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Gebiet der
Erfindung
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Diese
Erfindung bezieht sich auf das Schreiben von Speichern und insbesondere
auf das Schreiben von Speichern, die kippen.
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Hintergrund der Erfindung
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Nicht-flüchtige Speichervorrichtungen
sind extrem wichtige Komponenten in elektronischen Systemen. FLASH
ist die bedeutendste nicht-flüchtige Speichervorrichtung,
die heutzutage verwendet wird. Typische nicht-flüchtige Speichervorrichtungen
verwenden Ladungen, die in einer flottierenden Oxydschicht gefangen
sind, um Information zu speichern. Nachteile des FLASH-Speichers
umfassen hohe Spannungserfordernisse und langsame Programmierungs-
und Löschzeiten.
Auch hat ein FLASH-Speicher eine schlechte Schreibbeständigkeit
von 104–106 Zyklen, bevor der Speicher ver sagt. Außerdem ist,
um eine vernünftige
Datenrückhaltung beizubehalten,
die Skalierung der Oxydschicht durch die von den Elektronen gesehene
Tunnelbarriere beschränkt.
Daher ist der FLASH-Speicher auf Dimensionen limitiert, auf die
er skaliert werden kann.
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Um
diese Nachteile zu überwinden,
werden magnetische Speichervorrichtungen in Erwägung gezogen. Eine derartige
Vorrichtung ist ein magnetoresistiver RAM (nachfolgend als "MRAM" bezeichnet). Um
jedoch kommerziell praktikabel zu sein, muss ein MRAM vergleichbare
Speicherdichte mit aktuellen Speichertechnologien haben, für zukünftige Generationen
skalierbar sein, bei niedrigen Spannungen arbeiten, einen niedrigen
Energieverbrauch haben und konkurrenzfähige Lese/Schreibegeschwindigkeiten aufweisen.
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Für eine MRAM-Vorrichtung
sind die Stabilität
des nicht-flüchtigen
Speicherzustandes, die Wiederholbarkeit der Lese/Schreibzyklen und
die elementenweise Uniformität
des Speicherschaltfeldes drei der wichtigsten Aspekte seiner Designeigenschaften.
Ein Speicherzustand im MRAM wird nicht durch Leistung aufrechterhalten,
sondern vielmehr durch die Ausrichtung des magnetischen Momentenvektors.
Das Speichern von Daten wird ausgeführt, indem magnetische Felder
angelegt werden und indem ein magnetisches Material in einer MRAM-Vorrichtung
veranlasst wird, in einen von zwei möglichen Speicherzuständen magnetisiert
zu werden. Ein Abrufen der Daten wird durchgeführt, indem die Widerstandsdifferenz
in der MRAM-Vorrichtung zwischen den zwei Zuständen erfühlt wird. Die magnetischen Felder
zum Schreiben werden erzeugt, indem Ströme durch Streifenleitungen
außerhalb
der magnetischen Struktur oder durch die magnetischen Strukturen
selbst hindurchgeschickt werden.
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Wenn
sich die laterale Dimension einer MRAM-Vorrichtung verringert, treten drei
Probleme auf. Erstens erhöht
sich das Schaltfeld für
eine gegebene Form und Filmdicke, was ein größeres magnetisches Feld zum
Schalten erfordert. Zweitens wird das gesamte Schaltvolumen reduziert,
so dass die Energiebarriere für
die Umkehr sinkt. Die Energiebarriere bezieht sich auf den Energiebetrag,
der benötigt wird,
um den magnetischen Momentenvektor von einem Zustand in den anderen
zu schalten. Die Energiebarriere bestimmt die Datenrückhaltung
und Fehlerrate der MRAM-Vorrichtung
und unbeabsichtigte Umkehrungen können aufgrund von Thermofluktuaktionen
(Superparamagnetismus) auftreten, wenn die Barriere zu klein ist.
Ein wesentliches Problem dabei, eine kleine Energiebarriere zu haben,
ist, dass es extrem schwierig wird, eine MRAM-Vorrichtung in einem
Array selektiv zu schalten. Selektierbarkeit erlaubt ein Schalten
ohne unbeabsichtigtes Schalten anderer MRAM-Vorrichtungen. Schließlich wird,
weil das Schaltfeld durch eine Form erzeug wird, das Schaltfeld
empfindlicher gegenüber
Formvariationen, wenn sich die MRAM-Vorrichtung in der Größe verringert.
Während
die photolitographische Skalierung bei kleineren Dimensionen schwieriger
wird, haben MRAM-Vorrichtungen
Schwierigkeiten, strikte Schaltverteilungen aufrechtzuerhalten.
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US 5,953,248 offenbart eine
magnetische Tunnelübergangsspeicherzelle
mit niedrigem Schaltfeld, die eine antiferromagnetisch gekoppelte
Struktur mit ersten und zweiten magnetoresistiven Schichten unterschiedlicher
Dicke und einer nicht-magnetischen, leitenden Schicht, die sandwichartig
dazwischen eingebettet ist, enthält.
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US 4,763,305 offenbart einen
Speicherbyte-Programmierungsmodus,
der unnötige
Lösch- und
Programmierungszyklen vermeidet. Die Seiten 471–474 von "Halbleiter-Schaltungstechnik" von U. Tietze (XP002249282) offenbaren
eine R-S-Flip-Flop-Anordnung. Es wäre daher höchst vorteilhaft, die vorgenannten
und andere Nachteile, die dem Stand der Technik innewohnen, zu heilen.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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Die
vorgenanten und weitere und speziellere Aufgaben und Vorteile der
vorliegenden Erfindung werden für
den Fachmann anhand der nachfolgenden, detaillierten Beschreibung
einer bevorzugten Ausführungsform
in Verbindung mit den folgenden Zeichnungen leicht verständlich:
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1 ist
eine vereinfachte Querschnittsansicht einer magnetoresistiven Direktzugriffsspeichervorrichtung;
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2 ist
eine vereinfachte Draufsicht auf eine magnetoresistive Direktzugriffsspeichervorrichtung
mit Wort- und Bitleitungen;
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3 ist
ein Graph, der eine Simulation der magnetischen Feldamplitudenkombinationen
illustriert, die den direkten oder Kippschreibemodus in der magnetoresistiven
Direktzugriffsspeichervorrichtung erzeugen;
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4 ist
ein Graph, der das Timing-Diagramm des Wortstroms und des Bitstroms
illustriert, wenn beide angeschaltet sind;
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5 ist
ein Diagramm, welches die Rotation der magnetischen Momentenvektoren
für eine magnetoresistive
Direktzugriffsspeichervorrichtung für den Kippschreibemodus illustriert,
wenn eine "1" an eine "0" geschrieben wird;
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6 ist
ein Diagramm, das die Rotation der magnetischen Momentenvektoren
für eine
magnetoresistive Direktzugriffspeichervorrichtung für den Kippschreibemodus
illustriert, wenn eine "0" an eine "1" geschrieben wird;
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7 ist
ein Graph, der die Rotation der magnetischen Momentenvektoren für eine magnetoresistive
Direktzugriffsspeichervorrichtung für den Direktschreibemodus illustriert,
wenn eine "1" an eine "0" geschrieben wird;
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8 ist
ein Graph, der die Rotation der magnetischen Momentenvektoren für eine magnetoresistive
Direktzugriffsspeichervorrichtung für den Direktschreibemodus illustriert,
wenn eine "0" an einen Zustand
geschrieben wird, der bereits "0" ist;
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9 ist
ein Graph, der das Timing-Diagramm des Wortstromes und des Bitstromes
illustriert, wenn nur der Bitstrom angeschaltet ist;
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10 ist
ein Graph, der die Rotation der magnetischen Momentenvektoren für eine magnetoresistive
Direktzugriffsspeichervorrichtung illustriert, wenn nur der Bitstrom
angeschaltet ist;
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11 ist
ein Blockdiagramm eines Kippspeichers gemäß einer Ausführungsform
der Erfindung;
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12 ist
ein detaillierteres Diagramm eines Bereichs des Speichers von 11;
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13 ist
ein Timing-Diagramm, welches nützlich
für das
Verständnis
des Betriebes des Speichers von 11 ist;
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14 ist
ein Schaltungsdiagramm eines Bereichs des Speichers von 11,
welches eine Ausführungsform
der erfindungsgemäßen Architektur
zeigt;
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15 ist
ein erster Querschnitt einer Speicherzelle, die bei der Implementierung
der Architektur von 14 benutzt wird;
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16 ist
ein zweiter Querschnitt der Speicherzelle von 15;
und
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17 ist
ein Schaltungsdiagramm, welches eine Variation des Schaltungsdiagramms
von 14 zeigt;
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Detaillierte Beschreibung
der bevorzugten Ausführungsform
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Ein
Kippspeicher wird entweder durch Umkehren des Zustandes der Speicherzellen
oder indem diese im selben logischen Zustand gelassen werden, geschrieben.
