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DE60306782T2 - Vorrichtung und verfahren zum beschreiben eines kippspeichers - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zum beschreiben eines kippspeichers Download PDF

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DE60306782T2
DE60306782T2 DE60306782T DE60306782T DE60306782T2 DE 60306782 T2 DE60306782 T2 DE 60306782T2 DE 60306782 T DE60306782 T DE 60306782T DE 60306782 T DE60306782 T DE 60306782T DE 60306782 T2 DE60306782 T2 DE 60306782T2
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DE
Germany
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bit
word
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memory
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DE60306782T
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DE60306782D1 (de
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J. Joseph Austin NAHAS
W. Thomas Austin ANDRE
K. Chitra Austin SUBRAMANIAN
J. Bradley Austin GARNI
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NXP USA Inc
Original Assignee
Freescale Semiconductor Inc
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Publication of DE60306782T2 publication Critical patent/DE60306782T2/de
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Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Diese Erfindung bezieht sich auf das Schreiben von Speichern und insbesondere auf das Schreiben von Speichern, die kippen.
  • Hintergrund der Erfindung
  • Nicht-flüchtige Speichervorrichtungen sind extrem wichtige Komponenten in elektronischen Systemen. FLASH ist die bedeutendste nicht-flüchtige Speichervorrichtung, die heutzutage verwendet wird. Typische nicht-flüchtige Speichervorrichtungen verwenden Ladungen, die in einer flottierenden Oxydschicht gefangen sind, um Information zu speichern. Nachteile des FLASH-Speichers umfassen hohe Spannungserfordernisse und langsame Programmierungs- und Löschzeiten. Auch hat ein FLASH-Speicher eine schlechte Schreibbeständigkeit von 104–106 Zyklen, bevor der Speicher ver sagt. Außerdem ist, um eine vernünftige Datenrückhaltung beizubehalten, die Skalierung der Oxydschicht durch die von den Elektronen gesehene Tunnelbarriere beschränkt. Daher ist der FLASH-Speicher auf Dimensionen limitiert, auf die er skaliert werden kann.
  • Um diese Nachteile zu überwinden, werden magnetische Speichervorrichtungen in Erwägung gezogen. Eine derartige Vorrichtung ist ein magnetoresistiver RAM (nachfolgend als "MRAM" bezeichnet). Um jedoch kommerziell praktikabel zu sein, muss ein MRAM vergleichbare Speicherdichte mit aktuellen Speichertechnologien haben, für zukünftige Generationen skalierbar sein, bei niedrigen Spannungen arbeiten, einen niedrigen Energieverbrauch haben und konkurrenzfähige Lese/Schreibegeschwindigkeiten aufweisen.
  • Für eine MRAM-Vorrichtung sind die Stabilität des nicht-flüchtigen Speicherzustandes, die Wiederholbarkeit der Lese/Schreibzyklen und die elementenweise Uniformität des Speicherschaltfeldes drei der wichtigsten Aspekte seiner Designeigenschaften. Ein Speicherzustand im MRAM wird nicht durch Leistung aufrechterhalten, sondern vielmehr durch die Ausrichtung des magnetischen Momentenvektors. Das Speichern von Daten wird ausgeführt, indem magnetische Felder angelegt werden und indem ein magnetisches Material in einer MRAM-Vorrichtung veranlasst wird, in einen von zwei möglichen Speicherzuständen magnetisiert zu werden. Ein Abrufen der Daten wird durchgeführt, indem die Widerstandsdifferenz in der MRAM-Vorrichtung zwischen den zwei Zuständen erfühlt wird. Die magnetischen Felder zum Schreiben werden erzeugt, indem Ströme durch Streifenleitungen außerhalb der magnetischen Struktur oder durch die magnetischen Strukturen selbst hindurchgeschickt werden.
  • Wenn sich die laterale Dimension einer MRAM-Vorrichtung verringert, treten drei Probleme auf. Erstens erhöht sich das Schaltfeld für eine gegebene Form und Filmdicke, was ein größeres magnetisches Feld zum Schalten erfordert. Zweitens wird das gesamte Schaltvolumen reduziert, so dass die Energiebarriere für die Umkehr sinkt. Die Energiebarriere bezieht sich auf den Energiebetrag, der benötigt wird, um den magnetischen Momentenvektor von einem Zustand in den anderen zu schalten. Die Energiebarriere bestimmt die Datenrückhaltung und Fehlerrate der MRAM-Vorrichtung und unbeabsichtigte Umkehrungen können aufgrund von Thermofluktuaktionen (Superparamagnetismus) auftreten, wenn die Barriere zu klein ist. Ein wesentliches Problem dabei, eine kleine Energiebarriere zu haben, ist, dass es extrem schwierig wird, eine MRAM-Vorrichtung in einem Array selektiv zu schalten. Selektierbarkeit erlaubt ein Schalten ohne unbeabsichtigtes Schalten anderer MRAM-Vorrichtungen. Schließlich wird, weil das Schaltfeld durch eine Form erzeug wird, das Schaltfeld empfindlicher gegenüber Formvariationen, wenn sich die MRAM-Vorrichtung in der Größe verringert. Während die photolitographische Skalierung bei kleineren Dimensionen schwieriger wird, haben MRAM-Vorrichtungen Schwierigkeiten, strikte Schaltverteilungen aufrechtzuerhalten.
  • US 5,953,248 offenbart eine magnetische Tunnelübergangsspeicherzelle mit niedrigem Schaltfeld, die eine antiferromagnetisch gekoppelte Struktur mit ersten und zweiten magnetoresistiven Schichten unterschiedlicher Dicke und einer nicht-magnetischen, leitenden Schicht, die sandwichartig dazwischen eingebettet ist, enthält.
  • US 4,763,305 offenbart einen Speicherbyte-Programmierungsmodus, der unnötige Lösch- und Programmierungszyklen vermeidet. Die Seiten 471–474 von "Halbleiter-Schaltungstechnik" von U. Tietze (XP002249282) offenbaren eine R-S-Flip-Flop-Anordnung. Es wäre daher höchst vorteilhaft, die vorgenannten und andere Nachteile, die dem Stand der Technik innewohnen, zu heilen.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Die vorgenanten und weitere und speziellere Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden für den Fachmann anhand der nachfolgenden, detaillierten Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform in Verbindung mit den folgenden Zeichnungen leicht verständlich:
  • 1 ist eine vereinfachte Querschnittsansicht einer magnetoresistiven Direktzugriffsspeichervorrichtung;
  • 2 ist eine vereinfachte Draufsicht auf eine magnetoresistive Direktzugriffsspeichervorrichtung mit Wort- und Bitleitungen;
  • 3 ist ein Graph, der eine Simulation der magnetischen Feldamplitudenkombinationen illustriert, die den direkten oder Kippschreibemodus in der magnetoresistiven Direktzugriffsspeichervorrichtung erzeugen;
  • 4 ist ein Graph, der das Timing-Diagramm des Wortstroms und des Bitstroms illustriert, wenn beide angeschaltet sind;
  • 5 ist ein Diagramm, welches die Rotation der magnetischen Momentenvektoren für eine magnetoresistive Direktzugriffsspeichervorrichtung für den Kippschreibemodus illustriert, wenn eine "1" an eine "0" geschrieben wird;
  • 6 ist ein Diagramm, das die Rotation der magnetischen Momentenvektoren für eine magnetoresistive Direktzugriffspeichervorrichtung für den Kippschreibemodus illustriert, wenn eine "0" an eine "1" geschrieben wird;
  • 7 ist ein Graph, der die Rotation der magnetischen Momentenvektoren für eine magnetoresistive Direktzugriffsspeichervorrichtung für den Direktschreibemodus illustriert, wenn eine "1" an eine "0" geschrieben wird;
  • 8 ist ein Graph, der die Rotation der magnetischen Momentenvektoren für eine magnetoresistive Direktzugriffsspeichervorrichtung für den Direktschreibemodus illustriert, wenn eine "0" an einen Zustand geschrieben wird, der bereits "0" ist;
  • 9 ist ein Graph, der das Timing-Diagramm des Wortstromes und des Bitstromes illustriert, wenn nur der Bitstrom angeschaltet ist;
  • 10 ist ein Graph, der die Rotation der magnetischen Momentenvektoren für eine magnetoresistive Direktzugriffsspeichervorrichtung illustriert, wenn nur der Bitstrom angeschaltet ist;
  • 11 ist ein Blockdiagramm eines Kippspeichers gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;
  • 12 ist ein detaillierteres Diagramm eines Bereichs des Speichers von 11;
  • 13 ist ein Timing-Diagramm, welches nützlich für das Verständnis des Betriebes des Speichers von 11 ist;
  • 14 ist ein Schaltungsdiagramm eines Bereichs des Speichers von 11, welches eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Architektur zeigt;
  • 15 ist ein erster Querschnitt einer Speicherzelle, die bei der Implementierung der Architektur von 14 benutzt wird;
  • 16 ist ein zweiter Querschnitt der Speicherzelle von 15; und
  • 17 ist ein Schaltungsdiagramm, welches eine Variation des Schaltungsdiagramms von 14 zeigt;
  • Detaillierte Beschreibung der bevorzugten Ausführungsform
  • Ein Kippspeicher wird entweder durch Umkehren des Zustandes der Speicherzellen oder indem diese im selben logischen Zustand gelassen werden, geschrieben. Um zu bestimmen, was davon gewählt wird, muss der zu schreibende logische Zustand mit dem Zustand verglichen werden, der bereits vorliegt. In diesem Fall wird die Schreibsequenz gestartet, bevor dieser Vergleich vollendet ist. Wenn das Ergebnis des Vergleichs ist, dass der logische Zustand umgekehrt werden muss, wird die Schreibsequenz fortgesetzt. Wenn der logische Zustand derselbe bleiben muss, wird die Schreibsequenz beendet.
