JP2000111914A - セルロースの低級脂肪酸エステルフイルム用レターデーション上昇剤、光学補償シートおよび液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 セルロースの低級脂肪酸エステルフイルム
を、液晶表示装置の光学補償シートとして使用する。 【解決手段】 芳香族環を少なくとも二つ有し、二つの
芳香族環の立体配座を立体障害しない分子構造を有する
化合物を、セルロースの低級脂肪酸エステルフイルム用
レターデーション上昇剤として使用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、セルロースの低級
脂肪酸エステルフイルム用レターデーション上昇剤、お
よびそれを用いた光学補償シートと液晶表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】セルロースの低級脂肪酸エステルフイル
ム、特にセルロースアセテートフイルムは、その強靭性
と難燃性から各種の写真材料や光学材料に用いられてい
る。セルロースエステルフイルムは、代表的な写真感光
材料の支持体である。また、セルロースエステルフイル
ムは、液晶表示装置にも用いられている。セルロースエ
ステルフイルムには、他のポリマーフイルムと比較し
て、光学的等方性が高い（レターデーション値が低い）
との特徴がある。従って、光学的等方性が要求される液
晶表示装置の素子、例えば偏光素子の保護フイルムやカ
ラーフィルターには、セルロースエステルフイルムを用
いることが普通である。逆に、別の液晶表示装置の素子
である光学補償シート（位相差フイルム）は、高いレタ
ーデーション値が要求される。従って、光学補償シート
としては、ポリカーボネートフイルムやポリスルホンフ
イルムのようなレターデーション値が高い合成ポリマー
フイルムを用いることが普通である。合成ポリマーフイ
ルムからなる光学補償シートとは別に、透明支持体上に
ディスコティック液晶性分子を含む光学的異方性層を設
けた光学補償シートも提案されている（特開平３−９３
２５号、同６−１４８４２９号、同８−５０２０６号、
同９−２６５７２号の各公報記載）。光学補償シートに
要求される高いレターデーション値は、ディスコティッ
ク液晶性分子を含む光学的異方性層により達成する。こ
れに対して、透明支持体には、高い光学的等方性（低い
レターデーション値）が要求されるため、セルロースエ
ステルフイルムが普通に用いられている。

【０００３】従来のディスコティック液晶性分子を用い
た光学補償シートは、主にＴＦＴ用のＴＮ（Twisted Ne
matic ）モードの液晶セルを光学補償するように設計さ
れている。そのような光学補償シートを、ＶＡ（Vertic
ally Aligned）モード、ＯＣＢ（Optically Compensato
ry Bend ）モードあるいはＨＡＮ（Hybrid Aligned Nem
atic）モードの液晶セルに用いても対応できない（光学
補償できない）問題が生じる。そこで、光学補償シート
の支持体も光学的異方性にして、ディスコティック液晶
性分子を含む光学的異方性層の光学的異方性と協調し
て、ＶＡモード、ＯＣＢモードあるいはＨＡＮモードの
液晶セルに対応する（光学補償する）ことが考えられ
る。ポリカーボネートフイルムやポリスルホンフイルム
のようなレターデーション値が高い合成ポリマーフイル
ムは、光学的異方性支持体として用いることができる。
しかし、そのような合成ポリマーフイルムは、支持体と
しての機能（物性や塗布層との親和性）が貧弱である。
そのため、支持体としての機能が優れている（ただし、
レターデーション値が低い）セルロースエステルフイル
ムとレターデーション値が高い合成ポリマーフイルムと
を貼り合わせた積層体を、光学的異方性支持体として用
いることが望ましいとされる。以上のように光学補償シ
ートのような、光学材料の技術分野では、光学的異方性
（高いレターデーション値）が要求される場合には合成
ポリマーフイルムを使用し、光学的等方性（低いレター
デーション値）が要求される場合にはセルロースエステ
ルフイルムを使用することが一般的な原則である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、従来の一
般的な原則を覆して、光学的異方性（高いレターデーシ
ョン値）が要求される用途に、セルロースエステルフイ
ルムを使用することを検討した。セルロースエステルフ
イルムは、合成ポリマーフイルムと比較して、支持体と
しての機能が優れている。光学的異方性が高い（高いレ
ターデーション値を有する）セルロースエステルフイル
ムが得られれば、光学的異方性が要求される光学補償シ
ートの用途においても、セルロースエステルフイルムを
使用することができる。ただし、従来の技術では、レタ
ーデーション値が低いセルロースエステルフイルムが優
れたセルロースエステルフイルムであるとされていた。
そのため、セルロースエステルフイルムのレターデーシ
ョン値を低くする手段については詳細に検討されていて
も、レターデーション値を高くする手段についてはほと
んど検討されていていなかった。

【０００５】そこで、本発明者は、セルロースの低級脂
肪酸エステルフイルムのレターデーションを上昇させる
機能を有する化合物（レターデーション上昇剤）につい
て、研究および調査を行った。本発明の目的は、セルロ
ースの低級脂肪酸エステルフイルム用レターデーション
上昇剤を提供することである。また、本発明の目的は、
レターデーション値が高いセルロースの低級脂肪酸エス
テルフイルムを用いた光学補償シートを提供することで
もある。さらに、本発明の目的は、支持体としての性質
が優れたセルロースエステルフイルムを光学補償シート
として使用した液晶表示装置を提供することでもある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）のセルロースの低級脂肪酸エステルフイルム用レ
ターデーション上昇剤、下記（２）〜（５）の光学補償
シートおよび下記（６）〜（８）の液晶表示装置により
達成された。 （１）芳香族環を少なくとも二つ有し、二つの芳香族環
の立体配座を立体障害しない分子構造を有する化合物か
らなるセルロースの低級脂肪酸エステルフイルム用レタ
ーデーション上昇剤。

【０００７】（２）セルロースの低級脂肪酸エステル１
００重量部に対して、芳香族環を少なくとも二つ有し、
二つの芳香族環の立体配座を立体障害しない分子構造を
有する化合物を０．３乃至２０重量部含み、波長５５０
ｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（Ｒth
⁵⁵⁰ ）が７０乃至４００ｎｍであるセルロースの低級脂
肪酸エステルフイルムからなる光学補償シート。 （３）セルロースの低級脂肪酸エステル１００重量部に
対して、芳香族環を少なくとも二つ有し、二つの芳香族
環の立体配座を立体障害しない分子構造を有する化合物
を０．３乃至２０重量部含み、波長５５０ｎｍにおける
厚み方向のレターデーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ）が７０乃至
４００ｎｍであるセルロースの低級脂肪酸エステルフイ
ルムの上にディスコティック液晶性分子を含む光学的異
方性層が設けられている光学補償シート。 （４）セルロースの低級脂肪酸エステルがセルロースア
セテートである（２）または（３）に記載の光学補償シ
ート。 （５）セルロースの低級脂肪酸エステルフイルムが、４
０乃至１２０μｍの厚さを有する（２）または（３）に
記載の光学補償シート。

【０００８】（６）二枚の電極基板の間に液晶を担持し
てなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素
子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも
一枚の光学補償シートを配置した液晶表示装置であっ
て、光学補償シートがセルロースの低級脂肪酸エステル
１００重量部に対して、芳香族環を少なくとも二つ有
し、二つの芳香族環の立体配座を立体障害しない分子構
造を有する化合物を０．３乃至２０重量部含み、波長５
５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（Ｒth
⁵⁵⁰ ）が７０乃至４００ｎｍであるセルロースの低級脂
肪酸エステルフイルムからなることを特徴とする液晶表
示装置。 （７）セルロースの低級脂肪酸エステルフイルムの液晶
セル側に、ディスコティック液晶性分子を含む光学的異
方性層が設けられている請求項６に記載の液晶表示装
置。 （８）液晶セルが、ＶＡモード、ＯＣＢモードまたはＨ
ＡＮモードの液晶セルである請求項６に記載の液晶表示
装置。

【０００９】

【発明の効果】本発明者の研究により、芳香族環を少な
くとも二つ有し、二つの芳香族環の立体配座を立体障害
しない分子構造を有する化合物は、セルロースの低級脂
肪酸エステルフイルムのレターデーションを上昇させる
機能を有することが判明した。セルロースの低級脂肪酸
エステルフイルムの紫外線吸収剤や可塑剤の例には、上
記のような芳香族性化合物が含まれている。しかし、そ
れらの化合物は、紫外線吸収剤や可塑剤としての機能を
満足する量（フイルムのレターデーションが顕著に上昇
しない範囲の量）で使用されており、フイルムのレター
デーションを上昇させる目的で使用することはなかっ
た。セルロースの低級脂肪酸エステル１００重量部に対
して、上記の芳香族性化合物を０．３乃至２０重量部添
加すると、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデ
ーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ）が７０乃至４００ｎｍであるセ
ルロースの低級脂肪酸エステルフイルムが得られる。こ
のような高いレターデーション値を有するセルロースエ
ステルフイルムは、そのまま光学補償シートとして液晶
表示装置に用いることができる。また、支持体上にディ
スコティック液晶性分子を含む光学的異方性層が設けら
れている光学補償シートにおいて、高いレターデーショ
ン値を有するセルロースエステルフイルムを支持体とし
て用いることもできる。高いレターデーション値を有す
るセルロースエステルフイルムを支持体とし、その上に
ディスコティック液晶性分子を含む光学的異方性層を設
けた光学補償シートは、ＶＡ（Vertically Aligned）
型、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend ）型または
ＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）型の液晶表示装置
に、特に有利に用いることができる。

【００１０】

【発明の実施の形態】［レターデーション上昇剤］本発
明では、芳香族環を少なくとも二つ有し、二つの芳香族
環の立体配座を立体障害しない分子構造を有する化合物
を、セルロースの低級脂肪酸エステルフイルム用レター
デーション上昇剤として使用する。本明細書において、
「セルロースの低級脂肪酸エステルフイルム用レターデ
ーション上昇剤」とは、ブリードアウトのような多量添
加による問題を生じない範囲の量で使用した場合に、セ
ルロースの低級脂肪酸エステルフイルムのレターデーシ
ョン（具体的には、波長５５０ｎｍにおける厚み方向の
レターデーション値＝Ｒth⁵⁵⁰ ）を、無添加の場合の２
倍以上（通常は、２倍乃至１０倍）に上昇させる機能を
有する化合物を意味する。レターデーションが充分に上
昇し、多量添加による問題を生じない範囲の量は、一般
に、セルロースの低級脂肪酸エステル１００重量部に対
して、０．３乃至２０重量部である。レターデーション
上昇剤の使用により得られる、セルロースの低級脂肪酸
エステルフイルムの波長５５０ｎｍにおける厚み方向の
レターデーション値は、一般に７０乃至４００ｎｍであ
る。

【００１１】少なくとも二つの芳香族環を有する化合物
は、炭素原子７個分以上のπ結合性の平面を有する。二
つの芳香族環の立体配座を立体障害しなければ、二つの
芳香族環は、同一平面を形成する。本発明者の研究によ
れば、セルロースエステルフイルムのレターデーション
を上昇させるためには、複数の芳香族環により同一平面
を形成することが重要である。本明細書において、「芳
香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテ
ロ環を含む。芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、
ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ
環は、５員環、６員環または７員環であることが好まし
く、５員環または６員環であることがさらに好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。
ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原
子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、
オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、
イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フ
ラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピ
リダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，
５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベン
ゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサ
ゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾー
ル環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および
１，３，５−トリアジン環が好ましい。

【００１２】レターデーション上昇剤が有する芳香族環
の数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２
であることがより好ましく、２乃至８であることがさら
に好ましく、２乃至６であることが最も好ましい。３以
上の芳香族環を有する場合、少なくとも二つの芳香族環
の立体配座を立体障害しなければよい。二つの芳香族環
の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単
結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合す
る場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形
成できない）。レターデーション上昇機能の観点では、
（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。ただし、（ｂ）また
は（ｃ）の場合は、二つの芳香族環の立体配座を立体障
害しないことが必要である。

【００１３】（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮
合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン
環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベン
ゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベ
ンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミ
ダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダ
ゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、
キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサ
リン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール
環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン
環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイ
ン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれ
る。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾ
オキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾ
ール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ま
しい。（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間
の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの
芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環ま
たは非芳香族性複素環を形成してもよい。

