[go: up one dir, main page]

DE3072204T2 - Halbleiterspeicheranordnung. - Google Patents

Halbleiterspeicheranordnung.

Info

Publication number
DE3072204T2
DE3072204T2 DE8585101832T DE3072204T DE3072204T2 DE 3072204 T2 DE3072204 T2 DE 3072204T2 DE 8585101832 T DE8585101832 T DE 8585101832T DE 3072204 T DE3072204 T DE 3072204T DE 3072204 T2 DE3072204 T2 DE 3072204T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
lines
line
peripheral circuits
line pairs
memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE8585101832T
Other languages
English (en)
Other versions
DE3072204D1 (de
Inventor
Junji C O Fujitsu Limi Sakurai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Application granted granted Critical
Publication of DE3072204D1 publication Critical patent/DE3072204D1/de
Publication of DE3072204T2 publication Critical patent/DE3072204T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/18Bit line organisation; Bit line lay-out
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • G11C5/025Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Halbleiterspeichereinrichtung und beschäftigt sich z. B. mit der Anordnung von peripheren Schaltungsblöcken in einem Halbleiterspeicher mit einer Speichermatrix hoher Integrationsdichte, insbesondere z. B. mit dem Layout von mit Bitleitungen des Speichers verbundenen Leseverstärkern.
  • Da in einem Speicher mit hoher Integrationsdichte, insbesondere einem dynamischen RAM (Schreib/ Lese-Speicher mit wahlfreiem Zugriff), die Speicherzellengröße auf bis zu ungefähr 1 um·1 um reduziert werden kann, was als Grenzwert der gegenwärtigen Fertigungsgenauigkeit gilt, kann eine hochintegrierte Speichereinrichtung mit einer Bitleitungsbreite von 1 um und einem Leitungsabstand von 1 um hergestellt werden. Ein peripherer Schaltungsblock, z. B. an Wortleitungen anzuschließende Adreßdekodierer oder an Bitleitungen anzuschließende Leseverstärker, kann jedoch innerhalb dieser Minimalgröße von 1 um·1 um nicht untergebracht werden, da ein solcher peripherer Schaltungsblock eine große Anzahl von Elementen enthält.
  • Zur Zeit hat ein Leseverstärker eine Breite von ungefähr 30 , und die Bitleitungsbreite beträgt mehrere Mikrometer.
  • Wenn, wie oben erläutert, eine Speichermatrix mit besonders hoher Dichte integriert wird, ist es deshalb geometrisch nicht möglich, periphere Schaltungen, wie z. B. Leseverstärker, in einer Reihe anzuordnen, welche die Richtungen der jeweiligen, die Speicherzellen einer solchen Speichermatrix versorgenden Bitleitungen kreuzt. Da eine Vielzahl von parallelen Bitleitungen von einer Speichermatrix ausgeht, ist es nicht möglich, genügend Leseverstärker anzuordnen, um alle Bitleitungen in einer Zeile oder Reihe senkrecht zu den Bitleitungen im Bereich zwischen der ersten und der letzten Bitleitung zu versorgen. Ein Versuch der Realisierung einer solchen Anordnung führt zu einem Ergebnis, bei dem Teile von Bitleitungen, die von der Speichermatrix ausgehen und mit den Leseverstärkern verbunden sind, auf gefächert sind, und bei dem aufgrund dieser Auffächerung der Bitleitungen eine Fläche zwischen der Reihe von Leseverstärkern und der Speichermatrix in nicht effizienter Weise genutzt wird. Weiterhin werden die Längen der zu Leseverstärkern führenden Teile der Bitleitungen entsprechend der Lage der von den Bitleitungen versorgten Zellen, und insbesondere bei einem dynamischen RAM mit aus jeweils einem Transistor und einem Kondensator bestehenden Speicherzellen die Kapazitäten der Bitleitungen, in unerwünschter Weise verschieden.
  • US-A-4 099 162 offenbart eine Anordnung, bei der zwei Ausgangsverstärker bezüglich einer Dekodierschaltung für zwei jeweils an die Verstärker angeschlossene Dekodierleitungen teilweise hintereinander angeordnet sind. Die Breite eines Ausgangsverstärkers kann somit das Rastermaß des Dekodierers übersteigen. Die Anschlußverdrahtung des von der Dekodierschaltung abgewandten Ausgangsverstärkers ist um die Seite des nähergelegenen Ausgangsverstärkers herumgeführt.