DE894959C - Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares Material - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares MaterialInfo
- Publication number
- DE894959C DE894959C DEK8877A DEK0008877A DE894959C DE 894959 C DE894959 C DE 894959C DE K8877 A DEK8877 A DE K8877A DE K0008877 A DEK0008877 A DE K0008877A DE 894959 C DE894959 C DE 894959C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- diazo
- layer
- diazide
- tetrahydronaphthoquinone
- diazo compounds
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21S—NON-PORTABLE LIGHTING DEVICES; SYSTEMS THEREOF; VEHICLE LIGHTING DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLE EXTERIORS
- F21S8/00—Lighting devices intended for fixed installation
- F21S8/08—Lighting devices intended for fixed installation with a standard
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V17/00—Fastening of component parts of lighting devices, e.g. shades, globes, refractors, reflectors, filters, screens, grids or protective cages
- F21V17/02—Fastening of component parts of lighting devices, e.g. shades, globes, refractors, reflectors, filters, screens, grids or protective cages with provision for adjustment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21Y—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
- F21Y2103/00—Elongate light sources, e.g. fluorescent tubes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Fastening Of Light Sources Or Lamp Holders (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Description
Im Patent 854 890 wird ein Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit
Hilfe von Diazoverbindungen beschrieben, das darin besteht, daß man unter Verwendung von wasserunlöslichen
Diazoverbindungen, die sich von 2-Diazonaphthol-(i) oder i-Diazo-naphthol-(2) herleiten und
durch Veresterung bzw. Amidierung einer Sulfosäure oder Carbonsäure dieser Diazoverbindungen entständen
sind, auf einem Schichtträger eine lichtempfindliche Schicht herstellt, diese hinter einer Vorlage
belichtet, die erhältlichen Kopien mit Alkali entwickelt und erhitzt. Nach den Patenten 879 205 und
865 108 können auch Harze oder Fettsäuren den gemäß Patent 854 890 zu verwendenden Diazoverbindungen
beigemischt oder als besondere Schicht zwischen Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht
aufgetragen werden, und das Erhitzen kann unterbleiben. Die Patente 865 109, 879 203 und 888 204
beschreiben die Verwendung anderer Gruppen wasserunlöslicher Diazoverbindungen.
Bei der weiteren Bearbeitung dieses Erfindungsgegenstandes ist nun gefunden worden, daß sich mit
gleich gutem Erfolg wie die in dem Patent 854 890 und den Zusatzpatenten aufgeführten Diazoverbindungen
auch solche wasserunlösliche Diazoverbindungen verwenden lassen, die sich von Sulfosäuren
oder Carbonsäuren von 2-Diazo-i-oxy-5 · 6 · 7 · 8-tetrahydronaphthalin
oder i-Diazo-2-oxy-5 · 6 · 7 · 8-tetrahydronaphthalin, in der Literatur auch als ar-2-Aminoi-tetralol
bzw. ar-i-Amino-2-tetralol bezeichnet (vgl.
Schroeter, »Annalen derChemie«, Bd. 426, S. I22f£.),
herleiten und die Konstitution von Estern oder Amiden dieser Säuren haben.
So konstituierte Diazoverbindungen sind in Wasser praktisch unlöslich und für die Herstellung von gut
lagerfähigem lichtempfindlichem Material besonders wertvoll. Ein Höchstmaß an Beständigkeit der lichtempfindlichen
Schichten wird erreicht bei Verwendung solcher Diazoverbindungen, in deren Molekül der
esterartig oder amidartig gebundene Rest einer SuIfosäure
oder Carbonsäure von 2 · 1- bzw. 1 · 2 -Diazooxy-5 · 6 · 7 - 8-tetrahydronaphthalin mehrmals enthalten
ist, denen also als zweite Reaktionskomponente eine Polyoxyverbindung oder Polyaminoverbindung
oder Oxyaminoverbindung zugrunde liegt.
Die erfindungsgemäß zu verwendenden Diazoverbindungen werden ebenfalls in organischen Lösungsmitteln
gelöst, auf geeignetes Trägermaterial, vorzugsweise Aluminium oder Zink, durch Aufschleudern,
Aufspritzen oder Aufstreichen aufgebracht und die Schichten dann durch scharfes Trocknen, zweckmäßig
bei etwa 85 bis 90° C, vom Lösungsmittel befreit. Es erweist sich bisweilen als vorteilhaft, dem Lösungsmittel
Harze zuzusetzen, wodurch die Haftfestigkeit der Schichten erhöht und die Bildung eines gleichmäßigen,
dünnen Films auf der Oberfläche des Schichtträgers begünstigt wird.
Als geeignete Harze werden beispielsweise alkalilösliche Harze, wie Kolophonium, Schellack, und
alkalilösliche Kunstharze genannt, denen Wachse, Farbstoffe oder alkaliunlösliche Harze in geringen
Mengen beigefügt werden können.
Nach der Belichtung unter einer Vorlage werden die Kopien durch Bestreichen oder Überwischen mit
verdünnten, zweckmäßig 1- bis 5%igen Lösungen von Alkalien, wie Dinatriumphosphat, Trinatriumphosphat,
oder auch mit. sehr verdünnter Natronlauge entwickelt und dann gewässert. An das Wässern kann
sich noch die übliche, zwecks Sauberhaltung des Grundes vorgenommene Behandlung mit verdünnten
Säuren oder sauren Salzen anschließen. Die an den nicht vom Licht getroffenen Stellen verbliebene
Diazoverbindung ist oleophil und nimmt beim Einfärben fette Farbe auf. Man erhält bezüglich der
Kopiervorlage positive Bilder, die sich durch große Säure- und Alkalifestigkeit auszeichnen, was in der
Drucktechnik von großer Wichtigkeit ist.
Für die Herstellung der gemäß der Erfindung anzuwendenden Diazoverbindungen, die in der Literatur
nicht beschrieben sind, können folgende Wege eingeschlagen werden:
ι. ar-Tetralolsulfosäuren (vgl. Schroeter, »Annalen
der Chemie«, Bd. 426, S. i22ff.) werden durch Kuppeln mit Diazoverbindungen in Azofarbstoffe
übergeführt und aus diesen durch Reduktion in üblicher Weise die Amino-oxy-tetrahydronaphthalinsulfosäuren
dargestellt. Die bei der Diazotierung erhältlichen Diazoverbindungen werden durch Einwirkung
von Phosphorpentachlorid oder Chlorsulfonsäure in die zugehörigen Sulfochloride umgewandelt
und letztere mit Basen oder Oxyverbindungen in die Sulfonamide oder die Sulfosäureester
übergeführt,
2. Die nach 1 dargestellten Amino-oxy-tetrahydronaphthalinsülfosäuren
werden durch Umsetzung mit Phosgen in Oxazolonsulfosäuren und diese durch Einwirkung
von Phosphorpentachlorid oder Chlorsulfonsäure in die Sulfochloride umgewandelt. Nach ihrer
Umsetzung mit aromatischen Basen werden die erhältlichen Sulfonamide mit verdünnter Natronlauge
erwärmt, wobei der Oxazolonring aufgespalten wird. Die entstandenen Oxyaminoverbindungen werden
durch Behandlung mit Natriumnitrit in die Diazoverbindungen übergeführt.
3. Tetrahydronaphthalin-oxy-carbonsäuren(Arnold
und Mitarbeiter, »Journal of the American Chemical Society«, Bd. 63 [1941], S. 1314) werden durch
Erhitzen mit aromatischen Basen in indifferenten Lösungsmitteln in Gegenwart von Kondensationsmitteln in die Carbonsäureamide übergeführt und aus
diesen durch Kupplung mit diazotierten aromatischen Basen Azofarbstoffe hergestellt. Bei ihrer Reduktion
entstehen Amino-oxy-tetrahydronaphthalin-carbonsäureamide, die nach üblicher Methode in die Diazoverbindungen
übergeführt werden.
4. Die Ester von Tetrahydronaphthalin-oxy-carbonsäure
werden mit diazotierten aromatischen Basen gekuppelt, aus den erhaltenen Azofarbstoffen durch
Reduktion die Oxy-amiriocarbonsäure-ester dargestellt und diese in bekannter Weise in die Diazo- go
verbindungen übergeführt.
Es ist vorteilhaft, für die Amidierung oder die Veresterung der Sulfosäure- und Carbonsäuregruppe
aromatische Amine und Oxyverbindungen zu verwenden.
