JP2001286769A - 排気ガス浄化用触媒 - Google Patents
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Abstract
実現でき、担体セル内を通過及びコート層内に拡散する
排気ガスの拡散性(速度)を制御してコールドHCの浄
化性能を向上できる、排気ガス浄化用触媒を提供するこ
と。 【解決手段】 セル断面が多角形をなす一体構造型担体
上に、耐熱性材料を含む第1層と、炭化水素吸着材を含
む第2層と、触媒成分を含む第3層を順次積層して成り
排気ガス浄化用触媒である。第2層は、セル角の最厚部
(Lmax.)とセル平坦部の最薄部(Lmin.)と
の比(Lmax./Lmin.)が1〜10の範囲内に
あり、10〜500μmの厚さを有する。
Description
ス浄化用触媒に係り、更に詳細には、エンジン始動時の
排気ガスを浄化するのに好適な排気ガス浄化用触媒に関
する。本発明は、また、自動車等の内燃機関からエンジ
ン始動直後の低温時に排出される排気ガス中の炭化水素
(以下、「HC」と称す)、一酸化炭素(以下、「C
O」と称す)及び窒素酸化物(以下、「NOx」と称
す)のうち、特にHCを効率良く浄化できる排気ガス浄
化用触媒に関する。
域で大量に排出されるHCの浄化を目的として、ゼオラ
イトを用いたHC吸着触媒が開発されている。かかるH
C吸着触媒は、三元触媒が活性化していないエンジン始
動時の低温域において、大量に排出されるHCを一時的
に吸着、保持し、次に排気ガス温度上昇により三元触媒
が活性化した時に、HCを徐々に脱離し、しかも浄化す
るというものである。
媒では、排ガス中のHC種分布とゼオライトの有する細
孔径との間に相関があるため、最適な細孔径を持つゼオ
ライトを選定する必要がある。従来は、MFI型をメイ
ンにして、他の細孔径を有するゼオライト(例えば、U
SY)をブレンドし、細孔径分布を調整していたが、耐
久後には、ゼオライト種によって細孔径の歪みや吸着・
脱離特性が異なるため、排気ガスHC種の吸着が不十分
になるという問題があった。
ロジウム(Rh)、白金(Pt)及びパラジウム(P
d)等が用いられており、これらの貴金属種を同一層に
共存させた仕様や、Rh層とPd層を塗り分けた仕様等
が提案されていた。例えば、特開平2−56247号公
報には、ゼオライトを主成分とする第一層の上に、P
t、Pd及びRh等の貴金属を主成分とする第二層を設
けた排気ガス浄化用触媒が提案されている。
れる排気ガス中のHCの低減を目的として、HC吸着材
を用いてHCを一時的に貯蔵し、三元触媒が活性化した
後に脱離させ、三元触媒で浄化する方法が検討されてい
る。かかるHC吸着材を用いた発明としては、例えば、
特開平6−74019号公報、特開平7−144119
号公報、特開平6−142457号公報、特開平5−5
9942号公報及び特開平7−102957号公報等に
開示されているものがある。
路にバイパスを設け、エンジン始動直後のコールド時に
排出されるHCをこのバイパス流路に配置したHC吸着
材に一旦吸着させ、その後に流路を切換え、下流の三元
触媒が活性化した後、排気ガスの一部をHC吸着触媒に
通じ、脱離したHCを徐々に後段の三元触媒で浄化する
システムが提案されている。
は、コールド時に前段の三元触媒に熱を奪わせて中段の
HC吸着触媒の吸着効率を向上し、前段の三元触媒活性
化後は、タンデム配置した中段のHC吸着触材を介して
後段の三元触媒に反応熱を伝熱し易くし、後段の三元触
媒の浄化を促進するシステムが提案されている。特開平
6−1421457号公報には、低温域で吸着したHC
が脱離する際に脱離HCを含む排気ガスを熱交換器で予
熱し、三元触媒での浄化を促進するコールドHC吸着除
去システムが提案されている。
触媒配置とバルブによる排気ガスの流路を切換えによっ
て、HC吸着材の昇温を緩慢にし、コールドHCの吸着
効率を向上するシステムが提案されている。更に、特開
平7−102957号公報には、後段の酸化・三元触媒
の浄化性能を向上するため、前段の三元触媒と中段のH
C吸着材の間に空気を供給し、後段の酸化・三元触媒の
活性化を促進するシステムが提案されている。
は、吸着材層内のHC拡散速度(吸着速度と脱離速度)
を最適化するため、ゼオライト層の上部に配置する三元
触媒成分層の厚みを吸着材層/三元触媒層のコート重量
比によって制御することで、コールドHCの吸着率及び
脱離HCの浄化能を促進する触媒構造が提案されてい
る。また、特開平11−104462号公報では、吸着
材層の上部に配置する三元触媒成分層の厚みをコントロ
ールすることによって、同様にコールドHC吸着及び脱
離HC浄化の促進が提案されている。
層の上に三元層を設けた排気ガス浄化用触媒では、内燃
機関の始動直後の排気ガス低温域において、コールドH
Cのゼオライト層への拡散を三元層が阻害し、吸着効率
を悪化させること、モノリス担体のセルにコートされる
ゼオライト層の厚みが不均一となるため、ゼオライト層
