DE3909654A1 - Reflexionsverhindernder film fuer optische teile aus kunststoff - Google Patents
Reflexionsverhindernder film fuer optische teile aus kunststoffInfo
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Description
Die Erfindung betrifft einen reflexionsverhindernden Film für optische
Teile aus Kunststoff nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Neuerdings werden anstelle von anorganischem Glas häufig Kunststoffe
als Material für optische Teile wie Linsen und dergleichen verwendet, weil
sie leicht sind und einfach verarbeitet werden können. Optische Teile aus
Kunststoff reflektieren das Licht jedoch ebenso wie Teile, bei denen an
organisches Glas als Ausgangsmaterial verwendet wurde. Außerdem sind sie
so weich, daß ihre Oberfläche leicht beschädigt werden kann. Es ist deshalb
erforderlich, auf die Oberfläche eines optischen Teils aus Kunststoff einen
reflexionsverhindernden Film aufzubringen, der gleichzeitig als Schutzfilm
dient.
Der reflexionsverhindernde Film wird im allgemeinen mittels eines Vakuum-
Niederschlagprozesses aufgebracht. Bei anorganischem Glas erhält man
einen dauerhaft aufgebrachten Film durch Aufheizen des Substrats auf 200
bis 400°C. Wird jedoch Kunststoff auf 200 bis 400°C aufgeheizt, zer
setzt er sich und löst sich auf, so daß es unmöglich ist, den Film wie bei
anorganischem Glas durch Aufheizen des Substrats aufzubringen.
Daher wurde der reflexionsverhindernde Film bislang auf die Oberfläche von
Kunststoffsubstraten aufgebracht, ohne das Substrat aufzuheizen (Japanische
Offenlegungsschrift 60-2 25 101). Der auf die Oberfläche des Kunststoff
substrats aufgebracht reflexionsverhindernde Film hat z. B. einen fünf
lagigen Aufbau, den man durch abwechselndes und wiederholtes Aufbringen
eines SiO₂-Films und einer Ta₂O₅-Schicht erhält, wobei zuerst der SiO₂-
Film durch ein Widerstandsaufheizverfahren von SiO auf die Substratober
fläche aufgebracht wird und sodann das Aufbringen eines Ta₂O₅-Films
durch ein Widerstandsaufheizverfahren oder durch ein Elektronenkanonen
verfahren und das Aufbringen eines SiO₂-Films durch ein Widerstandsauf
heizverfahren oder ein Elektronenkanonenverfahren wiederholt durchgeführt
wird. Mit einem derartigen reflexionsverhindernden Film soll eine Ver
besserung der Haftung auf dem Substrat und eine Verminderung der
spektralen Reflexion erzielt werden.
Bei dem obengenannten bekannten reflexionsverhindernden Film treten
jedoch nach einem zehnmal wiederholten Wärmeschocktest Haarrisse auf,
wenn dieser Test einen Temperaturzyklus aufweist, der von Raumtemperatur
(20-25°C) ausgehend auf -30°C führt, dort 60 Minuten verbleibt, so
dann wieder auf Raumtemperatur geht und dort 30 Minuten verbleibt und
hierauf auf 80°C ansteigt und dort 60 Minuten verbleibt und schließlich
wieder auf Raumtemperatur abfällt. Da Ta₂O₅ einen hohen Schmelzpunkt
hat, ist zudem dann, wenn der Vakuumniederschlag mittels eines Elek
tronenkanonenverfahrens erfolgt, die Strahlungswärme groß, und folglich
wird das Substrat aus Akrylharz oder dergleichen im Falle eines kontinu
ierlichen Vakuumniederschlags wärmeverformt, wodurch sich die optische
Genauigkeit verschlechtert. Darüber hinaus neigt Ta₂O₅ leicht zum
Spritzen (sogenanntes "Fliegen", das die Adhäsion von Ta₂O₅ in Form von
Granulaten zur Folge hat), wodurch die Oberfläche beschädigt wird und
sich ein Problem bezüglich der äußeren Erscheinungsform des Produkts
ergibt.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, die vorstehend erwähnten
Nachteile der herkömmlichen Technik zu vermeiden und einen reflexions
verhindernden Film für optische Teile aus Kunststoff herzustellen, der
seine gute Haftung und seine geringe spektrale Reflexion beibehält.
Diese Aufgabe wird gemäß den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst.
