DE2541304A1 - Verfahren und bad zur galvanischen abscheidung von eisenlegierungen - Google Patents
Verfahren und bad zur galvanischen abscheidung von eisenlegierungenInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 79
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 53
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 32
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-araboascorbic acid Natural products OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 claims description 31
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 claims description 31
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 claims description 31
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000004318 erythorbic acid Substances 0.000 claims description 18
- -1 iron (II) compound Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 14
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-M benzenesulfinate Chemical compound [O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 9
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 8
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 claims description 8
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 8
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 230000001153 anti-wrinkle effect Effects 0.000 claims description 7
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 claims description 7
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 6
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- SQZYOZWYVFYNFV-UHFFFAOYSA-L iron(2+);disulfamate Chemical compound [Fe+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O SQZYOZWYVFYNFV-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 5
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 4
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 claims description 3
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PMVSDNDAUGGCCE-TYYBGVCCSA-L Ferrous fumarate Chemical compound [Fe+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O PMVSDNDAUGGCCE-TYYBGVCCSA-L 0.000 claims description 2
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims 6
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 4
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 4
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 claims 4
- IXAWTPMDMPUGLV-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxyethoxy)but-2-ynoxy]ethanol Chemical compound OCCOCC#CCOCCO IXAWTPMDMPUGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WLQXLCXXAPYDIU-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);disulfamate Chemical compound [Co+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O WLQXLCXXAPYDIU-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-M 1,1-dioxo-1,2-benzothiazol-3-olate Chemical compound C1=CC=C2C([O-])=NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 241000159606 Netrium Species 0.000 claims 1
- 239000004141 Sodium laurylsulphate Substances 0.000 claims 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 77
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical class OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- NVSONFIVLCXXDH-UHFFFAOYSA-N benzylsulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)CC1=CC=CC=C1 NVSONFIVLCXXDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 5
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUYOCWSMHOBBLE-UHFFFAOYSA-J S(=O)(=O)([O-])[O-].[Co+2].[Co](Cl)Cl Chemical compound S(=O)(=O)([O-])[O-].[Co+2].[Co](Cl)Cl TUYOCWSMHOBBLE-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- DOUHZFSGSXMPIE-UHFFFAOYSA-N hydroxidooxidosulfur(.) Chemical compound [O]SO DOUHZFSGSXMPIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001529858 Charina Species 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003853 Pinholing Methods 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CULWTPQTPMEUMN-UHFFFAOYSA-J [Ni](Cl)Cl.S(=O)(=O)([O-])[O-].[Ni+2] Chemical compound [Ni](Cl)Cl.S(=O)(=O)([O-])[O-].[Ni+2] CULWTPQTPMEUMN-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- GHXRKGHKMRZBJH-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O.OB(O)O GHXRKGHKMRZBJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- NVIVJPRCKQTWLY-UHFFFAOYSA-N cobalt nickel Chemical compound [Co][Ni][Co] NVIVJPRCKQTWLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEKPFOXEZRZPGW-UHFFFAOYSA-N copper;dicyanide Chemical compound [Cu+2].N#[C-].N#[C-] LEKPFOXEZRZPGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- FXPVUWKFNGVHIZ-UHFFFAOYSA-L disodium;dodecyl sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O.CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O FXPVUWKFNGVHIZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 1
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- OVQABVAKPIYHIG-UHFFFAOYSA-N n-(benzenesulfonyl)benzenesulfonamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 OVQABVAKPIYHIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICYDASAGOZFWIC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfinic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)O)=CC=CC2=C1 ICYDASAGOZFWIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- UNYWISZSMFIKJI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)CC=C UNYWISZSMFIKJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N safranin O Chemical compound [Cl-].C12=CC(N)=CC=C2N=C2C=CC(N)=CC2=[N+]1C1=CC=CC=C1 SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHDJGPCESA-M sodium;(e)-2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHDJGPCESA-M 0.000 description 1
- DGSDBJMBHCQYGN-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexyl sulfate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COS([O-])(=O)=O DGSDBJMBHCQYGN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfinate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-yne-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC#C LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K trisodium;hydroxy-[[phosphonatomethyl(phosphonomethyl)amino]methyl]phosphinate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].OP(O)(=O)CN(CP(O)([O-])=O)CP([O-])([O-])=O SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
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Description
"Verfahren und Bad zur galvanischen Abscheidung von Eisenlegierungen^
Priorität: 16. September 1974, V.St.A. Nr. 506 288
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Zusammensetzung
für die galvanische Abscheidung von halbglänzenden oder glänzenden Legierungen von Eisen mit Nickel
oder mit Kobalt oder mit Nickel und Kobalt. Die Erfindung bezieht sich insbesondere auf die Verwendung einer neuen
Zusatzkombination zur Verbesserung der Abscheidung von
Legierungen, die neben Eisen Nickel und/oder Kobalt enthalten.
Wegen der viel geringeren Kosten von Eisen und Eisensslzen
im Verhältnis zu Nickel und Kobalt bzw. deren Salze ist es
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sehr erwünscht, Legierungen von Nickel oder Kobalt oder Nickel und Kobalt mit Eisen, die beträchtliche Mengen
Eisen enthalten, abzuscheiden, um dadurch die Kosten an Metall und Salz zu verringern.
