EP0770710A1 - Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickelniederschlägen - Google Patents
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- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
Definitions
- the invention relates to a method for the galvanic deposition of glare-free nickel deposits on a metallic surface.
- nickel deposits also includes nickel alloy deposits.
- metallic surface also includes metallized surfaces of non-metallic objects.
- a concentration of the adducts in the range from 5 to 100 mg / l is used.
- the deposition is operated so that the electrolyte has a temperature in the range of 40 to 75 ° C.
- the adducts are selected so that the adducts form a finely dispersed emulsion in the working electrolyte, which manifests itself as turbidity.
- the droplets of the emulsion are considered to be the reason for the formation of a glare-free surface. Glare-free is in need of improvement.
- the substances added for the purpose of producing the satin-like, shiny nickel deposits as part of the known measures are nonionic surfactants. These fail at a higher electrolyte temperature. They form an organic foreign substance in the electrolyte, in the form of an emulsion.
- organic foreign substances are generated in the electrolyte by reacting at least one cation-active or amphoteric substance with organic anions of at least one compound.
- anion-providing substances include alkyl or aryl sulfates, sulfonic acids and sulfinic acids such as sulfonamides and sulfonimides.
- the electrolyte should additionally contain known primary and / or secondary gloss agents.
- these organic foreign substances result in a decorative glare control in the form of a matt effect. After this period, however, the foreign substances must be filtered out due to agglomeration phenomena. It is expensive. In addition, the organic foreign substances have to be formed again for the next working cycle, which is also complex.
- the invention is based on the technical problem of leading the method of the construction described above and the intended use described at the outset in such a way that a significantly improved defined glare-free quality is reproducibly achieved.
- the usual basic gloss agents used are "sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, naphthalene trisulfonic acid, alkanesulfonic acids or also sulfonamides or sulfonimides or the corresponding alkali salts" or mixtures thereof, in an amount of 0.5 to 10 g / l.
- a substance from the group "the unsaturated aliphatic sulfonic acids or their alkali metal salts" or mixtures thereof are used for the purpose of producing the glare-free nickel deposits.
- the concentration of the adducts added is expediently chosen in the range from 0.5 to 10 g / l.
- the electrolyte is preferably operated in a temperature range of 50 to 65 ° C during the electrolytic deposition. Wetting agents and organic sulfinic acids or their alkali salts can also be added to the electrolyte.
- the invention is based on the knowledge that even without the formation of a visible, cloudy emulsion and corresponding organic foreign bodies in the electrolyte, high-quality glare control is achieved if the teaching of the invention is followed.
- the nickel layer applied according to the invention has a completely different structure than that produced by the known method described at the outset. This is explained below in connection with exemplary embodiments. It remains to be seen whether drop-shaped precipitates still occur according to the invention.
- droplet-like precipitates are precipitates which are stabilized as droplets mainly via the surface tension. In any case, the effects that are necessary for the high-quality reproducible glare-free effect occur - and surprisingly, disruptive conglomerates that disturb the glare-free effect and have to be filtered off are not observed.
- the current densities can largely be adapted to the operating conditions. It has proven useful to operate the electrolyte with a current density of 0.1 to 10 A / dm 2 .
- the electrolyte is preferably operated with a current density of approximately 4 A / dm 2 .
- the treatment time for the nickel deposition is largely arbitrary and can be adapted to the operating conditions, in particular also the layer thickness. Within the scope of the invention, the treatment time for the nickel deposition is preferably from 1 to 120 minutes, preferably about 10 min. is.
- the electrolyte can always be operated without secondary circulation. Secondary circuit free means that a secondary circuit with filter devices or cooling devices is not required.
- Figure 1 shows a precipitate in the form of a droplet structure, which can be assigned a droplet diameter of 1 to 7 ⁇ m.
- Precipitation can be seen in the form of a drop structure, to which a droplet diameter of 5 to 20 ⁇ m can be assigned.
