CN1576990A - 彩色滤光膜基板的制造方法及其结构 - Google Patents

Abstract

一种彩色滤光膜基板的制造方法及其结构，彩色滤光膜基板的制造方法，是先在基板上形成黑矩阵，之后在基板上形成彩色光阻层覆盖黑矩阵；在基板上方设置光罩以对彩色光阻层进行曝光制程，光罩具有透光区、部分透光区及不透光区，部分透光区位于透光区与不透光区之间，对应黑矩阵边缘处；接着进行显影制程以图案化彩色光阻层。由于使用具有部分曝光区光罩进行曝光制程，可解决习知利用黑树脂作为黑矩阵材料而在黑矩阵边缘处产生色间断差问题。该彩色滤光膜基板的结构，包括基板、黑矩阵与彩色光阻层；黑矩阵配置基板上，彩色光阻层覆盖基板上，部分彩色光阻层覆盖黑矩阵边缘处，且表面为平坦表面。由于彩色光阻层为平坦表面，故液晶显示器不会产生显示效果不佳问题。

Description

彩色滤光膜基板的制造方法及其结构

技术领域

本发明涉及一种显示装置领域的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构，特别是涉及一种利用黑树脂作为黑矩阵材料的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构。

背景技术

随着高科技的发展，视讯产品，特别是数字化的视讯或影像装置已经成为在一般日常生活中所常见的产品。在这些数字化的视讯或影像装置中，显示器是一个重要组件，以显示相关信息。使用者可由显示器读取信息，或进而控制装置的运作。

为了配合现代生活的模式，视讯或影像装置的体积日渐趋于薄轻。现有传统的阴极层射线显示器，虽然仍有其优点，但是其需占用大体积且耗电，因此配合光电技术与半导体制造技术，面板式的显示器已被发展出成为目前常见的显示器产品，例如液晶显示器。液晶显示器由于具有低电压操作、无辐射线散射、重量轻以及体积小等现有传统的阴极射线管(cathoderay tube，简称CRT)所制造的显示器无法达到的优点，与其它平板式显示器如电浆显示器及电致发光(electroluminance)显示器，而成为近年来显示器研究的主要课题，更被视为二十一世纪显示器的主流。

而以薄膜晶体管(thin film transistor，简称TFT)液晶显示器为例，其液晶面板是由薄膜晶体管数组基板、彩色滤光数组基板和液晶层所构成，且液晶层位于薄膜晶体管数组基板与彩色滤光数组基板之间。其中，上述的彩色滤光数组基板的形成方式例如是先形成黑矩阵(Black Matrix)，之后形成彩色光阻层，然后再形成保护层或电极层等等的膜层。

由于一般形成黑矩阵所用的材质通常是铬金属，而且其厚度约为0.2微米，因此在形成彩色光阻层时，在黑矩阵与彩色光阻层的交界处(黑矩阵边缘处)会产生些微的色间断差(height difference)(如图1所示)。请参阅图1所示，是现有习知的一种彩色滤光膜基板的剖面示意图，当黑矩阵102形成之后，会先在基板100上全面性地形成一层彩色光阻层(图中未示)，然后再用微影蚀刻的技术来定义出彩色光阻层104。由于一开始的彩色光阻层(图中未示)是以旋转涂布的方式全面性地覆盖于基板100上，因此在邻近黑矩阵102与彩色光阻层104处，会产生些微的色间断差h1，其高度约为0.2微米，但该微小的色间断差h1还不致于影响显示器的显示。

不过，虽然微小的色间断差并没有对于显示器的显色产生影响，但是采用铬金属作为黑矩阵却会造成环境污染等环保问题，所以基于环保的考量，黑矩阵的材质可以用黑树脂来取代原本的铬金属。然而，利用黑树脂虽然解决了环保问题，但是由于形成黑树脂的方法是以旋转涂布的方式来进行，所以所形成的黑树脂的厚度会比原来的铬层厚(大约为1.0-1.2微米)，所以，在黑树脂材质的黑矩阵边缘上方的色间断差的高度h2会从原本的0.2微米变成0.5-0.8微米(如图2所示)，请参阅图2所示，是现有习知的另一种彩色滤光膜基板的剖面示意图，而上述这样的色间断差将会影响液晶偏折的效果，而使得光线往产生非预期的偏折，而且，不同颜色(R、G、B)的彩色光阻层所产生的色间断差h2亦可能不同，如此会造成显示器的显示效果不佳等问题

