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DE3228044C2 - Magnetisches Aufzeichnungsmaterial - Google Patents

Magnetisches Aufzeichnungsmaterial

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Publication number
DE3228044C2
DE3228044C2 DE3228044A DE3228044A DE3228044C2 DE 3228044 C2 DE3228044 C2 DE 3228044C2 DE 3228044 A DE3228044 A DE 3228044A DE 3228044 A DE3228044 A DE 3228044A DE 3228044 C2 DE3228044 C2 DE 3228044C2
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DE
Germany
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cobalt
magnetic
magnetic recording
recording material
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DE3228044A
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Toshio Yamato Kanagawa Kato
Hitoshi Yokohama Oda
Masanobu Isehara Kanagawa Shigeta
Shigeo Yokohama Shimizu
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Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Abstract

Ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial umfaßt einen Schichtträger, eine erste Schicht, die auf dem Schichtträger durch Aufdampfen von Kobalt oder einer Kobaltlegierung durch eine schräg auftreffende Vakuumaufdampfung gebildet wird und eine zweite plattierte Schicht, die aus Kobalt oder einer Kobaltlegierung hergestellt und durch Naßplattieren gebildet wird. Die Kobaltlegierung für die erste Schicht besteht im wesentlichen neben Kobalt aus bis zu 30 Gew.-% Ni, Fe, Cu, W, Cr, Ru oder einer Mischung davon. Andererseits besteht die Kobaltlegierung für die zweite Schicht im wesentlichen aus zu 40 Gew.-% Ni, bis zu 8 Gew.-% P und Rest Kobalt.

Description

20 ter Magnetisierbarkeit der dünnen magnetischen Aufzeichnungsschicht verläuft.
6. Magnetisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß die Legierung für die Grundierschicht eine Co-Ni-Legierung ist
Die Erfindung betrifft ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Bei magnetischen Aufzeichnungsmaterialien mit dünnen magnetischen Aufzeichnungsschichten aus magnetisehen Materialien, wie z. B. Kobalt, wird die Aufzeichnungsschicht im allgemeinen entweder durch ein Naßverfahren, z. B. durch Elektroplattierung oder stromlose Plattierung, oder durch ein Trockenverfahren, z. B. durch Vakuumaufdampfung, Zerstäubung oder Ionenplattierung, gebildet. Diese beiden Verfahrenstypen weisen jeweils die folgenden Vorteile auf:
Die Naßverfahren haben den Vorteil, daß die Aufzeichnungsschicht eine hohe Reproduzierbarkeit der magnetischen Eigenschaften zeigt und daß sie in einigen Fällen eine Koerzitivfeldstlirke (Hc) bis zu etwa 119,4 kA/m mit einer guten Verteilung der Koerzitivfeldstärke hat. Mit anderen Worten, bei der Magnetisierungskurve der durch das Naßverfahren erhaltenen Aufzeichnungsschicht ist die Koerzitiv-Rechteckigkeit HVHc=S* relativ hoch, wobei H*die magnetische Feldstärke an der Stelle ist, wo eine an die Magnetisierungskurve bei //coder in dessen Nähe angelegte Tangente die Remanenz Mr als Ordinatenwert hat. Die hohe Koerzitiv-Rechteckigkeit 5* führt zu einer hohen Aufzeichnungsempfindiichkeit (zu einem hohen Wert des Verhältnisses Wiedergabe-Ausgangspotential/Aufzeichnungsstrom) mit einem hohen Wiedergabepotential. Demgemäß weisen magnetische Aufzeichnungsmaterialien mit einer durch das Naßverfahren erhaltenen Aufzeichnungsschicht eine hohe Empfindlichkeit auf, wenn sie für die Aufzeichnung und die Wiedergabe verwendet werden. Ein weiterer Vorteil des Naßverfahrens gegenüber beispielsweise einem Vakuumaufdampfverfahren besteht darin, daß die Bildung der dünnen magnetischen Aufzeichnungsschicht zu einem geringen Verlust an magnetischen Materialien führt und daß ein dünnes magnetisches Aufzeichnungsmaterial mit einer dünnen Aufzeichnungsschicht, die eine bestimmte Dicke hat, leicht hergestellt werden kann. Ein Nachteil liegt jedoch darin, daß die durch das Naßverfahren hergestellte Aufzeichnungsschicht von Natur aus in ihrer Ebene isotrop ist, so daß das Verhältnis von Remanenz zu Sättigungsmagnetisierung (Rs) klein wird.