- Example 2 The lack of glare of the coating according to Example 1 is significantly improved compared to the embodiment according to Example 2.
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Abstract
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickelniederschlägen auf einer metallischen Oberfläche. Der Begriff Nickelniederschläge umfaßt auch Nickellegierungsniederschläge. Der Begriff metallische Oberfläche umfaßt auch metallisierte Oberflächen von nichtmetallischen Gegenständen.
- Bei dem bekannten Verfahren, von dem die Erfindung ausgeht (DE 16 21 085 A1), wird mit einem Watts'schen Elektrolyten gearbeitet, dem ein übliches Grundglanzmittel beigegeben wird. Zum Begriff Watts'scher Elektrolyt wird verwiesen auf LPW "Taschenbuch für Galvanotechnik", Band 1, Verfahrenstechnik, 13. Ausgabe 1988, (S. 173 bis 177). Im Rahmen der bekannten Maßnahmen, von denen die Erfindung ausgeht, werden zum Zwecke der Erzeugung der blendfreien Nickelniederschläge substituierte und/oder unsubstituierte Äthylenoxid-Addukte oder Propylenoxid-Addukte oder Äthylenoxid-Propylenoxid-Addukte verwendet und dem Elektrolyten beigegeben. Dabei wird mit einer Konzentration der Addukte im Bereich von 5 bis 100 mg/l gearbeitet. Die Abscheidung wird so betrieben, daß der Elektrolyt eine Temperatur im Bereich von 40 bis 75° C aufweist. Die Addukte werden so ausgewählt, daß die Addukte im arbeitenden Elektrolyten eine feindisperse Emulsion bilden, die sich als Trübung äußert. Die Tröpfchen der Emulsion werden als Grund dafür angesehen, daß sich eine blendreie Oberfläche bildet. Die Blendfreiheit ist jedoch verbesserungsbedürftig. Zwar wird der Ausdruck blendfrei zur Kennzeichnung der Oberfläche der Nickelabscheidung im Rahmen der bekannten Maßnahmen benutzt, der erreichte Effekt ist jedoch eher ein satinartiger Glanz und dieser Ausdruck wird für die im Rahmen der bekannten Maßnahmen erreichbaren Effekte in der Praxis auch verwendet (vgl. DE 16 21 085). Die Blendfreiheit ist also verbesserungsbedürftig. Im einzelnen ist zu den bekannten Maßnahmen folgendes zu bemerken: Die zum Zwecke der Erzeugung der satinartig glänzenden Nickelniederschläge im Rahmen der bekannten Maßnahmen beigegebenen Substanzen sind nichtionogene Tenside. Diese fallen bei höherer Elektrolyttemperatur aus. Sie bilden einen organischen Fremdstoff im Elektrolyten, und zwar in Form einer Emulsion. Es versteht sich, daß natürlich nicht jedes beliebige nichtionogene Tensid Verwendung finden kann, da der Trübungspunkt, das heißt, die Elektrolyttemperatur, bei der das Tensid ausfällt, von der chemischen Struktur und der Konzentration der Substanzen im Elektrolyten abhängt. Zusätzlich geht ebenfalls die Salzfracht des Elektrolyten in die Höhe des Trübungspunktes ein. Trotz des mehr oder weniger fein verteilten Zustandes der Emulsionstropfen ist die Gefahr der Zusammenballung zu unpassend großen Konglomeraten aus Emulsionstropfen die die satinglanzartige Abscheidung stören, so groß, daß besondere Maßnahmen zwingend erforderlich sind, um das Verfahren dauerhaft in der Praxis einsetzen zu können. Es ist erforderlich, den Elektrolyten in einem entsprechend dimensionierten Nebenkreislauf abzukühlen, damit der Trübungspunkt des nichtionogenen Tensides deutlich unterschritten wird und dieses sich im Elektrolyten löst. Anschließend wird der Elektrolyt wieder auf die erforderliche Arbeitstemperatur aufgeheizt. Der Betrieb und die Steuerung der bekannten Maßnahmen müssen sehr vorsichtig erfolgen, wenn anders sich auch schwarze Poren bilden können. Insoweit sind die Blendfreiheit und die Reproduzierbarkeit nicht ausreichend und nicht störungsfrei gesichert.