上述色间断差的问题可以藉由研磨来解决，但是这必须增加额外的研磨制程，而造成产品的产出率降低，所以就长远来看，这并不是一个根本的解决之道。

由此可见，上述现有的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构仍存在有诸多的缺陷，而亟待加以进一步改进。

为了解决现有的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构的缺陷，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决的道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，此显然是相关业者急欲解决的问题。

有鉴于上述现有的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，积极加以研究创新，以期创设一种新的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构，能够改进现有的制造方法及其结构，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计并经反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明。

发明内容

本发明的主要目的在于，克服上述现有的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构存在的缺陷，而提供一种新的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构，所要解决的主要技术问题是使其可以解决当使用黑树脂作为黑矩阵的材料会在黑矩阵边缘产生色间断差的问题，从而更具有实用性，且具有产业上的利用价值。

本发明的目的及解决其主要技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本发明提出的一种彩色滤光膜基板的制造方法，该方法包括以下步骤：在一基板上形成一黑矩阵；在该基板上形成一彩色光阻层，覆盖该黑矩阵；在该基板上方设置一光罩，以对该彩色光阻层进行一曝光制程，其中该光罩具有一透光区、一部分透光区以及一不透光区，且该部分透光区是位于该透光区与该不透光区之间，而且对应下方该黑矩阵的边缘处；以及进行一显影制程，以图案化该彩色光阻层。

本发明的目的及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。

前述的彩色滤光膜基板的制造方法，其中所述的光罩的该部分透光区的透光面积是由该透光区至该不透光区逐渐减少。

前述的彩色滤光膜基板的制造方法，其中所述的黑矩阵的材质包括黑树脂。

本发明的目的及解决其主要技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种彩色滤光膜基板的制造方法，该方法包括以下步骤：在一基板上形成一黑矩阵，该黑矩阵是将该基板划分出一第一区域、一第二区域与一第三区域；在该基板上形成一第一彩色光阻层，以覆盖该黑矩阵；在该基板的上方设置一第一光罩，以对该第一彩色光阻层进行一第一曝光制程，其中该第一光罩具有一第一透光区、一第一部分透光区以及一第一不透光区，且该第一部分透光区是位于该第一透光区与该第一不透光区之间，而且对应下方该黑矩阵的边缘处；进行一第一显影制程，以保留下位于该第一区域的该第一彩色光阻层；在该基板上形成一第二彩色光阻层，以覆盖图案化的该第一彩色光阻层与该黑矩阵；在该基板上方设置一第二光罩，以对该第二彩色光阻层进行一第二曝光制程，其中该第二光罩具有一第二透光区、一第二部分透光区以及一第二不透光区，且该第二部分透光区是位于该第二透光区与该第二不透光区之间，而且对应下方该黑矩阵的边缘处；进行一第二显影制程，以保留下位于该第二区域的该第二彩色光阻层；在该基板上形成一第三彩色光阻层，以覆盖该图案化的第一彩色光阻层、该图案化的第二彩色光阻层与该黑矩阵；在该基板上方设置一第三光罩，以对该第三彩色光阻层进行一第三曝光制程，其中该第三光罩具有一第三透光区、一第三部分透光区以及一第三不透光区，且该第三部分透光区是位于该第三透光区与该第三不透光区之间，而且对应下方该黑矩阵的边缘处；以及进行一第三显影制程，以保留下位于该第三区域的该第三彩色光阻层。

本发明的目的及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。

前述的彩色滤光膜基板的制造方法，其中所述的第一光罩的该第一部分透光区的透光面积是由该第一透光区至该第一不透光区逐渐减少。

前述的彩色滤光膜基板的制造方法，其中所述的第二光罩的该第二部分透光区的透光面积是由该第二透光区至该第二不透光区逐渐减少。

前述的彩色滤光膜基板的制造方法，其中所述的第三光罩的该第三部分透光区的透光面积是由该第三透光区至该第三不透光区逐渐减少。

前述的彩色滤光膜基板的制造方法，其中所述的黑矩阵的材质包括黑树脂。

本发明的目的及解决其主要技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种彩色滤光膜基板的结构，其包括：一基板；一黑矩阵，配置于该基板上；以及一彩色光阻层，覆盖于该基板上，且部分该彩色光阻层是覆盖于该黑矩阵的边缘处，而且该彩色光阻层的表面是为一平坦的表面。