Der mit der Erfindung erzielte Vorteil besteht insbesondere darin, daß der
reflexionsverhindernde Film auch nach einem Wärmeschocktest noch keine
Haar-Risse zeigt und ein einwandfreies äußeres Erscheinungsbild ergibt.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und
werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine Seitenansicht einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen
reflexionsverhindernden Films für optische Teile aus Kunststoff;
Fig. 2 eine schematisierte Ansicht einer erfindungsgemäß verwendeten
Vakuumdepositionsanlage, und
Fig. 3 bis 7 Diagramme, die jeweils den spektralen Reflexionsgrad einer
ersten bis fünften Ausführungsform des erfindungsgemäßen re
flexionsverhindernden Films zeigen.
Bei dem erfindungsgemäßen reflexionsverhindernden Film für optische Teile
aus Kunststoff wird die erste Filmschicht aus SiO mittels Hochvakuum
niederschlags aufgebracht, welche bei einer Wellenlänge (λ)=400 bis
700 nm und im Falle einer extrem dünnen Schicht (nd = nicht mehr als
50 nm) im wesentlichen keine Absorptionswirkung aufweist und bei einem
Brechungsindex von 1,8 eine ausgezeichnete Haftung besitzt, so daß die
erste Filmschicht für die grundlegenden Eigenschaften des reflexions
verhindernden Films und die Verbesserung seiner Hafteigenschaften ver
antwortlich ist. Weiterhin wird die zweite Filmschicht aus SiO₂ mit einem
Brechungsindex von 1,47 auf die erste Filmschicht aus SiO mittels Hoch
vakuumniederschlags aufgebracht, wodurch die Reißfestigkeit verbessert
wird. Die erste und die zweite Filmschicht bilden somit eine Grundschicht,
welche die Haftungsfähigkeit und die Reißfestigkeit gewährleisten.
Darüber hinaus wird eine dritte Filmschicht aus CeO₂ mittels Hochvakuum
niederschlags aufgebracht. Diese bewirkt die grundlegenden Charakteristiken
des reflexionsverhindernden Films und weist einen Brechungsindex von 1,95
auf. Da die dritte Filmschicht Dehnungsspannungseigenschaften und die
erste und zweite Filmschicht Druckspannungseigenschaften besitzen, wirkt
die dritte Filmschicht, auch wenn eine SiO₂-Schicht als vierte Filmschicht
aufgebracht wird, als eine Zwischenschicht spannungsvermindernd und trägt
zur Verbesserung der Reißfestigkeit bei.
Der reflexionsverhindernde Film, dessen Aufbau in Fig. 1 gezeigt ist, wird
unter Verwendung einer Vakuumdepositionsanlage aufgebracht, wie sie in
Fig. 2 gezeigt ist.
In Fig. 1 bezeichnet die Bezugszahl 1 ein Substrat aus Kunststoff. Auf die
Oberfläche des Substrats 1 wird eine erste Filmschicht 2 aus SiO aufge
bracht. Eine zweite Filmschicht 3 aus SiO₂ wird auf die erste Filmschicht
2 aufgebracht, und eine dritte Filmschicht 4 aus CeO₂ wird auf die zweite
Filmschicht 3 aufgebracht. Schließlich wird eine vierte Filmschicht 5 aus
SiO₂ auf die dritte Filmschicht 4 aufgebracht.
In Fig. 2 bezeichnet 10 eine Vakuumkammer. Eine Verdampfquelle 11 für
das Widerstandsheizen und eine Verdampfquelle 12 für eine Elektronenstrahl
kanone sind im unteren Bereich der Vakuumkammer 10 vorgesehen. Die
Bezugszahl 13 bezeichnet eine Schmelzwanne für das Widerstandsheizen,
die mit der Verdampfquelle 11 verbunden ist, während die Bezugszahl 14
eine Herdauskleidung (hearth liner) der Verdampfquelle 12 für die
Elektronenkanone bezeichnet. Weiterhin ist im oberen Bereich der Vakuum
kammer 10 eine rotierende Kuppel 15 vorgesehen, die das Kunststoff
substrat 1, beispielsweise eine Akylharzlinse oder dergleichen trägt und
sich in axialer Richtung dreht. Die Bezugszahl 16 bezeichnet schließlich
eine Absaugleitung, die mit einer nicht dargestellten Vakuumpumpe ver
bunden ist.
