JPS62240772A - 耐食性部材の製造方法 - Google Patents
耐食性部材の製造方法Info
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- JPS62240772A JPS62240772A JP8455086A JP8455086A JPS62240772A JP S62240772 A JPS62240772 A JP S62240772A JP 8455086 A JP8455086 A JP 8455086A JP 8455086 A JP8455086 A JP 8455086A JP S62240772 A JPS62240772 A JP S62240772A
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Landscapes
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
この発明は、たとえば橋梁等の構造物、化学薬品用モー
タインペラー、化学反応装置容器、電線等に利用される
耐食性部材の製造方法に関する。
タインペラー、化学反応装置容器、電線等に利用される
耐食性部材の製造方法に関する。
特に、塗装のように吸湿性で光により劣化するような材
料を使用することなく、半永久的な寿命を有する耐食性
部材を製造するための方法に関するものである。
料を使用することなく、半永久的な寿命を有する耐食性
部材を製造するための方法に関するものである。
[従来の技術]および[発明が解決しようとする問題点
] 被覆は、素材の性質を変えることなく耐食性を向上させ
ることができるものであり、しがち陰極防食のように使
途が制限されることがないため、最も汎用される防食法
である。被覆法としては、電気めっき、無電解めっき、
溶射、塗装、化成処理、陽極酸化等多くの方法がある。
] 被覆は、素材の性質を変えることなく耐食性を向上させ
ることができるものであり、しがち陰極防食のように使
途が制限されることがないため、最も汎用される防食法
である。被覆法としては、電気めっき、無電解めっき、
溶射、塗装、化成処理、陽極酸化等多くの方法がある。
これらの被覆法には、それぞれ以下のような問題点があ
る。まず、電気めっき法および無電解めっき法による被
覆では、被覆できる物質が限定され、また金属を主体と
する被覆物質自体にも耐食性に限界がある。塗装による
被覆では、被覆材料が素地と異質で、しかも吸湿性、耐
光性等に限界のある有機物を主体とするものであるので
、たとえば屋外に設置されるような部材に対しては数年
に一度の塗り替え等が必要となる。陽極酸化による被覆
では、使用できる材料がアルミニウム等に限定されると
いう欠点がある。また、従来の被覆法のどれを見ても、
被覆された部材が厳しい腐食環境下に置かれたとき、絶
対的な耐食性を示すことはなかった。
る。まず、電気めっき法および無電解めっき法による被
覆では、被覆できる物質が限定され、また金属を主体と
する被覆物質自体にも耐食性に限界がある。塗装による
被覆では、被覆材料が素地と異質で、しかも吸湿性、耐
光性等に限界のある有機物を主体とするものであるので
、たとえば屋外に設置されるような部材に対しては数年
に一度の塗り替え等が必要となる。陽極酸化による被覆
では、使用できる材料がアルミニウム等に限定されると
いう欠点がある。また、従来の被覆法のどれを見ても、
被覆された部材が厳しい腐食環境下に置かれたとき、絶
対的な耐食性を示すことはなかった。
このような状況を鑑みて、近年では、物理蒸着法または
化学蒸着法によって被覆を施し、防食することが検討さ
れている。しかしながら、これらの蒸着法を用いて厚い
被覆を得ようとするためには、長時間を必要とし、さら
に多額の費用を必要とする。また成膜中にピンホールが
一旦発生すると、そのピンホールを塞ぐことは至難であ
った。
化学蒸着法によって被覆を施し、防食することが検討さ
れている。しかしながら、これらの蒸着法を用いて厚い
被覆を得ようとするためには、長時間を必要とし、さら
に多額の費用を必要とする。また成膜中にピンホールが
一旦発生すると、そのピンホールを塞ぐことは至難であ
った。
結局、物理蒸着法または化学蒸着法だけで耐食性にイ灸
れた被覆を形成することは、実用上問題があった。