が薄い部分では、ゼオライト中に捕集されたHCが排気
ガス温度の上昇やガス流量の増大に伴う脱離が速くな
り、上部に配置された三元層で浄化されないこと、ゼオ
ライトに吸着されたHCが、排気ガス温度の上昇に伴い
脱離してくる際に、排気ガスがリッチになるため、理論
空燃比域での浄化に有効な三元触媒が十分に働かず、H
C、CO及びNOxのバランスの良い浄化ができなくな
るという課題などがある。
ートされるゼオライト層の構造に関して特に提言がなさ
れていなかったが、本発明者が検討を加えたところ、H
C吸着触媒では、ゼオライト層構造の最適化が図れない
と、HC吸着・脱離・浄化のサイクルが有効に行われな
いということが判明した。
中に記載されたHC吸着材を用いたシステムでは、HC
吸着材の耐久性が不十分なため、耐久後にはHC吸着率
が低下し、しかも、後段の三元触媒が活性化する前にH
Cが脱離しエミッションを悪化させてしまう。そこで、
HC吸着材の吸着効率の向上や脱離遅延化を図るため、
高温ガスのバイパス方法や三元触媒暖機のための熱交換
器が使用されているが、システム構成が煩雑化して十分
な効果が得られず、しかも、コストが著しく上昇する。
このため、耐久性と吸着効率の高い吸着材が望まれてい
る。
形状のセルを有するモノリス担体にゼオライト層を配置
する場合、コート層が多角形セルに内接する円状に形成
されるため、セルの角部分と平坦部分とのコート層厚み
が不均一となり、セルの角部分に対し平坦部分ではゼオ
ライトの吸着・脱離特性が著しく悪化するため、HC吸
着材の吸着効率の向上や脱離の遅延化を図ることが望ま
れる。ここで、コート層の厚みの均一化を図るため丸形
のセル形状を有するモノリス担体を使用することも考え
られるが、担体のセル角の壁厚みが増大し、担体の熱容
量が大きくなるため、ゼオライトから脱離するHCの浄
化効率が著しく悪化するので、熱容量の増加をできるだ
け小さくすることが望まれる。
を目的とした三元触媒は、初期から耐久後まで高い浄化
性能を維持させるために貴金属を多量に使用し、又は早
期活性化を図るため外部から空気を導入している。この
ため、使用する貴金属量が少なくても高い性能が得られ
る触媒が望まれているが、貴金属量を低減した場合、耐
久性が不十分で、耐久後は低温域での触媒活性や浄化性
能が悪化するという課題があった。
題に鑑みてなされたもであり、その目的とするところ
は、HC、CO及びNOxの浄化をバランス良く実現で
き、担体セル内を通過及びコート層内に拡散する排気ガ
スの拡散性(速度)を制御してコールドHCの浄化性能
を向上できる、排気ガス浄化用触媒を提供することにあ
る。
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、炭化水素吸着材と触
媒成分などで適切な層構造を形成し、炭化水素吸着材層
のコート層厚を適切に制御することにより、上記目的が
達成されることを見出し、本発明を完成するに至った。
ル断面が多角形をなす一体構造型担体上に、耐熱性材料
を含む第1層と、炭化水素吸着材を含む第2層と、触媒
成分を含む第3層を順次積層して成り、上記第2層は、
セル角の最厚部(Lmax.)とセル平坦部の最薄部
(Lmin.)との比(Lmax./Lmin.)が1
〜10の範囲内にあり、10〜500μmの厚さを有す
ることを特徴とする。
形態は、ロジウムを主成分とする第4層を更に積層した
ことを特徴とし、他の好適形態は、上記第3層及び/又
は第4層が白金を含有することを特徴とする。
ルミナを含む第1層と第2層とを隣接させ、第2層の炭
化水素吸着材層の厚みを適切に調整した。よって、HC
の吸着・脱離・浄化のサイクルが有効に行われ、かかる
HC吸着・脱離・浄化が偏ることなく第2層全体に亘っ
て均一に行われる。
媒成分層を採用し、更にこの層にアルカリ土類金属の不
溶性塩を含有させれば、貴金属のシンタリングを抑制で
き、低温活性や浄化性能を向上させることができる。更
に、第4層としてロジウムを主成分とする層を第3層上
に積層すれば、コールドHCの吸着・脱離能特性と脱離
HCの浄化性能を有効に発現させることができる。ま
た、第3層及び第4層については、白金(Pt)を混在
させることが可能であり、これにより、触媒成分層(三
元層)である第3層の耐被毒性を向上させることができ
る。
媒について詳細に説明する。なお、本明細書において、
「%」は特記しない限り質量百分率を表す。上述の如
く、本発明の排気ガス浄化用触媒は、耐熱性材料を含む
第1層と、炭化水素吸着材を含む第2層と、触媒成分を
含む第3層を有し、各層を一体構造型担体、例えばモノ
リス担体上に第1層、第2層及び第3層の順で積層して
形成されている。
む第1層を設けることにより、モノリス担体のセルの角
にこの耐熱性材料成分層を配置したことになり、この第
1層の上に積層する第2層たる炭化水素吸着材層がセル
角へ局所的に偏在したり、セル壁(平坦)部分にコート
されるべき炭化水素吸着材量が著しく低減したり、この