Außer als Druckformen für das graphische Gewerbe, z. B. für den Flachdruck oder zur Herstellung von
Klischees, können die entwickelten Bilder, besonders wenn die lichtempfindliche Schicht zur besseren Sichtbarmachung
der Bilder einen Farbstoff enthält oder wenn die Kopien nach der Entwicklung mit Druckfarbe
eingefärbt werden, als Schablonen oder für Schilder Anwendung finden.
i. 0,1 g der Diazoverbindung aus dem ar-i-Amino-2rtetraiol-3-(N-äthyl-N-phenyl)-sulfonamid
von der Formel
N9
i—so,—n;
,CoHb
und 0,075 g eines Formaldehydphenolharz-Novolaks, der unter der als Warenzeichen geschützten Bezeichnung
»Alnovok seitens der Firma Chemische Werke Albert in Wiesbaden-Biebrich in den Handel gebracht
wird, werden in 5 ecm Glykolmonomethyläther gelöst. Die Lösung wird auf eine oberflächlich mechanisch
aufgerauhte Aluminiumfolie aufgeschleudert. Nach gutem Trocknen wird die sensibilisierte FoUe unter
einer Vorlage an einer Bogenlampe von 18 Amp. bei einem Abstand von 70 cm etwa 21Z2 Minuten lang
belichtet, die Kopien weiden mit einer 5%igen Trinatriumphosphatlösung
entwickelt. Das starkgelbgefärbte Diazobild schlägt bei der Entwicklung nach gelbgrün um. Es wird mit Wasser abgespült, mit
i°/oiger Phosphorsäure überwischt und kann dann
mit fetter Farbe eingefärbt werden. Von einer positiven Vorlage erhält man ein positives Bild, das als
Druckform verwendet werden kann.
Die obengenannte Diazoverbindung wird folgendermaßen hergestellt: Man kuppelt das Natriumsalz der ar-2-Tetralol-3-sulfosäure mit diazotiertem p-Nitroanilin (vgl. Schroeter, »Annalen der Chemie«, Bd. 426, S. I22ff.). Aus dem gebildeten Azofarbstoff erhält man durch Reduktion mit Natriumhydrosulfit in 2 η-Natronlauge bei 8o° C die ar-i-Amino-2-tetralol-3-sulfosäure. Diese wird durch Einwirkung von Phosgen in sodaalkalischer Lösung in die 4 · 5 · 6 · 7-Tetrahydronaphthoxazolon-9-sulfosäure übergeführt, aus der das entsprechende Sulfochlorid durch Umsetzung mit 2 Mol Phosphorpentachlorid bei 1400 C dargestellt werden kann. Das Sulfochlorid schmilzt bei 222 bis 2250 C unter Zersetzung.
Die obengenannte Diazoverbindung wird folgendermaßen hergestellt: Man kuppelt das Natriumsalz der ar-2-Tetralol-3-sulfosäure mit diazotiertem p-Nitroanilin (vgl. Schroeter, »Annalen der Chemie«, Bd. 426, S. I22ff.). Aus dem gebildeten Azofarbstoff erhält man durch Reduktion mit Natriumhydrosulfit in 2 η-Natronlauge bei 8o° C die ar-i-Amino-2-tetralol-3-sulfosäure. Diese wird durch Einwirkung von Phosgen in sodaalkalischer Lösung in die 4 · 5 · 6 · 7-Tetrahydronaphthoxazolon-9-sulfosäure übergeführt, aus der das entsprechende Sulfochlorid durch Umsetzung mit 2 Mol Phosphorpentachlorid bei 1400 C dargestellt werden kann. Das Sulfochlorid schmilzt bei 222 bis 2250 C unter Zersetzung.
Durch Umsetzung dieses Sulfochlorids mit 2 Mol N-Äthylanilin in Dioxan erhält man 4 · 5 · 6 · 7-Tetrahydronaphthoxazolon-9-
(N-äthyl- N -phenyl) -sulfonamid, das in langen, glänzenden Nadeln (Schmelzpunkt
253 bis 255° C) kristallisiert.
Zur Spaltung des Oxazolonringes erhitzt man das erhaltene Kondensationsprodukt mit starker alkoholischer
Kalilauge 2 Stunden zum Sieden. Die wäßrige Lösung des Abdampfrückstandes wird nach Zusatz
der erforderlichen Menge Natriumnitritlösung vorsichtig mit Salzsäure angesäuert. Dabei fällt die
Diazoverbindung aus dem ar-i-Amino-2-tetralol-3-(N-äthyl-N-phenyl)-sulfonamid
als feinpulveriger gelber Niederschlag aus. Sie schmilzt bei etwa i8o° C
unter Zersetzung.
2. 0,2 g der Diazoverbindung aus dem ar-i-Amino-2-tetraiol-3-(N,
N-diphenyl) -sulf onamid von der Formel
N,
H | χ | = 0 | — Ν | -C6H5 |
'— SO2 | ||||
\ -' | ||||
ß Hs
und 1,5 g Alnovol (vgl. Beispiel 1) werden in 20 ecm
Glykolmonomethyläther gelöst. Mit dieser Lösung wird eine aufgerauhte Aluminiumplatte beschichtet
und gut getrocknet. Das nach der Belichtung erhältliche gelbgefärbte Diazobild wird mit i°/oiger Natronlauge
entwickelt, die Platte mit Wasser abgespült und mit 5%iger Phosphorsäure kurz überwischt.
Das Bild kann jetzt eingefärbt werden.
Für die Darstellung der Diazoverbindung bringt man ein Gemisch aus 1 Mol 4 · 5 · 6 · 7-Tetrahydronaphthoxazolon-9-sulfochlorid
und 1,2 Mol Diphenylamin durch Schmelzen bei i6o° C zur Umsetzung.
Das entstehende 4 · 5 · 6 ■ 7-Tetrahydronaphthoxazolon-9"(N,
N-diphenyl)-sulfonamid ist in den gebräuchlichen Lösungsmitteln unlöslich und schmilzt bei
etwa 2700 C unter Zersetzung.
Seine Überführung in die Aminooxyverbindung und deren Diazotierung erfolgen analog der in Beispiel 1
beschriebenen Arbeitsweise. Die gelbgefärbte Diazoverbindung aus dem ar-i-Amino-2-tetralol-3-(N, N-diphenyl)-sulfonamid
schmilzt beim Erhitzen im Röhrchen erst weit oberhalb 2500 C unter Zersetzung.
3. Eine Aluminiumfolie wird wie in dem vorhergehenden Beispiel mit einer Lösung von 0,2 g der
Diazoverbindung aus N, N-Di-(i-amino-2-tetralol-3-sulfonyl-2
· 5 · 2' · 5'- tetraäthoxy-4 · 4'-diaminotriphenylmethan
(Chlorhydrat) von der Formel
OC9H,
NH-SO
0=i
und 0,1 g Alnovol (Beispiel 1) in 10 ecm Dioxan
beschichtet. Die von der gut getrockneten Schicht durch Belichten unter einer Vorlage erhaltenen Kopien
werden vorsichtig mit einer i%igen Lösung von Trinatriumphosphat entwickelt und die Platten durch
Überwischen mit i°/oiger Phosphorsäure gesäubert.
Sie sind dann druckfertig.
Zur Darstellung der Diazoverbindung verfährt man wie folgt: Man versetzt eine Lösung von etwas mehr
als 2 Mol 4 · 5 · 6 · 7-Tetrahydronaphthoxazolon-g-sulf 0-chlorid
in Dioxan mit einer Lösung von 1 Mol 2 · 5 · 2'· 5'-Tetraäthoxy-4· 4'-diaminotriphenylmethan
in Pyridin und erwärmt das Gemisch mehrere Stunden am Dampfbad. Das ausgefallene Kondensationsprodukt
wird durch Digerieren mit Salzsäure und dann Umfallen aus alkalischer Lösung mit Salzsäure gereinigt.
Zur Oxazolonringspaltung erhitzt man das Produkt ι Stunde in 2o°/0iger siedender Natronlauge
und diazotiert das nadi dem Ansäuern ausfallende N, N'-Di-ar-(i-amino-2-tetralol-3-sulfonyl)-2 · 5 · 2' · 5'-tetraäthoxy-4
· 4'-diaminotriphenylmethan (Chlorhydrat) in Suspension mit Natriumnitrit. Die Bis-
Diazoverbindung fällt als voluminöser Niederschlag aus.
An Stelle der genannten Diazoverbindung läßt sich mit gleichem Erfolg die analog darstellbare Diazoverbindung
aus N, N'-Di-(ar-i-amino-2-tetralol-3-sulfonyl)"4
· 4'-diamino-diphenyl verwenden.
4· Auf eine oberflächlich anodisch oxydierte Aluminiumfolie
wird eine Auflösung von 0,1 g der Diazoverbindung aus dem 0'-0"^Di-[5 · 6 · 7 · 8-tetrahydro-
N,
naphthochinone · 2)-diazid-(i)-3-sulfonyl]-4' ·
o'xydiphenylsulfon von der Formel
und 0,05 g Alnovol (vgl. Beispiel 1) in 5 ecm Glykolmonomethyläther
aufgebracht. Die Schicht wird getrocknet und unter einer Vorlage belichtet. Das kräftiggelbgefärbte Bild wird mit einer 5°/igen Trinatriumphosphatlösung
entwickelt und nach kurzer Säurebehandlung in einem Druckapparat vor dem Auflagedruck eingefärbt.
Zur Darstellung der Diazoverbindung wird das Chlorhydrat der ar-i-Amino-2-tetralol-3-sulfosäure in
salzsaurer 'Suspension mit Natriumnitrit diazotiert. Aus der goldgelbgefärbten Lösung erhält man die
5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(i · 2)-diazid-(i)-3-sulfosäure
beim Einengen im Vakuum in Form gelber Kristallnädelchen. Beim Erhitzen im Röhrchen verkohlt
die Diazoverbindung oberhalb 150° C, ohne zu schmelzen.
