DE2448023B2

DE2448023B2 - Vorrichtung zum bedampfen von werkstuecken mit duennen filmen

Info

Publication number: DE2448023B2
Application number: DE19742448023
Authority: DE
Inventors: Richard G. Poughquag; Wahl Richard Fishkill; N.Y. Christensen (V.StA.)
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: International Business Machines Corp
Priority date: 1973-12-03
Filing date: 1974-10-09
Publication date: 1976-11-04
Also published as: CA1035255A; GB1474927A; CH606479A5; NL7415450A; JPS5087576A; SE397435B; ES432508A1; JPS5325718B2; SE7414445L; FR2253270B1; US3853091A; IT1022786B; DE2448023A1; FR2253270A1

Description

gnrichtungen vorgesehen werden, mit deren Hilfe die liege! wirksam und rasch gegen die zu beschichtenden plättchen abgeschirmt werden können.

Vor allen Dingen soll die neue Vonichtung so aufgebaut sein, daß sie eine gleichförmige Aufheizung J der zu beschichtenden Plättchen von deren Rückseite fcer ermöglicht, so daß damit das Anhaften des Beschichtungsmaterials an der unregelmäßigen Oberfläche der Plättchen unterstützt wird.

Die Erfindung wird nunmehr anhand eines Ausfüh- ία rungsbeispiels in Verbindung mit den Zeichnungen im einzelnen erläutert. Die unter Schutz zu stellenden Merkmale sind den ebenfalls beigefügten Patentansprüchen im einzelnen zu entnehmen.

In den Zeichnungen zeigt _I$

Fig. 1 eine perspektivische Teilansicht einer Vorrichtung gemäß der Erfindung,

Fig.2 eine vergrößerte TeilschnittanMcht der in Fig· I dargestellten Vorrichtung,

F i g. 3 eine vergrößerte Teildraufsicht längs der Linie 3-3 in F i g. 2,

Fig.4 eine vergrößerte Teildraufsicht auf einen Teil der F i g. 3 und

Fig.5 eine Teilschnittansicht längs der Linie 5-5 in Fig.4.

In Fig. 1 ist eine Vorrichtung 10 zum Aufbringen dünner Filme auf dünnen Gegenständen oder Werkstücken, wie z. B. Halbleiterplättchen. dargestellt. Die Vorrichtung enthält eine übliche Vakuumkammer uder eine Vakuumglocke 11, innerhalb der sich eine gemäß der Erfindung aufgebaute Vorrichtung selbst befindet. Die Vakuum-Glocke 11 ist mit einer (nicht dargestellten) Vakuumquelle verbunden und kann auf ein hohes Vakuum ausgepumpt werden.

Die Vorrichtui.g 12 ist auf einer Grundplatte 13 befestigt und enthält eine drehbare Plattform 15, die in der bevorzugten Ausführungsform waagrecht liegt und eine Anzahl von rotierbar befestigten Tellern oder Scheiben 25 enthält, die auf der Plattform und in deren Ebene angebracht sind. Jede der Scheiben 25 enthält eine Anzahl drehbar angeordneter Objektträger oder Halterungen für Plättchen, die im dargestellten Beispiel Halbleiterplättchen sind und enthält noch zu beschreibende Mittel, mit deren Hilfe das HalbleiterpläUchen so gehalten werden kann, daß eine Oberfläche nach unten weisend frei liegt. Unterhalb der Plattform 15 ist ein Behälter für das Quellenmaterial angeordnet. Im dargestellten Ausführungsbeispiel sind dies drei Tiegelchen 45, 46 und 47, die radial mit Abstand um eine senkrecht zur Plattform 15 verlaufende Achse angeordnet sind. Eine Antriebsvorrichtung 55 (F i g. 2) dient zum Antrieb für die Rotation der Plattform 15, der Teller oder Scheiben 25 und der Halterungen 35 in der gleichen Ebene, so daß die Plättchen in bezug auf die das Beschichtungsmaterial enthaltenden Tiegelchen oder deren Achsen verschiedene Winkel durchlaufen. Oberhalb der Plattform 15 ist eine Aufheizvorrichtung 75 in unmittelbarer Nachbarschaft der Plattform und parallel zu dieser zum Aufheizen der Rückseite der Werkstücke angeordnet

Die Plattform wird für einen Rotationsantrieb um eine Mittelachse durch eine Anzahl von einstellbaren, teleskopisch ausziehbaren und feststellbaren Stempeln 16 getragen, die um die Plattform herum mit Abstand angeordnet und auf einen Antriebsring 18 beispielsweise durch Haltelaschen 16Λ, befestigt sind. Die Stempel 16 sind in üblicher Weise einstellbar, beispielsweise rliirnh Zanfen 16£>und Bohrungen 16C₁ so daß die Höhe

der Plattform über den das Quellmaierial enthaltenden Tiegelchen je nach der gewünschten Operation einstellbar ist.

