JP2002531360A

JP2002531360A - フラットパネルディスプレイ用ガラス

Info

Publication number: JP2002531360A
Application number: JP2000585175A
Authority: JP
Inventors: シーチェイコン，リサ; ジェイジーエリソン，アダム; ビーヘアーズ，ジョージ; ティーコーリ，ジェフリー; シーラップ，ジョセフ; モレナ，ロバート
Original assignee: Corning Inc
Current assignee: Corning Inc
Priority date: 1998-11-30
Filing date: 1999-11-22
Publication date: 2002-09-24
Anticipated expiration: 2019-11-22
Also published as: EP1152990A1; US7524784B2; JP4547093B2; SG103258A1; EP1152990B1; TW200424144A; HK1070639A1; CN1160268C; CN1275889C; US6831029B2; US6319867B1; CN1550468A; WO2000032528A1; US20050084440A1; TWI228100B; US7365038B2; EP1152990A4; TWI289543B; US20080160221A1; CN1328531A

Abstract

(57)【要約】フラットパネルディスプレイ装置における基板を製造するのに用いられるガラスが開示されている。ガラスは、約2.45ｇ／ｃｍ³未満の密度および約200,000ポアズより大きい液相線粘度を示し、酸化物基準のモルパーセントで表して、65-75％のＳｉＯ₂、7-13％のＡｌ₂Ｏ₃、5-15％のＢ₂Ｏ₃、0-3％のＭｇＯ、5-15％のＣａＯ、および0-5％のＳｒＯから実質的になり、ＢａＯを実質的に含まない。このガラスはまた650℃を超える歪点を示す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】発明の分野本発明は、フラットパネルディスプレイ装置における基板に望ましい物理的お
よび化学的特性を示す、アルカリを含まないアルミノケイ酸塩ガラスに関する。

【０００２】発明の背景ディスプレイは、大まかに、２つの種類：放射型（例えば、ＣＲＴおよびプラ
ズマディスプレイパネル（ＰＤＰ））および非放射型の内の１つに分類できる。
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が属する後者の一群は、外部光源に依存し、そのデ
ィスプレイは光モジュレータとしてのみ機能する。液晶ディスプレイの場合には
、この外部光源は、周囲光（反射型ディスプレイにおいて用いられる）または専
用光源（直視ディスプレイに見られるような）のいずれかである。

【０００３】液晶ディスプレイは、光を変調させる液晶（ＬＣ）材料の３つの固有の特徴に
よる。第１の特徴は、偏光された光の光学的回転を生じさせる液晶の能力である
。第２の特徴は、液晶の物理的配向により回転を生じさせる液晶の能力である。
第３の特徴は、外部電界を施すことによりこの物理的配向を経験する液晶の能力
である。

【０００４】単純なツイストネマティック型（ＴＮ）液晶ディスプレイの構成において、２
つの基板が液晶材料の層を囲んでいる。常時白色(Normally White)として知られ
ているディスプレイの種類において、基板の内面にアライメント層を施用するこ
とにより、液晶ディレクタが90°螺旋状に回転する。これは、液晶セルの一方の
面に進入する直線偏光された光の偏光が、液晶材料により90°回転されることを
意味する。互いに90°に配向された偏光フイルムが、基板の外面に配置される。

【０００５】光は、第１の偏光フイルムに進入する際に、直線偏光される。液晶セルを横切
るときに、この光の偏光は、90°回転され、第２の偏光フイルムを通って出るこ
とができる。液晶層に亘り電界を印加すると、液晶ディレクタがその電界にアラ
イメントされて、光を回転させる液晶の能力が妨げられる。このセルを通過する
直線偏光された光は、回転された偏光を有しておらず、ゆえに、第２の偏光フイ
ルムにより遮断される。したがって、最も単純な意味において、液晶材料は、光
の透過を実行するまたは遮断する能力が電界の印加により制御されるライトバル
ブとなる。

【０００６】上述した説明は液晶ディスプレイにおける１つのピクセルの動作に関する。大
量情報型ディスプレイには、サブピクセルと称される数百万のこれらのピクセル
をマトリクスフォーマットに組み立てる必要がある。アドレス速度を最大にし、
クロストークを最小にしながら、これらサブピクセルの全てにアドレスする、す
なわち、電界を印加することは、骨の折れる課題である。サブピクセルをアドレ
スする好ましい方法に１つは、各々のサブピクセルに位置する薄膜トランジスタ
により前記電界を制御することによりものであり、これが、アクティブマトリク
ス液晶ディスプレイ装置（ＡＭＬＣＤ）の基礎を形成する。