炭化水素吸着材層がモノリス担体上から脱落することを
防ぐことができ、コールドHC吸着効率の向上と、HC
の脱離の抑制を図っている。
に、触媒成分を含む第3層を積層することにより、この
炭化水素吸着材層から脱離してくるHCの後処理の効率
化が図られている。この場合、触媒成分としてHC酸化
活性に優れたPdを用いれば、触媒成分層であるこの第
3層内がリッチ雰囲気になっても、HC、CO及びNO
xの浄化をバランス良く行うことができる。なお、本発
明では、炭化水素吸着材層たる第2層を触媒成分層たる
第3層の下層に配置しているので、用いられる炭化水素
吸着材、代表的にはゼオライトは、上層の触媒成分、代
表的には貴金属に比べて暖気が遅いため、吸着したHC
を少しでも長く保持でき、逆に触媒成分層は早く暖気し
て活性化されるため、HCの吸着・脱離・浄化のバラン
スが良好となる。
2層は、セル角の最厚部(Lmax.)とセル平坦部の
最薄部(Lmin.)との比(Lmax./Lmi
n.)がLmax./Lmin.=1〜10を満足し、
10μm〜500μmの厚さを有するように、モノリス
担体に担持されており、これにより、更にコールドHC
吸着効率の向上と、HCの脱離抑制が図られている。最
厚部と最薄部との比(Lmax./Lmin.)が10
を超えると、HCの脱離が速くなりすぎ、炭化水素吸着
材から脱離するHCの後処理効率が悪化する。また、第
2層の厚さが10μm未満では、十分なHC吸着能と脱
離抑制効果が得られず、逆に500μmを超えてもHC
吸着能・脱離抑制効果は飽和する。
まず、第1層に用いられる耐熱性材料としては、特に限
定されるものではないが、比表面積が大きく嵩の高い耐
熱性材料が好ましく、アルミナ、チタニア及びジルコニ
アを挙げることができる。なお、アルミナとしてはγ−
アルミナのようなアルミナが望ましい。
いられる炭化水素吸着材としては、各種ゼオライトを挙
げることができるが、かかるゼオライト種の主成分を少
なくともSi/2Al比が10〜1500のH型β−ゼ
オライトとすれば、排気ガス中の分子径の異なる多様な
HC種に対して幅広い吸着能を発現できるとともに、高
温・水蒸気存在下におけるゼオライト構造の破壊を抑制
でき、初期から耐久後まで高い吸着能を得ることができ
る。該H型β−ゼオライトのSi/2Al比が10未満
では、耐熱性が低く耐久後に十分な吸着能が得られない
ことがある。Si/2Al比が1500を超えると、耐
熱性の向上効果は得られず、逆に、H型β−ゼオライト
からのHCの脱離が著しく速まり、脱離HCの後処理効
率が悪化することがある。
して、上記H型β−ゼオライトとともに、MFI、Y
型、USY又はモルデナイト及びこれらの任意の組合せ
によるゼオライトを用いることが好ましく、これによ
り、更に排気ガス中の分子径の異なる多様なHC種に対
し、幅広い吸着能を発現することができる。なお、H型
β−ゼオライトとともに使用するMFI等の含有量は、
HC吸着材として用いる総ゼオライト量の10%〜50
%とすることが好ましい。10%未満では、MFI等の
添加効果が発現せず、逆に、50%を超える、総吸着量
が悪化することがある。
パラジウム(Pd)、マグネシウム(Mg)、カルシウ
ム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(B
a)、銀(Ag)、イットリウム(Y)、ランタン(L
a)、セリウム(Ce)、ネオジウム(Nd)、リン
(P)、ホウ素(B)又はジルコニウム(Zr)及びこ
れらの混合物を含有させてもよく、これにより、ゼオラ
イトのHC保持力が向上するため、排気ガス中の分子径
の異なる多様なHC種に対し、脱離の遅延化を図ること
ができる。また、耐熱性及び構造安定性を向上させるこ
ともできる。かかるPd、Mg及びCa等の含有量は、
0.1%〜10%とすることが好ましい。0.1%未満
では、添加元素の脱離抑制効果が充分に発現せず、逆に
10%を超えると、ゼオライトの細孔を閉塞して吸着能
が悪化することがある。
は、上記H型β−ゼオライトを主成分とする第2層に、
Ce、Nd又はLa及びこれらの混合物とRhを金属換
算で1〜40モル%含むジルコニウム酸化物を含有させ
ることができ、これにより、ゼオライトから脱離するH
Cの後処理効率を向上できる。この場合、当該第2層に
含まれるRh量は、0.001g/L〜1g/Lとする
ことが好ましい。0.001g/L未満では、Rhによ
る脱離HCの後処理効率の向上作用が十分に得られず、
逆に1g/Lを超えると、Rhによる脱離HCの後処理
効率の向上作用が飽和する。また、当該第2層における
ジルコニウム酸化物の含有量は、1g/L〜50g/L
とすることが好ましい。1g/L未満では、ジルコニウ
ム酸化物の添加によるRhの劣化抑制作用が十分に得ら
れず、逆に50g/Lを超えると、添加作用が飽和す
る。
は、Pd、Pt又はRh及びこれらの混合物を例示で
き、いわゆる三元浄化活性を有する元素を好適に使用で
きるが、特にPdを好適に使用できる。また、かかる貴
