CN1797117A - 液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
提供了一种液晶显示装置及其制造方法。根据一个实施例的液晶显示装置包括:基板上的具有多个开口区的黑底,包括在开口区中形成的第一滤色器图案、第二滤色器图案以及第三滤色器图案的滤色器层,形成在滤色器层上的外覆层,形成在外覆层上的第一区中的柱状间隔体,以及形成在外覆层上的第二区中的第四滤色器图案。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示(LCD)装置,更具体地说,涉及具有RGBW像素的LCD装置及其制造方法。
背景技术
LCD装置因其低功耗和高便携性而被认为是下一代的高技术和先进的显示装置。
在LCD装置中,有源矩阵类型LCD装置,包括作为开关单元以独立驱动其像素的薄膜晶体管,因其高分辨率和活动画面显示能力而通常被认为是下一代显示装置。
根据现有技术的LCD装置的制造过程包括以下步骤:形成具有薄膜晶体管和像素电极的阵列基板,形成具有滤色器和公共电极的滤色器基板,以及在阵列基板与滤色器基板之间形成液晶单元。
这样的LCD装置被称为扭曲向列(TN)模式LCD装置。TN模式LCD装置通过向形成在两个基板上的电极施加电压以90度扭曲方式来驱动设置在两个基板之间的液晶分子。
然而,根据现有技术的TN模式LCD装置,具有相当大的窄视角缺点。为解决窄视角问题,已经开发出了具有多种不同模式的LCD装置。例如,已经开发出了面内切换(IPS)模式和光学补偿双折射(OCB)模式。
在IPS模式LCD装置中,通过向形成在同一基板上的两个电极施加电压产生的面内电场,与基板平行地驱动液晶分子。即,液晶分子的长轴未相对于基板竖立。并且,由于液晶的双折射系数在顺时针方向上几乎不变,所以与根据现有技术的TN模式LCD装置相比,IPS模式LCD装置具有大大改进的视角。
图1是根据现有技术的IPS模式LCD装置的横截面视图。
参照图1,现有技术的IPS模式LCD装置包括:第一基板118,接合至第一基板118的第二基板119,以及在第一基板118与第二基板119之间注入的液晶层130。
通过在第一基板118上淀积金属并且对淀积的金属进行构图,在第一基板118上形成了多条选通线(未示出),并且同时,在各薄膜晶体管区中形成了从对应选通线分出的栅电极109。
完全覆盖包括栅电极109的第一基板118地形成栅极绝缘层120,并且在栅极绝缘层120的顶部上形成包括有源层115a和欧姆接触层115b的半导体层115。
通过在栅极绝缘层120的顶部上淀积金属并对其进行构图,在栅极绝缘层120上形成了与选通线正交交叉的多条数据线110(在图1中示出了一条数据线)。另外,在与栅电极109适当相关的位置处,在栅极绝缘层120上形成了分开的源电极116和漏电极117。此外,在栅极绝缘层120上形成有一条公共线(未示出)和多个公共电极113。
选通线和数据线110限定了像素区,并且在各像素区中设置有薄膜晶体管。此外,由栅电极109、半导体层115、以及源电极116和漏电极117在对应的像素区中形成各薄膜晶体管。以预定间隔在像素区中排列所述多个公共电极113。
完全覆盖第一基板118地形成保护层128。像素电极114电连接到与公共电极113平行的漏电极117。完全覆盖第一基板118地形成第一配向层(未示出)。
为了选择性地阻挡光,在第二基板119上面对选通线、数据线以及薄膜晶体管形成黑底121。在由黑底121限定的开口区中形成具有红色、绿色以及蓝色滤色器图案的滤色器层122。外覆层123使滤色器层122的顶部表面平坦化并保护滤色器层122。在外覆层123上形成第二配向层(未示出)。