【０００７】これらのディスプレイの製造は非常に複雑であり、基板ガラスの性質は非常に
重要である。ＡＭＬＣＤ装置の製造に用いられている最初の主要なガラス基板で
は、その物理的寸法を厳重に制御する必要がある。米国特許第3,338,696号（Doc
herty）および同第3,682,609号（Dockerty）に記載されているダウンドローシー
トまたは溶融プロセスは、ラップ仕上げおよび研磨のような費用のかかる後成形
仕上げ操作を必要とせずに、そのような製品を製造できる数少ないものの内の１
つである。残念ながら、溶融プロセスは、ガラスの特性にむしろ厳しい制限を課
し、好ましくは200,000ポアズよりも大きい、比較的高い液相線粘度を必要とす
る。

【０００８】一般的に、ディスプレイを構成する２つの基板は別々に製造される。１つのカ
ラーフィルタプレートは、その上に一連の赤、青、緑、および黒の有機染料が堆
積されている。これらの原色の各々は、対をなすアクティブプレートのピクセル
電極区域と正確に対応しなければならない。これら２つのプレートの製造中に遭
遇する周囲の熱条件間の差による影響を除去するために、その寸法が熱条件に依
存しないガラス基板（すなわち、熱膨張係数のより低いガラス）を使用すること
が望ましい。しかしながら、この性質は、膨張の不整合のために生じる、堆積さ
れたフイルムと基板との間の応力の生成により釣り合わせる必要がある。最適な
熱膨張係数は28-33×10^-7／℃の範囲にあると見積もられている。

【０００９】アクティブ薄膜トランジスタを含有するためにそのように呼ばれているアクテ
ィブプレートは、一般的な半導体型プロセスを用いて製造される。これらのプロ
セスには、スパッタリング、ＣＶＤ、フォトリソグラフィー、およびエッチング
が含まれる。ガラスがこれらのプロセスの最中に不変でいることが望ましい。し
たがって、ガラスは、熱安定性および化学安定性の両方を示す必要がある。

【００１０】熱安定性（熱圧縮または収縮としても知られている）は、特定のガラス組成の
固有の粘性特性（歪点により示される）および製造プロセスにより決定されるガ
ラスシートの熱履歴の両方に依存する。米国特許第5,374,595号には、650℃を超
える歪点を有し、溶融プロセスの熱履歴を有するガラスが、アモルファスシリコ
ン薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）および超低温ポリシリコンＴＦＴの両方に基づく
アクティブプレートについて許容される熱安定性を有することが開示されている
。より高い温度での加工（低温ポリシリコンＴＦＴにより必要とされるような）
には、熱安定性を確実にするために、ガラス基板にアニーリング段階を加える必
要があるかもしれない。

【００１１】化学安定性は、製造プロセスにおいて使用される様々なエッチング剤溶液の攻
撃に対する抵抗を意味する。シリコン層をエッチングするのに用いられるドライ
エッチング条件からの攻撃に対する抵抗に、特に関心がある。ドライエッチング
条件をベンチマーク試験するために、基板試料が、１１０ＢＨＦとして知られて
いるエッチング剤溶液に露出される。この試験は、1容積の50重量％ＨＦおよび1
0容積の40重量％ＮＨ₄Ｆからなる溶液中に30℃で5分間に亘りガラス試料を浸漬
する工程からなる。この試料は、損失重量および外観に基づいて等級付けられる
。