Die im Hochvakuum über P2O5 sorgfältig getrocknete
Sulfosäure läßt sich durch kurze Einwirkung von 2 Mol Phosphorpentachlorid bei 900 C in das
5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(i · z)-diazid-(i)-3-sulfochlorid
überführen, das bei etwa iio° C unter Zersetzung schmilzt.
Die Umsetzung des Chlorids (2,2 Mol) mit 4 · 4'-Dioxydiphenylsulfon
(1 Mol) wird in Dioxanlösung durchgeführt. Zur Bindung der Salzsäure und Lösung
der Dioxyverbindung ist ein Zusatz von Sodalösung erforderlich. Das O'-O"-Di-[5 · 6 · 7 · 8-tetrahydronaphthochinon-(i
· 2)-diazid-(i)-3-sulfonyl]-4' · 4"-dioxydiphenylsulfon scheidet sich zunächst als gelbbraungefärbter
Sirup ab, der beim Digerieren mit Wasser kristallisiert und bei etwa ioo° C unter Zersetzung
. schmilzt.
Ein ebenso günstiges Ergebnis wird erzielt mit dem 0'-0"-Di-[5 · 6 · 7 · 8-tetrahydronaphtho-chinon-(i · 2)-diazid-(i)-3-sulfonyl]-4''4"-dioxydiphenyl.
Für die Entwicklung der nach der Belichtung einer sensibilisierten Aluminiumfolie erhältlichen Kopie ist eine
io%ige Trinatriumphosphatlösung erforderlich.
5. Eine 2%ige Lösung der Diazoverbindung aus dem 5'6-7-8-Tetrahydronaphthochinon-(i'2)-diazid-(2)-4-(N-äthyl-N-phenyl)-sulfonamid
von der Formel
SO2-N:
in Glykolmonomethyläther wird auf eine an der Oberfläche
aufgerauhte Aluminiumfolie aufgeschleudert.
Nach gutem Trocknen der Schicht wird die Folie etwa 45 bis 50 Sekunden unter einer positiven Vorlage
an einer Bogenlampe belichtet. Das erhaltene gelbgrüngefärbte positive Bild wird mit einer 5°/oigen
Dinatriumphosphatlösung entwickelt, mit Wasser abgespült und kurz mit i°/oiger Phosphorsäure behandelt.
Das Bild kann dann mit fetter Farbe eingefärbt So und als Druckvorlage verwendet werden.
Zur Darstellung der Diazoverbindung wird ar-2-Nitro-i-tetralol-4-sulfosäure
(»Journal of the Chemical Society«, 1918, S. 907) durch katalytische Reduktion
in schwach sodaalkalischer Lösung in die ar-2-Amino-i-tetralol-4-sulfosäure
übergeführt, diese durch Einwirkung von Phosgen (s. Beispiel 1) in
6 · 7 · 8 · g-Tetrahydronaphthoxazolon-S-sulfosäure .umgewandelt,
die zweckmäßig als Kaliumsalz isoliert wird, und das Kaliumsalz geht beim Erhitzen mit
Phosphorpentachlorid über in 6 · 7 · 8 · 9-Tetrahydronaphthoxazolon-5-sulfochlorid
(Schmelzpunkt 2000C unter Zersetzung). Analog der in Beispiel 1 beschriebenen
Arbeitsweise wird aus dem Sulfochlorid über das entsprechende Sulfonamid weiter durch Spaltung
des Oxazolonrings und nachfolgende Diazotierung das 5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(i · 2)-diazid-(2)-4-(N-äthyl-N-phenyl)-sulfonamid
in Form eines fein pulverigen gelben Niederschlages hergestellt. Die Diazoverbindung zersetzt sich beim Erhitzen über
8o° C.
6. 0,1 g der Diazoverbindung aus dem O'-[5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(i
· 2)-diazid-(2)-4-sulfonyl]'-4'-oxybiphenyl von der Formel
O 10S
SO2-O-
werden in 5 ecm Dioxan gelöst, und wie in Beispiel ι
wird mit der Lösung eine Aluminiumfolie beschichtet. Nach dem" Belichten unter einer positiven Vorlage
wird die Kopie mit einer 2°/oigen Trinatriumphosphatlösung
entwickelt und das erhaltene positive Bild durch Überwischen mit i%iger Phosphorsäure druckfertig
gemacht.
Die Diazoverbindung erhält man wie folgt: ar-2-Amino-i-tetralol-4-sulfosäure
(vgl. Beispiel 5) wird in salzsaurer Suspension mit 1,2 Mol Natriumnitrit
diazotiert und die 5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(1
· 2)-diazid-(2)"4-sulfosäure mit der 4fachen Menge hlorsulfonsäure bei 6o° C in das 5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydro-
naphthochinon-(i · 2)-diazid-(2)-4-sulfochlorid übergeführt,
das nach dem Umkristallisieren aus Dioxan-Wasser bei 131 bis 1320 C schmilzt. Dieses Sulfochlorid
wird mit einer molekularen Menge 4-Oxydiphenyl in Dioxan. unter Zusatz von io°/0iger Sodalösung
umgesetzt (vgl. Beispiel 4) und das Kondensationsprodukt aus der Reaktionsflüssigkeit durch
Zugabe von Wasser als feiner gelbbrauner Niederschlag ausgeschieden. Das O'-[5 -6.7· 8-Tetrahydronaphthochinon-(i
· 2)-diazid-(2)-4-sulfonyl]-4'-oxybiphenyl zersetzt sich beim Erhitzen im Kapillarröhrchen gegen
i6o° C.
7. Auf eine Aluminiumfolie wird eine Auflösung von 0,1 g O'-O"-Di-[5 · 6 · 7 · 8-tetrahydronaphthochinon-(i
·2)-diazid-(2)-4-sulfonyl]-4'· 4"-dioxydiphenyl von der Formel
SO2-O-
-0 —SO,
und 0,05 g Alnovol (vgl. Beispiel 1) in einem Gemisch
aus 4 ecm Glykolmonomethyläther und 3 ecm Dioxan aufgebracht, die Schicht gut getrocknet und unter
einer Vorlage belichtet. Nach der Entwicklung der Kopie mit einer 5%igen Trinatriumphosphatlösung
wird das erhaltene Positivbild wie üblich druckfertig gemacht.
Zur Darstellung der obengenannten Diazo verbindung wird 4 · 4'-Dioxydiphenyl mit 2,5 Mol 5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon
- (1 · 2) - diazid - (2) - 4 - sulf0-chlorid
analog der in Beispiel 6 angegebenen Arbeitsweise umgesetzt. Die Diazoverbindung schmilzt gegen
220° C.
8. 0,2 g 5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(i · 2)-diazid-(i)-3-carbanilid
von der Formel
CO — NH- CH,
werden in 10 ecm Glykolmonomethyläther gelöst, und
mit der Lösung wird eine Aluminiumfolie wie in Beispiel 1 beschichtet. Die gut getrocknete Schicht
wird unter einer Vorlage belichtet, mit einer 3%igen Trinatriumphosphatlösung entwickelt und kann dann
nach kurzer Behandlung mit einer i°/oigen Phosphorsäure
als Vervielfältigungsvorlage in den üblichen Druckapparaten verwendet werden.
Die Diazoverbindung erhält man, indem man ar-2-Tetralol-3-carbonsäure (Arnold und Mitarbeiter,
»Journal of the American Chemical Society«, Bd. 63
[1941], S. 1914) durch Erhitzen mit Anilin in absolutem
Toluol in Gegenwart von Phosphortrichlorid So (»Chemisches Zentralblatt« 19371, S. 2460) zum
ar-2-Tetralol-3-carbanilid kondensiert. Schmelzpunkt des Anilids i88° C.
In verdünnt natronalkalischer Lösung kuppelt man dann das ar-2-Tetralol-3-carbanilid mit Benzoldiazoniumchlorid
zu einem rotgefärbten Azofarbstoff und
reduziert diesen katalytisch in alkoholischer Lösung zum ar-i-Amino^-tetralol-s-carbanilid. Dieses wird
in Form seines Chlorhydrats isoliert und in salzsaurer Suspension mit überschüssiger Natriumnitritlösung in
das gelbgefärbte 5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(1 · 2)-diazid-(i)-3-carbanüid übergeführt. Die Diazoverbindung
schmilzt bei no0 C unter Zersetzung.
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen
nach Patent 854 890 und den Patenten 879 205 und 865 108, dadurch gekennzeichnet, daß
Diazoverbindungen zur Erzeugung der lichtempfindlichen Schicht verwendet werden, die sich von
Sulfosäuren oder Carbonsäuren von 5 · 6 ■ 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(i
· 2)-diazid-(2) oder 5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(i · 2)-diazid-(i) herleiten
und die Konstitution von Estern oder Amiden dieser Säuren haben.
2. Lichtempfindliches Material zur Anfertigung von Kopien, besonders Druckformen, gemäß
Anspruch 1, bestehend aus einem geeigneten Schichtträger und einer darauf befindlichen Diazo-Schicht,
dadurch gekennzeichnet, daß die Diazoschicht Diazoverbindungen enthält, die sich von
Sulfosäuren oder Carbonsäuren von 5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(i
· 2)-diazid-(2) oder 5 · 6 · 7 · 8-Tetrahydronaphthochinon-(i-2)-diazid-(i)
herleiten und die Konstitution von Estern oder Amiden dieser Säuren haben.
3. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Anwesenheit von alkalilöslichen
Harzen in der lichtempfindlichen Schicht.
4. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch eine Hilfsschicht aus alkalilöslichen
Harzen zwischen Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht.
5. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Anwesenheit von alkalilöslichen
Harzen sowohl in der lichtempfindlichen Schicht als auch als besondere Hilfsschicht
zwischen Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht.
© 5509 10.53
Priority Applications (61)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL76414D NL76414C (de) | 1949-07-23 | ||
BE510152D BE510152A (de) | 1949-07-23 | ||
DENDAT879203D DE879203C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen | |
BE516129D BE516129A (de) | 1949-07-23 | ||
DENDAT907739D DE907739C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material | |
BE510563D BE510563A (de) | 1949-07-23 | ||
NL80569D NL80569C (de) | 1949-07-23 | ||
BE497135D BE497135A (de) | 1949-07-23 | ||
NL78723D NL78723C (de) | 1949-07-23 | ||
BE510151D BE510151A (de) | 1949-07-23 | ||
NL78797D NL78797C (de) | 1949-07-23 | ||
BE508815D BE508815A (de) | 1949-07-23 | ||
BE500222D BE500222A (de) | 1949-07-23 | ||
NL80628D NL80628C (de) | 1949-07-23 | ||
DEP49803D DE854890C (de) | 1949-07-23 | 1949-07-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
DEO205A DE865109C (de) | 1949-07-23 | 1949-12-28 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
AT171431D AT171431B (de) | 1949-07-23 | 1950-07-19 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafür verwendbares lichtempfindliches Material |
CH295106D CH295106A (de) | 1949-07-23 | 1950-07-21 | Lichtempfindliches Material zur photomechanischen Herstellung von druckfähigen Bildern, insbesondere von Druckformen. |
FR1031581D FR1031581A (fr) | 1949-07-23 | 1950-07-21 | Procédé diazotypique et matériel photosensible pour sa réalisation |
GB18320/50A GB699412A (en) | 1949-07-23 | 1950-07-21 | Improvements relating to diazotype processes and materials for producing photomechanical printing plates |
CH292832D CH292832A (de) | 1949-07-23 | 1950-07-21 | Verfahren zur Herstellung von druckfähigen Bildern, insbesondere von Druckformen für das graphische Gewerbe, mit Hilfe von Diazoverbindungen. |
DEO940A DE888204C (de) | 1949-07-23 | 1950-08-01 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen, und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material |
GB31294/50A GB706028A (en) | 1949-07-23 | 1950-12-22 | Improvements relating to diazotype processes and materials for producing photo-mechanical printing plates |
FR60499D FR60499E (fr) | 1949-07-23 | 1950-12-26 | Procédé diazotypique et matériel photosensible pour sa réalisation |
CH302817D CH302817A (de) | 1949-07-23 | 1950-12-27 | Lichtempfindliches Material zur photomechanischen Herstellung von druckfähigen Bildern, besonders Druckformen. |
AT177053D AT177053B (de) | 1949-07-23 | 1950-12-27 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, insbesondere von Druckformen mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafür verwendbares lichtempfindliches Material |
DEK8877A DE894959C (de) | 1949-07-23 | 1951-02-02 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares Material |
DEK16195A DE928621C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
DEK9441A DE922506C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
FR62126D FR62126E (fr) | 1949-07-23 | 1951-07-24 | Procédé diazotypique et matériel photo-sensible pour sa réalisation |
AT179194D AT179194B (de) | 1949-07-23 | 1951-07-30 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafür verwendbares lichtempfindliches Material |
CH308002D CH308002A (de) | 1949-07-23 | 1951-07-31 | Verfahren zur Herstellung von druckfähigen Bildern, insbesondere von Druckformen für das graphische Gewerbe, mit Hilfe von Diazoverbindungen. |
GB18130/51A GB708834A (en) | 1949-07-23 | 1951-07-31 | Improvements relating to processes and materials for use in printing, with the application of diazo compounds |
AT181493D AT181493B (de) | 1949-07-23 | 1952-01-25 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafür verwendbares lichtempfindliches Material |
GB2445/52A GB729746A (en) | 1949-07-23 | 1952-01-29 | Improvements relating to diazotype processes and materials for producing photomechanical printing plates |
FR63606D FR63606E (fr) | 1949-07-23 | 1952-01-30 | Procédé diazotypique et matériel photosensible pour sa réalisation |
CH306897D CH306897A (de) | 1949-07-23 | 1952-02-01 | Lichtempfindliches Material zur photomechanischen Herstellung von druckfähigen Bildern, insbesondere von Druckformen. |
FR63708D FR63708E (fr) | 1949-07-23 | 1952-03-21 | Procédé diazotypique et matériel photosensible pour sa réalisation |
GB7433/52A GB723242A (en) | 1949-07-23 | 1952-03-21 | Improvements relating to processes for making reproductions, especially printing plates, with the application of diazo compounds |
GB7434/52A GB732544A (en) | 1949-07-23 | 1952-03-21 | Improvements relating to processes for making reproductions especially printing plates, with the application of diazo compounds |
FR64118D FR64118E (fr) | 1949-07-23 | 1952-03-22 | Procédé diazotypique et matériel photosensible pour sa réalisation |
AT198127D AT198127B (de) | 1949-07-23 | 1952-03-22 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunlöslichen Diazoverbindungen |
AT184821D AT184821B (de) | 1949-07-23 | 1952-03-22 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
AT189925D AT189925B (de) | 1949-07-23 | 1952-03-22 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafür verwendbares lichtempfindliches Material |
CH318851D CH318851A (de) | 1949-07-23 | 1952-03-24 | Verfahren zur Herstellung von druckfähigen Bildern, besonders Druckformen für das graphische Gewerbe, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
CH315139D CH315139A (de) | 1949-07-23 | 1952-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunlöslichen Diazoverbindungen |
CH317504D CH317504A (de) | 1949-07-23 | 1952-03-24 | Verfahren zur Herstellung von druckfähigen Bildern, besonders Druckformen für das graphische Gewerbe, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
FR64119D FR64119E (fr) | 1949-07-23 | 1952-03-24 | Procédé diazotypique et matériel photosensible pour sa réalisation |
FR64216D FR64216E (fr) | 1949-07-23 | 1952-11-25 | Procédé diazotypique et matériel photo-sensible pour sa réalisation |
GB30289/52A GB774272A (en) | 1949-07-23 | 1952-11-28 | Process for the manufacture of photomechanical printing plates and light-sensitive material suitable for use therein |
AT201430D AT201430B (de) | 1949-07-23 | 1952-11-28 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafür verwendbares lichtempfindliches Material |
FR65465D FR65465E (fr) | 1949-07-23 | 1952-12-04 | Procédé diazotypique et matériel photo-sensible pour sa réalisation |
CH316606D CH316606A (de) | 1949-07-23 | 1952-12-13 | Lichtempfindliches Material zur photomechanischen Herstellung von druckfähigen Bildern, besonders Druckformen |
US715220A US3046116A (en) | 1949-07-23 | 1958-02-14 | Light sensitive material for printing and process for making printing plates |
US715222A US3046118A (en) | 1949-07-23 | 1958-02-14 | Process of making printing plates and light sensitive material suitable for use therein |
US715221A US3046117A (en) | 1949-07-23 | 1958-02-14 | Light sensitive material for printing and process for making printing plates |
US718477A US3046123A (en) | 1949-07-23 | 1958-03-03 | Process for making printing plates and light sensitive material for use therein |
US718431A US3046122A (en) | 1949-07-23 | 1958-03-03 | Process of making printing plates and light sensitive material suitable for use therein |
US791161A US3064124A (en) | 1949-07-23 | 1959-02-04 | Fluorescent luminaire |
US163875A US3046111A (en) | 1949-07-23 | 1962-01-02 | Process of making quinone diazide printing plates |
US163874A US3046110A (en) | 1949-07-23 | 1962-01-02 | Process of making printing plates and light sensitive material suitable for use therein |
Applications Claiming Priority (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP0049803 | 1949-07-23 | ||
DEO205A DE865109C (de) | 1949-07-23 | 1949-12-28 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
DEO0000268 | 1950-02-01 | ||
DEO0000940 | 1950-08-01 | ||
DEK8877A DE894959C (de) | 1949-07-23 | 1951-02-02 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares Material |
DEK16195A DE928621C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
DEK9441A DE922506C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
DEK0012457 | 1951-12-14 | ||
US51708655A | 1955-06-21 | 1955-06-21 | |
US718477A US3046123A (en) | 1949-07-23 | 1958-03-03 | Process for making printing plates and light sensitive material for use therein |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE894959C true DE894959C (de) | 1953-10-29 |
Family
ID=32398483
Family Applications (8)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DENDAT907739D Expired DE907739C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material | |