- Um die beschriebenen Mängel zu vermeiden, ist es bekannt (DE 23 27 881 C2), mit besonderen Fremdsubstanzen zu arbeiten. Im Rahmen der insoweit bekannten Maßnahmen werden organische Fremdsubstanzen im Elektrolyten durch Reaktion zumindest einer kationenaktiven bzw. amphoteren Substanz mit organischen Anionen wenigstens einer Verbindung erzeugt. Diese Anionen liefernden Substanzen sind unter anderem Alkyl- oder Arylsulfate, -sulfonsäuren sowie -sulfinsäuren wie Sulfonamide und Sulfonimide. Für den entblendeten, aber glänzenden Charakter soll der Elektrolyt zusätzlich bekannte primäre und/oder sekundäre Glanzmittel enthalten. Diese organischen Fremdstoffe ergeben für gewisse Produktionszeitspannen eine dekorativ brauchbare Entblendung in Form eines Matteffektes. Nach dieser Zeitspanne müssen die Fremdsubstanzen jedoch infolge von Agglomerationserscheinungen abgefiltert werden. Das ist aufwendig. Hinzu kommt, daß für den nächsten Arbeitszyklus die organischen Fremdsubstanzen jeweils erneut gebildet werden müssen, was ebenfalls aufwendig ist.
- Der Erfindung liegt das technische Problem zugrunde, das Verfahren des eingangs beschriebenen Aufbaus und der eingangs beschriebenen Zweckbestimmung so zu führen, daß reproduzierbar eine wesentlich verbesserte definierte Blendfreiheit erreicht wird.
- Zur Lösung dieses technischen Problems ist Gegenstand der Erfindung ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickelniederschlägen auf einer metallischen Oberfläche mit den Merkmalen:
- 1.1) es wird mit einem Elektrolyten der Gruppe "Watts'scher Elektrolyt, Elektrolyte auf Basis von Sulfamat, Sulfonat, Fluoroborat" oder Mischungen davon gearbeitet, dem ein übliches Grundglanzmittel beigegeben worden ist,
- 1.2) es werden zum Zwecke der Erzeugung der blendfreien Nickelniederschläge substituierte und/oder unsubstituierte Äthylenoxid-Addukte oder Propylenoxid-Addukte oder Äthylenoxid-Propylenoxid-Addukte verwendet und dem Elektrolyten beigegeben,
- 1.3) die Konzentration der gemäß 1.2) beigegebenen Addukte wird in einen Bereich von größer Null bis kleiner 5 mg/l gewählt,
- 1.4) bei der galvanischen Abscheidung wird der Elektrolyt in einem Temperaturbereich von 40 bis 75° C betrieben,
- Im allgemeinen wird man mit einem Elektrolyten arbeiten, der eine Richtanalyse mit 70 bis 140 g/l Nickel, 1 bis 20 g/l Chlorid, 30 bis 50 g/1 H3BO3 und im Rest das Grundglanzmittel sowie die Addukte und außerdem Wasser aufweist. Nach bevorzugter Ausführungsform der Erfindung werden als übliche Grundglanzmittel "Sulfonsäuren wie Benzolsulfonsäure, Naphthalintrisulfonsäure, Alkansulfonsäuren oder auch Sulfonamide oder Sulfonimide bzw. die entsprechenden Alkalisalze" oder Mischungen davon verwendet, und zwar in einer Menge von 0,5 bis 10 g/l. Zum Zwecke der Erzeugung der blendfreien Nickelniederschläge werden nach bevorzugter Ausführungsform der Erfindung eine Substanz der Gruppe "der ungesättigten aliphatischen Sulfonsäuren bzw. deren Alkalisalze" oder Mischungen davon verwendet. Die Konzentration der beigegebenen Addukte wird zweckmäßigerweise im Bereich von 0,5 bis 10 g/l gewählt. - Vorzugsweise wird bei der elektrolytischen Abscheidung der Elektrolyt in einem Temperaturbereich von 50 bis 65° C betrieben. Dem Elektrolyten können weiterhin Netzmittel sowie organische Sulfinsäuren bzw. deren Alkalisalze zugesetzt werden.