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung ist eine Halbleiterspeichereinrichtung mit einem Speichermatrixbereich vorgesehen, in dem an Kreuzungspunkten von Zeilen- und Spaltenverdrahtungsleitungen oder - leitungspaaren Speicherzellen vorgesehen sind, und mit einer Vielzahl von mit den Zeilen- oder Spaltenverdrahtungsleitungen oder -leitungspaaren verbundenen peripheren Schaltungen, dadurch gekennzeichnet, daß die mit einer vorgegebenen Anzahl von benachbarten der Verdrahtungsleitungen oder -leitungspaare verbundenen peripheren Schaltungen, in einer ersten Richtung parallel zu den Leitungen oder Leitungspaaren gesehen, so hintereinander angeordnet sind, daß die peripheren Schaltungen der Vielzahl, in einer zweiten Richtung quer zur ersten Richtung gesehen, in Rängen oder Reihen angeordnet sind, wobei jede periphere Schaltung der Vielzahl in der zweiten Richtung eine Breite hat, die dem Abstand zwischen der ersten und letzten Verdrahtungsleitung oder dem ersten und letzten Verdrahtungsleitungspaar von n benachbarten Verdrahtungsleitungen oder -leitungspaaren entspricht, wobei n periphere Schaltungen, in der ersten Richtung gesehen, auf einer Seite des Speichermatrixbereichs hintereinander angeordnet und direkt mit den jeweiligen, vom Speichermatrixbereich ausgehenden Leitungen oder Leitungspaaren verbunden sind, wobei eine erste Leitung oder ein erstes Leitungspaar mit einer ersten, dem Speichermatrixbereich nächstliegenden der n peripheren Schaltungen, eine zweite Leitung oder ein zweites Leitungspaar mit einer zweiten, dem Speichermatrixbereich am zweitnächsten liegenden der n peripheren Schaltungen verbunden ist, wobei die zweite Leitung oder das zweite Leitungspaar über der ersten der n peripheren Schaltungen verläuft, und so weiter.
  • Nach einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann ein Halbleiterspeichersystem geschaffen werden, bei dem eine hohe Integrationsdichte dadurch realisiert ist, daß die Verbindungen zwischen X- und Y-Richtungs-Verdrahtung einer hochintegrierten Speichermatrix und peripheren Schaltungen von peripheren Schaltungsblöcken erleichtert sind.
  • Nach einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann ein Halbleiterspeichersystem geschaffen werden, bei dem das Layout-Problem, das sich aus dem großen Unterschied zwischen der Verdrahtungsdichte in der X- und Y-Richtung der hochintegrierten Speichermatrix und der Dichte der peripheren Schaltungen in mit den jeweiligen Verdrahtungen verbundenen peripheren Schaltungsblöcken ergibt, gelöst ist, und bei dem durch effiziente Flächennutzung eine hohe Integrationsdichte erzielt ist.
  • Nach einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann ein Halbleiterspeichersystem geschaffen werden, bei dem eine hohe Integrationsdichte dadurch realisiert ist, daß Verbindungen zwischen Bitleitungen einer hochintegrierten Speichermatrix und Leseverstärkern, die mit einer von der Dichte der Bitleitungen unterschiedlichen Dichte gebildet sind, erleichtert sind.
  • Nach einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann ein Halbleiterspeichersystem geschaffen werden, bei dem durch eine Vereinfachung von Verbindungen zwischen Wortleitungen und/oder Bitleitungen einer hochintegrierten Speichermatrix und Dekodierschaltungen zur Auswahl solcher Leitungen die Fläche effektiv genutzt ist.
  • Nach einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann ein hochintegrierter Schreib/Lese- Speicher mit wahlfreiem Zugriff geschaffen werden, bei dem das Problem der Verbindungsherstellung zwischen Bitleitungen einer Speichermatrix, in der aus jeweils einem Transistor und einem Kondensator bestehende Speicherzellen in Form einer Matrix mit hoher Integrationsdichte angeordnet sind, und mit den Bitleitungen verbundenen Leseverstärkern, das sich aus einem großen Unterschied der Strukturgröße zwischen Bitleitungen und Leseverstärkern ergibt, überwunden sind und die ineffiziente Ausnutzung der Fläche für Verbindungen eliminiert ist.
  • Nach einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung hat ein Speichermatrixbereich mit einer großen Anzahl von sich in Zeilen- und Spaltenrichtung kreuzenden Leitungen oder Leitungspaaren und mit an Kreuzungspunkten angeordneten Speicherzellen folgende Merkmale: Eine Vielzahl von an eine vorgegebene Anzahl von benachbarten Leitungen oder Leitungspaaren anzuschließenden peripheren Schaltungsblöcken sind hintereinander in derselben Richtung wie die Leitungen oder Leitungspaare angeordnet, an welche sie so anzuschließen sind, daß zumindest einige der peripheren Schaltungsblöcke in Reihen angeordnet sind, und vom Speichermatrixbereich ausgehende Leitungen oder Leitungspaare sind an die peripheren Schaltungsblöcke angeschlossen.
  • Im folgenden wird beispielhaft auf die bei liegenden Zeichnungen Bezug genommen, in denen:
  • Fig. 1 den allgemeinen Aufbau eines herkömmlichen Halbleiterspeichersystems in einem schematischen Blockschaltbild zeigt;
  • Fig. 2 den allgemeinen Aufbau eines die vorliegende Erfindung verkörpernden Halbleiterspeichersystems in einem schematischen Blockschaltbild zeigt;
  • Fig. 3 ein schematisches Schaltungsdiagramm eines Teils des Aufbaus eines die vorliegende Erfindung verkörpernden Halbleiterspeichersystems zeigt und
  • Fig. 4 den allgemeinen Aufbau eines weiteren die vorliegende Erfindung verkörpernden Halbleiterspeichersystems in einem schematischen Blockschaltbild zeigt.
  • In modernen Halbleiterspeichersystemen ist eine hohe Integrationsdichte für die Speicherzellenmatrizen dadurch erreicht, daß die an den Kreuzungspunkten von in Zeilenrichtung verlaufenden Wortleitungen und in Spaltenrichtung verlaufenden Bitleitungen vorgesehenen Speicherzellen nach verschiedenen Verfahren verkleinert sind.
  • Fig. 1 zeigt ein Blockschaltbild eines herkömmlichen Halbleiterspeichersystems; insbesondere veranschaulicht Fig. 1 den Gesamtaufbau eines dynamischen RAM mit aus jeweils einem Transistor und einem Kondensator bestehenden Speicherzellen. SUP bezeichnet eine Stromversorgungsschaltung, der von externen Schaltungen des RAM verschiedene Energiequellenspannungen VDD, VSS, VBB zugeführt werden und die diese Spannungen an interne Schaltungen des RAM liefert. CLG bezeichnet den internen Taktgenerator, der von externen Schaltungen ein Zeilenadressierungs-Signal RAS, ein Spaltenauswahl- Signal CAS, und ein Schreibfreigabe-Signal WE erhält und vorgegebene Taktsignale an interne Schaltungen liefert. An der Peripherie eines Speicherzellenmatrixbereichs sind mit Bitleitungspaaren Bn, Bn' und Bm, Bm' usw. verbundene Leseverstärker SA und Spaltendekodierer sowie an Wortleitungen verbundene Zeilendekodierer angeschlossen. Die Wortleitungen verlaufen senkrecht zu den Bitleitungspaaren. Wird von einem Spaltendekodierer und einem Zeilendekodierer aufgrund eines Signals von einem Adressenpuffer, dem Adressierungssignale A&sub0;, A&sub1;, . . . , A&sub7; zugeführt werden, eine Speicherzelle ausgewählt, so liest ein Leseverstärker den Inhalt der Zelle, indem er eine mit der Zelle verbundene Bitleitung Bn und eine andere, mit einer Blindzelle verbundene Bitleitung Bn' vergleicht. Dadurch werden Daten aus einem Ausgabepuffer 0 über eine Eingabe-Ausgabeschaltung I/O als Ausgangsinformationen Dout ausgelesen. Leseverstärker sind entsprechend den jeweiligen Bitleitungspaaren vorgesehen.
  • Mit Din sind Eingabeinformationen bezeichnet, die über einen Eingabepuffer I und die Eingabe-Ausgabeschaltung I/O in eine Speicherzelle eingeschrieben werden können.
  • Zur Erhöhung der Speicherkapazität wird die Speicherzellenmatrix durch weitere Reduzierung der Speicherzellengröße so verbessert, daß sich eine höhere Integrationsdichte ergibt. Die Abmessungen der Bitleitungspaare und der Leseverstärker sind nicht gleich, und wie aus Fig. 1 ersichtlich können in einer Reihe angeordnete Leseverstärker nicht innerhalb der seitlichen Ausdehnung des Speicherzellenmatrixbereichs untergebracht werden. Deshalb sind die Teile der Bitleitungen, die zum Anschluß an die Leseverstärker dienen, aufgefächert, was eine ineffiziente Flächennutzung zur Folge hat. Dies steht im Widerspruch zum Ziel der Realisierung einer hohen Integrationsdichte.
  • Eine Möglichkeit, dieses Problem zu vermeiden, besteht darin, Multiplexerschaltkreise vorzusehen und denselben Leseverstärker für die Vielzahl von Bitleitungspaaren gemeinsam zu benutzen, wie es in IEEE Journal of Solid State Circuits, Bd. SC-15, Nr. 2, April 1980, S. 184-189 beschrieben ist.
  • Nachteilig ist jedoch, daß die zusätzlichen Schaltungen, wie z. B. Multiplexerschaltkreise, und Taktsignale zum Umschalten erforderlich sind und daß die Auffrischzeit für Speicherzellen länger ist.