  • Wir wenden uns nun 1 zu, die eine vereinfachte Querschnittsansicht eines MRAM-Arrays 3 gemäß der bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung illustriert. Bei dieser Illustrierung ist nur eine einzelne magnetoresistive Speichervorrichtung 10 gezeigt; man wird jedoch verstehen, dass das MRAM-Array 3 aus einer Anzahl von MRAM-Vorrichtungen 10 besteht und wir zur Vereinfachung der Beschreibung des Schreibverfahrens nur eine solche Vorrichtung zeigen.
  • Die MRAM-Vorrichtung 10 enthält eine Schreibewortleitung 20 und eine Schreibebitleitung 30. Die Schreibewortleitung 20 und die Schreibebitleitung 30 enthalten leitfähiges Material, so dass ein Strom durch sie hindurchgeschickt werden kann.
  • In dieser Illustrierung ist die Schreibewortleitung 20 oben an der MRAM-Vorrichtung 10 positioniert und die Schreibebitleitung 30 ist unten an der MRAM-Vorrichtung 10 positioniert und in einem 90° Winkel zu der Wortleitung 20 ausgerichtet (siehe 2). Als eine Alternative kann die Schreibewortleitung 20 unten an der MRAM-Vorrichtung 10 positioniert sein und die Schreibebitleitung 30 kann oben an der MRAM-Vorrichtung 10 positioniert sein.
  • Die MRAM-Vorrichtung 10 enthält einen Tunnelübergang, der eine erste magnetische Region 15, eine Tunnelbarriere 16 und eine zweite magnetische Region 17 umfasst, wobei die Tunnelbarriere 16 sandwichartig zwischen der ersten magnetischen Region 15 und der zweiten magnetischen Region 17 eingebettet ist. Bei der bevorzugten Ausführungsform enthält die magnetische Region 15 eine dreilagige Struktur 18, die eine antiferromagnetische Kopplungsabstandshalterschicht 65 zwischen zwei ferromagnetischen Schichten 45 und 55 aufweist. Die antiferromagnetische Kopplungsabstandshalterschicht 65 hat eine Dicke 86 und die ferromagnetischen Schichten 45 und 55 haben Dicken 41 bzw. 51. Weiter weist die magnetische Region 17 eine dreilagige Struktur 19 auf, die eine antiferromagnetische Kopplungsabstandshalterschicht 66 zwischen zwei ferromagnetischen Schichten 46 und 56 aufweist. Die antiferromagnetische Kopplungsabstandshalterschicht 66 hat eine Dicke 87 und die ferromagnetischen Schichten 46 und 56 haben Dicken 42 bzw. 52.
  • Im Allgemeinen enthalten die antiferromagnetischen Kopplungsabstandshalterschichten 65 und 66 wenigstens eines der Elemente Ru, Os, Re, Cr, Rh, Cu oder Kombinationen davon. Weiter enthalten die ferromagnetischen Schichten 45, 55, 46 und 56 wenigstens eines der Elemente Ni, Fe, Mn, Co oder Kombinationen davon. Man wird auch verstehen, dass die magnetischen Regionen 15 und 17 synthetische antiferromagnetische (SAF) Schichtmaterialstrukturen, die keine dreilagigen Strukturen sind, enthalten können und dass die Verwendung dreilagiger Strukturen in dieser Ausführungsform nur illustrativen Zwecken dient. Beispielsweise könnte eine solche synthetische antiferromagnetische Schichtmaterialstruktur einen fünflagigen Stapel einer ferromagnetischen Schicht/antiferromagnetischen Kopplungsabstandshalterschicht/ferromagnetischen Schicht/antiferromagnetischen Kopplungsabstandshalterschicht/ferromagnetischen Schichtstruktur enthalten.
  • Die ferromagnetischen Schichten 45 und 55 haben jeweils einen magnetischen Momentenvektor 57 bzw. 53, die üblicherweise durch Kopplung der antiferromagnetischen Kopplungsabstandshalterschicht 65 antiparallel gehalten werden. Auch die magnetische Region 15 weist einen resultierenden magnetischen Momentenvektor 40 auf und die magnetische Region 17 weist einen resultierenden magnetischen Momentenvektor 50 auf. Die resultierenden magnetischen Momentenvektoren 40 und 50 sind entlang einer "leichten" Anisotropieachse in einer Richtung, die in einem Winkel, vorzugsweise 45°, von der Schreibewortleitung 20 und der Schreibebitleitung 30 ausgerichtet ist, orientiert (siehe 2). Weiter ist die magnetische Region 15 eine freie ferromagnetische Region, was bedeutet, dass der resultierende magneti sche Momentenvektor 40 frei ist, in der Anwesenheit eines angelegten Magnetfeldes zu rotieren. Die magnetische Region 17 ist eine festgehaltene ferromagnetische Region, was bedeutet, dass der resultierende magnetische Momentenvektor 50 nicht frei ist, in der Anwesenheit eines moderaten angelegten Magnetfeldes zu rotieren, und als die Referenzschicht benutzt wird.
  • Obgleich die antiferromagnetischen Kopplungsschichten zwischen den zwei ferromagnetischen Schichten in jeder dreilagigen Struktur 18 illustriert sind, wird man verstehen, dass die ferromagnetischen Schichten durch andere Mittel, wie etwa magnetostatische Felder oder andere Merkmale antiferromagnetisch gekoppelt sein können. Wenn beispielsweise das Seitenverhältnis einer Zelle auf fünf oder kleiner reduziert wird, werden die ferromagnetischen Schichten aus dem magnetischen Flussabschluss antiparallel gekoppelt.
  • Bei der bevorzugten Ausführungsform hat die MRAM-Vorrichtung 10 dreilagige Strukturen 18, die ein Längen/Breitenverhältnis im Bereich von 1–5 für einen nicht-zirkularen Grundriss aufweisen. Wir illustrieren jedoch einen Grundriss, der zirkular ist (siehe 2). Die MRAM-Vorrichtung 10 hat bei der bevorzugten Ausführungsform eine zirkular Form, um den Beitrag der Formanisotropie zu dem Schaltfeld zu minimieren und auch weil es leichter ist, eine photolithographische Bearbeitung zu verwenden, um die Vorrichtung lateral auf kleinere Dimensionen zu skalieren. Man wird jedoch verstehen, dass die MRAM-Vorrichtung 10 andere Formen haben kann, wie etwa quadratisch, elliptisch, rechteckig oder rautenförmig, dass sie jedoch der Einfachheit halber als rund illustriert ist.
  • Weiter wird während der Herstellung des MRAM-Arrays 3 jede folgende Schicht (d.h. 30, 55, 65 etc.) in Folge abgelagert oder anderweitig ausgebildet und jede MRAM-Vorrichtung 10 kann als durch selektive Ablagerung, photolithographische Bearbeitung, Ätzen, etc. in irgendeiner in der Halbleiterindustrie bekannten Technik definiert werden. Während der Ablagerung wenigstens der ferromagnetischen Schichten 45 und 55 wird ein magnetisches Feld bereitgestellt, um eine vorbestimmte magnetische "leichte" Achse für dieses Paar einzustellen (induzierte Anisotropie). Das bereitgestellte Magnetfeld erzeugt eine bevorzugte Anisotropieachse für die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57. Die bevorzugte Achse wird ausgewählt, 45° der Schreibewortleitung 20 und der Schreibebitleitung 30 zu betragen, wie dies jetzt diskutiert werden soll.
  • Wir wenden uns nun 2 zu, die eine vereinfachte Draufsicht auf ein MRAM-Array 3 gemäß der vorliegenden Erfindung illustriert. Der Einfachheit der Beschreibung der MRAM-Vorrichtung 10 halber werden alle Richtungen auf ein x- und y-Koordinatensystem 100, wie dargestellt, bezogen und eine Rotationsrichtung im Uhrzeigersinn 94 und eine Rotationsrichtung gegen Uhrzeigersinn 96. Um die Beschreiung weiter zu vereinfachen, wird wieder angenommen, dass N gleich zwei sei, so dass die MRAM-Vorrichtung 10 eine dreilagige Struktur in der Region 15 mit magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 sowie einen resultierenden magnetischen Momentenvektor 40 enthält. Auch sind nur die magnetischen Momentenvektoren der Region 15 illustriert, da diese geschaltet werden.
  • Um zu illustrieren, wie das Verfahren arbeitet, wird angenommen, dass eine bevorzugte Anisotropieachse für die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 in einem 45° Winkel relativ zu den negativen x- und negativen y-Richtungen und in einem 45° Winkel relativ zu den positiven x- und positiven y-Richtungen ausgerichtet ist. Als ein Beispiel zeigt 2, dass der magnetische Momentenvektor 53 in einem 45° Winkel relativ zu den negativen x- und negativen y-Richtungen ausgerichtet ist. Da der magnetische Momentenvektor 57 allgemein antiparallel zum magnetischen Momentenvektor 53 orientiert ist, ist er in einem 45° Winkel relativ zu den positiven x- und den positiven y-Richtungen ausgerichtet. Diese Anfangsorientierung wird benutzt, um Beispiele des Schreibeverfahrens zu zeigen, wie es jetzt diskutiert wird.