Zum Antrieb des Antriebsrings 18 ist die Antriebsvorrichtung 55 in Reibungseingriff mit dem Antriebsring, so daß sich dieser um die Mittelachse der Vorrichtung, d. h. im wesentlichen senkrecht zur Ebene der Plattform 15 dreht. Zu diesem Zweck ist eine Welle 56 mit einem kegelstumpfförmigen, mit einer glatten Oberfläche versehenen Antriebsrad 57 verbunden, das mit einer entsprechenden, unter einem komplementären Winkel abgeschrägten Oberfläche 58 am inneren Umfang des Antriebsrings 18 in Eingriff ist. Die Welle 56 enthält entsprechende Drucklager 59, die das Gewicht der ganzen Konstruktion aufnehmen können, und es sind außerdem noch zwei, um jeweils 120° versetzte Laufrollen 60 vorgesehen, die ähnliche, kegelstumpfförmige, glatte Oberflächen aufweisen und die zusammen mit dem Hauptantrieb den Antnebsring 18 abstützen. Die Laufrollen 60 sind auf Stehlagern 61 drehbar gelagert, die auf der Grundplatte 13 angebracht sind.

Die Teller oder Scheiben 25 sind in oder auf der Plattform 15 drehbar befestigt, wobei Plattform und Teller bzw. Scheiben 25 als Abschirmung dienen, w ie dies noch im einzelnen erläutert wird und das Quellenmaterial gegen die Heizvorrichtung 75 abschirmen, die auf der Rückseite der Plattform angeordnet ist. Die Plattform 15 besteht daher aus einer Anzahl von Segmenten 19. wobei jedes Segment einen Teller 25 und radial sich erstreckende Dehnungsfugen 20 aufweist, wobei eine umgebördelte Kante 21 von einer U-förmig umgebogenen Kante des Nachbarsegmentes 19 umfaßt wird, so daß das Qucllenmaterial gegen die Aufheizvorrichtung 75 abgeschirmt ist, während sich die metallischen Segmente trotzdem ausdehnen und zusammenziehen können. Die Dehnungsfugen 20 sind an Befestigungslaschen 22 befestigt, die wiederum ihrerseits an den Platlformring 23 befestigt sind. Die Teller 25 sind wiederum in einem Ausschnitt 26 in jedem Segment 19 an einem Tragarm 27 befestigt, dessen eines Ende wiederum am Plattformring 23 angebracht ist und dessen anderes Ende eine Lagerbuchse 28 und eine Welle 29 enthält, wobei das untere Ende der Welle 29 starr mit dem Teller 25 verbunden ist, während am oberen Ende der Welle 29 ein Zahnrad 30 befestigt ist. Zwischen Buchse 28 und Teller 25 ist ein größeres Zahnrad 31 an der Welle 29 befestigt. Ein Zahnrad 32 ist auf einer Welle 33 befestigt, die den Plaltformring 23 durchsetzt, wobei das antreibende Zahnrad 32 mit dem angetriebenen Zahnrad 33 über einen Antriebsriemen 34 wirkungsmäßig verbunden ist.

Für einen Antrieb der Teller 25 sind die Wellen 33 über Kugelgelenkverbindungen 34 mit Antriebswellen 62 einstellbarer Länge (vergl. Fig.2) verbunden. Ein zweites Kugelgelenk 63 verbindet die Antriebswelle 62 mit einem Achsstumpf 64, der im Antriebsring 18 in einem Lager 65 drehbar gelagert ist. Wie man am besten aus F i g. 2 erkennt, ist der Achsstumpf 64 an seinem unteren Ende an einem Zahnrad 66 befestigt, das mit einem auf der Innenseite mit Zähnen versehenen Ring 67 in Eingriff ist, der über Bolzen 68 starr mit der Grundplatte 13 verbunden ist. Wenn also der Anlriebsring 18 gedreht wird, dann werden die leer mitlaufenden Zahnräder 66 durch die feststehenden Zähne des Zahnringes 67 in Drehung versetzt, so daü sich auch die Antriebswellen 62 drehen, wodurch dann eine Drehung der Teller 25 in der Plattform bewirkt wird.