【００１２】これらの必要条件に加えて、ＡＭＬＣＤの製造業者は、より大きなディスプレ
イサイズの需要および規模の経済性の両方のために、余儀なくより大きなサイズ
のガラス片を加工していることが分かった。現在の工業基準は、Gen III（550ｍ
ｍ×650ｍｍ）およびGen III.5（600ｍｍ×720ｍｍ）であるが、将来の努力は、
Gen IV（1ｍ×1ｍ）および潜在的により大きなサイズに向けられている。これに
よりいくつかの懸念が生じる。第１かつ主な懸念は、単純にガラスの重量である
。Gen III.5からGen IVに移行すると、ガラスの重量が50％増加し、ガラスを加
工ステーション中に運び込むのに用いられるロボット式ハンドラーに著しい影響
が出る。さらに、ガラス密度およびヤング率に依存する弾性垂れ下がり(elastic
sag)は、加工ステーション間でガラスを輸送するのに用いられるカセット中に
ガラスを積載し、回収し、配置する能力に影響を与えるシートサイズが大きくな
るほど、より問題となってくる。

【００１３】したがって、好ましくは、2.45ｇ／ｃｍ³未満の、より大きいシートサイズに
関連する困難を緩和させる低密度、および約200,000ポアズより大きい液相線粘
度を有する、ディスプレイ装置用のガラス組成物を提供することが望ましいであ
ろう。それに加えて、このガラスが、0-300℃の温度範囲に亘り、約28-35×10^-7 ／℃の間、好ましくは、約28-33×10^-7／℃の間の熱膨張を有することが望まし
いであろう。さらに、このガラスが、650℃よりも高い歪点を有し、かつエッチ
ング剤溶液からの攻撃に耐性があることが好ましい。

【００１４】発明の概要本発明は、2.45ｇ／ｃｍ³未満の粘度および約200,000ポアズより大きい、好ま
しくは、約400,000ポアズより大きい、より好ましくは、約600,000ポアズより大
きい、最も好ましくは、約800,000ポアズより大きい液相線粘度（液相線温度で
のガラスの粘度として定義される）を有するガラスの発見に基づく。それに加え
て、本発明のガラスは、0-300℃の温度範囲に亘り、約28-35×10^-7／℃の間、好
ましくは、約28-33×10^-7／℃の間の線熱膨張係数および約650℃よりも高い歪点
を示す。本発明のガラスは、約1700℃未満の溶融温度を有する。加えて、該ガラ
スは、1部の50重量％ＨＦおよび10部の40重量％ＮＨ₄Ｆからなる溶液中に30℃で
5分間に亘り浸漬した後に約0.5ｍｇ／ｃｍ²未満の損失重量を示す。

【００１５】本発明のガラスは、酸化物基準のモルパーセントで計算して、65-75％のＳｉ
Ｏ₂、7-13％のＡｌ₂Ｏ₃、5-15％のＢ₂Ｏ₃、0-3％のＭｇＯ、5-15％のＣａＯ、お
よび0-5％のＳｒＯから実質的になり、ＢａＯを実質的に含まない組成を有する
。より好ましくは、本発明のガラスは、酸化物基準のモルパーセントで計算して
、67-73％のＳｉＯ₂、8-11.5％のＡｌ₂Ｏ₃、8-12％のＢ₂Ｏ₃、0-1％のＭｇＯ、5
.5-11％のＣａＯ、および0-5％のＳｒＯから実質的になる組成を有する。

【００１６】上述した組成および物理的特性、特に好ましい組成および好ましい特性を有す
るガラスに関して、ガラスの液相線粘度が、モル％基準の、アルカリ土類、ＲＯ
（Ｒ＝Ｍｇ，ＣＡ，Ｓｒ）の合計対アルミナの比率、すなわち、ＲＯ／Ａｌ₂Ｏ₃ ＝（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）／Ａｌ₂Ｏ₃により強く影響を受けることを発見し
た。この比率は、ＲＯ／Ａｌ₂Ｏ₃と称され、0.9から1.2までの範囲に保持される
べきである。最も好ましくは、比率の範囲は、最高の液相線粘度を得るために、
0.92＜ＲＯ／Ａｌ₂Ｏ₃＜0.96であるべきである。

【００１７】本発明のガラスはＢａＯを実質的に含まず、このことは、該ガラスは好ましく
は約0.1モル％未満しかＢａＯを含有しないことを意味する。本発明のガラスは
また、アルカリ金属酸化物を実質的に含まず、このことは、該ガラスが好ましく
は、合計で約0.1モル％しかアルカリ金属酸化物を含有しないことを意味する。
さらに、これらのガラスは清澄剤（ヒ素、アンチモン、セリウム、スズの酸化物
、および／またはハロゲン化物、塩素／フッ素のような）を含んでもよい。