【００１４】（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ
−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。 ｃ１：−ＣＯ−Ｏ− ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ− ｃ３：−アルキレン−Ｏ− ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ− ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ− ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ− ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ− ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン− ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ− ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ− ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ
−アルキレン− ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ＣＯ−アルキレン−Ｏ− ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ− ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン− ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−

【００１５】芳香族環および連結基は、置換基を有して
いてもよい。ただし、置換基は、二つの芳香族環の立体
配座を立体障害しないことが必要である。立体障害で
は、置換基の種類および位置が問題になる。置換基の種
類としては、立体的に嵩高い置換基（例えば、３級アル
キル基）が立体障害を起こしやすい。置換基の位置とし
ては、芳香族環の結合に隣接する位置（ベンゼン環の場
合はオルト位）が置換された場合に、立体障害が生じや
すい。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミ
ノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、
ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルア
ミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪
族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミ
ノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファ
モイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素
環基が含まれる。

【００１６】アルキル基の炭素原子数は、１乃至８であ
ることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル
基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。
アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボ
キシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有して
いてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例
には、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２
−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メト
キシエチルおよび２−ジエチルアミノエチルが含まれ
る。アルケニル基の炭素原子数は、２乃至８であること
が好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基
の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。
アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。ア
ルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび１−ヘキセ
ニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、２乃至
８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖
状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が
特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、１−ブ
チニルおよび１−ヘキシニルが含まれる。

【００１７】脂肪族アシル基の炭素原子数は、１乃至１
０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、ア
セチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂
肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至１０である
ことが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセ
トキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、１乃
至８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコ
キシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキ
シ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含ま
れる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至
１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の
例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル
が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子
数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカ
ルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ
およびエトキシカルボニルアミノが含まれる。

【００１８】アルキルチオ基の炭素原子数は、１乃至１
２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メ
チルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至８である
ことが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタ
ンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。、脂
肪族アミド基の炭素原子数は、１乃至１０であることが
好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含
まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃
至８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の
例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド
およびｎ−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族
置換アミノ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが
好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノおよび２−カルボキシエチルアミノ
が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換カル
バモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチ
ルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル
基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂
肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモ
イルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族
置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至１０であること
が好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウ
レイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペ
リジノおよびモルホリノが含まれる。

【００１９】レターデーション上昇剤の分子量は、３０
０乃至８００であることが好ましい。レターデーション
上昇剤の沸点は、２６０℃以上であることが好ましい。
沸点は、市販の測定装置（例えば、ＴＧ／ＤＴＡ１０
０、セイコー電子工業（株）製）を用いて測定できる。
以下に、レターデーション上昇剤の具体例を示す。な
お、各具体例において、芳香族環の芳香族性は、○印で
示す。

【００２０】

【化１】

【００２１】

【化２】

【００２２】

【化３】

【００２３】

【化４】

【００２４】

【化５】

【００２５】

【化６】

【００２６】

【化７】

【００２７】

【化８】

【００２８】

【化９】

【００２９】

【化１０】

【００３０】

【化１１】

【００３１】

【化１２】

【００３２】

【化１３】

【００３３】

【化１４】

【００３４】

【化１５】

【００３５】

【化１６】

【００３６】

【化１７】

【００３７】

【化１８】

【００３８】

【化１９】

【００３９】

【化２０】

【００４０】

【化２１】

【００４１】

【化２２】

【００４２】

【化２３】

【００４３】

【化２４】

【００４４】

【化２５】

【００４５】

【化２６】

【００４６】

【化２７】

【００４７】

【化２８】

【００４８】

【化２９】

【００４９】

【化３０】

【００５０】

【化３１】

【００５１】

【化３２】

【００５２】

【化３３】

【００５３】

【化３４】

【００５４】

【化３５】

【００５５】

【化３６】

【００５６】

【化３７】

【００５７】

【化３８】

【００５８】

【化３９】

【００５９】

【化４０】

【００６０】

【化４１】

【００６１】

【化４２】

【００６２】

【化４３】

【００６３】

【化４４】

【００６４】

【化４５】

【００６５】

【化４６】

【００６６】

【化４７】

【００６７】

【化４８】

【００６８】

【化４９】

【００６９】

【化５０】

【００７０】

【化５１】

【００７１】

【化５２】

【００７２】

【化５３】

【００７３】

【化５４】

【００７４】

【化５５】

【００７５】

【化５６】

【００７６】

【化５７】

【００７７】

【化５８】

【００７８】

【化５９】

【００７９】

【化６０】

【００８０】

【化６１】

【００８１】

【化６２】

【００８２】

【化６３】

【００８３】

【化６４】

【００８４】

【化６５】

【００８５】

【化６６】

【００８６】［セルロースの低級脂肪酸エステル］低級
脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。
炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セル
ロースプロピオネート）または４（セルロースブチレー
ト）であることが好ましい。セルロースアセテートが特
に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセ
ルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エス
テルを用いてもよい。セルロースアセテートの平均酢化
度（アセチル化度）は、５５．０％以上６２．５％未満
であることが好ましい。フイルムの物性の観点では、平
均酢化度は、５８．０％以上６２．５％未満であること
がさらに好ましい。ただし、平均酢化度が５５．０％以
上５８．０％未満（好ましくは５７．０％以上５８．０
％未満）であるセルロースアセテートを用いると、非常
に高いレターデーション値のフイルムを製造することが
できる。酢化度とは、セルロース単位重量当たりの結合
酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−
９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセ
チル化度の測定および計算に従う。セルロースエステル
の粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが
好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。ま
た、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍ
ｗは重量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分
布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値とし
ては、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．３
乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．４乃至
１．６であることが最も好ましい。

【００８７】［フイルムのレターデーション値］セルロ
ースエステルフイルムの厚み方向のレターデーション値
は、厚み方向の複屈折率にフイルムの厚みを乗じた値で
ある。具体的には、測定光の入射方向をフイルム膜面に
対して鉛直方向として、遅相軸を基準とする面内レター
デーションの測定結果と、入射方向をフイルム膜面に対
する鉛直方向に対して傾斜させた測定結果から外挿して
求める。測定は、エリプソメーター（例えば、Ｍ−１５
０：日本分光（株）製）を用いて実施できる。厚み方向
のレターデーション値（Ｒth）と面内レターデーション
値（Ｒｅ）とは、それぞれ下記式（１）および（２）に
従って算出する。 式（１） 厚み方向のレターデーション値（Ｒth）＝｛（ｎｘ＋ｎ
ｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ 式（２） 面内レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ 式中、ｎｘはフイルム平面内のｘ方向の屈折率であり、
ｎｙはフイルム平面内のｙ方向の屈折率であり、ｎｚは
フイルム面に垂直な方向の屈折率であり、そしてｄはフ
イルムの厚み（ｎｍ）である。本発明では、フイルムの
波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション値
（Ｒth⁵⁵⁰ ）を、７０乃至４００ｎｍに調整する。厚み
方向のレターデーション値は、１００乃至４００ｎｍで
あることが好ましく、１５０乃至４００ｎｍであること
がより好ましく、２００乃至４００ｎｍであることがさ
らに好ましく、２００乃至３００ｎｍであることがさら
により好ましく、２００乃至２５０ｎｍであることが最
も好ましい。

【００８８】また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向の
レターデーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ）を基準値（＝１）とす
るＲthの分布の傾き（ａ）の絶対値は、０．００１２未
満であることが好ましい。Ｒthの分布の傾き（ａ）は、
波長４００ｎｍにおける厚み方向のレターデーション値
（Ｒth⁴⁰⁰ ）、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタ
ーデーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ）および波長７００ｎｍにお
ける厚み方向のレターデーション値（Ｒth⁷⁰⁰ ）の三点
の測定データから、下記式（３）に従って算出する。 式（３） Ｒthの分布の傾き（ａ）＝｜Ｒth⁷⁰⁰ −Ｒth⁴⁰⁰ ｜／３
００Ｒth⁵⁵⁰ 従って、Ｒth⁴⁰⁰ 、Ｒth⁵⁵⁰ およびＲth⁷⁰⁰ は、下記式
（１１）を満足することが好ましい。 式（１１） ｜Ｒth⁷⁰⁰ −Ｒth⁴⁰⁰ ｜／３００Ｒth⁵⁵⁰ ＜０．００１
２ Ｒth⁴⁰⁰ 、Ｒth⁵⁵⁰ およびＲth⁷⁰⁰ は、下記式（１３）
を満足することがより好ましい。 式（１３） −０．００１２＜（Ｒth⁷⁰⁰ −Ｒth⁴⁰⁰ ）／３００Ｒth
⁵⁵⁰ ＜０．０００６

【００８９】さらに、波長５５０ｎｍにおける面内レタ
ーデーション値（Ｒｅ⁵⁵⁰ ）を基準値（＝１）とするＲ
ｅの分布の傾き（ｂ）の絶対値は、０．００２未満であ
ることが好ましい。Ｒｅの分布の傾き（ｂ）は、波長４
００ｎｍにおける面内レターデーション値（Ｒｅ
⁴⁰⁰ ）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション
値（Ｒｅ⁵⁵⁰ ）および波長７００ｎｍにおける面内レタ
ーデーション値（Ｒｅ⁷⁰⁰ ）の三点の測定データから、
下記式（４）に従って算出する。 式（４） Ｒｅの分布の傾き（ｂ）＝｜Ｒｅ⁷⁰⁰ −Ｒｅ⁴⁰⁰ ｜／３
００Ｒｅ⁵⁵⁰ 従って、Ｒｅ⁴⁰⁰ 、Ｒｅ⁵⁵⁰ およびＲｅ⁷⁰⁰ は、下記式
（１２）を満足することが好ましい。 式（１２） ｜Ｒｅ⁷⁰⁰ −Ｒｅ⁴⁰⁰ ｜／３００Ｒｅ⁵⁵⁰ ＜０．００２ Ｒｅ⁴⁰⁰ 、Ｒｅ⁵⁵⁰ およびＲｅ⁷⁰⁰ は、下記式（１３）
を満足することがより好ましい。 式（１３） −０．００２＜（Ｒth⁷⁰⁰ −Ｒth⁴⁰⁰ ）／３００Ｒth
⁵⁵⁰ ＜０．００１

【００９０】［有機溶媒］本発明では、ソルベントキャ
スト法によりセルロースエステルフイルムを製造するこ
とが好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロース
エステルを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いて
フイルムを製造する。有機溶媒は、炭素原子数が３乃至
１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭
素原子数が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１
乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むこ
とが好ましい。エーテル、ケトンおよびエステルは、環
状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエ
ステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−
ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機
溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコー
ル性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二
種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原
子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内
であればよい。

【００９１】炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が３乃至１２のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３乃至
１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノー
ルおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン
化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好
ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化
水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲ
ン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている
割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３
０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至
６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０
モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリド
が、代表的なハロゲン化炭化水素である。

【００９２】二種類以上の有機溶媒を混合して用いても
よい。特に好ましい有機溶媒は、互いに異なる三種類の
溶媒の混合溶媒であって、第１の溶媒が３乃至１２のエ
ーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数
が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６の
ハロゲン化炭化水素から選ばれ、第２の溶媒が炭素原子
数が１乃至５の直鎖状一価アルコールから選ばれ、そし
て第３の溶媒が沸点が３０乃至１７０℃のアルコールお
よび沸点が３０乃至１７０℃の炭化水素から選ばれる。
第１の溶媒のエーテル、ケトン、エステルおよびハロゲ
ン化炭化水素については、前述した通りである。第２の
溶媒は、炭素原子数が１乃至５の直鎖状一価アルコール
から選ばれる。アルコールの水酸基は、炭化水素直鎖の
末端に結合してもよいし（第一級アルコール）、中間に
結合してもよい（第二級アルコール）。第２の溶媒は、
具体的には、メタノール、エタノール、１−プロパノー
ル、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、１−ペンタノール、２−ペンタノールおよび３−ペ
ンタノールから選ばれる。直鎖状一価アルコールの炭素
原子数は、１乃至４であることが好ましく、１乃至３で
あることがさらに好ましく、１または２であることが最
も好ましい。エタノールが特に好ましく用いられる。

