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JP2003055368A - ケミカルプロセス - Google Patents

ケミカルプロセス

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JP2003055368A
JP2003055368A JP2001398828A JP2001398828A JP2003055368A JP 2003055368 A JP2003055368 A JP 2003055368A JP 2001398828 A JP2001398828 A JP 2001398828A JP 2001398828 A JP2001398828 A JP 2001398828A JP 2003055368 A JP2003055368 A JP 2003055368A
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JP2001398828A
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テイボール・サボー
Jozsef Bodi
ヨージエフ・ボーデイ
Gyula Dalmadi
ジユラ・ダルマデイ
Kardos Zsuzsanna Baloghne
ジユジヤンナ・バログフネー・カルドシユ
Soltan Szeverenyi
ゾルターン・セベルレーニ
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Chinoin Private Co Ltd
Original Assignee
Chinoin Gyogyszer es Vegyeszeti Termekek Gyara Zrt
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/93Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with a ring other than six-membered
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】ベラプロスト及びその塩を、より高い収率、よ
り短い合成経路で調製するための新規製造方法の提供。 【解決手段】 一般式VIIの化合物から出発し、新規
なシリル中間体を経由して式Iで表わしたベラプロスト
の化合物を得る方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、式(I)のベラプ
ロストおよびその塩の新しい合成に関し、この新しい合
成で使用される一般式(IV)、(V)、および(V
I)(式中、Rはメチル基またはエチル基を表し、R
は炭素原子1〜4個を含む直鎖または分岐のアルキル
基を表す)の新しい中間体に関する。
【0002】
【従来の技術】式(I)のベラプロストの塩、特にナト
リウム塩は、経口投与できるプロスタサイクリン誘導体
であり、慢性末梢血管疾患、動脈血栓症、および肺高血
圧症の治療に効果的に適用できる。市販の薬剤組成物中
で使用される式(I)およびその塩の活性薬剤成分は、
4個の立体異性体を含むラセミ化合物である。
【0003】式(I)の化合物およびその塩の合成は、
欧州特許第084856号、特開昭59−134787
号、およびTetrahedron、55巻、2449
〜2474頁(1999年)に記載されており、その合
成の要約を図1に示す。
【0004】図1において、TBDMSの意味はter
t−ブチルジメチルシリル基であり、Acはアセチル基
を意味し、W−H−E反応は図1のウィッティヒ−ホー
ナー−エモンズ反応を意味する。
【0005】図1から、現況技術に属する合成ルートは
かなり長く、その収率は高くないことがわかる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、より
高い収率を有するより短い合成法を提供することであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】予期しないことであった
が、第1級水酸基を酸感応性の保護基によって保護し、
第2級水酸基を塩基感応性の保護基によって保護し、引
き続いて第1級水酸基から保護基を除去することが、特
別に選択した単一の保護基の使用によって回避できるこ
とがわかった。これは、同時に、選択的酸化を可能にす
るものである。
【0008】上記の保護基を15位のオキソ基の還元に
先立って除去し、還元剤を注意深く選択すると、還元の
立体的選択性および合成全体の収率が高くなる。
【0009】本発明によれば、一般式(VII)(式
中、Rは炭素原子1〜4個を含む直鎖または分岐のア
