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DE69226174T2 - Elektrophoretische anzeigtafel mit beschichteten halbleiterelementen - Google Patents

Elektrophoretische anzeigtafel mit beschichteten halbleiterelementen

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DE69226174T2
DE69226174T2 DE69226174T DE69226174T DE69226174T2 DE 69226174 T2 DE69226174 T2 DE 69226174T2 DE 69226174 T DE69226174 T DE 69226174T DE 69226174 T DE69226174 T DE 69226174T DE 69226174 T2 DE69226174 T2 DE 69226174T2
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Germany
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Frank Disanto
Denis Krusos
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Anixa Biosciences Inc
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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft Vorrichtungen mit elektrophoretischem Anzeigefeld und Verfahren zum Herstellen dieser Vorrichtungen und spezieller ein elektrophoretisches Trioden- Anzeigefeld mit einer verbesserten Isolierung zwischen den Zeilen- und Spaltenleitern, wodurch eine verbesserte Zuverlässigkeit und Klarheit des Bildes erreicht wird.
  • Es sind eine Vielzahl elektrophoretischer Anzeigefelder bekannt. Am relevantesten für die vorliegende Erfindung sind die Anzeigefelder, die in folgenden Patenten gezeigt und beschrieben sind: US-A-4,655,897 mit dem Titel "Electrophoretic Display Panels and Associated Methods", US-A-4,742,345 mit dem Titel "Electrophoretic Display Panel Apparatus and Methods Therefore" und US-A-4,772,820 mit dem Titel "Monolythic Flat Panel Display Apparatus". Alle der genannten US-Patente laufen auf die Namen von Frank J. Disanto und Denis A. Krusos, deren Erfinder, und wurden auf die vorliegende Anmelderin COPYTELE, Inc. übertragen. Die Anzeigefelder der obigen Patente arbeiten nach demselben Grundprinzip, bei dem dann, wenn eine Suspension aus elektrisch geladenen Pigmentpartikeln in einem dielektrischen Fluid einem angelegten elektrostatischen Feld ausgesetzt wird, die Pigmentpartikel abhängig von dem elektrostatischen Feld durch das Fluid wandern. Bei einer im wesentlichen homogenen Partikelsuspension mit einer Pigmentfarbe, die sich von der des dielektrischen Fluids unterscheidet, bewirkt das angelegte elektrostatische Feld dann, wenn es örtlich begrenzt ist, eine optisch wahrnehmbare, örtlich begrenzte Pigmentpartikelwanderung. Die örtlich begrenzte Pigmentpartikelwanderung führt entweder zu einem örtlich begrenzten Bereich der Konzentration oder Ausdünnung der Partikel abhängig vom Vorzeichen und der Richtung der elektrostatischen Kraft und der Ladung der Pigmentpartikel. Jede der in den oben genannten US-Patenten offenbarten elektrophoretischen Anzeigevorrichtungen ist eine Triodenanzeige mit mehreren unabhängigen, parallelen Kathodenzeilen-Leiterelementen, die in der Horizontalen auf einer Oberfläche eines Glas-Sichtbildschirms aufgebracht sind. Eine Schicht aus isolierendem Photoresistmaterial, das über die Kathodenelemente aufgebracht ist und hinunter bis zu den Kathodenelementen photogeätzt ist, um mehrere Isolierstreifen zu bilden, die mit rechten Winkeln zu den Kathodenelementen angeordnet sind, bildet die Unterlage für mehrere unabhängige, parallele Spaltengitter-Leiterelemente, die in der vertikalen Richtung verlaufen. Ein Abdeckelement aus Glas bildet einen fluiddichten Verschluß mit dem Sichtfenster entlang der Umfangskante der Abdeckung, um die Fluiddispension einzuschließen, und es dient auch als Träger für die Anode, die eine Leiterschicht ist, welche auf die flache Innenseite der Abdeckung aufgebracht ist. Wenn die Abdeckung in Position ist, ist die Anodenfläche mit Abstand parallel zu sowohl den Kathodenelementen als auch den Gitterelementen angeordnet. Bei einer gegebenen Partikelsuspension ist das Vorzeichen der elektrostatischen Ladung, welche die Pigmentpartikel anzieht und abstößt, bekannt. Die Kathodenelementspannung und die Gitterelementspannung können dann so festgelegt werden, daß dann, wenn eine bestimmte Spannung an die Kathode angelegt wird und eine andere Spannung an das Gitter angelegt wird, der Bereich in der Nähe ihrer Schnittstelle insgesamt eine Ladung annimmt, die ausreicht, um Pigmentpartikel in der Suspension in dem dielektrischen Fluid anzuziehen oder abzustoßen. Da viele Kathoden- und Gitterleitungen verwendet werden, gibt es zahlreiche diskrete Schnittpunkte, die kontrolliert werden können, indem die Spannung an den Kathoden- und Gitterelementen verändert wird, um lokal begrenzte, sichtbare Bereich der Pigmentkonzentration und -ausdünnung zu erzeugen.