Um zu bestimmen, was davon gewählt
wird, muss der zu schreibende logische Zustand mit dem Zustand verglichen
werden, der bereits vorliegt. In diesem Fall wird die Schreibsequenz gestartet,
bevor dieser Vergleich vollendet ist. Wenn das Ergebnis des Vergleichs
ist, dass der logische Zustand umgekehrt werden muss, wird die Schreibsequenz
fortgesetzt. Wenn der logische Zustand derselbe bleiben muss, wird
die Schreibsequenz beendet.
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Wir
wenden uns nun 1 zu, die eine vereinfachte
Querschnittsansicht eines MRAM-Arrays 3 gemäß der bevorzugten
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung illustriert. Bei dieser Illustrierung
ist nur eine einzelne magnetoresistive Speichervorrichtung 10 gezeigt;
man wird jedoch verstehen, dass das MRAM-Array 3 aus einer
Anzahl von MRAM-Vorrichtungen 10 besteht
und wir zur Vereinfachung der Beschreibung des Schreibverfahrens
nur eine solche Vorrichtung zeigen.
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Die
MRAM-Vorrichtung 10 enthält eine Schreibewortleitung 20 und
eine Schreibebitleitung 30. Die Schreibewortleitung 20 und
die Schreibebitleitung 30 enthalten leitfähiges Material,
so dass ein Strom durch sie hindurchgeschickt werden kann.
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In
dieser Illustrierung ist die Schreibewortleitung 20 oben
an der MRAM-Vorrichtung 10 positioniert und die Schreibebitleitung 30 ist
unten an der MRAM-Vorrichtung 10 positioniert und in einem
90° Winkel
zu der Wortleitung 20 ausgerichtet (siehe 2).
Als eine Alternative kann die Schreibewortleitung 20 unten
an der MRAM-Vorrichtung 10 positioniert sein und die Schreibebitleitung 30 kann
oben an der MRAM-Vorrichtung 10 positioniert sein.
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Die
MRAM-Vorrichtung 10 enthält einen Tunnelübergang,
der eine erste magnetische Region 15, eine Tunnelbarriere 16 und
eine zweite magnetische Region 17 umfasst, wobei die Tunnelbarriere 16 sandwichartig
zwischen der ersten magnetischen Region 15 und der zweiten
magnetischen Region 17 eingebettet ist. Bei der bevorzugten
Ausführungsform
enthält
die magnetische Region 15 eine dreilagige Struktur 18,
die eine antiferromagnetische Kopplungsabstandshalterschicht 65 zwischen
zwei ferromagnetischen Schichten 45 und 55 aufweist. Die
antiferromagnetische Kopplungsabstandshalterschicht 65 hat
eine Dicke 86 und die ferromagnetischen Schichten 45 und 55 haben
Dicken 41 bzw. 51. Weiter weist die magnetische
Region 17 eine dreilagige Struktur 19 auf, die
eine antiferromagnetische Kopplungsabstandshalterschicht 66 zwischen
zwei ferromagnetischen Schichten 46 und 56 aufweist. Die
antiferromagnetische Kopplungsabstandshalterschicht 66 hat
eine Dicke 87 und die ferromagnetischen Schichten 46 und 56 haben
Dicken 42 bzw. 52.
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Im
Allgemeinen enthalten die antiferromagnetischen Kopplungsabstandshalterschichten 65 und 66 wenigstens
eines der Elemente Ru, Os, Re, Cr, Rh, Cu oder Kombinationen davon.
Weiter enthalten die ferromagnetischen Schichten 45, 55, 46 und 56 wenigstens
eines der Elemente Ni, Fe, Mn, Co oder Kombinationen davon. Man
wird auch verstehen, dass die magnetischen Regionen 15 und 17 synthetische
antiferromagnetische (SAF) Schichtmaterialstrukturen, die keine
dreilagigen Strukturen sind, enthalten können und dass die Verwendung
dreilagiger Strukturen in dieser Ausführungsform nur illustrativen Zwecken
dient. Beispielsweise könnte
eine solche synthetische antiferromagnetische Schichtmaterialstruktur
einen fünflagigen
Stapel einer ferromagnetischen Schicht/antiferromagnetischen Kopplungsabstandshalterschicht/ferromagnetischen
Schicht/antiferromagnetischen Kopplungsabstandshalterschicht/ferromagnetischen
Schichtstruktur enthalten.
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Die
ferromagnetischen Schichten 45 und 55 haben jeweils
einen magnetischen Momentenvektor 57 bzw. 53,
die üblicherweise
durch Kopplung der antiferromagnetischen Kopplungsabstandshalterschicht 65 antiparallel
gehalten werden. Auch die magnetische Region 15 weist einen
resultierenden magnetischen Momentenvektor 40 auf und die
magnetische Region 17 weist einen resultierenden magnetischen
Momentenvektor 50 auf. Die resultierenden magnetischen
Momentenvektoren 40 und 50 sind entlang einer "leichten" Anisotropieachse
in einer Richtung, die in einem Winkel, vorzugsweise 45°, von der
Schreibewortleitung 20 und der Schreibebitleitung 30 ausgerichtet
ist, orientiert (siehe 2). Weiter ist die magnetische
Region 15 eine freie ferromagnetische Region, was bedeutet,
dass der resultierende magneti sche Momentenvektor 40 frei
ist, in der Anwesenheit eines angelegten Magnetfeldes zu rotieren.
Die magnetische Region 17 ist eine festgehaltene ferromagnetische
Region, was bedeutet, dass der resultierende magnetische Momentenvektor 50 nicht
frei ist, in der Anwesenheit eines moderaten angelegten Magnetfeldes
zu rotieren, und als die Referenzschicht benutzt wird.
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Obgleich
die antiferromagnetischen Kopplungsschichten zwischen den zwei ferromagnetischen
Schichten in jeder dreilagigen Struktur 18 illustriert
sind, wird man verstehen, dass die ferromagnetischen Schichten durch
andere Mittel, wie etwa magnetostatische Felder oder andere Merkmale
antiferromagnetisch gekoppelt sein können. Wenn beispielsweise das
Seitenverhältnis
einer Zelle auf fünf oder
kleiner reduziert wird, werden die ferromagnetischen Schichten aus
dem magnetischen Flussabschluss antiparallel gekoppelt.
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Bei
der bevorzugten Ausführungsform
hat die MRAM-Vorrichtung 10 dreilagige
Strukturen 18, die ein Längen/Breitenverhältnis im
Bereich von 1–5 für einen
nicht-zirkularen
Grundriss aufweisen. Wir illustrieren jedoch einen Grundriss, der
zirkular ist (siehe 2). Die MRAM-Vorrichtung 10 hat bei der
bevorzugten Ausführungsform
eine zirkular Form, um den Beitrag der Formanisotropie zu dem Schaltfeld zu
minimieren und auch weil es leichter ist, eine photolithographische
Bearbeitung zu verwenden, um die Vorrichtung lateral auf kleinere
Dimensionen zu skalieren. Man wird jedoch verstehen, dass die MRAM-Vorrichtung 10 andere
Formen haben kann, wie etwa quadratisch, elliptisch, rechteckig
oder rautenförmig,
dass sie jedoch der Einfachheit halber als rund illustriert ist.
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Weiter
wird während
der Herstellung des MRAM-Arrays 3 jede folgende Schicht
(d.h. 30, 55, 65 etc.) in Folge abgelagert
oder anderweitig ausgebildet und jede MRAM-Vorrichtung 10 kann als durch selektive
Ablagerung, photolithographische Bearbeitung, Ätzen, etc. in irgendeiner in
der Halbleiterindustrie bekannten Technik definiert werden. Während der
Ablagerung wenigstens der ferromagnetischen Schichten 45 und 55 wird
ein magnetisches Feld bereitgestellt, um eine vorbestimmte magnetische "leichte" Achse für dieses
Paar einzustellen (induzierte Anisotropie). Das bereitgestellte
Magnetfeld erzeugt eine bevorzugte Anisotropieachse für die magnetischen
Momentenvektoren 53 und 57. Die bevorzugte Achse
wird ausgewählt,
45° der
Schreibewortleitung 20 und der Schreibebitleitung 30 zu
betragen, wie dies jetzt diskutiert werden soll.
