[go: up one dir, main page]

DE2747061A1 - Verfahren und vorrichtung zum beschichten von baendern in vakuumanlagen mit schleuseneinrichtungen - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zum beschichten von baendern in vakuumanlagen mit schleuseneinrichtungen

Info

Publication number
DE2747061A1
DE2747061A1 DE19772747061 DE2747061A DE2747061A1 DE 2747061 A1 DE2747061 A1 DE 2747061A1 DE 19772747061 DE19772747061 DE 19772747061 DE 2747061 A DE2747061 A DE 2747061A DE 2747061 A1 DE2747061 A1 DE 2747061A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
vacuum chamber
tape
coating
carrier tape
strip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19772747061
Other languages
English (en)
Inventor
Heinz Walter
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold Heraeus GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold Heraeus GmbH filed Critical Leybold Heraeus GmbH
Priority to DE19772747061 priority Critical patent/DE2747061A1/de
Publication of DE2747061A1 publication Critical patent/DE2747061A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

  • "Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Bändern in
  • Vakuumanlagen mit Schleuseneinrichtungen" Die Erfindung'betrifft ein Verfahren zum Beschìchten von Bändern in einer Vakuumkammer unter Verwendung eines endlosen Trägerbandes, welches das zu beschichtende Band auf dem Wege von einer Abwi ckelwal ze zu einer Aufwickelwalze mindestens auf dem Wege durch eine Schleusenvorrichtung der Vakuumkammer begleitet, wobei das zu beschichtende Band sowohl am einlaufenden als auch am auslaufenden Trumm des Trägerbandes schlupffrei anliegend gehalten wird.
  • Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung zur Durchführung des vorstehend beschriebenen Verfahrens, bestehend aus einer Vakuumkammer mit einer Schleusenvorrichtung und je einer außerhalb der Vakuumkammer angeordneten Ab- und Aufwickelwalze, aUS je einer innerhalb und außerhalb der Vakuumkammer angeordneten Umlenkwalze, über die ein endloses Trägerband durch die Schleusenvorrichtung geführt ist, wobei Einrichtungen für die schlupffreie Anpressung des zu beschichtenden Bandes an das Trägerband vorgesehen sind, sowie aus einer Beschichtungsquelle für das Band.
  • Zu der vorstehend beschriebenen Vorrichtung gehören auch die sogenannten Luft-zu-Luft-Anlagen, bei denen die Ab- und Aufwickelwalze an Atmosphäre angeordnet sind. Derartige Anlagen haben den Vorteil, daß die Vorratsrolle mit dem zu beschichtenden Band keinen Durchmesserbegrenzungen im Hinblick auf das Bauvolumen der Anlage unteliegt. Auch die Probleme des Ausgasens bzw. der Entgasung eines in Vakuum eingebrachten Band- oder Folienwickels entfallen. Es können Umwickeleinrichtungen herkömmlicher Bauweise verwendet werden, die nicht für einen Vakuumbetrieb ausgelegt sein müssen, und infolgedessen gleichfalls keinen Beschränkungen im Hinblick auf ihre Abmessungen unterliegen. Auch die Wartung der Lagerstellen für bewegliche Vorrichtungsteile ist wesentlich einfacher. Der Hauptvorteil liegt jedoch in der kontinuierlichen Betriebsweise einer Luft-zu-Luft-Anlage, bei der es möglich ist, nach dem Beschichten des Bandes einer Rolle än das Ende dieses Bandes den Anfang der nachfolgenden Rolle anzufugen, so daß keine Betriebsunterbrechung, insbesondere aber keine Belüftung der Vakuumkammer erforderlich ist. Eine Luft-zu-Luft-Anlage kann auch in eine kontinuierlich arbeitende Produktionsanlage fUr die Herstellung des zu beschichtenden Bandes eingesetzt werden, wobei im Grenzfall sogar auf Umwickeleinrichtungen verzichtet werden kann.