Im Gegensatz dazu wird der Aufzeichnungsschicht, die aus einem dünnen magnetischen Film oder einer dünnen magnetischen Schicht besteht, die durch ein Trockenverfahren und insbesondere durch eine schräggerichtete Vakuumaufdampfung gebildet worden ist, eine magnetische Anisotropie bezüglich einer Achse mit einem relativ hohen Äs-Verhältnis und ferner mit einer Koerzitivfeldstärke Hcbis zu etwa 238,7 kA/m verliehen. Die Vakuumaufdampfung hat jedoch den Nachteil, daß die auf die Menge des; verdampften Quellenmaterials bezogene Menge des auf einen Träger aufgedampften Materials, wie z. B. Kobalt, klein ist, was auf Grund eines erheblichen Verlustes an verdampftem Material zu hohen Fertigungskosten führt. Ferner ist die Verteilung der Koerzitivfeldstärke Hc so weit, daß der S*-Wert klein wird, was zu einer geringen Empfindlichkeit führt, wenn die durch Vakuumaufdampfung hergestellten dünnen magnetischen Aufzeichnungsmaterialien zur Aufzeichnung und zur Wiedergabe verwendet werden. Wenn man die Dicke der durch Vakuumaufdampfung gebildeten dünnen magnetischen Aufzeichnungsschicht erhöht, um ein befriedigendes Ausgangspotential zu gewährleisten, führt dies zu einer Verschlechterung der magnetischen Eigenschaften und insbesondere zu einem geringen Ks-Wert.
Um die Nachteile der schräggerichteten Vakuumaufdampfung bis zu einem gewissen Grade zu überwinden oder um die Produktivität zu verbessern, wird beispielsweise eine um eine Walze gewickelte Trägerfolie zunächst einer Vakuumaufdampfung unter einem hohen Auftreffwinkel und danach einer Vakuumaufdampfung unter einem geringen Auftreffwinkel unterzogen, wobei die Walze in der letzten Aufdampfungsstufe gedreht wird. Bei diesem Verfahren wird die Produktivität jedoch nicht erheblich verbessert, und die Vakuumaufdampfung bei geringen Auftreffwinkeln führt zu einer Abnahme der Konstante der magnetischen Anisotropie
bezüglich einer Achse (Ku), was mit den weiteren Nachteilen verbunden ist, daß zwischen einer Achse mit leichter Magnetisierbarkeit und der Ebene der Aufzeichnungsschicht ein Winkel gebildet wird und daß der Wert 5* klein wird. Wenn ferner die Vakuumaufdampfung in einer Atmosphäre mit einem sehr geringen Gehalt an Sauerstoffgas durchgeführt wird, um die Abnahme von Hc, die auf die ansteigende Menge des Bestandteils, der durch die unter geringem Auftreffwinkel durchgeführte Vakuumaufdampfung gebildet wird, zurückzuführen ist, zu vermindern, führt dies wiederum zu dem Nachteil, daß die Sättigungsmagnetisierung vermindert wird.
Aus der DE-OS 28 42 609 ist ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial aus einem Träger und einer auf dem Träger gebildeten dünnen magnetischen Aufzeichnungsschicht bekannt, bei dem die dünne magnetische Schicht aus zwei Schichten zusammengesetzt ist, wobei eine auf den Träger aufgebrachte erste Schicht mit geringer Koerzitivfeidstärke und eine zweite Schicht aus einer Kobaltlegierung mit bis zu 20% Cr, Rest Co, vorgesehen sind. Die erste Schicht (Zwischenschicht) hat eine Koerzitivfeldstärke, die nicht größer als 1/5 der Koerzitivfeldstärke des Materials der zweiten Schicht ist, and eine Dicke, die mindestens 100 nm und vorzugsweise mehr als 500 nm beträgt Diese Merkmale sollen gewährleisten, daß die zweite Schicht eine ausreichende Aufzeichnungsempfindlichkeit gegenüber einem einpoligen Magnetkopf hat Das bekannte Aufzeichnungsmaterial, dessen beide Schichten durch ein Vakuum-Sprühverfahren hergestellt werden, eignet sich ausschließlich für Vertikalaufzeichnung mit hoher Aufzeichnungsdichte, vorzugsweise mit einem einpoligen Aufzeichnungsmagnetkopf.
Das bekannte Aufzeichnungsmaterial ist insofern nachteilig, als relativ dicke magnetische Schichten verwendet werden müssen, um eine Vertikalaufzeichnung zu gewährleisten. Ferner hat die Vertikalaufzeichnung den Nachteil, daß die magnetischen Teilchen der zweiten Schicht nur in einer Richtung ausgerichtet werden können, so daß bei der Aufzeichnung ein höherer Energieaufwand erforderlich ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 genannten Art so weiterzubilden, daß bei Verwendung von weniger Ausgangsmaterial die magnetische Anisotropie bezüglich einer Achse verbessert und eine hohe Koerzitiv-Rechteckigkeit erzielt wird.
Diese Aufgabe wird durch ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial mit den im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmalen gelöst.
Zu Beispielen für erfindungsgemäße magnetische Aufzeichnungsmaterialien gehören verschiedene Bänder wie z. B. Video-, Ton- und Speicherbänder, Magnetscheiben und Magnetkarten.