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Wir
wenden uns nun 2 zu, die eine vereinfachte
Draufsicht auf ein MRAM-Array 3 gemäß der vorliegenden Erfindung
illustriert. Der Einfachheit der Beschreibung der MRAM-Vorrichtung 10 halber werden
alle Richtungen auf ein x- und y-Koordinatensystem 100,
wie dargestellt, bezogen und eine Rotationsrichtung im Uhrzeigersinn 94 und
eine Rotationsrichtung gegen Uhrzeigersinn 96. Um die Beschreiung
weiter zu vereinfachen, wird wieder angenommen, dass N gleich zwei
sei, so dass die MRAM-Vorrichtung 10 eine dreilagige Struktur
in der Region 15 mit magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 sowie
einen resultierenden magnetischen Momentenvektor 40 enthält. Auch
sind nur die magnetischen Momentenvektoren der Region 15 illustriert,
da diese geschaltet werden.
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Um
zu illustrieren, wie das Verfahren arbeitet, wird angenommen, dass
eine bevorzugte Anisotropieachse für die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 in
einem 45° Winkel
relativ zu den negativen x- und negativen y-Richtungen und in einem 45° Winkel relativ
zu den positiven x- und positiven y-Richtungen ausgerichtet ist.
Als ein Beispiel zeigt 2, dass der magnetische Momentenvektor 53 in einem
45° Winkel
relativ zu den negativen x- und negativen y-Richtungen ausgerichtet ist. Da der
magnetische Momentenvektor 57 allgemein antiparallel zum magnetischen
Momentenvektor 53 orientiert ist, ist er in einem 45° Winkel relativ
zu den positiven x- und den positiven y-Richtungen ausgerichtet.
Diese Anfangsorientierung wird benutzt, um Beispiele des Schreibeverfahrens
zu zeigen, wie es jetzt diskutiert wird.
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Bei
der bevorzugten Ausführungsform
ist ein Schreibewortstrom 60 als positiv definiert, wenn
er in einer positiven x-Richtung fließt und ein Schreibebitstrom 70 ist
als positiv definiert, wenn er in einer positiven y-Richtung fließt. Der
Zweck der Schreibewortleitung 20 und Schreibebitleitung 30 ist
es, ein magnetisches Feld innerhalb der MRAM-Vorrichtung 10 zu
erzeugen. Ein positiver Schreibewortstrom 60 induziert
ein umlaufendes Schreibwortmagnetfeld HW 80 und
ein positiver Schreibebitstrom 70 induziert ein umlaufendes
Schreibbitmagnetfeld HB 90. Da
bei diesem Beispiel die Schreibewortleitung 20 über der MRAM-Vorrichtung 10 in
der Ebene des Elementes liegt, wird HW 80 an
die MRAM-Vorrichtung 10 in positiver y-Richtung für einen
positiven Schreibewortstrom 60 angelegt. Auf ähnliche
Weise wird, da die Schreibebitleitung 30 unter der MRAM-Vorrichtung 10 in
der Ebene des Elementes liegt, HB 90 an
die MRAM-Vorrichtung 10 in der positiven x-Richtung für einen
positiven Schreibbitstrom 70 angelegt. Man wird verste hen,
dass die Definitionen für
positiven und negativen Stromfluss willkürlich sind und hier zu illustrativen
Zwecken definiert sind. Der Effekt des Umkehrens des Stromflusses
ist es, die Richtung des in der MRAM-Vorrichtung induzierten Magnetfeldes zu ändern. Das
Verhalten eines strominduzierten Magnetfeldes ist dem Fachmann wohlbekannt
und soll hier nicht weiter ausgeführt werden.
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Wir
wenden uns nun 3 zu, die ein simuliertes Schaltverhalten
einer dreilagigen SAF-Struktur illustriert. Die Simulation besteht
aus zwei Einzeldomänen-Magnetschichten,
die fast dasselbe Moment (ein nahezu ausbalanciertes SAF) mit einer
intrinsischen Anisotropie aufweisen, antiferromagnetisch gekoppelt
sind und deren Magnetisierungsdynamiken durch die Landau-Lifshitz-Gleichung
beschrieben sind. Die x-Achse ist die Amplitude des Schreibewortleitungsmagnetfeldes
in Oersted und die y-Achse ist die Amplitude des Schreibebitleitungsmagnetfeldes
in Oersted. Die magnetischen Felder werden mit einer Pulssequenz 100,
wie in 4 gezeigt, angelegt, wobei die Pulssequenz 100 einen
Schreibewortstrom 60 und einen Schreibebitstrom 70 als
Funktionen der Zeit enthält.
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Es
gibt drei Betriebsregionen, die in 3 illustriert
sind. In einer Region 92 gibt es kein Schalten. Für den MRAM-Betrieb
in einer Region 95 arbeitet das Direktschreibeverfahren.
Wenn das Direktschreibeverfahren benutzt wird, besteht kein Bedarf, den
ursprünglichen
Zustand der MRAM-Vorrichtung zu bestimmen, da der Zustand nur geschaltet
wird, wenn der zu schreibende Zustand verschieden ist, von dem Zustand
der gespeichert ist. Die Auswahl des geschriebenen Zustandes wird
von der Richtung des Stroms sowohl in der Schreibewortleitung 20 als auch
der Schreibe bitleitung 30 bestimmt. Wenn beispielsweise
eine "1" geschrieben werden
soll, ist die Stromrichtung in beiden Leitungen positiv. Wenn eine "1" bereits in dem Element gespeichert
ist und eine "1" geschrieben werden
soll, wird der Endzustand der MRAM-Vorrichtung weiter "1" sein. Wenn weiter eine "0" gespeichert ist und "1" mit positiven Strömen geschrieben wird, wird
der Endzustand der MRAM-Vorrichtung "1" sein. Ähnliche Ergebnisse werden erzielt, wenn
eine "0" unter Verwendung
negativer Ströme
in sowohl den Schreibewort- als auch den Schreibebitleitungen verwendet
wird. Jeder Zustand kann daher mit der geeigneten Polarität der Strompulse
als erwünschte "1" oder "0" programmiert
werden, unabhängig
von seinem Ursprungszustand. In dieser Offenbarung wird die Region 95 als "Direktschreibemodus" definiert.
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Für den MRAM-Betrieb
in einer Region 97 arbeitet das Kippschreibeverfahren.
Wenn das Kippschreibeverfahren benutzt wird, besteht eine Notwendigkeit,
den ursprünglichen
Zustand der MRAM-Vorrichtung vor dem Schreiben zu bestimmen, weil
der Zustand jedes Mal geschaltet wird, wenn in die MRAM-Vorrichtung
geschrieben wird, unabhängig
von dem Strömen,
solange Strompulse mit derselben Polarität für die Schreibewortleitung 20 sowie
die Schreibebitleitung 30 gewählt werden. Wenn beispielsweise
eine "1" ursprünglich gespeichert
war, wird der Zustand der Vorrichtung zu einer "0" geschaltet,
nachdem eine positive Strompulssequenz durch die Schreibewort- und
Schreibebitleitungen geleitet wurde. Wiederholen der positiven Strompulssequenz
in dem gespeicherten "0"-Zustand führt sie
zurück
zu einer "1". Um daher in der
Lage zu sein, das Speicherelement in den erwünschten Zustand zu schreiben,
muss zuerst der Ursprungs zustand der MRAM-Vorrichtung 10 gelesen
und mit dem zu schreibenden Zustand verglichen werden. Das Lesen
und Vergleichen kann eine zusätzliche
logische Schaltung erfordern, einschließlich eines Puffers zum Speichern
von Information und eines Komparators zum Vergleichen von Speicherzuständen. Die MRAM-Vorrichtung 10 wird
dann nur geschrieben, wenn der gespeicherte Zustand und der zu speichernde
Zustand unterschiedlich sind. Einer der Vorteile dieses Verfahrens
ist es, dass die verbrauchte Energie verringert wird, da nur die
unterschiedlichen Bits geschaltet werden. Ein zusätzlicher
Vorteil der Verwendung des Kippschreibverfahrens ist, dass nur unipolare
Spannungen erforderlich sind und daher kleinere N-Kanaltransistoren
verwendet werden können,
um die MRAM-Vorrichtung anzusteuern. In dieser Offenbarung wird
der Betrieb in Region 97 als "Kippschreibemodus" definiert.