  • Derartige Anlagen bedingen jedoch sogenannte Bandschleusen, welche die Druckdifferenz gegenüber dem Druck in der eigentlichen Beschichtungskammer überbrücken. und zwar entweder durch kontinuierliche oder durch stufenweise Druckabsenkung, wobei zu berücksichtigen ist, daß der Druck in einer Vakuumaufdampfkammer größenordnungsmäßig bei 10 4 mbar und in einer Katodenzerstäubungsanlage größenordnungsmäßig bei 10'2 mbar liegt. Wesentliche Elemente einer solchen Schleuse sind enge Schlitze oder Spalte, welche der Luftströmung einen merklichen Widerstand entgegensetzen, so daß unter Einsatz von Vakuumpumpen die Erzeugung der gewünschten Druckdifferenz möglich ist. Hierbei stehen sich folgende Forderungen entgegen: Einmal sollen Größe und Zahl der Vakuumpumpen im Hinblick auf den dauernden Leistungsbedarf möglichst gering gehalten werden. Da auch die Investitionskosten mit der Zahl der einzelnen Schleusenkammern steigen, soll auch hier der konstruktive Aufwand in Grenzen gehalten werden. Diese Forderung führt notwendigerweise zur Ausbildung, möglichst enger Spalte oder Blenden für die Durchführung des Bandes.
  • Zum andern jedoch sollen die Abmessungen der Spalte und Blenden ein Mindestmaß nicht unterschreiten, da die Bänder auf ihrem Transport unvermeidbar Bewegungen ausführen, die ein Anlaufen an den Kanten der Schlitze begünstigen. Sofern sich die im Vakuum aufgebrachte Beschichtung auf einer Seite des Bandes befindet, die einer Kante des Schlitzes zugeordnet ist, besteht die Gefahr einer Beschädigung der Beschichtung, wodurch das Produkt unbrauchbar, zumindest aber im Wert gemindert wird. Aus Sicherheitsgründen konnte daher bisher eine Mindestbreite der Schlitze oder Blenden nicht unterschritten werden.
  • Die Schwierigkeiten wachsen mit abnehmender Stärke des Bandes.
  • So werden heute vom Markt Kondensatorfolien verlangt, deren Träger ein thermoplastisches Folienmaterial von 1 Mikrometer Dicke ist. Das faltenfreie Umwickeln und die Führung derartiger Bänder stellen im Hinblick auf die vorstehend genannten Forderungen Probleme dar, die nur sehr schwer zu lösen sind.
  • Durch die DT-AS 12 79 426 ist es bekannt, Bänder auf einem endlosen Trägerband durch eine Druckstufenstrecke und durch eine Bedampfungskammer zu führen. Hierbei wird das zu bedampfende Band nicht vom Trägerband abgehoben, so daß es nur auf der dem Trägerband abgekehrten Seite beschichtet werden kann. Die Schichtseite läuft somit Gefahr, an den Schlitzblenden der Druckstufenstrecke anzulaufen. Hinzu kommt, daß die Schlitzblenden für beide Trumms des Trägerbandes voneinander getrennt sind, wodurch der Gesamtquerschnitt der Schlitzblenden, der für den Gasdurchtritt maßgeben ist, unnötig groß ist.
  • Ein endliches Trägerband aus Metall, welches gleichzeitig als Kühlunterlage dient und durch die Vakuumanlage geführt wird, wobei es entweder zusammen mit dem Produkt oder unabhängig davon aufgewickelt werden kann, ist Gegenstand der DT-AS 1 059 739. Die Dicht- und Transportprobleme sind jedoch hierbei die gleichen wie bei dem Gegenstand der DT-AS 12 79 426.
  • Durch die DT-PS 961 771 ist es bekannt, mindestens ein endloses, umlaufendes Band lediglich zu Abdichtzwecken im Zusammenhang mit einer Schleusenvorrichtung zu verwenden. Das zu beschichtende Band kann mit einer solchen Vorrichtung nicht durch die Schlitzblende, schon gar nicht durch mehrere, hintereinander liegende Schlitzblenden hindurchgeführt werden.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung anzugeben, die es gestatten, auch extrem dünne Bänder beschädigungsfrei durch ein Schleusensystem hindurchzuführen, wobei gleichzeitig eine sehr wirksame Schleuseneinrichtung mit engen Schlitzblenden eingesetzt werden kann.
  • Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei dem eingangs angegebenen Verfahren erfindungsgemäß dadurch, daß das zu beschichtende Band innerhalb der Vakuumkammer über eine begrenzte Weglänge vom Trägerband abgehoben und auf der dem Trägerband zugekehrten Seite beschichtet wird.
  • Durch die angegebene Weise wird erreicht, daß die Schichtseite des Bandes nach der Herstellung der Beschichtung schlupffrei mit -dem Trägerband in Berührung kommt, wodurch das Trägerband die empfindliche Beschichtung auf der einen Seite und das Band selbst die Beschichtung auf der anderen Seite gegen eine Beschädigung wie Verkratzen etc. wirksam schützt. Auf diese Weise wird selbst bei niedrigen Investitions-und Betriebskosten der Vorrichtung ein hoch-wertiges Endprodukt erreicht.
  • Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei der weiter oben angegebenen Vorrichtung erfindungsgemäß durch Führungs-und Umlenkwalzen, welche innerhalb der Vakuumkammer an den Ecken eines Polygons in der Weise angeordnet sind, daß das Uber sie fUhrbare und zu beschichtende Band nach dem Abheben vom Trägerband in einer Schlaufe geführt ist sowie durch die Anordnung der Beschichtungsquelle innerhalb des Polygons. Eine solchermaßen ausgestaltete Vorrichtung schafft die Voraussetzungen für die erfindungsgemäße Verfahrensführung, durch die der angestrebte Erfolg eintritt.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann in der Weise vorteilhaft weiter ausgestaltet werden, daß eine der Führungs- und Umlenkwalzen oberhalb der Beschichtungsquelle angeordnet und als Kühlwalze ausgeführt ist, über deren unteren Teilumfang das Band während der Beschichtung führbar ist. Die betreffende Walze hat dabei zweckmäßig einen gegenüber den Ubrigen Walzen wesentlich vergrößerten Durchmesser. Hierdurch wird - vornehmlich beim Vakuumaufdampfen - ein günstiger Auftreffwinkel der Dampfpartikel auch im Randbereich des Dampfstromes erreicht und gleichzeitig die Verweilzeit des Bandes auf der Kühlwalze zum Zwecke einer verbesserten Wärmeabfuhr vergrößert.
  • Die vorgenannte Vorrichtung kann noch dadurch weiter ausgestaltet werden, daß die Beschichtungsquelle von einer weiteren Vakuumkammer umgeben ist, durch die das Band mittels einer weiteren Schleusenvorrichtung hindurchführbar ist. Auf die angegebene Weise kann mit einem verringerten Konstruktionsaufwand erreicht werden, daß das Vakuum im Bereich der Beschichtungszone bzw. Beschichtungsquelle noch weiter verbessert werden kann, was zu einer weiteren Qualitätsverbesserung des Endproduktes führt.
  • Eine besonders vorteilhafte Ausführungsform des Erfindungsgegenstandes ist weiterhin dadurch gekennzeichnet, daß die Schleusenvorrichtung als Druckstufenstrecke mit schlitzförmigen Blenden ausgeführt ist, und daß beide Trumms des Trägerbandes jeweils innerhalb einer Blende geführt sind.
  • Durch diese Maßnahme wird die Summe aller freien Querschnitte in den schlitzförmigen Blenden auf ein Minimum reduziert, wodurch die Wirksamteit der Schleusenvorrichtung gesteigert wird.
  • Weiterhin kann der Erfindungsgegenstand in der Weise weiter ausgestaltet werden, daß das Trägerband aus einem Isolierstoff besteht, daß zwischen den beiden Trumms des Trägerbandes eine Elektrode angeordnet ist, und daß die Beschichtung des Bandes als Gegenelektrode polbar ist. Durch die Anlegung einer entsprechenden Spannung zwischen der Elektrode und der Beschichtung des Bandes wird eine elektrostatische Anpressung erreicht, welche eine falten- und schlupffreie Führung des zu beschichtenden Bandes auf dem Trägerband fördert.
  • Ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes wird nachfolgend anhand der Figur näher erläutert.
  • Die Vorrichtung zur Beschichtung von Bändern besteht aus einer Vakuumkammer 1, der eine Schleusenvorrichtung 2 vorgeschaltet ist. Diese besteht aus einzelnen Schleusenkammern 3, 4 und 5, zwischen denen schlitzförmige Blenden 6 und 7 angeordnet sind. Eine analoge Blende 8 befindet sich am Eingang der Schleusenvorrichtung 2, eine weitere analoge Blende 9 ist in der zwischen der Schleusenkammer 5 und der Vakuumkammer 1 befindlichen Trennwand angeordnet. Die Schleusenkammern 3, 4 und 5 sind über Saugstutzen 10, 11 und 12 an nicht dargestellte Vakuumpumpen angeschlossen; die Vakuumkammer 1 ist über einen Saugstutzen 13 an einen weiteren, nicht dargestellten Pumpsatz angeschlossen, wobei die Auslegung der einzelnen Pumpsätze so getroffen ist, daß die Drücke P1, P2, P3 und P4 in der Reihenfolge ihrer Aufzählung abnehmen. Die Schleusenkammern 3, 4 und 5 bilden auf diese Weise eine soge- nannte Druckstufenstrecke, die das Eindringen von Luft in die Vakuumkammer 1 wirksam unterdrückt.
  • Außerhalb des Vakuums bzw. vor der Schleusenvorrichtung 2 befindet sich eine Umlenkwalze 14, innerhalb der Vakuumkammer 1 eine Umlenkwalze 15, wobei die Rotationsachsen der Umlenkwalzen 14 und 15 in etwa in einer Ebene liegen, die zwischen den schlitzförmigen Blenden 6, 7, 8 und 9 verläuft. Ober die Umlenkwalzen 14 und 15 ist durch die Schleusenvorrichtung 2 hindurch ein endloses Trägerband geführt.
  • Im Inneren der Vakuumkammer 1 befinden sich außer der Umlenkwalze 14 noch weitere Führungs- und Umlenkwalzen 17, 18, 19, 20 und 21, welche in der dargestellten Ansicht an den Ecken eines Polygons angeordnet sind. In der Nähe des Trägerbandes 16 sind zusätzliche Führungswalzen 22, 23 und 24 angeordnet, auf deren Funktion nachfolgend noch näher eingegangen wird.
  • Vor der Schleusenvorrichtung 2 ist eine Abwickelwalze 25 mit einer Rolle 26 des zu beschichtenuen Bandes 27 angeordnet, welches über eine Umlenkwalze 28 dem Trägerband 16 zugeführt wird, an welches es in der Nähe der Umlenkwalze 14 durch eine Führungswalze 24 angepreßt wird. Das Band 27 wird nun unter inniger, schlupffreier Berührung des Trägerbandes 16 durch die Schleusenvorrichtung 2 bzw.
  • durch die schlitzförmigen Blenden 6 bis 9 hindurch und in die Vakuumkammer 1 geführt. Unmittelbar hinter der Umlenkwalze 17 wird das Band 27 durch die Umlenkwalze 18 vom Trägerband 16 abgehoben und in Richtung des Pfeils 29 über die weiteren Umlenkwalzen 19, 20 und 21 geführt. Die Umlenkwalze 21 hat gegenüber den übrigen Umlenkwalzen 17 bis 20 einen mehrfach größeren Durchmesser und ist aufgrund von nicht gezeigten Kühlmittel anschlüssen als Kühlwalze ausgeführt. Von der Umlenkwalze 21 wird das Band 27 der Umlenkwalze 15 zugeführt, auf der es wieder auf das Trägerband 16 aufläuft. Die erforderliche Anpressung wird durch eine unter Federkraft stehende Anpreßwalze 30 erreicht. Die relative Lage der Umlenkwalzen 15, 20 und 21 ist dabei so getroffen, daß das Band 27 auf der Umlenkwalze 21 über einen Umschlingungswinkel von etwa 180 Grad geführt ist. Die vom Trägerband 16 abgehobene Weglänge des Bandes 27 bestimmt sich aus der jeweiligen Lage bzw. den Abständen der einzelnen Umlenkwalzen.