  • Fig. 2 zeigt ein Blockschaltbild, aus dem der Gesamtaufbau eines die vorliegende Erfindung enthaltenden Speichersystems ersichtlich ist. Gleiche Teile wie im Speicher der Fig. 1 sind mit gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet. In einem herkömmlichen Speichersystem sind an zugeordnete Bitleitungspaare angeschlossene Leseverstärker in einer Reihe dem Speichermatrixbereich benachbart angeordnet. Dagegen sind im Ausführungsbeispiel der Fig. 2 die Leseverstärker in zwei oder mehr Reihen dem Speichermatrixbereich benachbart angeordnet, so daß verlängerte, auf gefächerte Bitleitungsteile nicht mehr erforderlich sind. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel sind an benachbarte Bitleitungspaare Bn, Bn' und Bn+1, Bn+1' (oder Bin, Bin' und Bin+1, Bm+1') angeschlossene Leseverstärker SAn, SAn+1 jeweils in Reihen angeordnet, deren Richtung die Richtung der Bitleitungen kreuzt. Dadurch können die Leseverstärker SAn, SAn+1 angeordnet werden, daß sie innerhalb derselben Breite wie die Breite der beiden Bitleitungspaare liegen (d. h. die seitliche Ausdehnung der beiden Leseverstärker ist, wie aus Fig. 2 ersichtlich, im wesentlichen gleich dein seitlichen Abstand der beiden Bitleitungspaare), wodurch ein Speichermatrix-Layout mit hoher Integrationsdichte ermöglicht und die Anordnung der Leseverstärker vereinfacht wird, selbst wenn die Bitleitungsbreite reduziert ist. Wird die Integrationsdichte der Speichermatrix weiter erhöht, können Verbindungen zwischen Leseverstärkern und Bitleitungspaaren nach wie vor dadurch auf einfache Weise hergestellt werden, daß inan die Leseverstärker in drei oder mehr Rängen oder Reihen anordnet. Somit überlappen oder überdecken sich zwei oder mehr hintereinander angeordnete Leseverstärker, wie in Richtung der Bitleitungspaare ersichtlich.
  • Fig. 3 zeigt ein vergrößertes schematisches Diagramm eines Teils der Fig. 2. Mit B&sub1;, B&sub1;'; B&sub2;, B&sub2; und B&sub3;, B&sub3;' sind Bitleitungspaare bezeichnet, und Speicherzellen, bestehend aus jeweils einem Transistor QC&sub1;, QC&sub2;, QC&sub3; und einem Kondensator C&sub1;, C&sub2;, C&sub3;, sind an den Kreuzungspunkten der Bitleitungspaare mit Wortleitungen WD vorgesehen. Weiterhin sind an Kreuzungspunkten von Bitleitungspaaren mit Blindwortleitungen DWD, DWD' Blindzellen, bestehend aus jeweils einem Transistor QD&sub1;, QD&sub1;'; QD&sub2;, QD&sub2;'; QD&sub3;, QD&sub3;', einem Kondensator CD&sub1;, CD&sub1;'; CD&sub2;, CD&sub2;'; CD&sub3;, CD&sub3;' und einem Entladetransistor QDP&sub1;, QDP&sub1;¹; QDP&sub2;, QDP&sub2;', QDP&sub3;, QDP&sub3;', vorgesehen. Mit DCP, DCP' sind Signalleitungen zur Entladung der Blindzellen bezeichnet. An zugeordnete Bitleitungspaare angeschlossene Leseverstärker SA1, SA2, SA3 sind in drei Rängen oder Reihen angeordnet, deren Richtung die Richtung der Bitleitungspaare kreuzt. Die Bitleitungspaare B&sub1;, B&sub1;'; B&sub2;, B&sub2;'; B&sub3;, B&sub3;' sind direkt in Form gerader Linien verbunden, in Richtung der von der Speicherzellenmatrix abgehenden Bitleitungen, und drei Leseverstärker SA1, SA2 und SA3 sind in der Richtung angeordnet, in der die Bitleitungspaare verlaufen. Die Breite eines Leseverstärkers in Wortleitungs-Richtung (senkrecht zur Bitleitungs- Richtung) ist nahezu gleich der von drei Bitleitungspaaren. Mit anderen Worten: Im vorliegenden Ausführungsbeispiel ergibt sich ein Wert n in der Weise, daß n Bitleitungspaare zusammen ungefähr die gleiche Breite wie ein Leseverstärker aufweisen, die Bitleitungspaare sind in Blöcke von jeweils n Paaren aufgeteilt und n Leseverstärker sind pro Block in Bitleitungs-Richtung hintereinander angeordnet. In Fig. 3 haben drei Bitleitungspaare ungefähr die gleiche Breite wie ein Leseverstärker, so daß drei Leseverstärker, SA1, SA2 und SA3, in Richtung der Bitleitungen hintereinander vorgesehen sind.
  • Die Leseverstärker SA1, SA2 und SA3 bestehen aus Transistoren Q&sub1;&sub1;, Q&sub1;&sub2;, Q&sub1;&sub3;, Q&sub1;&sub4;, Q&sub1;&sub5;, Q&sub1;&sub6;, Q&sub1;&sub7; bzw. Q&sub2;&sub1;, Q&sub2;&sub2;, Q&sub2;&sub3;, Q&sub2;&sub4;, Q&sub2;&sub5;, Q&sub2;&sub6;, Q&sub2;&sub7; bzw. Q&sub3;&sub1;, Q&sub3;&sub2;, Q&sub3;&sub3;, Q&sub3;&sub4;, Q&sub3;&sub5;, Q&sub3;&sub6;, Q&sub3;&sub7;, wie aus der Figur ersichtlich. VDD ist eine Hoch-Pegel-Stromversorgungsleitung, VSS eine Nieder- Pegel-Stromversorgungsleitung, PC eine Vorladesignal- Leitung, Φ&sub1; eine Unterbrechungssignal-Leitung, und Φ&sub2; eine Verriegelungssignal-Leitung. Jede dieser Leitungen ist mit jedem der Leseverstärker verbunden.
  • Die Bitleitungspaare sind mit Busleitungen BS, BS' über Gate-Transistoren T&sub1;, T&sub1;'; T&sub2;, T&sub2;'; T&sub3;, T&sub3;' verbunden, die, von einem Spaltendekodierer gesteuert, durchgeschaltet und gesperrt werden. Weiterhin sind die Busleitungen mit der Eingabe- Ausgabeschaltung I/O über ein Transistorpaar TB, TB' verbunden, das von einem Signal 10 durchgeschaltet und gesperrt wird.