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Beide
Schreibeverfahren setzen das Anlegen von Strömen in der Schreibewortleitung 20 und der
Schreibebitleitung 30 ein, so dass die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 in
einer von zwei bevorzugten Richtungen ausgerichtet werden können, wie
zuvor diskutiert. Um die zwei Schaltungsmoden voll zu erleuchten,
werden nun spezielle Beispiele angegeben, die die zeitliche Entwicklung der
magnetischen Momentenvektoren 53, 57 und 40 beschreiben.
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Wir
wenden uns nun 5 zu, die den Kippschreibemodus
für das
Schreiben einer "1" an eine "0" unter Verwendung der Pulsequenz 100 illustriert. Bei
dieser Illustrierung sind zur Zeit t0 die
magnetischen Vektoren 53 und 57 in den bevorzugten
Richtungen, wie in 2 gezeigt, ausgerichtet. Diese
Orientierung wird als eine "1" definiert.
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Zu
einer Zeit t1 wird ein positiver Schreibewortstrom 60 angeschaltet,
der HW 80 induziert, so dass es
in positiver Y-Richtung ausgerichtet ist. Die Wirkung des positiven
HW 80 ist es, die nahezu ausbalancierte,
entgegengesetzt ausgerichtete dreilagige MRAM zu veranlassen zu "FLOPen" und ungefähr 90° zu der angelegten
Feldrichtung ausgerichtet zu werden. Die finite, antiferromagnetische
Austauschwechselwirkung zwischen den ferromagnetischen Schichten 45 und 55 erlaubt
es den magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 nun
sich um einem kleinen Winkel zur Magnetfeldrichtung hin zu verlagern
und der resultierende magnetische Momentenvektor 40 schneidet
den Winkel zwischen den magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 und
wird sich zu HW 80 ausrichten.
Der magnetische Momentenvektor 53 wird daher in Uhrzeigersinn 94 rotiert. Da
der resultierende magnetische Momentenvektor 40 die Vektorsumme
der magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 ist,
wird der magnetische Momentenvektor 57 ebenfalls im Uhrzeigersinn 94 rotiert.
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Zu
einer Zeit t2 wird der positive Schreibebitstrom 70 angeschaltet,
der das positive HB 90 induziert.
Folglich wird der resultierende magnetische Momentenvektor 40 gleichzeitig
von HW 80 in der positiven y-Richtung
und von HB 90 in der positiven x-Richtung
ausgerichtet, was den Effekt hat, dass der effektive magnetische
Momentenvektor 40 weiter im Uhrzeigersinn 94 rotiert,
bis er allgemein in einem 45° Winkel
zwischen den positiven x- und positiven y-Richtungen orientiert ist. Folglich
rotieren die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 ebenfalls
im Uhrzeigersinn 94.
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Zu
einer Zeit t3 wird der Schreibewortstrom 60 abgeschaltet,
so dass nun lediglich HB 90 den
resultierenden magnetischen Momentenvektor 40 ausrichtet,
der nun in der positiven x-Richtung orientiert wird. Beide magnetischen
Momentenvektoren 53 und 57 werden nun allgemein
in Winkeln jenseits ihrer Instabilitätspunkte der "schweren" Aniosotropieachsen
ausgerichtet.
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Zu
einer Zeit t4 wird der Schreibebitstrom 70 ausgeschaltet,
so dass keine magnetische Feldkraft auf den resultierenden magnetischen
Momentenvektor 40 wirkt. Folglich werden die magnetischen
Momentenvektoren 53 und 57 in ihren nächsten bevorzugten
Richtungen orientiert, um die Anisotropieenergie zu minimieren.
In diesem Fall ist die bevorzugte Richtung für den magnetischen Momentenvektor 53 ein
45° Winkel
relativ zu den positiven y- und positiven x-Richtungen. Diese bevorzugte Richtung
ist auch 180° von
der ursprünglichen
Richtung des magnetischen Vektors 53 zur Zeit t0 und ist definiert als "0".
Die MRAM-Vorrichtung 10 wurde daher auf eine "0" umgeschaltet. Man wird verstehen, dass
die MRAM-Vorrichtung 10 auch von den rotierenden magnetischen
Momentenvektoren 53, 57 und 40 im Gegenuhrzeigersinn 96 unter
Verwendung negativer Ströme
in der Schreibewortleitung und der Schreibebitleitung 30 geschaltet
werden könnte,
dass es zu illustrativen Zwecken jedoch anders dargestellt wurde.
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Wir
wenden uns nun 6 zu, die den Kippschreibemodus
zum Schreiben einer "0" an eine "1" unter Verwendung einer Pulssequenz 100 illustriert. Illustriert
sind die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 sowie
der resultierende magnetischen Momentenvektor 40, jeweils
zu den Zeiten t0, t1,
t2, t3, t4, wie zuvor beschrieben, wobei die Fähigkeit
gezeigt wird, den Zustand der MRAM-Vorrichtung 10 von "0" zu "1" mit den selben Strom-
und Magnetfeldrichtungen zu schalten. Der Zustand der MRAM-Vorrichtung 10 wird
daher mit dem Kippschreibemodus geschrieben, der der Region 97 in 3 entspricht.
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Für den Direktschreibemodus
sei angenommen, dass der magnetische Momentenvektor 53 betragsmäßig größer ist
als der magnetische Momentenvektor 57, so dass der magnetische
Momentenvektor 40 in dieselbe Richtung zeigt wie der magnetische
Momentenvektor 53, im Nullfeld jedoch einen kleineren Betrag
hat. Dieses unbalancierte Moment erlaubt es der Dipolenergie, die
dazu neigt, das Gesamtmoment mit dem angelegten Feld auszurichten, die
Symmetrie der fast ausbalancierten SAF zu brechen. Ein Schalten
kann daher nur in einer Richtung für eine gegebene Strompolarität erfolgen.
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Wir
wenden uns nun 7 zu, die ein Beispiel des Schreibens
einer "1" an eine "0" unter Verwendung des Direktschreibemodus
unter Verwendung der Pulssequenz 100 illustriert. Auch
hier ist der Momentenzustand anfänglich
eine "1", wobei der magnetische
Momentenvektor 53 mit 45° in
Bezug auf die negativen x- und negativen y-Richtungen ausgerichtet
ist, und wobei der magnetische Momentenvektor 57 mit 45° in Bezug
auf die positiven x- und positiven y-Richtungen ausgerichtet ist. Nach der
Pulssequenz, wie oben beschrieben, mit einem positiven Schreibwortstrom 60 und
einem positiven Schreibebitstrom 70 erfolgt das Schreiben
in ähnlicher
Weise wie der zuvor beschriebene Kippschreibemodus. Man beachte,
dass die Momente wieder zu einer Zeit t1 "FLOPen", der resultierende
Winkel jedoch aufgrund des unbalancierten Momentes und der Anisotropie
von 90° abgelenkt
ist. Nach der Zeit t4 ist die MRAM-Vorrichtung 10 in
den "0"-Zustand geschaltet, wobei
das resultierende magnetische Moment 40 in einem 45° Winkel in
den positiven x- und
positiven y-Richtungen orientiert ist, wie erwünscht. Ähnliche Ergebnisse werden erreicht,
wenn eine "0" an eine "1" geschrieben werden, jedoch nun nur
mit einem negativen Schreibewortstrom 60 und einem negativen
Schreibebitstrom 70.
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Wir
wenden uns nun 8 zu, die ein Beispiel des Schreibens
unter Verwendung des Direktschreibemodus illustriert, wenn der neue
Zustand derselbe ist, wie der bereits gespeichert Zustand. In diesem
Beispiel ist eine "0" bereits in der MRAM-Vorrichtung 10 gespeichert
und die Strompulssequenz 100 wird nun wiederholt, um eine "0" zu speichern. Die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 versuchen,
zu einer Zeit t1 zu "FLOPen", wobei jedoch die Rotation verringert
ist, weil das unbalancierte magnetische Moment gegen das angelegte
magnetische Feld arbeiten muss. Es gibt daher eine zusätzliche
Energiebarriere, um aus dem umgekehrten Zustand heraus zu rotieren.