金属としてPdを選択した場合には、アルカリ土類金属
の不溶性塩、例えば不溶性バリウム塩を添加することが
好ましい。この場合、アルカリ土類金属の含有量は、酸
化物換算で1g/L〜30g/Lとすることが好まし
い。該アルカリ土類金属元素の酸化物量が1g/L未満
では、PdのHC吸着被毒緩和作用が小さく低温活性向
上効果が十分に得られず、30g/Lを超えると、Pd
のHC吸着能が著しく低下して逆に低温活性が悪化する
ことがある。
hを含有する第4層を積層することができ、これによ
り、PやPb(鉛)等によるPdの被毒を抑制できる。
また、第3層及び第4層については、Ptを混在させる
ことが可能であり、これにより、触媒成分層(三元層)
である第3層の耐被毒性を向上させることができる。
形態としては、ゼオライトを主成分とする第2層の上
に、第3層の触媒成分としてHC酸化活性に優れたPd
を配置し、同一層内にRhを共存させるか又は第4層と
してその上にRh層を設けた構成を挙げることができ、
かかる構成によれば、脱離HCにより第3層(触媒成分
層)内がリッチ雰囲気になっても、HC、CO及びNO
xの浄化をバランス良く行うことができる。また、Pや
Pb等による被毒の影響を受け易いPdとRhを共存さ
せ、又はPdをRhの内側に配置することになるので、
被毒の影響を低減できる。更に、下層に配置されたゼオ
ライト層は、上層の触媒成分層に比べて暖気が遅いた
め、吸着したHCを少しでも長く保持できることにな
り、逆に触媒成分層は早く暖気して活性化されるため、
HCの吸着・脱離・浄化のバランスが良好となる。
まれるが、これら貴金属以外の他の材料を添加すること
も可能であり、例えば、Ce、Zr又はLa及びこれら
の混合物を金属換算で1〜10モル%含むアルミナと、
Zr、Nd又はLa及びこれらの混合物を金属換算で1
〜40モル%含むセリウム酸化物とを含有させることが
でき、酸素不足雰囲気におけるPdの劣化を抑制するこ
とができる。この場合、第3層に含有されるセリウム酸
化物量は、1g/L〜200g/Lとすることが好まし
い。1g/L未満だとセリウム酸化物の添加によるPd
の劣化抑制作用が十分に得られず、逆に200g/Lを
超えても添加作用は飽和する。また、上記セリウム酸化
物以外にも、Ce、Zr又はLa及びこれらの混合物を
金属換算で1〜40モル%含むジルコニウム酸化物が含
有させれば、酸素不足雰囲気におけるPdの劣化を抑制
することができる。この場合、第3層に含有されるジル
コニウム酸化物量は、1g/L〜200g/Lとするこ
とが好ましい。1g/L未満だとジルコニウム酸化物の
添加によるRhの劣化抑制作用が十分に得られず、逆に
200g/Lを超えても添加作用は飽和する。
一体構造型担体としては、セラミックス製やメタル製の
モノリス担体を挙げることができるが、この担体のセル
断面形状が、3角形、4角形、6角形及び8角形などの
多角形である必要があり、更には正多角形をなすことが
好ましい。本発明においては、セル数が100〜100
0個/Lの担体に、少なくとも第2層(ゼオライト層)
及び第3層(三元触媒成分層)を担持することにより、
ゼオライト層からHCが脱離するのが遅延化され、排気
ガスと三元触媒成分層との接触が良好になるので、排気
ガス成分の浄化性能を十分に得ることができる。
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。
酸性アルミナゾル1000g(ベーマイトアルミナ10
%に10%の硝酸を添加することによって得られたゾ
ル)、純水500gを磁性ボールミルに投入し、混合粉
砕してスラリー液を得た。このスラリー液をコージェラ
イト質モノリス担体(600セル/4ミル、1.3L)
に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り
除いて乾燥し、400℃で1時間焼成した。この時の塗
布量として、焼成後に100g/Lになるまでコーティ
ング作業を繰り返し、触媒−1aを得た。β−ゼオライ
ト粉末(H型、Si/2Al=50)400g、シリカ
ゾル(固形分20%)500g、純水1000gを磁性
ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。
このスラリー液を触媒−1aに付着させ、空気流にてセ
ル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃で
1時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後にゼオ
ライト成分層のコート重量が150g/L(総コート量
250g/L)になるまでコーティング作業を繰り返
し、触媒−bを得た。
酸パラジウム水溶液を含浸し、150℃で24時間乾燥
した後、400℃で1時間、次いで、600℃で1時間
焼成し、Pd担持アルミナ粉末(粉末a)を得た。この
粉末aのPd濃度は8.0%であった。粉末aには、ラ