れた被覆を形成することは、実用上問題があった。
一般的に、従来、耐食性部材を製造する場合には、単一
の被覆を形成したり、あるいは同一または類似の被覆法
によって被覆を形成しているので、下地から発生したピ
ンホールについては、極めて厚い被覆を施さない限りそ
れを閉塞させることができなかった。そのために、たと
えばT i N。
の被覆を形成したり、あるいは同一または類似の被覆法
によって被覆を形成しているので、下地から発生したピ
ンホールについては、極めて厚い被覆を施さない限りそ
れを閉塞させることができなかった。そのために、たと
えばT i N。
Al1zOaのごとき極めて化学的に安定な物質を基材
上に被覆したとしても、耐食性に限界があった。
上に被覆したとしても、耐食性に限界があった。
このような問題点を回避するために、たとえば鋼上に、
鋼に対して犠牲陽極的に作用する亜鉛を被覆することは
よく知られている。しかしながら、この被覆法では、被
覆層が犠牲陽極的に作用するという必要条件から、1&
覆層自体の耐食性に限界があり、その寿命は限られてい
た。
鋼に対して犠牲陽極的に作用する亜鉛を被覆することは
よく知られている。しかしながら、この被覆法では、被
覆層が犠牲陽極的に作用するという必要条件から、1&
覆層自体の耐食性に限界があり、その寿命は限られてい
た。
それゆえに、この発明の目的は、ピンホールを仔してお
らず、しかも長期間にわたって優れた耐食性を発揮する
耐食性部材を製造するための方法を提供することである
。
らず、しかも長期間にわたって優れた耐食性を発揮する
耐食性部材を製造するための方法を提供することである
。
[問題点を解決するための手段]および[作用効果コ
この発明に従った耐食性部材の製造方法は、金属基材上
に電気めっき法または無電解めっき法によって被覆を形
成し、次いで蒸着法によってその上に被覆を形成するこ
とを特徴としている。
に電気めっき法または無電解めっき法によって被覆を形
成し、次いで蒸着法によってその上に被覆を形成するこ
とを特徴としている。
電気めっき法または無電解めっき法によって被覆形成し
た後、その上に全く異なる被覆法である蒸着法によって
被覆形成することによって、ピンホールが少なく、しか
も長期間にわたって優れた耐食性を発揮する耐食性部材
を得ることができる。
た後、その上に全く異なる被覆法である蒸着法によって
被覆形成することによって、ピンホールが少なく、しか
も長期間にわたって優れた耐食性を発揮する耐食性部材
を得ることができる。
このような効果が得られる理由は、以下のように考えら
れる。
れる。
すなわち、電気めっき法または無電解めっき法と、蒸着
法とでは、その被覆機構が全く異なっている。ピンホー
ルの発生原因も、それぞれの機構によって異なっている
。たとえば、機械加工や塑性変形によって得た通常の金
属素材に被覆を施そうとする場合、通常の表面処理を行
なっても化学蒸着法または物理蒸着法ではピンホールの
ない薄膜を得ることは至難である。しかし、電気めっき
法や無電解めっき法によれば、このような金属素材に対
しても容易にピンホールのない薄膜を得ることができる
。一般的に言えば、化学蒸着法または物理蒸着法では、
金属基材に段差や凹みがある場合、その部分にピンホー
ルを発生しやすい。一方、電気めっき法または無電解め
っき法による被覆では、基材上に油分や加工時の巻込異
物等がある場合それらの異物のところでピンホールが発
生しやすい。しかし、化学蒸着法または物理蒸着法によ
れば、それらの異物の上にも薄膜を形成することができ
る。たとえば、極端な場合、化学蒸着法または物理蒸着
法によれば、金属表面上に埋込まれたセラミック上にも
薄膜を形成することができる。このように、電気めっき
法または無電解めっき法と、蒸着法とでは、ピンホール
の発生原因が異なっているので、たとえば電気めっき法
または無電解めっき法による被覆に発生したピンホール
は、その後になされる化学蒸着法または物理蒸着法によ
る被覆よって容易に閉じることができる。
法とでは、その被覆機構が全く異なっている。ピンホー
ルの発生原因も、それぞれの機構によって異なっている
。たとえば、機械加工や塑性変形によって得た通常の金
属素材に被覆を施そうとする場合、通常の表面処理を行
なっても化学蒸着法または物理蒸着法ではピンホールの
ない薄膜を得ることは至難である。しかし、電気めっき