- Die Erfindung geht von der Erkenntnis aus, daß auch ohne Bildung einer sichtbaren, trüben Emulsion und entsprechender organischer Fremdkörper in dem Elektrolyten eine qualitativ hochwertige Entblendung erreicht wird, wenn nach der Lehre der Erfindung verfahren wird. Die erfindungsgemäß aufgebrachte Nickelschicht hat eine ganz andere Struktur als die nach dem eingangs beschriebenen bekannten Verfahren erzeugte. Das wird weiter unten im Zusammenhang mit Ausführungsbeispielen erläutert. Es kann dahingestellt bleiben, ob erfindungsgemäß überhaupt noch tropfenförmige Ausfällungen auftreten. Tropfenförmige Ausfällungen sind im Rahmen der Erfindung Ausfällungen, die hauptsächlich über die Oberflächenspannung als Tropfen stabilisiert sind. Jedenfalls treten die Effekte ein, die für die qualitativ hochwertige reproduzierbare Blendfreiheit erforderlich sind - und überraschenderweise werden störende Konglomerate, die die Blendfreiheit stören und abgefiltert werden müssen, nicht beobachtet.
- Im Rahmen der Erfindung können die Stromdichten weitgehend den betrieblichen Verhältnissen angepaßt werden. Bewährt hat es sich, den Elektrolyten mit einer Stromdichte von 0,1 bis 10 A/dm2 zu betreiben. Vorzugsweise wird der Elektrolyt mit einer Stromdichte von etwa 4 A/dm2 betrieben. Auch die Behandlungszeit für die Nickelabscheidung ist weitgehend beliebig und betrieblichen Verhältnissen anpaßbar, insbesondere auch der Schichtdicke. Vorzugsweise wird im Rahmen der Erfindung mit einer Behandlungszeit für die Nickelabscheidung gearbeitet, die 1 bis 120 min., vorzugsweise etwa 10 min. beträgt. Der Elektrolyt kann stets nebenkreislauffrei betrieben werden. Nebenkreislauffrei bedeutet, daß ein Nebenkreislauf mit Filtereinrichtungen oder Kühleinrichtungen nicht erforderlich ist.
- Zur Abscheidung eines blendfreien Nickelniederschlages wurde einem Elektrolyten mit
- 550 g/l NiSo4 x 7 H2O,
- 50 g/l NiCl2 x 6 H2O,
- 40 g/l H3BO3,
- In Bild 1 erkennt man einen Niederschlag in Form einer Tropfenstruktur, der ein Tröpfendurchmesser von 1 bis 7 µm zugeordnet werden kann.
- Zur Abscheidung eines blendfreien Nickelniederschlages wurde einem Elektrolyten mit
- 265 g/l NiSO4 x 7 H2O,
- 53 g/l NiCl2 x 6 H2O,
- 33 g/l H3BO3 ,
- Man erkennt einen Niederschlag in Form einer Tropfenstruktur, der ein Tröpfchendurchmesser von 5 bis 20 µm zugeordnet werden kann.
- Die Blendfreiheit der Beschichtung nach Beispiel 1 ist gegenüber der Ausführungsform nach Beispiels 2 deutlich verbessert.