ルキル基を意味する)の化合物を、一般式(VIII)
(式中、Rはメチル基またはエチル基を意味し、Xは
塩素原子または臭素原子またはヨウ素原子、CFSO
−O−基、アジド基、シアノ基、または
【0010】
【化3】 基、または以下の文献:Silylating Age
nts、Fluka Chemie AG、第2版、D
r.Gert van Look編(1995年)IS
BN 3−905617−08−0に記載の基を表す)
の化合物と反応させ、得られた一般式(VI)(式中、
およびRの意味は上記定義どおり)の化合物を一
般式(V)(式中、RおよびRの意味は上記定義ど
おり)のアルデヒドに酸化し、得られた上記のアルデヒ
ドを単離してまたは単離せずに一般式(IX)(式中、
は炭素原子1〜4個を含む直鎖または分岐のアルキ
ル基を表す)のホスホン酸エステルと反応させ、得られ
た一般式(IV)(式中、RおよびRの意味は上記
定義どおり)の化合物を、11位の保護基を切断するこ
とによって脱保護し、こうして得られた一般式(II
I)(式中、Rの意味は上記定義どおり)の化合物を
還元し、得られた一般式(II)(式中、Rの意味は
上記定義どおり)の化合物を加水分解し、式(I)の酸
を単離し、これを塩基と反応させてその塩に変換して塩
を単離する、または得られた式(I)の酸を単離せずに
その塩に変換し、こうして得られた塩を単離する。
【0011】
【発明の実施の形態】上記のプロセスでは、一般式(V
II)の化合物を、トリエチルシリル基またはトリメチ
ルシリル基の導入に適した一般式(VIII)(式中、
はメチル基またはエチル基を意味し、Xは塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子、CFSO −O−基、ア
ジド基、シアノ基、または
【0012】
【化4】 基、または以下の文献:Silylating Age
nts、FlukaChemie AG、第2版、D
r.Gert.Van Look編(1995年)IS
BN 3−905617−08−0に記載の基を表す)
の化合物と反応させる。トリメチルシリルハロゲン化物
またはトリエチルシリルハロゲン化物、特に塩化物また
は上記の特定の誘導体が好ましい。得られた一般式(V
I)のジシリル化ジオールは、ジメチルスルホキシド、
塩化オキサリル、およびトリエチルアミンの混合物によ
って、最も有利に一般式(V)のアルデヒドに酸化する
ことができる。
【0013】一般式(V)のアルデヒドを、ウィッティ
ヒ−ホーナー−エモンズ反応(Chem.Rev.89
巻、863〜927頁(1989年))の条件下で、一
般式(IX)のホスホン酸エステルと反応させ、一般式
(IV)の化合物を得る。
【0014】一般式(IV)の化合物の第2級水酸基の
トリエチルシリルまたはトリメチルシリル保護基を酸性
媒体中で除去して、一般式(III)のエノン型化合物
を得る。
【0015】好ましくはジイソブチルアルミニウム−
2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ
ドを用いて、一般式(III)の化合物の立体選択的還
元を行い、式(II)の化合物を得る。これを塩基性媒
体中で加水分解すると、式(I)のベラプロストにな
る。これを塩基と反応させることによって、式(I)の
化合物の塩を生成させることができる。塩の生成は、式
(I)のベラプロストを単離した後に、または単離せず
に行うことができる。
【0016】ベラプロストナトリウム塩の調製には、塩
基として水酸化ナトリウムを用いることが最も好まし
い。
【0017】本発明のプロセスで用いる一般式(VI
I)の化合物および一般式(IX)のホスホン酸エステ
ルは、例えばTetrahedron 55巻 244
9〜2474頁(1999年)の記載に準じて調製する
ことができる。一般式(VIII)の化合物は市販の化
合物である。
【0018】本発明の特許請求の範囲を制限することな
しに、以下の実施例を用いて本発明をより詳細に説明す
る。
【0019】実施例1 一般式(VI)(式中、Rはエチル基を、Rはメチ
ル基を表す)の化合物一般式(VII)(式中、R
メチル基を意味する)のジオール1.84g(6ミリモ
ル)をピリジン10mlに溶解する。この溶液を撹拌
し、塩化トリエチルシリル2.35ml(14ミリモ
ル)を加える。30分間撹拌を続け、次いで反応混合物
を水50mlとヘキサン20mlの混合物中へ注ぐ。水
相をヘキサン(2×10ml)で抽出し、ヘキサン溶液
を合わせてNaHSOの1M水溶液30ml、水30
ml、1MのNaHCO溶液30ml、水2×30m
l、次いで飽和NaCl溶液で洗う。このヘキサン溶液
をNaSOで1時間乾燥し、次いでこれを濃縮す
る。上記の標題化合物が、無色の油状物として得られ
る。
【0020】収率:3.08g(96%) TLC−R(ヘキサン−酢酸エチル 3:1)=0.