ンタン、ジルコニウム、ネオジウム等が含まれてもよ
い。La1モル%とZr32モル%を含有するセリウム
酸化物粉末に、ジニトロジアミンパラジウム水溶液を含
浸し、150℃で24時間乾燥した後、400℃で1時
間、次いで、600℃で1時間焼成し、Pd担持セリウ
ム酸化物粉末(粉末b)を得た。この粉末aのPd濃度
は4.0%であった。上記セリウム酸化物粉末にはラン
タン、ネオジウム等が含まれてもよい。上記Pd担持ア
ルミナ粉末(粉末a)400g、Pd担持セリウム酸化
物粉末(粉末b)141g、炭酸バリウム粉末64g、
硝酸酸性アルミナゾル8.5g(ベーマイトアルミナ1
0%に10%の硝酸を添加することによって得られたゾ
ル)及び純水1000gを磁性ボールミルに投入し、混
合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コ
ート触媒−bに付着させ、空気流にてセル内の余剰のス
ラリーを取り除いて乾燥し、400℃で1時間焼成し、
コート層重量60g/L(総コート量310g/L)に
なるまでコーティング作業を繰り返し、触媒−cを得
た。
ウム水溶液を含浸し、150℃で24時間乾燥した後、
400℃で1時間、次いで、600℃で1時間焼成し、
Rh担持アルミナ粉末(粉末c)を得た。この粉末cの
Rh濃度は5.0%であった。Ce3mol%を含むア
ルミナ粉末に、ジニトロジアミン白金水溶液を含浸し、
150℃で24時間乾燥した後、400℃で1時間、次
いで、600℃で1時間焼成し、Pt担持アルミナ粉末
(粉末d)を得た。この粉末dのPt濃度は5.0%で
あった。上記Rh担持アルミナ粉末(粉末c)283
g、Pt担持アルミナ粉末(粉末d)94g、La1モ
ル%とCe20モル%を含有するジルコニウム酸化物粉
末100g、硝酸酸性アルミナゾル23gを磁性ボール
ミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このス
ラリー液を上記コート触媒−cに付着させ、空気流にて
セル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、400℃
で1時間焼成し、コート層重量50g/L(総コート量
360g/L)になるまでコーティング作業を繰り返
し、触媒−dを得た。
イト粉末(H型、Si/2Al=300)を用いた以外
は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排気ガス
浄化用触媒を得た。
イト粉末(H型、Si/2Al=1000)を用いた以
外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排気ガ
ス浄化用触媒を得た。
イト粉末(H型、Si/2Al=25)を用いた以外
は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排気ガス
浄化用触媒を得た。
イト粉末(H型、Si/2Al=75)を用い、粉末
a、粉末b、粉末c、粉末dと炭酸バリウム、硝酸酸性
アルミナゾルを全て混合したスラリーを用いた以外は、
実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排気ガス浄化
用触媒を得た。
イト粉末(H型、Si/2Al=75)300g、MF
I(H型、Si/2Al=200)粉末25g、モルデ
ナイト粉末(H型、Si/2Al=80)25gを用い
た以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排
気ガス浄化用触媒を得た。
イト粉末(H型、Si/2Al=300)200g、M
FI粉末50g、Y型ゼオライト粉末(H型、Si/2
Al=30)50g、USYゼオライト粉末(H型、S
i/2Al=80)50g、モルデナイト50gを用い
た以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排
気ガス浄化用触媒を得た。
Si/2Al=75)にAg1%、P0.5%担持した
粉末350g、MFI粉末にPdを0.5%担持した粉
末50gを用いた以外は、実施例1と同様の操作を繰り
返し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
Si/2Al=75)340g、β−ゼオライト粉末
(H型、Si/2Al=75)にAg1%、P0.5%
担持した粉末10g、β−ゼオライト粉末(H型、Si
/2Al=75)にMg0.01%、Ce0.01%、
Zr0.01%担持した粉末10g、MFI粉末にCa
0.01%、Y0.01%、B0.01%担持した粉末
10g、モルデナイト粉末にPd0.2%担持した粉末
10g、Y型ゼオライト粉末にSr0.01%、La
0.01%担持した粉末10g、USYゼオライト粉末
にBa0.01%、Nd0.01%担持した粉末10g
を用いた以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本