Um eine weitere Drehung der Plättchen sicherzustel-

len, sind Mittel vorgesehen, mit deren Hilfe die Plättchenhalterungen 35 selbst noch gedreht werden können, die ein Plättchen in einer Lage zu halten vermögen, in der eine Hauptfläche des Plättchens den Tiegelchen 45, 46 und 47 mit dem Quellenmaterial gegenüberliegt. Wie aus F i g. 3, 4 und 5 zu erkennen, weisen die Plättchenhalterungen 35 eine Buchse auf, die unten innen eine sich am Umfang rund herum erstreckende Kante 36 und eine Haltevorrichtung 37 für die Plättchen aufweisen, die der Halterung eines Plätlchens oder Werkstückes 40 an der Unterseite der Buchse gegen die rund umlaufende Kante in der Weise dient, daß die unten liegende Oberfläche 4OA des Plättchens dem Quellenmaterial ausgesetzt ist. Zum Halten des Plättchens 40 ist eine Anzahl von Haltefeöern 37A, 37 B und 37C vorgesehen, die jeweils einen nach innen abgebogenen Lasche 38 aufweisen, die oberhalb der umlaufenden Kante 36 der Buchse 35 liegt, das Plättchen 40 ergreift und das Plättchen gegen die umlaufende Kante 36 andrückt. Die Lasche 38 der Haltefeder erstreckt sich durch die umlaufende Kante 36 der Buchse in den Innenraum der Buchse und verbreitert sich dort spatenartig, wie dies bei 38Λ dargestellt ist. Ein Federarm 39, der jeder der Haltefedern zugeordnet ist, spannt den vergrößerten, spatenartigen Abschnitt 38/4 gegen die Wand der Buchse und drückt damit die Lasche gegen den Umfang des plättchenartigen Werkstückes 40 an. Will man nun das Plättchen herausnehmen, dann läßt sich der spatenförmige Abschnitt 38,4 von der Wand weg abdrücken und gibt das Plättchen frei.

Für eine gleichförmige Aufheizung des Werkstückes durch die Heizvorrichtung 75, die oberhalb der Plattform 15 angeordnet ist. ist eine Scheibe 41 aus wärmcleitfähigem Material zwischen Plättchen und Heizvorrichtung vorgesehen. Die Abmessungen der Scheibe 41 sind so gewählt, daß sie innerhalb der Schale

35 gegen die innere Oberfläche der umlaufenden Kante

36 in unmittelbarer Nachbarschaft des Plättchens 40 liegt. Bei der bevorzugten Ausführungsform wurde festgestellt, daß sich ein Material, wie z. B. Kupfer, relativ rasch auf eine gleichmäßige Temperatur aufheizt und somit ein relativ billiges und doch ausgezeichnetes Medium für die Wärmeübertragung darstellt und damit eine gleichförmige Aufheizung des Halbleiterplättchens sicherstellt.

Für den Antrieb der Buchse 35. die sich damit nicht nur mit dem Teller 25. sondern auch um ihre eigene Mittelachse dreht ist dei Rand der Buchse 35 mit einer Anzahl von Zähnen 42 versehen, die mit den Zähnen des Zahnrades 31 in Eingriff sind, so daß bei Drehung des Zahnrades 31 die im Eingriff mit dem Zahnrad befindlichen Zähne 42 der Buchse eine Drehung dieser Buchsen um ihre Mittelachse bewirken. Wie dargestellt, können die Buchsen 35 in einer Anzahl von mit einer Schulter versehenen Ausschnitten 42* in dem Teller 25 eingebettet sein und durch senkrecht angeordnete Stifte zur Sichersteüung einer Rotation der Buchsen gehalten werden, wobei sich die Stifte 43 von dem Teuer aus nach oben erstrecken und mit der Seitenwand der Halterung in Eingriff sind. Die mit Schultern versehenen Ausschnitte 42 verhindern außerdem, daß das verdampfte Queflenmaterial auf der Heizvorrichtung 75 auftrifft.