Die Erfindung betrifft nunmehr ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung einer Eisenlegierung, die zusätzlich zu
Eisen Nickel und/oder Kobalt enthält, welches dadurch ausgeführt wird, dass man einen Strom von einer Anode zu einer
Kathode durch ein wässriges galvanisches Bad hindurchführt,
das mindestens eine Eisenverbindung und mindestens eine Nickel- und/oder Kobaltverbindung enthält, um Nickel-,
Kobalt- und Eisenionen für die galvanische Abscheidung von Legierungen aus Nickel oder Kobalt oder Nickel und Kobalt
mit Eisen zu schaffen. Diese Bäder enthalten eine wirksame Menge mindestens einer Verbindung aus der folgenden
Gruppe:
(a) primärer Glänzer;
(b) sekundärer Glänzer;
(c) sekundärer Hilfsglänzer; und
(d) Antilunkermittel;
eine organische aromatische Sulfinatverbxndung der Formel
RSO
M k
worin M für ein Kation mit einer Wertigkeit von 1 bis 2 steht; k für eine ganze Zahl von 1 bis 2 entsprechend der Wertigkeit
von M steht; und R für Aryl oder Aralkyl steht; und eine komplexierende Hydroxyverbindung, die ausgewählt ist
aus Ascorbinsäure, Erythorbinsäure und Isoascorbinsäure;
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wobei der Strom eine ausreichende Zeit hindurchgeführt
wird, dass eine gesunde metallische Abscheidung auf der Kathodenoberfläche erhalten wird.
Die bevorzugten Arylsulfinate der vorliegenden Erfindung
sind Benzolsulfinat und Toluolsulfinat. Andere brauchbare
Arylsulfinate sind Xylolsulfinate und Naphthalinsulfinate.
Erythorbinsäure (Ascorbinsäure und Isoascorbinsäure) und das aromatische Sulfinat wirken synergistisch bei der Verringerung
und Kontrolle der Bildung von Ionen, weshalb die Herstellung von glänzenden, gut eingeebneten Abscheidungen
innerhalb eines höheren pH-Bereichs ermöglicht wird. Es ist erwünscht, ein Eisenlegierungsbad bei einem höheren
pH-Wert zu betreiben, um den Angriff des galvanischen Bads auf die Eisenanode während Stillstandszeiten zu verringern
und dadurch eine stabilere Badzusammensetzung zu erhalten.
Ascorbinsäure besitzt die Formel
' H
ι 1 ι
CC=C C - C - CH2 OH
BI! Il
0 0 OH H OH
H
H
Erythorbinsäure und Isoascorbinsäure sind optische Isomere von Ascorbinsäure.
Gemäss der Erfindung wurde festgestellt, dass Erythorbinsäure
und aromatische Sulfinate, wie z.B. Benzolsulfinat,
und/oder Toluolsulfinat, zusammenwirken, so dass die Oxidation
und Ausfällung von Eisenionen bei einem pH-Wert von 4,0 bis 5,5 verhindert wird und dass eine glänzende Abscheidung
innerhalb eines weiten Stromdichtbereichs erhal-
6098 1 3/0975
ten wird. Der Betrieb des galvanischen Bads innerhalb dieses pH-Bereichs ergibt eine höhere Geschwindigkeit der
Glanzbildung, einen höheren Glenz, eine grössere Einebnung
und eine bessere Deckkraft als bei einem niedrigeren pH-Bereich.
Ascorbinsäure, Erythorbinsäure und Isoascorbinsäure sind in
den Bädern einzeln oder kombiniert in einer Konzentration von 1 g/'ftL bis 15 g/l vorhanden.
In den Bädern ist mindestens ein aromatisches Sulfinat in einer Konzentration von 0,01 g/l bis 10,0 g/l vorhanden.
Zur Erzielung einer glänzenden, gut eingeebneten Legierungsabscheidung
können primäre Glänzer, wie z.B. diäthoxyliertes 2-Butin-1,4— diol oder dipropoxyliertes 2-Butin-1,4—
diol gemeinsam mit einem Schwefel und Sauerstoff enthaltenden sekundären Glänzer, vorzugsweise Saccharin, einem
sekundären Hilfsglänzer und einem Antilunkermittel verwendet
werden. Wenn ein voller Gl8nz und eine volle Einebnung nicht erforderlich sind, dann kann eine massig
glänzende Abscheidung mit einer ziemlich guten Einebnung erhalten werden, wenn als primärer Glänzer eine heterocyclische
Stickstoffverbindung, wie z.B. N-Allyl-chinolinium-bromid,
in einer Konzentration von ungefähr 5 bis 20 mg/1 gemeinsam mit einem sauerstoff- und schwefelhaltigen
sekundären Glänzer, einem sekundären Hilfsglänzer und einem Antilunkermittel verwendet wird.
Die Substrate, auf welchen die Nickel/Eisen-, Kobalt/Eisenoder
Nickel/Kobalt/Eisen-Abscheidungen gemass der Erfindung hergestellt werden können, können Metalle oder Metalllegierungen
sein, wie sie üblicherweise galvanisch beschichtet werden und wie sie in der Technik der galvanischen
6098 13/0975
Abscheidung von Kickel, Kobalt, Nickel/Kobalt, Kupfer,
Zinn, Messing usw. üb lieb. sind. Andere !Typen 'iron Substratmetallen,
aus denen galvanisch zu beschichtende -Gegenstände hergestellt sind» sind eisenhaltige Metalle, wie z.B.