  • Die oben beschriebene elektrophoretischen Anzeigen verwenden zahlreiche elektrisch und physisch unabhängige Kathoden- und Gitterelemente. Ein Anzeigeschirm mit einer Größe von z.B. 8½ Inch x 11 Inch (21,6 cm x 27,9 cm) und mit einer Auflösung von 7,9 Zeilen pro Millimeter (200 Zeilen pro Inch) hat 2.200 horizontale Kathodenzeilenelemente und 1.700 vertikale Spalten-Gitterelemente. Im allgemeinen ist es wünschenswert, eine maximale Anzahl horizontaler und vertikaler Elemente bei einer kleinstmöglichen Breite zu haben. Dies führt zu einer Erhöhung der Auflösung und der Bildschirmhelligkeit; d.h. je mehr Koordinaten es gibt, desto größer ist die Auflösung, je geringer die Breite jedes Elements ist, desto weniger wird der elektrophoretische Effekt verdunkelt. Die elektrophoretische Anzeige stellt also eine Herausforderung dar, die allgemein auf dem Gebiet der dicht gepackten, miniaturisierten elektrischen Einrichtung gilt; während es nämlich möglich ist, Photoätztechniken und dergleichen zu verwenden, um extrem kleine Schaltungskomponenten zu erzeugen, um kompakte Schaltkreise zu ermöglichen, ist es manchmal schwierig, zu verhindern, daß unerwünschte Stromwege aufgrund der großen Nähe der miniaturisierten Elemente Kurzschlüsse bewirken. Bei elektrophoretischen Anzeigen wird dieses Problem durch die Tatsache verschlimmert, daß die jeweiligen unabhängigen Elemente alle in ein gemeinsames dielektrisches Fluid eingetaucht sind und nahe beiemanderliegend einen gemeinsamen Raum teilen, der von der Anzeigenhülle eingegrenzt wird. Es besteht daher die Gefahr, daß unerwünschte Ströme entstehen, z.B. entlang der Wand des Isolators, der die Kathoden- und Gitterelemente bei einer bestimmten Stelle oder Stellen trennt, d.h. ein "Wandstrom". Wenn sich ein Wandstrom entwickelt, erscheint er als ein Kurzschluß zwischen einem Kathodenelement und einem Gitterelement und führt zu einem Anzeigefehler.
  • Eine Form elektrophoretischer Anzeige des Standes der Technik ist in der US-A-4,218,302 beschrieben. Diese Anzeige datiert vor der Miniaturisierung, durch die erst die Probleme entstanden, mit denen sich die vorliegende Erfindung befaßt. Bei dieser Anzeige kann die Photoresistschicht zwischen der Kathode und dem Gitter unangetastet bleiben, obwohl sie vorzugsweise ein Muster aufweist, um Taschen vorzusehen, die sich bis zu der Kathode hinunter erstrecken.
  • Das Deutsche Patent DE-A-3 315 669 betrifft Fortschritte bei Flüssigkristallanzeigen und keine elektrophoretischen Anzeigen. Es offenbart jedoch die Verwendung von SiO&sub2; als Isolator in Verbindung mit dieser anderen Technologie.
  • Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine elektrophoretische Anzeige vorzusehen, die verhindert, daß zwischen den Leiterelementen unerwünschte Ströme, wie "Wandströme" oder andere Kurzschlüsse, auftreten.