法や無電解めっき法によれば、このような金属素材に対
しても容易にピンホールのない薄膜を得ることができる
。一般的に言えば、化学蒸着法または物理蒸着法では、
金属基材に段差や凹みがある場合、その部分にピンホー
ルを発生しやすい。一方、電気めっき法または無電解め
っき法による被覆では、基材上に油分や加工時の巻込異
物等がある場合それらの異物のところでピンホールが発
生しやすい。しかし、化学蒸着法または物理蒸着法によ
れば、それらの異物の上にも薄膜を形成することができ
る。たとえば、極端な場合、化学蒸着法または物理蒸着
法によれば、金属表面上に埋込まれたセラミック上にも
薄膜を形成することができる。このように、電気めっき
法または無電解めっき法と、蒸着法とでは、ピンホール
の発生原因が異なっているので、たとえば電気めっき法
または無電解めっき法による被覆に発生したピンホール
は、その後になされる化学蒸着法または物理蒸着法によ
る被覆よって容易に閉じることができる。
こうして得られた耐食性部材では、その最表面にピンホ
ールがほとんど存在していないので、ピンホールからの
腐食がなくなる。また、最終的には化学蒸芒法または物
理蒸着法によって被覆を形成するものであるので、基材
最表面に酸化物、炭化物、窒化物等の化学的に極めて安
定な物質の薄膜を形成することが容易であり、優れた耐
食性を発揮する耐食性部材を得ることができる。このよ
うな耐食性部材は、長期にわたる耐食性が必要とされる
ような構造物、部品、電線等に採用された場合、半永久
的な寿命ををするようになる。
ールがほとんど存在していないので、ピンホールからの
腐食がなくなる。また、最終的には化学蒸芒法または物
理蒸着法によって被覆を形成するものであるので、基材
最表面に酸化物、炭化物、窒化物等の化学的に極めて安
定な物質の薄膜を形成することが容易であり、優れた耐
食性を発揮する耐食性部材を得ることができる。このよ
うな耐食性部材は、長期にわたる耐食性が必要とされる
ような構造物、部品、電線等に採用された場合、半永久
的な寿命ををするようになる。
なお、前述したように、蒸着法には化学蒸着法および物
理蒸着法がある。化学蒸着法としては、たとえば熱CV
D法、プラズマCVD法、光CVD法などが採用され得
る。また、物理蒸着法としては、スパッタリング法、イ
オンブレーティング法などが採用され得る。
理蒸着法がある。化学蒸着法としては、たとえば熱CV
D法、プラズマCVD法、光CVD法などが採用され得
る。また、物理蒸着法としては、スパッタリング法、イ
オンブレーティング法などが採用され得る。
金属基材の材質および被覆材料の材質に関しては、特に
限定されるものではない。しかし、電気めっき法または
無電解めっき法によって被覆される材料と、金属基材と
は、同種の材質とするのがよい。ここで同種の材質とは
、同一の材質であることに加えて、成る金属とその合金
との組合わせをも含む。たとえば、Cu合金からなる金
属基材上にCuめっきを施したり、鉄鋼基材上にFeや
Fe−Ni合金めっきを施すことも含まれる。このよう
に、金属基材とめっきによる被覆材とを同種の材質にす
れば、基材と波膜との密着性が向4−し、またピンホー
ルの発生が少なくなる。
限定されるものではない。しかし、電気めっき法または
無電解めっき法によって被覆される材料と、金属基材と
は、同種の材質とするのがよい。ここで同種の材質とは
、同一の材質であることに加えて、成る金属とその合金
との組合わせをも含む。たとえば、Cu合金からなる金
属基材上にCuめっきを施したり、鉄鋼基材上にFeや
Fe−Ni合金めっきを施すことも含まれる。このよう
に、金属基材とめっきによる被覆材とを同種の材質にす
れば、基材と波膜との密着性が向4−し、またピンホー
ルの発生が少なくなる。
同様の理由から、電気めっき法または無電解めっき法に
よって被覆される材料と、蒸着法によって被覆される材
料とは、同一の元素を含有するようにするのが好ましい
。たとえば、Cuからなる金属基材上にNiめっきを施
し、その後蒸着法によってNi−Ti合金やN1−Af
L−0化合物層の被覆を施すようにすれば、耐食性は一
層向上する。
よって被覆される材料と、蒸着法によって被覆される材
料とは、同一の元素を含有するようにするのが好ましい
。たとえば、Cuからなる金属基材上にNiめっきを施