Da die Grundierschicht durch schräggerichtete Vakuumaufdampfung gebildet wird, hat die Deckschicht eine Achse mit leichter Magnetisierbarkeit, die zur Auftreffrichtung" der Vakuumaufdampfung parallel ist, so daß eine Horizontalaufzeichnung mit geringem Energieaufwand möglich ist. Die Grundierschicht hat vorzugsweise eine Dicke von 0,5 bis 500 nm und kann damit erheblich dünner sein als die erste Schicht (Zwischenschicht) des aus der DE-OS 28 42 609 bekannten Aufzeichnungsmaterials, so daß bei der Herstellung Ausgangsmaterialien eingespart werden können. Durch Zugabe von besonderen Bestandteilen können die Korrosionsbeständigkeit und Abriebfestigkeit der Deckschicht erhöht werden. Bei dem erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterial ist die Koerzitivfeldstärke der Grundierschicht größer als diejenige der Deckschicht. Die Vakuumaufdampfung kann selbst in einer Atmosphäre mit sehr geringen Mengen an Sauerstoffgas bei geringer Herabsetzung der Sättigungsmagnetisierung erfolgen. Bei dem erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterial werden im Vergleich mit dem bekannten Stand der Technik bessere statische magnetische Eigenschaften erhalten: Die S'-Werte sind viel höher; das Verhältnis Rs von Remanenz zu Sättigungsmagnetisierung ist höher, und die Remanenz Mr ist ebenfalls höher. Die Verbesserung der magnetischen Eigenschaften führt dazu, daß die erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien eine erhöhte Bit-Anzahl und eine erhöhte Spurenanzahl pro Längeneinheit aufweisen. Die erfindungsgemäßen magnetischen Aufzeichnungsmaterialien können mit einem geringeren Materialverlust als im Fall der bekannten schräggerichteten Vakuumaufdampfung hergestellt werden, und die Regulierung der magnetischen Eigenschaften ist einfacher.
Zur Herstellung der Grundierschicht wird das Ausgangsmaterial (das Kobalt oder die Kobaltlegierung) auf einem Träger durch eine schräggerichtete Vakuumaufdampfung unter einem bestimmten Auftreffwinkel bezüglich des Trägers, der im Bereich von 10 bis 90° liegt, in einer festgelegten Dicke abgeschieden. Die Deckschicht wird auf der Grundierschicht durch ein bekanntes Naßplattierungsverfahren, z. B. durch Elektroplattierung oder stromlose Plattierung, in einer festgelegten Dicke gebildet.
Die Träger für die erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien sind Träger, wie sie üblicherweise für magnetische Aufzeichnungsmaterialien verwendet werden. Hierzu gehören beispielsweise Folien aus organischen Polymeren wie z. B. Polyestern oder Polyimiden, Glasplatten und Bleche oder Folien aus Aluminium, die mit Ni-P-Legierungen oder mit Ni-W-P-Legierungen beschichtet sind.
Die Dicke der Grundierschicht ist nicht kritisch, wenn sie jedoch weniger als etwa 0,5 nm beträgt oder zu klein ist, kann die Kristallstruktur in der Grundierschicht nicht gebildet werden. Wenn die Grundierschicht andererseits zu dick ist, ergibt sich das Problem einer Produktivitätsverminderung. Folglich liegt die Dicke der Grundierschicht im allgemeinen im Bereich von etwa 0,5 bis 500 nm und vorzugsweise von 5 bis 50 nm. Der Film oder die Schicht, die durch Vaki'umaufdampfung in einer festgelegten Dicke gebildet worden ist, weist eine Achse mit leichter Magnetisierbarkeit auf, die zur Auftreffrichtung des aufgedampften Ausgangsmaterials parallel ist. Demgemäß wird die Auftreffrichtung des Kobalts oder der Kobaltlegierung vorzugsweise so festgelegt, daß sie mit der Richtung der magnetischen Aufzeichnung der Aufzeichnungsmaterialien übereinstimmt.
Als Kobaltlegierungen für die Bildung der Grundierschicht werden Co-Ni-Legierungen bevorzugt.
Um der Deckschicht ausgezeichnete magnetische Eigenschaften, z. B. ausgezeichnete Werte der Koerzitivfeldstärke und der Remanenz, zu verleihen, liegt ihre Dicke im allgemeinen im Bereich von 20 bis 2500 nm und vorzugsweise von 50 bis 300 nm.