  • Unterhalb der als Kühlwalze ausgeführten Umlenkwalze 21 befindet sich eine Beschichtungsquelle 31, die im vorliegenden Falle als thermisch oder durch Elektronenstrahl beheizter Verdampfer ausgeführt ist. Die Beschichtungsquelle 31 erzeugt bei entsprechender Beheizung einen zur Umlenkwalze 21 gerichteten Dampfstrom, der durch gestrichelte Linien angedeutet ist. Durch die Kondensation dieses Dampfstromes wird auf der der Umlenkwalze 21 abgekehrten, nach unten gerichteten Oberfläche des Bandes 27 eine Schicht aus den verdampften Material erzeugt, die an dem Trägerband 16 zur Anlage kommt, sobald das Band 27 im Bereich der Umlenkwalze 15 auf das Trägerband 16 aufläuft. Zwischen den Umlenkwalzen 15 und 14 wird das Band 27 unter inniger Berührung des Trägerbandes 16 von diesem schlupffrei mitgenommen und nach dem Austritt aus der Schleusenvorrichtung 2 auf der Aufwickelwalze 32 zu einer Rolle 33 aufgewickelt. Der Aufwickelwalze 32 ist noch eine Führungswalze 34 vorgeschaltet, um eine Flatterneigung des Bandes 27 und/oder eine Faltenbildung zu unterdrücken. Zu dem gleichen Zweck sind auch die Führungswalzen 22 und 23 vorgesehen.
  • Von besonderer Bedeutung bei der Führung des Bandes 27 ist noch die Tatsache, daß die beschichtete Seite des Bandes 27 eine möglichst geringe Zahl von Führungs- oder Umlenkwalzen berührt. Dieser Forderung wird durch die angegebene Bewegungsrichtung Rechnung getragen. Nach Verlassen der gekühlten Führungswalze 21 läuft das Band 27 mit seiner beschichteten Seite unmittelbar auf das Trägerband 16 auf, mit dem es aus der Vakuumkammer 1 heraus und durch die Schleusenvorrichtung 2 hindurchgeführt wird. Eine umgekehrte Bewegungsrichtung wäre weit weniger vorteilhaft, weil die beschichtete Seite des Bandes 27 dann um sämtliche Ecken des Polygons geführt werden müßte.
  • Das Trägerband 16 besitzt ein oberes und ein unteres Trumm, die beide durch die gleichen schlitzförmigen Blenden 6 bis 9 hindurchgeführt sind, wodurch der freie Querschnitt dieser Blenden auf ein Minimum reduziert werden kann. Zwischen den beiden Trumms des Trägerbandes 16 befindet sich eine an Masse gelegte.Elektrode 35, die als perforiertes Blech ausgebildet ist. Um eine elektrostatische Anpressung des Bandes 27 an das Trägerband 16 zu erreichen, wird durch eine nicht dargestellte Kontaktvorrichtung die (leitfähige) Beschichtung des Bandes 27 als Gegenelektrode zur Elektrode 35 gepolt, wobei eine für eine Anpressung ausreichende Gleichspannung verwendet wird.