  • Es ist eine weitere Aufgabe, eine Isolatorkonfiguration mit größerer dielektrischer Festigkeit vorzusehen, um die unabhängigen elektrischen Elemente in einer elektrophoretischen Anzeige wirksam zu isolieren.
  • Noch eine weitere Aufgabe ist es, ein verbessertes Verfahren zum Herstellen elektrophoretischer Anzeigen vorzusehen, das zu einer Isolatorkonfiguration mit einer verbesserten dielektrischen Festigkeit führt, um die unabhängigen elektrischen Elemente in der Anzeige wirksam zu isolieren.
  • Die Probleme und Nachteile bei den herkömmlichen elektrophoretischen Anzeigen werden von der vorliegenden Erfindung überwunden, die eine elektrophoretische Anzeige mit folgenden Merkmalen vorsieht:
  • (a) einer fluiddichten Hülle mit einem Abschnitt, der wenigstens teilweise transparent ist;
  • (b) einem elektrophoretischen Fluid, das in der Hülle enthalten ist, wobei in dem Fluid Pigmentpartikel schweben;
  • (c) mehreren langgestreckten, im wesentlichen parallelen horizontalen Leiterelementen, die in einer ersten Ebene angeordnet sind und in der Hülle enthalten sind;
  • (d) mehreren langgestreckten, im wesentlichen parallelen vertikalen Leiterelementen, die in der Hülle enthalten und in einer zweiten Ebene angeordnet sind;
  • (e) einer ersten Isolierschicht aus Photoresistmaterial, die zwischen den horizontalen Elementen und dem vertikalen Element angeordnet ist, um eine elektrische Isolierung zwischen diesen vorzusehen;
  • (f) wobei die erste und die zweite Ebene im wesentlichen parallel sind, die horizontalen Elemente und die vertikalen Elemente eine Matrix mit mehreren Schnittpunkten bilden, wenn man sie entlang einer Linie betrachtet, die senkrecht zu der ersten und der zweiten Ebene ist, die horizontalen Elemente und die vertikalen Elemente jeweils selektiv elektrisch ladbar sind, um eine Bewegung der Partikel in dem Fluid zu induzieren, und die Partikel durch den transparenten Abschnitt der Hülle wenigstens teilweise sichtbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß eine zweite Isolierschicht aus einem SiO&sub2;- oder einem SiN-Material auf Halbleiterbasis über den horizontalen Elementen unter der ersten Isolierschicht angeordnet ist, um einen elektrischen Kurzschluß zwischen den horizontalen Elementen und den vertikalen Elementen durch die erste Isolierschicht zu verhindern.
  • Für ein besseres Verständnis der vorliegenden Erfindung wird Bezug genommen auf die folgende detaillierte Beschreibung eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit der Zeichnung. In den Figuren zeigt:
  • Figur 1 eine Rückansicht eines elektrophoretischen Trioden- Anzeigefeldes in Explosionsdarstellung, das mit den früheren Patenten übereinstimmt, die für die vorliegenden Erfinder erteilt wurden;
  • Figur 2 ist eine perspektivische Darstellung eines Ausschnitts der Innenfläche der Schirmplatte des elektrophoretischen Anzeigefeldes der Figur 1, um 90º im Uhrzeigersinn gedreht, in dem Bereich der Schnittstelle eines einzelnen Kathodenelementes mit einem einzelnen Gitterelement;
  • Figur 3 ist ein Ausschnitt der Schirmplatte einer elektrophoretischen Triodenanzeige gemäß Figur 2, ebenfalls relativ zu Figur 1 um 90º im Uhrzeigersinn gedreht, jedoch mit einer Isolatorkonfiguration gemäß eines ersten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung;
  • Figur 4 ist ein Ausschnitt einer Schirmplatte einer elektrophoretischen Triodenanzeige gemäß den Figuren 2 und 3, ebenfalls im Verhältnis zu Figur 1 um 90º im Uhrzeigersinn gedreht, jedoch mit einer Isolatorkonfiguration gemäß eines zweiten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung; und
  • Figur 5 ist ein Ausschnitt einer Schirmplatte einer elektrophoretischen Triodenanzeige gemäß den Figuren 2, 3 und 4, ebenfalls im Verhältnis zu Figur 1 um 90º im Uhrzeigersinn gedreht, jedoch mit einer Isolatorkonfiguration gemäß eines dritten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung.