60、(TLC=薄層クロマトグラフィ) TLC−R(ヘキサン−酢酸エチル 10:1)=
0.32
【0021】
【化5】
【0022】実施例2 一般式(V)(式中、Rはエチル基を、Rはメチル
基を表す)の化合物塩化オキサリル0.27ml(3ミ
リモル)をジクロロメタン3mlに溶解し、混合物を−
60℃に冷却する。この溶液に、ジクロロメタン3ml
に溶解したジメチルスルホキシド0.44ml(6.2
ミリモル)を−60℃で滴下する。
【0023】5分間撹拌後、ジクロロメタン2mlに溶
解した、実施例1によって調製した一般式(VI)の化
合物1.07g(2ミリモル)をこの混合物へ加える。
混合物を−35℃まで昇温し、この温度で30分間撹拌
する。反応混合物を−60℃に冷却し、トリエチルアミ
ン1.42ml(10ミリモル)を加える。混合物を1
5分間撹拌し、水10mlおよび10MのNaHSO
水溶液7mlを室温で加える。水相を5mlのジクロロ
メタンで2回抽出する。有機相を合わせてNaHCO
の1M水溶液10ml、水10ml、および飽和NaC
l溶液10mlで洗う。有機相をNaSOで乾燥し
これを真空で濃縮して、上記の標題化合物を黄色の油状
物として得る。これを精製してまたは精製せずに、次の
反応ステップで使用することができる。
【0024】収率:0.83g(99%) TLC−R(ヘキサン−ジイソプロピルエーテル
1:1)=0.44 TLC−R(ヘキサン−酢酸エチル 3:1)=0.
52
【0025】
【化6】
【0026】実施例3 一般式(IV)(式中、Rはエチル基を、Rはメチ
ル基を表す)の化合物水素化ナトリウム(60%)の油
状懸濁液92mg(2.3ミリモル)をトルエン2ml
に懸濁させ、一般式(IX)(式中、Rはメチル基を
表す)のホスホン酸エステル0.51ml(2.2ミリ
モル)をトルエン1mlに溶解してこの混合物に窒素雰
囲気下15℃で加える。この混合物を15℃で20分間
撹拌し、次いでホスホン酸エステルのナトリウム塩を含
むこの溶液を、トルエン2mlに溶解した、実施例2で
得られた一般式(V)の粗アルデヒド0.83g(2ミ
リモル)に−10℃で滴下する。2時間撹拌後、水10
mlおよびNaHSOの1M水溶液2mlをこの反応
混合物に加え、これを2分間撹拌する。水相を5mlの
トルエンで2回抽出し、トルエン溶液を合わせて、水1
0ml、NaHCOの1M水溶液10ml、水10m
l、および飽和NaCl溶液10mlで洗う。この溶液
をNaSOで乾燥し、これを真空で濃縮し、上記の
標題化合物を黄色の油状物として得る。これを精製せず
に、次の反応ステップで使用することができる。
【0027】収率:1.2g(>99%) TLC−R(ヘキサン−ジイソプロピルエーテル
1:1)=0.49 TLC−R(ヘキサン−酢酸エチル 3:1)=0.
54
【0028】
【化7】
【0029】実施例4 一般式(III)(式中、Rはメチル基を表す)の化
合物 実施例3で得られた一般式(IV)の粗シリルエノン
1.2g(2ミリモル)をメタノール20mlに溶解
し、ここへ濃塩酸0.15ml(1.8ミリモル)を加
える。混合物を25℃で5分間撹拌し、ここへ0.16
g(1.9ミリモル)の固形NaHCOを加える。こ
の混合物を25℃で10分間撹拌し、次いでこれを真空
で濃縮する。残渣をトルエンに溶解し、無機塩をろ過除
去し、ろ液を濃縮する。得られた粗生成物をカラムクロ
マトグラフィで精製する。こうして上記の標題化合物が
淡黄色油状物として得られる。
【0030】収率:0.46g(56%) TLC−R(ジイソプロピルエーテル−酢酸エチル−
酢酸 50:50:1.5)=0.50
【0031】
【化8】
【0032】実施例5 一般式(II)(式中、Rはメチル基を意味する)の
化合物 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール5.1
4g(22ミリモル)を、窒素雰囲気下、蒸留トルエン
50mlに溶解する。蒸留トルエン8mlに溶解した水
素化ジイソブチルアルミニウム1.55g(11ミリモ
ル)を上記溶液に滴下する。反応混合物を0℃で1時間
撹拌し、次いでこれを−78℃に冷却する。このジイソ
ブチルアルミニウム−2,6−ジ−t−ブチル−4−メ
チルフェノキシド試薬に、蒸留トルエン4mlに溶解し
た、実施例4で得られた一般式(III)の化合物0.