Die aus zwei Schichten zusammengesetzte Aufzeichnungsschicht des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials hat den Vorteil, daß die Konstante der magnetischen Anisotropie bezüglich einer Achse (Ku) und die Koerzitiv-Rechteckigkeit S* im Vergleich zu bekannten magnetischen Aufzeichnungsmaterialien, die entweder
plattierte oder aufgedampfte magnetische Schichten aufweisen, stark verbessert sind. Es wird angenommen, daß dies folgenden Grund hat:
Die plattierte Deckschicht wächst auf der Grundlage der aufgedampften Grundierschicht, die eine Anisotropie der Kobaltkristalle oder Kobalthigierungskrisialle aufweist. Es ist daher für die Grundierschicht wichtig, daß sie anisotrope kristalline Bestandteile aufweist, während die Dicke und die magnetischen Eigenschaften der Grundierschicht nicht entscheidend sind. Demgemäß sind, wie vorstehend erwähnt wurde, nicht nur Kobalt sondern auch Kobaltlegierungen wie Co-Ni, Co-Fe, Co-Cu, Co-W, Co-Cr oder Co-Ru als Ausgangsmaterialien für die schräggerichtete Vakuumaufdampfung geeignet
Zur Verbesserung der Korrosionsbeständigkeit und der Abriebfestigkeit der Deckschicht kann das Naßplattierungsverfahren unter Verwendung eines Plattierungsbades durchgeführt werden, das zusätzlich zu den vorstehend erwähnten Metallen der Kobaltlegierung Mn, W, Zn oder eine Mischung davon enthält. Diese zusätzlichen Metalle beeinflussen die Deckschicht bezüglich ihrer magnetischen Eigenschaften wie Ku und 5* nicht nachteilig. Die zusätzlichen Metalle werden in einer Menge von nicht mehr als 10 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der verwendeten Legierungsbestandteile, zugesetzt
Beispiele 1 bis 9
Die Oberfläche einer etwa 0,2 mm dicken Kupferplatte wurde mit einer üblichen Schleifvorrichtung poliert und Vorbehandlungen wie einer eleklrolytischen Reinigung und einer Säureneutralisierung unterzogen, worauf auf der Oberfläche der Kupferplatte zur Herstellung eines Trägers durch stromlose Plattierung Nickel abgeschieden wurde, wobei ein etwa 200 bis 500 nm dicker Film aus einer nichtmagnetischen Ni-P-Legierung (P-Gehalt: 8 bis 10 Gew.-%) gebildet wurde.
Der Träger wurde in einer Vakuumaufdampfungskammer angeordnet und einer schräggerichteten Vakuumaufdampfung unterzogen, wobei Kobalt unter Anwendung eines Elektronenstrahls bei einem Druck von etwa 1,3 bis 13 m· Pa unter einem Auftreffwinkel von 10 bis 80° aufgedampft wurde, wodurch auf der Trägeroberfläche eine aufgedampfte Co-Schicht mit einer festgelegten Dicke gebildet wurde. Nach der Bildung der aufgedampften Co-Schicht wurde der Träger aus der Vakuumaufdampfungskammer entfernt und dann in ein Ni-Co-P-Elektroplattierungsbad mit der folgenden Zusammensetzung eingetaucht:
NiCl2 · 6 H2O 60 g/l
CoCl2 · 6 H2O 180 g/l
NaH2PO2 ■ H2O 4 g/l
NH4Cl 50 g/l
Danach wurde eine übliche Naßplattierung bei einer Badtemperatur von 24°C und einer Stromdichte von 1 A/dm2 durchgeführt, während der pH-Wert unter Verwendung von HCI und NH4OH auf 4,0 eingestellt wurde, wodurch auf der aufgedampften Grundierschicht eine plattierte Deckschicht mit einer festgelegten Dicke gebildet wurde. In diesen Beispielen wurden der Auftreffwinkel, der Druck bei der Vakuumaufdampfung, die Dicke der aufgedampften Schicht und die Dicke der plattierten Schicht, wie in der Tabelle angegeben, variiert.
Beispiel 10
Die Beispiele 1 bis 9 wurden unter Verwendung eines Elektroplattierungsbades mit der folgenden Zusammensetzung wiederholt:
NiCl2-OH2O 120 g/l
CoCl2-OH2O 120 g/I
NaH2FO2 · H2O 4 g/l
NH4CI 50 g/l
Als Ergebnis wurde ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial mit der in der Tabelle angegebenen Dicke der einzelnen Schichten erhalten.
Beispiel 11
Die Beispiele 1 bis 9 wurden unter Verwendung eines Elektroplattierungsbades mit der folgenden Zusammensetzung und unter den folgenden Elektroplattierungsbedingungen wiederholt wodurch ein Aufzeichnungsmaterial erhalten wurde:
Badzusammensetzung
60 CoCI2 · 6 H2O 240 g/l
NaH2POi · H2O 20 g/l
NH4CI 50 g/l
H3BO3 10 g/l
65 Plattierungsbt^ingungen
pH 3,5
Badtemp^ratur 24° C
Stromdichte 2 A/dm2
Beispiel 12
Die Beispiele 1 bis 9 wurden unter Verwendung eines Plattierungsbades für stromlose Plattierung mit der folgenden Zusammensetzung unter den folgenden Bedingungen wiederholt, wodurch ein Aufzeichnungsmaterial erhalten wurde.