  • Bei der bevorzugten Ausführungsform ist ein Schreibewortstrom 60 als positiv definiert, wenn er in einer positiven x-Richtung fließt und ein Schreibebitstrom 70 ist als positiv definiert, wenn er in einer positiven y-Richtung fließt. Der Zweck der Schreibewortleitung 20 und Schreibebitleitung 30 ist es, ein magnetisches Feld innerhalb der MRAM-Vorrichtung 10 zu erzeugen. Ein positiver Schreibewortstrom 60 induziert ein umlaufendes Schreibwortmagnetfeld HW 80 und ein positiver Schreibebitstrom 70 induziert ein umlaufendes Schreibbitmagnetfeld HB 90. Da bei diesem Beispiel die Schreibewortleitung 20 über der MRAM-Vorrichtung 10 in der Ebene des Elementes liegt, wird HW 80 an die MRAM-Vorrichtung 10 in positiver y-Richtung für einen positiven Schreibewortstrom 60 angelegt. Auf ähnliche Weise wird, da die Schreibebitleitung 30 unter der MRAM-Vorrichtung 10 in der Ebene des Elementes liegt, HB 90 an die MRAM-Vorrichtung 10 in der positiven x-Richtung für einen positiven Schreibbitstrom 70 angelegt. Man wird verste hen, dass die Definitionen für positiven und negativen Stromfluss willkürlich sind und hier zu illustrativen Zwecken definiert sind. Der Effekt des Umkehrens des Stromflusses ist es, die Richtung des in der MRAM-Vorrichtung induzierten Magnetfeldes zu ändern. Das Verhalten eines strominduzierten Magnetfeldes ist dem Fachmann wohlbekannt und soll hier nicht weiter ausgeführt werden.
  • Wir wenden uns nun 3 zu, die ein simuliertes Schaltverhalten einer dreilagigen SAF-Struktur illustriert. Die Simulation besteht aus zwei Einzeldomänen-Magnetschichten, die fast dasselbe Moment (ein nahezu ausbalanciertes SAF) mit einer intrinsischen Anisotropie aufweisen, antiferromagnetisch gekoppelt sind und deren Magnetisierungsdynamiken durch die Landau-Lifshitz-Gleichung beschrieben sind. Die x-Achse ist die Amplitude des Schreibewortleitungsmagnetfeldes in Oersted und die y-Achse ist die Amplitude des Schreibebitleitungsmagnetfeldes in Oersted. Die magnetischen Felder werden mit einer Pulssequenz 100, wie in 4 gezeigt, angelegt, wobei die Pulssequenz 100 einen Schreibewortstrom 60 und einen Schreibebitstrom 70 als Funktionen der Zeit enthält.
  • Es gibt drei Betriebsregionen, die in 3 illustriert sind. In einer Region 92 gibt es kein Schalten. Für den MRAM-Betrieb in einer Region 95 arbeitet das Direktschreibeverfahren. Wenn das Direktschreibeverfahren benutzt wird, besteht kein Bedarf, den ursprünglichen Zustand der MRAM-Vorrichtung zu bestimmen, da der Zustand nur geschaltet wird, wenn der zu schreibende Zustand verschieden ist, von dem Zustand der gespeichert ist. Die Auswahl des geschriebenen Zustandes wird von der Richtung des Stroms sowohl in der Schreibewortleitung 20 als auch der Schreibe bitleitung 30 bestimmt. Wenn beispielsweise eine "1" geschrieben werden soll, ist die Stromrichtung in beiden Leitungen positiv. Wenn eine "1" bereits in dem Element gespeichert ist und eine "1" geschrieben werden soll, wird der Endzustand der MRAM-Vorrichtung weiter "1" sein. Wenn weiter eine "0" gespeichert ist und "1" mit positiven Strömen geschrieben wird, wird der Endzustand der MRAM-Vorrichtung "1" sein. Ähnliche Ergebnisse werden erzielt, wenn eine "0" unter Verwendung negativer Ströme in sowohl den Schreibewort- als auch den Schreibebitleitungen verwendet wird. Jeder Zustand kann daher mit der geeigneten Polarität der Strompulse als erwünschte "1" oder "0" programmiert werden, unabhängig von seinem Ursprungszustand. In dieser Offenbarung wird die Region 95 als "Direktschreibemodus" definiert.
  • Für den MRAM-Betrieb in einer Region 97 arbeitet das Kippschreibeverfahren. Wenn das Kippschreibeverfahren benutzt wird, besteht eine Notwendigkeit, den ursprünglichen Zustand der MRAM-Vorrichtung vor dem Schreiben zu bestimmen, weil der Zustand jedes Mal geschaltet wird, wenn in die MRAM-Vorrichtung geschrieben wird, unabhängig von dem Strömen, solange Strompulse mit derselben Polarität für die Schreibewortleitung 20 sowie die Schreibebitleitung 30 gewählt werden. Wenn beispielsweise eine "1" ursprünglich gespeichert war, wird der Zustand der Vorrichtung zu einer "0" geschaltet, nachdem eine positive Strompulssequenz durch die Schreibewort- und Schreibebitleitungen geleitet wurde. Wiederholen der positiven Strompulssequenz in dem gespeicherten "0"-Zustand führt sie zurück zu einer "1". Um daher in der Lage zu sein, das Speicherelement in den erwünschten Zustand zu schreiben, muss zuerst der Ursprungs zustand der MRAM-Vorrichtung 10 gelesen und mit dem zu schreibenden Zustand verglichen werden. Das Lesen und Vergleichen kann eine zusätzliche logische Schaltung erfordern, einschließlich eines Puffers zum Speichern von Information und eines Komparators zum Vergleichen von Speicherzuständen. Die MRAM-Vorrichtung 10 wird dann nur geschrieben, wenn der gespeicherte Zustand und der zu speichernde Zustand unterschiedlich sind. Einer der Vorteile dieses Verfahrens ist es, dass die verbrauchte Energie verringert wird, da nur die unterschiedlichen Bits geschaltet werden. Ein zusätzlicher Vorteil der Verwendung des Kippschreibverfahrens ist, dass nur unipolare Spannungen erforderlich sind und daher kleinere N-Kanaltransistoren verwendet werden können, um die MRAM-Vorrichtung anzusteuern. In dieser Offenbarung wird der Betrieb in Region 97 als "Kippschreibemodus" definiert.
  • Beide Schreibeverfahren setzen das Anlegen von Strömen in der Schreibewortleitung 20 und der Schreibebitleitung 30 ein, so dass die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 in einer von zwei bevorzugten Richtungen ausgerichtet werden können, wie zuvor diskutiert. Um die zwei Schaltungsmoden voll zu erleuchten, werden nun spezielle Beispiele angegeben, die die zeitliche Entwicklung der magnetischen Momentenvektoren 53, 57 und 40 beschreiben.
  • Wir wenden uns nun 5 zu, die den Kippschreibemodus für das Schreiben einer "1" an eine "0" unter Verwendung der Pulsequenz 100 illustriert. Bei dieser Illustrierung sind zur Zeit t0 die magnetischen Vektoren 53 und 57 in den bevorzugten Richtungen, wie in 2 gezeigt, ausgerichtet. Diese Orientierung wird als eine "1" definiert.
  • Zu einer Zeit t1 wird ein positiver Schreibewortstrom 60 angeschaltet, der HW 80 induziert, so dass es in positiver Y-Richtung ausgerichtet ist. Die Wirkung des positiven HW 80 ist es, die nahezu ausbalancierte, entgegengesetzt ausgerichtete dreilagige MRAM zu veranlassen zu "FLOPen" und ungefähr 90° zu der angelegten Feldrichtung ausgerichtet zu werden. Die finite, antiferromagnetische Austauschwechselwirkung zwischen den ferromagnetischen Schichten 45 und 55 erlaubt es den magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 nun sich um einem kleinen Winkel zur Magnetfeldrichtung hin zu verlagern und der resultierende magnetische Momentenvektor 40 schneidet den Winkel zwischen den magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 und wird sich zu HW 80 ausrichten. Der magnetische Momentenvektor 53 wird daher in Uhrzeigersinn 94 rotiert. Da der resultierende magnetische Momentenvektor 40 die Vektorsumme der magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 ist, wird der magnetische Momentenvektor 57 ebenfalls im Uhrzeigersinn 94 rotiert.
  • Zu einer Zeit t2 wird der positive Schreibebitstrom 70 angeschaltet, der das positive HB 90 induziert. Folglich wird der resultierende magnetische Momentenvektor 40 gleichzeitig von HW 80 in der positiven y-Richtung und von HB 90 in der positiven x-Richtung ausgerichtet, was den Effekt hat, dass der effektive magnetische Momentenvektor 40 weiter im Uhrzeigersinn 94 rotiert, bis er allgemein in einem 45° Winkel zwischen den positiven x- und positiven y-Richtungen orientiert ist. Folglich rotieren die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 ebenfalls im Uhrzeigersinn 94.
  • Zu einer Zeit t3 wird der Schreibewortstrom 60 abgeschaltet, so dass nun lediglich HB 90 den resultierenden magnetischen Momentenvektor 40 ausrichtet, der nun in der positiven x-Richtung orientiert wird. Beide magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 werden nun allgemein in Winkeln jenseits ihrer Instabilitätspunkte der "schweren" Aniosotropieachsen ausgerichtet.
  • Zu einer Zeit t4 wird der Schreibebitstrom 70 ausgeschaltet, so dass keine magnetische Feldkraft auf den resultierenden magnetischen Momentenvektor 40 wirkt. Folglich werden die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 in ihren nächsten bevorzugten Richtungen orientiert, um die Anisotropieenergie zu minimieren. In diesem Fall ist die bevorzugte Richtung für den magnetischen Momentenvektor 53 ein 45° Winkel relativ zu den positiven y- und positiven x-Richtungen. Diese bevorzugte Richtung ist auch 180° von der ursprünglichen Richtung des magnetischen Vektors 53 zur Zeit t0 und ist definiert als "0". Die MRAM-Vorrichtung 10 wurde daher auf eine "0" umgeschaltet. Man wird verstehen, dass die MRAM-Vorrichtung 10 auch von den rotierenden magnetischen Momentenvektoren 53, 57 und 40 im Gegenuhrzeigersinn 96 unter Verwendung negativer Ströme in der Schreibewortleitung und der Schreibebitleitung 30 geschaltet werden könnte, dass es zu illustrativen Zwecken jedoch anders dargestellt wurde.