【００９３】第３の溶媒は、沸点が３０乃至１７０℃の
アルコールおよび沸点が３０乃至１７０℃の炭化水素か
ら選ばれる。アルコールは一価であることが好ましい。
アルコールの炭化水素部分は、直鎖であっても、分岐を
有していても、環状であってもよい。炭化水素部分は、
飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコール
の水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。
アルコールの例には、メタノール（沸点：６４．６５
℃）、エタノール（７８．３２５℃）、１−プロパノー
ル（９７．１５℃）、２−プロパノール（８２．４
℃）、１−ブタノール（１１７．９℃）、２−ブタノー
ル（９９．５℃）、ｔ−ブタノール（８２．４５℃）、
１−ペンタノール（１３７．５℃）、２−メチル−２−
ブタノール（１０１．９℃）およびシクロヘキサノール
（１６１℃）が含まれる。

【００９４】アルコールについては、前記第２の溶媒の
定義と重複するが、第２の溶媒として使用するアルコー
ルとは異なる種類のアルコールであれば、第３の溶媒と
して使用できる。例えば、第２の溶媒として、エタノー
ルを使用する場合は、第２の溶媒の定義に含まれる他の
アルコール（メタノール、１−プロパノール、２−プロ
パノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−ペン
タノール、２−ペンタノールまたは３−ペンタノール）
を第３の溶媒として使用していもよい。炭化水素は、直
鎖であっても、分岐を有していても、環状であってもよ
い。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いる
ことができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽
和であってもよい。であることがさらに好ましい。炭化
水素の例には、シクロヘキサン（沸点：８０．７℃）、
ヘキサン（６９℃）、ベンゼン（８０．１℃）、トルエ
ン（１１０．６℃）およびキシレン（１３８．４〜１４
４．４℃）が含まれる。

【００９５】三種混合溶媒中には、第１の溶媒が５０乃
至９５重量％含まれることが好ましく、６０乃至９２重
量％含まれることがより好ましく、６５乃至９０重量％
含まれることが更に好ましく、７０乃至８８重量％含ま
れることが最も好ましい。第２の溶媒は、１乃至３０重
量％含まれることが好ましく、２乃至２７重量％含まれ
ることがより好ましく、３乃至２４重量％含まれること
がさらに好ましく、４乃至２２重量％含まれることが最
も好ましい。第３の溶媒は、１乃至３０重量％含まれる
ことが好ましく、２乃至２７重量％含まれることがより
好ましく、３乃至２４重量％含まれることがさらに好ま
しく、４乃至２２重量％含まれることが最も好ましい。
さらに他の有機溶媒を併用して、四種以上の混合溶媒と
してもよい。四種以上の混合溶媒を用いる場合の４番目
以降の溶媒も、前述した三種類の溶媒から選択すること
が好ましい。前述した三種類の溶媒以外の溶媒して、炭
素原子数が３乃至１２のエーテル類（例、ジイソプロピ
ルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、
１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒ
ドロフラン、アニソール、フェネトール）やニトロメタ
ンを併用してもよい。

【００９６】［溶液の調製（一般的な方法）］本発明で
は、冷却溶解法を採用せずに、一般的な方法で溶液を調
製することができる。一般的な方法とは、０℃以上の温
度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶
液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドー
プの調製方法および装置を用いて実施することができ
る。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロ
ゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いること
が好ましい。セルロースエステルの量は、得られる溶液
中に１０乃至４０重量％含まれるように調整する。セル
ロースエステルの量は、１０乃至３０重量％であること
がさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述す
る任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温
（０乃至４０℃）でセルロースエステルと有機溶媒とを
攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶
液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的
には、セルロースエステルと有機溶媒とを加圧容器に入
れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、か
つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌す
る。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは
６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１
１０℃である。

【００９７】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

【００９８】［溶液の調製（冷却溶解法）］冷却溶解法
により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法で
は、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶
媒（ハロゲン化炭化水素以外の有機溶媒）中にも、セル
ロースエステルを溶解させることができる。なお、通常
の溶解方法でセルロースエステルを溶解できる溶媒（例
えば、ハロゲン化炭化水素）であっても、冷却溶解法に
よると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。冷
却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースエ
ステルを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースエス
テルの量は、この混合物中に１０乃至４０重量％含まれ
るように調整することが好ましい。セルロースエステル
の量は、１０乃至３０重量％であることがさらに好まし
い。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加
しておいてもよい。

【００９９】次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好
ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０
乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液
（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースエステルと有機溶媒の混合物は固
化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好まし
く、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃
／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速い
ほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であ
り、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１０
０℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷
却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却
を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で
割った値である。

【０１００】さらに、これを０乃至２００℃（好ましく
は０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、
最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒
中にセルロースエステルが溶解する。昇温は、室温中に
放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加温
速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分
以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であ
ることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましい
が、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００
℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実
用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する
時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してか
ら最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値であ
る。以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、
溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返し
てもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶
液の外観を観察するだけで判断することができる。

【０１０１】冷却溶解法においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０重量
％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３
３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス１０℃程度の温度で保存する必要がある。た
だし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの
平均酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機
溶媒により異なる。

【０１０２】［フイルムの製造］調製したセルロースエ
ステル溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によ
りセルロースエステルフイルムを製造する。ドープは、
ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイ
ルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃
至３５％となるように濃度を調整することが好ましい。
ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておく
ことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延お
よび乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、
同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２
９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、
同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６
４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４
５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１
７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１
５０３５号の各公報に記載がある。ドープは、表面温度
が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが
好ましい。流延した２秒以上風に当てて乾燥することが
好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから
剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変
えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもでき
る。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載
がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時
間を短縮することが可能である。この方法を実施するた
めには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度におい
てドープがゲル化することが必要である。本発明に従い
調製した溶液（ドープ）は、この条件を満足する。製造
するフイルムの厚さは、４０乃至１２０μｍであること
が好ましく、７０乃至１００μｍであることがさらに好
ましい。

【０１０３】［フイルムの添加剤］セルロースエステル
フイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥
速度を向上するために、可塑剤を添加することができ
る。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸
エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリ
フェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジル
ホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステ
ルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステル
が代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチル
フタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥ
Ｐ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタ
レート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）お
よびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれ
る。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸
トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸
トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボ
ン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール
酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメ
リット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑
剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨ
Ｐ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に
好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量
の０．１乃至２５重量％であることが好ましく、１乃至
２０重量％であることがさらに好ましく、３乃至１５重
量％であることが最も好ましい。

【０１０４】セルロースエステルフイルムには、劣化防
止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止
剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止
剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３
−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１
９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８
５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、
調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１重量％である
ことが好ましく、０．０１乃至０．２重量％であること
がさらに好ましい。添加量が０．０１重量％未満である
と、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量
が１重量％を越えると、フイルム表面への劣化防止剤の
ブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。
特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロ
キシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線
防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載
がある。なお、平均酢化度が５５．０乃至５８．０％で
あるセルロースアセテートは、平均酢化度が５８．０％
以上であるセルローストリアセテートと比較して、調製
した溶液の安定性や製造したフイルムの物性が劣るとの
欠点がある。しかし、上記のような劣化防止剤、特にブ
チル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）のような酸化防止
剤を用いることで、この欠点を実質的に解消することが
可能である。

【０１０５】［一般的な液晶表示装置の構成］セルロー
スエステルフイルムは、様々な用途で用いることができ
る。本発明のセルロースエステルフイルムは、液晶表示
装置の光学補償シートとして用いると特に効果がある。
本発明のセルロースエステルフイルムには、厚み方向の
レターデーション値が高いとの特徴があるため、フイル
ムそのものを光学補償シートとして用いることができ
る。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持
してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素
子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも
一枚の光学補償シートを配置した構成を有している。一
般的な液晶表示装置の構成について、図１を参照しなが
ら説明する。

【０１０６】図１は、一般的な液晶表示装置の断面模式
図である。液晶層（７）は、樹脂基板（５ａ、５ｂ）の
間に設ける。樹脂基板（５ａ、５ｂ）の液晶側には、透
明電極層（６ａ、６ｂ）が設けられる。以上の液晶層、
樹脂基板および透明電極（５〜７）が液晶セルを構成す
る。液晶セルの上下に、光学補償シート（４ａ、４ｂ）
が接着されている。本発明のセルロースエステルフイル
ムは、この光学補償シート（４ａ、４ｂ）として用いる
ことができる。なお、光学補償シート（４ａ、４ｂ）
は、偏光膜（３ａ、３ｂ）の保護膜（２ａ、２ｂ）が設
けられていない側を保護する機能も有している。光学補
償シート（４ａと４ｂ）の上下には、偏光素子（２ａ、
２ｂ、３ａ、３ｂ）が設けられている。偏光素子は、保
護膜（２ａ、２ｂ）および偏光膜（３ａ、３ｂ）からな
る。図１に示す液晶表示装置では、さらに片側の偏光素
子の上に表面処理膜（１）が設けられている。表面処理
膜（１）が設けられるのは、外から人が見る側である。
液晶表示装置のバックライトは、反対側（２ｂの側）に
設けられる。以下、液晶セル、光学補償シートおよび偏
光素子について、さらに説明する。

【０１０７】液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板
の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封
入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明
な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガ
スバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の
接着に用いる）アンダーコート層を設けてもよい。これ
らの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板
は、一般に８０乃至５００μｍの厚さを有する。

【０１０８】光学補償シートは、液晶画面の着色を取り
除くための複屈折率フイルムである。本発明のセルロー
スエステルフイルムそのものを、光学補償シートとして
用いることができる。また、液晶表示装置の視野角を改
良するため、本発明のセルロースエステルフイルムと、
それとは（正／負の関係が）逆の複屈折を示すフイルム
を重ねて光学補償シートとして用いてもよい。光学補償
シートの厚さの範囲は、前述した本発明のフイルムの好
ましい厚さと同じである。

【０１０９】偏光素子の偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、
二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜が
ある。いずれの偏光膜も、一般にポリビニルアルコール
系フイルムを用いて製造する。偏光板の保護膜は、２５
乃至３５０μｍの厚さを有することが好ましく、５０乃
至２００μｍの厚さを有することがさらに好ましい。図
１に示す液晶表示装置のように、表面処理膜を設けても
よい。表面処理膜の機能には、ハードコート、防曇処
理、防眩処理および反射防止処理が含まれる。

【０１１０】前述したように、支持体の上に液晶（特に
ディスコティック液晶性分子）を含む光学的異方性層を
設けた光学補償シートも提案されている（特開平３−９
３２５号、同６−１４８４２９号、同８−５０２０６
号、同９−２６５７２号の各公報記載）。本発明のセル
ロースエステルフイルムは、そのような光学補償シート
の支持体としても用いることができる。

【０１１１】［ディスコティック液晶性分子を含む光学
的異方性層］光学的異方性層は、負の一軸性を有し傾斜
配向したディスコティック液晶性分子を含む層であるこ
とが好ましい。ディスコティック液晶性分子の円盤面と
支持体面とのなす角は、光学的異方性層の深さ方向にお
いて変化している（ハイブリッド配向している）ことが
好ましい。ディスコティック液晶性分子の光軸は、円盤
面の法線方向に存在する。ディスコティック液晶性分子
は、光軸方向の屈折率よりも円盤面方向の屈折率が大き
な複屈折性を有する。光学的異方性層は、後述する配向
膜によってディスコティック液晶性分子を配向させ、そ
の配向状態のディスコティック液晶性分子を固定するこ
とによって形成することが好ましい。ディスコティック
液晶性分子は、重合反応により固定することが好まし
い。なお、光学的異方性層には、レターデーション値が
０となる方向が存在しない。言い換えると、光学的異方
性層のレターデーションの最小値は、０を越える値であ
る。

【０１１２】ディスコティック液晶性分子は、様々な文
献（C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., v
ol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総
説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節
(1994)；B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. C
omm., page 1794 (1985)；J. Zhang et al., J. Am.Che
m. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）に記載されて
いる。ディスコティック液晶性分子の重合については、
特開平８−２７２８４公報に記載がある。ディスコティ
ック液晶性分子を重合により固定するためには、ディス
コティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重
合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに
重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を
保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基
との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有す
るディスコティック液晶性分子は、下記式（Ｉ）で表わ
される化合物であることが好ましい。