DENDAT879203D Expired DE879203C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen | |
DEP49803D Expired DE854890C (de) | 1949-07-23 | 1949-07-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
DEO205A Expired DE865109C (de) | 1949-07-23 | 1949-12-28 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
DEO940A Expired DE888204C (de) | 1949-07-23 | 1950-08-01 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen, und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material |
DEK8877A Expired DE894959C (de) | 1949-07-23 | 1951-02-02 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares Material |
DEK9441A Expired DE922506C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
DEK16195A Expired DE928621C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
Family Applications Before (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DENDAT907739D Expired DE907739C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material | |
DENDAT879203D Expired DE879203C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen | |
DEP49803D Expired DE854890C (de) | 1949-07-23 | 1949-07-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
DEO205A Expired DE865109C (de) | 1949-07-23 | 1949-12-28 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
DEO940A Expired DE888204C (de) | 1949-07-23 | 1950-08-01 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen, und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEK9441A Expired DE922506C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
DEK16195A Expired DE928621C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (8) | US3046118A (de) |
AT (8) | AT171431B (de) |
BE (7) | BE510563A (de) |
CH (9) | CH295106A (de) |
DE (8) | DE854890C (de) |
FR (9) | FR1031581A (de) |
GB (7) | GB699412A (de) |
NL (5) | NL76414C (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1254466B (de) * | 1961-01-25 | 1967-11-16 | Kalle Ag | Kopiermaterial fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen und Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
EP0268790A2 (de) | 1986-10-17 | 1988-06-01 | Hoechst Aktiengesellschaft | Verfahren zur abtragenden Modifizierung von mehrstufig aufgerauhten Trägermaterialien aus Aluminium oder dessen Legierungen und deren Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplatten |
US5755949A (en) * | 1993-12-22 | 1998-05-26 | Agfa-Gevaert Ag | Electrochemical graining method |
Families Citing this family (210)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3046124A (en) * | 1949-07-23 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suitablefor use therein |
NL78797C (de) * | 1949-07-23 | |||
US3046119A (en) * | 1950-08-01 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Light sensitive material for printing and process for making printing plates |
NL77573C (de) * | 1951-06-30 | |||
US2767092A (en) * | 1951-12-06 | 1956-10-16 | Azoplate Corp | Light sensitive material for lithographic printing |
NL77599C (de) * | 1952-01-05 | 1954-10-15 | ||
NL89894C (de) * | 1952-08-16 | |||
GB742557A (en) * | 1952-10-01 | 1955-12-30 | Kalle & Co Ag | Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images |
DE938233C (de) * | 1953-03-11 | 1956-01-26 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen |
US2907655A (en) * | 1953-09-30 | 1959-10-06 | Schmidt Maximilian Paul | Light-sensitive material for the photo-mechanical reproduction and process for the production of images |
NL195002A (de) * | 1954-03-12 | 1900-01-01 | ||
NL96874C (de) * | 1954-04-03 | |||
NL195961A (de) * | 1954-04-03 | |||
BE539175A (de) * | 1954-08-20 | |||
NL95407C (de) * | 1954-08-20 | |||
DE949383C (de) * | 1954-08-26 | 1956-09-20 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliche Metallfolie fuer die Druckplattenherstellung, welche mit Diazosulfonaten lichtempfindlich gemacht ist |
US3029146A (en) * | 1955-02-25 | 1962-04-10 | Azoplate Corp | Reproduction material |
NL204620A (de) * | 1955-02-25 | |||
US3046114A (en) * | 1955-03-01 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Diazo compounds and printing plates manufactured therefrom |
NL220474A (de) * | 1956-09-25 | |||
US3019105A (en) * | 1957-02-28 | 1962-01-30 | Harris Intertype Corp | Treatment of diazo-sensitized lithographic plates |
NL104507C (de) * | 1957-08-03 | |||
US2975053A (en) * | 1958-10-06 | 1961-03-14 | Azoplate Corp | Reproduction material |
NL129161C (de) * | 1959-01-14 | |||
NL130027C (de) * | 1959-01-15 | |||
NL129162C (de) * | 1959-01-17 | |||
NL247588A (de) * | 1959-01-21 | |||
US3126281A (en) * | 1959-02-04 | 1964-03-24 | Formula | |
DE1114705C2 (de) * | 1959-04-16 | 1962-04-12 | Kalle Ag | Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen |
NL254616A (de) * | 1959-08-05 | |||
NL131386C (de) * | 1959-08-29 | |||
NL255517A (de) * | 1959-09-04 | |||
US3086861A (en) * | 1960-07-01 | 1963-04-23 | Gen Aniline & Film Corp | Printing plates comprising ink receptive azo dye surfaces |
NL267572A (de) * | 1960-07-29 | |||
NL289167A (de) * | 1961-10-13 | |||
US3260599A (en) * | 1962-11-19 | 1966-07-12 | Minnesota Mining & Mfg | Vesicular diazo copy-sheet containing photoreducible dye |
US3210531A (en) * | 1963-03-18 | 1965-10-05 | Samuel M Neely | Outdoor floodlighting assembly |
CA774047A (en) * | 1963-12-09 | 1967-12-19 | Shipley Company | Light-sensitive material and process for the development thereof |
US3331944A (en) * | 1965-03-02 | 1967-07-18 | Electro Therm | Plug-in heating element assembly |
US3387975A (en) * | 1965-03-10 | 1968-06-11 | Sony Corp | Method of making color screen of a cathode ray tube |
GB1116737A (en) * | 1966-02-28 | 1968-06-12 | Agfa Gevaert Nv | Bis-(o-quinone diazide) modified bisphenols |
NL136645C (de) * | 1966-12-12 | |||
US3635709A (en) * | 1966-12-15 | 1972-01-18 | Polychrome Corp | Light-sensitive lithographic plate |
US3984250A (en) * | 1970-02-12 | 1976-10-05 | Eastman Kodak Company | Light-sensitive diazoketone and azide compositions and photographic elements |
GB1347759A (en) * | 1971-06-17 | 1974-02-27 | Howson Algraphy Ltd | Light sensitive materials |
JPS5539825B2 (de) * | 1972-05-12 | 1980-10-14 | ||
JPS5024641B2 (de) * | 1972-10-17 | 1975-08-18 | ||
US3950173A (en) * | 1973-02-12 | 1976-04-13 | Rca Corporation | Electron beam recording article with o-quinone diazide compound |
US4024122A (en) * | 1973-02-12 | 1977-05-17 | Rca Corporation | Method of purifying 2,4-bis(6-diazo-5,6-dihydro-5-oxo-1-naphthalenesulfonyloxy benzophenone) |
US3852771A (en) * | 1973-02-12 | 1974-12-03 | Rca Corp | Electron beam recording process |
DE2331377C2 (de) * | 1973-06-20 | 1982-10-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches Kopiermaterial |
US4169108A (en) * | 1973-08-16 | 1979-09-25 | Sterling Drug Inc. | 5(OR 6)-[(Substituted-amino)alkyl]-2,3-naphthalenediols |
US4327022A (en) * | 1973-08-16 | 1982-04-27 | Sterling Drug Inc. | Heterocyclic alkyl naphthols |
US4139384A (en) * | 1974-02-21 | 1979-02-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive polymeric o-quinone diazide containing lithographic printing plate and process of using the plate |
JPS5645127B2 (de) * | 1974-02-25 | 1981-10-24 | ||
US4007047A (en) * | 1974-06-06 | 1977-02-08 | International Business Machines Corporation | Modified processing of positive photoresists |
GB1513368A (en) * | 1974-07-08 | 1978-06-07 | Vickers Ltd | Processing of radiation-sensitive members |
DE2530502C2 (de) * | 1974-07-22 | 1985-07-18 | American Hoechst Corp., Bridgewater, N.J. | Verfahren zum gleichzeitigen Entwickeln und Konservieren von Druckplatten sowie dafür geeignete Behandlungslösung |
DE2447225C2 (de) * | 1974-10-03 | 1983-12-22 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zum Ablösen von positiven Photolack |
US4005437A (en) * | 1975-04-18 | 1977-01-25 | Rca Corporation | Method of recording information in which the electron beam sensitive material contains 4,4'-bis(3-diazo-3-4-oxo-1-naphthalene sulfonyloxy)benzil |
CA1085212A (en) * | 1975-05-27 | 1980-09-09 | Ronald H. Engebrecht | Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides |
DE2529054C2 (de) * | 1975-06-30 | 1982-04-29 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes |
US4148654A (en) * | 1976-07-22 | 1979-04-10 | Oddi Michael J | Positive acting photoresist comprising diazide ester, novolak resin and rosin |
DE2641099A1 (de) * | 1976-09-13 | 1978-03-16 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche kopierschicht |
DE2641100C2 (de) * | 1976-09-13 | 1987-02-26 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
US4059449A (en) * | 1976-09-30 | 1977-11-22 | Rca Corporation | Photoresist containing a thiodipropionate compound |
GB1604652A (en) * | 1977-04-12 | 1981-12-16 | Vickers Ltd | Radiation sensitive materials |
US4263387A (en) * | 1978-03-16 | 1981-04-21 | Coulter Systems Corporation | Lithographic printing plate and process for making same |
DE2828037A1 (de) * | 1978-06-26 | 1980-01-10 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch |
US4207107A (en) * | 1978-08-23 | 1980-06-10 | Rca Corporation | Novel ortho-quinone diazide photoresist sensitizers |