Stahl; Kupfer; Kupferlegierimgen, wie z.B. Messing, Bronze
usw.; Zink, insbesondere in Form von Zinkdruckgussteilen; wobei diese Gegenstände alle JLb se heidun gen aus anderen
Metallen, wie z.B. Kupfer usw., aufweisen können. Die
Metallsubstrate können die verschiedensten Qberflächenbeschaffenheiten
aufweisen, je nach dem gewünschten Aussehen,
was wiederum von Faktoren wie Glanz, Brillanz, Einebnung, Dicke usw. der auf solchen Substraten abgeschiedenen
Nickel/Eisen-, Kobalt/Eisen- und Nickel/Kobalt/Eisen-Beschichtungen
abhängt.
Der Ausdruck "primärer Glänzer", wie er hier verwendet wird,
bezieht sich auf galvanische Zusatzverbindungen, wie z.B. Reaktionsprodukte von Epoxiden mit acetylenischen Of-Hydroxyalkoholen,
wie z.B. diäthoxyliertes 2-Butin-1,4— diol oder dipropoxyliertes 2-Butin-1,4-diol, andere
acetylenische Verbindungen, N-Heterocyclen, Verbindungen
mit aktivem Schwefel, Farbstoffe usw. Spezielle Beispiele für solche Zusätze sind:
1,4— Di'~(ß-hydroxyäthoxy)-2-butin (oder diäthoxyliertes
2-Butin-1,4~diol)
1,4—Di-(ß-hydroxy-Y-chloropropoxy)-2-butin
1,4-Di-(B ,^epoxypropoxy)-2-butin
1,4-Di-(ß-Hydroxy-Y-butenoxy)-2-butin
1,4—Di-(2' -Hydroxy-4-' -oxa-6 · -heptenoxy)-2-butin
N-1^-Dichloropropenylpyridiniumchlorid 2,4-,6-Trimethyl-N-propargylpyridiniumbromid
N-AlIyIchinaldiniumbromid
N-Allylchinoliniumbromid
2-Butin-1,4-diol
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Propargylalkohol
2-Methy1-5-butin-2-o1
Thiodiproprionitril
,CH2CH2CN
CH2CH2CN
Thioharnstoff
Phenosafranin
Fuchsin.
Phenosafranin
Fuchsin.
V/enn ein primärer Glänzer alleine oder in Kombination verwendet
wird, dann kann er unter Umständen keine sichtbare Wirkungen auf die galvanische Abscheidung ausüben oder
diese halbglänzend oder feinkörnig machen. Die besten Resultate werden jedoch erhalten, wenn primäre Glänzer
gemeinsam mit einem sekundären Glänzer und/oder einem
sekundären Hilfsglänzer verwendet werden, wobei der Glanz,
die Einebnungsgeschwindigkeit, die Einebnung, den Stromdichtebereich
mit glänzender Abscheidung, eine Bedeckung im niedrigen Stromdichtebereich usw. in maximaler Weise erhalten
werden.
Der Ausdruck "sekundärer Glänzer", wie er hier verwendet
wird, bezieht sich auf aromatische Sulfonate, Sulfonamide, Sulfonimide, Sulfinate usw. Spezielle Beispiele für solche
galvanische Zusätze sind;
1. Saccharin
2. Trinatrium-1,3,6-naphthalintrisulfonst
3. Natriumbenzolmonosulfonat
4. Dibenzolsulfonimid
5. Natriumbenzolmonosulfinat.
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Diese Zusätze für galvanische Bäder, die einzeln oder in geeigneten Kombinationen verwendet werden, besitzen ein
oder mehrere der folgenden Funktionen:
1. Sie ergeben halbglänzende Abscheidungen oder eine beträchtliche
Kornverfeinerung gegenüber den matten,
körnigen und nicht-reflektierenden Abscheidungen aus
zusatzfreien Bädern.
2. Sie wirken als Duktilisierungsmittel, wenn sie in Kombination mit anderen Zusätzen, wie z.B. primären Glänzern,
verwendet werden.
3. Sie kontrollieren die inneren Spannungen der Abscheidungen, indem sie die Spannungen drückend machen, was
erwünscht ist.
4-, Sie führen kontrollierte Schwefelgehalte in die Abscheidungen
ein, so dass in erwünschter Weise die chemische Reaktivität und die Potentialdifferenzen
in zusammengesetzten Belagsystem beeinflusst werden,
wodurch die Korrosion herabgesetzt wird und das Grundmetall vor Korrosion besser geschützt wird.
Der Ausdruck "sekundärer Hilfsglänzer", wie er hier verwendet
wird, bezieht sich auf aliphatische oder aromatischaliphatische
olefinisch oder acetylenisch ungesättigte Sulfonate, Sulfonamide oder Sulfonimide usw. Spezielle
Beispiele für solche Zusätze für galvanische Bäder sind:
Λ. Na triuma1IyIs ulf ona t
2. Natrium-J-chloro^-buten-i-sulfonat
3. Natrium-ß-styrolsulfonat
4. Natriumpropargylsulfonat
5. Monoallylsulfonamid (H2N
6. Diallylsulfamid
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O2S
NH-Allyl
NH-Allyl
7. Allylsulfonamid.
Diese Verbindungen, die einzeln (üblich) oder in Kombination verwendet werden, besitzen alle die Funktionen, die oben
für sekundäre Glänzer angegeben wurden. Weiterhin besitzen sie jedoch ein oder mehrere der folgenden Funktionen:
1. Sie können so wirken, dass eine Lunkerbildung verhindert oder verringert wird (vermutlich wirken sie als Wasserstoff
akzeptoren) .