【００１８】本発明の別の態様において、前記ガラスは約1700℃未満の溶融温度を有する。
本発明のガラスは、1部の50重量％ＨＦおよび10部の40重量％ＮＨ₄Ｆからなる溶
液中に30℃で5分間に亘り浸漬した後に約0.5ｍｇ／ｃｍ²未満の損失重量を示す
。該ガラスは、フラットパネルディスプレイ用の基板として有用である。本発明
のガラスから製造された基板は、原子間力顕微鏡により測定された、約0.5ｎｍ
未満の平均表面粗さおよび光学リタデーションにより測定された、約150ｐｓｉ
（約1.03×10⁶Ｐａ）未満の平均内部応力を有する。

【００１９】発明の詳細な説明本発明は、フラットパネルディスプレイ基板として使用する改良ガラスに関す
る。特に、該ガラスは、そのような基板の様々な特性の必要条件を満たす。

【００２０】本発明による好ましいガラスは、約2.45ｇ／ｃｍ³未満、好ましくは、約2.40
未満の密度、0-300℃の温度範囲に亘る、約28-35×10^-7／℃の間、好ましくは、
約28-33×10^-7／℃の間のＣＴＥ、および約650℃よりも高い、好ましくは、660
℃よりも高い歪点を示す。高歪点は、その後の熱加工中に圧縮／収縮によるパネ
ルの歪みを防ぐのに役立つために望ましい。

【００２１】米国特許第3,338,696号（Docherty）および同第3,682,609号（Dockerty）に記
載されている溶融プロセスのようなよりきつい製造条件に関しては、高液相線粘
度を有するガラスが必要とされる。したがって、本発明の好ましい実施の形態に
おいて、前記ガラスは、2.45ｇ／ｃｍ³未満の粘度および約200,000ポアズより大
きい、好ましくは、約400,000ポアズより大きい、より好ましくは、約600,000ポ
アズより大きい、最も好ましくは、約800,000ポアズより大きい液相線粘度を示
すべきである。本発明のガラスから製造された基板は、フロートプロセスのよう
な他の製造プロセスを用いて製造できるが、溶融プロセスがいくつかの理由のた
めに好ましい。第１に、溶融プロセスから製造されたガラス基板は研磨を必要と
しない。現在のガラス基板研磨は、原子間力顕微鏡により測定された、約0.5ｎ
ｍ（Ｒａ）より大きい平均表面粗さを有するガラス基板を製造することができる
。本発明により、溶融プロセスを用いて製造されたガラス基板は、原子間力顕微
鏡により測定された、0.5ｎｍ未満の平均表面粗さを有する。

【００２２】化学的耐久性は、製造プロセスに用いられる様々なエッチング剤溶液の攻撃に
対する抵抗を含む。シリコン層をエッチングするのに使用されるドライエッチン
グ条件からの攻撃に対する抵抗に、特に関心がある。ドライエッチング条件のベ
ンチマーク試験の１つは、１１０ＢＨＦとして知られているエッチング剤溶液へ
の露出である。この試験は、1容積の50重量％ＨＦおよび10容積の40重量％ＮＨ₄ Ｆからなる溶液中に30℃で5分間に亘りガラスの試料を浸漬する工程からなる。
耐薬品性は、ｍｇ／ｃｍ²に換算した損失重量を測定することにより決定される
。この特性は表Ｉに「１１０ＢＨＦ」として列記されている。

【００２３】本発明のガラスは、主なガラス形成成分として、65-75モル％の、好ましくは
、67-73モル％のＳｉＯ₂を含有する。シリカを増加させることにより、液相線粘
度が改良され、ガラスの密度およびＣＴＥが減少するが、過剰なシリカは溶融温
度には有害である。該ガラスはまた、7-13モル％の、好ましくは、8-11.5モル％
のＡｌ₂Ｏ₃を含む。Ａｌ₂Ｏ₃含有量が増加すると、ガラスの耐久性が増大し、Ｃ
ＴＥが減少するが、液相線温度も上昇してしまう。最も望ましい歪点を有するた
めには、少なくとも8モル％が必要であるが、11.5モル％を超えると、望ましい
液相線温度より低くなってしまう。