Zur Zeit t2 ist das dominanten Moment 53 in
etwa mit der positiven x-Achse ausgerichtet und weniger als 45° von seiner
ursprünglichen
Anisotropierichtung. Zu einer Zeit t3 ist
das magnetische Feld entlang der positiven x-Achse ausgerichtet.
Anstatt weiter im Uhrzeigersinn zu rotieren, verringert das System
nun seine Energie durch Verändern
der SAF-Momentensymmetrie in Bezug auf das angelegte Feld. Das passive
Moment 57 kreuzt die x-Achse und das System stabilisiert
sich, wenn das dominante Moment 53 in die Nähe seiner
ursprünglichen
Ausrichtung zurückkehrt.
Zu einer Zeit t4, wenn das magnetische Feld
entfernt wird, bleibt der in der MRAM-Vorrichtung 10 gespeicherte
Zustand eine "0". Diese Sequenz illustriert
den Mechanismus des Direktschreibemodus, der als Region 95 in 3 gezeigt
ist. Im Rahmen dieser Ü bereinkunft erfordert
es daher einen positiven Strom sowohl in der Schreibewortleitung 60 als
auch in der Schreibebitleitung 70, um eine "0" zu schreiben und umgekehrt erfordert
es einen negativen Strom in sowohl der Schreibewortleitung 60 als
auch der Schreibebitleitung 70, um eine "1" zu schreiben.
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Wenn
größere Felder
angelegt werden, verringert sich die zu einem FLOP gehörige Energie
und die Schieflage überschreitet
die zusätzliche
Energiebarriere, die von der Dipolenergie des unbalancierten Momentes
erzeugt wird, die ein Kippereignis verhindert. An diesem Punkt tritt
ein Kippereignis ein und das Schalten ist durch die Region 97 beschrieben.
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Die
Region 95, in der der Direktschreibemodus Anwendung findet,
kann ausgedehnt werden, d.h. die Kippmodenregion 97 kann
zu höheren
magnetischen Feldern hin verschoben werden, wenn die Zeiten t3 und t4 gleich sind
oder so gleich wie möglich gemacht
werden. In diesem Fall startet die Magnetfeldrichtung bei 45° relativ
zu der Bitanisotropieachse, wenn der Schreibewortstrom 60 angeschaltet wird,
und bewegt sich dann parallel mit der Bitanisotropieachse, wenn
der Schreibebitstrom 70 angeschaltet wird. Dieses Beispiel
ist ähnlich
der typischen Sequenz zum Anlegen des Magnetfeldes. Jetzt werden
jedoch der Schreibewortstrom 60 und der Schreibbitstrom 70 im
Wesentlichen gleichzeitig abgeschaltet, so dass die Magnetfeldrichtung
nicht weiter rotiert. Das angelegte Feld muss daher groß genug
sein, so dass sich der resultierende magnetische Momentenvektor 40 bereits über seinen
Instabilitätspunkt
der Hartachse hinaus bewegt hat, während sowohl der Schreibewortstrom 60 als
auch der Schreibebitstrom 70 angeschaltet waren. Es ist
nun weniger wahrscheinlich, dass ein Kippschreibemodenergebnis eintritt,
da die magnetische Feldrichtung nun um nur 45°, anstelle von 90° wie zuvor,
bewegt wird. Ein Vorteil dabei, im Wesentlichen zusammenfallende
Abfallzeiten t3 und t4 zu
haben, ist, dass es nun keine zusätzlichen Beschränkungen
bezüglich der
Reihenfolge der Feldanstiegszeiten t1 und
t2 gibt. Die magnetischen Felder können daher
in jeder beliebigen Reihenfolge oder auch im Wesentlichen gleichzeitig
angeschaltet werden.
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Die
zuvor beschriebenen Schreibeverfahren sind hoch selektiv, weil nur
diejenige MRAM-Vorrichtung, bei der sowohl der Schreibewortstrom 60 als auch
der Schreibebitstrom 70 zwischen den Zeiten t2 und
t3 angeschaltet ist, die Zustände umschalten wird.
Dieses Merkmal ist in den 9 und 10 illustriert. 9 illustriert
eine Pulssequenz 100, wenn der Schreibwortstrom 60 nicht
angeschaltet ist und der Schreibebitstrom 70 angeschaltet
ist. 10 illustriert das entsprechende Verhalten des
Zustandes der MRAM-Vorrichtung 10. Zu einer Zeit t0 sind die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 sowie der
resultierende magnetischen Momentenvektor 40 orientiert,
wie in 2 beschrieben. In der Pulssequenz 100 wird
der Schreibebitstrom 70 zu einer Zeit t1 angeschaltet.
Während
dieser Zeit veranlasst HB 90, dass
der resultierende magnetische Momentenvektor 40 in der
positiven x-Richtung ausgerichtet wird.
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Da
der Schreibewortstrom 60 niemals angeschaltet wird, rotieren
die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 niemals
durch ihre Instabilitätspunkte
der "schweren" Anisotropieachse.
Als ein Ergebnis werden die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 sich
selbst in der nächsten
bevorzugten Richtung neu orientieren, wenn der Schreibebitstrom 70 zu
einer Zeit t3 ausgeschaltet wird, was in
diesem Fall die ursprüngliche
Richtung zur Zeit t0 ist. Der Zustand der
MRAM-Vorrichtung 10 wird daher nicht geschaltet. Man wird
verstehen, dass dasselbe Resultat eintreten wird, wenn der Schreibewortstrom 60 zu ähnlichen
Zeiten wie oben beschrieben und der Schreibebitstrom 70 nicht
angeschaltet wird. Dieses Merkmal stellt sicher, dass nur eine MRAM-Vorrichtung in dem
Array geschaltet wird, während
die anderen Vorrichtungen in ihren ursprünglichen Zustanden bleiben.
Als ein Resultat wird unbeabsichtigtes Schalten vermieden und die
Bitfehlerrate wird minimiert.
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Dargestellt
in 11 ist ein Speicher 110, umfassend ein
Speicherarray 112, einen Schreibewortdecodierer 114,
einen Schreibewortleitungstreiber 116, einen Lesewortdecodierer 118,
einen Lesewortleitungstreiber 120, einen oder mehrere Fühlerverstärker 122,
einen Lesebitdecodierer 124, einen Schreibebitdecodierer 126,
einen Schreibebittreiber 128, einen Komparator 130 und
einen Ausgangstreiber 132. Diese Elemente sind durch mehrere
Leitungen miteinander gekoppelt. Beispielsweise empfängt der
Lesebitdecodierer 124 eine Spaltenadresse, die aus mehreren
Adresssignalen aufgebaut ist. Das Speicherarray 112 ist
ein Array von Speicherzellen, die in einer Kippoperation geschaltet
werden können. Ein
Bereich der Speicherzellen für
das Speicherarray 112 ist ein Speicherarray 200,
das in 11 gezeigt ist, welches ein
MRAM-Zellenarray ist, das mit dem für das Speicherarray 3 von 1 beschriebene
Verfahren geschrieben wird, indem das Schreiben in vier Schritten
von 45° Winkeln
erfolgt, bis 180° erreicht sind.
Bei diesem besonderen, bevorzugten Zellenarray gibt es se parate
Wortleitungen und Bitleitungen für
eine Schreibeoperation und eine Leseoperation.
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Der
Lesewortdecodierer 118 empfängt eine Zeilenadresse und
ist mit dem Lesewortleitungstreiber 120 gekoppelt, der
seinerseits mit dem Speicherarray 112 gekoppelt ist. Für ein Lesen
wählt der
Lesewortdecodierer 118 eine Lesewortleitung im Speicherarray 112,
basierend auf der Zeilenadresse, aus. Die ausgewählte Wortleitung wird von dem
Leseleitungstreiber 120 angesteuert. Der Lesebitdecodierer 124,
der die Spaltenadresse empfängt
und zwischen dem Fühlerverstärker 122 und
dem Speicherarray 112 angeschlossen ist, selektiert eine
Lesebitleitung aus dem Lesebitdecodierer 124, basierend
auf der Spaltenadresse, aus dem Speicherarray 112 und koppelt
sie mit dem Fühlerverstärker 122.