Claims (10)
- Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickelniederschlägen auf einer metallischen Oberfläche mit den Merkmalen:1.1) es wird mit einem Elektrolyten der Gruppe "Watts'scher Elektrolyt, Elektrolyte auf Basis von Sulfamat, Sulfonat, Fluoroborat" oder Mischungen davon gearbeitet, dem ein übliches Grundglanzmittel beigegeben worden ist,1.2) es werden zum Zwecke der Erzeugung der blendfreien Nickelniederschläge substituierte und/oder unsubstituierte Äthylenoxid-Addukte oder Propylenoxid-Addukte oder Äthylenoxid-Propylenoxid-Addukte verwendet und dem Elektrolyten beigegeben,1.3) die Konzentration der gemäß 1.2) beigegebenen Addukte wird in einen Bereich von größer Null bis 5 mg/l gewählt,1.4) bei der galvanischen Abscheidung wird der Elektrolyt in einem Temperaturbereich von 40 bis 75° C betrieben,mit der Maßgabe, daß die Konzentration gemäß 1.3) und die Temperatur gemäß 1.4) so gewählt werden, daß der arbeitende Elektrolyt bei Augeninspektion klar erscheint und bei Lichtdurchfall eine diffuse Streuung praktisch nicht zeigt.
- Verfahren nach Anspruch 1, wobei mit einem Watts'schen Elektrolyten gearbeitet wird, der eine Richtanalyse mit70 bis 140 g/l Nickel,1 bis 20 g/l Chlorid,30 bis 50 g/l H3BO3und im Rest das Grundglanzmittel und die Addukte sowie Wasser aufweist.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei als Grundglanzmittel eine Substanz der Gruppe "2-Sulfobenzoesäureimid, 1,3-Benzoldisolfonsäure und Naphthalintrisulfonsäure bzw. deren Alkalisalze" oder Mischungen davon bzw. "Arylsulfonsäuren, Alkylsulfonsäuren, Sulfonamide und Sulfonimide bzw. deren Alkalisalze" oder Mischungen davon verwendet werden, und zwar in einer Menge von 0,5 bis 10 g/l.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei als Grundglanzmittel eine Substanz der Gruppe "ungesättigte aliphatische Sulfonsäuren bzw. deren Alkalisalze" oder Mischungen davon verwendet werden.
- Verfahren nach Anspruch 4, wobei die Konzentration des Grundglanzmittels in einem Bereich von 0,5 bis 10 g/l gewählt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei bei der galvanischen Abscheidung der Elektrolyt in einem Temperaturbereich von 50 bis 65° C betrieben wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei der Elektrolyt mit einer Stromdichte von 0,1 bis 10 A/dm2 betrieben wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der Elektrolyt mit einer Stromdichte von etwa 4 A/dm2 betrieben wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei mit einer Behandlungszeit für die Nickelabscheidung gearbeitet wird, die 1 bis 120 min., vorzugsweise etwa 10 min., beträgt.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei der Elektrolyt nebenkreislauffrei betrieben wird.