2. Sie können mit ein oder mehreren sekundären Glänzern und ein oder mehreren primären Glänzern zusammenarbeiten, so
dass viel schnellere Glanzbildungsgeschwindigkeiten und ein viel schnellere Einebnung erhalten wird, als es
möglich ist, wenn ein oder zwei der folgenden Verbindungen:
(1) primäre Glänzer;
(2) sekundäre Glänzer; und
O) sekundäre Hilfsglänzer
O) sekundäre Hilfsglänzer
entweder alleine oder in Kombination verwendet werden.
3. Sie können die Kathodenoberfläche durch katalytische Vergiftung
usw. konditionieren, so dass der Verbrauch an kooperierenden Zusätzen (üblicherweise der primäre
Glänzer) beträchtlich verringert wird, was einen wirtschaftlicheren
Betrieb und eine leichtere Kontrolle ermöglichen.
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Unter die sekundären Hilfsglanzer fallen auch Ionen oder
Verbindungen von gewissen Metallen und Metalloiden, wie z.B. Zink, Cadmium, Selen usw., die, obwohl sie im allgemeinen
gegenwärtig nicht verwendet werden, auch zur Vermehrung des Glanzes usw. dienen können.
Der Ausdruck "Antilunkermittel11, wie er hier verwendet
wird, bezieht sich auf ein organisches Material (das sich vom sekundären Hilfsglanzer unterscheidet und zusätzlich
zu diesem vorliegt), welches Oberflächeneigenschaften aufweist
und welches so wirkt, dass die Gaslunkerbildung vermindert
oder verhindert wird. Ein Antilunkermittel kann auch so wirken, dass es die Bäder besser mit Verunreinigungen,
wie z.B. Öl, Fett usw., verträglich macht, da es nämlich eine Emulgierungs-,Dispergierungs- und/oder SoIubilisierungswirkung
auf solche Verunreinigungen aufweisen kann, wodurch die Erzielung gesünderer Abscheidungen möglich wird. Antilunkermittel sind fakultative Zusätze, die
mit ein oder mehreren der Gruppe primärer Glänser, sekundärer Glänzer und sekundärer Hilfsglanzer verwendet werden
können. Von den vier Klassen von organischen oberflächenaktiven
Mitteln, d.h. anionischen, kationischen, nichtionischen oder amphoteren, wird die anionische Klasse als
Antilunkermittel zur Abscheidung von Ni, Co, Pe oder Legierungen daraus bevorzugt. Einzelne Mitglieder der anionischen
Klasse, die hier beispielshaft genennt werden sollen sind:
Natriumlaurylsulfat
Natriumlauryläthersulfet Natrium-di-alkylsulfosuccinet Natrium-2-äthylhexylsulfat.
Natriumlauryläthersulfet Natrium-di-alkylsulfosuccinet Natrium-2-äthylhexylsulfat.
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Typische nickel- und eisenenthaltende, kobalt- und eisenenthaltende
und nickel-, kobalt- und eisenenthaltende Badzusemmensetzungen,
die verwendet werden können, enthalten ungefähr 0,005 bis 0,2 g/l des primären Glänzers, ungefähr
1,0 bis 30 g/l des sekundären Glänzers, ungefähr 0,5 bis
10 g/l des sekundären Hilfsglänzers und ungefähr 0,05 bis
1 g/l des Antilunkermittels. Kombinationen von primären Glänzern und sekundären Glänzern können ebenfalls verwendet
werden, wobei die obigen Mengenangaben für die Kombination gelten.
Typische Badzusammensetzungen, die neben Eisen auch Nickel und/oder Kobelt enthalten und die daneben ungefähr 0,5 bis
5 g/l der Hydroxysulfonatzusatzverbindung und ungefähr
0,005 bis 0,2 g/l des primären Glänzers, ungefähr 1,0 bis 30 g/l des sekundären Glänzers, ungefähr 0,5 bis 10 g/l
des sekundären Hilfsglänzers und ungefähr 0,05 bis 1 g/l
unten des Antilunkermittels enthalten, sind weiter! beschrieben. Borsäure sollte in einer Menge von 15 g/l bis 60 g/l enthalten
sein.
Typische wässrige nickelhaltige galvanische Bäder, die in
Kombination mit wirksamen Mengen kooperierender Zusätze verwendet werden können, sind die folgenden, worin alle
Konzentrationen in g/l ausgedrückt sind, sofern nichts anderes angegeben ist.
Die zur Herstellung der Bäder verwendeten Salze sind so, wie sie üblicherweise für derartige Bäder verwendet werden,
d.h. also Sulfate und/oder Chloride. Zweiwertiges Eisen kann als Eisen(ll)-sulfat oder als Eisen(II)-chlorid oder
als Eisen(II)-sulfamat zugegeben werden. Bevorzugt wird das Sulfat, das in geringen Kosten und in einem hohen Reinheitsgrad
(als FeSO^.7^0) zur Verfügung steht.