  • Mindestens ein Teil der gekühlten Umlenkwalze 21 sowie die Beschichtungsquelle 31 sind von einer weiteren Vakuumkammer 36 umgeben, in der über einen nicht dargestellten Saugstutzen ein Druck P5 erzeugt werden kann, der wiederum niedriger ist als der Druck P4 in der Vakuumkammer 1. Im vorliegenden Fall ist die Umlenkwalze 21 unter Freilassung sehr enger Spalte so in die Vakuumkammer 36 eingesetzt, daß zwischen der Umlenkwalze 21 und den benachbarten Kanten der Vakuumkammer 36 eine weitere Schleusenvorrichtung 37 gebildet wird. Leerseite

Claims (7)

  1. Ansprüche: 1, Verfahren zum Beschichten von Bändern in einer Vakuumkammer unter Verwendung eines endlosen Trägerbandes, welches das zu beschichtende Band auf dem Wege von einer Abwickelwalze zu einer Aufwickelwalze mindestens auf dem Wege durch eine Schleusenvorrichtung der Vakuumkammer begleitet, wobei das zu beschichtende Band sowohl am einlaufenden als auch am auslaufenden Trumm des Trägerbandes schlupffrei anliegend gehalten wird, dadurch gekennzeichnet, daß das zu beschichtende Band (27) innerhalb der Vakuumkammer (1) über eine begrenzte Weglänge vom Trägerband (16) abgehoben und auf der dem Trägerband zugekehrten Seite beschichtet wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der vom Trägerband (16) abgehobene Teil des Bandes (27) in einer Schlaufe um eine Beschichtungsquelle (31) herumgeführt wird.
  3. 3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 bestehend aus einer Vakuumkammer mit einer Schleusenvorrichtung und je einer außerhalb der Vakuumkammer angeordneten Ab- und Aufwickelwalze, aus je einer innerhalb und außerhalb der Vakuumkammer angeordneten Umlenkwalze, über die ein endloses Trägerband durch die Schleusenvorrichtung geführt ist, wobei Einrichtungen für die schlupffreie Anpressung des zu beschichtenden Bandes an das Trägerband vorgesehen sind, sowie aus einer Beschichtungsquelle für das Band, gekennzeichnet durch Führungs-und Umlenkwalzen (18, 19, 20, 21), welche innerhalb der Vakuumkammer (1) an den Ecken eines Polygons in der Weise angeordnet sind, daß das Uber sie führbare zu beschichtende Band (27) nach dem Abheben vom Trägerband (16) in einer Schlaufe geführt ist, und durch die Anordnung der Beschichtungsquelle (31) innerhalb des Polygons.
  4. 4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine der Führungs- und Umlenkwalzen (18, 19, 20, 21) oberhalb der Beschichtungsquelle (31) angeordnet und als Kühlwalze ausgeführt ist, über deren unteren Teilumfang das Band (27) während der Beschichtung führbar ist.
  5. 5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsquelle (31) von einer weiteren Vakuumkammer (36) umgeben ist, durch die das Band (27) mittels einer weiteren Schleusenvorrichtung (37) hindurchführbar ist.
  6. 6. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schleusenvorrichtung (2) als Druckstufenstrecke (3, 4, 5) mit schlitzförmigen Blenden (6, 7, 8, 9) ausgeführt ist und daß beide Trumms des Trägerbandes (16) jeweils innerhalb einer Blende geführt sind.
  7. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägerband (16) aus einem Isolierstoff besteht, daß zwischen den beiden Trumms eine Elektrode (35) angeordnet ist und daß die Beschichtung des Bandes (27) als Gegenelektrode pol bar ist, so daß das Band an das Trägerband (16) elektrostatisch anpreßbar ist.