例の排気ガス浄化用触媒を得た。
を用いた以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本
例の排気ガス浄化用触媒を得た。
を150g/L、β−ゼオライト成分層のコート量を1
00g/Lとした以外は、実施例1と同様の操作を繰り
返し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
を50g/L、β−ゼオライト成分層のコート量を15
0g/Lとした以外は、実施例1と同様の操作を繰り返
し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
を50g/L、β−ゼオライト成分層のコート量を25
0g/Lとした以外は、実施例1と同様の操作を繰り返
し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
角セル形状のメタル担体を用い、アルミナ成分層のコー
ト量を150g/L、β−ゼオライト成分層のコート量
を150g/Lとした以外は、実施例1と同様の操作を
繰り返し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
体を用い、アルミナ成分層のコート量を100g/L、
β−ゼオライト成分層のコート量を250g/Lとした
以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排気
ガス浄化用触媒を得た。
体を用い、アルミナ成分層のコート量を100g/L、
β−ゼオライト成分層のコート量を150g/Lとした
以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排気
ガス浄化用触媒を得た。
を用い、アルミナ成分層のコート量を100g/L、β
−ゼオライト成分層のコート量を150g/Lとした以
外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排気ガ
ス浄化用触媒を得た。
バリウム溶液を用いた以外は、実施例1と同様の操作を
繰り返し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
アを用い、アルミナ成分層の代わりにチタニア成分層を
形成した以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本
例の排気ガス浄化用触媒を得た。
ニアを用い、アルミナ成分層の代わりにジルコニア成分
層を形成した以外は、実施例1と同様の操作を繰り返
し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
六角セル担体を用いた以外は、実施例1と同様の操作を
繰り返し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
ず、β−ゼオライト成分層のコート量を150g/Lと
した以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の
排気ガス浄化用触媒を得た。
ず、β−ゼオライト成分層のコート量を250g/Lと
した以外は、実施例15と同様の操作を繰り返し、本例
の排気ガス浄化用触媒を得た。
ず、β−ゼオライト成分層のコート量を250g/Lと
した以外は、実施例14と同様の操作を繰り返し、本例
の排気ガス浄化用触媒を得た。
d層とした以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、
本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
ム酸化物を用いない以外は、実施例1と同様の操作を繰
り返し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排気ガス
浄化用触媒を得た。
た以外は、実施例1と同様の操作を繰り返し、本例の排
気ガス浄化用触媒を得た。
I350gを用いた以外は、実施例1と同様の操作を繰
り返し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
型ゼオライト400gを用いた以外は、実施例1と同様
の操作を繰り返し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。
Ag30%、P5%を用いた以外は、実施例1と同様の
操作を繰り返し、本例の排気ガス浄化用触媒を得た。以
上の各実施例及び比較例で得られた排気ガス浄化用触媒
の仕様を表1及び表2に示す。
のうち、アルミナ層やチタニア層、ジルコニア層を設け
たもののコート層構造を示す断面図である。また、図3
及び図4は、それぞれ担体のセル形状が3角形又は6角
形である場合のコート層構造を示す断面図である。表1
に示したセル角平均厚み、セル平坦部平均厚み、Lma