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Tabelle 1
Wassrige nicke lhaltige galvanische Bäder
Wassrige nicke lhaltige galvanische Bäder
Nickelsulfat
Nickelchlorid
Eisen(II)-sulfat
Borsäure
Nickelchlorid
Eisen(II)-sulfat
Borsäure
Erythorbinsäure, Ascorbinsäure oder Isoascorbinsäure
Benzolsulfinat oder Toluolsulfinst
pH (elektrometrisch)
200 | 500 | 300 |
30 | 80 | 4-5 |
5 | 80 | 40 |
35 | 55 | 45 |
1 | 15 | |
0,1 | 5 | 0,5 |
3 | 7 | 4 |
Ein typisches Nickelbad der SuIfamattype, welches gemäss der
Erfindung verwendet werden kann, enthält die folgenden Komponenten:
Tabelle | Komponente | 2 | Minimum | Maximum | Bevorzugt |
Nickelsulfamat | 330 | 400 | 375 | ||
Nickelchlorid | 15 | 60 | 45 | ||
Eisen(ll)-sulfamat | 5 | 60 | 40 | ||
Borsäure | 35 | 55 | 45 | ||
Erythorbinsäure, Ascorbin säure oder Isoascorbinsäure |
1 | 15 | 7,5 | ||
Benzolsulfinat oder Toluole sulfinat |
0,1 | 5 | 0,5 | ||
pH (elektrometrisch) | 3 | 7 | 4 | ||
Ein typisches chloridfreies Nickelbad der Sulfattype, welches gemäss der Erfindung verwendet werden kann, enthält die folgenden
Komponenten:
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Tabelle | Komponente | 3 | Maximum | Bevorzugt |
Nickelsulfat | Minimum | 500 | 400 | |
Eisen(ll)-sulf8t | 300 | 60 | 45 | |
Borsäure | 5 | 55 | 45 | |
Erythorbinsäure, Ascorbin säure oder Isoascorbinsäure |
35 | 15 | 7,5 | |
Benzolsulfinat oder Toluol- sulfinat |
1 | 5 | 0,5 | |
pH (elektrometrisch) | 0,1 | 7 | 3-3,5 | |
2,5 | ||||
Ein typisches chloridfreies Nickelbad der Sulfamattype,
welches gemäss der Erfindung verwendet werden kenn, enthält die folgenden Komponenten:
Tabelle | Komponente | 4 | Maximum | Bevorzugt |
Nickelsulfamat | Minimum | 400 | 350 | |
Ei sen(II)-sulfamat | 300 | 60 | 45 | |
Borsäure | 5 | 45 | ||
Erythorbinsäure, Ascorbin säure oder Isoascorbinsäure |
35 | 15 | I^ | |
Benzolsulfinat oder Toluol- sulfinat |
1 | VJI | 0,5 | |
pH (elektrometrisch) | 0,1 | 7 | 3-3,5 | |
3 | ||||
Es ist klar, dass die obigen Bäder die Verbindungen auch ausserhalb der bevorzugten Minimal- und Maximalmengen enthalten
können, aber für ein möglichst zufriedenstellendes wirtschaftliches Arbeiten sollten die Verbindungen in den
Bädern in den angegebenen Mengen vorhanden sein. Ein besonderer Vorteil der chloridfreien Bäder der Tsbelle 3 und
4 besteht darin, dass die erhaltenen Abscheidungen weit-
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gehend frei von Zugspannungen sind und hohe Abscheidungs-
werden
geschwindigkeiten gestatten!, wenn Hoc hie is tungs anöden verwendet
werden.
In der Folge ist ein wässriges Kobalt, Nickel und Eisen enthaltendes galvanisches Bad angegeben, welches in Kombination
mit wirksamen Mengen ein oder mehrerer erfindungsgemässer kooperierender Zusätze verwendet werden kann.
Wässriges, Kobalt, Nickel und Eisen enthaltendes galvanisches
Bad
(Alle Konzentrationen in g/l, sofern nichts anderes angegeben
ist)
Kobalt-Nickel-Legierungsbad | 200 | 400 | 300 |
NiSO,. .7H0O | 15 | 225 | 80 |
CoSO,. .7H0O | 15 | 75 | 60 |
NiCl2.6H2O |
37
5 |
50 60 |
45 45 |
3 3 | 1 | 15 | 7,5 |
Erythorbinsäure, Ascorbin säure oder Isoascorbinsaure |
0,1 | 5 | 0,5 |
Benzolsulfinat oder Toluol- sulfinat |
|||
Typische Kobalt/Eisen-Bäder sind die folgenden:
609813/0975
Tabelle | Tabelle | 6 | Minimum | 7 | Minimum | Maximum | Bevorzugt |
Watts-Bad (hoher Sulfatgehalt) | Bad mit hohem Chloridgehalt | 200 | 100 | 5OO | 300 | ||
Kobaltsulfat | Kobaltchlorid | 45 | 100 | 150 | 120 | ||
Kobaltchlorid | Kobaltsulfat | 5 | 5 | 60 | 45 | ||
Eisen(II)-sulfat | Eisen(Il)-sulfat | 15 | 15 | 60 | 45 | ||
Borsäure | Borsäure | 1 | 1 | 15 | 7,5 | ||
Erythorbinsäure, Ascorbin säure oder Isoascorbinsäure |
Erythorbinsäure, Ascorbin säure oder Isoascorbinsäure |
0,1 | 0,1 | 5 | 0,5 | ||
Benzolsulfinat oder To Iu ο 1- sulfinat |
Benzolsulfinat oder Toluol sulfinat |
3,0 | 5,8 | 4,0 | |||
pH (elektrometrisch) | |||||||
Maximum | Bevorzugt | ||||||
300 | 200 | ||||||
300 | 200 | ||||||
60 | 45 | ||||||
60 | 30 | ||||||
15 | 7,5 | ||||||
5 | 0,5 | ||||||
Der pH-Wert aller der obigen wässrigen Eisen/Nickel-,
Kobalt/Eisen- und Nickel/Kobalt/Eisen-Bäder kann während der galvanischen Abscheidung auf pH-Werte von 2,0 bis 7,0 und vorzugsweise 3,0 bis 6,0 gehalten werden. Während des Betriebs kann der pH mit Säuren, wie z.B. Salzsäure oder Schwefelsäure, nachgestellt werden.