  • Figur 1 zeigt die Rückseite eines elektrophoretischen Anzeigefeldes 10, das z.B. aus der US-A-4,742,395 von Disanto et al. bekannt ist, wobei der grundsätzliche Aufbau und die Komponenten eines elektrophoretischen Anzeigefeldes dargestellt sind. Das Feld 10 umfaßt eine Schirmplatte, die üblicherweise aus Glas hergestellt ist und als ein Träger dient, auf den mit üblichen Ablagerungs- und Ätztechniken mehrere unabhängige, elektrisch leitende Kathodenelemente 14 (horizontale Zeilen) aufgebracht werden. Vorzugsweise bestehen diese Kathodenelemente 14 aus Indium-Zinn-Oxid (ITQ), wie in der US-A-5,742,345 erklärt ist. In der Vertikalen werden mehrere unabhängige Gitterleiterelemente 16 über den Kathodenelementen 14 aufgebracht und von diesen durch eine Photoresist-Zwischenschicht 19 getrennt (siehe Figur 2). Die Gitterleiterelemente 16 können geformt werden, indem die Photoresistschicht 18 mit einem Man tel aus Metall, wie Nickel, mittels Sputtertechniken oder dergleichen und anschließendem selektivem Maskieren und Ätzen hergestellt werden, um die sich schneidende, dabei aber isolierte Konfiguration zu erzielen, die in den Figuren 1 und 2 gezeigt ist. Jedes Kathodenelement und jedes Gitterelement 14, 16 endet bei einem Ende eines Kontaktfeldes oder ist auf andere Weise dazu vorbereitet, es mit einer Anzeige-Ansteuerschaltung (nicht gezeigt) zu verbinden. Eine Anodenabdeckung 20 ist abgedichtet auf der Schirmplatte 12 und über den Kathoden- und Gitterelementen 14 und 16 befestigt und bildet eine Hülle, welche die dielektrische Fluid/Pigmentpartikel-Suspension einschließen kann. Die Anodenabdeckung 20 wird aus einem Isoliermaterial, wie Glas, hergestellt und hat auf ihrer Innenfläche eine Beschichtung aus einem Leitermaterial, um die Anode zu bilden. Durch Anlegen von Spannungen an die Kathoden- und Gitterelemente 14 und 16 und die Anode 20 kann erreicht werden, daß die in dem dielektrischen Fluid schwebenden Pigmentpartikel sich in der Nähe der Schnittstellen ausgewählter Kathoden und Gitterelemente 14 und 16 ansammeln oder sich von diesem entfernen, um die Spannungen in eine sichtbare Anzeige zu übersetzen.
  • Die einzelnen Kathoden- und Gitterelemente 14 und 16 der elektrophoretischen Anzeige 10 können während des Betriebs für die Steuerung der Anzeigeoperationen oder das Löschen, Halten und Schreiben bei den verschiedenen Schnittpunkten, welche eine Kathoden/Gitter-Matrix bilden, viele verschiedene Spannungen annehmen. Ein arbeitsfähiges Feld hätte eine große Anzahl Schnittstellen, z.B. 2.200 x 1.700 oder insgesamt 3.740.000 getrennt adressierbare Schnittpunkte. Der Einfachheit halber ist jedoch nur eine kleine Gruppe der Schnittstellen in Figur 1 gezeigt, und in den übrigen Figuren ist nur eine einzige Schnittstelle dargestellt. Die Dimensionen der jeweiligen Elemente sind ebenfalls für die Darstellung stark vergrößert, und sie sind nicht notwendig proportional zu einer tatsächlich arbeitenden Einrichtung. Repräsentative Darstellungen elektrophoretischer Anzeigen, ihrer Komponenten und elektrischen Schaltkreise sind in der US-A-4,742,345 und der US-A-4,772,820 dargestellt, die auf dieselben Erfindern wie die vorliegende Erfindung zurückgehen.