其间,以密封图案(未示出)密封第一基板118和第二基板119的边缘,以防止置于第一基板118与第二基板119之间的液晶层130渗漏。在第一基板118与第二基板119之间设有球间隔体140。球间隔体140与密封图案一起在第一基板118与第二基板119之间维持预定间隙。
球间隔体140由具有弹性的玻璃纤维或有机材料制成。球间隔体140随机地分布在第一基板118和第二基板119之间,然而这也产生了下列问题。
球间隔体140的运动使配向层脱离。此外,球间隔体周围的液晶分子的吸引力造成球间隔体周围的漏光。此外,在大型LCD装置中使用球间隔体不能稳定地保持单元间隙。
图2是在图1中示出的第二基板119的一特定区域的横截面视图。这里,特定区域表示限定一个像素的一个RGB滤色器图案区。参照图2,以均匀间隔方式在第二基板119上形成黑底121。在由黑底121限定的开口区中顺序形成有红色滤色器图案122a、绿色滤色器图案122b、以及蓝色滤色器图案122c。红色滤色器图案122a、绿色滤色器图案122b、以及蓝色滤色器图案122c构成滤色器层122。
在滤色器层122上形成有外覆层123。外覆层123是由具有高偏光特性的有机材料形成的。
如上所提到的,在第二基板119(滤色器基板)中,红色、绿色、以及蓝色滤色器图案构成一个像素。然而,在红色、绿色、以及蓝色滤色器图案构成一个像素的情况下,透光率低,从而亮度也低。
尽管通过增加背光单元产生的光的亮度或增加LCD装置中的光学片的数量可以增加IPS模式LCD装置的亮度,但这也增加了制造成本。此外,增加电流输入来增加IPS模式LCD装置的亮度,破坏了希望的LCD装置的低功耗特性。
发明内容
因此,本发明致力于提供一种LCD装置,其基本上消除了由于现有技术的局限和缺点而造成的一个或多个问题。
本发明的一个目的是提供一种具有由红色、绿色、蓝色以及白色滤色器图案限定的单元像素的LCD装置,所述白色滤色器图案是与柱状间隔体一起在基板上同时(或顺序地)形成的,以按更少的操作简化制造过程并降低制造成本。
本发明的另一目的是提供一种制造具有由红色、绿色、蓝色以及白色滤色器图案限定的单元像素的LCD装置的方法,所述白色滤色器图案是与柱状间隔体一起在基板上同时(或顺序地)形成的,以按更少的操作简化制造过程并降低制造成本。
在下面的描述中将部分地阐述本发明的其它优点、目的以及特征,并且对于本领域普通技术人员来说,这些在阅读以下内容时将部分地变得清楚,或者可以通过对本发明的实施而获知。通过在文字描述及其权利要求以及附图中具体指出的结构,可以认识并实现本发明的目的和其它优点。
为实现这些目标和其它优点,并且根据本发明的目的,如在此具体实现和广泛描述的,根据一个实施例提供了一种液晶显示(LCD)装置,其包括:基板上的具有多个开口区的黑底;滤色器层,其包括形成在开口区中的第一滤色器图案、第二滤色器图案以及第三滤色器图案;外覆层,其形成在滤色器层上;柱状间隔体,其形成在外覆层上的第一区中;以及第四滤色器图案,其形成在外覆层上的第二区中。
在本发明的另一方面中,提供了一种制造液晶显示(LCD)装置的方法,该方法包括以下步骤:在基板上形成具有多个开口区的黑底;在开口区中形成第一、第二以及第三滤色器图案;在包括第一、第二以及第三滤色器图案的基板上形成外覆层;以及在外覆层上形成柱状间隔体和第四滤色器图案。
本发明的另一方面中,提供了一种液晶显示(LCD)装置,其包括:基板的第一区上的黑底图案;基板的第二区上的第一、第二以及第三滤色器图案;外覆层,其覆盖包括黑底图案和第一、第二以及第三滤色器图案的基板;以及,外覆层上的第四滤色器图案。
在本发明的另一方面中,提供了一种形成液晶显示(LCD)装置的方法,该方法包括以下步骤:在基板的第一区上形成黑底图案;在基板的第二区上形成第一、第二以及第三滤色器图案;形成外覆层,以覆盖包括黑底图案和第一、第二以及第三滤色器图案的基板;以及在外覆层上形成第四滤色器图案。