  • Der Aufbau des vorliegenden Ausführungsbeispiels verwendet eine Mehrebenenverdrahtung und bietet den Vorteil, daß alle Leseverstärker wie beim herkömmlichen Speichersystem auf einer Seite eines Speicherzellenmatrixbereichs angeordnet sind, und eine spezielle Änderung des Aufbaus oder Layouts von anderen peripheren Schaltungen und der Teile der Bitleitungen, die zum Anschluß an Leseverstärker dienen, ist nicht erforderlich.
  • Das im Vorstehenden beschriebene Ausführungsbeispiel ist für ein Speichersystem mit "gefalteten Bitleitungen" ausgelegt, bei dem Bitleitungspaare parallel vorgesehen sind (die Leitungen des Paares verlaufen nebeneinander).
  • Fig. 4 zeigt ein Blockschaltbild des Gesamtaufbaus eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung, das sich durch Anpassung der Erfindung an einen Fall ergibt, in dem sich Bitleitungspaare Bn, Bn'; Bn+1, Bn+1' nach beiden Seiten erstrecken (d. h. zu entgegengesetzten Seiten eines Leseverstärkers geführt sind). In einem dynamischen RAM dieses Typs, bei dem jede Speicherzelle aus einem Transistor und einem Kondensator besteht, wird der Inhalt einer mit einer Bitleitung Bn verbundenen Speicherzelle z. B. durch Vergleich mit dem Inhalt einer mit einer zugehörigen Bitleitung Bn' verbundenen Blindspeicherzelle gelesen. Ein dynamisches RAM dieses Typs ist bezüglich der Leitungslänge, der Abmessungen der Zwischenbitleitungen und dem Grad der Ungleichheit zwischen der Breite von Leseverstärkern und der Leitungsbreite größer als der Typ mit gefalteten Bitleitungen. Deshalb ist durch Anpassung der vorliegenden Erfindung an ein dynamisches RAM dieses Typs ein bemerkenswerter Effekt zu-erzielen. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel sind die Leseverstärker SA1, SA2 in zwei Stufen oder Reihen angeordnet, und das Bitleitungspaar Bn, Bn' ist an den Leseverstärker SA1 angeschlossen, während das Bitleitungspaar Bn+1, Bn+1' mit dem Leseverstärker SA2 verbunden ist.
  • In den vorstehenden Ausführungsbeispielen wurde die Erfindung auf der Grundlage ihrer Anwendung auf das Verhältnis zwischen Bitleitungspaaren und Leseverstärkern erläutert. Die Erfindung kann natürlich auch an eine Anwendung auf das Verhältnis zwischen Wortleitungen oder Wortleitungspaaren oder zwischen Bitleitungen oder Bitleitungspaaren und Dekodierschaltungen, wie z. B. Zeilen- oder Spaltendekodierern, und zwischen Wortleitungen oder Wortleitungspaaren oder Bitleitungen oder Bitleitungspaaren und jeder anderen Art von peripheren Schaltungen, wie z. B. Wortdekodierschaltungen zur Auswahl und Ansteuerung von Wortleitungen oder Wortleitungspaaren, angepaßt werden.
  • Wie bereits erwähnt hat die vorliegende Erfindung den Vorteil, daß die Wortleitungen oder Bitleitungen einer hochintegrierten Speichermatrix und periphere Schaltungen in einem peripheren Schaltungsbaustein, z. B. Adreßdekodierer, Leseverstärker, usw., ohne Komplizierung des Gesamtaufbaus und bei effizienter Flächenausnutzung verbunden werden können.
  • Ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung betrifft ein Halbleiterspeichersystem mit einem Speichermatrixbereich, bei dem sich viele Wortleitungen und Bitleitungen in Zeilen- und Spaltenrichtung kreuzen und Speicherzellen mit an Kreuzungsstellen von Wortleitungen mit Bitleitungen hoher Integrationsdichte angeordnet sind. Eine Vielzahl von peripheren Schaltungsblöcken, die mit einer Vielzahl von benachbarten Wortleitungen und Bitleitungen verbunden sind, z. B. Blöcke in Form von Leseverstärkern und Dekodierschaltungen, sind in Reihen in Richtung der Bit- bzw. Wortleitungen angeordnet. Dadurch können Verbindungen zwischen den Wortleitungen oder Bitleitungen und peripheren Schaltungen ohne Komplizierung der Struktur und bei effizienter Bereichsflächennutzung hergestellt werden.
  • Durch die vorliegende Erfindung wird somit eine Halbleiterspeichereinrichtung mit einem Speichermatrixbereich mit einer Vielzahl von in Zeilen- und Spaltenrichtung gekreuzten Leitungen oder Leitungspaaren sowie an deren Kreuzungspunkten angeordneten Speicherzellen geschaffen, bei der eine Vielzahl von mit der benachbarten Vielzahl von Leitungen oder Leitungspaaren verbundenen peripheren Schaltungsblöcken hintereinander in derselben Richtung wie diese Leitungen so angeordnet sind, daß zumindest ein Teil dieser peripheren Schaltungsblöcke in Reihen angeordnet ist, und bei der die von dem Speichermatrixbereich ausgehenden Leitungen an die peripheren Schaltungsbausteine angeschlossen sind.