45g(1.1ミリモル)を、−78℃でゆっくり滴下
する。反応混合物を−50℃で一晩撹拌し、次いで2M
塩酸水溶液27mlでクエンチする。30分間撹拌後、
相を分離し、水相を15mlのトルエンで2回洗い、有
機相を合わせて飽和NaCl溶液20ml、1MのNa
HCO水溶液15ml、および飽和NaCl溶液2×
20mlで洗う。有機相をNaSOで乾燥し、これ
を真空で濃縮する。クロマトグラフィを用いた精製によ
って、残渣から上記の標題化合物を無色の油状物として
得る。
【0033】収率:0.25g(55%) TLC−R(ジイソプロピルエーテル−酢酸エチル−
酢酸 50:50:1.5)=0.24 TLC−R(トルエン−ジオキサン−酢酸 20:1
0:1)=0.50
【0034】
【化9】
【0035】実施例6 式(I)のベラプロスト 実施例5で得られた一般式(II)の化合物0.246
g(0.6ミリモル)をメタノール1mlに溶解し、こ
こへ1M水酸化ナトリウム水溶液1mlをゆっくり滴下
する。1時間撹拌後、メタノールを反応混合物から真空
下留去する。水性残渣を水10mlで希釈し、メチル−
tert−ブチルエーテルで抽出し、有機相を合わせて
飽和NaCl溶液で洗い、NaSOで乾燥し濃縮す
る。濃縮残渣を酢酸エチル−ヘキサン混合物から結晶化
すると、上記標題の化合物の純品が無色結晶として得ら
れる。
【0036】収率:0.21g(87%) TLC−R(トルエン−ジオキサン−酢酸 20:1
0:1)=0.41 融点:98〜112℃
【0037】
【化10】
【0038】実施例7 ベラプロストナトリウム塩(式(I)の化合物のナトリ
ウム塩) ベラプロスト0.199gをメタノール2mlに溶解
し、ここへ1Mの水酸化ナトリウム水溶液0.5mlを
加える。これを混合した後、溶媒を真空下濃縮すること
によって、上記標題の塩が無色結晶として得られる。
【0039】収率:0.21g(100%) 融点:>205℃
【0040】
【化11】
【0041】上記の薄層クロマトグラフィ(TLC)の
手順では、MERCK Kieselgel 60F
254プレートを使用した。層の厚さは0.2mm、プ
レートの長さは5cmである。
【0042】
【化12】
【図面の簡単な説明】
【図1】発明の詳細な説明において記された既知の合成
法を図1に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヨージエフ・ボーデイ ハンガリー国、1203・ブダペシユト、ハー ルシユフアシエーターニユ・ウツツア・15 (72)発明者 ジユラ・ダルマデイ ハンガリー国、1043・ブダペシユト、カシ ヤイ・ウツツア・7 (72)発明者 ジユジヤンナ・バログフネー・カルドシユ ハンガリー国、1098・ブダペシユト、デー シ・フベル・ウツツア・30 (72)発明者 ゾルターン・セベルレーニ ハンガリー国、1163・ブダペシユト、ダト イヤ・ウツツア・39 Fターム(参考) 4C037 UA03 4H049 VN01 VP01 VQ58 VR23 VR41 VU06 VU36

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I)の化合物およびその塩、特にそ
    のナトリウム塩を調製する方法であって、一般式(VI
    I)(式中、Rは炭素原子1〜4個を含む直鎖または
    分岐のアルキル基を意味する)の化合物を、一般式(V
    III)(式中、Rはメチル基またはエチル基を意味
    し、Xは塩素原子または臭素原子またはヨウ素原子、 CFSO−O−基、アジド基、シアノ基、または 【化1】 基、または以下の文献:「Silylating Ag
    ents」、Fluka Chemie AG、第2
    版、Dr.Gert van Look編(1995
    年)ISBN 3−905617−08−0に記載の基
    を表す)の化合物と反応させ、得られた一般式(VI)
    (式中、RおよびRの意味は上記定義どおり)の化
    合物を一般式(V)(式中、RおよびRの意味は上
    記定義どおり)のアルデヒドに酸化し、得られた上記の
    アルデヒドを単離してまたは単離せずに一般式(IX)
    (式中、Rは炭素原子1〜4個を含む直鎖または分岐
    のアルキル基を表す)のホスホン酸エステルと反応さ