应当理解,本发明上面的一般描述和下面的详细描述都是示例性和解释性的,旨在提供对如权利要求所述的本发明的进一步的阐释。
附图说明
附图被包括进来以提供对本发明的进一步理解,其被并入并构成本申请的一部分,例示了本发明的实施例,并与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中:
图1是根据现有技术的IPS模式LCD装置的横截面视图;
图2是在图1中示出的第二基板119的特定区域的横截面视图;
图3是根据本发明实施例的具有RGBW滤色器单元像素的LCD装置的滤色器基板的横截面视图;
图4A到4E是显示根据本发明实施例的制造图3中示出的滤色器基板的方法的横截面视图;
图5是根据本发明另一实施例的具有RGBW滤色器单元像素的LCD装置的滤色器基板的横截面视图;以及
图6A到6E是显示根据本发明实施例的制造图5中示出的滤色器基板的方法的横截面视图。
具体实施方式
下面详细说明本发明的优选实施例,在附图中例示了其实施例。
对于高清晰液晶显示(LCD)装置有着日益增长的需求。为了满足这种日益增长的需求,可以减小每一像素的孔径比。然而,这也降低了LCD装置的亮度。因此,应对这种亮度降低进行补偿。
为此,根据现有技术的图2中示出的LCD装置的滤色器基板的RGB三色配置被改变为在本发明中的RGBW四色配置。增加的白点使LCD装置的亮度增加了例如50%。正在开发这种RGBW技术。
图3是根据本发明实施例的具有RGBW滤色器单元像素的LCD装置的滤色器基板的横截面视图。图3表示一个由红色、绿色、蓝色以及白色滤色器图案限定的单元像素区。
参照图3,以均匀间隔或基本均匀间隔的方式在基板319上形成了黑底321。在由黑底321限定的开口区中顺序形成有红色滤色器图案322a、绿色滤色器图案322b、蓝色滤色器图案322c、以及白色滤色器图案322d。红色滤色器图案322a、绿色滤色器图案322b、蓝色滤色器图案322c、以及白色滤色器图案322d构成用于每一单元像素区的滤色器层322。
通过向红色滤色器图案322a、绿色滤色器图案322b以及蓝色滤色器图案322c增加白色滤色器图案322d,附加地限定了白点。白点使亮度增加了大约50%。
在滤色器层322上形成有外覆层323。外覆层323可以由具有高偏光特性的有机材料形成。
通过使用感光有机光致抗蚀剂的光刻术在外覆层323上的预定位置处形成了柱状间隔体324。光刻术包括曝光和显影。如图3中所示,柱状间隔体324可以形成在黑底321的上方或形成为覆盖其部分。
柱状间隔体324消除了现有技术球间隔体的缺点。柱状间隔体324可稳定地维持单元间隙。同样,由于柱状间隔体324可固定在不透光的区域(例如,黑底321上方的区域)处,所以可防止柱状间隔体324周围的漏光,由此增加了LCD装置的对比度。此外,由于固定地形成柱状间隔体324,所以滤色器基板可具有更坚固和更稳定的结构,从而其可容易地用于大型LCD装置。
图4A到4E是显示图3中示出的具有RGBW滤色器单元像素的滤色器基板的制造方法的横截面视图。
参照图4A,通过完全覆盖基板319地淀积(或涂覆)金属或树脂并且在基板319上执行光刻术,来在基板319上形成黑底321。
黑底321防止由设置在像素电极区外部的液晶分子的异常行为产生的漏光。另外,黑底321阻挡入射光射向薄膜晶体管的沟道区。
黑底321限定了在基板319上均匀地或基本均匀地分布的开口区310。
参照图4B,通过使用黑底321作为边界区,在开口区310中顺序地或以一定次序形成了红色滤色器图案322a、绿色滤色器图案322b、蓝色滤色器图案322c、以及白色滤色器图案322d。