【０１１３】（Ｉ） Ｄ（−Ｌ−Ｐ）_n 式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であ
り；Ｐは重合性基であり；そして、ｎは４乃至１２の整
数である。式（Ｉ）の円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示
す。以下の各例において、ＬＰ（またはＰＬ）は、二価
の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味
する。

【０１１４】

【化６７】

【０１１５】

【化６８】

【０１１６】

【化６９】

【０１１７】

【化７０】

【０１１８】

【化７１】

【０１１９】

【化７２】

【０１２０】

【化７３】

【０１２１】式（Ｉ）において、二価の連結基（Ｌ）
は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−
ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み
合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であること
が好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、ア
ルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−
Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少
なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好まし
い。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレ
ン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群
より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基
であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数
は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基
の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。ア
リーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好
ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレ
ン基は、置換基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シア
ノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよ
い。

【０１２２】二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左
側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）
に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基
を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。 Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ− Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ10：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−

【０１２３】Ｌ11：−Ｏ−ＡＬ− Ｌ12：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ13：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ14：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ− Ｌ15：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ− Ｌ16：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ− Ｌ17：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ18：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−Ｃ
Ｏ− Ｌ19：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−Ａ
Ｌ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ20：−Ｓ−ＡＬ− Ｌ21：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ− Ｌ22：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ23：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ− Ｌ24：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−

【０１２４】式（Ｉ）の重合性基（Ｐ）は、重合反応の
種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示
す。

【０１２５】

【化７４】

【０１２６】

【化７５】

【０１２７】

【化７６】

【０１２８】

【化７７】

【０１２９】

【化７８】

【０１３０】

【化７９】

【０１３１】重合性基（Ｐ）は、不飽和重合性基（Ｐ
１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１４、Ｐ１５、Ｐ１
６）またはエポキシ基（Ｐ６）であることが好ましく、
不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン
性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１４、Ｐ１
５、Ｐ１６）であることが最も好ましい。式（Ｉ）にお
いて、ｎは４乃至１２の整数である。具体的な数字は、
ディスコティックコア（Ｄ）の種類に応じて決定され
る。なお、複数のＬとＰの組み合わせは、異なっていて
もよいが、同一であることが好ましい。二種類以上のデ
ィスコティック液晶性分子（例えば、二価の連結基に不
斉炭素原子を有する分子と有していない分子）を併用し
てもよい。

【０１３２】光学的異方性層は、ディスコティック液晶
性分子、下記の重合性開始剤や他の添加剤を含む塗布液
を、配向膜の上に塗布することで形成する。塗布液の調
製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いら
れる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホ
キシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素
（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、
クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸
メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチル
エチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、
１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハラ
イドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を
併用してもよい。

【０１３３】塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出
しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング
法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティン
グ法）により実施できる。配向させたディスコティック
液晶性分子は、配向状態を維持して固定する。固定化
は、ディスコティック液晶性分子に導入した重合性基
（Ｐ）の重合反応により実施することが好ましい。重合
反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開
始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好
ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物
（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各
明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８
８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロ
イン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、
多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９
５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾ
ールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わ
せ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジ
ンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７
号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）および
オキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明
細書記載）が含まれる。

【０１３４】光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分
の０．０１乃至２０重量％であることが好ましく、０．
５乃至５重量％であることがさらに好ましい。ディスコ
ティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を
用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／
ｃｍ² 乃至５０Ｊ／ｃｍ² であることが好ましく、１０
０乃至８００ｍＪ／ｃｍ² であることがさらに好まし
い。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を
実施してもよい。光学的異方性層の厚さは、０．１乃至
１０μｍであることが好ましく、０．５乃至５μｍであ
ることがさらに好ましく、１乃至５μｍであることが最
も好ましい。

【０１３５】［配向膜］配向膜は、光学的異方性層のデ
ィスコティック液晶性分子の配向方向を規定する機能を
有する。配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）
のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログル
ーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジ
ェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコ
サン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライ
ド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設け
ることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与ある
いは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られて
いる。配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成す
ることが好ましい。ポリビニルアルコールが、好ましい
ポリマーである。疎水性基が結合している変性ポリビニ
ルアルコールが特に好ましい。疎水性基は光学的異方性
層のディスコティック液晶性分子と親和性があるため、
疎水性基をポリビニルアルコールに導入することで、デ
ィスコティック液晶性分子を均一に配向させることがで
きる。疎水性基は、ポリビニルアルコールの主鎖末端ま
たは側鎖に結合させる。疎水性基は、炭素原子数が６以
上の脂肪族基（好ましくはアルキル基またはアルケニル
基）または芳香族基が好ましい。

【０１３６】ポリビニルアルコールの主鎖末端に疎水性
基を結合させる場合は、疎水性基と主鎖末端との間に連
結基を導入することが好ましい。連結基の例には、−Ｓ
−、−Ｃ（ＣＮ）Ｒ¹ −、−ＮＲ² −、−ＣＳ−および
それらの組み合わせが含まれる。上記Ｒ¹ およびＲ²
は、それぞれ、水素原子または炭素原子数が１乃至６の
アルキル基（好ましくは、炭素原子数が１乃至６のアル
キル基）である。ポリビニルアルコールの側鎖に疎水性
基を導入する場合は、ポリビニルアルコールの酢酸ビニ
ル単位のアセチル基（−ＣＯ−ＣＨ₃ ）の一部を、炭素
原子数が７以上のアシル基（−ＣＯ−Ｒ³ ）に置き換え
ればよい。Ｒ³ は、炭素原子数が６以上の脂肪族基また
は芳香族基である。市販の変性ポリビニルアルコール
（例、ＭＰ１０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０、クラレ
（株）製）を用いてもよい。配向膜に用いる（変性）ポ
リビニルアルコールのケン化度は、８０％以上であるこ
とが好ましい。（変性）ポリビニルアルコールの重合度
は、２００以上であることが好ましい。ラビング処理
は、配向膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回こする
ことにより実施する。長さおよび太さが均一な繊維を均
一に植毛した布を用いることが好ましい。なお、配向膜
を用いてディスコティック液晶性分子を配向させてか
ら、その配向状態のままディスコティック液晶性分子を
固定して光学的異方性層を形成し、光学的異方性層のみ
を支持体上に転写してもよい。配向状態で固定されたデ
ィスコティック液晶性分子は、配向膜がなくても配向状
態を維持することができる。そのため、光学補償シート
では、配向膜は（ディスコティック液晶性分子を含む光
学補償シートの製造において必須ではあるが）必須の要
素ではない。

【０１３７】［ＶＡ型液晶表示装置］本発明のセルロー
スエステルフイルムは、ＶＡモードの液晶セルを有する
ＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特
に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置について、図
２〜図９を引用して説明する。図２は、電圧無印加時の
ＶＡモードの液晶セル内の液晶性化合物の配向を模式的
に示す断面図である。図２に示すように、液晶セルは、
上基板（１１）と下基板（１３）の間に液晶性化合物
（１２）を封入した構造を有する。ＶＡモードの液晶セ
ルに使用する液晶性化合物（１２）は、一般に負の誘電
率異方性を有する。ＶＡモードの液晶セルの印加電圧が
０の時（電圧無印加時）、図２に示すように、液晶性化
合物（１２）の分子が垂直に配向している。上下の基板
（１１、１３）の両側に、一対の偏光素子（図示せず）
をクロスニコルに配置すると、基板面の法線方向（１
４）には、レターデーションは生じない。その結果、基
板面の法線方向（１４）には光が透過できず、黒表示と
なる。視線を基板の法線方向（１４）から傾いた方向
（１５）に移すと、レターデーションが生じるために光
が透過して、コントラストが低下する。この斜め方向の
レターデーションは、光学補償シートの光学的異方性に
より補償することができる。詳細については、後述（図
５を引用して説明）する。なお、図２では、液晶性化合
物（１２）は、全てが完全に垂直方向に配向している
が、実際には、一定の方向にわずかに傾斜（プレチル
ト）させている。これは、電圧印加時（下記図３で説
明）に、液晶性化合物を全て一定の方向（プレチルト方
向）に傾けるためである。

【０１３８】図３は、電圧印加時のＶＡモードの液晶セ
ル内の液晶性化合物の配向を模式的に示す断面図であ
る。上基板（２１）と下基板（２３）は、それぞれ、電
極層（図示せず）を有し、液晶性化合物（２２）に電圧
を印加することができる。図３に示すように、電圧を印
加すると、液晶セル中央部の液晶性化合物の分子は水平
配向をとる。その結果、基板面の法線方向（２４）にレ
ターデーションが生じ光が透過する。このように液晶セ
ル中央部の液晶分子は水平配向状態となるが、配向膜近
傍の液晶分子は水平配向状態をとらず、プレチルト方向
に傾斜配向する。視線を基板面の法線方向（２４）から
傾けた方向（２５）に移すと、レターデーションの角度
変化が小さいのに対して、視線を別の方向（２６）に移
すとレターデーションの角度変化が大きい。従って、液
晶性化合物のプレチルト方向（２６と同じ方向）を画像
の下方向とすると、左右方向の視野角は対称で広く、下
方向の視野角も広いが、上方向の視野角が狭い上下非対
称な視角特性になる。この視角特性を改善するために
は、電圧印加時に水平配向せず傾斜した液晶分子により
生じるレターデーションを補償する必要がある。光学補
償シートは、上記のレターデーションを補償し、視覚特
性を改善（電圧印加時の透過率の視覚方向における非対
称性を解消）する機能を有する。

【０１３９】図４は、偏光素子をクロスニコルに配置し
たＶＡモードの液晶セルを、セル基板の法線方向から見
て得られる屈折率楕円の模式図である。図４の（ａ）
は、電圧無印加時の屈折率楕円であり、（ｂ）は電圧印
加時の屈折率楕円である。クロスニコル配置では、入射
側の偏光素子の透過軸（３１ａ、３１ｂ）と出射側の偏
光素子の透過軸（３２ａ、３２ｂ）とを垂直に配置す
る。電圧無印加時では、セル内の液晶分子はセル基板面
に対して垂直に配向している。従って、セル基板の法線
方向から見て得られる屈折率楕円（３３ａ）は、円形と
なる。この場合、液晶セルのレターデーションは０とな
るため光が透過しない。これに対して、電圧印加時では
セル内の液晶分子はセル基板面に対して実質的に水平に
配向している。従って、セル基板の法線方向から見て得
られる屈折率楕円（３３ｂ）は楕円形となる。この場
合、液晶セルのレターデーションは０でない値となるた
め光が透過する。なお、図４の（ｂ）には、セル内の液
晶分子の光軸の液晶セル基板面への正射影（３４）も示
す。

【０１４０】図５は、正の一軸性の液晶セルの屈折率楕
円と負の一軸性の光学補償シートの屈折率楕円を示す模
式図である。液晶セル（４３）に正の一軸性の光学的異
方性が生じた場合は、液晶セル基板に平行な面内の屈折
率（４４ｘ、４４ｙ）と液晶セルの厚み方向の屈折率
（４４ｘ）により形成される屈折率楕円（４４）は、図
５に示すようなラグビーボールを立てた形状になる。こ
のような（球状ではない）ラグビーボール状の屈折率楕
円を有する液晶セルを、図２で説明したように斜め方向
（図２の１５）から見ると、レターデーションが生じ
る。このレターデションは、負の一軸性の光学補償シー
ト（４２）によりキャンセルされ、光漏れを抑えること
ができる。負の一軸性を有する光学補償シート（４２）
では、光学補償シート面内の主屈折率（４１ｘ、４１
ｙ）と光学補償シートの厚み方向の主屈折率（４１ｚ）
により形成される光学補償シートの屈折率楕円（４１）
は、図４に示すようなアンパン状になる。そのため、４
１ｘと４４ｘの和、４１ｙと４４ｙの和および４１ｚと
４４ｚの和が、ほぼ同じ値となる。その結果として、液
晶セルに生じたレターデションがキャンセルされる。本
発明の光学補償シートには、前述した視覚特性の改善機
能に加えて、上記の電圧無印加時の斜方入射における光
漏れを防ぐ機能もある。