DE2948324C2 (de) * | 1978-12-01 | 1993-01-14 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Lichtempfindliches Gemisch, enthaltend eine Bisazidverbindung, und Verfahren zur Bildung von Mustern |
JPS561933A (en) * | 1979-06-18 | 1981-01-10 | Ibm | Resist composition |
US4284706A (en) * | 1979-12-03 | 1981-08-18 | International Business Machines Corporation | Lithographic resist composition for a lift-off process |
DE3040157A1 (de) * | 1980-10-24 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtemopfindliches gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
DE3100077A1 (de) * | 1981-01-03 | 1982-08-05 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch, das einen naphthochinondiazidsulfonsaeureester enthaelt, und verfahren zur herstellung des naphthochinondiazidsulfonsaeureesters |
US4431724A (en) * | 1981-01-07 | 1984-02-14 | Ovchinnikov Jury M | Offset printing plate and process for making same |
DE3100856A1 (de) * | 1981-01-14 | 1982-08-12 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-napthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
JPS57163234A (en) * | 1981-04-01 | 1982-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
DE3124936A1 (de) * | 1981-06-25 | 1983-01-20 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
DE3127754A1 (de) * | 1981-07-14 | 1983-02-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
US4499171A (en) * | 1982-04-20 | 1985-02-12 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Positive type photosensitive resin composition with at least two o-quinone diazides |
JPS59165053A (ja) * | 1983-03-11 | 1984-09-18 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
DE3220816A1 (de) * | 1982-06-03 | 1983-12-08 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Lichtempfindliche komponenten fuer positiv arbeitende fotoresistmaterialien |
GB2127175A (en) * | 1982-09-07 | 1984-04-04 | Letraset International Ltd | Manufacture of signs |
US4474864A (en) * | 1983-07-08 | 1984-10-02 | International Business Machines Corporation | Method for dose calculation of photolithography projection printers through bleaching of photo-active compound in a photoresist |
US4626491A (en) * | 1983-10-07 | 1986-12-02 | J. T. Baker Chemical Company | Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using |
JPS6088942A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
IT1169682B (it) * | 1983-11-08 | 1987-06-03 | I M G Ind Materiali Grafici Sp | Composizione per fotoriproduzioni |
US4535393A (en) * | 1983-11-10 | 1985-08-13 | Jahabow Industries, Inc. | Fluorescent lamp housing |
EP0147596A3 (de) * | 1983-12-30 | 1987-03-04 | International Business Machines Corporation | Positive lichtempfindliche lithographische Lackzusammensetzung |
US4596763A (en) * | 1984-10-01 | 1986-06-24 | American Hoechst Corporation | Positive photoresist processing with mid U-V range exposure |
JPS61141441A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-06-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
GB8505402D0 (en) * | 1985-03-02 | 1985-04-03 | Ciba Geigy Ag | Modified phenolic resins |
JPS6149895A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-03-11 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 印刷板の形成方法 |
US5217840A (en) * | 1985-08-12 | 1993-06-08 | Hoechst Celanese Corporation | Image reversal negative working o-quinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing treatment and element produced therefrom |
US4929536A (en) * | 1985-08-12 | 1990-05-29 | Hoechst Celanese Corporation | Image reversal negative working O-napthoquinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing |
US5256522A (en) * | 1985-08-12 | 1993-10-26 | Hoechst Celanese Corporation | Image reversal negative working O-naphthoquinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing |
US4684597A (en) * | 1985-10-25 | 1987-08-04 | Eastman Kodak Company | Non-precipitating quinone diazide polymer containing photoresist composition with o-quinone diazide trisester as dissolution inhibitor |
EP0227487B1 (de) * | 1985-12-27 | 1992-07-15 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Strahlungsempfindliche positiv arbeitende Kunststoffzusammensetzung |
DE3603578A1 (de) * | 1986-02-06 | 1987-08-13 | Hoechst Ag | Neue bis-1,2-naphthochinon-2-diazid-sulfonsaeure- amide, ihre verwendung in einem strahlungsempfindlichen gemisch und strahlungsempfindliches kopiermaterial |
US4737437A (en) * | 1986-03-27 | 1988-04-12 | East Shore Chemical Co. | Light sensitive diazo compound, composition and method of making the composition |
US4732836A (en) * | 1986-05-02 | 1988-03-22 | Hoechst Celanese Corporation | Novel mixed ester O-quinone photosensitizers |
US5035976A (en) * | 1986-05-02 | 1991-07-30 | Hoechst Celanese Corporation | Photosensitive article having phenolic photosensitizers containing quinone diazide and acid halide substituents |
US4732837A (en) * | 1986-05-02 | 1988-03-22 | Hoechst Celanese Corporation | Novel mixed ester O-quinone photosensitizers |
US4902785A (en) * | 1986-05-02 | 1990-02-20 | Hoechst Celanese Corporation | Phenolic photosensitizers containing quinone diazide and acidic halide substituents |
DE3784549D1 (de) * | 1986-05-02 | 1993-04-15 | Hoechst Celanese Corp | Positiv-arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial. |
US5162510A (en) * | 1986-05-02 | 1992-11-10 | Hoechst Celanese Corporation | Process for the preparation of photosensitive compositions containing a mixed ester o-quinone photosensitizer |
US4871644A (en) * | 1986-10-01 | 1989-10-03 | Ciba-Geigy Corporation | Photoresist compositions with a bis-benzotriazole |
US4835085A (en) * | 1986-10-17 | 1989-05-30 | Ciba-Geigy Corporation | 1,2-Naphthoquinone diazide sulfonyl ester compound with linking benzotriazole groups and light-sensitive composition with compound |
JP2568827B2 (ja) * | 1986-10-29 | 1997-01-08 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フオトレジスト組成物 |
JPS63178228A (ja) * | 1987-01-20 | 1988-07-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
US5182183A (en) * | 1987-03-12 | 1993-01-26 | Mitsubishi Kasei Corporation | Positive photosensitive planographic printing plates containing specific high-molecular weight compound and photosensitive ester of O-napthoquinonediazidosulfonic acid with polyhydroxybenzophenone |
US4818658A (en) * | 1987-04-17 | 1989-04-04 | Shipley Company Inc. | Photoactive esterification product of a diazooxide compound and a curcumin dye and photoresist materials with product |
US4962171A (en) * | 1987-05-22 | 1990-10-09 | Hoechst Celanese Corporation | Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists |
US5081001A (en) * | 1987-05-22 | 1992-01-14 | Hoechst Celanese Corporation | Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists |
US4810613A (en) * | 1987-05-22 | 1989-03-07 | Hoechst Celanese Corporation | Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists |
DE3718416A1 (de) * | 1987-06-02 | 1988-12-15 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung |
DE3729034A1 (de) * | 1987-08-31 | 1989-03-09 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden und hiermit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
JPH07119374B2 (ja) * | 1987-11-06 | 1995-12-20 | 関西ペイント株式会社 | ポジ型感光性カチオン電着塗料組成物 |
US5024921A (en) * | 1987-11-23 | 1991-06-18 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Thermally stable light-sensitive compositions with o-quinone diazide and phenolic resin used in a method of forming a positive photoresist image |
US4837121A (en) * | 1987-11-23 | 1989-06-06 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Thermally stable light-sensitive compositions with o-quinone diazide and phenolic resin |
US4970287A (en) * | 1987-11-23 | 1990-11-13 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Thermally stable phenolic resin compositions with ortho, ortho methylene linkage |
US5250669A (en) * | 1987-12-04 | 1993-10-05 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Photosensitive compound |
US4914000A (en) * | 1988-02-03 | 1990-04-03 | Hoechst Celanese Corporation | Three dimensional reproduction material diazonium condensates and use in light sensitive |
JP2629356B2 (ja) * | 1988-06-13 | 1997-07-09 | 住友化学工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
DE3822522A1 (de) * | 1988-07-04 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | 1,2-naphthochinon-2-diazid-sulfonsaeureamide und lichtempfindliche gemische, die diese enthalten |
US5248582A (en) * | 1988-09-07 | 1993-09-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive-type photoresist composition |
DE3837499A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-23 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von substituierten 1,2-naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsaeureestern und deren verwendung in einem strahlungsempfindlichen gemisch |
DE3837500A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-23 | Hoechst Ag | Neue, strahlungsempfindliche verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches gemisch und aufzeichnungsmaterial |
EP0410606B1 (de) | 1989-07-12 | 1996-11-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse |
US5196517A (en) * | 1989-10-30 | 1993-03-23 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use as photoactive compounds |