  • Die geschnittene Teildarstellung der elektrophoretischen Anzeige, die in Figur 2 gezeigt ist, zeigt ein einziges Kathodenelement 14, über dem eine einzelne Photoresist-Zwischenisolierschicht 18 liegt, welche ein einzelnes, das Kathodenelement schneidendes Gitterelement 16 gegenüber dem Kathodenelement 14 isoliert. Eine Schwierigkeit, die manchmal bei elektrophoretischen Anzeigen mit einem Aufbau wie dem in Figur 2 gezeigten auftritt, besteht darin, daß der relativ geringe Abstand zwischen den Kathodenelementen 14 und Gitterelementen 16 versehentlich elektrisch überbrückt werden kann, üblicherweise entlang der Wand der Isolierschicht 18 in der Nähe der Schnittstelle der Elemente. Dieser Kurzschluß der Elemente stört korrekte Anzeigemuster und führt zu einem Anzeigefehler, z.B. dazu, daß eine Schnittstelle, die angezeigt werden soll, nicht angezeigt wird, oder umgekehrt.
  • In den Figuren 3, 4 und 5 werden dieselben Bezugszeichen verwendet wie in den Figuren 1 und 2, um äquivalente Elemente mit derselben Form und Funktion zu beschreiben. Figur 3 zeigt eine geschnittene Teildarstellung einer elektrophoretischen Anzeige gemäß eines ersten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung. Die Anzeige ist wie die in Figur 2, jedoch mit einer verbesserten Isolatorkonfiguration, welche die oben erläuterten Kurzschlüsse zwischen den Kathodenelementen 14 und den Gitterelementen 16 verhindert. Der in Figur 3 gezeigte Ausschnitt der Anzeige umfaßt eine SiO&sub2;- oder SiN-Materialschicht 22 auf Halbleiterbasis, die über der Schirmplatte 12 und den Kathodenelementen 14 und unter der Isolierschicht 18 angeordnet ist. Diese Konfiguration verhindert elektrische Kurzschlüsse zwischen den Kathoden- und Gitterelementen 14 und 16 und wird in Übereinstimmung mit dem folgenden Herstellungsverfahren hergestellt. Nach dem Ätzen der Kathodenzeilenelemente 14 gemäß der US-A-4,742,345 und vor dem Aufbringen der Isolierschicht 18 werden die Glasschirmplatte 12 und die Kathodenzeilenelemente 14 mit einer Schicht 22 aus einem SiO&sub2;- oder SiN-Material auf Halbleiterbasis beschichtet, z.B. mit SiO&sub2; oder SiN. Die Schicht wird vorzugsweise mit einem Verdampfungs- und Ablagerungsprozeß aufgebracht, der im Stand der Technik bekannt ist. Nachdem die SiO&sub2;- oder SiN-Schicht 22 auf Halbleiterbasis aufgebracht ist, werden der Isolator 18 und die Gitterelemente 16 wie in der US-A-4,742,345 beschrieben aufgebracht.
  • Figur 4 zeigt eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, bei der die in Figur 2 gezeigte und beschriebene Vorrichtung mit einer äußeren SiO&sub2;- oder SiN-Materialschicht 24 auf Halbleiterbasis, z.B. mit SiO&sub2; oder SiN, vollständig beschichtet ist, um eine verbesserte elektrische Isolierung zwischen den Kathodenelementen 14 und den Gitterelementen 16 vorzusehen. Anders als bei der in Figur 3 gezeigten Ausführungsform wird die in Figur 4 gezeigte Ausführungsform durch Ablagern des SiO&sub2; oder SiN auf Halbleiterbasis über einer fertigen Anordnung aus Schirmplatte 12 / Kathode 14 / Isolator 18 / Gitter 16 aufgebracht, wie sie in Figur 2 gezeigt ist. Somit ist die SiO&sub2;- oder SiN-Schicht auf Halbleiterbasis nicht zwischen der Schirmplatte 12, der Kathode 14 und dem Isolator 18 eingeklemmt. Wie bei der vorhergehenden Ausführungsform wird diebeschichtung jedoch vorzugsweise mit einem Verdampfungsverfahren aufgebracht.