x.及びLmin.については、この図に示した通りで
ある。
浄化特性評価(LA−4のA−bag)を、図2の評価
システムを用い下記評価条件で行った。得られた結果を
表3に示す。なお、図2に示す評価システムでは、排気
通路の上流側、即ちエンジンの直後に三元触媒1を配置
し、その下流側に各実施例及び比較例の触媒(HC吸着
触媒2)を配置し、性能評価を行った。
評価条件でHC、CO及びNOxの浄化特性評価を行っ
た。得られた結果を表3に併記する。
用触媒の浄化性能は、ストイキ雰囲気におけるHC、C
O及びNOxの平均転化率(%)を以下の式により決定
したものである。
度]−[触媒出口HC濃度])/[触媒入口HC濃度]
×100
度]−[触媒出口CO濃度])/[触媒入口CO濃度]
×100
濃度]−[触媒出口NOx濃度])/[触媒入口NOx
濃度]×100
活性が高く、以下に記載する所期の作用効果を確認する
ことができた。
説明する。 (1)ゼオライト種の最適化 ゼオライトを用いたHC吸着触媒では、排気ガス中のH
C種分布とゼオライトの有する細孔径との間に相関があ
るため、最適な細孔径を持つゼオライトを選定する必要
がある。従来は、MFI(ZSM5)をメインに、他の
細孔径を有すゼオライト(例えば、USY等)をブレン
ドし細孔分布を調整していたが、耐久後にはゼオライト
種によって細孔径の歪みや吸着・脱離特性が異なるた
め、排気ガスHC種の吸着が不十分であるという問題点
があった。本発明では、2種類の細孔径を持った、耐久
性に優れたβ−ゼオライトを主成分として採用すること
で、耐久による歪みも少なく、初期から耐久後まで細孔
分布が広く保持できるため、従来に比べて吸着・脱離特
性が向上する。更に2種以上のゼオライト種を組み合わ
せることにより、ゼオライト細孔径の分布を更に広げる
効果が得られる。
存させた仕様や、Rh層とPd層を塗り分けた仕様等が
提案されていた。本発明では、ゼオライト層の上にPd
及びRhの共存層か、または、ゼオライト層の上にPd
層、その上にRh層を設け、どちらか一方或いは両層に
Ptを添加できる仕様とした。ゼオライトの上にHC低
温活性に優れるPd層を設けることで、ゼオライトから
脱離してくるHCを優先的に浄化でき、Pd層にRhを
共存、または、その上にRh層を設けることにより、理
論空燃比より僅かにリッチ雰囲気にシフトしたガスが流
れても、HC、CO、NOx がバランス良く浄化でき
る。更に、Ptを添加することで、耐被毒性の向上が得
られる。
コート層構造の最適化 従来では、モノリ担体のセルに担持・形成されるゼオラ
イト層のコート層の均一性及び厚みに関しては特に提示
してなかったが、HC吸着触媒では、ゼオライト層の構
造が最適でないと、HC吸着・脱離・浄化のサイクルが
有効に行われないという問題点があった。本発明では、
モノリス担体上にまずアルミナ層を設け、その上にゼオ
ライト層を設け、しかも、吸着材層の最厚部(Lma
x.)と最薄部(Lmin.)との比がLmax./L
min.=1〜10の範囲内で、10μmから500μ
mの厚さに規定することによって、前記HC吸着・脱離
・浄化のバランスが良い仕様にしている。即ち、モノリ
ス担体上にコートされるゼオライト層が、セルの角に多
く偏りセルの平坦部分が極端に少なくなって、ゼオライ
ト層の最厚部(Lmax.)と最薄部(Lmin.)と
の比(Lmax./Lmin.)が大きく成り過ぎる
と、ゼオライト層へのガス拡散が悪くなり、ゼオライト
量に見合った十分な吸着性能が得られず、また、排気ガ
ス温度の上昇やガス流量の増大に対し、ゼオライト量に
見合った十分な脱離抑制能が得られなくなる。従って、
上部に配置された三元層で十分な脱離HC浄化性能が得
られなくなる。
ば、炭化水素吸着材と触媒成分などで適切な層構造を形
成し、炭化水素吸着材層のコート層厚を適切に制御する
こととしたため、HC、CO及びNOxの浄化をバラン
ス良く実現でき、担体セル内を通過及びコート層内に拡
散する排気ガスの拡散性(速度)を制御してコールドH
Cの浄化性能を向上できる、排気ガス浄化用触媒が提供
される。
HC吸着触媒のHC、CO及びNOxの浄化をバランス
良く行うことができる。更に、この効果に加えて、モノ
リス担体セル内を通過及びコート層内に拡散する排気ガ
スの拡散性(速度)を制御し、コールドHCの浄化性能
を向上できる。
通効果に加えて、更にコールドHCの浄化性能を向上で
きる。更に、触媒成分としてPd含有させ、この触媒成
分層にアルカリ土類金属を含有せしめれば、貴金属のシ
ンタリングを抑制できるため、低温活性や浄化性能を更
に向上させる効果を奏する。
通効果に加えて、耐久後の構造安定性を確保できるとと
もに、多種のHCを有効に吸着できる。
通効果に加えて、吸着可能なHC種の範囲が広くなり、
より多種のHCを有効に吸着できる。
通効果に加えて、吸着特性や脱離抑制能を更に向上する
ことができる。
通効果に加えて、第2層から脱離するHCの浄化性能が
向上しており、更にコールドHCの浄化性能を向上でき