本发明的目的及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。前述的彩色滤光膜基板的结构，其中所述的黑矩阵材质包括黑树脂。

本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上技术方案可知，为了达到前述发明目的，本发明的主要技术内容如下：

本发明提出一种彩色滤光膜基板的制造方法，该方法是先在基板上形成黑矩阵，其中黑矩阵的材质例如是黑树脂。之后，在基板上形成彩色光阻层以覆盖黑矩阵。然后，在基板上方设置光罩以对该彩色光阻层进行曝光制程，其中该光罩具有透光区、部分透光区以及不透光区，且该部分透光区是位于透光区与不透光区之间，而且对应下方黑矩阵的边缘处。接着，进行显影制程以图案化该彩色光阻层。值得一提的是，该部分透光区的透光比例例如是由透光区往不透光区逐渐减少。

本发明还提出另一种彩色滤光膜基板的制造方法，该方法是先在基板上形成黑矩阵，该黑矩阵是将基板划分出第一区域、第二区域与第三区域。然后，在基板上形成第一彩色光阻层，以覆盖该黑矩阵。之后，在基板上方设置第一光罩，以对第一彩色光阻层进行第一曝光制程，其中第一光罩具有第一透光区、第一部分透光区以及第一不透光区，且第一部分透光区是位于第一透光区与第一不透光区之间，而且对应下方黑矩阵的边缘处。接着，进行第一显影制程，以保留下位于第一区域的第一彩色光阻层。继之，在基板上形成第二彩色光阻层，以覆盖图案化的第一彩色光阻层与黑矩阵。之后，在基板上方设置第二光罩，以对第二彩色光阻层进行第二曝光制程，其中第二光罩具有第二透光区、第二部分透光区以及第二不透光区，且第二部分透光区是位于第二透光区与第二不透光区之间，而且对应下方黑矩阵的边缘处。然后，进行第二显影制程，以保留下位于第二区域的第二彩色光阻层。接着，在基板上形成第三彩色光阻层，以覆盖图案化的第一彩色光阻层、图案化的第二彩色光阻层与黑矩阵。继之，在基板上方设置第三光罩，以对第三彩色光阻层进行第三曝光制程，其中第三光罩具有第三透光区、第三部分透光区以及第三不透光区，且第三部分透光区是位于第三透光区与第三不透光区之间，而且对应下方黑矩阵的边缘处。之后，进行第三显影制程，以保留下位于第三区域的第三彩色光阻层。特别是，上述的第一光罩的第一部分透光区的透光面积是由第一透光区至第一不透光区逐渐减少，且第二光罩的第二部分透光区的透光面积是由第二透光区至第二不透光区逐渐减少，而且第三光罩的第三部分透光区的透光面积是由第三透光区至第三不透光区逐渐减少。

由于本发明是利用具有部分透光区的光罩来进行曝光制程，经由该部分透光区曝光的光阻区域，在进行显影制程之后，该光阻区域的移除速率是介于透光区与不透区所对应的光阻区域之间，所以可以解决现有习知的使用黑树脂作为黑矩阵的材料，而在黑矩阵边缘处产生色间断差的问题，并且使得所形成的彩色光阻层具有平坦的表面。

本发明该提出一种彩色滤光膜基板的结构，该结构包括基板、黑矩阵与彩色光阻层。其中，黑矩阵是配置于基板上，该黑矩阵材质例如是黑树脂。此外，彩色光阻层是覆盖于基板上，且部分彩色光阻层是覆盖于该黑矩阵的边缘处，而且该彩色光阻层的表面是为一平坦的表面。

由于彩色滤光膜基板上的彩色光阻层，其表面是为平坦的表面，所以具有该彩色滤光基板的液晶显示器，不会产生现有习知产品显示效果不佳的问题。

综上所述，本发明特殊的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构，可以解决当使用黑树脂作为黑矩阵的材料会在黑矩阵边缘产生色间断差的问题，从而更具有实用性，且具有产业上的利用价值。其具有上述诸多的优点及实用价值，在制造方法及产品上确属创新，且在制造方法、产品结构或功能上皆有较大的改进，较现有的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构具有增进的多项功效，在技术上有较大的进步，并产生了好用及实用的效果，具有产业的广泛利用价值，从而更加适于实用，诚为一新颖、进步、实用的新设计。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1是现有习知的一种彩色滤光膜基板的剖面示意图。