【００２４】前記ガラスはさらに、5-15モル％の、好ましくは、8-12モル％の酸化ホウ素を
含有する。酸化ホウ素は、液相線温度および密度を低下させ、好ましくは、少な
くとも8モル％で存在するが、12モル％よりも多く酸化ホウ素が存在すると、ガ
ラスの歪点に悪影響を与える。

【００２５】ＭｇＯは本発明のガラス中に0-3モル％、好ましくは、0-1モル％の量で存在す
る。ＭｇＯが増加すると、液相線粘度が減少するので、3モル％より多くのＭｇ
Ｏがガラス中に存在すべきではない。しかしながら、少量のＭｇＯは密度を減少
させるために有益であろう。

【００２６】ＣａＯは、前記ガラスの溶融温度および液相線温度の両方を低下させるのに有
用であるが、11モル％より多く存在すると、望ましい歪点よりも小さくなり、望
ましい熱膨張係数よりも大きくなる。したがって、本発明のガラスは、5-15モル
％のＣａＯを含有しても差し支えないが、好ましくは、5.5-11モル％のＣａＯを
含有する。

【００２７】ＲＯ／Ａｌ₂Ｏ₃比は0.9-1.2の範囲にある。この範囲内で、液相線温度の極小
値を見つけることができ、これは、基礎系ＣａＯ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂における
コテクティックおよび／または共晶に対応する。この一連のガラスの粘度曲線は
、著しくは変動せず、したがって、液相線温度のこれらの変化が、液相線粘度の
上昇に関する主な駆動因子である。

【００２８】薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の性能への負の影響のために、リチア、ソーダま
たはカリのようなアルカリは、本発明のガラス組成物から排除される。同様に、
より重いアルカリ土類金属（ＳｒＯおよびＢａＯ）も、ガラス密度への負の影響
のために最小化または排除される。したがって、本発明のガラスは、0-5モル％
のＳｒＯを含有してもよい。しかしながら、本発明のガラスはＢａＯを実質的に
含まない。ここに用いているように、ＢａＯを実質的に含まないとは、その組成
物が組成中に0.1モル％未満しかＢａＯを含有しないことを意味する。

【００２９】Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｃｌ、Ｆ、ＳＯ₂等のような清澄剤
もまた、ガラスからの種の除去を補助するために存在してもよい。該ガラスは、
商業的に調製されたガラスに一般的に見られる汚染物を含有してもよい。それに
加えて、特性を上述した範囲から外さずに、以下の酸化物を、1モル％を超えな
いレベルで加えても差し支えない：ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂
Ｏ₃。表Ｉは、物理的性質と共に、モル％に換算した本発明のガラスの実施例を
列記している。表１の比較例は、コーニング社の1737ガラスである。

【００３０】本発明をさらに以下の実施例により説明する。これらの実施例は、請求項に記
載された発明の説明を意図したものであって、いかようにもそれらを制限するも
のではない。表Ｉは、ガラスバッチから酸化物基準で計算された、モルパーセン
トの例示ガラス組成を示す。これらの実施例のガラスは、各々のガラス組成物の
1,000-25,000グラムのバッチを白金坩堝内で、比較的均質なガラス組成物が得ら
れる温度と時間で、例えば、約1625℃の温度で約4-16時間に亘り、溶融すること
により調製した。ガラスの技術分野における従来の技術にしたがってガラスにつ
いて測定した、各々のガラス組成に関する適切なガラス特性も示されている。こ
のように、0-300℃の温度範囲に亘る線熱膨張係数（ＣＴＥ）は、×10^-7／℃で
表され、軟化点、アニール点および歪点は、℃で表される。これらは、ファイバ
延伸技術から決定された（それぞれ、ＡＳＴＭ参照番号E228-85、C338、およびC
336）。ｇ／ｃｍ³で表した密度は、アルキメデス法（ＡＳＴＭC693）により測定
した。

【００３１】 200ポアズ温度（溶融温度、℃）（ガラス溶融物が200ポアズ［20Ｐａ・ｓ］の
粘度を示す温度として定義される）は、高温粘度データ（回転シリンダ粘度法に
よる測定、ＡＳＴＭ C965-81）に適合させたファルチャー方程式を用いて計算
した。ガラスの液相線温度は、標準的な液相線法を用いて測定した。この方法は
、白金ボート内に砕いたガラス粒子を配置し、このボートを勾配温度領域を有す
る炉内に配置し、該ボートを適切な温度領域内で24時間に亘り加熱し、ガラスの
内部に結晶が生じる最高温度を顕微鏡の観察により決定する各工程を含む。液相
線粘度（ポアズ）は、この温度と、ファルチャー方程式の係数から決定した。