【０１４１】図６は、ＶＡモードの液晶セルと二枚の光
学補償シートとの組み合わせを示す断面模式図である。
図６に示すように、二枚の光学補償シート（５３、５
４）は、（ａ）〜（ｄ）の４種類のバリエーションのい
ずれかで、ＶＡモードの液晶セル（５０）と組み合わせ
ることができる。（ａ）および（ｃ）のバリエーション
では、光学補償シート（５３、５４）のディスコティッ
ク液晶性分子を含む光学的異方性層（５１）の側を、Ｖ
Ａモードの液晶セル（５０）に張り合せて使用する。
（ａ）のバリエーションでは、光学的異方性層（５１）
の透明支持体（５２）側に配向膜を設けて、ディスコテ
ィック液晶性分子を配向させている。（ｃ）のバリエー
ションでは、光学的異方性層（５１）のＶＡモードの液
晶セル（５０）側に配向膜を設けて、ディスコティック
液晶性分子を配向させている。（ｂ）および（ｄ）のバ
リエーションでは、光学補償シート（５３、５４）の透
明支持体（５２）の側を、ＶＡモードの液晶セル（５
０）に張り合せて使用する。（ｂ）のバリエーションで
は、光学的異方性層（５１）の透明支持体（５２）側に
配向膜を設けて、ディスコティック液晶性分子を配向さ
せている。（ｄ）のバリエーションでは、光学的異方性
層（５１）の外側に配向膜を設けて、ディスコティック
液晶性分子を配向させている。

【０１４２】図７は、ＶＡモードの液晶セルと一枚の光
学補償シートとの組み合わせを示す断面模式図である。
図７に示すように、一枚の光学補償シート（６３）は、
（ｅ）〜（ｈ）の４種類のバリエーションのいずれか
で、ＶＡモードの液晶セル（６０）と組み合わせること
ができる。（ｅ）および（ｇ）のバリエーションでは、
光学補償シート（６３）のディスコティック液晶性分子
を含む光学的異方性層（６１）の側を、ＶＡモードの液
晶セル（６０）に張り合せて使用する。（ｅ）のバリエ
ーションでは、光学的異方性層（６１）の透明支持体
（６２）側に配向膜を設けて、ディスコティック液晶性
分子を配向させている。（ｇ）のバリエーションでは、
光学的異方性層（６１）のＶＡモードの液晶セル（６
０）側に配向膜を設けて、ディスコティック液晶性分子
を配向させている。（ｆ）および（ｈ）のバリエーショ
ンでは、光学補償シート（６３）の透明支持体（６２）
の側を、ＶＡモードの液晶セル（６０）に張り合せて使
用する。（ｆ）のバリエーションでは、光学的異方性層
（６１）の透明支持体（６２）側に配向膜を設けて、デ
ィスコティック液晶性分子を配向させている。（ｈ）の
バリエーションでは、光学的異方性層（６１）の外側に
配向膜を設けて、ディスコティック液晶性分子を配向さ
せている。

【０１４３】図８は、ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学
補償シートの断面模式図である。図８に示す光学補償シ
ートは、支持体（７１）、配向膜（７２）、光学的異方
性層（７３）の順序の層構成を有する。この層構成は、
図６の（ａ）、（ｂ）または図７の（ｅ）、（ｆ）の光
学補償シートに対応する。配向膜（７２）は、一定の方
向（７５）にラビングすることで、配向機能が付与され
ている。光学的異方性層（７３）に含まれるディスコテ
ィック液晶性分子（７３ａ、７３ｂ、７３ｃ）は、平面
分子である。ディスコティック液晶性分子（７３ａ、７
３ｂ、７３ｃ）は、分子中にはただ一個の平面、すなわ
ち円盤面（Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃ）を持つ。円盤面（Ｐａ、
Ｐｂ、Ｐｃ）は、支持体（７１）の面に平行な面（７１
ａ、７１ｂ、７１ｃ）から傾斜している。円盤面（Ｐ
ａ、Ｐｂ、Ｐｃ）と支持体面に平行な面（７１ａ、７１
ｂ、７１ｃ）との間の角度が、傾斜角（θａ、θｂ、θ
ｃ）である。支持体の法線（７４）に沿って、配向膜
（６２）からの距離が増加するに伴い、傾斜角も増加す
る（θａ＜θｂ＜θｃ）。傾斜角（θａ、θｂ、θｃ）
は、０乃至６０°の範囲で変化していることが好まし
い。傾斜角の最小値は、０乃至５５°の範囲であること
が好ましく、５乃至４０°の範囲であることがさらに好
ましい。傾斜角の最大値は、５乃至６０°の範囲である
ことが好ましく、２０乃至６０°の範囲であることがさ
らに好ましい。傾斜角の最小値と最大値との差は、５乃
至５５°の範囲であることが好ましく、１０乃至４０°
の範囲であることがさらに好ましい。図８に示すように
傾斜角を変化させると、光学補償シートの視野角拡大機
能が著しく向上する。また、傾斜角を変化させた光学補
償シートには、表示画像の反転、階調変化あるいは着色
の発生を防止する機能もある。

【０１４４】図９は、代表的なＶＡ型液晶表示装置の断
面模式図である。図９に示す液晶表示装置は、ＶＡモー
ドの液晶セル（ＶＡＣ）、液晶セルの両側に設けられた
一対の偏光素子（Ａ、Ｂ）、液晶セルと偏光素子との間
に配置された一対の光学補償シート（ＯＣ１、ＯＣ２）
およびバックライト（ＢＬ）からなる。光学補償シート
（ＯＣ１、ＯＣ２）は、一方のみ配置してもよい。光学
補償シート（ＯＣ１、ＯＣ２）の矢印（Ｒ１、Ｒ２）
は、光学補償シートに設けた配向膜のラビング方向（図
８における矢印７５に相当）である。図９に示す液晶表
示装置では、光学補償シート（ＯＣ１、ＯＣ２）の光学
的異方性層が液晶セル側に配置されている。光学補償シ
ート（ＯＣ１、ＯＣ２）の光学的異方性層を偏光素子
（Ａ、Ｂ）側に配置してもよい。光学的異方性層を偏光
素子（Ａ、Ｂ）側に配置する場合は、配向膜のラビング
方向（Ｒ１、Ｒ２）は、図９とは逆の向きになる。液晶
セル（ＶＡＣ）の矢印（ＲＰ１、ＲＰ２）は、液晶セル
基板に設けた配向膜のラビング方向である。偏光素子
（Ａ、Ｂ）の矢印（ＰＡ、ＰＢ）は、それぞれ偏光素子
の偏光の透過軸である。

【０１４５】光学補償シートに設けた配向膜のラビング
方向（Ｒ１、Ｒ２）と、液晶セル基板に設けた配向膜の
ラビング方向（ＲＰ１、ＲＰ２）は、それぞれ実質的に
平行または逆平行であることが好ましい。偏光素子の偏
光の透過軸（ＰＡ、ＰＢ）は、実質的に直交または平行
になるように配置することが好ましい。実質的に直交、
平行あるいは逆平行であるとは、角度のずれが、２０°
未満（好ましくは１５°未満、さらに好ましくは１０°
未満、最も好ましくは５°未満）であることを意味す
る。液晶セル基板に設けた配向膜のラビング方向（ＲＰ
１、ＲＰ２）と、偏光素子の偏光の透過軸（ＰＡ、Ｐ
Ｂ）との角度は、それぞれ、１０乃至８０゜であること
が好ましく、２０乃至７０゜であることがさらに好まし
く、３５乃至５５゜であることが最も好ましい。

【０１４６】ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シー
トには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が
光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないこと
が好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シー
トの光学的性質は、光学的異方性層の光学的性質、支持
体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置
により決定される。それらの光学的性質の詳細を、以下
に述べる。光学的性質としては、（１）光学的異方性
層、（２）支持体および（３）光学補償シート全体のそ
れぞれについて、面内レターデーション（Ｒｅ）、厚み
方向のレターデーション（Ｒth) およびレターデーショ
ンの絶対値が最小となる方向とシートの法線との角度
（β）が重要である。面内レターデーションと厚み方向
のレターデーションは、前述したセルロースエステルフ
イルムの定義と同様である。ただし、光学的異方性層お
よび光学補償シート全体では、前述した定義におけるｎ
ｘ、ｎｙ、ｎｚは、ｎｘ≧ｎｙ≧ｎｚを満足する面内主
屈折率を意味する。

【０１４７】ＶＡ型液晶表示装置に光学補償シートを二
枚使用する場合は、光学補償シートの面内レターデーシ
ョンを、−５ｎｍ乃至５ｎｍの範囲内にすることが好ま
しい。従って、二枚の光学補償シートのそれぞれの面内
レターデーション（Ｒｅ³¹）の絶対値は、０≦｜Ｒｅ³¹
｜≦５とすることが好ましい。Ｒｅ³¹を上記の範囲に調
整するため、光学的異方性層の面内レターデーション
（Ｒｅ¹ ）の絶対値と支持体の面内レターデーション
（Ｒｅ² ）の絶対値との差（｜｜Ｒｅ¹ ｜−｜Ｒｅ² ｜
｜）を５ｎｍ以下として、さらに、光学的異方性層と支
持体とが、それぞれの面内の遅相軸が実質的に垂直にな
るように配置することが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置
に光学補償シートを一枚使用する場合は、光学補償シー
トの面内レターデーションを、−１０ｎｍ乃至１０ｎｍ
の範囲内にすることが好ましい。従って、一枚の光学補
償シートの面内レターデーション（Ｒ³²）の絶対値は、
０≦｜Ｒｅ³²｜≦１０とすることが好ましい。Ｒｅ³²を
上記の範囲に調整するため、光学的異方性層の面内レタ
ーデーションの絶対値（Ｒｅ¹ ）の絶対値と支持体の面
内レターデーション（Ｒｅ² ）の絶対値との差（｜｜Ｒ
ｅ¹ ｜−｜Ｒｅ² ｜｜）を１０ｎｍ以下として、さら
に、光学的異方性層と支持体とが、それぞれの面内の遅
相軸が実質的に垂直になるように配置することが好まし
い。

【０１４８】ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シー
トについて、（１）光学的異方性層、（２）支持体およ
び（３）光学補償シート全体の光学的性質の好ましい範
囲を以下にまとめて示す。なお、ＲｅとＲthの単位はｎ
ｍである。上付の数字１は光学的異方性層の値、上付の
数字２は支持体の値、そして上付の数字３は光学補償シ
ートの値をそれぞれ意味する。Ｒｅ³¹およびＲｅ³²の意
味は、上記の通りである。なお、支持体の厚み方向のレ
ターデーション（Ｒth² ）の好ましい範囲は、前述した
セルロースエステルフイルムの光学的性質として定義し
た通りである。また、二以上の支持体を設ける場合、支
持体全体の面内レターデーション（Ｒｅ² ）は、それぞ
れの支持体の面内レターデーションの合計値に相当す
る。

【０１４９】 ──────────────────────────────────── 好ましい範囲 さらに好ましい範囲 最も好ましい範囲 ──────────────────────────────────── ０＜｜Ｒｅ¹ ｜≦２００ ５≦｜Ｒｅ¹ ｜≦１５０ １０≦｜Ｒｅ¹ ｜≦１００ ０≦｜Ｒｅ² ｜≦２００ ５≦｜Ｒｅ² ｜≦１５０ １０≦｜Ｒｅ² ｜≦１００ ０≦｜Ｒｅ³¹｜≦４．５ ０≦｜Ｒｅ³¹｜≦４ ０≦｜Ｒｅ³¹｜≦３．５ ０≦｜Ｒｅ³²｜≦９ ０≦｜Ｒｅ³²｜≦８ ０≦｜Ｒｅ³²｜≦７ ──────────────────────────────────── 10≦｜Ｒth¹ ｜≦４００ 20≦｜Ｒth¹ ｜≦３００ 30≦｜Ｒth¹ ｜≦２００ 10≦｜Ｒth³ ｜≦６００ 60≦｜Ｒth³ ｜≦５００ 100≦｜Ｒth³ ｜≦４００ ──────────────────────────────────── ０°＜β¹ ≦６０° ０°＜β¹ ≦５０° ０°＜β¹ ≦４０° ０°≦β² ≦１０° ０°≦β² ≦５° ０°≦β² ≦３° ０°＜β³ ≦５０° ０°＜β³ ≦４５° ０°＜β³ ≦４０° ────────────────────────────────────