Badzusammensetzung
CoSO4 ■ 7 H2O 30 g/l
Na3C6H5O7 · 2 H2O 35 g/l
NaH2PO2-H2O 20 g/l
(NH4J2SO4 66 g/I
Bedingungen bei der stromlosen Plattierung Badtemperatur 8O0C
pH (bei 50° C) 8,7 !5
Vergleichsbeispiel 1
Eine gewalzte Kupferplatte, deren Oberfläche poliert worden war, wurde einer üblichen elektrolytischen Reinigungs- und einer Säure-Neutralisationsbehandlung unterzogen, worauf eine stromlose Nickelplattierung und eine ausreichende Waschung mit Wasser durchgeführt wurden. Die plattierte Kupferplatte wurde dann in ein Elektroplattierungsbad mit der folgenden Zusammensetzung unter den folgenden Bedingungen eingetaucht, um eine etwa 720 nm dicke Ni-Co-P-plattierte Schicht zu bilden, wodurch ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial erhalten wurde.
30
35
Vergleichsbeispiel 2
Das Vergleichsbeispiel 1 wurde unter Verwendung eines Co-P-Elektroplattierungsbades mit der folgenden Zusammensetzung unter den folgenden Bedingungen wiederholt, wodurch ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial erhalten wurde.
45
Elektroplattierungsbedingungen
pH 3,5
Badtemperatiir 24° C
Stromdichte 2 A/dm2
Vergleichsbeispiel 3
55
Das Vergleichsbeispiel 1 wurde unter Verwendung eines Co-P-Plattierungsbades für stromlose Plattierung mit der folgenden Zusammensetzung unter den folgenden Plattierungsbedingungen wiederholt, wodurch ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial erhalten wurde.
Badzusammensetzung eo
COSO4 · 7 H2O 30 g/l
Na3C6H5O7 · 2 H2O 35 g/l
NaH2PO2 H2O 20 g/l
(NH4J2SO4 66 g/l
65
Plattierungsbedingungen Badtemperatur 8O0C
pH(bei50°Q 8,7
Badzusammensetzung 60 g/l Elektroplattierungsbedingungen 4,0
NiCI2 · 6 H2O 180 g/l pH (eingestellt mit 24° C
CoCl2 · 6 H2O 4 g/l HCl oder NH4CI) 1 A/dm2
NaH2PO2 · H2O 50 g/I Badtemperatur
NH4OH Stromdichte
Badzusammensetzung 240 g/l
CoCI2 ■ 6 H2O 20 g/l
NaH2PO2 - H2O 50 g/l
NH4CI 10 g/l
H3BO3
Vergleichsbeispiel 4
Eine gewalzte Kupferplatte, deren Oberfläche poliert worden war, wurde üblichen elektrolytischen Reinigungs- und Säure-Neutralisationsbehandlungen unterzogen, worauf eine stromlose Nickelplattierung durchgeführt wurde. Der auf diese Weise erhaltene Träger wurde in einer Vakuumaufdampf ungskammer angeordnet, in der Kobalt bei einem Druck von 1,3 bis 13,3 m- Pa unter einem Auftreffwinkel von 70° unter Anwendung eines Elektronenstrahls aufgedampft wurde, wodurch ein magnetisches Aufzeichnungsmaterial mit einer aufgedampften Schicht, die eine Dicke von etwa 610 nm hatte, erhalten wurde.
ίο Vergleichsbeispiele 5 bis 11
Die allgemeine Verfahrensweise der Beispiele 1 bis 9 wurde wiederholt, wobei jedoch verschiedene aufzudampfende Materialien, wie in der Tabelle angegeben, verwendet wurden und wobei die Badzusammensetzung für die Ni-Co-P-Elektroplattierung und die Plattierungsbedingungen, die nachstehend angegeben sind, im wesentlichen die gleichen wie in den Beispielen 1 bis 9 waren:
Badzusammensetzung
NiCl2 · 6 H2O 60 g/l
CoCl2-OH2O 180 g/l
20 NaH2PO2 · H2O 4 g/l
NH4Cl 50 g/l
Plattierungsbedingungen
pH 4,0
25 Badtemperatur 24° C
Stromdichte 1 A/dm2
Die in den vorstehenden Beispielen und Vergleichsbeispielen erhaltenen magnetischen Aufzeichnungsmaterialien wurden durch die folgenden Meßverfahren auf ihre magnetischen Eigenschaften und die Dicke ihrer Schichten hin untersucht.