Wenn der erfindungsgemäße Film mittels einer Vakuumdepositionsanlage des
oben erwähnten Aufbaus aufgebracht wird, wird zunächst SiO in die
Schmelzwanne 13 für das Widerstandsaufheizen gegeben, während SiO₂ und CeO₂ jeweils an verschiedenen Stellen getrennt in die Herdauskleidung
14 eingebracht werden. Weiterhin wird das Kunststoffsubstrat 1 auf der
rotierenden Kuppel 15 angeordnet.
Sodann wird die Vakuumkammer 10 über die Absaugleitung 16 bis zu
einem Hochvakuum von besser als 1-2×10-5 Torr evakuiert. Daraufhin
wird SiO in der Schmelzwanne 13 für das Widerstandsheizen bei Raum
temperatur (ca. 20 bis 25°C) verdampft und auf die Oberfläche des
Kunststoffsubstrats 1 durch Hochvakuumniederschlag niedergeschlagen, wo
durch es die erste Filmschicht 2 bildet. ln diesem Fall ist es nicht er
forderlich, ein Gas wie z. B. O2 oder dergleichen in der Vakuumkammer 10
vorzusehen.
Da beim oben beschriebenen Verdampfen Gas entsteht, wird die Evakuierung
fortgesetzt, um das Innere der Vakuumkammer 10 auf einem gegebenen
Vakuumgrad von besser als 1-2×10-5 Torr zu halten. Hiernach wird die
Verdampferquelle 12 für die Elektronenkanone bei Raumtemperatur erregt,
wobei SiO₂ geschmolzen und in der Ofenauskleidung 14 verdampft wird,
wodurch eine zweite Filmschicht 3 aus SiO₂ auf die erste SiO-Filmschicht
2 aufgebracht wird. Daraufhin wird dieselbe Verdampferquelle für die
Elektronenkanone aktiviert und CeO₂ geschmolzen und in einen anderen
Bereich der Ofenauskleidung 14 verdampft, damit eine dritte Filmschicht 4
aus CeO₂ auf die zweite SiO₂-Filmschicht 3 aufgebracht wird. Schließlich
wird auf dieselbe Weise wie bei der zweiten Filmschicht 3 eine vierte
Filmschicht 5 aus SiO₂ auf die dritte CeO₂-Filmschicht 4 aufgebracht,
Darüber hinaus wird die jeweilige Filmschicht aufgebracht, nachdem das
beim Aufbringen der vorhergehenden Filmschicht erzeugte Gas abgesogen
wurde, um den Vakuumgrad auf dem vorgegebenen Wert zu halten.
Nachdem alle Filmschichten aufgebracht sind, wird zehn Minuten langsam
abgekühlt und das Innere der Vakuumkammer wieder unter Atmosphären
druck gesetzt, um das optische Kunststoffteil (Linse), das den gewünschten
reflexionsverhindernden Film aufweist, aus der Vakuumkammer 10 heraus
nehmen zu können.
Der reflexionsverhindernde Film mit dem in der folgenden Tabelle 1 ge
zeigten Aufbau wurde durch das oben beschriebene Verfahren erhalten.
Dieser reflexionsverhindernde Film hatte den in Fig. 3 gezeigten spektralen
Reflexionsgrad, d. h. er wies einen Wert von nicht mehr als 1% bei einer
Wellenlänge von λ=400 bis 680 nm auf.
Der reflexionsverhindernde Film mit der in der folgenden Tabelle 2 ge
zeigten Struktur wurde durch das oben beschriebene Verfahren erhalten.
Dieser reflexionsverhindernde Film hatte den in Fig. 4 gezeigten spektralen
Reflexionsgrad, d. h. er wies einen Wert von nicht mehr als 1% bei einer
Wellenlänge von λ = 400 bis 700 nm auf.
Der reflexionsverhindernde Film mit dem in der folgenden Tabelle 3 ge
zeigten Aufbau wurde durch das oben beschriebene Verfahren erhalten.
Dieser reflexionsverhindernde Film hatte den in Fig. 5 gezeigten spektralen
Reflexionsgrad, d. h. er wies einen geringsten spektralen Reflexionsgrad
von einem Wert von nicht mehr als 0,9% bei einer Wellenlänge von λ=
400 bis 700 nm auf.
Der reflexionsverhindernde Film mit dem in der folgenden Tabelle 4 ge
zeigten Aufbau wurde durch das oben beschriebene Verfahren erhalten.