  • Wir wenden uns nun 6 zu, die den Kippschreibemodus zum Schreiben einer "0" an eine "1" unter Verwendung einer Pulssequenz 100 illustriert. Illustriert sind die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 sowie der resultierende magnetischen Momentenvektor 40, jeweils zu den Zeiten t0, t1, t2, t3, t4, wie zuvor beschrieben, wobei die Fähigkeit gezeigt wird, den Zustand der MRAM-Vorrichtung 10 von "0" zu "1" mit den selben Strom- und Magnetfeldrichtungen zu schalten. Der Zustand der MRAM-Vorrichtung 10 wird daher mit dem Kippschreibemodus geschrieben, der der Region 97 in 3 entspricht.
  • Für den Direktschreibemodus sei angenommen, dass der magnetische Momentenvektor 53 betragsmäßig größer ist als der magnetische Momentenvektor 57, so dass der magnetische Momentenvektor 40 in dieselbe Richtung zeigt wie der magnetische Momentenvektor 53, im Nullfeld jedoch einen kleineren Betrag hat. Dieses unbalancierte Moment erlaubt es der Dipolenergie, die dazu neigt, das Gesamtmoment mit dem angelegten Feld auszurichten, die Symmetrie der fast ausbalancierten SAF zu brechen. Ein Schalten kann daher nur in einer Richtung für eine gegebene Strompolarität erfolgen.
  • Wir wenden uns nun 7 zu, die ein Beispiel des Schreibens einer "1" an eine "0" unter Verwendung des Direktschreibemodus unter Verwendung der Pulssequenz 100 illustriert. Auch hier ist der Momentenzustand anfänglich eine "1", wobei der magnetische Momentenvektor 53 mit 45° in Bezug auf die negativen x- und negativen y-Richtungen ausgerichtet ist, und wobei der magnetische Momentenvektor 57 mit 45° in Bezug auf die positiven x- und positiven y-Richtungen ausgerichtet ist. Nach der Pulssequenz, wie oben beschrieben, mit einem positiven Schreibwortstrom 60 und einem positiven Schreibebitstrom 70 erfolgt das Schreiben in ähnlicher Weise wie der zuvor beschriebene Kippschreibemodus. Man beachte, dass die Momente wieder zu einer Zeit t1 "FLOPen", der resultierende Winkel jedoch aufgrund des unbalancierten Momentes und der Anisotropie von 90° abgelenkt ist. Nach der Zeit t4 ist die MRAM-Vorrichtung 10 in den "0"-Zustand geschaltet, wobei das resultierende magnetische Moment 40 in einem 45° Winkel in den positiven x- und positiven y-Richtungen orientiert ist, wie erwünscht. Ähnliche Ergebnisse werden erreicht, wenn eine "0" an eine "1" geschrieben werden, jedoch nun nur mit einem negativen Schreibewortstrom 60 und einem negativen Schreibebitstrom 70.
  • Wir wenden uns nun 8 zu, die ein Beispiel des Schreibens unter Verwendung des Direktschreibemodus illustriert, wenn der neue Zustand derselbe ist, wie der bereits gespeichert Zustand. In diesem Beispiel ist eine "0" bereits in der MRAM-Vorrichtung 10 gespeichert und die Strompulssequenz 100 wird nun wiederholt, um eine "0" zu speichern. Die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 versuchen, zu einer Zeit t1 zu "FLOPen", wobei jedoch die Rotation verringert ist, weil das unbalancierte magnetische Moment gegen das angelegte magnetische Feld arbeiten muss. Es gibt daher eine zusätzliche Energiebarriere, um aus dem umgekehrten Zustand heraus zu rotieren. Zur Zeit t2 ist das dominanten Moment 53 in etwa mit der positiven x-Achse ausgerichtet und weniger als 45° von seiner ursprünglichen Anisotropierichtung. Zu einer Zeit t3 ist das magnetische Feld entlang der positiven x-Achse ausgerichtet. Anstatt weiter im Uhrzeigersinn zu rotieren, verringert das System nun seine Energie durch Verändern der SAF-Momentensymmetrie in Bezug auf das angelegte Feld. Das passive Moment 57 kreuzt die x-Achse und das System stabilisiert sich, wenn das dominante Moment 53 in die Nähe seiner ursprünglichen Ausrichtung zurückkehrt. Zu einer Zeit t4, wenn das magnetische Feld entfernt wird, bleibt der in der MRAM-Vorrichtung 10 gespeicherte Zustand eine "0". Diese Sequenz illustriert den Mechanismus des Direktschreibemodus, der als Region 95 in 3 gezeigt ist. Im Rahmen dieser Ü bereinkunft erfordert es daher einen positiven Strom sowohl in der Schreibewortleitung 60 als auch in der Schreibebitleitung 70, um eine "0" zu schreiben und umgekehrt erfordert es einen negativen Strom in sowohl der Schreibewortleitung 60 als auch der Schreibebitleitung 70, um eine "1" zu schreiben.
  • Wenn größere Felder angelegt werden, verringert sich die zu einem FLOP gehörige Energie und die Schieflage überschreitet die zusätzliche Energiebarriere, die von der Dipolenergie des unbalancierten Momentes erzeugt wird, die ein Kippereignis verhindert. An diesem Punkt tritt ein Kippereignis ein und das Schalten ist durch die Region 97 beschrieben.
  • Die Region 95, in der der Direktschreibemodus Anwendung findet, kann ausgedehnt werden, d.h. die Kippmodenregion 97 kann zu höheren magnetischen Feldern hin verschoben werden, wenn die Zeiten t3 und t4 gleich sind oder so gleich wie möglich gemacht werden. In diesem Fall startet die Magnetfeldrichtung bei 45° relativ zu der Bitanisotropieachse, wenn der Schreibewortstrom 60 angeschaltet wird, und bewegt sich dann parallel mit der Bitanisotropieachse, wenn der Schreibebitstrom 70 angeschaltet wird. Dieses Beispiel ist ähnlich der typischen Sequenz zum Anlegen des Magnetfeldes. Jetzt werden jedoch der Schreibewortstrom 60 und der Schreibbitstrom 70 im Wesentlichen gleichzeitig abgeschaltet, so dass die Magnetfeldrichtung nicht weiter rotiert. Das angelegte Feld muss daher groß genug sein, so dass sich der resultierende magnetische Momentenvektor 40 bereits über seinen Instabilitätspunkt der Hartachse hinaus bewegt hat, während sowohl der Schreibewortstrom 60 als auch der Schreibebitstrom 70 angeschaltet waren. Es ist nun weniger wahrscheinlich, dass ein Kippschreibemodenergebnis eintritt, da die magnetische Feldrichtung nun um nur 45°, anstelle von 90° wie zuvor, bewegt wird. Ein Vorteil dabei, im Wesentlichen zusammenfallende Abfallzeiten t3 und t4 zu haben, ist, dass es nun keine zusätzlichen Beschränkungen bezüglich der Reihenfolge der Feldanstiegszeiten t1 und t2 gibt. Die magnetischen Felder können daher in jeder beliebigen Reihenfolge oder auch im Wesentlichen gleichzeitig angeschaltet werden.
  • Die zuvor beschriebenen Schreibeverfahren sind hoch selektiv, weil nur diejenige MRAM-Vorrichtung, bei der sowohl der Schreibewortstrom 60 als auch der Schreibebitstrom 70 zwischen den Zeiten t2 und t3 angeschaltet ist, die Zustände umschalten wird. Dieses Merkmal ist in den 9 und 10 illustriert. 9 illustriert eine Pulssequenz 100, wenn der Schreibwortstrom 60 nicht angeschaltet ist und der Schreibebitstrom 70 angeschaltet ist. 10 illustriert das entsprechende Verhalten des Zustandes der MRAM-Vorrichtung 10. Zu einer Zeit t0 sind die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 sowie der resultierende magnetischen Momentenvektor 40 orientiert, wie in 2 beschrieben. In der Pulssequenz 100 wird der Schreibebitstrom 70 zu einer Zeit t1 angeschaltet. Während dieser Zeit veranlasst HB 90, dass der resultierende magnetische Momentenvektor 40 in der positiven x-Richtung ausgerichtet wird.
  • Da der Schreibewortstrom 60 niemals angeschaltet wird, rotieren die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 niemals durch ihre Instabilitätspunkte der "schweren" Anisotropieachse. Als ein Ergebnis werden die magnetischen Momentenvektoren 53 und 57 sich selbst in der nächsten bevorzugten Richtung neu orientieren, wenn der Schreibebitstrom 70 zu einer Zeit t3 ausgeschaltet wird, was in diesem Fall die ursprüngliche Richtung zur Zeit t0 ist. Der Zustand der MRAM-Vorrichtung 10 wird daher nicht geschaltet. Man wird verstehen, dass dasselbe Resultat eintreten wird, wenn der Schreibewortstrom 60 zu ähnlichen Zeiten wie oben beschrieben und der Schreibebitstrom 70 nicht angeschaltet wird. Dieses Merkmal stellt sicher, dass nur eine MRAM-Vorrichtung in dem Array geschaltet wird, während die anderen Vorrichtungen in ihren ursprünglichen Zustanden bleiben. Als ein Resultat wird unbeabsichtigtes Schalten vermieden und die Bitfehlerrate wird minimiert.