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Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU773971B2 (en) * | 1999-03-19 | 2004-06-10 | Specialty Chemical Systems, Inc. | Electroplating baths |
US6251253B1 (en) * | 1999-03-19 | 2001-06-26 | Technic, Inc. | Metal alloy sulfate electroplating baths |
US6248228B1 (en) * | 1999-03-19 | 2001-06-19 | Technic, Inc. And Specialty Chemical System, Inc. | Metal alloy halide electroplating baths |
US6797141B1 (en) * | 1999-11-25 | 2004-09-28 | Enthone Inc. | Removal of coagulates from a non-glare electroplating bath |
US6306275B1 (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-23 | Lacks Enterprises, Inc. | Method for controlling organic micelle size in nickel-plating solution |
DE10025552C1 (de) * | 2000-05-19 | 2001-08-02 | Atotech Deutschland Gmbh | Saures galvanisches Nickelbad und Verfahren zum Abscheiden eines satinglänzenden Nickel- oder Nickellegierungsüberzuges |
DE10222962A1 (de) * | 2002-05-23 | 2003-12-11 | Atotech Deutschland Gmbh | Saurer galvanischer Badelektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung satinglänzender Nickelniederschläge |
PL1969160T3 (pl) * | 2006-01-06 | 2011-09-30 | Enthone Incorporated | Elektrolit i sposób osadzania matowej warstwy metalu |
EP2620529B1 (de) * | 2012-01-25 | 2014-04-30 | Atotech Deutschland GmbH | Verfahren zur Herstellung von matten Kupferablagerungen |
JP6760166B2 (ja) | 2017-03-23 | 2020-09-23 | トヨタ自動車株式会社 | ニッケル皮膜の形成方法及び当該方法に使用するためのニッケル溶液 |
US11505867B1 (en) | 2021-06-14 | 2022-11-22 | Consolidated Nuclear Security, LLC | Methods and systems for electroless plating a first metal onto a second metal in a molten salt bath, and surface pretreatments therefore |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3839166A (en) * | 1967-05-16 | 1974-10-01 | Henkel & Cie Gmbh | Method for obtaining nickel deposits with satin finish |
US3839165A (en) * | 1967-08-26 | 1974-10-01 | Henkel & Cie Gmbh | Nickel electroplating method |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2238861A (en) * | 1938-07-06 | 1941-04-15 | Harshaw Chem Corp | Electrodeposition of metals |
DE1134258B (de) * | 1959-05-06 | 1962-08-02 | Dehydag Gmbh | Saures galvanisches Nickelbad |
DE1621085C3 (de) * | 1967-05-16 | 1980-02-14 | Henkel Kgaa, 4000 Duesseldorf | Saures galvanisches Bad zur Abscheidung satinglanzender Nickelniederschlage |
BE794695A (fr) * | 1972-01-29 | 1973-05-16 | W Kampschulte & Cie K G Dr | Bain galvanique de nickel pour la separation de revetements de nickel satines mats |
DE2327881B2 (de) * | 1973-06-01 | 1978-06-22 | Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss | Verfahren zur galvanischen Abscheidung mattglänzender Nickel- bzw. Nickel/Kobalt-Niederschläge |
JPS56152988A (en) * | 1980-04-30 | 1981-11-26 | Nobuyuki Koura | Nickel satin finish plating bath of heavy ruggedness |
JPS61238993A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 電気メツキ浴用添加剤 |
JPS62205041A (ja) * | 1986-03-05 | 1987-09-09 | Nisso Yuka Kogyo Kk | 1,4−ブチンジオ−ルのヒドロキシアルキルエ−テル化物の製造方法およびこれを用いたニツケルメツキ処理液 |
-
1995
- 1995-10-27 DE DE19540011A patent/DE19540011C2/de not_active Expired - Lifetime
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1996
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- 1996-10-17 EP EP96116639A patent/EP0770710B2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-25 US US08/736,906 patent/US5897763A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-25 JP JP8284052A patent/JPH09202987A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3839166A (en) * | 1967-05-16 | 1974-10-01 | Henkel & Cie Gmbh | Method for obtaining nickel deposits with satin finish |
US3839165A (en) * | 1967-08-26 | 1974-10-01 | Henkel & Cie Gmbh | Nickel electroplating method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09202987A (ja) | 1997-08-05 |
ATE175453T1 (de) | 1999-01-15 |
EP0770710B2 (de) | 2002-08-14 |
EP0770710B1 (de) | 1999-01-07 |
ES2128135T3 (es) | 1999-05-01 |
DE19540011A1 (de) | 1997-04-30 |
DE59601103D1 (de) | 1999-02-18 |
US5897763A (en) | 1999-04-27 |
ES2128135T5 (es) | 2003-03-01 |
DE19540011C2 (de) | 1998-09-10 |
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