  • Eine dritte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist in Figur 5 gezeigt. Diese dritte Ausführungsform wird durch Kombinieren der Prozesse hergestellt, die mit Bezug auf die Figuren 3 und 4 beschrieben wurden. Dadurch wird eine Vorrichtung wie die in Figur 5 gezeigte aufgebaut, bei der die Schirmplatte 12 und die Kathodenelemente 14 mit einer ersten SiO&sub2;- oder SiN-Zwischenschicht 22 auf Halbleiterbasis beschichtet werden, bevor die Isolierschicht 18 und die Gitterelemente 16 wie bei der ersten Ausführungsform ausgebildet werden. Zusätzlich wird eine zweite SiO&sub2;- oder SiN-Außenschicht 24 auf Halbleiterbasis durch Verdampfung auf die fertige Struktur aufgebracht, welche aus der Schirmplatte 12, den Kathodenelementen 14 und der SiO&sub2;- oder SiN-Zwischenschicht 22 auf Halbleiterbasis, der Isolierschicht 18 aus Photoresist und den Gitterelementen 16 besteht, nachdem die Isolierschicht 18 und die Gitterelemente 16 wie bei der zweiten Ausführungsform hergestellt worden sind.
  • Bei jeder der oben beschriebenen Ausführungsformen erhöhen die SiO&sub2;- oder SiN-Beschichtung(en) 22 und/oder 24 auf Halbleiterbasis die dielektrische Festigkeit der Isolierung zwischen der Kathode 14 und den Gitterelementen 16, sie verhindern die Bildung von leitenden Wegen (Kurzschlüssen) und insbesondere von Wandströmen über der Oberfläche des Isolators 18, und sie erfüllen dadurch die Aufgaben der vorliegenden Erfindung.

Claims (12)

1. Elektrophoretische Anzeige (10) mit
(a) einer fluiddichten Hülle mit einem Abschnitt, der wenigstens teilweise transparent ist;
(b) einem elektrophoretischen Fluid, das in der Hülle enthalten ist, wobei in dem Fluid Pigmentpartikel schweben;
(c) mehreren langgestreckten, im wesentlichen parallelen horizontalen Leiterelementen (14), die in einer ersten Ebene angeordnet sind und in der Hülle enthalten sind;
(d) mehreren langgestreckten, im wesentlichen parallelen vertikalen Leiterelementen (16), die in der Hülle enthalten und in einer zweiten Ebene angeordnet sind;
(e) einer ersten Isolierschicht (18) aus Photoresistmaterial, die zwischen den horizontalen Elementen (14) und dem vertikalen Element (16) angeordnet ist, um eine elektrische Isolierung zwischen diesen vorzusehen;
(f) wobei die erste und die zweite Ebene im wesentlichen parallel sind, die horizontalen Elemente (14) und die vertikalen Elemente (16) eine Matrix mit mehreren Schnittpunkten bilden, wenn man sie entlang einer Linie betrachtet, die senkrecht zu der ersten und der zweiten Ebene ist, die horizontalen Elemente (14) und die vertikalen Elemente (16) jeweils selektiv elektrisch ladbar sind, um eine Bewegung der Partikel in dem Fluid zu induzieren, und die Partikel durch den transparenten Abschnitt der Hülle wenigstens teilweise sichtbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß
eine zweite Isolierschicht (22) aus einem SiO&sub2;- qder einem SiN-Material auf Halbleiterbasis über den horizontalen Elementen (14) unter der ersten Isolierschicht (18) angeordnet ist, um einen elektrischen Kurzschluß zwischen den horizontalen Elementen (14) und den vertikalen Elementen (16) durch die erste Isolierschicht (18) zu verhindern.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hülle eine im wesentlichen flache Schirmplatte (12) aufweist, die einen mittleren Abschnitt hat, der gleich dem transparenten Abschnitt der Hülle ist, wobei die Schirrnplatte (12) einen Träger bildet, der die horizontalen Elemente (14) und ein Abdeckelement (20) trägt, das eine Stimwand und Seitenwänden aufweist, wobei die Seitenwände ein Hohlraum innerhalb des Abdeckelementes (20) eingrenzen, und wobei die Seitenwände dicht an der Schirmplatte (12) befestigt sind, um die Hülle zu bilden.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Beschichtung (24) aus einem zweiten SiO&sub2;- oder SiN-Material auf Halbleiterbasis über den vertikalen Elementen (16) und der ersten Isolierschicht (18) liegt.