  • Dargestellt in 11 ist ein Speicher 110, umfassend ein Speicherarray 112, einen Schreibewortdecodierer 114, einen Schreibewortleitungstreiber 116, einen Lesewortdecodierer 118, einen Lesewortleitungstreiber 120, einen oder mehrere Fühlerverstärker 122, einen Lesebitdecodierer 124, einen Schreibebitdecodierer 126, einen Schreibebittreiber 128, einen Komparator 130 und einen Ausgangstreiber 132. Diese Elemente sind durch mehrere Leitungen miteinander gekoppelt. Beispielsweise empfängt der Lesebitdecodierer 124 eine Spaltenadresse, die aus mehreren Adresssignalen aufgebaut ist. Das Speicherarray 112 ist ein Array von Speicherzellen, die in einer Kippoperation geschaltet werden können. Ein Bereich der Speicherzellen für das Speicherarray 112 ist ein Speicherarray 200, das in 11 gezeigt ist, welches ein MRAM-Zellenarray ist, das mit dem für das Speicherarray 3 von 1 beschriebene Verfahren geschrieben wird, indem das Schreiben in vier Schritten von 45° Winkeln erfolgt, bis 180° erreicht sind. Bei diesem besonderen, bevorzugten Zellenarray gibt es se parate Wortleitungen und Bitleitungen für eine Schreibeoperation und eine Leseoperation.
  • Der Lesewortdecodierer 118 empfängt eine Zeilenadresse und ist mit dem Lesewortleitungstreiber 120 gekoppelt, der seinerseits mit dem Speicherarray 112 gekoppelt ist. Für ein Lesen wählt der Lesewortdecodierer 118 eine Lesewortleitung im Speicherarray 112, basierend auf der Zeilenadresse, aus. Die ausgewählte Wortleitung wird von dem Leseleitungstreiber 120 angesteuert. Der Lesebitdecodierer 124, der die Spaltenadresse empfängt und zwischen dem Fühlerverstärker 122 und dem Speicherarray 112 angeschlossen ist, selektiert eine Lesebitleitung aus dem Lesebitdecodierer 124, basierend auf der Spaltenadresse, aus dem Speicherarray 112 und koppelt sie mit dem Fühlerverstärker 122. Der Fühlerverstärker 122 detektiert den logischen Zustand und koppelt ihn in den Ausgangstreiber 132 und den Komparator 130 ein. Der Ausgangstreiber 132 liefert für ein Lesen ein Datenausgangssignal DO. Für eine Schreiboperation vergleicht der Komparator 130 den logischen Zustand der ausgewählten Zelle, der von dem Fühlerverstärker 122 geliefert wird, mit dem erwünschten, zu schreibenden logischen Zustand, wie er vom Dateneingang geliefert wird.
  • Der Schreibewortdecodierer 114 empfängt die Zeilenadresse und ist mit dem Schreibewortleitungstreiber 116 gekoppelt, der seinerseits mit dem Speicherarray 112 gekoppelt ist. Für ein Schreiben selektiert der Schreibewortdecodierer 114 eine Schreibewortleitung, basierend auf der Zeilenadresse, in dem Speicherarray 112 und der Schreibewortleitungstreiber steuert seinerseits diese selektierte Schreibewortleitung an. Der Schreibebitdecodierer 126 empfängt die Spaltenadresse und ist mit dem Schreibebittreiber 128 gekoppelt, der mit dem Speicherarray 112 gekoppelt ist. Der Schreibebitdecodierer 126 selektiert eine Schreibebitleitung basierend auf der Spaltenadresse und der Schreibebittreiber 128 steuert seinerseits die selektierte Schreibebitleitung an, um den Zustand der selektierten Zelle zu kippen.
  • Da das Speicherarray 112 ein Kippspeicher ist, wird eine Schreibekippoperation nur vollendet, wenn der logische Zustand der Zelle gekippt werden muss, um den erwünschten, resultierenden logischen Zustand für die selektierte Zelle zu erhalten. Der Komparator 130 empfängt daher die Ausgabe einer Leseoperation an der selektierten Zelle vom Fühlerverstärker 122 und bestimmt, ob die selektierte Zelle bereits den erwünschten logischen Zustand hat. Wenn die selektierte Zelle, wie durch die Zeilen- und Spaltenadresse bestimmt, den erwünschten logischen Zustand hat, wird die Schreibeoperation beendet. Wenn der logische Zustand der ausgewählten Zelle verschieden ist von dem erwünschten Zustand, zeigt der Komparator dem Schreibebittreiber 128 an, dass das Schreiben fortgesetzt werden soll und der Schreibebittreiber für die ausgewählte Schreibebitleitung steuert die ausgewählte Schreibbitleitung an.
  • Dargestellt in 12 ist ein Teil des Speichers 110 von 11, umfassend den Schreibewortleitungstreiber 116, der mit den Schreibewortleitungen WL gekoppelt ist, den Schreibebittreiber 128, der mit den Schreibebitleitungen BL gekoppelt ist, und die Zellen 134, 136, 138 und 140, die mit Kreuzungen von Schreibebitleitungen BL und Wortbitleitungen WL gekoppelt sind. Damit ein Schreiben eintritt, wird ein Strom an eine selektierte Wortleitung WL angelegt, während kein Strom in der selektierten Schreibebitleitung fließt, und zwar für eine ausreichend lange Zeit, um die erste Winkeländerung in den Speicherzellen entlang der selektierten Schreibewortleitung zu verursachen. Während der Strom in der ausgewählten Schreibewortleitung noch fließt, wird Strom durch die selektierte Schreibebitleitung fließen gelassen, um die zweite Winkeländerung der ausgewählten Speicherzelle zu verursachen. Nur bei der Kreuzung der stromführenden Schreibebitleitung und Schreibewortleitung erfolgt diese zweite Winkeländerung. Während der Strom noch immer durch die Schreibebitleitung fließt, wird der Stromfluss durch die selektierte Schreibewortleitung beendet, um eine dritte Winkeländerung in der selektierten Speicherzelle zu verursachen. Nur bei der Kreuzung der ausgewählten Schreibebitleitung und der ausgewählten Schreibewortleitung erfolgt diese dritte Änderung. Eine vierte Winkeländerung der ausgewählten Speicherzelle tritt ein, wenn der Strom durch die ausgewählte Schreibebitleitung beendet wird.
  • Die Schreibeoperation des Speichers 110 wird unter Bezugnahme auf das Timing-Diagramm von 13 weiter erläutert. Sowohl eine Leseoperation als auch eine Schreibekippoperation werden durch Änderung in der Zeilen- oder Spaltenadresse wie gezeigt durch Aktivieren einer Lesewortleitung WLA, wie in 13 gezeigt, initiiert. Obgleich das Schreiben nicht ausgeführt werden kann, bis bestimmt worden ist, dass der logische Zustand gekippt werden muss, kann gleichwohl der Schreibezyklus wie erwähnt beginnen, indem die Schreibewortleitung aktiviert wird, bevor der Fühlerverstärker seine Ausgabe liefert und der Komparator bestimmt, ob der logische Zustand gekippt werden muss. Aktivieren (Verursachen eines Stromflusses hindurch) der Schreibewortleitung verursacht die erste Winkeländerung in der selektierten Zelle sowie in allen Zellen entlang der selektieren Schreibewortleitung, wobei jedoch diese Änderung umgekehrt wird, wenn der Strom beendet wird, ohne dass die Schreibebitleitung aktiviert wird. Die ausgewählte Schreibewortleitung kann daher aktiviert werden, bevor der Komparator seine Bestimmung vornimmt, weil die erste Winkeländerung einfach durch Entfernen des Stroms umgekehrt wird. Dies muss der Fall sein, da alle Zellen auf der selektierten Schreibewortleitung die erste Winkeländerung erfahren, alle außer einer jedoch nicht ausgewählt sind. Lediglich die ausgewählte Zelle erfährt jedoch die zweite Winkeländerung und dies tritt ein, wenn die Schreibebitleitung aktiviert wird. Dies ist als eintretend dargestellt, nachdem der Komparator die Bestimmung vorgenommen hat, dass eine logische Zustandsänderung erwünscht ist. Die erste Winkeländerung ist gezeigt als von 0° bis 45° und die zweite Änderung ist von 45° bis 90°. Die dritte Winkeländerung ist gezeigt als auftretend, wenn die Schreibewortleitung deaktiviert wird (Strom wird beendet). Dies ist gezeigt als von 90° bis 135°. Die abschließende, gezeigte Winkeländerung ist die vierte Winkeländerung und tritt ein, wenn die Schreibebitleitung deaktiviert wird. Diese Winkeländerung ist als von 135° bis 180° gezeigt.
  • Dies zeigt auch, dass die abschließenden Stufen des Schreibens nach der nächsten Adressänderung, die einen weiteren Zyklus initiiert, erfolgen können. Der Beginn eines Zyklus beginnt stets mit einem Lesen, selbst wenn es sich um einen Schreibezyklus handelt. Die Adresse A wird in die Adresse B geändert und veranlasst, dass die Lesewortleitung B selektiert wird. Dies stört sich nicht mit dem Schreiben der zuvor ausgewählten Zelle. Dies stellt eine Lesewortlei tungsänderung dar, wobei jedoch selbst wenn die Adresse nur eine Spaltenänderung ist, so dass die selektierte Lesewortleitung sich nicht ändert, der fortgesetzte Stromfluss umgekehrt nicht die Vollendung des Schreibens beeinträchtigt. Man beachte auch, dass es nicht notwendig ist, dass die Schreibaktivierung zu der Zeit aktiv ist, zu der der Zyklus beginnt, weil alle Zyklen ohnehin mit einer Leseoperation beginnen. Das Schreibaktivierungssignal muss daher hinreichend früh aktiv sein, damit die Schreibebitleitung aktiv wird.