Kobalt/Eisen- und Nickel/Kobalt/Eisen-Bäder kann während der galvanischen Abscheidung auf pH-Werte von 2,0 bis 7,0 und vorzugsweise 3,0 bis 6,0 gehalten werden. Während des Betriebs kann der pH mit Säuren, wie z.B. Salzsäure oder Schwefelsäure, nachgestellt werden.
6098 1 3/0975
Die Arbeitstemperaturen für die obigen Bäder liegen zwischen ungefähr 30 und 40 C, wobei Temperaturen innerhalb
des Bereichs von 45 bis 65°C bevorzugt werden.
Das Rühren der obigen Bäder während der galvanischen Abscheidung kann dadurch erfolgen, dass man die Lösung umpumpt,
dass man den Kathodenstab bewegt, dass man die Luft einbläst oder dass man eine Kombination der obigen Massnahmen
trifft.
Die in den obigen Bädern verwendeten Anoden können aus den betreffenden Metallen bestehen, die auf der Kathode abgeschieden
werden, wie z.B. Eisen und Nickel zur Abscheidung von Nickel/Eisen, Kobalt und Eisen zur Abscheidung von
Kobalt/Eisen oder Nickel, Kobalt und Eisen zur Abscheidung von Nickel/Kobalt/Eisen. Die Anoden können aus den obigen
gesonderten Metallen bestehen, wobei sie in geeigneter Weise in Form von Stangen, Streifen oder kleinen Klumpen
in Titankörben in das Bad eingehängt werden. In diesen Fällen wird das Verhältnis der Oberflächen der einzelnen
Metallanoden so eingestellt, dess es der jeweiligen Zusammensetzung
der an der Kathode abgeschiedenen Legierung entspricht. Zum Abscheiden von binären oder ternären Legierungen
können auch Legierungsanöden aus den betreffenden
Metallen verwendet werden, wobei sie die einzelnen Metalle in solchen GewichtsVerhältnissen enthalten, wie es an der
Kathode abgeschieden werden soll. Diese beiden Typen von Anodensystemen ergeben im allgemeinen ziemlich konstante
Metallionenkonzentrationen der einzelnen Metalle im Bad. Wenn bei einem festliegenden Verhältnis der Metalle in den
Anoden das Bad bezüglich der Metallionen aus dem Gleichgewicht gerät, dann können gelegentliche Nachstellungen durchgeführt
werden, indem man die Konzentration der einzelnen ■ Metallsalze entsprechend korrigiert. Alle Anoden oder
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Anodenkörbe können in geeigneter Weise mit Tüchern oder Metallsäcken der gewünschten Porosität bedeckt werden,
um die Einführung von Metallteilchen, Anodenschlamm usw. in das Bad zu verhindern, welche entweder mechanisch oder
elektrophoretisch zur Kathode wandern können und zu rauhen Abscheidungen en der Kathode führen.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert.
Ein Nickel/Kobalt/Eisen-Bad wurde dadurch hergestellt, dess
die folgenden Bestandteile in Wasser eingebracht wurden:
g/l
(Sofern nichts anderes an gegeben)
Nickelsulfat | 4,5 | 300 |
Ni ekelChlorid | 600C | 60 |
Borsäure | Luft | 45 |
Kobaltsulfat | 4-0 ASP | 15 |
Eisen(ll)-sulfat | 75 | |
Saccharin | 4- | |
Äthoxyliertes Butindiol | 50 mg/1 | |
Allylsulfonat | 4,5 | |
Erythorbins äure | 7,5 | |
Benzolsulfinat | 0,5 | |
pH | ||
Temperatur | ||
Rühren | ||
Ka t ho de ns tr omdi c ht e | (Ampere/Quadrat/Fuss) | |
Eine polierte Messingplstte wurde mit einem Schmirgelpapier
der Korngrösse 2/0 mit einem einzigen horizontalen Band ver-
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kratzt, das ungefähr 1 cm breit war und ungefähr 2,5 cm
von der Unterseite der Platte entfernt war. Nach dem Reinigen der Platte, bei welchem ein dünner Cyanidkupferbelag
verwendet wurde, um eine vorzügliche physikalische und chemische Reinheit zu erzielen, wurde sie in einer
Hull-Zelle mit einem Fassungsvermögen von 26? ml bei einem
Zellenstrom von 2 A IO Minuten bei einer Temperatur von
beschichtet, wobei ein magnetischer Rührer verwendet wurde. Die erhaltene Abscheidung war gleichförmig feinkörnig,
glänzend, leuchtend, gut eingeebnet.und duktil, wobei
eine leichte Zugspannung und eine vorzügliche Bedeckung im niedrigen Stromdichtebereich vorlag. Eine Platte, die
im obigen Bad beschichtet worden war, ergab eine gut eingeebnete glänzende Abscheidung, die die Analyse 20 % Go,
40 # Fe und 40 % Ni aufwies.