滤色器图案322a、322b、322c、以及322d分别具有红色、绿色、蓝色、以及白色。可通过色素弥散(pigment dispersion)、染色法、电淀积(electro-deposition)等来形成滤色器图案322a、322b、322c、以及322d。色素弥散由于其高精度和再现特性而被广泛使用。
下面将描述使用色素弥散形成滤色器图案322a、322b、322c、以及322d的一个示例。然而,本发明也涵盖使用其它技术来形成滤色器图案322a-322d。
首先,通过旋转涂覆等完全覆盖基板319(包括黑底321)地淀积红色、绿色、蓝色、以及白色的彩色抗蚀剂(例如,红色抗蚀剂)。接下来,在基板319上放置限定透光区和不透光区的掩模,并且接着在基板319上执行曝光。接下来,对曝光的彩色抗蚀剂进行显影。由于在这个示例中彩色抗蚀剂具有负性特性,所以在进行显影之后,保留了曝光的区域,而从彩色光致抗蚀剂去除了未曝光的区域。在另一示例中,可以使用正性彩色抗蚀剂。这样,可以形成红色滤色器图案322a。此后,执行固化以使红色滤色器图案322a变硬。这样,可以顺序形成绿色滤色器图案322b、蓝色滤色器图案322c、以及白色滤色器图案322d。
一般地说,在开口区310中形成红色滤色器图案322a、绿色滤色器图案322b、蓝色滤色器图案322c、以及白色滤色器图案322d。红色滤色器图案322a、绿色滤色器图案322b、蓝色滤色器图案322c、以及白色滤色器图案322d构成滤色器层322。
如上面所述形成滤色器层322之后,如图4C中所示,在滤色器层322上形成外覆层323。外覆层323可由具有高平坦化特性的有机材料形成。
参照图4D,利用具有与滤色器层322相同感光特性的负性光致抗蚀剂326涂覆外覆层323。接着,在负性光致抗蚀剂326上对准掩模325,并且对负性光致抗蚀剂326进行曝光,以形成一个或更多个柱状间隔体。例如,具体来说,掩模325包括面向黑底部分的透光区325a,和不透光区325b。如果光通过掩模325投射到基板319,那么将保留面向透光区325a的负性光致抗蚀剂326的区域作为图案,并且去除面向不透光区325b的负性光致抗蚀剂326的其它部分。
结果,参照图4E,由所述图案形成了柱状间隔体324。这里,在对柱状间隔体324进行显影之后,可对柱状间隔体324执行硬化处理,以使柱状间隔体324稳定。
在这个示例中,柱状间隔体324与黑底321相交叠。即,在黑底321的上方形成柱状间隔体324。在本发明中,可以利用上述过程形成一个或更多个柱状间隔体324。另选地,可以利用具有多个透光区325a的掩模来同时形成多个柱状间隔体。
因而,利用上面所述的方法,可以制造用于LCD装置的具有RGBW四色单元像素的滤色器基板。这种方法克服了与LCD的现有技术滤色器基板有关的局限。
尽管上面所述的方法有效,但直到形成柱状间隔体324却总计需要7个操作:形成黑底321->形成红色滤色器图案322a->形成绿色滤色器图案322b->形成蓝色滤色器图案322c->形成白色滤色器图案322d->形成外覆层319->形成柱状间隔体324。与具有RGB三色单元像素的现有技术滤色器基板相比,增加了一个附加操作,即,形成白色滤色器图案,由此,减少了单位时间产量(生产率)。因此,上面所述的制造过程包括一个附加操作,并且不能显著地降低制造成本。
因而,根据一实施例的本发明解决了与图4A-4E的方法有关的问题。在这个实施例中,当形成红色、绿色、蓝色、以及白色滤色器图案以构成一个单元像素时,不使用用于白色滤色器图案的附加掩模或涂覆操作同时或顺序地形成白色滤色器图案和柱状间隔体。
图5是根据本发明实施例的具有RGBW滤色器单元像素的LCD装置的滤色器基板的横截面视图。图5表示由红色、绿色、蓝色、以及白色滤色器图案限定的单元像素区。尽管图5显示了IPS模式LCD装置的滤色器基板,但本发明的滤色器基板不限于IPS模式LCD装置。