Für den Fall, daß die Oberfläche des Plättchens möglichst weitgehend und gleichförmig beschichtet werden soll and daß auch die Unterschneidungen in den Vertiefungen der Oberfläche des Plättchens mit einem Überzug versehen werden sollen, sollte eine Anzahl von solchen Quellen, wie die Tiegelchen 45, 46, 47, die von der Mittelachse der Plattform aus einen radialen Abstand aufweisen, vorgesehen sein. Wie am besten aus Fig. 1 zu erkennen ist, sind die das Quellenmaterial enthallenden Tiegelchen 45 bis 47 jeweils auf einem Bolzen 48 an einer gemeinsamen !eilenden Platte 49 befestigt, die Kohleelekiroden 50 und 51 miteinander verbinden. Isolatoren 52, die der Durchführung von

ίο Leitungen dienen, sind auf der gemeinsamen Platte 49 mit den Kohleelektroden angeordnet die dazu dienen, das Quellenmaterial in den Tiegelchen innerhalb der Abschirmungen 48,4 usw. aufzuheizen. Es sollte darauf hingewiesen werden, daß das Quellenmaterial selbstver-

ij ständlich auch auf andere, übliche Weise durch Niederfrequenz oder Hochfrequenzinduktionsheizung oder selbst durch Elektronenstrahl-Aufheizung erwärmt werden kann, was von der Art des Quellenmaterials abhängt. Die hier dargestellte Widerstandsheizung ist

ίο für den Betrieb der bisher beschriebenen Vorrichtung nicht kritisch.

Gennß einem Merkmal der Erfindung sind Abschirmungen vorgesehen, mit denen die Plättchen wahlweise gegen die das Quellenmaterial enthaltenden Tiegclchen abgeschirmt werden können, so daß sie nur wahlweise dem Quellenmaterial ausgesetzt werden können. Zu diesem Zweck ist eine in der Brennpunktebene angeordnete Verschlußeinrichtung zwischen den das Quellenmatcrial enthaltenden Tiegelchen und den Halterungen für die Plättchen eingeschaltet, wobei die Verschlußeinrichtung zwischen einer ersten Stellung, in der die das Quellenmaterial enthaltenden Tiegelchcn von den Halterungen für die Plättchen abgeschirmt Mnd und einer zweiten Stellung, in der eine Sichtverbindung zwischen dem Quellenmaterial in den Tiegelchen und den Halterungen für die Plättchen besteht, bewegt werden können. Wie gezeigt, besteht die Verschlußeinrichtung aus einer Anzahl von Platten, die im vorliegenden Fall mit 81, 82 und 83 bezeichnet sind.

wobei die Platten im allgemeinen kreisringsekto^rförmig ausgestaltet sind und über radial sich erstreckende Arme 85. die an einer Nabe 86 befestigt sind, an einer in der Mitte liegenden Welle 87, angebracht sind. Die Welle 87. an der die Nabe 86 befestigt ist. erstreckt sich durch eine Lagerbüchse 88, die in einer Stütze 89 befestigt ist. die ihrerseits wieder über Arme 90 an Bolzen 91 angebracht sind, die an der Grundplatte 13 befestigt sind. Zum Drehen der Verschlußeinrichtung zwischen ihrer Stellung, in der das Quellenmateria!

gegen die Plättchen abgeschirmt ist und einer Stellung in der eine Sichtverbindung zwischen den Plättchenhai terungen und den Tiegelchen für das Quellenmateria besteht, ist die Welle 87 über eine Stütze 89 mit einei Antriebsplatte 92 verbunden, die eine Anzahl vot Zapfen 93 aufweist die nach unten herausragen und mi einer Klaue 94 in Eingriff zu kommen vermögen, du wiederum über einen Arm 95 mit einer Schaltwelle 9( verbunden ist. Die Klaue 94 kann über die Schaltwelli 96 durch elektromagnetische oder hydraulische Mitte

betätigt werden, so daß die Klaue mit den Zapfen 93 ii Eingriff kommt und eine Rotation der Antriebsplatte 9 bewirkt.