Ein Nicke/Eisen-Bad wurde gemäss Beispiel 1 hergestellt.
g/1
(Sofern nichts anderes angegeben)
Nickelsulfat Nickelchlorid Bors aure Eisen(II)-sulfat
Saccharin Ä'thoxyliertes Butindiol
Allylsulfonat Erythorbinsäure Toluolsulfinat PH
Temperatur Kathodens tromdichte
300 | mg/1 |
60 | ,5 |
45 | ,5 |
75 | ,5 |
4 | |
50 | |
4 | |
7 | |
0 | |
609813/0975
Anode
Kathodenanalyse
Ni 60 % Fe 40 &
Ni 60 % Fe 40 %
Ein galvanisches Kobalt/Eisen-Bad wurde gemäss Beispiel 1
hergestellt; Es enthielt folgendes:
(Sofern nichts anderes angegeben)
Kobaltsulfat Kobaltchlorid
Borsäure Eisen(Il)-sulfat Saccharin Äthoxyliertes Butindiol
Allylsulfonat
Erythorbinsäure Toluolsulfinat
Temperatur Rühren
Ka t ho de ns tr omdi c ht e
300 | mg/1 | |
60 | ,5 | |
45 | ||
75 | ,5 | |
4 | ||
50 | ||
4 | ||
3 | ||
0 | ||
4,4 | ||
6O0C | ||
Luft | ||
40 ASi1 | ||
Eine im obigen Bad beschichtete Platte hatte eine sehr hoch
eingeebnetes leuchtende Abscheidung.
Ein Nickel/Eisen-Bad wurde dadurch hergestellt, dass die
folgenden Bestandteile in den angegebenen Konzentrationen in Wasser eingebracht wurden:
609813/0975
g/l
(Sofern nichts anderes anr;ep;eben)
Nickelsulfat | 300 |
Nickelchlorid | 60 |
Borsäure | 45 |
Eisen(II)-sulfat | 75 |
Na triumsaa charina t | 4,0 |
Katriumallylsulfonat | 2,5 |
Diäthoxyliertes 2-Butin-1,4-diol | 50 mg/1 |
Benzolsulfinat | 0,50 |
Erythorbins äure | 8,0 |
pH 5,8 |
Es wurde eine gut eingeebnete duktile Abscheidung auch im niederen Stromdichtebereich erhalten. Die Abscheidung enthielt
51,4 # Eisen und 68,6 # Nickel.
Patentansprüche:
609813/0975
Claims (18)
1. Verfahren zur galvanischen Abscheidung einer Eisenlegierung,
die Nickel und/oder Kobalt enthält, dadurch gekennzeichnet, dass man von einer Anode zu einer Kathode
durch ein wässriges saures galvanisches Bad einen Strom führt, wobei das Bad mindestens eine Eisen(II)-Verbindung
und mindestens eine Nickelverbindung und/oder Kobaltverbindung enthält, welche Ionen für die galvanische Abscheidung
einer Nickel/Eisen-Legierung, einer Kobalt/Eisen-Legierung oder einer Nickel/Kobalt/Eisen-Legierung liefern,
dadurch gekennzeichnet, dass das Bad eine Kombination aus Erythorbinsäure, Ascorbinsäure oder Isoascorbinsäure und
Benzolsulfinat oder Toluolsulfinat enthält.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Nickelverbindungen aus Nickelsulfat und Nickelchlorid
bestehen.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Nickelverbindungen aus Nickelsulfamat und Nickelchlorid
bestehen.
4-. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass die Kobaltverbindungen aus Kobaltsulfat und Kobaltchlorid
bestehen.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Kobaltverbindungen aus Kobaltsulfamat und Kobaltchlorid
bestehen.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Ei se n( II)-Verbindung aus £Jisen(lI)-sulfat, Eisen-(Il)-chlorid
oder Eisen(II)-sulfamat besteht.
609813/0975
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bad eine wirksame Menge
mindestens eines der folgenden Bestandteile enthält:
(a) primärer Glänzer,
(b) sekundärer Glänzer,
(c) sekundärer Hilfsglänzer und
(d) Antilunkermittel.
8. Verfahren nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet, dass die weiteren Zusätze aus Netriumsaccharinat, Natriumallylsulfonat,
1,4— Di-(ß-hydroxyäthoxy)-2-butin und Natrium-Iaurylsulfat
bestehen.
9. Verfahren nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet,
dass die weiteren Zusätze aus Natriumsaacharinat, Natriumallylsulfonat,
1,4~Di-(ß-hydroxypropoxy)-2-butin und
Natriumlaurylsulfat bestehen.
10. Wässriges galvanisches Bad, welches eine Eisen(II)-Verbindung und eine Nickelverbindung und/oder eine Kobaltverbindung
enthält, welche entsprechende Ionen für die galvanische Abscheidung der betreffenden Legierungen liefern,
dadurch gekennzeichnet, dass das Bad zusätzlich eine Kombination aus Erythorbinsäure, Ascorbinsäure oder Isoascorbinsäure
und Benzolsulfinat oder Toluolsulfinat enthält.
11. Bad nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Nickelverbindungen aus Nickelsulfat und Nickelchlorid
bestehen.