Messung der magnetischen Eigenschaften
1. Magnetisierungskurve
Jede Probe wurde in Form einer Scheibe mit einem Außendurchmesser von 10 mm ausgestanzt, und diese Scheibe wurde zur Bestimmung ihrer Magnetisierungskurve mittels eines vibrierenden Probenmagnetometers bei einem Höchstwert von 796 kA/m der angelegten magnetischen Feldstärke verwendet. Die Koerzitivfeldstärke Hc, das Verhältnis der Remanenz zu der Sättigungsmagnetisierung Rs und der Wert 5* wurden aus der Magnetisierungskurve berechnet.
2. Messung der magnetischen Anisotropie
Die bei der Messung der Magnetisierungskurve verwendeten Proben wurden jeweils zur Messung ihrer Drehmomentkurve unter Anwendung eines Drehmomentmeßgeräts eingesetzt, um die magnetische Anisotropie bei einem Höchstwert von 796 kA/m der angelegten magnetischen Feldstärke zu bestimmen.
Die Richtung der Achse mit leichter Magnetisierbarkeit wurde aus der Drehmomentenkurve bestimmt, und die Konstante der magnetischen Anisotropie in einer Richtung Ru wurde aus einer Amplitude der Drehmomentkurve bei 796 kA/m berechnet
Messung der Schichtdicke
1. Dicke der durch Naßpiattierung erhaltenen Deckschicht.
Ein Teil der plattierten Schicht wurde in etwa 1,5 η HNO3-Lösung aufgelöst, und die Dicke der Schicht wurde unter Verwendung einer Vorrichtung zur Prüfung der Oberflächenrauheit bestimmt
2. Dicke der aufgedampften bzw. Grundierschicht
ω a) Co
Die Dicke wurde aus der Sättigungsmagnetisierung und der Fläche einer Probe bestimmt
. b) Andere Metalle (Cu, Zn, Sn, Ti, Cr und Mn)
Die Dicke wurde durch einen Dickenmonitor unter Verwendung eines Kristallresonators bestimmt, wobei die Tatsache zugrunde gelegt wird, daß Schwingungen in Abhängigkeit von einer Änderung
einer Masse auf der Oberfläche variieren.
Die Ergebnisse der vorstehenden Messungen sind in der nachstehenden Tabelle zusammengefaßt
Tabelle
Aufgedampftes Auftreff Druck Dicke der Dicke der Ku Achse mit leichter Rs Br Achse mit schwerer Rs Koerzitiv- OJ
Material winkel (rn-Pa) aufgedampften naßplattierten (kj/m3) Magnetisierbarkeit (mT) Magnetisierbarkeit Rechteckig- N)
C) bzw. bzw. Hc Hc keitS*
Grundierschicht
(nm)
Deckschicht
(nm)
(kA/m) 0,65 960 (kA/m) 0,57 NJ
OO
Beispiele 0,68 1000 0,55
1 Co 10 2,7 90 720 10 35,8 0,70 1030 37,8 0,49 0,80 .^,
2 Co 5 2,7 56 720 31 31,2 0,81 1110 36,2 0,36 0,84
3 Co 60 2,7 103 720 38 41,0 0,86 1270 39,8 0,28 0,84
4 Co 70 10,7 60 720 110 38,8 0,74 1050 43,0 0,42 0,97
5 Co 80 2,7 36 750 186 47,3 0,83 1190 48,5 0,22 0,97
6 Co 80 2,7 9 750 100 48,9 0,89 1260 50,9 0,28 0,98
7 Co 80 2,7 36 2500 185 38,0 0,90 1230 45,4 0,32 0,98
8 Co 80 2,7 36 250 167 59,8 0,86 1210 39,0 0,41 0,98
9 Co 80 1,3 100 270 201 76,4 0,86 1220 60,5 0,36 0,98
10 Co 80 8,0 30 240 170 81,6 0,85 1200 70,0 0,28 0,99
11 Co 80 U-2,7 30 250 160 63,0 54,9 0,98
12 Co 80 6,7 30 170 120 47,1 19,9 0,92
Vergleichs 0,48 720
beispiele 0,44 660
1 720 0,0 39,8 0,54 810 0,64
2 _ _ 720 0,0 56,5 0,77 1160 0,30 0,56
3 510 0,0 26,3 0,60 860 0,49 0,78
4 Co 70 U-13,3 610 90 79,6 0,56 830 43,8 0,53 0,15
5 Cu 80 1,3 100 240 30 46,2 0,48 706 50,1 0,48 0,60
6 Cuo/i—Zno4 80 6,7 100 240 12 553 0,54 800 54,5 0,54 0,77
7 Zn 80 2,7 220 240 4 75,6 0,54 790 75,6 0,54 0,54
8 Sn 80 10,7 150 240 7 67,6 0,43 630 67,6 0,43 0,72
9 Ti 80 6,7 100 240 2 74,4 0,63 940 74,4 0,63 0,59
10 Cr 80 1,3-2,7 100 240 15 101,1 101,1 0,26
11 Mn 80 2,7 150 240 0,0 54,9 54,9 0,30
Fußnote 1 zur Tabelle:
Bei der Naßplattierung handelte es sich in den Beispielen 1 bis 10 um die Elektroplattierung von Ni-Co— P, in Beispiel 11 um die Elektroplattierung von Co— P und in Beispiel 12 um die stromlose
Plattierung von Co— P. Fußnote 2 zur Tabelle:
Die irlallen Vergleichsbeispielen erhaltenen magnetischen Aufzeichnungsmaterialien besaßen eine Achse mit leichter Magnetisierbarkeit in einer Richtung, die im rechten Winkel zu der Auftreifrichtung der aufzudampfenden Atome steht, außer bei den Aufzeichnungsmaterialien der Vergleichsbeispiele 4 und 11, wobei das Aufzeichnungsmaterial von Vergleichsbeispiel 4 nur eine aufgedampfte Schicht aus Co aufwies und das Aufzeichnungsmaterial von Vergleichsbeispiel 11 unter Verwendung von Mn hergestellt wurde, dessen ATu-Wert Null war, wie aus der Tabelle
ersichtlich. Im Gegensatz dazu hatten die nach den erfindungsgemäßen Beispielen erhaltenen Aufzeichnungsmaterialien eine leichte Magnetisierbarkeit in Richtung einer Achse, die parallel zu der
Auftreffrichtung verläuft
Aus den vorstehenden Ergebnissen geht hervor, daß die erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien hohe Werte für die Koerzitivfeldstärke Hc, die Remanenz Br, das Verhältnis der Remanenz zu der Sättigungsmagnetisierung (Rechteckigkeit) Rs und die Koerzitiv-Rechteckigkeit 5* aufweisen und somit im Vergleich mit den Aufzeichnungsmaterialien der Vergleichsbeispiele bessere magnetische Eigenschaften besitzen. Bei den erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien hat die magnetische Aufzeichnungsschicht eine Achse mit leichter Magnetisierbarkeit, die parallel zu der Auftreffrichtung der aufgedampften Atome bei der schräggerichteten Vakuumaufdampfung ist, so daß die Oberflächenaufzeichnungsdichte mit einem stark verbesserten S/N-Verhältnis hervorragend ist, wenn die Aufzeichnungsmaterialien in der Weise eingesetzt werden, daß die Achsen parallel zur Aufzeichnungsrichtung liegen. Somit sind die erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien besonders geeignet zur Verwendung für Aufzeichnungen hoher Dichte. Insbesondere wenn der Auftreffwinkel im Bereich von über einschließlich 70° liegt, liegt der Ku-Wert in der Größenordnung bis zu etwa 102 kj/m3. In allen Fällen ist die Koerzitiv-Rechteckigkeit 5* viel höher als bei allen Aufzeichnungsmaterialien, die in den Vergleichsbeispielen erhalten wurden. Demgemäß zeigen die erfindungsgemäßen magnetischen Aufzeichnungsmaterialien eine ganz ausgezeichnete Empfindlichkeit, wenn sie zur Aufzeichnung und zur Wiedergabe verwendet
15 werden.
Wenn dünne magnetische Aufzeichnungsmaterialien durch ein reines Plattierungsverfahren erhalten worden sind, beträgt der f/c-Wert etwa 47,7 kA/m und der /?s-Wert etwa 0,55 bei einer Dicke der magnetischen Aufzeichnungsschicht von 260 nm. Wenn die Schichtdicke beispielsweise auf 2500 nm ansteigt, wird der /?5-Wert auf etwa 0,45 erniedrigt. Im Gegensatz dazu zeigt die erfindungsgemäße zweischichtige Aufzeichnungsschicht einen f/c-Wert von 59,7 kA/m und einen /?s-Wert von 0,89 bei einer Dicke von 290 nm. Wenn die Dicke auf bis zu etwa 2500 nm erhöht wird, beträgt der /?s-Wert etwa 0,83. Somit werden die Werte der magnetischen Eigenschaften der erfindungsgemäßen magnetischen Aufzeichnungsschicht nicht so sehr durch einen Anstieg der Schichtdicke erniedrigt. Es wird ferner gefunden, daß die Konstante Ku nicht so stark durch die Änderung der Dicke der plattierten Deckschicht beeinflußt wird.
Beim Vergleich der magnetischen Eigenschaften der Beispiele 1 bis 12 mit denen der Vergleichsbeispiele 5 bis 11 ergibt sich, daß die Verwendung von anderen aufzudampfenden Metallen als Kobalt sehr viel weniger effektiv ist, obwohl ein Teil des Kobalts durch andere Metalle ersetzt werden kann.
Beispiel 13
Beispiel 10 wurde unter Verwendung einer Aufdampfungsquelle aus Co-Ni-Legierungen mit 10 Gew.-°/o bzw. 30 Gew.-°/o Nickel wiederholt. Als Ergebnis wurden in beiden Fällen im wesentlichen die gleichen Ergebnisse wie im Beispiel 10 erhalten.