DE19772747061 1977-10-20 1977-10-20 Verfahren und vorrichtung zum beschichten von baendern in vakuumanlagen mit schleuseneinrichtungen Withdrawn DE2747061A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19772747061 DE2747061A1 (de) 1977-10-20 1977-10-20 Verfahren und vorrichtung zum beschichten von baendern in vakuumanlagen mit schleuseneinrichtungen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19772747061 DE2747061A1 (de) 1977-10-20 1977-10-20 Verfahren und vorrichtung zum beschichten von baendern in vakuumanlagen mit schleuseneinrichtungen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2747061A1 true DE2747061A1 (de) 1979-04-26

Family

ID=6021827

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19772747061 Withdrawn DE2747061A1 (de) 1977-10-20 1977-10-20 Verfahren und vorrichtung zum beschichten von baendern in vakuumanlagen mit schleuseneinrichtungen

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE2747061A1 (de)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3116732A1 (de) * 1980-04-30 1982-02-04 Kabushiki Kaisha Tokuda Seisakusho, Zama, Kanagawa "mit hochfrequenzentladung arbeitende zerstaeubungsaetzvorrichtung"
DE3210351A1 (de) * 1982-03-20 1983-09-22 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren und vorrichtung zum herstellen von magnetischen aufzeichnungsschichten
US4612206A (en) * 1984-06-04 1986-09-16 Nisshin Steel Company, Ltd. Method of controlling deposition amount distribution in a vacuum deposition plating
US4676999A (en) * 1984-09-17 1987-06-30 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Method for vacuum deposition plating steel strip
US5000114A (en) * 1988-04-11 1991-03-19 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Continuous vacuum vapor deposition system having reduced pressure sub-chambers separated by seal devices
WO1998035773A1 (de) * 1997-02-14 1998-08-20 Voest-Alpine Industrieanlagenbau Gmbh Verfahren zum verhindern des kontaktes von sauerstoff mit einer metallschmelze
DE19912707A1 (de) * 1999-03-20 2000-09-21 Leybold Systems Gmbh Behandlungsanlage für flache Substrate
DE19844357C2 (de) * 1998-09-28 2001-04-05 Hilmar Weinert Bandbedampfungsanlage und Verfahren zur Herstellung von planparallelen Plättchen
WO2009024460A3 (en) * 2007-08-20 2009-05-07 Novogenio S L System and process for the continous vacuum coating of a material in web form
DE102008007629A1 (de) 2008-02-04 2009-08-06 Krones Ag Schleusenvorrichtung zum Ein- und Ausbringen von Behältern in und aus einer Vakuumbehandlungskammer
CN104862662A (zh) * 2015-05-19 2015-08-26 广东世创金属科技股份有限公司 多功能连续式真空等离子体镀膜系统
DE102014105747A1 (de) * 2014-04-23 2015-10-29 Uwe Beier Modulare Vorrichtung zum Bearbeiten von flexiblen Substraten
EP4403254A1 (de) * 2023-01-18 2024-07-24 SMS Group GmbH Schleusenvorrichtung und verfahren zu deren betrieb

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3116732A1 (de) * 1980-04-30 1982-02-04 Kabushiki Kaisha Tokuda Seisakusho, Zama, Kanagawa "mit hochfrequenzentladung arbeitende zerstaeubungsaetzvorrichtung"
DE3210351A1 (de) * 1982-03-20 1983-09-22 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren und vorrichtung zum herstellen von magnetischen aufzeichnungsschichten
US4612206A (en) * 1984-06-04 1986-09-16 Nisshin Steel Company, Ltd. Method of controlling deposition amount distribution in a vacuum deposition plating
US4676999A (en) * 1984-09-17 1987-06-30 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Method for vacuum deposition plating steel strip
US5000114A (en) * 1988-04-11 1991-03-19 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Continuous vacuum vapor deposition system having reduced pressure sub-chambers separated by seal devices
WO1998035773A1 (de) * 1997-02-14 1998-08-20 Voest-Alpine Industrieanlagenbau Gmbh Verfahren zum verhindern des kontaktes von sauerstoff mit einer metallschmelze
US6415849B1 (en) 1997-02-14 2002-07-09 Voest-Alpine Industrieanlagenbau Gmbh How to avoid contact between oxygen and molten metal
DE19844357C2 (de) * 1998-09-28 2001-04-05 Hilmar Weinert Bandbedampfungsanlage und Verfahren zur Herstellung von planparallelen Plättchen
US6270840B1 (en) 1998-09-28 2001-08-07 Weinert Vakuum Verfahrenstechnik Gmbh Apparatus and method for producing plane-parallel flakes
DE19912707B4 (de) * 1999-03-20 2010-01-21 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Behandlungsanlage für flache Substrate
DE19912707A1 (de) * 1999-03-20 2000-09-21 Leybold Systems Gmbh Behandlungsanlage für flache Substrate
WO2009024460A3 (en) * 2007-08-20 2009-05-07 Novogenio S L System and process for the continous vacuum coating of a material in web form
ES2336870A1 (es) * 2007-08-20 2010-04-16 Novogenio, S.L. Sistema y procedimiento para el recubrimiento en vacio y en continuo de un material en forma de banda.