4. Vorrichtung nachanspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrophoretische Anzeige (1) eine Trioden-Vorrichtung ist, wobei die horizontalen Elemente die Kathode (14) bilden, die vertikalen Elemente das Gitter (16) der Triode bilden und die Stimwand des Abdeckelementes (20) eine Leiterschicht-Beschichtung aufweist, die selektiv elektrisch ladbar ist, um eine Bewegung der Pigmentpartikel zu induzieren, und die Anode bildet.
5. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmplatte (12) aus Glas besteht.
6. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die horizontalen Elemente (14) aus Indium-Zinnoxid hergestellt sind.
7. Verfahren zum Herstellen einer elektrophoretischen Anzeige (10) mit einer fluiddichten Hülle, die eine im wesentlichen flache Schirmplatte (12) und ein Abdeckelement (20) mit einer Stimwand und Seitenwänden aufweist, wobei die Seitenwände einen Hohlraum innerhalb des Abdeckelementes (20) eingrenzen, gekennzeichnet durch die folgenden Verfahrensschritte:
(a) Aufbringen mehrerer langgestreckter, im wesentlichen paralleler horizontaler Leiterelemente (14) auf eine Oberfläche der Schirmplatte (12);
(b) Aufbringen einer Beschichtung aus einem SiO&sub2;-Material oder einem SiN-Material (22) auf Halbleiterbasis über der Oberfläche der Schirmplatte (12) und den horizontalen Leiterelementen (14);
(c) Aufbringen einer Schicht aus Isolationsmaterial (18) über der SiO&sub2;- oder SiN-Beschichtung (22) auf Halbleiterbasis;
(d) Aufbringen einer Schicht aus elektrischem Leitermaterial über der Schicht aus Isolationsmaterial;
(e) Ätzen durch das elektrische Leitermaterial und das Isolationsmaterial bis zu den horizontalen Elementen, um mehrere langgestreckte, im wesentlichen parallele vertikale Leiterelemente (16) herzustellen, welche elektrisch von den horizontalen Elementen (14) isoliert sind, wobei die horizontalen Elemente (14) und die vertikalen Elemente (16) eine Matrix mit mehreren Schnittpunkten bilden, wobei das SiO&sub2;- oder SiN-Material (22) auf Halbleiterbasis einen elektrischen Kurzschluß zwischen den horizontalen Elementen (14) und den vertikalen Elementen (16) durch die Schicht aus dem Isolationsmaterial (18) verhindert;
(f) Füllen des Hohlraums mit einem elektrophoretischen Fluid; und
(g) dichtes Befestigen der Seitenwände der Abdeckung (20) an der Oberfläche der Schirmplatte (12), um die Hülle zu bilden.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Ätzen eine zweite Beschichtung aus SiO&sub2;-Material oder SiN-Material (24) auf Halbleiterbasis aufgebracht wird, welche die mehreren im wesentlichen parallelen vertikalen Leiterelemente (16), die Isolationsmaterialschicht (18) der horizontalen Elemente (14) und die Schirmplatte (12) bedeckt.
9. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die SiO&sub2;- oder SiN-Beschichtung (22) auf Halbleiterbasis durch einen Verdampfungs- und Ablagerungsprozeß aufgebracht wird.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmplatte (12) aus Glas besteht und die horizontalen Elemente (14) aus Indium-Zinnoxid bestehen.
11. Verfahren nach Anspruch 8, 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Isolationsschicht (18) ein Photoresist ist.
12. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Beschichtung aus dem SiO&sub2;- oder SiN-Material (24) auf Halbleiterbasis SiO&sub2; ist und mittels eines Verdampfungs- und Ablagerungsprozesses aufgebracht wird, wobei die Schirmplatte (12) aus Glas besteht, die horizontalen Elemente (14) aus Indium-Zinnoxid bestehen und die Isolationsschicht ein Photoresist (18) ist.
DE69226174T 1991-03-27 1992-03-10 Elektrophoretische anzeigtafel mit beschichteten halbleiterelementen Expired - Fee Related DE69226174T2 (de)

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DE69226174D1 DE69226174D1 (de) 1998-08-13
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