    せ、得られた一般式(IV)(式中、RおよびR
    意味は上記定義どおり)の化合物を、11位の保護基を
    除去することによって脱保護し、こうして得られた一般
    式(III)(式中、Rの意味は上記定義どおり)の
    化合物を還元し、得られた一般式(II)(式中、R
    の意味は上記定義どおり)の化合物を加水分解し、式
    (I)の酸を単離し、これを塩基と反応させてその塩に
    変換して塩を単離する、または得られた式(I)の酸を
    単離せずにその塩に変換し、こうして得られた塩を単離
    することを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 一般式(VIII)(式中、Rはエチ
    ル基を表し、Xは塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原
    子、シアノ基、アジド基、CFSO−O−基、また
    は 【化2】 基である)の化合物を用いることを特徴とする請求項1
    に記載の方法。
  3. 【請求項3】 ジメチルスルホキシド、塩化オキサリ
    ル、およびトリエチルアミンの混合物を用いて、一般式
    (VI)の化合物を一般式(V)の化合物に酸化するこ
    とを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 一般式(V)のアルデヒドと一般式(I
    X)のホスホン酸エステルをウィッティヒ−ホーナー−
    エモンズ反応の条件下で反応させることを特徴とする請
    求項1に記載の方法。
  5. 【請求項5】 一般式(IV)の化合物の場合に、11
    位の水酸基の保護基を酸性媒体中で除去することを特徴
    とする請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 一般式(III)の化合物の還元を、ジ
    イソブチルアルミニウム−2,6−ジ−tert−ブチ
    ル−4−メチルフェノキシドを用いて実施することを特
    徴とする請求項1に記載の方法。
  7. 【請求項7】 一般式(II)の化合物を塩基性媒体中
    で加水分解することを特徴とする請求項1に記載の方
    法。
  8. 【請求項8】 式(I)の酸をそのナトリウム塩に変換
    し、その塩を単離することを特徴とする請求項1に記載
    の方法。
  9. 【請求項9】 一般式(VI)(式中、RおよびR
    の意味は請求項1で定義したとおりである)の化合物
    類。
  10. 【請求項10】 一般式(VI)(式中、Rはエチル
    基を表し、Rはメチル基を表す)の化合物。
  11. 【請求項11】 一般式(V)(式中、RおよびR
    の意味は請求項1で定義したとおりである)の化合物
    類。
  12. 【請求項12】 一般式(V)(式中、Rはエチル基
    を表し、Rはメチル基を表す)の化合物。
  13. 【請求項13】 一般式(IV)(式中、RおよびR
    の意味は請求項1で定義したとおりである)の化合物
    類。
  14. 【請求項14】 一般式(IV)(式中、Rはエチル
    基を表し、Rはメチル基を表す)の化合物。
JP2001398828A 2001-07-30 2001-12-28 ケミカルプロセス Expired - Lifetime JP4440506B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
HU0103089A HU227157B1 (en) 2001-07-30 2001-07-30 Production of beraprost ester by selective oxidation
HU0103089 2001-07-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003055368A true JP2003055368A (ja) 2003-02-26
JP4440506B2 JP4440506B2 (ja) 2010-03-24

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