Wenn bei Vertiefungen in dem Werkstück ein möglichst große und weitgehende Beschichtung ei wünscht wird, dann liegt der Maximalwinkel de Quellenmaterials in bezug auf die rotinenden Plättche dann vor, wenn die Plattform 15 sich in unmittelbare Nachbarschaft der Tiegelchen 45.46 und 47 befindet, s

daß damit die Unterschneidungen in der Oberfläche des Plättchens dem Quellenmaterial weitestgehend ausgesetzt sind. Wenn man jedoch eine Ablösung durchführen möchte, d. h., wenn nur eine Oberfläche einer Vertiefung oder eine freiliegende Fläche mit einem Überzug versehen werden soll, damit später eine dünne Schicht abgelöst werden kann, und wenn das niedergeschlagene Metall oder andere Material sich auf der Bodenfläche der Ausnehmung oder Vertiefung in dem Halbleiterplättchen befindet, dann sollte die Plattform 15 möglichst weit entfernt sein von den das Quellmaterial

enthaltenden Behältern. Zu diesem Zweck können die Stempel 16 und die Antriebswellen 62, da sie einstellbar sind, so ausgezogen werden, daß die Halterungen für die Plättchen möglichst weit von den Behältern mit dem Quellenmaterial entfernt sind. Wenn die senkrechter Wände von Ausschnitten oder Vertiefungen in dem Plättchen möglichst wenig beschichtet werden sollen wird man nur einen Behälter für das Quellenmaterial ir der Mitte und eine entsprechende, in der Mitte angeordnete Verschlußeinrichtung benutzen.

Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Vorrichtung zum Bedampfen von Werkstücken bei gleichzeitiger Rotation dieser Werkstücke um drei Achsen und mit unterhalb der Werkstücke angeordneten Quellen für das aufzubringende Material, dadurch gekennzeichnet, daß die Rotationsachsen der Werkstücke zueinander parallel sind, die durch die Werkstücke beschriebene Rotationsebenen in einer horizontalen Ebene liegen und der Abstand der Werkstücke von der Quelle veränderbar ist

2. Vorrichtung nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß eine praktisch waagrecht angeordnete drehbare Plattform (15) und eine Anzahl auf dieser Plattform angebrachter, in der Ebene der Plattform auf Abstand liegender, drehbarer Teller (25) vorgesehen sind, daß jeder Teller (25) eine Anzahl drehbar angeordneter Halterungen (35, 36 bis 39) für die Werkstücke (40) aufweist, daß ferner eine Anzahl Behälter (45,46,47) für Quellenmaterial radial mit Abstand um eine zu der Plattform (15) senkrecht verlaufende Achse angeordnet sind und daß die Plattform (15), die Teller (25) und die Halterungen für eine gleichzeitige Drehung in der Ebene der Plattform antreibbar sind.

3. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Aufheizung der Werkstücke auf der den Behältern (45, 46, 47) mit dem Quellenmaterial abgewandten Seite der Plattform (15) eine Heizvorrichtung (75) vorgesehen ist.

4. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß in der Brennpunktebene zwischen den Behältern (45, 46, 47) für das Quellenmaterial und den Halterungen für die Werkstücke eine Verschlußeinrichtung (80) vorgesehen ist, die der wahlweisen Abdeckung bzw. Freigabe der Sichtverbindung zwischen Quellenmaterial und Werkstückoberfläche dient.

5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Halterungen für das Werkstück eine Büchse (35) mit einer unten und innen rundum verlaufenden Kante (36) aufweisen, an der Haltemittel (37) zur Aufnahme und Halterung des Werkstückes (40) angebracht sind.

6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine Anzahl von Hallefedern (37A, 37B, 37C) mit radial überstehenden Laschen (38) vorgesehen ist, und daß mit der Lasche (38) ein Federarm (39) verbunden ist, der an einem verbreiterten Abschnitt (38Λ) der Lasche (38) innerhalb der Büchse (35) mit Vorspannung anliegt und die Lasche an das Werkstück anpreßt.

7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß oberhalb des Werkstückes (40) innerhalb der Büchse (35) eine herausnehmbare, aus gut wärmeleitendem Material bestehende Scheibe (41) angeordnet ist, die der gleichmäßigen Aufheizung des Werkstückes dient.