【０１５０】［ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液
晶表示装置］本発明のセルロースエステルフイルムは、
ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置
あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶
表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用い
られる。ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示
装置について、図１０〜図１５を引用して説明する。図
１０は、ＯＣＢモードの液晶セル内の液晶性化合物の配
向を模式的に示す断面図である。図１０は、黒表示の状
態であって、ノーマリーホワイトモードにおける電圧印
加時またはノーマリーブラックモードにおける電圧無印
加時に相当する。図１０に示すように、ＯＣＢモードの
液晶セルは、上基板（１１）と下基板（１３）の間に液
晶性化合物（１２）を封入した構造を有する。ＯＣＢモ
ードの液晶セルでは、ある光の進む方向（１６ａ）に関
して、下基板（１３）付近で液晶性化合物（１２）の複
屈折が小さく、上基板（１１）付近での液晶性化合物
（１２）の複屈折が大きい。この方向（１６ａ）に対し
て、基板の法線を中心に線対称となる方向（１６ｂ）で
は、下基板（１３）付近で液晶性化合物（１２）の複屈
折が大きく、上基板（１１）付近での液晶性化合物（１
２）の複屈折が小さい。このように、ＯＣＢモードの液
晶セルでは、レターデーションが基板の法線を中心に対
称になるため、光学的な自己補償機能を有している。そ
のため、ＯＣＢモードの液晶セルは、原理的に広い視野
角を有している。

【０１５１】図１１は、ＨＡＮモードの液晶セル内の液
晶性化合物の配向を模式的に示す断面図である。図１１
は、黒表示の状態であって、ノーマリーホワイトモード
における電圧印加時またはノーマリーブラックモードに
おける電圧無印加時に相当する。図１１に示すように、
ＨＡＮモードの液晶セルも、上基板（２１）と下基板
（２３）の間に液晶性化合物（２２）を封入した構造を
有する。ＨＡＮモードは、ＯＣＢモードの（透過型）液
晶セルの考え方を、反射型液晶セルに応用した液晶セル
である。ＨＡＮモードの液晶セルでは、入射光（２７）
に関して、上基板（２１）付近での液晶性化合物（２
２）の複屈折が大きく。下基板（２３）付近で液晶性化
合物（２２）の複屈折が小さい。一方、出射光（２８）
に関しては、下基板（２３）付近で液晶性化合物（２
２）の複屈折が大きく、上基板（２１）付近での液晶性
化合物（２２）の複屈折が小さい。このように、ＨＡＮ
モードの液晶セルでは、入射光と反射光のレターデーシ
ョンが対称になるため、光学的な自己補償機能を有して
いる。そのため、ＨＡＮモードの液晶セルも、原理的に
広い視野角を有している。

【０１５２】ＯＣＢモードやＨＡＮモードの液晶セルで
も、視野角を大きくすると、黒表示部からの光の透過率
が著しく増大し、コントラストが低下する。光学補償シ
ートは、斜め方向の光の入射におけるコントラストの低
下を防ぎ、視野角特性を改善し、さらに正面のコントラ
ストを改善するために用いる。液晶セルが黒表示におい
て正の一軸性を有する場合、図５で説明したように、負
の一軸性の光学補償シートを用いて光学的に補償する。

【０１５３】図１２は、ＯＣＢモードの液晶セルと二枚
の光学補償シートの光学的異方性層との組み合わせを示
す断面模式図である。図１２に示すように、二枚の光学
補償シートは、光学的異方性層（５１、５２）がＯＣＢ
モードの液晶セル（５０）を挟むように組み合わせるて
用いることが好ましい。光学的異方性層（５１、５２）
のディスコティック液晶性分子は、ＯＣＢモードの液晶
セル（５０）の液晶分子の配向状態と対応する（光学補
償する）配向状態を有する。

【０１５４】図１３は、ＨＡＮモードの液晶セルと一枚
の光学補償シートの光学的異方性層との組み合わせを示
す断面模式図である。図１３に示すように、一枚の光学
補償シートは、光学的異方性層（６１）がＨＡＮモード
の液晶セル（６０）の表示面側となるように組み合わせ
るて用いることが好ましい。光学的異方性層（６１）の
ディスコティック液晶性分子は、ＨＡＮモードの液晶セ
ル（６０）の液晶分子の配向状態と対応する（光学補償
する）配向状態を有する。

【０１５５】図１２および図１３に示すように、ＯＣＢ
モードおよびＨＡＮモードの液晶セルの配向状態に対し
て、ディスコティック液晶性分子を含む光学的異方性層
により光学的に補償することができる。しかし、光学的
異方性層のみでは、液晶セルのレターデーションの補正
および光学的異方性層そのものに発生するレターデーシ
ョンの補正が不充分である。そこで、前述したように支
持体を光学的異方性として、これらのレターデーション
を補正する。光学的異方性層と光学的異方性支持体との
組み合わせ、すなわち、光学補償シートの基本的な構成
（断面模式図）は、図８で説明したＶＡ型液晶表示装置
に用いる光学補償シートと同様である。

【０１５６】図１４は、代表的なＯＣＢ型液晶表示装置
の断面模式図である。図１４に示す液晶表示装置は、Ｏ
ＣＢモードの液晶セル（ＯＣＢＣ）、液晶セルの両側に
設けられた一対の偏光素子（Ａ、Ｂ）、液晶セルと偏光
素子との間に配置された一対の光学補償シート（ＯＣ
１、ＯＣ２）およびバックライト（ＢＬ）からなる。光
学補償シート（ＯＣ１、ＯＣ２）は、一方のみ配置して
もよい。光学補償シート（ＯＣ１、ＯＣ２）の矢印（Ｒ
１、Ｒ２）は、光学補償シートに設けた配向膜のラビン
グ方向である。図１４に示す液晶表示装置では、光学補
償シート（ＯＣ１、ＯＣ２）の光学的異方性層が液晶セ
ル側に配置されている。光学補償シート（ＯＣ１、ＯＣ
２）の光学的異方性層を偏光素子（Ａ、Ｂ）側に配置し
てもよい。光学的異方性層を偏光素子（Ａ、Ｂ）側に配
置する場合は、配向膜のラビング方向（Ｒ１、Ｒ２）
は、図１４とは逆の向きになる。液晶セル（ＯＣＢＣ）
の矢印（ＲＰ１、ＲＰ２）は、液晶セル基板に設けた配
向膜のラビング方向である。偏光素子（Ａ、Ｂ）の矢印
（ＰＡ、ＰＢ）は、それぞれ偏光素子の偏光の透過軸で
ある。

【０１５７】光学補償シートに設けた配向膜のラビング
方向（Ｒ１、Ｒ２）と、液晶セル基板に設けた配向膜の
ラビング方向（ＲＰ１、ＲＰ２）は、それぞれ実質的に
平行または逆平行であることが好ましい。偏光素子の偏
光の透過軸（ＰＡ、ＰＢ）は、実質的に直交または平行
になるように配置することが好ましい。実質的に直交、
平行あるいは逆平行であるとは、角度のずれが、２０°
未満（好ましくは１５°未満、さらに好ましくは１０°
未満、最も好ましくは５°未満）であることを意味す
る。液晶セル基板に設けた配向膜のラビング方向（ＲＰ
１、ＲＰ２）と、偏光素子の偏光の透過軸（ＰＡ、Ｐ
Ｂ）との角度は、それぞれ、１０乃至８０゜であること
が好ましく、２０乃至７０゜であることがさらに好まし
く、３５乃至５５゜であることが最も好ましい。

【０１５８】図１５は、代表的なＨＡＮ型液晶表示装置
の断面模式図である。図１５に示す液晶表示装置は、Ｈ
ＡＮモードの液晶セル（ＨＡＮＣ）、液晶セルの表示面
側に設けられた偏光素子（Ａ）、液晶セルと偏光素子と
の間に配置された光学補償シート（ＯＣ）および反射板
（ＲＢ）からなる。光学補償シート（ＯＣ）の矢印
（Ｒ）は、光学補償シートに設けた配向膜のラビング方
向である。液晶セル（ＨＡＮＣ）の矢印（ＲＰ）は、液
晶セル基板に設けた配向膜のラビング方向である。偏光
素子（Ａ）の矢印（ＰＡ）は、偏光素子の偏光の透過軸
である。光学補償シートに設けた配向膜のラビング方向
（Ｒ）と、液晶セル基板に設けた配向膜のラビング方向
（ＲＰ）は、それぞれ実質的に平行または逆平行である
ことが好ましい。実質的に平行あるいは逆平行であると
は、角度のずれが、２０°未満（好ましくは１５°未
満、さらに好ましくは１０°未満、最も好ましくは５°
未満）であることを意味する。液晶セル基板に設けた配
向膜のラビング方向（ＲＰ）と、偏光素子の偏光の透過
軸（ＰＡ）との角度は、１０乃至８０゜であることが好
ましく、２０乃至７０゜であることがさらに好ましく、
３５乃至５５゜であることが最も好ましい。

【０１５９】ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液
晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーシ
ョンの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内
にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型
液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光
学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的
性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持
体との配置により決定される。それらの光学的性質の詳
細を、以下に述べる。光学的性質としては、（１）光学
的異方性層、（２）支持体および（３）光学補償シート
全体のそれぞれについて、面内レターデーション（Ｒ
ｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒth) が重要
である。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表
示装置では、さらに（４）液晶セルの光学的性質（面内
レターデーションおよび厚み方向のレターデーション）
との相対的な関係も重要である。面内レターデーション
と厚み方向のレターデーションは、前述したセルロース
エステルフイルムの定義と同様である。ただし、光学的
異方性層および光学補償シート全体では、前述した定義
におけるｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、ｎｘ≧ｎｙ≧ｎｚを満足
する面内主屈折率を意味する。

【０１６０】光学補償シートを二枚使用する態様では、
光学補償シートの面内レターデーション（Ｒｅ³ ）と液
晶セルの面内レターデーション（Ｒｅ⁴ ）との関係を、
下記式を満足するように調節することが好ましい。 Ｒｅ⁴ −２０≦｜Ｒｅ³ ｜×２≦Ｒｅ⁴ ＋２０ 光学補償シートを一枚使用する態様では、光学補償シー
トの面内レターデーション（Ｒｅ³ ）と液晶セルの面内
レターデーション（Ｒｅ⁴ ）との関係を、下記式を満足
するように調節することが好ましい。 Ｒｅ⁴ −２０≦｜Ｒｅ³ ｜≦Ｒｅ⁴ ＋２０

【０１６１】（１）光学的異方性層、（２）支持体およ
び（３）光学補償シートの光学的性質の好ましい範囲を
以下にまとめて示す。なお、ＲｅとＲthの単位はｎｍで
ある。上付の数字１は光学的異方性層の値、上付の数字
２は支持体の値、そして上付の数字３は光学補償シート
の値をそれぞれ意味する。なお、支持体の厚み方向のレ
ターデーション（Ｒth² ）の好ましい範囲は、前述した
セルロースエステルフイルムの光学的性質として定義し
た通りである。また、二以上の支持体を設ける場合、支
持体全体の面内レターデーション（Ｒｅ² ）は、それぞ
れの支持体の面内レターデーションの合計値に相当す
る。さらに、光学補償シートの面内レターデーション
（Ｒｅ³ ）は、前述した液晶セルの面内レターデーショ
ン（Ｒｅ⁴ ）との関係で調節する。