图2是现有习知的另一种彩色滤光膜基板的剖面示意图。

图3A至图3D是依照本发明一较佳实施例的一种彩色滤光膜基板的制造流程剖面示意图。

图4是图3C中的光罩的部分透光区的上视示意图。

图5A至图5J是依照本发明另一较佳实施例的一种全彩的彩色滤光膜基板的制造流程剖面示意图。

100、200、300：基板                102、202、302：黑矩阵

104、204、204a：彩色光阻层         206、306、314、320：光罩

208a、308a、316a、322a：透光区

208b、308b、316b、322b：部分透光区

208c、308b、316c、322c：不透光区

210、310、315、321：曝光制程       301、303、305：次画素区

304、304a：红色光阻层              312、312a：绿色光阻层

318、318a：蓝色光阻层              h1、h2：高度差

具体实施方式

以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的彩色滤光膜基板的制造方法及其结构其具体制造方法、步骤、结构、特征及其功效，详细说明如后。

请参阅图3A至图3D所示，是依照本发明一较佳实施例的一种彩色滤光膜基板的制造流程剖面示意图。

请参阅图3A所示，本发明彩色滤光膜基板的制造方法，是先在基板200上全面性地形成不透光材料(图中未示)，该不透光的材料例如是黑树脂，且其厚度例如是介于1.0至1.2微米之间。之后，在对该不透光的材料进行一般的微影制程，以定义出黑矩阵202。

之后，请参阅图3B所示，在基板200上形成彩色光阻层204以覆盖黑矩阵202。其中，形成彩色光阻层204的颜色例如是红色(R)、绿色(G)或蓝色(B)，且其形成方法例如是进行旋转涂布制程(spin coating)以及烘烤制程等步骤。此外，彩色光阻层204的材料特性更例如是会藉由之后的曝光制程而加强光阻结构的负光阻，或是会藉由之后的曝光制程而破坏光阻结构的正光阻，在本实施例中是以具有负光阻特性的彩色光阻层204为例加以说明。

而且，值得一提的是，由于在基板200上已形成有厚的黑矩阵202，所以在黑矩阵202上方的彩色光阻层204会隆起，而形成表面不平坦的彩色光阻层204。

然后，请参阅第3C所示，在基板200上方设置光罩206，以对彩色光阻层204进行曝光制程210。其中，该光罩206是由玻璃与不透光膜层所组成，并且依照不同的需求设计出具有透光或不透光区域的光罩，其中不透光的部分是为不透光膜层所配置之处，且一般现有习知常用的不透光膜层的材料例如是铬。另外，曝光制程210进行的方式例如是利用UV光源来进行。

此外，值得一提的是，该光罩206除了透光区208a以及不透光区208c外，更包括位于透光区208a与不透光区208c之间的部分透光区208b，且其对应下方的黑矩阵202的边缘处，如此可以使部分透光区208b下方所对应的彩色光阻层204其曝光程度介于透光区208a与不透光区208c所对应的彩色光阻层204之间。

另外，由于在本实施例中是以负光阻的彩色光阻层204来说明，所以欲保留下的彩色光阻图案需藉由曝光来加强本身结构的强度，以避免后续进行显影制程时本身的结构遭受破坏。当然，在另一较佳实施例中，若使用正光阻作为彩色光阻层，则光罩206的透光区208a、部分透光区208b以及不透光区208c的配置方式会与本实施例相反。

除此之外，在另一较佳实施例中，所使用的光罩206其部分透光区208b的透光比例，例如是部分透光区208b的透光面积是由透光区208a往不透光区208c逐渐减少(如图4所示)，如此可以使光罩206下方所对应的彩色光阻层204，其曝光程度由透光区208a至不透光区208c逐渐减少。

接着，请参阅图3D所示，进行显影制程以图案化该彩色光阻层204，并且形成图案化的彩色光阻层204a。在先前步骤中，是利用具有部分透光区的208b的光罩206来对彩色光阻层204进行曝光制程210，所以后续在进行显影步骤时，对应于部分透光区的208b处的彩色光阻层204，其光阻移除速率会介于对应于透光区208a与不透光区208c的彩色光阻层204的移除速率，因此在黑矩阵202与彩色滤光膜204a界面(黑矩阵边缘处)产生色间断差的问题可以获得解决，而且所形成的彩色滤光膜204a其表面是为一平坦的表面。