8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß am oberen Rand jeder Büchse (35) ein Zahnkreuz (42) angeordnet ist, daß auf dem Teller (25) ein Antriebszahnrad oder Ritzel (32) vorgesehen ist und daß die einzelnen Büchsen (35) eines Tellers (25) über einen Zahnriemen (34), ein Zahnrad (30) und einem auf der gleichen Achse (29) befestigtes Zahnrad (31) drehbar sind.

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Bedampfen von einer Anzahl dünner, plättchenartiger Werkstücke mit dünnen Filmen, bei welcher sichergestellt ist, daß unregelmäßige Oberflächen z. B. eines Halbleiterplättchens gleichförmig bedampft werden, indem in Verbindung mit einer komplexen Bewegung das Plättchen nur in einer einzigen Rotationsebene bewegt wird, wobei dann je nach Art des Endprodukts eine oder mehrere Quellen für das aufzubringende Material vorgesehen sind.

Der Gedanke, auf unregelmäßige Oberflächen von Halbleiterplättchen während eines Beschichtungsvor- ganges einen gleichförmigen Überzug oder eine gleichförmige Beschichtung zu erzielen, indem man

diesen Plättchen eine komplexe Bewegung erteilt ist im Stand der Technik eindeutig bekannt. Beispielsweise zeigt die US-Patentschrift 35 98 083 eine Vorrichtung zum Aufbringen eines dünnen Filmes, mit drei Freiheitsgraden der Bewegung oder Rotation, wobei die

ίο Mittelachse der mit einem Überzug zu versehenden Substrate oder Werkstücke gegen die Achse des das Überzugsmutenal enthaltenden Tiegels geneigt ist. Mit einer solchen Vorrichtung kann man einen relativ gleichförmigen Überzug erzielen, verglichen mit Vorrichtungen, die nur eine einfache oder doppelte Rotation aufweisen, wie dies z. B. in der DT-OS 20 53 802 rein schematisch gezeigt ist. Dieser bekannte Vorschlag eignet sich nicht für die gleichmäßige Bedampfung ungleichmäßiger Oberflächen mit Unterschneidungen und zeigt keine konstruktive Lösung einer für den rauhen Fertigungsbetrieb geeigneten Bedampfungsvorrichtung. Es wurde jedoch festgestellt, daß es schwierig, wenn nicht gar unmöglich ist, eine gleichförmige Beschichtung bei bestimmten Oberflächenformen

mit Vertiefungen zu erzielen, wenn diese Vertiefungen Unterschneidungen enthalten und wenn es erforderlich ist, daß die aufzubringende Schicht sich gleichförmig über die oberste Oberfläche des Plättchens erstreckt und auch die Unterschneidung und die Bodenfläche der Vertiefung bedeckt Andererseits wurde festgestellt, daß dann, wenn nur der Boden einer solchen Vertiefung mit einem Überzug versehen werden soll, so daß ein auf der Oberfläche befindlicher Überzug entfernt werden kann, ohne daß dadurch der Überzug auf dein Boden der Vertiefung (wegen des Anhaftens des Materials der Schicht an den Seitenwänden der Vertiefung) entfernt wird, eine solche mehrfache Rotation in einer einzigen Ebene in höchstem Maße erwünscht ist Man kann dann eine gleichförmige Beschichtung der gewünschten Oberflächen mit einer in der Mitte angeordneten Materialquelle und einem langen Weg zwischen der Materialquelle und dem zu beschichtenden Gegenstand erzielen.

Im Hinblick auf das soeben Gesagte ist es im wesentlichen Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung zu schaffen, mit deren Hilfe eine gleichförmige Bedampfung oder ein gleichförmiges Überziehen unregelmäßiger Oberflächen eines dünnen Werkstükkes, wie z. B. eines Halbleiterplättchens möglich ist.

Insbesondere soll die Vorrichtung eine komplexe Bewegung in der Weise ausführen, daß die Rotationsachsen der Werkstücke zueinander parallel sind, die durch die Werkstücke beschriebenen Rotationsebenen in einer horizontalen Ebene liegen und der Abstand der Werkstücke von der Quelle veränderbar ist. Für den Fall, daß die Vorrichtung zum Aufbringen eines dünnen Filmes auf Halbleiterplättchen eine Anzahl von Tiegel zur Aufnahme des Quellenmaterials aufweist, müssen