【０１６２】 ──────────────────────────────────── 好ましい範囲 さらに好ましい範囲 最も好ましい範囲 ──────────────────────────────────── ０＜｜Ｒｅ¹ ｜≦２００ ５≦｜Ｒｅ¹ ｜≦１５０ １０≦｜Ｒｅ¹ ｜≦１００ ０≦｜Ｒｅ² ｜≦２００ ５≦｜Ｒｅ² ｜≦１５０ １０≦｜Ｒｅ² ｜≦１００ ０≦｜Ｒｅ³ ｜≦４．５ ０≦｜Ｒｅ³ ｜≦４ ０≦｜Ｒｅ³ ｜≦３．５ ──────────────────────────────────── 50≦｜Ｒth¹ ｜≦1000 50≦｜Ｒth¹ ｜≦８００ 100≦｜Ｒth¹ ｜≦５００ 50≦｜Ｒth³ ｜≦1000 60≦｜Ｒth³ ｜≦５００ 100≦｜Ｒth³ ｜≦４００ ────────────────────────────────────

【０１６３】

【実施例】［実施例１］室温において、平均酢化度６
０．９％のセルロースアセテート４５重量部、レターデ
ーション上昇剤（５）０．９０重量部、メチレンクロリ
ド２３２．７２重量部、メタノール４２．５７重量部お
よびｎ−ブタノール８．５０重量部を混合して溶液（ド
ープ）を調製した。得られた溶液（ドープ）を、有効長
６ｍのバンド流延機を用いて、乾燥膜厚が１００μｍに
なるように流延して、乾燥した。製造したセルロースア
セテートフイルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１
５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍに
おける厚み方向のレターデーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ）を測
定した。結果は第１表に示す。

【０１６４】［比較例１］レターデーション上昇剤
（５）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にフイ
ルムを製造して、評価した。結果は第１表に示す。

【０１６５】［実施例２〜１０］レターデーション上昇
剤（５）に代えて、レターデーション上昇剤（６）、
（７）、（３１）、（３６）、（３７）、（３８）、
（４４）、（５０）および（８１）をそれぞれ同量用い
た以外は、実施例１と同様にフイルムを製造して、評価
した。結果は第１表に示す。

【０１６６】［比較例２〜５］レターデーション上昇剤
（５）に代えて、下記の比較化合物（ｘ１）、（ｘ
２）、（ｘ３）および（ｘ４）をそれぞれ同量用いた以
外は、実施例１と同様にフイルムを製造して、評価し
た。結果は第１表に示す。

【０１６７】

【化８０】

【０１６８】

【化８１】

【０１６９】

【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── フイルム レターデーション上昇剤 レターデーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ） ──────────────────────────────────── 比較例１ なし ２０ｎｍ 実施例１ （５） １８１ｎｍ 実施例２ （６） ２００ｎｍ 実施例３ （７） ２２２ｎｍ 実施例４ （３１） ９９ｎｍ 実施例５ （３６） １５８ｎｍ 実施例６ （３７） １５８ｎｍ 実施例７ （３８） １６６ｎｍ 実施例８ （４４） ７１ｎｍ 実施例９ （５０） ７５ｎｍ 実施例１０ （８１） ８０ｎｍ 比較例２ （ｘ１） ３０ｎｍ 比較例３ （ｘ２） ３０ｎｍ 比較例４ （ｘ３） ３０ｎｍ 比較例５ （ｘ４） ３０ｎｍ ────────────────────────────────────

【０１７０】［実施例１１］室温において、平均酢化度
６０．９％のセルロースアセテート４５重量部、レター
デーション上昇剤（３）０．９０重量部、リン酸トリフ
ェニル（可塑剤）２．７５重量部、リン酸ビフェニルジ
フェニル２．２０重量部、メチレンクロリド２３２．７
２重量部、メタノール４２．５７重量部およびｎ−ブタ
ノール８．５０重量部を混合して溶液（ドープ）を調製
した。得られた溶液（ドープ）を、有効長６ｍのバンド
流延機を用いて、乾燥膜厚が１００μｍになるように流
延して、乾燥した。製造したセルロースアセテートフイ
ルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分
光（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍにおける厚み方
向のレターデーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ）を測定した。さら
に、フイルム表面を観察して、ブリードアウトの有無を
評価した。結果は第２表に示す。

【０１７１】［比較例６］レターデーション上昇剤
（３）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にフイ
ルムを製造して、評価した。結果は第２表に示す。

【０１７２】［実施例１２〜１４］レターデーション上
昇剤（３）に代えて、レターデーション上昇剤（８）、
（３１）および（７５）をそれぞれ同量用いた以外は、
実施例１と同様にフイルムを製造して、評価した。結果
は第２表に示す。

【０１７３】

【表２】 第２表 ──────────────────────────────────── フイルム レターデーション上昇剤 Ｒth⁵⁵⁰ ブリードアウト ──────────────────────────────────── 比較例６ なし ５０ｎｍ なし 実施例１１ （３） １２０ｎｍ なし 実施例１２ （８） １２０ｎｍ なし 実施例１３ （３１） １８０ｎｍ なし 実施例１４ （７５） １２０ｎｍ なし ────────────────────────────────────

【０１７４】［実施例１５〜１８］レターデーション上
昇剤の使用量を０．９０重量部から０．２０重量部に変
更した以外は、実施例１１〜１４と同様にフイルムを製
造して、評価した。結果は第３表に示す。

【０１７５】

【表３】 第３表 ──────────────────────────────────── フイルム レターデーション上昇剤 Ｒth⁵⁵⁰ ブリードアウト ──────────────────────────────────── 比較例６ なし ５０ｎｍ なし 実施例１５ （３） ２４０ｎｍ なし 実施例１６ （８） ２４０ｎｍ わずかにあり 実施例１７ （３１） ３００ｎｍ あり 実施例１８ （７５） ２００ｎｍ なし ────────────────────────────────────

【０１７６】［実施例１９］ （液晶セルの作成）電極（ＩＴＯ）付きのガラス基板
に、ポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を
行なった。得られた二枚のガラス基板を対面する配置で
向き合わせ、セルギャップを１０μｍに設定して、液晶
（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ＯＣＢモー
ドの液晶セルを作成した。

【０１７７】（液晶表示装置の作成）液晶セルを挟むよ
うに、実施例１１で作成したセルロースアセテートフイ
ルム二枚を光学補償シートとして配置した。その外側に
全体を挟むように、偏光素子を配置した。作成した液晶
表示装置に、５５Ｈｚ矩形波で電圧を印加したところ、
着色のない鮮明な画像が得られた。

【０１７８】［実施例２０］ （光学補償シートの支持体）実施例１１で作成したセル
ロースアセテートフイルムを光学補償シートの支持体と
して用いた。

【０１７９】（配向膜の形成）支持体の上に、下記の組
成の塗布液をスライドコーターで２５ｍｌ／ｍ² 塗布し
た。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５
０秒乾燥した。次に、支持体の遅相軸方向と平行の方向
に、形成した膜にラビング処理を実施した。

【０１８０】 ──────────────────────────────────── 配向膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記の変性ポリビニルアルコール １０重量部 水 ３７１重量部 メタノール １１９重量部 グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５重量部 ────────────────────────────────────

【０１８１】

【化８２】

【０１８２】（光学的異方性層の形成）配向膜上に、下
記のディスコティック液晶性化合物１．８ｇ、エチレン
オキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレー
ト（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）０．２ｇ、セ
ルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．
２、イーストマンケミカル社製）０．０４ｇ、光重合開
始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．
０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）０．０２ｇを、８．４３ｇのメチルエチルケ
トンに溶解した塗布液を、＃２．５のワイヤーバーで塗
布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温
槽中で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を
配向させた。次に、１３０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀
灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶
性化合物を架橋した。その後、室温まで放冷した。この
ようにして、光学補償シート（１）を作製した。

【０１８３】

【化８３】

【０１８４】（光学補償シートの評価）光学的異方性層
の厚さは、約１．０μｍであった。光学的異方性層のみ
のレターデーション値をラビング軸に沿って測定したと
ころ、レターデーションが０となる方向は存在しなかっ
た。光学的異方性層の光学軸の平均傾斜角、すなわちレ
ターデーションが最小となる方向とシートの法線との角
度（β¹ ）は、２８°であった。また、面内レターデー
ションは１５ｎｍ（Ｒｅ¹ ＝１５）、厚み方向のレター
デーションは３５ｎｍ（Ｒth¹ ＝３５）であった。光学
補償シート（１）を、ミクロトームを用いて、ラビング
方向に添って垂直に切断し、極めて薄い垂直断片（サン
プル）を得た。サンプルをＯｓＯ₄ の雰囲気中に４８時
間放置して、染色した。染色サンプルを、透過型電子顕
微鏡（ＴＥＭ）によって観察し、その顕微鏡写真を得
た。染色サンプルでは、前記ディスコティック液晶性化
合物のアクリロイル基が染色され、写真の像として認め
られた。この写真を検討した結果、ディスコティック液
晶性化合物の円盤状構造単位は、支持体の表面から傾い
ていることが認められた。さらに、傾斜角は、支持体表
面からの距離が増加するに伴い、連続的に増加してい
た。

【０１８５】（ＶＡモード液晶セルの作成）ポリビニル
アルコール３重量％水溶液に、オクタデシルジメチルア
ンモニウムクロライド（カップリング剤）を１重量％添
加した。これを、ＩＴＯ電極付きのガラス基板上にスピ
ンコートし、１６０℃で熱処理した後、ラビング処理を
施して、垂直配向膜を形成した。ラビング処理は、２枚
のガラス基板において反対方向となるように実施した。
セルギャップ（ｄ）が５．５μｍとなるように２枚のガ
ラス基板を向かい合わせた。セルギャップに、エステル
系とエタン系を主成分とする液晶性化合物（Δｎ：０．
０５）を注入し、ＶＡモード液晶セルを作成した。Δｎ
とｄとの積は２７５ｎｍであった。

【０１８６】（ＶＡ型液晶表示装置の作成）ＶＡモード
液晶セルに、光学補償シート（１）をセルを挟むように
２枚、光学補償シートの光学的異方性層と液晶セルのガ
ラス基板とが対面するように配置した。ＶＡモード液晶
セルの配向膜のラビング方向と光学補償シートの配向膜
のラビング方向は、逆平行になるように配置した。これ
らの両側に、偏光素子をクロスニコルに配置した。ＶＡ
モード液晶セルに対して、５５Ｈｚ矩形波で電圧を印加
した。黒表示２Ｖ、白表示６ＶのＮＢモードとし、透過
率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比とした。上
下、左右からのコントラスト比を、計器（ＥＺ−Contra
st１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）で測定した。その結果、
正面コントラスト比が３００、視野角（コントラスト比
１０が得られる視野の角度）が上下左右いずれも７０度
との良好な結果が得られた。

【０１８７】［実施例２１］ （光学補償シートの支持体）実施例１１で作成したセル
ロースアセテートフイルムを光学補償シートの支持体と
して用いた。

【０１８８】（配向膜の形成）支持体の上に、下記の組
成の塗布液をスライドコーターで２５ｍｌ／ｍ² 塗布し
た。６０℃で２分間乾燥した。次に、支持体の面内の主
屈折率の大きい方向と平行の方向に、形成した膜にラビ
ング処理を実施した。ラビング条件は、ラビングロール
径が１５０ｍｍ、搬送速度が１０ｍ／分、ラッピング角
度が６゜、ラビングロール回転数が１２００ｒｐｍであ
った。

【０１８９】 ──────────────────────────────────── 配向膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 実施例２０で用いた変性ポリビニルアルコールの１０重量％水溶液 ２４ｇ 水 ７３ｇ メタノール ２３ｇ グルタルアルデヒド（架橋剤）の５０重量％水溶液 ０．２ｇ ────────────────────────────────────

【０１９０】（光学的異方性層の形成）配向膜上に、実
施例２０で用いたディスコティック液晶性化合物１．８
ｇ、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパント
リアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）
０．２ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５
５１−０．２、イーストマンケミカル社製）０．０４
ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−
１．０、イーストマンケミカル社製）０．０１ｇ、光重
合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）
０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）０．０２ｇを、３．４ｇのメチルエチルケト
ンに溶解した塗布液を、＃６のワイヤーバーで塗布し
た。これを金属の枠に貼り付けて、１４０℃の恒温槽中
で３分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向
させた。次に、１４０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を
用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化
合物を架橋した。その後、室温まで放冷した。このよう
にして、光学補償シート（２）を作製した。