【００３２】表Ｉは、本発明の組成パラメータを示す、酸化物基準のモル部で表された多数
のガラス組成を列記している。個々の成分の合計は、ほぼ100となるので、全て
の実際的な目的に関して、報告されている値がモルパーセントを表すものと考え
てもよい。実際のバッチ成分は、他のバッチ成分と互いに溶融されたときに、適
切な比率で所望の酸化物に転化される、酸化物、または他の化合物いずれかのい
かなる材料からなっていてもよい。例えば、ＳｒＣＯ₃およびＣａＣＯ₃は、それ
ぞれ、ＳｒＯおよびＣａＯの供給源を提供できる。

【００３３】実施例14および19に示した組成および性質を有するガラスが、現在本発明の最
良の形態を示すものとして、すなわち、現時点で本発明の目的のための最良の性
質の組合せを提供するものとして考えられている。

【００３４】本発明を説明の目的で詳細に記載してきたが、そのような詳細は、単にその目
的のためであり、請求項により定義される本発明の精神および範囲から逸脱せず
に当業者により変更を行うことができるのが理解されよう。

【００３５】

【表１】

【表２】

【表３】

【表４】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ヘアーズ，ジョージビーアメリカ合衆国ニューヨーク州 14830 コーニングイーフォースストリート 31 (72)発明者コーリ，ジェフリーティーアメリカ合衆国ニューヨーク州 14830 コーニングスペンサーヒルロード 25 (72)発明者ラップ，ジョセフシーアメリカ合衆国ニューヨーク州 14830 コーニングチーズファクトリーロード 10540 (72)発明者モレナ，ロバートアメリカ合衆国ニューヨーク州 14858 キャトンブラウンタウンロード 438 Ｆターム(参考） 2H090 JB02 JC02 JC03 JD08 JD17 4G062 AA01 BB01 DA06 DA07 DB03 DB04 DC03 DC04 DD01 DE01 DE02 DF01 EA01 EA10 EB01 EC01 ED01 ED02 ED03 EE03 EE04 EF01 EF02 EF03 EG01 EG02 FA01 FA10 FB01 FB02 FC01 FC02 FD01 FE01 FE02 FF01 FG01 FH01 FJ01 FJ02 FK01 FK02 FL01 FL02 GA01 GA10 GB01 GB02 GC01 GD01 GE01 GE02 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ06 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN29 5C094 AA33 AA36 BA43 EB02 FB02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】約2.45ｇ／ｃｍ³未満の密度および約200,000ポアズより大き
い液相線粘度を示すアルミノケイ酸塩ガラスであって、酸化物基準のモルパーセ
ントで計算して、65-75％のＳｉＯ₂、7-13％のＡｌ₂Ｏ₃、5-15％のＢ₂Ｏ₃、0-3
％のＭｇＯ、5-15％のＣａＯ、および0-5％のＳｒＯから実質的になり、ＢａＯ
を実質的に含まない組成を有することを特徴とするガラス。
【請求項２】ＲＯ／Ａｌ₂Ｏ₃比が0.9から1.2までの間にあり、ここで、Ｒ
がＭｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａを表すことを特徴とする請求項１記載のガラス。
【請求項３】前記ガラスが約650℃より高い歪点を有することを特徴とす
る請求項１記載のガラス。
【請求項４】前記ガラスが、0-300℃の温度範囲に亘り28-35×10^-7／℃の
線熱膨張係数（ＣＴＥ）を有することを特徴とする請求項１記載のガラス。
【請求項５】前記ガラスが約660℃より高い歪点を有することを特徴とす
る請求項４記載のガラス。
【請求項６】前記ガラスが約1700℃未満の溶融温度を有することを特徴と