Der Fühlerverstärker 122 detektiert
den logischen Zustand und koppelt ihn in den Ausgangstreiber 132 und
den Komparator 130 ein. Der Ausgangstreiber 132 liefert für ein Lesen
ein Datenausgangssignal DO. Für
eine Schreiboperation vergleicht der Komparator 130 den logischen
Zustand der ausgewählten
Zelle, der von dem Fühlerverstärker 122 geliefert
wird, mit dem erwünschten,
zu schreibenden logischen Zustand, wie er vom Dateneingang geliefert
wird.
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Der
Schreibewortdecodierer 114 empfängt die Zeilenadresse und ist
mit dem Schreibewortleitungstreiber 116 gekoppelt, der
seinerseits mit dem Speicherarray 112 gekoppelt ist. Für ein Schreiben selektiert
der Schreibewortdecodierer 114 eine Schreibewortleitung,
basierend auf der Zeilenadresse, in dem Speicherarray 112 und
der Schreibewortleitungstreiber steuert seinerseits diese selektierte Schreibewortleitung
an. Der Schreibebitdecodierer 126 empfängt die Spaltenadresse und
ist mit dem Schreibebittreiber 128 gekoppelt, der mit dem
Speicherarray 112 gekoppelt ist. Der Schreibebitdecodierer 126 selektiert
eine Schreibebitleitung basierend auf der Spaltenadresse und der
Schreibebittreiber 128 steuert seinerseits die selektierte
Schreibebitleitung an, um den Zustand der selektierten Zelle zu kippen.
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Da
das Speicherarray 112 ein Kippspeicher ist, wird eine Schreibekippoperation
nur vollendet, wenn der logische Zustand der Zelle gekippt werden muss,
um den erwünschten,
resultierenden logischen Zustand für die selektierte Zelle zu
erhalten. Der Komparator 130 empfängt daher die Ausgabe einer
Leseoperation an der selektierten Zelle vom Fühlerverstärker 122 und bestimmt,
ob die selektierte Zelle bereits den erwünschten logischen Zustand hat.
Wenn die selektierte Zelle, wie durch die Zeilen- und Spaltenadresse
bestimmt, den erwünschten
logischen Zustand hat, wird die Schreibeoperation beendet. Wenn
der logische Zustand der ausgewählten Zelle
verschieden ist von dem erwünschten
Zustand, zeigt der Komparator dem Schreibebittreiber 128 an, dass
das Schreiben fortgesetzt werden soll und der Schreibebittreiber
für die
ausgewählte
Schreibebitleitung steuert die ausgewählte Schreibbitleitung an.
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Dargestellt
in 12 ist ein Teil des Speichers 110 von 11,
umfassend den Schreibewortleitungstreiber 116, der mit
den Schreibewortleitungen WL gekoppelt ist, den Schreibebittreiber 128,
der mit den Schreibebitleitungen BL gekoppelt ist, und die Zellen 134, 136, 138 und 140,
die mit Kreuzungen von Schreibebitleitungen BL und Wortbitleitungen WL
gekoppelt sind. Damit ein Schreiben eintritt, wird ein Strom an
eine selektierte Wortleitung WL angelegt, während kein Strom in der selektierten
Schreibebitleitung fließt,
und zwar für
eine ausreichend lange Zeit, um die erste Winkeländerung in den Speicherzellen
entlang der selektierten Schreibewortleitung zu verursachen. Während der
Strom in der ausgewählten
Schreibewortleitung noch fließt,
wird Strom durch die selektierte Schreibebitleitung fließen gelassen,
um die zweite Winkeländerung
der ausgewählten
Speicherzelle zu verursachen. Nur bei der Kreuzung der stromführenden
Schreibebitleitung und Schreibewortleitung erfolgt diese zweite
Winkeländerung.
Während
der Strom noch immer durch die Schreibebitleitung fließt, wird
der Stromfluss durch die selektierte Schreibewortleitung beendet,
um eine dritte Winkeländerung
in der selektierten Speicherzelle zu verursachen. Nur bei der Kreuzung
der ausgewählten
Schreibebitleitung und der ausgewählten Schreibewortleitung erfolgt
diese dritte Änderung. Eine
vierte Winkeländerung
der ausgewählten
Speicherzelle tritt ein, wenn der Strom durch die ausgewählte Schreibebitleitung
beendet wird.
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Die
Schreibeoperation des Speichers 110 wird unter Bezugnahme
auf das Timing-Diagramm von 13 weiter
erläutert.
Sowohl eine Leseoperation als auch eine Schreibekippoperation werden durch Änderung
in der Zeilen- oder Spaltenadresse wie gezeigt durch Aktivieren
einer Lesewortleitung WLA, wie in 13 gezeigt,
initiiert. Obgleich das Schreiben nicht ausgeführt werden kann, bis bestimmt
worden ist, dass der logische Zustand gekippt werden muss, kann
gleichwohl der Schreibezyklus wie erwähnt beginnen, indem die Schreibewortleitung
aktiviert wird, bevor der Fühlerverstärker seine Ausgabe
liefert und der Komparator bestimmt, ob der logische Zustand gekippt
werden muss. Aktivieren (Verursachen eines Stromflusses hindurch)
der Schreibewortleitung verursacht die erste Winkeländerung
in der selektierten Zelle sowie in allen Zellen entlang der selektieren
Schreibewortleitung, wobei jedoch diese Änderung umgekehrt wird, wenn
der Strom beendet wird, ohne dass die Schreibebitleitung aktiviert
wird. Die ausgewählte
Schreibewortleitung kann daher aktiviert werden, bevor der Komparator
seine Bestimmung vornimmt, weil die erste Winkeländerung einfach durch Entfernen
des Stroms umgekehrt wird. Dies muss der Fall sein, da alle Zellen
auf der selektierten Schreibewortleitung die erste Winkeländerung
erfahren, alle außer
einer jedoch nicht ausgewählt
sind. Lediglich die ausgewählte
Zelle erfährt
jedoch die zweite Winkeländerung
und dies tritt ein, wenn die Schreibebitleitung aktiviert wird. Dies
ist als eintretend dargestellt, nachdem der Komparator die Bestimmung
vorgenommen hat, dass eine logische Zustandsänderung erwünscht ist. Die erste Winkeländerung
ist gezeigt als von 0° bis
45° und
die zweite Änderung
ist von 45° bis
90°. Die
dritte Winkeländerung
ist gezeigt als auftretend, wenn die Schreibewortleitung deaktiviert
wird (Strom wird beendet). Dies ist gezeigt als von 90° bis 135°. Die abschließende, gezeigte
Winkeländerung
ist die vierte Winkeländerung
und tritt ein, wenn die Schreibebitleitung deaktiviert wird. Diese
Winkeländerung
ist als von 135° bis
180° gezeigt.
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Dies
zeigt auch, dass die abschließenden Stufen
des Schreibens nach der nächsten
Adressänderung,
die einen weiteren Zyklus initiiert, erfolgen können. Der Beginn eines Zyklus
beginnt stets mit einem Lesen, selbst wenn es sich um einen Schreibezyklus
handelt. Die Adresse A wird in die Adresse B geändert und veranlasst, dass
die Lesewortleitung B selektiert wird. Dies stört sich nicht mit dem Schreiben
der zuvor ausgewählten
Zelle. Dies stellt eine Lesewortlei tungsänderung dar, wobei jedoch selbst wenn
die Adresse nur eine Spaltenänderung
ist, so dass die selektierte Lesewortleitung sich nicht ändert, der
fortgesetzte Stromfluss umgekehrt nicht die Vollendung des Schreibens
beeinträchtigt.
Man beachte auch, dass es nicht notwendig ist, dass die Schreibaktivierung
zu der Zeit aktiv ist, zu der der Zyklus beginnt, weil alle Zyklen
ohnehin mit einer Leseoperation beginnen. Das Schreibaktivierungssignal muss
daher hinreichend früh
aktiv sein, damit die Schreibebitleitung aktiv wird.
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Die
Erläuterung
erfolgte im Hinblick darauf, dass eine einzelne Zelle selektiert
wurde, was jedoch der Vereinfachung des Verständnisses diente. In der Praxis
werden typischerweise eine Anzahl von Zellen ausgewählt und
dies ist in 11 durch die Signalverbindungen
zwischen den Elementen dargestellt, die multiple Signalleitungen
sind. Wenn daher beispielsweise der Speicher 110 ein x16-Speicher
wäre, würde der
Komparator 130 tatsächlich
16 verschiedene Vergleiche durchführen, einen für jede ausgewählte Zelle.