【０１９１】（光学補償シートの評価）光学的異方性層
の厚さは、２．０μｍであった。光学的異方性層のみの
レターデーション値をラビング軸に沿って測定したとこ
ろ、レターデーションが０となる方向は存在しなかっ
た。レターデーション値をシュミレーションによりフィ
ッティングしたところ、負の一軸性が厚み方向に４゜か
ら６８゜まで連続に変化しているハイブリッド配向状態
を確認できた。光学的異方性層の面内レターデーション
は４３ｎｍ（Ｒｅ¹ ＝４３）、厚み方向のレターデーシ
ョンは１３５ｎｍ（Ｒth¹ ＝１３５）であった。光学補
償シート（２）を、ミクロトームを用いて、ラビング方
向に添って垂直に切断し、極めて薄い垂直断片（サンプ
ル）を得た。サンプルをＯｓＯ₄ の雰囲気中に４８時間
放置して、染色した。染色サンプルを、透過型電子顕微
鏡（ＴＥＭ）によって観察し、その顕微鏡写真を得た。
染色サンプルでは、前記ディスコティック液晶性化合物
のアクリロイル基が染色され、写真の像として認められ
た。この写真を検討した結果、ディスコティック液晶性
化合物の円盤状構造単位は、支持体の表面から傾いてい
ることが認められた。さらに、傾斜角は、支持体表面か
らの距離が増加するに伴い、連続的に増加していた。

【０１９２】（ＯＣＢモード液晶セルの作成）ＩＴＯ電
極付きのガラス基板上にポリイミド膜を配向膜として設
け、ラビング処理を行った。ラビング処理は、２枚のガ
ラス基板において反対方向となるように実施した。セル
ギャップ（ｄ）が８μｍとなるように２枚のガラス基板
を向かい合わせた。セルギャップに、Δｎが０．１３９
６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注
入し、ＯＣＢモード液晶セルを作成した。Δｎとｄとの
積は１１１７ｎｍ、面内レターデーションは９２ｎｍ
（Ｒｅ⁴ ＝９２）であった。

【０１９３】（ＯＣＢ型液晶表示装置の作成）ＯＣＢモ
ード液晶セルに、光学補償シート（２）をセルを挟むよ
うに２枚、光学補償シートの光学的異方性層と液晶セル
のガラス基板とが対面するように配置した。ＯＣＢモー
ド液晶セルの配向膜のラビング方向と光学補償シートの
配向膜のラビング方向は、逆平行になるように配置し
た。これらの両側に、偏光素子をクロスニコルに配置し
た。ＯＣＢモード液晶セルに対して、５５Ｈｚ矩形波で
電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示６ＶのＮＷモード
とし、透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比
とした。上下、左右からのコントラスト比を、計器（Ｌ
ＣＤ−５０００、大塚電子（株）製）で測定した。その
結果、上側の視野角（コントラスト比１０が得られる視
野の角度）が８０度以上、下側の視野角が５８度、左右
の視野角がいずれも６６度との良好な結果が得られた。

【０１９４】［実施例２２］ （ＨＡＮモード液晶セルの作成）ＩＴＯ電極付きのガラ
ス基板上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング
処理を行った。ＩＴＯ電極付きのガラス基板をもう一枚
用意し、酸化ケイ素を蒸着させて配向膜を形成した。セ
ルギャップ（ｄ）が４μｍとなるように２枚のガラス基
板を向かい合わせた。セルギャップに、Δｎが０．１３
９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を
注入し、ＨＡＮモード液晶セルを作成した。Δｎとｄと
の積は５５８ｎｍ、面内レターデーションは４６ｎｍ
（Ｒｅ⁴ ＝４６）であった。

【０１９５】（ＨＡＮ型液晶表示装置の作成）ＨＡＮモ
ード液晶セルの表示面側に実施例２１で作成した光学補
償シート（２）を一枚、光学的異方性層がセル側となる
ように配置した。ＨＡＮモード液晶セルの配向膜のラビ
ング方向と光学補償シートの配向膜のラビング方向は、
逆平行になるように配置した。光学補償シートの上に偏
光素子を、偏光素子の透過軸と液晶セルのラビング方向
との角度が４５゜となるように配置した。偏光素子の上
に、拡散板を配置した。ＨＡＮモード液晶セルの反対側
には、鏡（反射板）を配置した。作成したＨＡＮ型液晶
表示装置の表示面の法線方向から、２０゜傾けた方向に
光源を置き、光を照射した。ＨＡＮモード液晶セルに対
しては、５５Ｈｚ矩形波で電圧を印加した。白表示２
Ｖ、黒表示６ＶのＮＷモードとし、透過率の比（白表示
／黒表示）をコントラスト比とした。上下、左右からの
コントラスト比を、計器（ｂｍ−７、ＴＯＰＣＯＮ社
製）で測定した。その結果、上側の視野角（コントラス
ト比１０が得られる視野の角度）が４４度、下側の視野
角が２６度、左右の視野角がいずれも３９度との良好な
結果が得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的な液晶表示装置の断面模式図である。

【図２】電圧無印加時のＶＡモードの液晶セル内の液晶
性化合物の配向を模式的に示す断面図である。

【図３】電圧印加時のＶＡモードの液晶セル内の液晶性
化合物の配向を模式的に示す断面図である。

【図４】偏光素子をクロスニコルに配置にしたＶＡモー
ドの液晶セルを、セル基板の法線方向から見て得られる
屈折率楕円体の模式図である。

【図５】正の一軸性の液晶セルの屈折率楕円と負の一軸
性の光学補償シートの屈折率楕円を示す模式図である。

【図６】ＶＡモードの液晶セルと二枚の光学補償シート
との組み合わせを示す断面模式図である。

【図７】ＶＡモードの液晶セルと一枚の光学補償シート
との組み合わせを示す断面模式図である。

【図８】ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの
断面模式図である。

【図９】代表的なＶＡ型液晶表示装置の断面模式図であ
る。

【図１０】ＯＣＢモードの液晶セル内の液晶性化合物の
配向を模式的に示す断面図である。

【図１１】ＨＡＮモードの液晶セル内の液晶性化合物の
配向を模式的に示す断面図である。

【図１２】ＯＣＢモードの液晶セルと二枚の光学補償シ
ートの光学的異方性層との組み合わせを示す断面模式図
である。

【図１３】ＨＡＮモードの液晶セルと一枚の光学補償シ
ートの光学的異方性層との組み合わせを示す断面模式図
である。

【図１４】代表的なＯＣＢ型液晶表示装置の断面模式図
である。

【図１５】代表的なＨＡＮ型液晶表示装置の断面模式図
である。

【符号の説明】

１ 表面処理膜 ２ａ、２ｂ 偏光素子の保護膜 ３ａ、３ｂ 偏光膜 ４ａ、４ｂ 光学補償シート ５ａ、５ｂ 液晶セルの樹脂基板 ６ａ、６ｂ 透明電極層 ７ 液晶層 １１、２１ 液晶セルの上基板 １２、２２ 液晶性化合物 １３、２３ 液晶セルの下基板 １４、２４ 基板の法線方向 １５、２５、２６ 基板の法線から傾けた方向 １６ａ、１６ｂ 光の進む方向 ２７ 入射光 ２８ 出射光 ３１ａ、３１ｂ 入射側の偏光素子の透過軸 ３２ａ、３２ｂ 出射側の偏光素子の透過軸 ３３ａ 電圧無印加時のＶＡモードの液晶セルの屈折率
楕円 ３３ｂ 電圧印加時のＶＡモードの液晶セルの屈折率楕
円 ３４ ＶＡモードの液晶セル内の液晶分子の光軸の液晶
セル基板面への正射影 ４１ 負の一軸性の光学補償シートの屈折率楕円体 ４１ｘ、４１ｙ 光学補償シート内の面内の主屈折率 ４１ｚ 光学補償シートの厚み方向の主屈折率 ４２ 負の一軸性の光学補償シート ４３ 正の一軸性の液晶セル ４４ 正の一軸性の液晶セルの屈折率楕円体 ４４ｘ、４４ｙ 液晶セル基板に平行な面内の屈折率 ４４ｚ 液晶セルの厚み方向の屈折率 ５０、６０ 液晶セル ５１、６１、７３ 光学的異方性層 ５２、６２、７１ 支持体 ５３、５４、６３、ＯＣ１、ＯＣ２、ＯＣ 光学補償シ
ート ７２ 配向膜 ７３ａ、７３ｂ、７３ｃ ディスコティック液晶性分子 Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃ ディスコティック液晶性分子の円盤
面 ７１ａ、７１ｂ、７１ｃ 支持体の面に平行な面 θａ、θｂ、θｃ 傾斜角 ７４ 支持体の法線 ７５、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ 光学補償シートの配向膜のラビ
ング方向 ＶＡＣ ＶＡモードの液晶セル ＯＣＢＣ ＯＣＢモードの液晶セル ＨＡＮＣ ＨＡＮモードの液晶セル Ａ、Ｂ 偏光素子 ＢＬ バックライト ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ 液晶セルの配向膜のラビング方
向 ＰＡ 偏光素子Ａの偏光の透過軸 ＰＢ 偏光素子Ｂの偏光の透過軸 ＲＢ 反射板

フロントページの続き (72)発明者 矢吹 嘉治 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA42 BB03 BB49 BC04 BC05 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FB02 FB12 HA09 HA18 KA02 4F071 AA09 AC02 AC06 AC07 AC10 AC12 AC19 AF31 AF35 AH12 BC01 4J002 AB011 AB021 EA046 EA066 EE036 EH126 EH146 EJ066 EL096 EL106 EL136 EP016 ET006 EU046 EU076 EU136 EU176 EU186 EU236 EV306 EV316 FD206 GP00

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族環を少なくとも二つ有し、二つの
   芳香族環の立体配座を立体障害しない分子構造を有する
   化合物からなるセルロースの低級脂肪酸エステルフイル
   ム用レターデーション上昇剤。
2. 【請求項２】 セルロースの低級脂肪酸エステル１００
   重量部に対して、芳香族環を少なくとも二つ有し、二つ
   の芳香族環の立体配座を立体障害しない分子構造を有す
   る化合物を０．３乃至２０重量部含み、波長５５０ｎｍ
   における厚み方向のレターデーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ）が
   ７０乃至４００ｎｍであるセルロースの低級脂肪酸エス
   テルフイルムからなる光学補償シート。
3. 【請求項３】 セルロースの低級脂肪酸エステル１００
   重量部に対して、芳香族環を少なくとも二つ有し、二つ
   の芳香族環の立体配座を立体障害しない分子構造を有す
   る化合物を０．３乃至２０重量部含み、波長５５０ｎｍ
   における厚み方向のレターデーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ）が
   ７０乃至４００ｎｍであるセルロースの低級脂肪酸エス
   テルフイルムの上にディスコティック液晶性分子を含む
   光学的異方性層が設けられている光学補償シート。
4. 【請求項４】 セルロースの低級脂肪酸エステルがセル
   ロースアセテートである請求項２または３に記載の光学
   補償シート。
5. 【請求項５】 セルロースの低級脂肪酸エステルフイル
   ムが、４０乃至１２０μｍの厚さを有する請求項２また
   は３に記載の光学補償シート。
6. 【請求項６】 二枚の電極基板の間に液晶を担持してな
   る液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、お
   よび該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の
   光学補償シートを配置した液晶表示装置であって、光学
   補償シートがセルロースの低級脂肪酸エステル１００重
   量部に対して、芳香族環を少なくとも二つ有し、二つの
   芳香族環の立体配座を立体障害しない分子構造を有する
   化合物を０．３乃至２０重量部含み、波長５５０ｎｍに
   おける厚み方向のレターデーション値（Ｒth⁵⁵⁰ ）が７
   ０乃至４００ｎｍであるセルロースの低級脂肪酸エステ
   ルフイルムからなることを特徴とする液晶表示装置。
7. 【請求項７】 セルロースの低級脂肪酸エステルフイル
   ムの液晶セル側に、ディスコティック液晶性分子を含む
   光学的異方性層が設けられている請求項６に記載の液晶
   表示装置。
8. 【請求項８】 液晶セルが、ＶＡモード、ＯＣＢモード
   またはＨＡＮモードの液晶セルである請求項６に記載の
   液晶表示装置。