参照图5,以均匀间隔或基本均匀间隔的方式在基板519上形成有黑底521。在由黑底521限定的开口区527中顺序形成有红色滤色器图案522a、绿色滤色器图案522b、以及蓝色滤色器图案522c。这时,黑底521的与红色滤色器图案522a、绿色滤色器图案522b、以及蓝色滤色器图案522c相邻的开口区527保留为空,来代替形成白色滤色器图案。
由于滤色器基板具有RGBW四色结构,所以当形成柱状间隔体时,可以在由黑底521限定的开口区527中形成白色滤色器图案。
为此,首先,完全覆盖包括滤色器图案522a、522b、以及522c的基板519地形成外覆层523。接下来,通过使用感光有机材料的光刻术以预定图案形成柱状间隔体524和白色滤色器图案522d。换句话说,与形成柱状间隔体524同时或者基本同时地形成白色滤色器图案522d。在对应于黑底521的区域形成柱状间隔体524,而在对应于开口区527的区域形成白色滤色器图案522d。
因此,在基板519上直接形成了红色滤色器图案522a、绿色滤色器图案522b、以及蓝色滤色器图案522c,而在与各滤色器图案522a、522b、以及522c不同的层中形成了白色滤色器图案522d。即,在外覆层523上直接形成白色滤色器图案522d。
在本发明中,在同一层中形成红色滤色器图案522a、绿色滤色器图案522b、以及蓝色滤色器图案522c,并且使由黑底521限定的特定区域(即,开口区527)保留空白而不形成任何滤色器图案。接下来,在滤色器图案522a、522b、以及522c上形成外覆层523。接着,在开口区527中形成白色滤色器图案522d,并且在同一时间,在黑底521上方形成柱状间隔体524。因此,白色滤色器图案522d是由与柱状间隔体524相同的材料形成的。
结果,形成了具有由红色滤色器图案522a、绿色滤色器图案522b、蓝色滤色器图案522c、以及白色滤色器图案522d限定的单元像素的滤色器图案522。
这样,对红色滤色器图案522a、绿色滤色器图案522b、以及蓝色滤色器图案522c增加了白色滤色器图案522d,因而可以使亮度增加大约50%。此外,由于白色滤色器图案522d是与柱状间隔体524一起未使用附加掩模或涂覆操作同时或者顺序形成的,所以通过更少的操作数量可以简化用于LCD装置的制造过程,并且还可以降低制造成本。即,本发明提高了LCD装置的过程效率和生产率。
图6A到6E是显示根据本发明实施例的图5中示出的具有RGBW滤色器单元像素的滤色器基板的制造方法的横截面视图。
尽管图6A到图6E显示了IPS模式LCD装置的滤色器基板,但本发明的滤色器基板却不限于IPS模式LCD装置。
参照图6A,通过完全覆盖基板519地淀积(或涂敷)金属或树脂并在基板519上执行光刻术,来在基板519上形成黑底521。
黑底521防止由设置在像素电极区外部的液晶分子的异常行为产生的漏光。而且,黑底521阻挡入射光射向薄膜晶体管的沟道区。
黑底521限定了在基板519上均匀或基本均匀地分布的开口区510。换句话说,黑底521的各部分形成在开口区510之间。
在本发明中,RGBW四色结构构成单元像素。因此,对应于RGBW的滤色器图案将形成在毗连的四个开口区510中。
参照图6B,通过使用黑底521作为边界区,在开口区510中顺序地或按某种次序形成红色滤色器图案522a、绿色滤色器图案522b、以及蓝色滤色器图案522c。此后,保留开口区510中的一个作为没有形成滤色器图案的空白区527。红色滤色器图案522a、绿色滤色器图案522b、以及蓝色滤色器图案522c中的每一个可具有大约2μm的厚度。
可以通过色素弥散、染色法、电淀积等来形成滤色器图案522a、522b、以及522c。色素弥散由于其高精度和再现特性而被广泛使用。已经参照图4A和4B描述了使用色素弥散形成滤色器图案的一个示例。因而,在此将省略对色素弥散的描述。