Von den 16 Vergleichen würden
lediglich diejenigen die eine Nichtübereinstimmung anzeigen, eine
Schreiboperation für
diejenigen Zellen mit der Nichtübereinstimmung
verursachen. Die selektierten Zellen, die zu einer Übereinstimmung
führten, würden nicht
gekippt. Dargestellt in 14 ist
ein Teil eines Speicher-Arrays 200 und eine Mehrzahl von Treibern,
Decodierern und Fühlerblöcken, die
kombiniert werden, um einen Speicherkern 201 zu bilden. Der
Teil des Speicher-Arrays 200 umfasst MRAM-Vorrichtungen 202, 204, 206, 208, 210, 212, 213, 214, 216, 218, 220, 222, 224, 226, 227 und 228. Jede
dieser MRAM-Vorrichtungen hat drei Strompfade. Ein erster Strompfad
und ein zweiter Strompfad dieser drei Strompfade, die als orthogonal
zueinander dargestellt sind, repräsentieren die Schreibpfade. Diese
beiden Pfade tragen die Signale, gezeigt in den 12 und 13,
die den logischen Zustand der Zelle schalten. Der dritte Strompfad,
der als ein Widerstand in einem 45° Winkel dargestellt ist, repräsentiert
einen Lesestrompfad durch einen magnetoresistiven Tunnelübergang,
der in einen der zwei möglichen
Widerstandszustände
programmiert ist. Das Speicherarray 200 umfasst weiter
Auswahltransistoren 230, 232, 234, 236, 238, 240, 242, 244, 260, 262, 264, 266, 268, 270, 272 und 274,
die in Reihe mit dem dritten Strompfad, der ein Lesestrompfad ist, der
entsprechenden MRAM-Vorrichtungen 202, 204, 206, 208, 210, 212, 213, 214, 216, 218, 220, 222, 224, 226, 227 bzw. 228 stehen.
Der Anschluss dieser Auswahltransistoren ist so, dass eine Elektrode
dieser Transistoren mit dem dritten Strompfad gekoppelt ist und
die zweite Stromelektrode mit Masse (VSS) gekoppelt ist. Jede Kombination
einer Auswahltransistorvorrichtung und einer MRAM-Vorrichtung umfasst
eine Speicherzelle.
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Der
Speicherkern 201 umfasst Schreibewortleitungen WWL0, WWL1,
WWL2 und WWL3, die durch die ersten Strompfade der MRAM-Vorrichtungen
laufen. WWL0 läuft
durch die MRAM-Vorrichtungen 202, 210, 216 und 224.
WWL1 läuft
durch die MRAM-Vorrichtungen 204, 212, 218 und 226.
WWL2 läuft
durch die MRAM-Vorrichtungen 206, 213, 220 und 227.
WWL3 läuft
durch die MRAM-Vorrichtungen 208, 214, 222 und 228.
Das Speicherarray 200 umfasst weiter Schreibebitleitungen
WBL0, WBL1, WBL2 und WBL3, die durch die zweiten Strompfade der
MRAM-Vorrichtungen laufen. WBL0 läuft durch die MRAM-Vorrichtungen 202, 204, 206 und 208. WBL1
läuft durch
die MRAM-Vorrichtungen 210, 212, 213 und 214.
WBL2 läuft
durch die MRAM-Vorrichtungen 216, 218, 220 und 222.
WBL3 läuft
durch die MRAM-Vorrichtungen 224, 226, 227 und 228.
Noch weiter umfasst das Speicherarray 200 Lesewortleitungen
RWL0, RWL1, RWL2 und RWL3, die mit der Gate-Elektrode der Auswahltransistoren
gekoppelt sind. RWL0 ist mit den Auswahltransistoren 230, 238, 260 und 268 gekoppelt.
RWL1 ist mit den Auswahltransistoren 232, 240, 262 und 270 gekoppelt.
RWL2 ist mit den Auswahltransistoren 234, 242, 264 und 272 gekoppelt.
RWL3 ist mit den Auswahltransistoren 236, 244, 266 und 274 gekoppelt.
Das Speicherarray 200 umfasst auch globale Lesebitleitungen RGBL0
und RGBL1 und Gruppenauswahlleitungen GS0, GS1, GS2 und GS3.
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Das
Speicher-Array 200 umfasst weiter Gruppenauswahltransistoren 250, 252, 254, 256, 276, 278, 280 und 282,
die dem Koppel von Gruppen von Speicherzellen mit globalen Lesebitleitungen dienen.
Das Speicherarray 200 umfasst auch lokale Bitleitungen 251, 253, 255, 257, 277, 279, 281 und 283,
die jeweils mit dem dritten Strompfad der MRAM-Vorrichtungen für ihre Gruppen gekoppelt sind.
Das bedeutet, es gibt eine dieser lokalen Bitleitungen für jede Gruppe.
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Die
Transistoren 250 und 252 weisen erste Stromelektroden
auf, die miteinander und mit der globalen Lesebitleitung RGBL0 gekoppelt
sind. Die Transistoren 254 und 256 weisen erste
Stromelektroden auf, die miteinander und mit der globalen Lesebitleitung
RGBL0 gekoppelt sind. Die Transistoren 276 und 278 weisen
erste Stromelektroden auf, die miteinander und mit der globalen
Lesebitleitung RGBL1 gekoppelt sind. Die Transistoren 280 und 282 weisen
erste Stromelektroden auf, die miteinander und mit der globalen
Lesebitleitung RGBL1 gekoppelt sind. Die Transistoren 250, 252, 254, 256, 276, 278, 280 und 282 weisen
jeweils zweite Stromelektroden auf, die mit den lokalen Bitleitungen 251, 253, 255, 257, 277, 279, 281 und 283 gekoppelt
sind. Die lokalen Bitleitungen 251, 253, 255, 257, 277, 279, 281 und 283 sind
mit dem dritten Strompfad der MRAM-Vorrichtungen 202 und 204, 206 und 208, 210 und 212, 213 und 214, 216 und 218, 220 und 222, 224 und 226 bzw. 227 und 228 gekoppelt.
Die Gruppenauswahlleitung GS0 ist mit dem Gruppenauswahltransistor 250 und 276 gekoppelt.
Die Gruppenauswahlleitung GS1 mit dem Gruppenauswahltransistor 252 und 278 gekoppelt.
Die Gruppenauswahlleitung GS2 ist mit dem Gruppenauswahltransistor 254 und 280 gekoppelt
die Gruppenauswahlleitung GS3 ist mit Gruppenauswahltransistor 256 und 282 gekoppelt.
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Der
Speicherkern 201 umfasst zusätzlich zu dem Speicherarray 200 Schreibespaltendecodierer/Treiber 283, 284, 285 und 286,
Schreibezeilendecodierer/Treiber 287, 289, 291 und 293,
Lesezeilendecodierer/Treiber 288, 290, 292 und 294 und
Lesespaltendecodierer/Fühlerverstärker 295 und 296.
Die Schreibespaltendecodierer/Treiber 283, 284, 285 und 286 sind
mit den Schreibebitleitungen WBL0, WBL1, WBL2 bzw. WBL3 verbunden.
Die Schreibezeilendecodierer/Treiber 287, 289, 291 und 293 sind mit
den Schreibewortleitungen WWL0, WWL1, WWL2 bzw. WWL3 gekoppelt.
Die Lesezeilendecodierer/Treiber 288, 290, 292 und 294 sind
mit den Lesewortleitungen RWL0, RWL1, RWL2 bzw. RWL3 gekoppelt.
Die Lesespaltendecodierer/Fühlerverstärker 296 und 295 sind
mit den globalen Lesebitleitungen RGBL0 bzw. RGBL1 gekoppelt.