する請求項４記載のガラス。
【請求項７】前記ガラスが28-33×10^-7／℃のＣＴＥを有することを特徴
とする請求項４記載のガラス。
【請求項８】前記ガラスが、1部の50重量％ＨＦおよび10部の40重量％Ｎ
Ｈ₄Ｆからなる溶液中に30℃で5分間に亘り浸漬した後に0.5ｍｇ／ｃｍ²未満の損
失重量を示すことを特徴とする請求項１記載のガラス。
【請求項９】前記ガラスが約400,000ポアズより大きい液相線粘度を有す
ることを特徴とする請求項１記載のガラス。
【請求項１０】前記ガラスが約600,000ポアズより大きい液相線粘度を有
することを特徴とする請求項１記載のガラス。
【請求項１１】前記ガラスが、ＳｒＯを含有しない場合、0-1モル％のＭ
ｇＯを含有することを特徴とする請求項１記載のガラス。
【請求項１２】請求項１記載のガラスからなる基板を備えることを特徴と
するフラットパネルディスプレイ。
【請求項１３】前記基板が約0.5ｎｍ未満の平均表面粗さを有することを
特徴とする請求項１２記載のフラットパネルディスプレイ。
【請求項１４】前記基板が約150ｐｓｉ（約1.03×10⁶Ｐａ）未満の平均
内部応力を有することを特徴とする請求項１２記載のフラットパネルディスプレ
イ。
【請求項１５】前記ガラスが、酸化物基準のモルパーセントで計算して、
67-73％のＳｉＯ₂、8-11.5％のＡｌ₂Ｏ₃、8-12％のＢ₂Ｏ₃、0-1％のＭｇＯ、5.5
-11％のＣａＯ、および0-5％のＳｒＯから実質的になる組成を有することを特徴
とする請求項１記載のガラス。
【請求項１６】前記ガラスが約650℃より高い歪点を有することを特徴と
する請求項１５記載のガラス。
【請求項１７】前記ガラスが、28-33×10^-7／℃のＣＴＥを有することを
特徴とする請求項１５記載のガラス。
【請求項１８】前記ガラスが約660℃より高い歪点を有することを特徴と
する請求項１７記載のガラス。
【請求項１９】前記ガラスが約1700℃未満の溶融温度を有することを特徴
とする請求項１７記載のガラス。
【請求項２０】前記ガラスが400,000ポアズより大きい液相線粘度を有す
ることを特徴とする請求項１７記載のガラス。
【請求項２１】前記ガラスが800,000ポアズより大きい液相線粘度を有す
ることを特徴とする請求項１７記載のガラス。
【請求項２２】請求項１７記載のガラスからなる基板を備えることを特徴
とするフラットパネルディスプレイ。
【請求項２３】前記基板が約0.5ｎｍ未満の平均表面粗さを有することを
特徴とする請求項２２記載のフラットパネルディスプレイ。
【請求項２４】前記基板が約150ｐｓｉ（約1.03×10⁶Ｐａ）未満の平均
内部応力を有することを特徴とする請求項２２記載のフラットパネルディスプレ
イ。
【請求項２５】請求項２１記載のガラスからなる基板を備えることを特徴
とするフラットパネルディスプレイ。
【請求項２６】フラットパネルディスプレイ装置用の基板であって、該基
板が、約2.45ｇ／ｃｍ³未満の密度、0-300℃の温度範囲に亘る28-33×10^-7／℃
の間の線熱膨張係数（ＣＴＥ）および約400,000ポアズより大きい液相線粘度を
示す平らな透明ガラスから構成され、該ガラスが、酸化物基準のモルパーセント
で計算して、65-75％のＳｉＯ₂、7-13％のＡｌ₂Ｏ₃、5-15％のＢ₂Ｏ₃、0-3％の
ＭｇＯ、5-15％のＣａＯ、および0-5％のＳｒＯから実質的になり、ＢａＯを実
質的に含まない組成を有し、ＲＯ／Ａｌ₂Ｏ₃比が0.92-0.96の間にあり、ここで
、ＲがＭｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａを表すことを特徴とする基板。
【請求項２７】前記ガラスが660℃を超える歪点を示すことを特徴とする
請求項２６記載の基板。
【請求項２８】前記基板が約0.5ｎｍ未満の平均表面粗さを有することを
特徴とする請求項２６記載の基板。
【請求項２９】前記基板が約150ｐｓｉ（約1.03×10⁶Ｐａ）未満の平均
内部応力を有することを特徴とする請求項２６記載の基板。