在图4A-4E的方法中,由于具有RGBW色结构的滤色器基板利用附加操作来通过色素弥散等形成白色滤色器图案,所以未能缩短制造过程,从而不能增加单位时间的产量(生产率)。
然而,在根据本发明的图6A-6E的方法中,没有单独执行形成白色滤色器图案的步骤。白色滤色器图案的形成包括在形成柱状间隔体的步骤中。即,白色滤色器图案是与柱状间隔体一起同时或顺序地形成的。因此,可以用更少的操作简化制造过程,从而可以进一步提高生产率。
参照图6C,在包括滤色器图案522a、522b以及522c的基板519上形成外覆层523。外覆层523可由具有高平坦化特性的有机材料形成。尽管在基板519的全部表面上形成外覆层523,但在空白区527处外覆层523是凹陷的。外覆层523可由透明材料如压克力(acryl)树脂形成。外覆层523可以具有大约1.5μm的厚度。具体地说,外覆层523在空白区527处可以具有大约1.5μm到大约2.0μm的厚度。
参照图6D,利用具有与滤色器图案522a、522b以及522c相同感光特性的负性光致抗蚀剂526涂覆外覆层523。在这个示例中,负性光致抗蚀剂526包括透明压克力。在另一示例中,可使用正性光致抗蚀剂。接着,在负性光致抗蚀剂526上对准掩模525,并且对负性光致抗蚀剂526进行曝光。这里,可对基板519的另一侧进行曝光。负性光致抗蚀剂526由透明材料如负性压克力树脂形成。负性光致抗蚀剂526在其曝光时被硬化。
通过使用在基板519上方形成的掩模525进行曝光来形成柱状间隔体,并且通过对基板519的底部执行曝光来形成白色滤色器。
由于柱状间隔体和白色滤色器图案具有不同厚度,所以从基板519的顶部和底部各单独执行曝光。即,如果仅从基板519的顶部执行曝光,那么柱状间隔体和白色滤色器将具有相同厚度。
因此,在本发明中,通过对基板519的顶部进行曝光可以形成比白色滤色器图案相对较厚的柱状间隔体,而通过对基板519的底部进行曝光可以形成比柱状间隔体相对较薄的白色滤色器图案。这些由图6D中的不同箭头指出。由于从基板519的背面投射的光透过基板519和外覆层523,并且到达负性光致抗蚀剂526,所以形成在空白区527中的负性光致抗蚀剂526在较低部分处被部分硬化。白色滤色器图案可以具有比柱状间隔体小的厚度。
因为黑底521与各滤色器图案522a、522b以及522c是不透明的,所以不需要用于基板519的底部的附加掩模。即,投射的光可以仅到达空白区527。因此,通过向基板519的底部投射光而不使用附加掩模就可以容易地形成白色滤色器。
更详细地说,掩模525包括面向黑底521的透光区525a,还包括不透光区525b。当通过掩模525向基板519投射光时,负性光致抗蚀剂526的面向透光区525a的区域保留为图案,而负性光致抗蚀剂526的面向不透光区525b的其它部分被除去。结果,形成了柱状间隔体524,其是保留的光致抗蚀剂图案。
此外,当向基板519的底部投射光时,负性光致抗蚀剂526的面向黑底521和滤色器图案522a、522b以及522c的部分未被曝光,但负性光致抗蚀剂526的面向空白区527的其它部分被曝光。该光致抗蚀剂526的曝光部分被硬化,从而成为白色滤色器图案522d。
到现在为止,解释了从基板519的顶部和底部同时执行对光致抗蚀剂526的曝光。然而,本发明不限于解释的示例。可以顺序执行对光致抗蚀剂526的这些部分的曝光。
由于光致抗蚀剂526是负性光致抗蚀剂,所以硬化从曝光的部分开始。因此,可以通过调节入射到基板519的底部的光量来确定白色滤色器图案的厚度。
优选地,入射到基板519的底部的光量被调节为,使得白色滤色器图案与其它滤色器图案之间的间隙是0.2μm或更小。