Dieser reflexionsverhindernde Film hatte den in Fig. 6 gezeigten spektralen
Reflexionsgrad, d. h. er wies einen geringsten spektralen Reflexionsgrad
von einem Wert von nicht mehr als 0,2% bei einer Wellenlänge von λ=
400 bis 700 nm auf.
Der reflexionsverhindernde Film mit dem in der folgenden Tabelle 5 ge
zeigten Aufbau wurde durch das oben beschriebene Verfahren erhalten.
Dieser reflexionsverhindernde Film hatte den in Fig. 7 gezeigten spektralen
Reflexionsgrad, d. h. er wies einen geringsten spektralen Reflexionsgrad
von einem Wert von nicht mehr als 0,5% bei einer Wellenlänge von λ=
400 bis 700 nm auf.
Der reflexionsverhindernde Film mit der in Beispiel 4 beschriebenen Struktur
wurde auf die Oberfläche eines Substrats aus Polykarbonatharz aufgebracht.
Die Hafteigenschaften am Substrat, die Reißfestigkeit und die Oberflächen
beschädigungen (äußere Erscheinungsform) wurden bezüglich der reflexions
verhindernden Filme der Beispiele 1 bis 6 ausgewertet. Die Ergebnisse sind
in der nachfolgenden Tabelle 6 gezeigt. Zum Vergleich und um die in
Tabelle 6 gezeigten Ergebnisse zu erhalten, wurde dieselbe Auswertung
bezüglich eines herkömmlichen reflexionsverhindernden Films vorgenommen.
Beim Test der Hafteigenschaften wurde ein druckempfindliches Band
(Zellophanklebeband) von 10 mm Breite auf den reflexionsverhindernden
Film gelegt, das dann an einem Ende unter einem Winkel von 45° abrupt
vom Film abgelöst wurde, um die Beschaffenheit nach der Ablösung
beobachten zu können. Weiterhin wurde die Reißfestigkeit durch zehnmaliges
Wiederholen von Wärmeschocktestzyklen (ein Zyklus: +70 °C ⇄ -30°C)
ermittelt, um das Auftreten von Rissen beobachten zu können.
Wie oben beschrieben, besteht der erfindungsgemäße reflexionsverhindernde
Film für optische Teile aus Kunststoff aus einer ersten Filmschicht aus
SiO mit einer optischen Dicke von 0,06 bis 0,125 λ, einer zweiten Film
schicht aus SiO₂ mit einer optischen Dicke von 0,043 bis 0,125 λ, einer
dritten Filmschicht aus CeO₂ mit einer optischen Dicke von 0,625 λ und
einer vierten Filmschicht aus SiO₂ mit einer optischen Dicke von 0,165 bis
0,34 λ bei einer Wellenlänge von λ=400 bis 700 nm, so daß selbst nach
dem Wärmeschocktest keine Mikrorisse auftreten, während die Haftung am
Substrat sowie die niedrige spektrale Reflexion erhalten bleiben und die
äußere Erscheinungsform besser wird.
Claims (2)
1. Reflexionsverhindernder Film für optische Teile aus Kunststoff, mit einem
Substrat aus Kunststoff und vier darauf aufgebrachten Schichten, dadurch
gekennzeichnet, daß bei einer Wellenlänge von λ=400 bis 700 nm eine erste
und aus SiO bestehende Schicht (2) auf der Oberfläche des Substrats (1)
vorgesehen ist und eine optische Dicke von 0,06 bis 0,125 λ hat, daß
eine zweite und aus SiO₂ bestehende Schicht (3) auf der ersten Schicht (2)
vorgesehen ist und eine optische Dicke von 0,043 bis 0,125 λ hat, daß eine
dritte und aus CeO₂ bestehende Schicht (4) auf der zweiten Schicht (3)
vorgesehen ist und eine optische Dicke von 0,06 bis 0,625 λ hat und daß
eine vierte und aus SiO₂ bestehende Schicht (5) auf der dritten Schicht (4)
vorgesehen ist und eine optische Dicke von 0,165 bis 0,34 λ hat.
2. Reflexionsverhindernder Film nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Kunststoff aus der Gruppe ausgewählt ist, die Akrylharz, Poly
karbonatharz, Diethylenglykolbisakrylkarbonat, Akrylonitrilstyrol-Kopoly
merisatharz, Polystyrol und Polysulfon enthält.
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