Claims (7)

1. Halbleiterspeichereinrichtung mit einem Speichermatrixbereich, in dem an Kreuzungspunkten von Zeilen-(WD) und Spaltenverdrahtungsleitungen (Bi) oder -leitungspaaren Speicherzellen vorgesehen sind, und einer Vielzahl von mit den Zeilen- oder Spaltenverdrahtungsleitungen oder -leitungspaaren verbundenen peripheren Schaltungen (SAi), dadurch gekennzeichnet, daß die mit einer vorgegebenen Anzahl von benachbarten der Verdrahtungsleitungen oder -leitungspaare (Bi) verbundenen peripheren Schaltungen (Sli), in einer ersten Richtung parallel zu den Verdrahtungsleitungen oder -leitungspaaren (Bi) gesehen, so hintereinander angeordnet sind, daß die peripheren Schaltungen (SAi) der Vielzahl, in einer zweiten Richtung quer zur ersten Richtung gesehen, in Rängen oder Reihen angeordnet sind, wobei jede periphere Schaltung (SAi) der Vielzahl in der zweiten Richtung eine Breite hat, die dem Abstand zwischen der ersten und letzten Verdrahtungsleitung oder dem ersten und letzten Verdrahtungsleitungspaar von n benachbarten Verdrahtungsleitungen oder -leitungspaaren (Bi) entspricht, wobei n periphere Schaltungen (SAi), in der ersten Richtung gesehen, auf einer Seite des Speichermatrixbereichs hintereinander angeordnet und direkt mit den jeweiligen, vom Speichermatrixbereich ausgehenden Leitungen oder Leitungspaaren (Bi) verbunden sind, wobei eine erste Leitung oder ein erstes Leitungspaar (B1, B'1) mit einer ersten (SA1), dem Speichermatrixbereich nächstliegenden der n peripheren Schaltungen, eine zweite Leitung oder ein zweites Leitungspaar (B2, B'2) mit einer zweiten (SA2), dem Speichermatrixbereich am zweitnächsten liegenden der n peripheren Schaltungen verbunden ist, wobei die zweite Leitung oder das zweite Leitungspaar (B2, B'2) über der ersten (SA1) der n peripheren Schaltungen verläuft, und so weiter.
2. Einrichtung nach Anspruch l, bei der jede Speicherzelle einen Transistor (QCi) und einen Kondensator (Ci) aufweist.
3. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die peripheren Schaltungen (SAi) der Vielzahl jeweils Leseverstärker sind und mit Spaltenbitleitungen oder -bitleitungspaaren (Bi, Bi') zur Erkennung der darauf vorhandenen Potentiale verbunden sind.
4. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die peripheren Schaltungen der Vielzahl jeweils Wortdekodierer sind und mit Zeilenwortleitungen oder -wortleitungspaaren zu deren Auswahl und Ansteuerung verbunden sind.
5. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die peripheren Schaltungen der Vielzahl Spaltendekodierer sind und mit Spaltenbitleitungen oder -bitleitungspaaren zur Auswahl von Spalten verbunden sind.
6. Einrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche als Einrichtung mit gefalteten Bitleitungen.
7. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, mit ersten und zweiten solcher Speichermatrixbereiche, wobei die peripheren Schaltungen der Vielzahl zwischen den ersten und zweiten Speichermatrixbereichen angeordnet und jeweils mit einem Leitungspaar verbunden sind, von dem eine Leitung dem ersten Speichermatrixbereich und die andere Leitung dem zweiten Speichermatrixbereich zugeordnet ist.
DE8585101832T 1979-12-13 1980-12-11 Halbleiterspeicheranordnung. Expired - Fee Related DE3072204T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16207979A JPS5683891A (en) 1979-12-13 1979-12-13 Semiconductor storage device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3072204D1 DE3072204D1 (de) 1992-12-17
DE3072204T2 true DE3072204T2 (de) 1993-03-25