参照图6E,通过对曝光的负性光致抗蚀剂526进行显影来形成柱状间隔体524和白色滤色器图案522d。此外,可以在进行显影之后对柱状间隔体524和白色滤色器图案522d执行硬化处理以使柱状间隔体324稳定。柱状间隔体524与黑底521相交叠。即,柱状间隔体524形成在黑底521的上方。
如上所述,在图5-6E的本发明中,RGBW四色结构与现有技术RGB三色结构相比还包括白色滤色器图案,其通过使用与柱状间隔体相同的材料同时或顺序地形成白色滤色器图案与柱状间隔体得到了改进。结果,可以利用更少量的操作来简化制造过程,并且可以减少制造时间和成本,由此增加生产率。此外,由于使用白色滤色器图案,显示装置的亮度可增加50%。
虽然示例性地使用IPS模式LCD装置来解释本发明,但本发明不限于此,而可应用于TN模式LCD装置。在后一情况下,在外覆层上可以淀积透明导电材料,如铟锡氧化物(ITO)或铟锌氧化物(IZO),作为公共电极。另外,尽管未具体提到,除上面所述的元件之外,本发明的LCD装置还包括与上述元件协同操作的其它常规元件。例如,应该理解,本发明的LCD装置总体上包括具有选通线、数据线等的第一基板,和第一基板与具有RGBW结构的基板之间的液晶层。还可以设有驱动电路。
本领域技术人员应当明白,在本发明中可以进行各种修改和变型。因而,本发明旨在覆盖落入所附权利要求及其等同物的范围内的对本发明进行的各种修改和变型。
根据35U.S.C.§119,本申请要求2004年12月29日在韩国提交的韩国专利申请第10-2004-0114719号的优先权,在此通过引用完全并入其全部内容。
Claims (34)
1、一种液晶显示装置,包括:
基板上的具有多个开口区的黑底;
滤色器层,其包括形成在开口区中的第一滤色器图案、第二滤色器图案以及第三滤色器图案;
外覆层,其形成在滤色器层上;
柱状间隔体,其形成在外覆层上的第一区中;以及
第四滤色器图案,其形成在外覆层上的第二区中。
2、根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,在外覆层上限定的第一区对应于黑底。
3、根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,在外覆层上限定的第二区对应于所述多个开口区中的一个。
4、根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,第一、第二、第三以及第四滤色器图案分别是限定单元像素的红色、绿色、蓝色以及白色滤色器图案。
5、根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,所述柱状间隔体和第四滤色器图案是同时形成的。
6、根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,所述柱状间隔体和第四滤色器图案由相同材料形成。
7、根据权利要求6所述的液晶显示装置,其中,所述材料是具有透明丙烯的负性光致抗蚀剂。
8、根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,第一、第二以及第三滤色器图案直接形成在基板上。
9、根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,第四滤色器图案是直接形成在外覆层上的白色滤色器图案。
10、根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,第四滤色器图案与各第一、第二以及第三滤色器图案之间的厚度差大约是0.2μm或更小。
11、根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,所述液晶显示装置是面内切换模式液晶显示装置。