请继续参阅图3D所示，以下对本发明的彩色滤光膜基板的结构加以说明。本发明的彩色滤光膜基板的结构，包括基板200、黑矩阵202与彩色光阻层204a。其中，黑矩阵202是配置于基板200上，该黑矩阵202材质例如是黑树脂。

此外，彩色光阻层204a是覆盖于基板200上，且部分彩色光阻层204a是覆盖于黑矩阵202的边缘处，而且该彩色光阻层204a的表面是为平坦的表面。

当然，本发明并不限于上述的单色彩色滤光膜基板的应用，本发明亦可应用于全彩的彩色滤光膜基板的制作，以下对该全彩的彩色滤光膜基板的制作加以说明。

请参阅图5A至图5J所示，是依照本发明另一较佳实施例的一种全彩的彩色滤光膜基板的制造流程剖面示意图。

请参阅图5A所示，本发明的彩色滤光膜基板的制造方法，是先在基板300上全面性的形成不透光材料(图中未示)，该不透光的材料例如是黑树脂，且其厚度例如是介于1.0至1.2微米之间。之后，对该不透光材料进行一微影制程，以定义出黑矩阵302，此时黑矩阵302是将基板300划分成数个次画素区，这些次画素区是依照所欲形成的彩色光阻层的颜色可分为红色(R)次画素区301、绿色(G)次画素区303与蓝色(B)次画素区305。

然后，请参阅图5B所示，在基板300上形成红色(R)光阻层304覆盖黑矩阵302，其中形成红色光阻层304的方法例如是进行旋转涂布制程以及烘烤制程等步骤，且在本实施例中是以具有负光阻性质的红色光阻层304为例来进行说明。

接着，请参阅图5C所示，在基板300上方设置光罩306，以对红色光阻层304进行曝光制程310，其中光罩306具有透光区308a、部分透光区308b以及不透光区308c，且部分透光区308b是位于透光区308a与不透光308b区之间，而且对应下方黑矩阵302的边缘处。此外，由于在本实施例中红色光阻层304具有负光阻的性质，所以欲保留的红色光阻层304是对应光罩306的透光区308a。之后，进行显影制程，以保留下位于红色次画素区301的红色光阻层304a(如图5D所示)。

继之，请参阅图5E所示，在基板300上形成绿色光阻层312，覆盖红色光阻层304a与黑矩阵302。

然后，请参阅图5F所示，在基板300上方设置光罩314，以对绿色光阻层312进行曝光制程315，其中光罩314与光罩306具有相同的特性，其都具有透光区316a、部分透光区316b以及不透光区316c，并且依照不同的图案需求设计光罩314的图案。接着，进行另一次显影制程，以保留下位于绿色次画素区303的绿色光阻层312a(如图5G所示)。

之后，请参阅图5H所示，在基板300上形成蓝色光阻层318，覆盖红色光阻层304a、绿色光阻层312a与黑矩阵302。

继之，请参阅图5I所示，在基板300上方设置光罩320，并且对蓝色光阻层318进行另一次的曝光制程321，其中光罩320与光罩306或314具有相同的特性，其都具有透光区322a、部分透光区322b以及不透光区322c，并且依照不同的图案需求设计光罩320的图案。

接着，请参阅图5J所示，进行再一次显影制程，以保留下位于蓝色次画素区305的蓝色光阻层318a。而依照上述所形成的红色光阻层304a、绿色光阻层312a与蓝色光阻层318a可以依排列方式而再细分为马赛克型、三角形、条纹型等等。

当然在所形成的彩色滤光膜基板上方(包括单色或是全彩)还包括配置有复数层膜层(图中未示)，例如保护膜、电极膜及配向膜等依序配置。其中保护膜用以保护及平坦化彩色光阻层204a、304a、312a与318a，此外，电极膜的材质例如为氧化铟锡等具有同等效能的材质，另外，配向膜是用来使后续配置于其上的液晶分子以一定方向排列(配向)，以使液晶分子达到预倾的目的。而在基板200、300的另一表面更包括配置有一偏光板(图中未示)，以达到显示的功效。

此外，除了彩色滤光膜基板外，再另外提供一薄膜晶体管数组基板，并且在该二基板的间配置一层液晶层，即完成一液晶显示器的制作。其中，形成薄膜晶体管数组基板与液晶层方法例如是采用现有习知的制程技术。

因此由上可知，本发明利用具有部分透光区的光罩来进行曝光制程，经由该部分透光区曝光的光阻区域，在进行显影制程之后，该光阻区域的移除速率是介于透光区与不透光区所对应的光阻区域之间，所以可以解决现有习知利用黑树脂作为黑矩阵的材料，而黑矩阵边缘处产生色间断差的问题。

此外，利用本发明的彩色滤光膜基板的制造方法，不但较不会产生环境污染的问题，而且由于所形成的彩色光阻层具有一平坦的表面，所以具有该彩色滤光基板的液晶显示器，不会产生现有习知显色不佳的问题。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的方法及技术内容作出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施例，但是凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (10)

1、一种彩色滤光膜基板的制造方法，其特征在于该方法包括以下步骤：

在一基板上形成一黑矩阵；

在该基板上形成一彩色光阻层，覆盖该黑矩阵；

在该基板上方设置一光罩，以对该彩色光阻层进行一曝光制程，其中该光罩具有一透光区、一部分透光区以及一不透光区，且该部分透光区是位于该透光区与该不透光区之间，而且对应下方该黑矩阵的边缘处；以及

进行一显影制程，以图案化该彩色光阻层。

2、根据权利要求1所述的彩色滤光膜基板的制造方法，其特征在于其中所述的光罩的该部分透光区的透光面积是由该透光区至该不透光区逐渐减少。

3、根据权利要求1所述的彩色滤光膜基板的制造方法，其特征在于其中所述的黑矩阵的材质包括黑树脂。

4、一种彩色滤光膜基板的制造方法，其特征在于该方法包括以下步骤：

在一基板上形成一黑矩阵，该黑矩阵是将该基板划分出一第一区域、一第二区域与一第三区域；

在该基板上形成一第一彩色光阻层，以覆盖该黑矩阵；

在该基板上方设置一第一光罩，以对该第一彩色光阻层进行一第一曝光制程，其中该第一光罩具有一第一透光区、一第一部分透光区以及一第一不透光区，且该第一部分透光区是位于该第一透光区与该第一不透光区之间，而且对应下方该黑矩阵的边缘处；

进行一第一显影制程，以保留下位于该第一区域的该第一彩色光阻层；

在该基板上形成一第二彩色光阻层，以覆盖图案化的该第一彩色光阻层与该黑矩阵；

在该基板上方设置一第二光罩，以对该第二彩色光阻层进行一第二曝光制程，其中该第二光罩具有一第二透光区、一第二部分透光区以及一第二不透光区，且该第二部分透光区是位于该第二透光区与该第二不透光区之间，而且对应下方该黑矩阵的边缘处；

进行一第二显影制程，以保留下位于该第二区域的该第二彩色光阻层；

在该基板上形成一第三彩色光阻层，以覆盖该图案化的第一彩色光阻层、该图案化的第二彩色光阻层与该黑矩阵；

在该基板上方设置一第三光罩，以对该第三彩色光阻层进行一第三曝光制程，其中该第三光罩具有一第三透光区、一第三部分透光区以及一第三不透光区，且该第三部分透光区是位于该第三透光区与该第三不透光区之间，而且对应下方该黑矩阵的边缘处；以及

进行一第三显影制程，以保留下位于该第三区域的该第三彩色光阻层。

5、根据权利要求4所述的彩色滤光膜基板的制造方法，其特征在于其中所述的第一光罩的该第一部分透光区的透光面积是由该第一透光区至该第一不透光区逐渐减少。

6、根据权利要求4所述的彩色滤光膜基板的制造方法，其特征在于其中所述的第二光罩的该第二部分透光区的透光面积是由该第二透光区至该第二不透光区逐渐减少。

7、根据权利要求4所述的彩色滤光膜基板的制造方法，其特征在于其中所述的第三光罩的该第三部分透光区的透光面积是由该第三透光区至该第三不透光区逐渐减少。

8、根据权利要求4所述的彩色滤光膜基板的制造方法，其特征在于其中所述的黑矩阵的材质包括黑树脂。

9、一种彩色滤光膜基板的结构，其特征在于其包括：

一基板；

一黑矩阵，配置于该基板上；以及

一彩色光阻层，覆盖于该基板上，且部分该彩色光阻层是覆盖于该黑矩阵的边缘处，而且该彩色光阻层的表面是为一平坦的表面。

10、根据权利要求9所述的彩色滤光膜基板的结构，其特征在于其中所述的黑矩阵材质包括黑树脂。

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