Ähnliche Ergebnisse wurden auch erhalten, wenn an Stelle von Nickel Eisen, Kupfer, Wo"ram, Chrom und Ruthenium verwendet wurden.
Beispiel 14
Beispiel 10 wurde wiederholt, jedoch wurde Kobalt in einer Atmosphäre mit einem sehr geringen Gehalt an Sauerstoffgas vakuumaufgedampft, wobei ähnliche Ergebnisse erzielt wurden.
Beispiel 15
Beispiel 8 wurde unter Verwendung eines Plattierungsbades mit der gleichen Zusammensetzung wie in den Beispielen 1 bis 8 wiederholt, jedoch wurden zusätzlich 0,05 mol/1 Manganchlorid, 0,05 mol Natriumwolframat bzw. 0,01 mol/1 Zinkchlorid zu dem Plattierungsbad gegeben. Es wurden die gleichen magnetischen Eigenschaften wie im Beispiel 8 erhalten, und diese Aufzeichnungsmaterialien besaßen eine verbesserte Abriebfestigkeit und verbesserte Korrosionsbeständigkeit gegenüber den Aufzeichnungsmaterialien des Beispiels 8.
50 Beispiel 16
Die allgemeine Verfahrensweise von Beispiel 8 wurde zur Herstellung einer Magnetscheibe wiederholt, die eine Achse mit leichter Magnetisierbarkeit entlang ihres Scheibenumfangs aufwies, wobei jedoch Kobalt mit einer Dicke von 30 nm im Vakuum aufgedampft wurde, worauf die Ni-Co-P-Legierung mit einer Dicke von 240 nm plattiert wurde.
Die erhaltene Magnetscheibe besaß einen f/c-Wert von 47,7 kA/m, einen Äs-Wert von 0,88 und eine Koerzitiv-Rechteckigkeit 5* von 0,98.
Zum Vergleich wurde vorstehend beschriebene Verfahrensweise zur Herstellung einer Magnetscheibe wiederholt, wobei jedoch die Grundierschicht nicht aufgebracht wurde. Diese Magnetscheibe besaß einen f/c-Wert von 55,7 kA/m, einen Äs-Wert von 0,60 und eine Koerzitiv-Rechteckigkeit 5* von 0,70. Die plattierte Schicht hatte eine Dicke von 240 nm.
Die elektromagnetischen Umwandlungseigenschaften dieser Magnetscheiben wurde bestimmt, indem ein Mn-Zn-Ferritmagnetkopf (Spaltweite: 0,7 μΐη, Spurweite: 55 μπι, Aufnahmehöhe: 0,15 μπι) bei einer relativen Geschwindigkeit zwischen der Magnetscheibe und dem Magnetkopf von 18,9 m/s verwendet wurde. Es wurde gefunden, daß die erfindungsgemäße Magnetscheibe einen bemerkenswerten Anstieg im Ausgangsniveau über einen weiten Frequenzbereich zeigte, beispielsweise 5 dB bei einem niedrigen Bereich von 1 MHz und 2$ dB bei einem hohen Bereich von 7 MHz.
Ferner waren die Aufzeichnungsempfindlichkeit und die Löscheigenschaft verbessert

Claims (5)

Patentansprüche:
1. Magnetisches Aufzeichnungsmaterial aus einem Träger und einer auf dem Träger gebildeten dünnen magnetischen Aufzeichnungsschicht, die aus zwei Schichten zusammengesetzt ist, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne magnetische Aufzeichnungsschicht aus einer auf dem Träger befindlichen Gnindierschicht, die aus Kobalt oder einer aus bis zu 30 Gew.-% Ni, Fe, Cu, W, Cr, Ru oder einer Mischung davon, Rest Co, bestehenden Kobaltlegierung besteht und durch eine schräggerichtete Vakuumaufdampfung aufgebracht worden ist, und einer darauf befindlichen Deckschicht, die aus Kobalt oder einer aus bis zu 40 Gew.-% Ni, bis zu 8 Gew.-% P, Rest Co, bestehenden Kobaltlegierung besteht und durch ein Naßplattie-ο längsverfahren aufgebracht worden ist, besteht.
2. Magnetisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundierschicht eine Dicke von 0,5 bis 500 nm und die Deckschicht eine Dicke von 50 bis 300 nm hat
3. Magnetisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kobaltlegierung für die Deckschicht zusätzlich bis zu 10 Gew.-% Mn, W oder Zn oder einer Mischung davon enthält
4. Magnetisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Kobalt oder die Kobaltlegierung für die Grundierschicht unter einem Auftreffwinkel von über 70° bezüglich des Trägers aufgedampft worden ist
5. Magnetisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufzeichnungsmaterial eine Aufzeichnungs- und Wiedergaberichtung aufweist, die parallel zu einer Achse mit leich-
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