し、その後蒸着法によってNi−Ti合金やN1−Af
L−0化合物層の被覆を施すようにすれば、耐食性は一
層向上する。
被覆材料として、電気めっき法または無電解めっき法を
適用できる汎用金属の中では、特にニッケルが耐食性に
優れている。したがって、好ましくは、電気めっき法ま
たは無電解めっき法によって被覆される材料としてはニ
ッケルが用いられる。
適用できる汎用金属の中では、特にニッケルが耐食性に
優れている。したがって、好ましくは、電気めっき法ま
たは無電解めっき法によって被覆される材料としてはニ
ッケルが用いられる。
[実施例]
炭素を1.2%含む鋼板、5056AQ、合金板、およ
び電気銅を溶解伸線した2、5mmφの丸銅線をそれぞ
れ基材とし、それらの上に各種の薄膜を形成した。そし
て、薄膜形成後、1000時間の塩水噴霧試験によって
ピンホールの発生の有無を調べた。前処理、めっきを含
む薄膜形成加工はすべて、クラス1000のクリンルー
ム内で行ない、埃によるピンホールの発生を抑制した。
び電気銅を溶解伸線した2、5mmφの丸銅線をそれぞ
れ基材とし、それらの上に各種の薄膜を形成した。そし
て、薄膜形成後、1000時間の塩水噴霧試験によって
ピンホールの発生の有無を調べた。前処理、めっきを含
む薄膜形成加工はすべて、クラス1000のクリンルー
ム内で行ない、埃によるピンホールの発生を抑制した。
こうして得られた結果を第、1表に示す。なお、試料番
号1〜16が本発明例であり、試料番号17〜25が比
較例である。
号1〜16が本発明例であり、試料番号17〜25が比
較例である。
(以下余白)
Claims (4)
- (1)金属基材上に電気めっき法または無電解めっき法
によって被覆を形成し、次いで蒸着法によつてその上に
被覆を形成する、耐食性部材の製造方法。 - (2)前記電気めっき法または無電解めっき法によって
被覆される材料と、前記金属基材とは、同種の材質であ
る、特許請求の範囲第1項に記載の耐食性部材の製造方
法。 - (3)前記電気めっき法または無電解めっき法によって
被覆される材料と、前記蒸着法によって被覆される材料
とは、同一の元素を含有している、特許請求の範囲第1
項または第2項に記載の耐食性部材の製造方法。 - (4)前記電気めっき法または無電解めっき法によって
被覆される材料は、ニッケルである、特許請求の範囲第
1項ないし第3項のいずれかに記載の耐食性部材の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8455086A JPS62240772A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 耐食性部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8455086A JPS62240772A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 耐食性部材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62240772A true JPS62240772A (ja) | 1987-10-21 |
Family
ID=13833753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8455086A Pending JPS62240772A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 耐食性部材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62240772A (ja) |
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---|---|---|---|---|
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-
1986
- 1986-04-11 JP JP8455086A patent/JPS62240772A/ja active Pending
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