る。
通効果に加えて、更に耐被毒性を向上することができ
る。
通効果に加えて、低温活性及びストイキ雰囲気下におけ
る触媒活性や耐久性が向上し、耐久後のパラジウムの化
学状態変化による触媒性能の低下を抑制できる。
記共通効果に加えて、リッチ雰囲気下における触媒活性
を更に向上し、耐久後のロジウム化学状態変化による触
媒性能の低下を抑制できる。
共通効果に加えて、第2層からHCが脱離するのを遅延
化しており、更に三元触媒成分層の早期活性化が図れ、
しかもHC、CO及びNOxの浄化をバランス良く行う
ことができる。
コート層構造を示す断面図である。
ンの排気系を示すシステム図である。
コート層構造を示す断面図である。
コート層構造を示す断面図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 セル断面が多角形をなす一体構造型担体
上に、耐熱性無機材料を含む第1層と、炭化水素吸着材
を含む第2層と、触媒成分を含む第3層を順次積層して
成り、 上記第2層は、セル角の最厚部(Lmax.)とセル平
坦部の最薄部(Lmin.)との比(Lmax./Lm
in.)が1〜10の範囲内にあり、10〜500μm
の厚さを有することを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項2】 ロジウムを主成分とする第4層を更に積
層したことを特徴とする請求項1記載の排気ガス浄化用
触媒。 - 【請求項3】 上記第2層がゼオライトを主成分とし、
このゼオライト種には、少なくともSi/2Al比が1
0〜1500のH型β−ゼオライトが含まれることを特
徴とする請求項1又は2記載の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項4】 上記第2層のゼオライト種には、更に、
MFI、Y型、USY及びモルデナイトから成る群より
選ばれた少なくとも1種のゼオライトが含まれることを
特徴とする請求項3記載の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項5】 上記第2層のゼオライトに、パラジウ
ム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリ
ウム、銀、イットリウム、ランタン、セリウム、ネオジ
ム、リン、ホウ素及びジルコニウムから成る群より選ば
れた少なくとも1種の元素を添加して成ることを特徴と
する請求項3又は4記載の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項6】 上記ゼオライトを主成分とする第2層
が、セリウム、ネオジウム及びランタンから成る群より
選ばれた少なくとも1種の金属とロジウムを金属換算で
1〜40モル%含む、ジルコニウム酸化物を含有するこ
とを特徴とする請求項3〜5のいずれか1つの項に記載
の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項7】 上記第3層及び/又は第4層が白金を含
有することを特徴とする請求項2〜6のいずれか1つの
項に記載の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項8】 上記第3層が、パラジウム、白金及びロ
ジウムから成る群より選ばれた少なくとも1種の貴金属
と、セリウム、ジルコニウム及びランタンから成る群よ
り選ばれた少なくとも1種の金属を金属換算で1〜10
モル%含むアルミナと、ジルコニウム、ネオジウム及び
ランタンから成る群より選ばれた少なくとも1種の金属
を金属換算で1〜40モル%含むセリウム酸化物と、を
含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つ
の項に記載の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項9】 上記第3層が、パラジウム、白金及びロ
ジウムから成る群より選ばれた少なくとも1種の貴金属
と、セリウム、ジルコニウム及びランタンから成る群よ
り選ばれた少なくとも1種の金属を金属換算で1〜40
モル%含むジルコニウム酸化物を、含有することを特徴
とする請求項1〜7のいずれか1つの項に記載の排気ガ
ス浄化用触媒。 - 【請求項10】 上記一体構造型担体のセル数が100
〜1000個/Lであることを特徴とする請求項1〜9
のいずれか1つの項に記載の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項11】 上記耐熱性無機材料がアルミナである
ことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つの項に
記載の排気ガス浄化用触媒。
Priority Applications (5)
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