WO2009097888A1 (de) 2008-02-04 2009-08-13 Krones Ag Schleusenvorrichtung zum ein- und ausbringen von behältern in und aus einer vakuumbehandlungskammer
DE102008007629A1 (de) 2008-02-04 2009-08-06 Krones Ag Schleusenvorrichtung zum Ein- und Ausbringen von Behältern in und aus einer Vakuumbehandlungskammer
US8602708B2 (en) 2008-02-04 2013-12-10 Krones Ag Lock device for adding and removing containers to and from a vacuum treatment chamber
DE102014105747A1 (de) * 2014-04-23 2015-10-29 Uwe Beier Modulare Vorrichtung zum Bearbeiten von flexiblen Substraten
DE102014105747B4 (de) 2014-04-23 2024-02-22 Uwe Beier Modulare Vorrichtung zum Bearbeiten von flexiblen Substraten
CN104862662A (zh) * 2015-05-19 2015-08-26 广东世创金属科技股份有限公司 多功能连续式真空等离子体镀膜系统
EP4403254A1 (de) * 2023-01-18 2024-07-24 SMS Group GmbH Schleusenvorrichtung und verfahren zu deren betrieb

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE68909988T2 (de) Vorrichtung zur kontinuierlichen Vacuumbeschichtung.
DE2643003C2 (de)
DE2747061A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum beschichten von baendern in vakuumanlagen mit schleuseneinrichtungen
DE3214396A1 (de) Vorrichtung zum aufwickeln einer bahn, wie papierbahn
DE2411238A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur fuehrung des anfanges einer materialbahn
DE10157186C1 (de) Vakuumbeschichtungsanlage zum Beschichten von bandförmigen Material
DE2825102C2 (de) Vorschubvorrichtung für eine Etiketten- Trägerbahn
DE3738722C2 (de) Vorrichtung zum beidseitigen Beschichten von Bändern
DE1009883B (de) Hochvakuumbedampfungsanlage
DE3036794C2 (de) Fördervorrichtung für Band- und Folienmaterial für Bandbearbeitungsmaschinen
DE102014113036A1 (de) Anordnung und Verfahren zur Beschichtung eines bandförmigen Substrats
DE2141723B2 (de) Vakuum-bedampfungsanlage zur kontinuierlichen bedampfung von baendern
DE1285484B (de) Zufuehrungseinrichtung zum vereinzelten Zufuehren des jeweils ersten Bogens od. dgl.eines Stapels
DE19838975C2 (de) Pneumatische Bogenführungseinrichtung in einer Druckmaschine
DE2246711C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen Fixieren einer durch eine Schußfadenrichtvorrichtung hindurchgeführten Textilbahn
DE102013107690B4 (de) Bandsubstratbehandlungsanlage
DE3437245C2 (de) Entwicklungsmaschine für fotographische Filme und/oder Papiere
DE2231685A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum ueberziehen von metallischem bandmaterial
DE2408564C3 (de) Schalenförmige, mit losen Röllchen besetzte Umführung für Flachmaterial aus Metall
DE1279426B (de) Bandbedampfungsvorrichtung
DE10103937A1 (de) Wickelspeicher zur Speicherung blattförmiger Gegenstände
DE3729450A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum beiderseitigen beschichten eines folienbandes
DE102014115386B4 (de) Vakuum-Substratbehandlungsanlage
DE3327027C1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Einwickeln einer Lage eines Bandes aus Schutzmaterial beim Aufwickeln eines Metallbandes zu einem Bund
DE102006027059B4 (de) Verwendung einer Vorrichtung zur elektrischen Entladung von Kunststofffolien im Vakuum beim Ab- und Aufwickeln von oder auf Rollen

Legal Events

Date Code Title Description
OAM Search report available
OC Search report available
8139 Disposal/non-payment of the annual fee