  • Die Erläuterung erfolgte im Hinblick darauf, dass eine einzelne Zelle selektiert wurde, was jedoch der Vereinfachung des Verständnisses diente. In der Praxis werden typischerweise eine Anzahl von Zellen ausgewählt und dies ist in 11 durch die Signalverbindungen zwischen den Elementen dargestellt, die multiple Signalleitungen sind. Wenn daher beispielsweise der Speicher 110 ein x16-Speicher wäre, würde der Komparator 130 tatsächlich 16 verschiedene Vergleiche durchführen, einen für jede ausgewählte Zelle. Von den 16 Vergleichen würden lediglich diejenigen die eine Nichtübereinstimmung anzeigen, eine Schreiboperation für diejenigen Zellen mit der Nichtübereinstimmung verursachen. Die selektierten Zellen, die zu einer Übereinstimmung führten, würden nicht gekippt. Dargestellt in 14 ist ein Teil eines Speicher-Arrays 200 und eine Mehrzahl von Treibern, Decodierern und Fühlerblöcken, die kombiniert werden, um einen Speicherkern 201 zu bilden. Der Teil des Speicher-Arrays 200 umfasst MRAM-Vorrichtungen 202, 204, 206, 208, 210, 212, 213, 214, 216, 218, 220, 222, 224, 226, 227 und 228. Jede dieser MRAM-Vorrichtungen hat drei Strompfade. Ein erster Strompfad und ein zweiter Strompfad dieser drei Strompfade, die als orthogonal zueinander dargestellt sind, repräsentieren die Schreibpfade. Diese beiden Pfade tragen die Signale, gezeigt in den 12 und 13, die den logischen Zustand der Zelle schalten. Der dritte Strompfad, der als ein Widerstand in einem 45° Winkel dargestellt ist, repräsentiert einen Lesestrompfad durch einen magnetoresistiven Tunnelübergang, der in einen der zwei möglichen Widerstandszustände programmiert ist. Das Speicherarray 200 umfasst weiter Auswahltransistoren 230, 232, 234, 236, 238, 240, 242, 244, 260, 262, 264, 266, 268, 270, 272 und 274, die in Reihe mit dem dritten Strompfad, der ein Lesestrompfad ist, der entsprechenden MRAM-Vorrichtungen 202, 204, 206, 208, 210, 212, 213, 214, 216, 218, 220, 222, 224, 226, 227 bzw. 228 stehen. Der Anschluss dieser Auswahltransistoren ist so, dass eine Elektrode dieser Transistoren mit dem dritten Strompfad gekoppelt ist und die zweite Stromelektrode mit Masse (VSS) gekoppelt ist. Jede Kombination einer Auswahltransistorvorrichtung und einer MRAM-Vorrichtung umfasst eine Speicherzelle.
  • Der Speicherkern 201 umfasst Schreibewortleitungen WWL0, WWL1, WWL2 und WWL3, die durch die ersten Strompfade der MRAM-Vorrichtungen laufen. WWL0 läuft durch die MRAM-Vorrichtungen 202, 210, 216 und 224. WWL1 läuft durch die MRAM-Vorrichtungen 204, 212, 218 und 226. WWL2 läuft durch die MRAM-Vorrichtungen 206, 213, 220 und 227. WWL3 läuft durch die MRAM-Vorrichtungen 208, 214, 222 und 228. Das Speicherarray 200 umfasst weiter Schreibebitleitungen WBL0, WBL1, WBL2 und WBL3, die durch die zweiten Strompfade der MRAM-Vorrichtungen laufen. WBL0 läuft durch die MRAM-Vorrichtungen 202, 204, 206 und 208. WBL1 läuft durch die MRAM-Vorrichtungen 210, 212, 213 und 214. WBL2 läuft durch die MRAM-Vorrichtungen 216, 218, 220 und 222. WBL3 läuft durch die MRAM-Vorrichtungen 224, 226, 227 und 228. Noch weiter umfasst das Speicherarray 200 Lesewortleitungen RWL0, RWL1, RWL2 und RWL3, die mit der Gate-Elektrode der Auswahltransistoren gekoppelt sind. RWL0 ist mit den Auswahltransistoren 230, 238, 260 und 268 gekoppelt. RWL1 ist mit den Auswahltransistoren 232, 240, 262 und 270 gekoppelt. RWL2 ist mit den Auswahltransistoren 234, 242, 264 und 272 gekoppelt. RWL3 ist mit den Auswahltransistoren 236, 244, 266 und 274 gekoppelt. Das Speicherarray 200 umfasst auch globale Lesebitleitungen RGBL0 und RGBL1 und Gruppenauswahlleitungen GS0, GS1, GS2 und GS3.
  • Das Speicher-Array 200 umfasst weiter Gruppenauswahltransistoren 250, 252, 254, 256, 276, 278, 280 und 282, die dem Koppel von Gruppen von Speicherzellen mit globalen Lesebitleitungen dienen. Das Speicherarray 200 umfasst auch lokale Bitleitungen 251, 253, 255, 257, 277, 279, 281 und 283, die jeweils mit dem dritten Strompfad der MRAM-Vorrichtungen für ihre Gruppen gekoppelt sind. Das bedeutet, es gibt eine dieser lokalen Bitleitungen für jede Gruppe.
  • Die Transistoren 250 und 252 weisen erste Stromelektroden auf, die miteinander und mit der globalen Lesebitleitung RGBL0 gekoppelt sind. Die Transistoren 254 und 256 weisen erste Stromelektroden auf, die miteinander und mit der globalen Lesebitleitung RGBL0 gekoppelt sind. Die Transistoren 276 und 278 weisen erste Stromelektroden auf, die miteinander und mit der globalen Lesebitleitung RGBL1 gekoppelt sind. Die Transistoren 280 und 282 weisen erste Stromelektroden auf, die miteinander und mit der globalen Lesebitleitung RGBL1 gekoppelt sind. Die Transistoren 250, 252, 254, 256, 276, 278, 280 und 282 weisen jeweils zweite Stromelektroden auf, die mit den lokalen Bitleitungen 251, 253, 255, 257, 277, 279, 281 und 283 gekoppelt sind. Die lokalen Bitleitungen 251, 253, 255, 257, 277, 279, 281 und 283 sind mit dem dritten Strompfad der MRAM-Vorrichtungen 202 und 204, 206 und 208, 210 und 212, 213 und 214, 216 und 218, 220 und 222, 224 und 226 bzw. 227 und 228 gekoppelt. Die Gruppenauswahlleitung GS0 ist mit dem Gruppenauswahltransistor 250 und 276 gekoppelt. Die Gruppenauswahlleitung GS1 mit dem Gruppenauswahltransistor 252 und 278 gekoppelt. Die Gruppenauswahlleitung GS2 ist mit dem Gruppenauswahltransistor 254 und 280 gekoppelt die Gruppenauswahlleitung GS3 ist mit Gruppenauswahltransistor 256 und 282 gekoppelt.
  • Der Speicherkern 201 umfasst zusätzlich zu dem Speicherarray 200 Schreibespaltendecodierer/Treiber 283, 284, 285 und 286, Schreibezeilendecodierer/Treiber 287, 289, 291 und 293, Lesezeilendecodierer/Treiber 288, 290, 292 und 294 und Lesespaltendecodierer/Fühlerverstärker 295 und 296. Die Schreibespaltendecodierer/Treiber 283, 284, 285 und 286 sind mit den Schreibebitleitungen WBL0, WBL1, WBL2 bzw. WBL3 verbunden. Die Schreibezeilendecodierer/Treiber 287, 289, 291 und 293 sind mit den Schreibewortleitungen WWL0, WWL1, WWL2 bzw. WWL3 gekoppelt. Die Lesezeilendecodierer/Treiber 288, 290, 292 und 294 sind mit den Lesewortleitungen RWL0, RWL1, RWL2 bzw. RWL3 gekoppelt. Die Lesespaltendecodierer/Fühlerverstärker 296 und 295 sind mit den globalen Lesebitleitungen RGBL0 bzw. RGBL1 gekoppelt.
  • Bei Betrieb wird eine MRAM-Vorrichtung, wie etwa die MRAM-Vorrichtung 202, geschrieben, indem Strom durch eine selektierte Schreibewortleitung, wie etwa WWL0, und eine selektierte Schreibebitleitung, wie etwa WBL0 in diesem Beispiel angelegt wird, um den Speicherzustand zu kippen. Der Zustand kann auch direkt durch WWL0 und WBL0 geschrieben werden, wenn die Speicherzelle eine Direktschreibezelle anstatt einer Kippzelle ist. Alle MRAM-Vorrichtungen werden durch Stromfluss durch die Schreibewortleitungen und Schreibebitleitungen für die spezielle MRAM-Vorrichtung selektiert. Der Zustand einer MRAM-Vorrichtung, wie etwa der MRAM-Vorrichtung 202, wird durch Anlegen einer hinreichenden Spannung an die Gate-Elektrode ihres entsprechenden Auswahltransistors, wie etwa des Transistors 230, über die Lesewortleitung RWL0, durch Anlegen einer ausreichenden Spannung an die Gate-Elektrode des entsprechenden Gruppentransistors, wie etwa des Transistors 250, über die Gruppenauswahlleitung GS0, und durch Erfühlen des Zustandes der selektierten MRAM-Vorrichtung, MRAM-Vorrichtung 202 in diesem Beispiel über die globale Lesebitleitung RGB0 mittels des Zeilendecodierers/Fühlerverstärkers 296. Eine Gruppe wird gebildet aus MRAM-Vorrichtungen, die ihre dritten Strompfade gemeinsam angeschlossen haben. Die zu den globalen Bitleseleitungen von den Zellen selbst hinzuaddierte Kapazität ist auf die Zellen limitiert, die in der Gruppe sind. Auch die Transistoren 250 und 252 haben gemeinsam angeschlossene Stromelektroden, wobei die Gate-Elektroden mit unterschiedlichen Auswahlleitungen gekoppelt sind. Dies hat den Effekt des Faltens von Gruppen, um eine gemeinsame globale Bitleitung zu haben und damit die Selektion zwischen Gruppen durch separate globale Auswahlleitungen erfolgt. Es gibt daher zusätzliche Leitungen in der Zeilenrichtung und weniger in der Spaltenrichtung. Der Vorzug ist, dass die Vermehrung der Leitungen in der Zeilenrichtung eine für jede Gruppe von Zellen ist. Wenn die Gruppe 32 ist, was als bevorzugte Menge angesehen wird, gibt es eine zusätzliche globale Auswahlleitung für eine Entfernung von 32 Zellen. Für den nicht gefalteten Fall gibt es eine globale Leseleitung für jede Spalte anstatt einer für alle zwei Spalten im gefalteten Fall. Der Effekt des ungefalteten Falles verglichen mit dem gefalteten Fall ist daher eine zusätzliche globale Lesebitleitung für jede zwei Spalten, was eine Breite von zwei Zellen bedeutet. Die Abwägung erfolgt daher klar zu Gunsten der gefalteten Bitleitung. Dieser Raumvorteil kann benutzt werden, um entweder die Größe der Leitungen zu erhöhen, um ihren Widerstand zu reduzieren oder die Größe des Speicherkerns zu verringern oder eine Kombination der beiden.
  • Durch Trennen der Schreibe- von den Leseleitungen kann ein Ende der Schreibeleitungen direkt mit einer Spannungsversorgung VDD verbunden werden, was einen zweiten Stromschalter eliminiert, der erforderlich wäre, wenn das Lesen und Schreiben sich dieselbe Leitung teilen würde. Die Gesamtfläche für den Schreibetreiber ist daher kleiner und die vorteilhafte Bitgröße für den Speicherkern ist kleiner. Durch Eliminieren der Notwendigkeit, eine Leitung zwischen Lesen und Schreiben umzuschalten, können auch die Schreibespannungen für ihre Aufgabe optimiert werden ohne das Risiko, die Leseschaltungen zu beschädigen. Weiter können diese Auswahltransistoren, weil die Auswahltransistoren keine Schreibespannungen empfangen, sehr viel kleiner in ihrer Größe gemacht werden, weil sie keine Spannungen auf Schreibeniveau empfangen müssen. Dies reduziert die Größe der Speicherzelle. Dies ist besonders signifikant, wenn es üblich ist, Transistoren für unterschiedliche Spannungsanforderungen unterschiedlich zu gestalten.
  • In 15 ist ein Querschnitt einer Speicherzelle gezeigt, die aus der MRAM-Vorrichtung 202 und dem Transistor 230 besteht. Dies zeigt die gemeinsamen Elemente einer MRAM-Vorrichtung, die eingerichtet ist, Vorteil aus der Architektur von 14 zu ziehen. Bei einer typischen Anwendung der MRAM-Technologie sind die MRAM-Vorrichtungen in einer Schaltung mit extensiver Logik, wie etwa einem Mikroprozessor, präsent. In solch einem Fall gäbe es mehrere Lagen von Metall, um das Logikdesign zu beherbergen und das Speicherelement der MRAM-Vorrichtung würde hergestellt werden, nachdem diese Metallschichten ausgebildet sind. Dies liegt daran, dass der typische Tunnelübergang nicht in der Lage ist, Temperaturen oberhalb von 400°C ohne Verschlechterung zu handhaben.
  • Die MRAM-Vorrichtung 202 umfasst einen Tunnelübergang 300, eine Verbindung 306, eine Verbindung 304 und Schreibestrompfade 314 und 302. Die Verbindung 304 ist auch eine lokale Bitleitung 251. Der Transistor 230 umfasst eine Source-Elektrode 324, ein Drain-Elektrode 322 und eine Gate-Elektrode 323. Die Drain-Elektrode 322 des Transistors 230 ist mit der MRAM-Vorrichtung 202 über eine Verbindung 318, eine Verbindung 308, eine Verbindung 310 und eine Verbindung 312 verbunden, die als Metallschichten ausgebildet sind, zur Verwendung als Logik. Diese Metallverbindungsschichten sind miteinander über Kontaklöcher verbunden, wie dies wohlbekannt ist. Der Schreibestrompfad 314 ist in derselben Metallschicht ausgebildet, wie die Verbindung 318. Die Gate-Elektrode 323 ist Teil der Lesewortleitung RWL0, die periodisch mit der Verbindung 320 verbunden ist. Der Zweck der Verbindung 320 ist es, den Widerstand RWL0 zu re duzieren. Dies ist eine bekannte Strapping-Technik, um den relativ hohen Widerstand von Polysilizium zu vermeiden.
  • In 16 ist ein Querschnitt durch MRAM-Vorrichtung 202 und den Transistor 230, wie in 15 angezeigt, dargestellt. Dieser Querschnitt ist erweitert, um die MRAM-Vorrichtung 210 und den Transistor 238 zu enthalten. Dies zeigt die globale Lesebitleitung RGBL0 auf derselben Verbindungsebene, wie die Verbindung 310. Man beachte, dass der Tunnelübergang 300 und WWL0 aus der Querschnittlinie versetzt sind und daher in 16 nicht präsent sind. Der Bereich der MRAM-Vorrichtung 210, der in 16 präsent ist, ist die Schreibebitleitung WBL1. Ähnlich der MRAM-Vorrichtung 202 ist der dritte Strompfad der MRAM-Vorrichtung 210 mit dem Transistor 232 über die Verbindung 2340, die Verbindung 338, die Verbindung 336, die Verbindung 334 und die Verbindung 330 verbunden. Die Verbindungen 330 und 306 bilden eine direkte Verbindung mit den Tunnelübergängen der MRAM-Vorrichtungen 210 bzw. 202. Diese Querschnitte zeigen, dass diese Architektur ohne ungewöhnliche Strukturen erstellt werden kann, die besondere Bearbeitung erfordern würden.
  • Dargestellt in 17 ist ein Bereich einer Alternative zu der in 14 gezeigten. In diesem Fall sind die Speicherzellen in jeder Gruppe als ein Reihenspeicher angeordnet. Jede der Mehrzahl von Gruppen benachbarter Bitzellen ist in Reihe mit einer Referenz verbunden. In diesem Fall ist die Referenz Masse. Es gibt eine lokale Bitleitung bei dieser Alternative. Ähnliche Bezugszeichen sind ähnlichen Merkmalen vorbehalten.
  • Dem Fachmann werden verschiedene Änderungen und Modifikationen der hier zum Zwecke der Illustrierung ausgewähl ten Ausführungsbeispiele leicht in den Sinn kommen. Solche Modifikationen und Variationen sollen in dem Umfang der Erfindung eingeschlossen sein, der lediglich durch eine gerechte Interpretation der nachfolgenden Ansprüche umrissen ist.

Claims (12)

  1. Verfahren zum Lesen und Schreiben eines Kippspeichers (110), umfassend die aufeinander folgenden Schritte: Initiieren einer Leseoperation einer vorbestimmten Adressposition (112) des Kippspeichers; Initiieren eines Teils einer Kippschreibeoperation an der vorbestimmten Adressposition ohne einen aktuell gespeicherten Wert zu beeinflussen; Vergleichen (130) des aktuell gespeicherten Datenwertes an der vorbestimmten Adressposition mit einem neuen, an die vorbestimmte Adressposition zu schreibenden Wert, um zu bestimmen, ob der neue Wert verschieden von oder identisch mit dem gespeicherten Datenwert (112) ist; Vervollständigen der Kippschreibeoperation an der vorbestimmten Adressposition, falls der neue Wert verschieden ist von dem gespeicherten Datenwert, oder Beenden der Kippschreibeoperation an der vorbestimmten Adressposition, falls der neue, zu schreibende Wert identisch mit dem gespeicherten Datenwert ist.
  2. Verfahren von Anspruch 1, weiter umfassend: Implementieren eines Kippspeichers als ein magnetoresistiver Direktzugriffsspeicher (MRAM: magnetoresistive random access memory) (110) und wobei der Teil der Kippoperation, der initiiert wird, ein Leiten eines ersten Stroms in einer ersten Achse des magnetoresistiven Direktzugriffsspeichers (MRAM) umfasst.
  3. Verfahren von Anspruch 1, wobei das Vervollständigen der Kippoperation an der vorbestimmten Adresse weiter umfasst: Kippen des MRAM (110) mit einem zweiten Strom, der orthogonal zu dem ersten Strom ist.
  4. Verfahren von Anspruch 1, weiter umfassend: Initiieren einer weiteren Leseoperation an einer zweiten vorbestimmten Adresse vor dem Vervollständigen der Kippschreibeoperation.
  5. Verfahren von Anspruch 1, weiter umfassend: Initiieren des Lesens mit einem Lesewortleitungstreiber (120), der separat und verschieden von einem Schreibewortleitungstreiber (116) ist, der verwendet wird, um die Schreiboperation zu initiieren.
  6. Verfahren von Anspruch 1, weiter umfassend: Vervollständigen der Leseoperation durch Abfühlen einer Bitleitung, die separat und verschieden von einem Schreibebitleitungstreiber (116) ist, der verwendet wird, um die Schreiboperation zu vervollständigen.