12、一种制造液晶显示装置的方法,该方法包括以下步骤:
在基板上形成具有多个开口区的黑底;
在开口区中形成第一、第二以及第三滤色器图案;
在包括第一、第二以及第三滤色器图案的基板上形成外覆层;以及
在外覆层上形成柱状间隔体和第四滤色器图案。
13、根据权利要求12所述的方法,其中,所述形成柱状间隔体和第四滤色器图案的步骤包括以下步骤:
利用感光材料涂覆包括第一、第二以及第三滤色器图案的基板;
在包括感光材料的基板上对准掩模;
分别向基板的顶部区域和底部区域投射第一光和第二光;以及
利用第一光和第二光形成所述柱状间隔体和第四滤色器图案。
14、根据权利要求13所述的方法,其中,所述感光材料是负性光致抗蚀剂。
15、根据权利要求13所述的方法,其中,在对准掩模的步骤中,所述掩模包括:
透光区,允许第一光通过其射向黑底;和
不透光区,阻挡第一和/或第二光。
16、根据权利要求12所述的方法,其中,在外覆层上对应于黑底的区域处直接形成所述柱状间隔体。
17、根据权利要求13所述的方法,其中,由黑底和第一、第二以及第三滤色器图案阻挡投射到基板的底部区域的第二光,以使得第二光通过未形成有黑底和第一、第二以及第三滤色器图案的区域传播。
18、根据权利要求13所述的方法,其中,在基本相同时间向基板投射第一光和第二光,以使得在基本相同时间形成所述柱状间隔物和第四滤色器图案。
19、根据权利要求13所述的方法,其中,顺序地向基板投射第一光和第二光,以使得顺序地形成所述柱状间隔体和第四滤色器图案。
20、根据权利要求12所述的方法,其中,第一、第二、第三以及第四滤色器图案分别是限定单元像素的红色、绿色、蓝色以及白色滤色器图案。
21、根据权利要求12所述的方法,其中,第四滤色器图案与各第一、第二以及第三滤色器图案之间的厚度差大约是0.2μm或更小。
22、根据权利要求12所述的方法,还包括以下步骤:在外覆层上形成公共电极。
23、根据权利要求12所述的方法,其中,第四滤色器图案是直接形成在外覆层上的白色滤色器图案。
24、一种液晶显示装置,包括:
基板的第一区上的黑底图案;
基板的第二区上的第一、第二以及第三滤色器图案;
外覆层,其覆盖包括黑底图案和第一、第二以及第三滤色器图案的基板;以及
外覆层上的第四滤色器图案。
25、根据权利要求24所述的液晶显示装置,还包括:
在外覆层上的至少一个柱状间隔体。
26、根据权利要求24所述的液晶显示装置,其中,第一、第二、第三以及第四滤色器图案分别是限定单元像素的红色、绿色、蓝色以及白色滤色器图案。
27、根据权利要求24所述的液晶显示装置,其中,所述柱状间隔体和第四滤色器图案由相同材料形成。
28、根据权利要求24所述的液晶显示装置,其中,第四滤色器图案是直接形成在外覆层上的白色滤色器图案。
29、根据权利要求24所述的液晶显示装置,其中,所述液晶显示装置是面内切换模式液晶显示装置。
30、一种形成液晶显示装置的方法,该方法包括以下步骤:
在基板的第一区上形成黑底图案;
在基板的第二区上形成第一、第二以及第三滤色器图案;
形成外覆层,以覆盖包括黑底图案和第一、第二以及第三滤色器图案的基板;以及
在外覆层上形成第四滤色器图案。
31、根据权利要求30所述的方法,还包括以下步骤:
在外覆层上形成至少一个柱状间隔体。
32、根据权利要求31所述的方法,其中,所述至少一个柱状间隔体和第四滤色器图案是同时形成的,并且/或者是由相同材料形成的。
33、根据权利要求30所述的方法,其中,第一、第二、第三以及第四滤色器图案分别是限定单元像素的红色、绿色、蓝色以及白色滤色器图案。
34、根据权利要求30所述的方法,其中,第四滤色器图案是直接形成在外覆层上的白色滤色器图案。
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