Family

ID=15747680

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8080304461T Expired DE3071607D1 (en) 1979-12-13 1980-12-11 A semiconductor memory device having a memory matrix area and a plurality of peripheral circuits
DE8585101832T Expired - Fee Related DE3072204T2 (de) 1979-12-13 1980-12-11 Halbleiterspeicheranordnung.

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8080304461T Expired DE3071607D1 (en) 1979-12-13 1980-12-11 A semiconductor memory device having a memory matrix area and a plurality of peripheral circuits

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4418399A (de)
EP (2) EP0031659B1 (de)
JP (1) JPS5683891A (de)
DE (2) DE3071607D1 (de)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6059677B2 (ja) * 1981-08-19 1985-12-26 富士通株式会社 半導体記憶装置
US4750154A (en) * 1984-07-10 1988-06-07 Prime Computer, Inc. Memory alignment system and method
BR8503161A (pt) * 1984-07-31 1986-03-25 Int Standard Electric Corp Metodo para investigar uma matriz de associacao
US4979145A (en) * 1986-05-01 1990-12-18 Motorola, Inc. Structure and method for improving high speed data rate in a DRAM
JPH088304B2 (ja) * 1987-08-19 1996-01-29 富士通株式会社 半導体集積回路装置及びその設計方法
US5016216A (en) * 1988-10-17 1991-05-14 Waferscale Integration, Inc. Decoder for a floating gate memory
JPH0775116B2 (ja) * 1988-12-20 1995-08-09 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JPH081946B2 (ja) * 1990-01-26 1996-01-10 株式会社東芝 半導体集積回路
JP2982920B2 (ja) * 1990-07-10 1999-11-29 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JPH0562461A (ja) * 1991-04-09 1993-03-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
KR940007639B1 (ko) * 1991-07-23 1994-08-22 삼성전자 주식회사 분할된 입출력 라인을 갖는 데이타 전송회로
JP3183541B2 (ja) * 1991-10-22 2001-07-09 シャープ株式会社 半導体記憶装置
JPH08172169A (ja) * 1994-12-16 1996-07-02 Toshiba Microelectron Corp 半導体記憶装置
JPH10303387A (ja) * 1997-04-28 1998-11-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
EP1748443B1 (de) * 2005-07-28 2008-05-14 STMicroelectronics S.r.l. Halbleiterspeicher und sein Seitenpufferspeicher mit verbessertem Layout