12. Bad nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Nickelverbindungen aus Nickelsulfam8t und Nickelchlorid
bestehen.
609813/0975
25413(H
13. Bad nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass
die Kobaltverbindungen aus Kobaltsulfat und Kobaltchlorid bestehen.
14. Bad nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die.Kobaltverbindungen aus Kobaltsulfamat und Kobaltchlorid
bestehen.
15. Bad nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass
die Eisen(II)-Verbindung aus Eisen(II)-sulfat, Eisen(II)-chlorid oder Eisen(II)-sulfamat besteht.
16. Bad nach einem der Ansprüche 10 bis I5, dadurch
gekennzeichnet, dass es zusätzlich mindestens ein Mitglied aus der folgenden Gruppe enthält:
gekennzeichnet, dass es zusätzlich mindestens ein Mitglied aus der folgenden Gruppe enthält:
(a) primärer Glänzer,
(b) sekundärer Glänzer,
(c) sekundärer Hilfsglänzer und
(d) Antilunkermittel.
17. Bad nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass
es als Zusätze Natriumsaccharinat, Natriumallylsulfonat,
1,4-Di-(ß-hydroxyäthoxy)-2-butin und Natriumlaurylsulfat
enthält.
18. Bad nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass es als Zusätze Natriumsaccharinat, 1,4-Di-(ß-hydroxypropoxy)-2-butin
und Natriumlaurylsulfat enthält.
ΓΑ-nWTANWXtTB
WL-(NO. H. FINCKE. DIPl.-lNG. H. BOK«
DIPl.-ING. S STAEGES
609813/0975
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US50628874A | 1974-09-16 | 1974-09-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2541304A1 true DE2541304A1 (de) | 1976-03-25 |
DE2541304C2 DE2541304C2 (de) | 1989-03-02 |
Family
ID=24013974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752541304 Granted DE2541304A1 (de) | 1974-09-16 | 1975-09-16 | Verfahren und bad zur galvanischen abscheidung von eisenlegierungen |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5921394B2 (de) |
AU (1) | AU500992B2 (de) |
BR (1) | BR7505926A (de) |
CS (1) | CS186717B2 (de) |
DE (1) | DE2541304A1 (de) |
ES (1) | ES440946A1 (de) |
FR (1) | FR2284691A1 (de) |
GB (1) | GB1461246A (de) |
IT (1) | IT1048593B (de) |
NL (1) | NL7510887A (de) |
SE (1) | SE7510264L (de) |
ZA (1) | ZA755497B (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4014759A (en) * | 1975-07-09 | 1977-03-29 | M & T Chemicals Inc. | Electroplating iron alloys containing nickel, cobalt or nickel and cobalt |
JPS5345633A (en) * | 1976-10-06 | 1978-04-24 | Mishima Kosan Co Ltd | Plating method of ironncobalt alloy |
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US4450052A (en) * | 1982-07-28 | 1984-05-22 | M&T Chemicals Inc. | Zinc and nickel tolerant trivalent chromium plating baths |
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US8118990B2 (en) * | 2006-05-10 | 2012-02-21 | Headway Technologies, Inc. | Electroplated magnetic film for read-write applications |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3806429A (en) * | 1972-07-03 | 1974-04-23 | Oxy Metal Finishing Corp | Electrodeposition of bright nickel-iron deposits,electrolytes therefor and coating an article with a composite nickel-iron,chromium coating |
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-
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- 1975-08-27 ZA ZA00755497A patent/ZA755497B/xx unknown
- 1975-09-10 GB GB3729475A patent/GB1461246A/en not_active Expired
- 1975-09-11 FR FR7527856A patent/FR2284691A1/fr active Granted
- 1975-09-11 CS CS7500006184A patent/CS186717B2/cs unknown
- 1975-09-15 ES ES440946A patent/ES440946A1/es not_active Expired
- 1975-09-15 SE SE7510264A patent/SE7510264L/xx unknown
- 1975-09-15 BR BR7505926*A patent/BR7505926A/pt unknown
- 1975-09-15 AU AU84835/75A patent/AU500992B2/en not_active Expired
- 1975-09-15 IT IT09548/75A patent/IT1048593B/it active
- 1975-09-16 DE DE19752541304 patent/DE2541304A1/de active Granted
- 1975-09-16 NL NL7510887A patent/NL7510887A/xx not_active Application Discontinuation
- 1975-09-16 JP JP50112022A patent/JPS5921394B2/ja not_active Expired
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ZA755497B (en) | 1976-08-25 |
AU500992B2 (en) | 1979-06-07 |
GB1461246A (en) | 1977-01-13 |
IT1048593B (it) | 1980-12-20 |
JPS5155741A (en) | 1976-05-17 |
ES440946A1 (es) | 1977-06-16 |
AU8483575A (en) | 1977-03-24 |
BR7505926A (pt) | 1976-08-03 |
JPS5921394B2 (ja) | 1984-05-19 |
FR2284691B1 (de) | 1979-06-22 |
FR2284691A1 (fr) | 1976-04-09 |
SE7510264L (sv) | 1976-03-17 |
NL7510887A (nl) | 1976-03-18 |
CS186717B2 (en) | 1978-12-29 |
DE2541304C2 (de) | 1989-03-02 |
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8176 | Proceedings suspended because of application no: |
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|
8178 | Suspension cancelled | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
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