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Bei
Betrieb wird eine MRAM-Vorrichtung, wie etwa die MRAM-Vorrichtung 202,
geschrieben, indem Strom durch eine selektierte Schreibewortleitung,
wie etwa WWL0, und eine selektierte Schreibebitleitung, wie etwa
WBL0 in diesem Beispiel angelegt wird, um den Speicherzustand zu
kippen. Der Zustand kann auch direkt durch WWL0 und WBL0 geschrieben
werden, wenn die Speicherzelle eine Direktschreibezelle anstatt
einer Kippzelle ist. Alle MRAM-Vorrichtungen werden durch Stromfluss durch
die Schreibewortleitungen und Schreibebitleitungen für die spezielle
MRAM-Vorrichtung selektiert. Der Zustand einer MRAM-Vorrichtung,
wie etwa der MRAM-Vorrichtung 202, wird durch Anlegen einer hinreichenden
Spannung an die Gate-Elektrode ihres entsprechenden Auswahltransistors,
wie etwa des Transistors 230, über die Lesewortleitung RWL0, durch
Anlegen einer ausreichenden Spannung an die Gate-Elektrode des entsprechenden
Gruppentransistors, wie etwa des Transistors 250, über die
Gruppenauswahlleitung GS0, und durch Erfühlen des Zustandes der selektierten
MRAM-Vorrichtung, MRAM-Vorrichtung 202 in diesem Beispiel über die globale
Lesebitleitung RGB0 mittels des Zeilendecodierers/Fühlerverstärkers 296.
Eine Gruppe wird gebildet aus MRAM-Vorrichtungen, die ihre dritten Strompfade
gemeinsam angeschlossen haben. Die zu den globalen Bitleseleitungen
von den Zellen selbst hinzuaddierte Kapazität ist auf die Zellen limitiert,
die in der Gruppe sind. Auch die Transistoren 250 und 252 haben
gemeinsam angeschlossene Stromelektroden, wobei die Gate-Elektroden
mit unterschiedlichen Auswahlleitungen gekoppelt sind. Dies hat
den Effekt des Faltens von Gruppen, um eine gemeinsame globale Bitleitung
zu haben und damit die Selektion zwischen Gruppen durch separate
globale Auswahlleitungen erfolgt. Es gibt daher zusätzliche
Leitungen in der Zeilenrichtung und weniger in der Spaltenrichtung.
Der Vorzug ist, dass die Vermehrung der Leitungen in der Zeilenrichtung
eine für jede
Gruppe von Zellen ist. Wenn die Gruppe 32 ist, was als bevorzugte
Menge angesehen wird, gibt es eine zusätzliche globale Auswahlleitung
für eine
Entfernung von 32 Zellen. Für
den nicht gefalteten Fall gibt es eine globale Leseleitung für jede Spalte
anstatt einer für
alle zwei Spalten im gefalteten Fall. Der Effekt des ungefalteten
Falles verglichen mit dem gefalteten Fall ist daher eine zusätzliche
globale Lesebitleitung für
jede zwei Spalten, was eine Breite von zwei Zellen bedeutet. Die
Abwägung
erfolgt daher klar zu Gunsten der gefalteten Bitleitung. Dieser Raumvorteil
kann benutzt werden, um entweder die Größe der Leitungen zu erhöhen, um
ihren Widerstand zu reduzieren oder die Größe des Speicherkerns zu verringern
oder eine Kombination der beiden.
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Durch
Trennen der Schreibe- von den Leseleitungen kann ein Ende der Schreibeleitungen
direkt mit einer Spannungsversorgung VDD verbunden werden, was einen
zweiten Stromschalter eliminiert, der erforderlich wäre, wenn
das Lesen und Schreiben sich dieselbe Leitung teilen würde. Die
Gesamtfläche für den Schreibetreiber
ist daher kleiner und die vorteilhafte Bitgröße für den Speicherkern ist kleiner. Durch
Eliminieren der Notwendigkeit, eine Leitung zwischen Lesen und Schreiben
umzuschalten, können
auch die Schreibespannungen für
ihre Aufgabe optimiert werden ohne das Risiko, die Leseschaltungen
zu beschädigen.
Weiter können
diese Auswahltransistoren, weil die Auswahltransistoren keine Schreibespannungen
empfangen, sehr viel kleiner in ihrer Größe gemacht werden, weil sie
keine Spannungen auf Schreibeniveau empfangen müssen. Dies reduziert die Größe der Speicherzelle.
Dies ist besonders signifikant, wenn es üblich ist, Transistoren für unterschiedliche
Spannungsanforderungen unterschiedlich zu gestalten.
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In 15 ist
ein Querschnitt einer Speicherzelle gezeigt, die aus der MRAM-Vorrichtung 202 und dem
Transistor 230 besteht. Dies zeigt die gemeinsamen Elemente
einer MRAM-Vorrichtung, die eingerichtet ist, Vorteil aus der Architektur
von 14 zu ziehen. Bei einer typischen Anwendung der MRAM-Technologie
sind die MRAM-Vorrichtungen in einer Schaltung mit extensiver Logik,
wie etwa einem Mikroprozessor, präsent. In solch einem Fall gäbe es mehrere
Lagen von Metall, um das Logikdesign zu beherbergen und das Speicherelement
der MRAM-Vorrichtung würde
hergestellt werden, nachdem diese Metallschichten ausgebildet sind.
Dies liegt daran, dass der typische Tunnelübergang nicht in der Lage ist,
Temperaturen oberhalb von 400°C ohne
Verschlechterung zu handhaben.
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Die
MRAM-Vorrichtung 202 umfasst einen Tunnelübergang 300,
eine Verbindung 306, eine Verbindung 304 und Schreibestrompfade 314 und 302. Die
Verbindung 304 ist auch eine lokale Bitleitung 251.
Der Transistor 230 umfasst eine Source-Elektrode 324,
ein Drain-Elektrode 322 und eine Gate-Elektrode 323.
Die Drain-Elektrode 322 des Transistors 230 ist
mit der MRAM-Vorrichtung 202 über eine Verbindung 318,
eine Verbindung 308, eine Verbindung 310 und eine
Verbindung 312 verbunden, die als Metallschichten ausgebildet
sind, zur Verwendung als Logik. Diese Metallverbindungsschichten
sind miteinander über
Kontaklöcher
verbunden, wie dies wohlbekannt ist. Der Schreibestrompfad 314 ist
in derselben Metallschicht ausgebildet, wie die Verbindung 318.
Die Gate-Elektrode 323 ist Teil der Lesewortleitung RWL0,
die periodisch mit der Verbindung 320 verbunden ist. Der
Zweck der Verbindung 320 ist es, den Widerstand RWL0 zu
re duzieren. Dies ist eine bekannte Strapping-Technik, um den relativ
hohen Widerstand von Polysilizium zu vermeiden.
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In 16 ist
ein Querschnitt durch MRAM-Vorrichtung 202 und den Transistor 230,
wie in 15 angezeigt, dargestellt. Dieser
Querschnitt ist erweitert, um die MRAM-Vorrichtung 210 und den Transistor 238 zu
enthalten. Dies zeigt die globale Lesebitleitung RGBL0 auf derselben
Verbindungsebene, wie die Verbindung 310. Man beachte,
dass der Tunnelübergang 300 und
WWL0 aus der Querschnittlinie versetzt sind und daher in 16 nicht präsent sind.
Der Bereich der MRAM-Vorrichtung 210, der in 16 präsent ist,
ist die Schreibebitleitung WBL1. Ähnlich der MRAM-Vorrichtung 202 ist der
dritte Strompfad der MRAM-Vorrichtung 210 mit dem
Transistor 232 über
die Verbindung 2340, die Verbindung 338, die Verbindung 336,
die Verbindung 334 und die Verbindung 330 verbunden.
Die Verbindungen 330 und 306 bilden eine direkte
Verbindung mit den Tunnelübergängen der
MRAM-Vorrichtungen 210 bzw. 202. Diese Querschnitte
zeigen, dass diese Architektur ohne ungewöhnliche Strukturen erstellt werden
kann, die besondere Bearbeitung erfordern würden.
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Dargestellt
in 17 ist ein Bereich einer Alternative zu der in 14 gezeigten.
In diesem Fall sind die Speicherzellen in jeder Gruppe als ein Reihenspeicher
angeordnet. Jede der Mehrzahl von Gruppen benachbarter Bitzellen
ist in Reihe mit einer Referenz verbunden. In diesem Fall ist die
Referenz Masse. Es gibt eine lokale Bitleitung bei dieser Alternative. Ähnliche
Bezugszeichen sind ähnlichen Merkmalen
vorbehalten.
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Dem
Fachmann werden verschiedene Änderungen
und Modifikationen der hier zum Zwecke der Illustrierung ausgewähl ten Ausführungsbeispiele leicht
in den Sinn kommen. Solche Modifikationen und Variationen sollen
in dem Umfang der Erfindung eingeschlossen sein, der lediglich durch
eine gerechte Interpretation der nachfolgenden Ansprüche umrissen
ist.