DE430134C - Verfahren zur Herstellung lichtpausfaehiger Strichzeichnungen durch Gravieren in einer urspruenglich lichtempfindlichen Schicht - Google Patents
Verfahren zur Herstellung lichtpausfaehiger Strichzeichnungen durch Gravieren in einer urspruenglich lichtempfindlichen SchichtInfo
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
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Description
- Verfahren zur Herstellung lichtpausfähiger Strichzeichnungen durch Gravieren in einer ursprünglich lichtempfindlichen Schicht. Es ist bekannt, lichtpausfähige, d. h. zum Kopieren auf lichtempfindlichen Flächen geeignete Strichzeichnungen, durch Eingravieren der Linien in eine ursprünglich lichtempfindliche Schicht hervorzubringen. Es geschah insbesondere in dem Falle, daß photographische Bilder in Strichzeichnungen aufgelöst werden sollten. Dann wurde aber in der bereit reduzierten und womöglich noch im photographischen Sinne verstärkten Schicht gearbeitet, was wegen der schlechten Durchsichtigkeit der Schicht recht schwierig ist. Erfindungsgemäß wird dagegen in der noch lichtempfindlichen, d. h. noch unreduziertes Silbiersalz enthaltenden Schicht graviert und die erhalten gebliebene Lichtempfindlichkeit der Sc@i.cht zu ihrer nachträglichen vollkommenen Schwärzung behufs Erzielung der für das Kopieren als Strichzeichnung erforderlichen Deckung benutzt, indem die Schicht, soweit sie durch die Gravur nicht beseitigt ist, nach dem Gravieren aasbelichtet bzw. entwickelt wird. Man benutzt z. B. eine äußerst wenig lichtempfindliche Emulsion, die dann nach dem bei gedämpftem Tageslicht oder künstlichem Licht vorgenommenen Gravieren durch lange und kräftige Belichtung oder auch durch Entwicklung des bei der Bearbeitung entstandenen Lichteindruckes geschwärzt wird.
- Die Anwendung dieses Verfahrens auf eine lichtempfindliche Schicht, welche bereits das in eine Strichzeichnung aufzulösende Bild enthält, ergibt sich von selbst.
Claims (1)
- PATENT-ANSPRUCH. Verfahren zur Herstellung lichtpausfähiger Strichzeichnungen durch Gravieren in einer ursprünglich lichtempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß in der noch lichtempfindlichen Schicht graviert und die Schicht nach dem Gravieren durch Aaskopieren oder Entwickeln vollständig geschwärzt wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEM89299D DE430134C (de) | 1925-04-08 | 1925-04-08 | Verfahren zur Herstellung lichtpausfaehiger Strichzeichnungen durch Gravieren in einer urspruenglich lichtempfindlichen Schicht |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DEM89299D DE430134C (de) | 1925-04-08 | 1925-04-08 | Verfahren zur Herstellung lichtpausfaehiger Strichzeichnungen durch Gravieren in einer urspruenglich lichtempfindlichen Schicht |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE430134C true DE430134C (de) | 1926-06-08 |
Family
ID=7321251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DEM89299D Expired DE430134C (de) | 1925-04-08 | 1925-04-08 | Verfahren zur Herstellung lichtpausfaehiger Strichzeichnungen durch Gravieren in einer urspruenglich lichtempfindlichen Schicht |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE430134C (de) |
-
1925
- 1925-04-08 DE DEM89299D patent/DE430134C/de not_active Expired
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