US5219714A (en) * | 1989-10-30 | 1993-06-15 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use in photoactive compounds and radiation sensitive mixtures |
US5019478A (en) * | 1989-10-30 | 1991-05-28 | Olin Hunt Specialty Products, Inc. | Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use in photoactive compounds and radiation sensitive mixtures |
US5075194A (en) * | 1990-01-09 | 1991-12-24 | Industrial Technology Research Institute | Positive photoresist composition containing 4,4-diester, 4,5-diester, or 5,5-diester of spiroglycol and 1-oxo-2-diazonaphthalene-5-sulfonic acid chloride |
US5238775A (en) * | 1990-02-20 | 1993-08-24 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive resin composition |
JP2865147B2 (ja) * | 1990-06-20 | 1999-03-08 | 関西ペイント株式会社 | ポジ型感光性電着塗料組成物 |
EP0525185B1 (de) * | 1991-01-11 | 1997-07-16 | Sumitomo Chemical Company Limited | Positivresistzusammensetzung |
JP2944296B2 (ja) | 1992-04-06 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
US5384228A (en) * | 1992-04-14 | 1995-01-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Alkali-developable positive-working photosensitive resin composition |
US5401605A (en) * | 1992-08-12 | 1995-03-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive working photosensitive resin composition containing 1,2-naphthoquinone diazide esterification product of triphenylmethane compound |
US5245518A (en) * | 1992-09-04 | 1993-09-14 | Jahabow Industries, Inc. | Lighting system |
JPH06342214A (ja) * | 1993-04-09 | 1994-12-13 | Mitsubishi Electric Corp | 微細レジストパターンの形成方法 |
JPH0876380A (ja) | 1994-09-06 | 1996-03-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型印刷版組成物 |
JP3290316B2 (ja) | 1994-11-18 | 2002-06-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
US5467260A (en) * | 1995-03-20 | 1995-11-14 | Jahabow Industries, Inc. | Lens retainer system for a showcase light |
US5618932A (en) * | 1995-05-24 | 1997-04-08 | Shipley Company, L.L.C. | Photoactive compounds and compositions |
GB9517669D0 (en) * | 1995-08-30 | 1995-11-01 | Cromax Uk Ltd | A printing apparatus and method |
JP3522923B2 (ja) | 1995-10-23 | 2004-04-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀感光材料 |
US5645970A (en) * | 1995-10-25 | 1997-07-08 | Industrial Technology Research Institute | Weak base developable positive photoresist composition containing quinonediazide compound |
CA2191055A1 (en) | 1995-12-04 | 1997-06-05 | Major S. Dhillon | Aqueous developable negative acting photosensitive composition having improved image contrast |
DE69700397T2 (de) | 1996-04-23 | 2000-04-13 | Kodak Polychrome Graphics Co. Ltd., Norwalk | Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme |
US6117610A (en) * | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
GB9622657D0 (en) | 1996-10-31 | 1997-01-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Direct positive lithographic plate |
US6063544A (en) * | 1997-03-21 | 2000-05-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging |
US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
EP0953166B1 (de) | 1997-07-05 | 2001-08-16 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Bilderzeugungsverfahren |
US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
US6040107A (en) * | 1998-02-06 | 2000-03-21 | Olin Microelectronic Chemicals, Inc. | Photosensitive diazonaphthoquinone esters based on selected cyclic alkyl ether-containing phenolics and their use in radiation sensitive mixtures |
US6045963A (en) * | 1998-03-17 | 2000-04-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Negative-working dry planographic printing plate |
US6454789B1 (en) * | 1999-01-15 | 2002-09-24 | Light Science Corporation | Patient portable device for photodynamic therapy |
US6602274B1 (en) | 1999-01-15 | 2003-08-05 | Light Sciences Corporation | Targeted transcutaneous cancer therapy |
US6296982B1 (en) | 1999-11-19 | 2001-10-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imaging articles |
AU776933B2 (en) | 1999-12-28 | 2004-09-23 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Heterocyclic compounds having sulfonamide groups |
US20050037293A1 (en) * | 2000-05-08 | 2005-02-17 | Deutsch Albert S. | Ink jet imaging of a lithographic printing plate |
US6511790B2 (en) | 2000-08-25 | 2003-01-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
WO2002055199A2 (en) | 2000-10-30 | 2002-07-18 | Sequenom Inc | Method and apparatus for delivery of submicroliter volumes onto a substrate |
DE60144036D1 (de) | 2000-11-30 | 2011-03-24 | Fujifilm Corp | Flachdruckplattenvorläufer |
US20040067435A1 (en) | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
US7090958B2 (en) * | 2003-04-11 | 2006-08-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Positive photoresist compositions having enhanced processing time |
DE10345362A1 (de) * | 2003-09-25 | 2005-04-28 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Verfahren zur Verhinderung von Beschichtungsdefekten |
JP4404734B2 (ja) | 2004-09-27 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4474296B2 (ja) | 2005-02-09 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4404792B2 (ja) | 2005-03-22 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
ATE487695T1 (de) * | 2007-03-23 | 2010-11-15 | Council Scient Ind Res | Neues diazo-naphthochinon-schwefelsäure- bisphenolderivat für fotolithografische submikronstrukturierung und herstellungsverfahren dafür |
US9130402B2 (en) | 2007-08-28 | 2015-09-08 | Causam Energy, Inc. | System and method for generating and providing dispatchable operating reserve energy capacity through use of active load management |
WO2009039122A2 (en) | 2007-09-17 | 2009-03-26 | Sequenom, Inc. | Integrated robotic sample transfer device |
JP2009085984A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
JP4890403B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2009083106A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法 |
JP4994175B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法 |
JP4790682B2 (ja) | 2007-09-28 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JPWO2009063824A1 (ja) | 2007-11-14 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法 |
JP2009236355A (ja) | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 乾燥方法及び装置 |
JP5164640B2 (ja) | 2008-04-02 | 2013-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP5183380B2 (ja) | 2008-09-09 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版 |
JP2010237435A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
JP5756457B2 (ja) | 2009-04-06 | 2015-07-29 | アジオス ファーマシューティカルズ, インコーポレイテッド | ピルビン酸キナーゼm2調節剤、治療組成物および関連する使用方法 |
DK2427441T3 (en) * | 2009-05-04 | 2017-03-20 | Agios Pharmaceuticals Inc | PKM2 Activators for use in the treatment of cancer |
DK2448581T3 (en) | 2009-06-29 | 2017-03-13 | Agios Pharmaceuticals Inc | Therapeutic compositions and methods for their applications |
SG177434A1 (en) | 2009-06-29 | 2012-02-28 | Agios Pharmaceuticals Inc | Therapeutic compounds and compositions |
WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
EP2597089A1 (de) | 2009-10-29 | 2013-05-29 | Bristol-Myers Squibb Company | Tricyclische heterocyclische Verbindungen |
JP2013525438A (ja) * | 2010-04-29 | 2013-06-20 | アメリカ合衆国 | ヒトピルビン酸キナーゼ活性剤 |
JP5837091B2 (ja) | 2010-12-17 | 2015-12-24 | アジオス ファーマシューティカルズ, インコーポレイテッド | ピルビン酸キナーゼm2(pkm2)調節剤としての新規n−(4−(アゼチジン−1−カルボニル)フェニル)−(ヘテロ−)アリールスルホンアミド誘導体 |
EP2655350B1 (de) | 2010-12-21 | 2016-03-09 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Bicyclische pkm2-aktivatoren |
TWI549947B (zh) | 2010-12-29 | 2016-09-21 | 阿吉歐斯製藥公司 | 治療化合物及組成物 |
KR20140014217A (ko) | 2011-03-10 | 2014-02-05 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 여과 매체 |
US9181231B2 (en) | 2011-05-03 | 2015-11-10 | Agios Pharmaceuticals, Inc | Pyruvate kinase activators for use for increasing lifetime of the red blood cells and treating anemia |
PH12013502241A1 (en) | 2011-05-03 | 2014-01-06 | Agios Pharmaceuticals Inc | Pyruvate kinase activators for use in therapy |
US8703385B2 (en) | 2012-02-10 | 2014-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Photoresist composition |
JP5490168B2 (ja) | 2012-03-23 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5512730B2 (ja) | 2012-03-30 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
US8715904B2 (en) | 2012-04-27 | 2014-05-06 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable composition |
US9217920B2 (en) | 2012-08-09 | 2015-12-22 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable compositions |
US8883402B2 (en) | 2012-08-09 | 2014-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable compositions |
WO2014139144A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Therapeutic compounds and compositions |
EP4344703A1 (de) | 2015-06-11 | 2024-04-03 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Verfahren zur verwendung von pyruvatkinaseaktivatoren |
US11053836B1 (en) | 2019-12-30 | 2021-07-06 | Brunswick Corporation | Marine drives having integrated exhaust and steering fluid cooling apparatus |
CN116789562B (zh) * | 2023-06-27 | 2024-06-04 | 安徽觅拓材料科技有限公司 | 一种重氮萘醌磺酸酯化合物及其制备方法和应用 |