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3814846A (en) * 1972-01-20 1974-06-04 Reticon Corp High density photodetection array
US3909808A (en) * 1974-12-23 1975-09-30 Ibm Minimum pitch mosfet decoder circuit configuration
JPS5539073B2 (de) * 1974-12-25 1980-10-08
JPS51113545A (en) * 1975-03-31 1976-10-06 Hitachi Ltd Memory
DE2557165C3 (de) * 1975-12-18 1979-01-18 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Decoderschaltung und ihre Anordnung zur Integrierung auf einem Halbleiterbaustein
US4156938A (en) * 1975-12-29 1979-05-29 Mostek Corporation MOSFET Memory chip with single decoder and bi-level interconnect lines
US4045783A (en) * 1976-04-12 1977-08-30 Standard Microsystems Corporation Mos one transistor cell ram having divided and balanced bit lines, coupled by regenerative flip-flop sense amplifiers, and balanced access circuitry
JPS5349969A (en) * 1976-10-18 1978-05-06 Hitachi Ltd Semiconductor memory unit
DE2647394C2 (de) * 1976-10-20 1978-11-16 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen MOS-Halbleiterspeicherbaustein
DE2746336A1 (de) * 1977-10-14 1979-04-19 Siemens Ag Dynamischer halbleiterspeicher mit einer matrix aus ein-transistor-speicherzellen
US4160275A (en) * 1978-04-03 1979-07-03 International Business Machines Corporation Accessing arrangement for memories with small cells
DE2919166C2 (de) * 1978-05-12 1986-01-02 Nippon Electric Co., Ltd., Tokio/Tokyo Speichervorrichtung
JPS5542344A (en) * 1978-09-21 1980-03-25 Toshiba Corp Mos type dynamic memory unit

Also Published As

Publication number Publication date
DE3071607D1 (en) 1986-06-19
EP0155521A2 (de) 1985-09-25
EP0155521B1 (de) 1992-11-11
US4418399A (en) 1983-11-29
EP0031659B1 (de) 1986-05-14
JPS6155198B2 (de) 1986-11-26
JPS5683891A (en) 1981-07-08
EP0031659A3 (en) 1981-07-15
DE3072204D1 (de) 1992-12-17
EP0031659A2 (de) 1981-07-08
EP0155521A3 (en) 1988-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3588247T2 (de) Dynamischer Halbleiterspeicher mit einer statischen Datenspeicherzelle
DE69521095T2 (de) Dynamischer Speicher mit geteilten Leseverstärkern
DE69620022T2 (de) Laser-sicherungsbankstruktur
DE3941926C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung
DE3072204T2 (de) Halbleiterspeicheranordnung.
DE4122829C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung
DE3939337C2 (de)
DE3716518C2 (de)
DE69520254T2 (de) Halbleiterspeicher
DE69020384T2 (de) Integrierte Halbleiterspeicherschaltung mit Möglichkeit zum Maskieren des Schreibens im Speicher.
DE69426355T2 (de) Umfangreiche Datenbusarchitektur
DE69520333T2 (de) Halbleiterspeicher
DE3916784A1 (de) Dynamische halbleiterspeichereinrichtung
DE3785133T2 (de) Halbleiterspeicheranordnung mit verbesserter bitzeilenordnung.
DE69619794T2 (de) Speicherzelle zum lesen und schreiben einer registerbank
DE69902642T2 (de) Mehrpegeldaten durch eine einzige eingangs-/ausgangspinne
DE69515927T2 (de) Breitbandige Halbleiterspeicheranordnungen
DE4015452C2 (de)
DE4005992C2 (de) Halbleiterspeichervorrichtung mit verringertem Wortleitungskopplungsrauschen
DE3782103T2 (de) Dynamischer halbleiterspeicher mit leseschema.
EP0162934B1 (de) Halbleiterspeicher
DE69120020T2 (de) Ein Festwertspeicher
DE69228522T2 (de) Lese-Schreibspeicher mit Prüfmodusdatenvergleich
DE69322436T2 (de) Halbleiterspeicheranordnung
DE4020895A1 (de) Halbleiterspeichereinrichtung zum speichern von daten mit einer mehrzahl von bits und betriebsverfahren fuer diese

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee