のいずれかの酸とアミンの塩、Ｃ₁〜Ｃ₁₃アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステル、フルオロアクリレート、スチレン、ポリスチレン、ビニルアセテート、ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、ビニルプロピオネート、α−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、ブタジエン、シクロヘキサジエン、エチレン、プロピレン、ビニルトルエン、及びこれらの混合物。
4. ブロックコポリマーがポリスチレン／ポリ（エチル２−ペルフルオロオクチルアクリレート）コポリマーであることを特徴とする、請求項１に記載の化粧組成物。
5. ブロックポリマーが１０，０００〜５００，０００ｇ／モルの光散乱で測定した質量平均分子量を有することを特徴とする、請求項１に記載の化粧組成物。
6. ブロックコポリマーの割合が化粧組成物の全質量に対して０．００１質量％〜１０質量％であることを特徴とする、先の請求項１ないし７のいずれか１項に記載の化粧組成物。
7. 請求項１に記載の化粧組成物のスタイリング製品としての使用。