  7. Verfahren von Anspruch 1, weiter umfassend: Initiieren des Lesens mit einem Lesewortleitungstreiber (120) der separat und verschieden von einem Schreibe wortleitungstreiber (116) ist, der verwendet wird, um die Schreiboperation zu initiieren; und Vervollständigen der Leseoperation durch Abfühlen einer Bitleitung, die separat und verschieden von einem Schreibebitleitungstreiber (128) ist, der verwendet wird, um die Schreiboperation zu vervollständigen.
  8. Verfahren nach Anspruch 3, wobei das Vervollständigen der Kippoperation an der vorbestimmten Adresse weiter ein Anlegen eines verbleibenden Teils einer Sequenz von terminierten, überlappenden, orthogonalen Strompulsen an den Kippspeicher umfasst.
  9. Kippspeicher (110), umfassend: ein Array von Speicherzellen (112) die zwischen zwei logischen Zuständen hin und her schalten, um Informationsspeicherwerte anzuzeigen; eine Bitdecodierungslogik (124), zum Empfangen einer Spaltenadresse und zum Bereitstellen eines Bitauswahlsignals an das Array von Speicherzellen, um eine vorbestimmte Spalte von Bits in dem Array von Speicherzellen auszuwählen; eine Wortdecodierungslogik (114, 118) zum Empfangen einer Zeilenadresse und Bereitstellen eines Wortauswahlsignals an das Array von Speicherzellen, um eine vorbestimmte Zeile von Bits in dem Array von Speicherzellen auszuwählen; einen Lesewortleitungstreiber (120), der mit dem Array von Speicherzellen gekoppelt ist, zum Ansteuern einer vorbestimmten Wortleitung als Antwort auf die Wortdecodierungslogik; ein Schreibewortleitungstreiber (116) der mit dem Array von Speicherzellen gekoppelt ist; zum Ansteuern einer vorgebestimmten Wortleitung als Antwort auf die Wortdecodierungslogik und ein Schreibaktivierungssignal; eine Fühlerschaltung (122), die mit der Bitdecodierungslogik gekoppelt ist, um festzustellen, welchen der zwei logischen Zustände ein durch die Zeilenadresse und Spaltenadresse ausgewähltes Bit hat; einen Komparator (130) der mit der Fühlerschaltung gekoppelt ist, um eine Ausgabe der Fühlerschaltung mit einem neuen Wert zu vergleichen, der an eine vorbestimmte Adresse, umfassend eine Zeilenadresse und eine Spaltenadresse, geschrieben werden soll, um zu bestimmen, ob der neue Wert verschieden von oder identisch mit dem gespeicherten Datenwert ist; und eine Schaltung (128, 130), die mit dem Komparator gekoppelt ist, zum Ansteuern der von der Bitdecodierungslogik als Antwort auf das Schreibaktivierungssignal bestimmten Spalte, und Vervollständigen der Kippschreiboperation an der vorbestimmten Adresse, falls der neue Wert verschieden von dem gespeicherten Datenwert ist, wobei die Schaltung die Kippschreiboperation an der vorbestimmten Adresse beendet, falls der neue, zu schreibende Wert identisch mit dem gespeicherten Datenwert ist.
  10. Kippspeicher (110) von Anspruch 9, wobei die Wortdecodierungslogik weiter umfasst: eine Schreibewortdecodierungslogik (114) zum Empfangen der Zeilenadresse und zum Bereitstellen eines decodierten Wortauswahlsignals für Schreiboperationen; und eine Lesewortdecodierungslogik (118), die separat von der Schreibewortdecodierungslogik ist, zum Empfangen der Zeilenadresse und zum Bereitstellen eines decodierten Wortauswahlsignals für Leseoperationen.
  11. Kippspeicher (110) von Anspruch 9, wobei die Bitdecodierungslogik weiter umfasst: eine Schreibebitdecodierungslogik (126) zum Empfangen der Zeilenadresse und zum Bereitstellen eines decodierten Bitauswahlsignals für Schreiboperationen; und eine Lesebitdecodierungslogik (124), die separat von der Schreibebitcodierungslogik ist, zum Empfangen der Zeilenadresse und zum Bereitstellen eines decodierten Bitauswahlsignals für Leseoperationen.
  12. Kippspeicher (110) von Anspruch 9, wobei die Wortdecodierungslogik und die Bitdecodierungslogik weiter umfassen: eine Schreibewortdecodierungslogik (114) zum Empfangen der Zeilenadresse und zum Bereitstellen eines decodierten Wortauswahlsignals für Schreiboperationen; eine Lesewortdecodierungslogik (118), die separat von der Schreibewortdecodierungslogik ist, zum Empfangen der Zeilenadresse und zum Bereitstellen eines decodierten Wortauswahlsignals für Leseoperationen; eine Schreibebitdecodierungslogik (126) zum Empfangen der Zeilenadresse und zum Bereitstellen eines decodierten Bitauswahlsignals für Schreiboperationen; und eine Lesebitdecodierungslogik (124), die separat von der Schreibebitdecodierungslogik ist, zum Empfangen der Zeilenadresse und zum Bereitstellen eines decodierten Bitausgangssignals für Leseoperationen.
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6842365B1 (en) * 2003-09-05 2005-01-11 Freescale Semiconductor, Inc. Write driver for a magnetoresistive memory
US7286378B2 (en) * 2003-11-04 2007-10-23 Micron Technology, Inc. Serial transistor-cell array architecture
US7613868B2 (en) * 2004-06-09 2009-11-03 Headway Technologies, Inc. Method and system for optimizing the number of word line segments in a segmented MRAM array
JP2006031795A (ja) * 2004-07-14 2006-02-02 Renesas Technology Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2006065986A (ja) * 2004-08-27 2006-03-09 Fujitsu Ltd 磁気抵抗メモリおよび磁気抵抗メモリ書き込み方法
JP4012196B2 (ja) * 2004-12-22 2007-11-21 株式会社東芝 磁気ランダムアクセスメモリのデータ書き込み方法
US7543211B2 (en) * 2005-01-31 2009-06-02 Everspin Technologies, Inc. Toggle memory burst
JP4911027B2 (ja) * 2005-02-09 2012-04-04 日本電気株式会社 トグル型磁気ランダムアクセスメモリ及びトグル型磁気ランダムアクセスメモリの書き込み方法
US7630234B2 (en) * 2005-09-14 2009-12-08 Nec Corporation Magnetic random access memory
WO2007053517A2 (en) * 2005-10-28 2007-05-10 The University Of Alabama Enhanced toggle-mram memory device
US7577017B2 (en) * 2006-01-20 2009-08-18 Industrial Technology Research Institute High-bandwidth magnetoresistive random access memory devices and methods of operation thereof
US7746686B2 (en) * 2006-04-21 2010-06-29 Honeywell International Inc. Partitioned random access and read only memory
US8111544B2 (en) * 2009-02-23 2012-02-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Programming MRAM cells using probability write
US9613675B2 (en) 2013-12-14 2017-04-04 Qualcomm Incorporated System and method to perform low power memory operations
CN106574505B (zh) * 2014-08-29 2018-06-19 西门子公司 用于燃气涡轮发动机的受控会聚压缩机流动路径
CN204878059U (zh) 2014-12-17 2015-12-16 依必安-派特穆尔芬根股份有限两合公司 一种叶片及风机叶轮
KR101976045B1 (ko) * 2016-08-30 2019-05-09 에스케이하이닉스 주식회사 쓰기 동작시 상태 전환 인식이 가능한 자기 저항 메모리 장치 및 이에 있어서 읽기 및 쓰기 동작 방법
US11275356B2 (en) * 2018-11-22 2022-03-15 Mitsubishi Electric Corporation Input-output control unit, PLC and data control method

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4763305A (en) 1985-11-27 1988-08-09 Motorola, Inc. Intelligent write in an EEPROM with data and erase check
US6256224B1 (en) * 2000-05-03 2001-07-03 Hewlett-Packard Co Write circuit for large MRAM arrays
US5953248A (en) 1998-07-20 1999-09-14 Motorola, Inc. Low switching field magnetic tunneling junction for high density arrays
US5946227A (en) 1998-07-20 1999-08-31 Motorola, Inc. Magnetoresistive random access memory with shared word and digit lines
US6111781A (en) 1998-08-03 2000-08-29 Motorola, Inc. Magnetic random access memory array divided into a plurality of memory banks
DE19853447A1 (de) * 1998-11-19 2000-05-25 Siemens Ag Magnetischer Speicher
DE50000262D1 (de) * 1999-01-13 2002-08-08 Infineon Technologies Ag Schreib-/lesearchitektur für mram
US6185143B1 (en) 2000-02-04 2001-02-06 Hewlett-Packard Company Magnetic random access memory (MRAM) device including differential sense amplifiers
US6191989B1 (en) 2000-03-07 2001-02-20 International Business Machines Corporation Current sensing amplifier
US6272041B1 (en) 2000-08-28 2001-08-07 Motorola, Inc. MTJ MRAM parallel-parallel architecture
JP4149647B2 (ja) * 2000-09-28 2008-09-10 株式会社東芝 半導体記憶装置及びその製造方法
US6335890B1 (en) 2000-11-01 2002-01-01 International Business Machines Corporation Segmented write line architecture for writing magnetic random access memories
US6418046B1 (en) * 2001-01-30 2002-07-09 Motorola, Inc. MRAM architecture and system
DE10107380C1 (de) * 2001-02-16 2002-07-25 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Beschreiben magnetoresistiver Speicherzellen und mit diesem Verfahren beschreibbarer magnetoresistiver Speicher

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Publication number Publication date
TWI307887B (en) 2009-03-21
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ATE333138T1 (de) 2006-08-15
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EP1518246A1 (de) 2005-03-30

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