CN119350200A (zh) * | 2023-12-06 | 2025-01-24 | 湖北三峡实验室 | 一种电子级重氮萘醌类光引发剂的纯化方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1761528A (en) * | 1928-08-10 | 1930-06-03 | Nils J A Fyrberg | Reflector for light projectors |
US2291494A (en) * | 1940-11-05 | 1942-07-28 | Miller Co | System of lighting and lighting unit for use therein |
BE455215A (de) * | 1943-01-14 | |||
US2556690A (en) * | 1945-09-12 | 1951-06-12 | Edwin F Guth | Lighting fixture for elongated tubular lamps having means to shield the lamps |
US2564373A (en) * | 1946-02-15 | 1951-08-14 | Edwd F Caldwell & Co Inc | Recessed fluorescent lighting fixture having means to direct the light rays close tothe fixture supporting wall |
US2591661A (en) * | 1947-03-07 | 1952-04-01 | Century Lighting Inc | Reflector for controlling at a predetermined angle direct and reflected rays from a light source |
NL78797C (de) * | 1949-07-23 | |||
US2540784A (en) * | 1950-01-21 | 1951-02-06 | Hubbard & Co | Detachable bracket construction for lighting arms |
DE871668C (de) * | 1950-06-17 | 1953-03-26 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und Material zur Durchfuehrung des Verfahrens |
US2702243A (en) * | 1950-06-17 | 1955-02-15 | Azoplate Corp | Light-sensitive photographic element and process of producing printing plates |
NL162959B (nl) * | 1950-08-01 | Unilever Nv | Werkwijze ter bereiding van een vast wasmiddel. | |
US2728849A (en) * | 1950-08-17 | 1955-12-27 | Samuel L Beber | Lighting fixture |
US2750142A (en) * | 1950-11-08 | 1956-06-12 | Elreco Corp | Fitting or coupling for bracket arm |
DE872154C (de) * | 1950-12-23 | 1953-03-30 | Kalle & Co Ag | Photomechanisches Verfahren zur Herstellung von Bildern und Druckformen mit Hilfe von Diazoverbindungen |
NL77540C (de) * | 1950-12-23 | |||
US2694775A (en) * | 1951-02-02 | 1954-11-16 | Lightolier Inc | Lighting fixture |
US2740885A (en) * | 1951-06-25 | 1956-04-03 | A L Smith Iron Company | Adjustable fluorescent light fixture |
DE930608C (de) * | 1951-09-28 | 1955-07-21 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
US2762243A (en) * | 1953-08-14 | 1956-09-11 | Fosdick Machine Tool Co | Machine tool clamping mechanism |
US2886699A (en) * | 1957-09-23 | 1959-05-12 | Mc Graw Edison Co | Fluorescent luminaire |
-
0
- NL NL78797D patent/NL78797C/xx active
- NL NL80569D patent/NL80569C/xx active
- BE BE510151D patent/BE510151A/xx unknown
- BE BE497135D patent/BE497135A/xx unknown
- DE DENDAT907739D patent/DE907739C/de not_active Expired
- BE BE508815D patent/BE508815A/xx unknown
- BE BE516129D patent/BE516129A/xx unknown
- BE BE500222D patent/BE500222A/xx unknown
- NL NL80628D patent/NL80628C/xx active
- NL NL78723D patent/NL78723C/xx active
- NL NL76414D patent/NL76414C/xx active
- DE DENDAT879203D patent/DE879203C/de not_active Expired
- BE BE510152D patent/BE510152A/xx unknown
- BE BE510563D patent/BE510563A/xx unknown
-
1949
- 1949-07-24 DE DEP49803D patent/DE854890C/de not_active Expired
- 1949-12-28 DE DEO205A patent/DE865109C/de not_active Expired
-
1950
- 1950-07-19 AT AT171431D patent/AT171431B/de active
- 1950-07-21 FR FR1031581D patent/FR1031581A/fr not_active Expired
- 1950-07-21 CH CH295106D patent/CH295106A/de unknown
- 1950-07-21 GB GB18320/50A patent/GB699412A/en not_active Expired
- 1950-07-21 CH CH292832D patent/CH292832A/de unknown
- 1950-08-01 DE DEO940A patent/DE888204C/de not_active Expired
- 1950-12-22 GB GB31294/50A patent/GB706028A/en not_active Expired
- 1950-12-26 FR FR60499D patent/FR60499E/fr not_active Expired
- 1950-12-27 CH CH302817D patent/CH302817A/de unknown
- 1950-12-27 AT AT177053D patent/AT177053B/de active
-
1951
- 1951-02-02 DE DEK8877A patent/DE894959C/de not_active Expired
- 1951-03-24 DE DEK9441A patent/DE922506C/de not_active Expired
- 1951-03-24 DE DEK16195A patent/DE928621C/de not_active Expired
- 1951-07-24 FR FR62126D patent/FR62126E/fr not_active Expired
- 1951-07-30 AT AT179194D patent/AT179194B/de active
- 1951-07-31 GB GB18130/51A patent/GB708834A/en not_active Expired
- 1951-07-31 CH CH308002D patent/CH308002A/de unknown
-
1952
- 1952-01-25 AT AT181493D patent/AT181493B/de active
- 1952-01-29 GB GB2445/52A patent/GB729746A/en not_active Expired
- 1952-01-30 FR FR63606D patent/FR63606E/fr not_active Expired
- 1952-02-01 CH CH306897D patent/CH306897A/de unknown
- 1952-03-21 GB GB7434/52A patent/GB732544A/en not_active Expired
- 1952-03-21 GB GB7433/52A patent/GB723242A/en not_active Expired
- 1952-03-21 FR FR63708D patent/FR63708E/fr not_active Expired
- 1952-03-22 AT AT198127D patent/AT198127B/de active
- 1952-03-22 FR FR64118D patent/FR64118E/fr not_active Expired
- 1952-03-22 AT AT189925D patent/AT189925B/de active
- 1952-03-22 AT AT184821D patent/AT184821B/de active
- 1952-03-24 CH CH315139D patent/CH315139A/de unknown
- 1952-03-24 CH CH318851D patent/CH318851A/de unknown
- 1952-03-24 FR FR64119D patent/FR64119E/fr not_active Expired
- 1952-03-24 CH CH317504D patent/CH317504A/de unknown
- 1952-11-25 FR FR64216D patent/FR64216E/fr not_active Expired
- 1952-11-28 GB GB30289/52A patent/GB774272A/en not_active Expired
- 1952-11-28 AT AT201430D patent/AT201430B/de active
- 1952-12-04 FR FR65465D patent/FR65465E/fr not_active Expired
- 1952-12-13 CH CH316606D patent/CH316606A/de unknown
-
1958
- 1958-02-14 US US715222A patent/US3046118A/en not_active Expired - Lifetime
- 1958-02-14 US US715221A patent/US3046117A/en not_active Expired - Lifetime
- 1958-02-14 US US715220A patent/US3046116A/en not_active Expired - Lifetime
- 1958-03-03 US US718431A patent/US3046122A/en not_active Expired - Lifetime
- 1958-03-03 US US718477A patent/US3046123A/en not_active Expired - Lifetime
-
1959
- 1959-02-04 US US791161A patent/US3064124A/en not_active Expired - Lifetime
-
1962
- 1962-01-02 US US163875A patent/US3046111A/en not_active Expired - Lifetime
- 1962-01-02 US US163874A patent/US3046110A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1254466B (de) * | 1961-01-25 | 1967-11-16 | Kalle Ag | Kopiermaterial fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen und Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
EP0268790A2 (de) | 1986-10-17 | 1988-06-01 | Hoechst Aktiengesellschaft | Verfahren zur abtragenden Modifizierung von mehrstufig aufgerauhten Trägermaterialien aus Aluminium oder dessen Legierungen und deren Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplatten |
US5755949A (en) * | 1993-12-22 | 1998-05-26 | Agfa-Gevaert Ag | Electrochemical graining method |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE894959C (de) | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares Material | |
DE865860C (de) | Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Reproduktion | |
DE1422474A1 (de) | Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen | |
DE1472772A1 (de) | Lichtempfindliches Material,insbesondere fuer die fotomechanische Herstellung von Druckplatten | |
DE929460C (de) | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Flachdruckformen und lichtempfindliches Material dafuer | |
DE1114705C2 (de) | Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen | |
DE1237899B (de) | Verfahren zur Herstellung von vorsensibilisierten Flachdruckfolien | |
DE1097273B (de) | o-Chinondiazide enthaltende Kopierschichten fuer Flachdruckformen | |
DE1447015B2 (de) | Lichtempfindliche schichten zur herstellung von druckformen | |
DE950618C (de) | Verfahren zur Herstellung von Druckformen aus lichtempfindlichem Material, welches aus einem metallischen Traeger und einer darauf haftenden kolloidfreien lichtempfindlichen Schicht besteht | |
DE1224147B (de) | Verfahren zur Umkehrentwicklung von Diazo-verbindungen enthaltenden Kopierschichten | |
DE943209C (de) | Lichtempfindliches Material fuer photomechanische Reproduktionen | |
DE1053930B (de) | Lichtempfindliches Material fuer die Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege | |
DE960335C (de) | Lichtempfindliches Material | |
DE865108C (de) | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen | |
DE937569C (de) | Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen | |
DE1134887B (de) | Kopierschichten zur Herstellung von Druckformen auf photomechanischem Wege | |
DE872154C (de) | Photomechanisches Verfahren zur Herstellung von Bildern und Druckformen mit Hilfe von Diazoverbindungen | |
DE871668C (de) | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und Material zur Durchfuehrung des Verfahrens | |
DE955928C (de) | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Metalldruckformen unter Verwendung von Diazosulfonaten als Lichtempfindliche Substanzen | |
DE900172C (de) | Verfahren zur Herstellung von besonders als Druckformen verwendbaren Reproduktionen von Originalen mit Hilfe von Diazoverbindungen | |
DE876202C (de) | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen | |
DE901500C (de) | Lichtempfindliche Schichten auf Material zur photomechanischen Reproduktion | |
DE1003576B (de) | Aus Schichttraeger und lichtempfindlicher, wasserloeslicher oder wasserquellbarer Kolloidschicht bestehendes Material fuer die Herstellung von Gerbbildern | |
DE930608C (de) | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |