JP6698289B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置に係わり、より詳しくは、白色画素を含む液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、現在、最も幅広く使用されている平板表示装置の一つであって、画素電極と共通電極など電界生成電極が形成されている二枚の表示板と、その間に挿入される液晶層とを含む。

液晶表示装置は、電界生成電極に電圧を印加して液晶層に電界を生成し、これを通じて液晶層の液晶分子の方向を決定し、入射光の偏光を制御することによって画像を表示する。

このような液晶表示装置は自ら発光できないので、光源を必要とする。この場合、光源は別途に具備された人工光源であるか、または自然光であり得る。液晶表示装置に使用される人工光源には、発光ダイオード（ＬＥＤ：Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）、冷陰極蛍光ランプ（ＣＣＦＬ：ｃｏｌｄ ｃａｔｈｏｄｅ ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ ｌａｍｐ）、外部電極蛍光ランプ（ＥＥＦＬ：ｅｘｔｅｒｎａｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ）などがある。人工光源は、液晶表示装置の後面あるいは側面に位置して光を供給する。ここで、光源は白色を発光する白色光源であり得る。

液晶表示装置に使用される色フィルタは、一般に、赤色、緑色、及び青色の三つを表示する。最近は、液晶表示装置の輝度を増加させるために、赤色画素、緑色画素、青色画素以外に、白色画素をさらに含む液晶表示装置が開発されている。

このように白色画素をさらに含む液晶表示装置は、白色画素に色フィルタを形成しない場合、色フィルタが形成されている他の画素との段差が生じるという問題点がある。

また、光源から供給されて白色画素を通過した光の色座標と、赤色、緑色、及び青色画素をそれぞれ通過して合わせられた光の色座標とが異なるという問題点がある。

本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、白色画素が他の色画素との段差が生じることなく、上部面が平坦に形成されるようにする液晶表示装置を提供することにある。

また、本発明の他の目的は、白色画素でカラーシフト（ｃｏｌｏｒ ｓｈｉｆｔ）が発生することを防止できる液晶表示装置を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板及び第２基板と、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第１色画素領域及び前記白色画素領域にそれぞれ位置する第１色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第２色画素領域に位置する第２色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第３色画素領域に位置する第３色フィルタと、前記第１基板と前記第２基板との間に位置する液晶層と、を含み、前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域は複数のドメインを含み、前記白色画素領域における前記第１色フィルタは前記複数のドメインの境界に位置することを特徴とする。

前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域にそれぞれ位置する画素電極をさらに含み、前記白色画素領域における前記第１色フィルタは前記画素電極と重なってもよい。

前記白色画素領域における前記第１色フィルタは前記画素電極より広い幅を有してもよい。

前記白色画素領域における前記第１色フィルタの幅は５μｍ以上、２５μｍ以下であってもよい。

前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の５０％以下の面積を有してもよい。

前記第１色は緑色であり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の５０％以下の面積を有してもよい。

前記第１色は赤色または青色であり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の２０％以下の面積を有してもよい。

前記第１色は緑色であり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の１７％以上、２６％以下の面積を有してもよい。

前記第１色は青色であり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の約１２％以上、１７％以下の面積を有してもよい。

前記白色画素領域は前記第２色フィルタをさらに含んでもよい。

前記白色画素領域の前記第２色フィルタは、前記複数のドメインの境界に位置してもよい。

前記第１色フィルタは第１方向に延在し、前記第２色フィルタは第２方向に延在し、前記第１方向は前記第２方向とは互いに異なってもよい。

前記第１色フィルタと前記第２色フィルタは互いに重なってもよい。

前記第１色フィルタと前記第２色フィルタは互いに交差し、交差する地点で互いに重なってもよい。

前記第１色は緑色であり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の１７％以上、２６％以下の面積を有し、前記第２色は青色であり、前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタは、前記白色画素領域の約１２％以上、１７％以下の面積を有してもよい。

前記白色画素領域に前記第３色フィルタがさらに位置してもよい。

前記白色画素領域において、前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタは互いに重なってもよい。

前記白色画素領域の中央で前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタは互いに重なってもよい。

前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタの上に形成されている蓋膜をさらに含んでもよい。

前記白色画素領域における前記第１色フィルタの幅は１９μｍ以上、２９μｍ以下であってもよい。

前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタの上に位置する蓋膜をさらに含み、前記蓋膜の厚さは２．９μｍ以上、４．７μｍ以下であってもよい。

前記白色画素領域における前記第１色フィルタの幅は２９μｍであってもよい。

前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタの上に位置する蓋膜をさらに含む、前記蓋膜の厚さは３．３μｍ以上、３．４μｍ以下であってもよい。

本発明の一実施形態による液晶表示装置は、第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板及び第２基板と、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第１色画素領域に位置する第１色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第２色画素領域に位置する第２色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第３色画素領域に位置する第３色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域の境界と前記白色画素領域に位置する遮光部と、前記第１基板と前記第２基板の間に位置する液晶層と、を含み、前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域は複数のドメインを含み、前記白色画素領域における前記遮光部は前記複数のドメインの境界に位置することを特徴とする。

前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域にそれぞれ位置する画素電極をさらに含み、前記白色画素領域で前記遮光部は前記画素電極と重なり、前記遮光部は前記画素電極より広い幅を有してもよい。

前記白色画素領域における前記遮光部の幅は５μｍ以上、１１μｍ以下であってもよい。

前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、前記第３色フィルタ、及び前記遮光部材の上に位置する蓋膜をさらに含む、前記蓋膜の厚さは３．４μｍ以上、４．７μｍ以下であってもよい。

前記白色画素領域における前記遮光部の幅は８μｍであってもよい。

前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、前記第３色フィルタ、及び前記遮光部材の上に位置する蓋膜をさらに含み、前記蓋膜の厚さは４．１μｍであってもよい。

本発明の一実施形態による液晶表示装置は、第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板及び第２基板と、前記第１基板の上の前記第１色画素領域に位置する第１色フィルタと、前記第１基板の上の前記第２色画素領域に位置する第２色フィルタと、前記第１基板の上の前記第３色画素領域に位置する第３色フィルタと、前記第１基板と前記第２基板の間に位置する液晶層と、を含み、前記第１基板の上の前記白色画素領域には前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタのうちの少なくとも二つが互いに重なるように位置することを特徴とする。

前記白色画素領域で前記第１色フィルタと前記第２色フィルタが互いに重なってもよい。

前記白色画素領域で前記第１色フィルタと前記第２色フィルタとは互いに交差し、前記交差する地点で互いに重なってもよい。

前記第１基板または前記第２基板の上の前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域にそれぞれ位置する画素電極をさらに含み、前記白色画素領域で前記第１色フィルタ及び前記第２色フィルタは前記画素電極と重なってもよい。

前記第１色は緑色であり、前記第２色は青色であってもよい。

前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の１７％以上、２６％以下の面積を有し、前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタは、前記白色画素領域の約１２％以上、１７％以下の面積を有してもよい。

前記画素電極は第１副画素電極及び第２副画素電極を含み、前記白色画素領域で前記第１色フィルタ及び前記第２色フィルタは前記第２副画素電極と重なってもよい。

前記第２副画素電極に印加されるデータ電圧は、前記第１副画素電極に印加されるデータ電圧より低くてもよい。

前記第１色は緑色であり、前記第２色は青色であってもよい。

前記白色画素領域で前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタが互いに重なってもよい。

前記白色画素領域で前記第１色フィルタと前記第２色フィルタは互いに交差し、前記交差する地点に前記第３色フィルタが位置してもよい。

前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域にそれぞれ位置する画素電極をさらに含み、前記白色画素領域で前記第１色フィルタ及び前記第２色フィルタは前記画素電極と重なってもよい。

前記白色画素領域において、前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタが重なる部分の厚さは、前記液晶表示装置のセルギャップと同一であってもよい。

前記白色画素領域において、前記第１色フィルタ及び前記第３色フィルタはＬ字状に曲がっており、前記第１色フィルタと前記第３色フィルタは対称をなし、対称軸で互いに重なってもよい。

前記白色画素領域で前記第２色フィルタは前記対称軸に位置してもよい。

前記白色画素領域は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形であり、前記対称軸は前記白色画素領域の中心に前記短辺と平行な方向に位置してもよい。

前記白色画素領域において、前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタが重なる部分の厚さは、前記液晶表示装置のセルギャップと同一であってもよい。

本発明の一実施形態による液晶表示装置は、第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板及び第２基板と、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第１色画素領域及び前記白色画素領域にそれぞれ位置する第１色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第２色画素領域に位置する第２色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第３色画素領域に位置する第３色フィルタと、前記第１基板上に位置する画素電極及び共通電極と、前記第１基板と前記第２基板の間に位置する液晶層と、を含み、前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域は複数のドメインを含み、前記白色画素領域における前記第１色フィルタは前記複数のドメインの境界に位置することを特徴とする。

前記画素電極は複数のスリットを含んでもよい。

前記複数のドメインは第１ドメイン及び第２ドメインを含み、前記第１ドメインに位置する前記スリットの延長方向は、前記第２ドメインに位置する前記スリットの延長方向と異なってもよい。

本発明の一実施形態による液晶表示装置は、第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板及び第２基板と、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第１色画素領域及び前記白色画素領域にそれぞれ位置する第１色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第２色画素領域に位置する第２色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第３色画素領域に位置する第３色フィルタと、前記第１基板と前記第２基板の間に位置する液晶層と、を含み、前記白色画素領域に全体的に前記第１色フィルタが位置し、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さは、前記第１色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さより薄いことを特徴とする。

前記第１色フィルタは、緑色フィルタまたは青色フィルタであってもよい。

前記第１色フィルタは緑色フィルタであり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さは、前記第１色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さの０％超過、２０％以下であってもよい。

前記第１色フィルタは緑色フィルタであり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さは、前記第１色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さの５％以上、１０％以下であってもよい。

前記第１色フィルタは青色フィルタであり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さは、前記第１色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さの０％超過、１０％以下であってもよい。

前記第１色フィルタは青色フィルタであり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さは、前記第１色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さの１％以上、５％以下であってもよい。

前記第２色フィルタは、前記第２色画素領域及び前記白色画素領域に位置してもよい。

前記第１色フィルタは緑色フィルタであり、前記第２色フィルタは青色フィルタであってもよい。

前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さは、前記第１色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さの０％超過、２０％以下であり、前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタの厚さは、前記第２色画素領域に位置する前記第２色フィルタの厚さの０％超過、１０％以下であってもよい。

前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さは、前記第１色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さの５％以上、１０％以下であり、前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタの厚さは、前記第２色画素領域に位置する前記第２色フィルタの厚さの１％以上、５％以下であってもよい。

前記第２色フィルタは前記白色画素領域に全体的に位置し、前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタの厚さは、前記第２色画素領域に位置する前記第１色フィルタの厚さより薄くてもよい。

前記白色画素領域における前記第２色フィルタは前記第１色フィルタの上に位置してもよい。

本発明の一実施形態による液晶表示装置は、第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域を含む液晶表示装置において、互いに対向する第１基板及び第２基板と、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第１色画素領域及び前記白色画素領域にそれぞれ位置する第１色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第２色画素領域に位置する第２色フィルタと、前記第１基板または前記第２基板の上の前記第３色画素領域に位置する第３色フィルタと、前記第１基板と前記第２基板の間に位置する液晶層と、を含み、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの面積は、前記白色画素領域の面積の０％超過、２５％以下であることを特徴とする。

前記第１色フィルタは、緑色フィルタまたは青色フィルタであってもよい。

前記第１色フィルタは緑色フィルタであり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの面積は、前記白色画素領域の面積の１０％以上、２５％以下であってもよい。

前記第１色フィルタは青色フィルタであり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの面積は、前記白色画素領域の面積の８％以上、１５％以下であってもよい。

前記第２色フィルタは、前記第２色画素領域及び前記白色画素領域に位置してもよい。

前記第１色フィルタは緑色フィルタであり、前記第２色フィルタは青色フィルタであってもよい。

前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタの面積は、前記白色画素領域の面積の０％以上、２０％以下であってもよい。

前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタの面積は、前記白色画素領域の面積の１０％以上、２５％以下であり、前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタの面積は、前記白色画素領域の面積の８％以上、１５％以下であってもよい。

上記のような本発明の一実施形態による表示装置は、次のような効果がある。

本発明の一実施形態による表示装置は、白色画素に色フィルタを形成することによって、他の色画素との段差を減らすことができる。

また、白色画素に形成される色フィルタの比率を調節することによって、白色画素でカラーシフトが発生することを防止できる。

本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図１のＩＩ−ＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図である。 図４のＶ−Ｖ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素を示した平面図である。 図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図１０のＸＩ−ＸＩに沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図である。 図１７ＡのＸＩＸ−ＸＩＸ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 図１７ＡのＸＸ−ＸＸ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図２１のＸＸＩＩ−ＸＸＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図２６のＸＸＶＩＩ−ＸＸＶＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図３１のＸＸＸＩＩ−ＸＸＸＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 図３１のＸＸＸＩＩＩ−ＸＸＸＩＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図３４のＸＸＸＶ−ＸＸＸＶ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図３９のＸＬ−ＸＬ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の一画素を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図４３のＸＬＩＶ−ＸＬＩＶ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 白色画素内に形成される色フィルタまたは遮光部の面積比による透過率の減少率を示したグラフである。 白色画素内に形成される色フィルタまたは遮光部の面積比による色座標を示した図面である。 赤色、緑色、青色画素を通過して合わせられた光の色座標と、白色画素を通過した光の色座標を示した図面である。 蓋膜の厚さによる段差の大きさを白色画素領域に位置する色フィルタの形状別に示したグラフである。 蓋膜の厚さによる段差の大きさを白色画素領域に位置する色フィルタの形状別に示したグラフである。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図５０のＬＩ−ＬＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の一部を示した工程断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の一部を示した工程断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の一部を示した工程断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図５６のＬＶＩＩ−ＬＶＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。 図５８のＬＩＸ−ＬＩＸ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の白色画素領域に位置する色フィルタの厚さ比による透過率を示したグラフである。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の色座標を示した図面である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の一部を示した工程断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の一部を示した工程断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の一部を示した工程断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の白色画素領域に位置する色フィルタの面積比による透過率を示したグラフである。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の色座標を示した図面である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の透過スペクトルを示した図面である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の色座標を示した図面である。

添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は種々の異なる形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限られない。

図面において、層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。明細書の全体にわたって類似する部分に対しては同一の図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上」にあると表現される場合、これは他の部分の「すぐ上」にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含む。一方、ある部分が他の部分の「すぐ上」にあるという表現される場合は、中間に他の部分がないことを意味する。

まず、図１及び図２を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

本発明の一実施形態による液晶表示装置は、互いに対向する第１基板１１０と第２基板２１０、及び第１基板１１０と第２基板２１０の間に注入された液晶層３を含む。

第１基板１１０及び第２基板２１０はガラスまたはプラスチックなどで形成されてもよい。液晶層３は複数の液晶分子３１０からなり、ポジティブ型またはネガティブ型に形成されてもよい。

第１基板１１０の後面には光源５００が配置されてもよい。光源５００は、発光ダイオード（ＬＥＤ：Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）などを含んでもよく、光源５００から光５１０が供給される。第１基板１１０と第２基板２１０の間に形成された電界によって液晶層３の液晶分子３１０の方向が決定され、液晶分子３１０の方向によって液晶層３を通過する光量が変化する。第２基板２１０の上には複数の色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置する。液晶層３を通過した光は、各色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを通過しながら一部波長の光は通過し、それ以外の波長の光は吸収される。

液晶表示装置は複数の画素領域を含み、複数の画素領域は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）、及び第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）で構成される。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、及び第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は、互いに異なる色を表示する画素領域であって、これらの色を合わせれば白色になりうる。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は白色を表示してもよい。例えば、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は赤色を表示し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は緑色を表示し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は青色を表示し、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は白色を表示してもよい。

また、本発明はこれら色に限定されず、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）はシアンを表示し、、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）はマゼンタを表示し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は黄色を表示し、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は白色を表示してもよい。

第２基板２１０の上には各画素領域ごとに色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第１色フィルタ２３０Ｒは、白色光が通過するとき赤色光のみを通過させる赤色フィルタに形成されてもよい。第２色フィルタ２３０Ｇは、白色光が通過するとき、緑色光のみを通過させる緑色フィルタに形成されてもよい。第３色フィルタ２３０Ｇは、白色光が通過するとき青色光のみを通過させる青色フィルタに形成されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンを配置してもよく、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちの少なくとも一つで形成されてもよい。本実施形態では、図１及び図２に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置している。ただし、本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第３色フィルタ２３０Ｂの代わりに第１色フィルタ２３０Ｒまたは第２色フィルタ２３０Ｇが位置してもよい。色フィルタの選択は場合により異なってもよい。例えば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）でイエローウィッシュ（ｙｅｌｌｏｗｉｓｈ）現象が発生することを防止するためには、緑色フィルタ及び／または青色フィルタを形成してもよい。また、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する着色パターンは、後述する遮光部２２０で形成されてもよい。また、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちの少なくとも一つと遮光部２２０を共に配置してもよい。例えば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第２色フィルタ２３０Ｇと遮光部２２０が形成されてもよい。

各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形であってもよい。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、及び第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）において、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂはそれぞれ、ほぼ四角形であってもよく、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）と類似する形状に形成されてもよい。

第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の一部領域に位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）における第３色フィルタ２３０Ｂは、一方向に延在している棒状であってもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）における第３色フィルタ２３０Ｂは、二つの短辺間の概ね中央に短辺と平行な方向に延在している。ただし、第３色フィルタ２３０Ｂの形状はこれに限定されず、多様に変形が可能である。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂと、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂとは、同一の工程により形成されてもよい。したがって、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）と第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）にそれぞれ位置する第３色フィルタ２３０Ｂは、同一の厚さに形成され得る。ただし、本発明はこれに限定されず、同一の工程により形成されても第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂと、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂとが異なる厚さに形成され得る。例えば、ハーフトーンマスクまたはスリットマスクを利用して、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂが、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂよりも薄い厚さに形成されてもよい。また、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂと、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂとが異なる工程により形成されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が白色を表示するようにするために、色フィルタを全く形成しない場合、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、及び第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）から出射する光が合わせられて表示する白色とは異なる色座標を示すことがある。つまり、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が表示する白色がカラーシフトになりうる。本発明の一実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの少なくとも１つを形成し、これらの比率を調節することによって、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を通過した白色の色座標が、第１、第２、第３色画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））を通過して合わせられた白色の色座標に近くなるようにすることができる。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）、及び第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の間の境界には遮光部２２０をさらに配置してもよい。遮光部２２０は、各画素領域の間の境界で色混じり、光漏れなどが生じることを防止できる。

第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０の上には蓋膜（ｏｖｅｒｃｏａｔ）２４０をさらに配置してもよい。蓋膜２４０は、第２基板２１０の上部面を平坦化する役割を果たす。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が白色を表示するように色フィルタを全く形成しない場合、他の画素領域との段差により平坦化が容易でない。したがって、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が第１、第２、及び第３画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））より大きいセルギャップ（ｃｅｌｌ−ｇａｐ）ＣＧ を有する。本発明の一実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちの少なくとも一つを形成することによって、他の画素領域との段差を減らして平坦化が容易である。したがって、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が第１、第２、及び第３画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））と類似するセルギャップＣＧを有することができる。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する蓋膜２４０の厚さ（ｔｗ）と、第１、第２、第３色画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））に位置する蓋膜２４０の厚さ（ｔｇ）とは、実質的に同一であってもよい。また、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する蓋膜２４０の厚さ（ｔｗ）と、第１、第２、第３色画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））に位置する蓋膜２４０の厚さ（ｔｇ）との差は、第１、第２、第３色画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））に位置する蓋膜２４０の厚さ（ｔｇ）の約１０％以内であってもよい。この場合、蓋膜２４０の厚さｔｗ、ｔｇは、第２基板２１０の上部面から蓋膜２４０の上部面までの距離であってもよい。または、蓋膜２４０の厚さｔｗ、ｔｇは、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの下部面から蓋膜２４０の上部面までの距離、又は色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの下に位置した層の間から蓋膜２４０の上部面までの距離であってもよい。ここで、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの下に位置した層は、薄膜トランジスタ上部の保護膜であってもよい。

上記の第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置しない領域がある。当該領域には色フィルタが位置しないことによって、可視光線の全領域の波長を全て通過させて白色光を表示することができる。ただし、本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に白色フィルタが位置してもよい。白色フィルタは、可視光線の全領域の波長を全て通過させる透明なフォトレジスタで形成されてもよい。

次に、図３乃至図５を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置についてさらに詳細に説明する。

図３は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図であり、図４は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図であり、図５は、図４のＶ−Ｖ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素の断面図である。

図３に示すように、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は四つのドメイン（ｄｏｍａｉｎ）を含み、四つのドメインは第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４を含む。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、一つの横線と一つの縦線により四つのドメインに分かれる。この場合、横線を基準として上側、縦線を基準として左側に第１ドメインＤ１が位置し、横線を基準として上側、縦線を基準として右側に第２ドメインＤ２が位置する。また、横線を基準として下側、縦線を基準として右側に第３ドメインＤ３が位置し、横線を基準として下側、縦線を基準として左側に第４ドメインＤ４が位置する。

例えば、ドメインは、液晶分子３１０が傾く方向により区分されてもよい。初期状態で液晶分子３１０は第１基板１１０に対して垂直方向に位置するが、液晶層３に電界が形成されると、液晶分子３１０は所定の角度を有して傾く。この場合、第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４に位置する液晶分子３１０はそれぞれ、傾く方向が互いに異なってもよい。第１ドメインＤ１に位置する液晶分子３１０は、横線及び縦線を基準として左側上方に傾き、第２ドメインＤ２に位置する液晶分子３１０は横線及び縦線を基準として右側上方に傾いてもよい。第３ドメインＤ３に位置する液晶分子３１０は、横線及び縦線を基準として右側下方に傾き、第４ドメインＤ４に位置する液晶分子３１０は、横線及び縦線を基準として左側下方に傾いてもよい。つまり、液晶分子は、横線と縦線との交点（４つのドメインの中心）を中心にして放射状に傾いている。

上述したドメインを区分する基準は例示に過ぎず、他の基準によりドメインが区分されることもできる。

図示は省略したが、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）もそれぞれ四つのドメインを含んでもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第３色フィルタ２３０Ｂが形成されており、第３色フィルタ２３０ＢはドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。例えば、第３色フィルタ２３０Ｂは、第１ドメインＤ１と第４ドメインＤ４の間の境界に位置し、第２ドメインＤ２と第３ドメインＤ３の間の境界に位置してもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける基準である横線と重なるようになる。

ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界は暗部に視認でき、第３色フィルタ２３０ＢをドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置させることによって、透過率の減少を最小化することができる。

図４及び図５に示すように、第１基板１１０の上にはゲート線１２１及び維持電極線１３１が形成されている。

ゲート線１２１は、図４中において主に横方向に延在し、ゲート信号を伝達する。ゲート線１２１から突出するゲート電極１２４が形成されている。

維持電極線１３１はゲート線１２１と平行な方向、即ち、図４中において横方向に延在し、共通電圧などのような定められた電圧を伝達する。維持電極線１３１から拡張される維持電極１３３が形成されている。維持電極１３３は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の周縁を取り囲む形状に形成されてもよい。

ゲート線１２１、ゲート電極１２４、維持電極線１３１、及び維持電極１３３の上にはゲート絶縁膜１４０が形成されている。シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などのような無機絶縁物質で形成されてもよい。また、ゲート絶縁膜１４０は単一膜または多重膜で形成されてもよい。

ゲート絶縁膜１４０の上には半導体１５４が形成されている。半導体１５４はゲート電極１２４と重なる。半導体１５４は、非晶質シリコン（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）、多結晶シリコン（ｐｏｌｙｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｓｉｌｉｃｏｎ）、及び金属酸化物（ｍｅｔａｌｏｘｉｄｅ）などで形成されてもよい。

半導体１５４の上にはオーミックコンタクト部材（ｏｈｍｉｃ ｃｏｎｔａｃｔ ｍｅｍｂｅｒ）（図示せず）がさらに形成されてもよい。オーミックコンタクト部材は、シリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）またはｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質で形成されてもよい。

半導体１５４の上にはデータ線１７１、ソース電極１７３、及びドレイン電極１７５が形成されている。ソース電極１７３はデータ線１７１から突出しており、ドレイン電極１７５はソース電極１７３と離隔している。ソース電極１７３及びドレイン電極１７５はゲート電極１２４と重なる。

ゲート電極１２４、ソース電極１７３、及びドレイン電極１７５は、半導体１５４と共に一つの薄膜トランジスタＱを構成し、薄膜トランジスタＱのチャネルは、ソース電極１７３とドレイン電極１７５の間の半導体に形成される。

データ線１７１、ソース電極１７３、ドレイン電極１７５、及び露出した半導体１５４部分の上には保護膜１８０が形成されている。保護膜１８０にはドレイン電極１７５の少なくとも一部を露出させるコンタクトホール１８５が形成されている。

保護膜１８０の上には画素電極１９１が形成されている。画素電極１９１は、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などのような透明な金属酸化物で形成されてもよい。

画素電極１９１は全体的にほぼ四角形である。画素電極１９１は、横幹部１９３、及び横幹部１９３と交差する縦幹部１９２からなる十字状幹部を含む。また、画素電極１９１は、横幹部１９３及び縦幹部１９２から延在する微細枝部１９４を含む。また、四角形状の画素電極１９１から延長されている延長部１９７がさらに形成されている。延長部１９７は、コンタクトホール１８５を通じてドレイン電極１７５と物理的、電気的に接続されており、ドレイン電極１７５からデータ電圧の印加を受ける。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、画素電極１９１の横幹部１９３及び縦幹部１９２によって四つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分かれる。微細枝部１９４は横幹部１９３及び縦幹部１９２から斜めな方向に延在する。例えば、第１ドメインＤ１において、微細枝部１９４は横幹部１９３または縦幹部１９２から左側上方に延在し、第２ドメインＤ２において、微細枝部１９４は横幹部１９３または縦幹部１９２から右側上方に延在する。第３ドメインＤ３において、微細枝部１９４は横幹部１９３または縦幹部１９２から右側下方に延在し、第４ドメインＤ４において、微細枝部１９４は横幹部１９３または縦幹部１９２から左側下方に延在する。微細枝部１９４の形成方向によって、液晶層３に電界が形成されるときに液晶分子３１０が傾く方向が決定される。

各微細枝部１９４は、ゲート線１２１または横幹部１９３と約４５°または約１３５°の角をなしてもよい。また、隣接する二つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の微細枝部１９４が延在する方向は互いに直交してもよい。

画素電極１９１は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の外郭を取り囲む外郭幹部をさらに含んでもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第１基板１１０と対向する第２基板２１０の上には第３色フィルタ２３０Ｂが形成されている。第３色フィルタ２３０Ｂは画素電極１９１の横幹部１９３と重なる。横幹部１９３はドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける手段であって、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。したがって、第３色フィルタ２３０ＢはドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。

上述した通り、複数のドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に位置する液晶分子３１０は、液晶層３に電界が形成されるとき傾く方向がそれぞれ相異なり、この場合、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する液晶分子３１０の傾く方向は明確でない。したがって、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の境界領域はドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の中心部に比べて相対的に透過率が低いことがある。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）のドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４それぞれの中心部に第３色フィルタ２３０Ｂを形成する場合に、透過率の減少が発生しうる。本発明の一実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）のドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に第３色フィルタ２３０Ｂを形成することによって、透過率の減少を最小化することができる。

また、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界は、１つの画素内の概ね中央部に位置しているので、平坦化の側面からも有利である。第３色フィルタ２３０Ｂが第１ドメインＤ１及び第２ドメインＤ２の中央部で横方向に棒状に形成される場合、第１ドメインＤ１及び第２ドメインＤ２では蓋膜２４０が平坦に形成されるが、第３ドメインＤ３及び第４ドメインＤ４では相対的に平坦度が劣るようになる。本発明の一実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）のドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に第３色フィルタ２３０Ｂが位置することによって、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に全体的に蓋膜２４０が平坦に形成される。

第３色フィルタ２３０Ｂの幅（Ｗ）は、約５μｍ以上、約２５μｍ以下であってもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは、画素電極１９１の横幹部１９３と重なって形成されており、一般に金属配線のパターンは約５μｍ程度に形成されてもよく、第３色フィルタ２３０Ｂは画素電極１９１の横幹部１９３より広い幅に形成されるのが好ましい。第３色フィルタ２３０Ｂが画素電極１９１の横幹部１９３より狭い幅に形成される場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）内に３色フィルタ２３０Ｂが位置せず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を通過する光が第３色フィルタ２３０Ｂを通過できない。そのため、色座標移動の効果が現せない場合があるためである。しかし、第３色フィルタ２３０Ｂの幅（Ｗ）を過度に広く形成すれば、透過率の減少量が大きくなる場合があるので、第３色フィルタ２３０Ｂの幅（Ｗ）は約２５μｍ以下に形成してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の周縁には遮光部２２０が形成されており、第４色フィルタ２３０Ｂ及び遮光部２２０の上には蓋膜２４０が形成されている。

蓋膜２４０の上には共通電極２７０が形成されている。共通電極２７０は、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などのような透明な金属酸化物で形成されてもよい。

共通電極２７０には共通電圧と同様の一定の電圧が印加される。画素電極１９１にデータ電圧が印加されると、画素電極１９１と共通電極２７０の間に電界が形成され、これらの間に注入された液晶層３の液晶分子３１０が所定の方向に整列するようになる。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）について上述したが、第１、第２、第３画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））も類似する画素構造を有する。ただし、第１画素領域ＰＸ（Ｒ）の大部分には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２画素領域ＰＸ（Ｇ）の大部分には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３画素領域ＰＸ（Ｂ）の大部分には第３色フィルタ２３０Ｂが位置するという点で相異なる構造を有する。

本実施形態では、画素電極１９１の微細枝部１９４の形成方向によって、液晶層３に電界が形成されるとき液晶分子３１０が傾く方向が決定され、そのために複数のドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分かれることを説明したが、本発明はこれに限られない。

本発明の一実施形態による液晶表示装置において、画素電極と共通電極は同一の基板上に形成されてもよく、液晶層３に水平電界が形成されてもよい。この場合、画素電極と共通電極はそれぞれ棒状に形成され、交互に配置されてもよい。または、画素電極及び共通電極のいずれか一つは面状（Ｐｌａｎａｒ ｓｈａｐｅ）の電極に形成され、他の一つは棒状に形成されてもよい。このような液晶表示装置の場合、一つの画素領域内で画素電極及び／または共通電極が一度以上曲がった形状になってもよく、曲がった地点を基準として両側に位置する液晶分子は互いに異なる配列方向を有するようになる。この場合、液晶分子の配列方向により一つの画素領域は複数のドメインに分れる。複数のドメイン間の境界では液晶分子の配列が一定でなく、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の複数のドメイン間の境界に色フィルタを形成することによって、透過率の減少を最小化することができる。

上記で、各色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが第２基板２１０の上に位置する場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、各色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが第１基板１１０の上に位置してもよい。以下、図６を参照してこれについて説明する。

図６は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。図６は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を示している。

図６に示すように、第１基板１１０の上にゲート電極１２４、半導体１５４、ソース電極１７３、ドレイン電極１７５、及び保護膜１８０が形成され、保護膜１８０の上に第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。

保護膜１８０及び第３色フィルタ２３０Ｂの上には蓋膜１８２が形成され、蓋膜１８２の上に画素電極１９１が形成されている。

保護膜１８０及び蓋膜１８２にコンタクトホール１８５が形成されており、画素電極１９１はコンタクトホール１８５を通じてドレイン電極１７５と接続されている。

第２基板２１０の上には遮光部２２０、蓋膜２４０、及び共通電極２７０が形成されている。

上記で、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）について説明したが、第１、第２、第３画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））も類似する画素構造を有する。第１画素領域ＰＸ（Ｒ）では第１色フィルタ２３０Ｒが第１基板１１０の上に位置し、第２画素領域ＰＸ（Ｇ）では第２色フィルタ２３０Ｇが第１基板１１０の上に位置し、第３画素領域ＰＸ（Ｂ）では第３色フィルタ２３０Ｂが第１基板１１０の上に位置してもよい。

上記で、遮光部２２０は第２基板２１０の上に形成されることと説明したが、本発明はこれに限られない。遮光部２２０が第１基板１１０の上に形成されてもよい。この場合、遮光部２２０は保護膜１８０の上に形成されてもよく、保護膜１８０、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０の上には蓋膜１８２が形成されてもよい。

上記で、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）は画素電極１９１の横幹部１９３及び縦幹部１９２によって四つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分かれることと説明したが、本発明はこれに限られない。ドメインの分割手段は、切開部、突起など多様である。以下、図７及び図８を参照してこれについて説明する。

図７は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素を示した平面図であり、図８は、図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

画素電極１９１は、その中央に位置する部分板電極１９５、及び部分板電極１９５から斜線方向に突出している複数の微細枝部１９４を含む。部分板電極１９５は、平面視において、菱形状または六角形などに形成されてもよい。微細枝部１９４は、部分板電極１９５に対して約４５°の角をなしてもよい。より具体的には、微細枝部１９４は、例えば、部分板電極１９５の中心を通る横線及び縦線に対して、約４５°の角度をなしていてもよい。

共通電極２７０には液晶制御手段として切開部２７５が十字状に形成されている。切開部２７５の十字構造において、交差点は画素電極１９１の部分板電極１９５の菱形状の中心と重なる。このような切開部２７５は、液晶分子３１０の制御力を向上させる役割を果たす。より具体的には、部分板電極１９５の中心を通って互いに交差する横線及び縦線に沿って、切開部２７５が形成されている。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、共通電極２７０の十字状の切開部２７５によって四つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分かれる。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置し、第３色フィルタ２３０Ｂは十字状の切開部２７５と一部重なる。例えば、十字状の切開部２７５は横部と縦部で形成されてもよく、第３色フィルタ２３０Ｂは横部と重なってもよい。切開部２７５はドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける手段であって、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。したがって、第３色フィルタ２３０ＢはドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。

上記の図１をさらに参照すれば、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の順に横方向に位置する。また、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）と第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は縦方向に互いに隣接し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）と第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は縦方向に互いに隣接する。本発明の各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）の配置はこれに限定されず、多様に変更される。以下、図９を参照してこれについて説明する。

図９は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。

図９に示すように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）と第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は横方向に隣接する。複数の第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は縦方向に互いに隣接し、複数の第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は縦方向に互いに隣接する。

第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）または第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）と横方向に隣接する。即ち、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の一部は第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）と横方向に隣接し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）の他の一部は第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）と横方向に隣接する。

図１に示された実施形態の場合、液晶表示装置の全体面積において第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が占める面積の比率は約１／４であり、図９に示された実施形態の場合、液晶表示装置の全体面積において第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が占める面積の比率は約１／６になってもよい。また、図９に示された実施形態の場合、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｂ）の一辺の長さの比率を調節して、液晶表示装置の全体面積において第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が占める面積の比率が約１／４になってもよい。

次に、図１０及び図１１を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図１０及び図１１に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図１乃至図５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域に位置する色フィルタが他の画素領域の色フィルタと連結されるという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図１０は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図１１は、図１０のＸＩ−ＸＩに沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

図１１には第２基板２１０及び第２基板２１０の上に形成されている構成要素を示し、第１基板、液晶層、光源などは省略した。第１基板、液晶層、光源などは図１を参照すればよく、図１１には、便宜上、第２基板２１０において色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが形成されている面が上面になるように示した。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

図１１では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂは、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂと接続されてもよい。つまり、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂは、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂから突出した形状になってもよい。具体的には、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の中央部において第３色フィルタ２３０Ｂは横方向に棒状に配置されている。そして、第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に隣接する第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に向かって延びて第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に接続されている。

次に、図１２乃至図１４を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図１２乃至図１４に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図１乃至図５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域に位置する色フィルタの延長方向が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図１２は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図１３は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図であり、図１４は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図である。

図１２に示すように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置してもよい。第２色フィルタ２３０Ｇは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の一部領域に位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において第２色フィルタ２３０Ｇは一方向に延在する棒状になってもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において第２色フィルタ２３０Ｇは二つの長辺間の中央に長辺と概ね平行な方向に延在する。ただし、第２色フィルタ２３０Ｇの形状はこれに限定されず、多様に変更が可能である。図１２の場合、第２色フィルタ２３０Ｇは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に隣接する第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に向かって延びて第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に接続されている。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇと接続されていることと示されているが、本発明はこれに限られない。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇと接続されていなくてもよい。

図１３に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４を含み、第２色フィルタ２３０ＧはドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。例えば、第２色フィルタ２３０Ｇは、第１ドメインＤ１と第２ドメインＤ２の間の境界に位置し、第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界に位置してもよい。第２色フィルタ２３０ＧはドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける基準である縦線と重なるようになる。

図１４に示すように、画素電極１９１は、互いに交差する横幹部１９３と縦幹部１９２、及びこれらから延在する微細枝部１９４を含む。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、画素電極１９１の横幹部１９３及び縦幹部１９２によって四つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分かれる。第２色フィルタ２３０Ｇは画素電極１９１の縦幹部１９２と重なる。

次に、図１５及び図１６を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図１５及び図１６に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図１乃至図５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域における色フィルタの位置が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図１５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図であり、図１６は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図である。

図１５に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置してもよい。第２色フィルタ２３０Ｇは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の一部領域に位置し、特に、第２色フィルタ２３０Ｇは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の中央に位置してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４を含み、第２色フィルタ２３０Ｇは、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。第２色フィルタ２３０Ｇは、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける基準である横線と縦線が接する部分と重なるようになる。したがって、第２色フィルタ２３０Ｇは、第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４と一部重なる。図１５に示すように、第２色フィルタ２３０Ｇは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の概ね中央部であり、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける基準となる部分に、概ね円形状で配置されている。

図１６に示すように、ドレイン電極１７５は、ソース電極１７３によって取り囲まれている部分と、これから延長されて第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に形成されている延長部１７６とを含む。延長部１７６は第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の中央に位置してもよい。具体的に、図１６に示すように延長部１７６のドレイン電極１７５とは異なる端部は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の中央部に位置する。また、延長部１７６は、第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４を分割する縦線に沿って、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の中央部に向かって延びている。コンタクトホール１８５はドレイン電極１７５の延長部１７６を露出させるように形成され、画素電極１９１はドレイン電極１７５の延長部１７６と接続されている。

画素電極１９１は、互いに交差する横幹部１９３と縦幹部１９２、及びこれらから延在する微細枝部１９４を含む。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、画素電極１９１の横幹部１９３及び縦幹部１９２によって四つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分かれる。

第２色フィルタ２３０Ｇはドレイン電極１７５の延長部１７６と重なってもよい。第２色フィルタ２３０Ｇはコンタクトホール１８５と重なってもよい。第２色フィルタ２３０Ｇは画素電極１９１の横幹部１９３と縦幹部１９２が交差する部分に位置してもよい。

ドレイン電極１７５は不透明な金属からなるのが一般的であり、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の第２色フィルタ２３０Ｇをドレイン電極１７５と重なるように位置させることによって、透過率の減少を最小化することができる。

第２色フィルタ２３０Ｇは円形状に示されているが、本発明はこれに限定されず、四角形状、楕円形状など多様に変更が可能である。また、第２色フィルタ２３０Ｇは棒状に形成されてもよく、ドレイン電極１７５と画素電極１９１が重なる部分に位置してもよい。つまり、第２色フィルタ２３０Ｇは、ドレイン電極１７５が第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の中央部に向かっている部分において、重なってもよい。このとき、ドレイン電極１７５は画素電極１９１の縦幹部の下側半分と重なる。

上記で第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）について説明したが、第１、第２、第３色画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））も類似する画素構造を有する。

次に、図１７Ａ乃至図２０を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図１７Ａ乃至図２０に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図１乃至図５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、各画素領域が複数の副画素領域に分かれるという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図１７Ａ乃至図１７Ｆは、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図であり、図１８は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図である。図１９は、図１７ＡのＸＩＸ−ＸＩＸ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図であり、図２０は、図１７ＡのＸＸ−ＸＸ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

図１７Ａに示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は複数の副画素領域を含んでもよく、複数の副画素領域は第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌで構成されてもよい。第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌはそれぞれ第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４を含む。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。例えば、第３色フィルタ２３０Ｂが第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置してもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第３色フィルタ２３０Ｂは第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌのうちの少なくとも一つに位置してもよい。例えば、第３色フィルタ２３０Ｂが第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の第２副画素領域ＰＸ_ｌに位置してもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の第２副画素領域ＰＸ_ｌのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。例えば、第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の第２副画素領域ＰＸ_ｌの第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界に位置してもよい。例えば、第３色フィルタ２３０Ｂは、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける基準である縦線の一部と重なる。

上記で、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）における着色パターンの位置は多様に変更が可能である。以下、図１７Ｂ乃至図１７Ｆを参照して、多様な着色パターンの位置について説明する。

図１７Ｂに示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する着色パターンは、例えば第３色フィルタ２３０Ｂで形成され、第３色フィルタ２３０Ｂは第１副画素領域ＰＸ_ｈと第２副画素領域ＰＸ_ｌの間に位置してもよい。第１副画素領域ＰＸ_ｈと第２副画素領域ＰＸ_ｌの間の領域は薄膜トランジスタなどが位置するところで、非表示領域に該当する。したがって、第１副画素領域ＰＸ_ｈと第２副画素領域ＰＸ_ｌの間に着色パターンが位置することによって、開口率の減少を最小化することができる。

また、第３色フィルタ２３０Ｂは、第１副画素領域ＰＸ_ｈの第１ドメインＤ１と第２ドメインＤ２の間の境界、第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界に位置し、第２副画素領域ＰＸ_ｌの第１ドメインＤ１と第２ドメインＤ２の間の境界、第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界に位置してもよい。

ここで、第３色フィルタ２３０Ｂが、第１副画素領域ＰＸ_ｈの第１ドメインＤ１と第２ドメインＤ２の間の境界、第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界に位置し、第２副画素領域ＰＸ_ｌの第１ドメインＤ１と第２ドメインＤ２の間の境界、第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界に位置する場合、第３色フィルタ２３０Ｂの幅Ｗ１は約５μｍ以上、約２５μｍ以下であってもよい。ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界は暗部に視認でき、第３色フィルタ２３０ＢをドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置させることによって、透過率の減少を最小化することができる。また、第３色フィルタ２３０Ｂが、第１副画素領域ＰＸ_ｈと第２副画素領域ＰＸ_ｌの間に位置する場合、第３色フィルタ２３０Ｂの幅Ｗ２は、薄膜トランジスタなどが位置する非表示領域の幅Ｗ３と実質的に同一であり、約２５μｍ以上、約１００μｍ以下であってもよい。

図１７Ｃに示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する着色パターンは、例えば第３色フィルタ２３０Ｂで形成されてもよく、第３色フィルタ２３０Ｂは第１副画素領域ＰＸ_ｈと第２副画素領域ＰＸ_ｌの間に位置してもよい。また、第３色フィルタ２３０Ｂは、第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌの第１ドメインＤ１と第４ドメインＤ４の間の境界、第２ドメインＤ２と第３ドメインＤ３の間の境界に位置してもよい。

ここで、第３色フィルタ２３０Ｂが、第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌの第１ドメインＤ１と第４ドメインＤ４の間の境界、第２ドメインＤ２と第３ドメインＤ３の間の境界に位置する場合、第３色フィルタ２３０Ｂの幅Ｗ４は約５μｍ以上、約２５μｍ以下であってもよい。第３色フィルタ２３０Ｂを、副画素領域間及びドメイン間に配置にすることによる効果は、上述した通りである。

図１７Ｄに示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する着色パターンは、例えば第３色フィルタ２３０Ｂで形成されてもよく、第３色フィルタ２３０Ｂは第１副画素領域ＰＸ_ｈと第２副画素領域ＰＸ_ｌの間に位置してもよい。また、第３色フィルタ２３０Ｂは、第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌの各ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置してもよい。第３色フィルタ２３０Ｂを、副画素領域間及びドメイン間に配置にすることによる効果は、上述した通りである。

図１７Ｅに示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する着色パターンは、例えば第３色フィルタ２３０Ｂで形成されてもよく、第３色フィルタ２３０Ｂは第１副画素領域ＰＸ_ｈと第２副画素領域ＰＸ_ｌの間に位置してもよい。また、第３色フィルタ２３０Ｂは、第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌの第１ドメインＤ１と第２ドメインＤ２の間の境界、第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界に位置してもよい。また、第３色フィルタ２３０Ｂは、第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌの第１ドメインＤ１と第４ドメインＤ４の間の境界の一部、第２ドメインＤ２と第３ドメインＤ３の間の境界の一部に位置してもよい。

この場合、各副画素領域ＰＸ_ｈ、ＰＸ_ｌに位置する第３色フィルタ２３０Ｂはほぼ十字状に形成されてもよく、十字状の縦部分は、各副画素領域ＰＸ_ｈ、ＰＸ_ｌの縦辺と類似する長さになり、十字状の横部分は、各副画素領域ＰＸ_ｈ、ＰＸ_ｌの横辺より短くなってもよい。十字状の横部分は各副画素領域ＰＸ_ｈ、ＰＸ_ｌの中央に位置してもよい。

図１７Ｆに示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する着色パターンは第３色フィルタ２３０Ｂで形成されてもよく、第３色フィルタ２３０Ｂは第１副画素領域ＰＸ_ｈと第２副画素領域ＰＸ_ｌの間に位置してもよい。また、第３色フィルタ２３０Ｂは、第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌの第１ドメインＤ１と第４ドメインＤ４の間の境界、第２ドメインＤ２と第３ドメインＤ３の間の境界に位置してもよい。また、第３色フィルタ２３０Ｂは、第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌの第１ドメインＤ１と第２ドメインＤ２の間の境界の一部、第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界の一部に位置してもよい。

この場合、各副画素領域ＰＸ_ｈ、ＰＸ_ｌに位置する第３色フィルタ２３０Ｂはほぼ十字状に形成されてもよく、十字状の横部分は、各副画素領域ＰＸ_ｈ、ＰＸ_ｌの横辺と類似する長さであり、十字状の縦部分は、各副画素領域ＰＸ_ｈ、ＰＸ_ｌの縦辺より短くなってもよい。十字状の横部分と縦部分とは分離されてもよい。

図１７Ａ乃至図１７Ｆに関する説明においては、一つの第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）について説明したが、隣接する第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）にも第３色フィルタが位置してもよい。この場合、互いに隣接する第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタの幅は異なってもよい。

以下、図１７Ａに示された第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）についてさらに詳細に説明する。図１８は、図１７Ａにおける第４色画素領域を示している。

図１８に示すように、第１基板（図示せず）の上にゲート線１２１及び維持電極線１３１が形成されている。

ゲート線１２１は、主に横方向に延在し、ゲート信号を伝達する。また、ゲート線１２１から突出して接続されている第１ゲート電極１２４ｈ及び第２ゲート電極１２４ｌが形成されている。また、ゲート線１２１から突出して第１ゲート電極１２４ｈ及び第２ゲート電極１２４ｌと離隔するように、第３ゲート電極１２４ｃが形成されている。第１、第２、第３ゲート電極（１２４ｈ、１２４ｌ、１２４ｃ）は同一のゲート線１２１に接続されて、同一のゲート信号が印加される。

維持電極線１３１はゲート線１２１と同一の方向に延在し、維持電極線１３１には一定の電圧が印加される。また、維持電極線１３１から突出している維持電極１３３及び突出部１３４が形成されている。維持電極１３３は、後述する第１副画素電極１９１ｈを取り囲むように形成されてもよく、突出部１３４はゲート線１２１に向かうように突出している。

ゲート線１２１、第１、第２、第３ゲート電極（１２４ｈ、１２４ｌ、１２４ｃ）、維持電極線１３１、維持電極１３３、及び突出部１３４の上にはゲート絶縁膜（図示せず）が形成されている。ゲート絶縁膜は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などのような無機絶縁物質で形成されてもよい。また、ゲート絶縁膜は単一膜または多重膜に形成されてもよい。

ゲート絶縁膜の上には第１半導体１５４ｈ、第２半導体１５４ｌ、及び第３半導体１５４ｃが形成される。第１半導体１５４ｈは第１ゲート電極１２４ｈの上に位置し、第２半導体１５４ｌは第２ゲート電極１２４ｌの上に位置し、第３半導体１５４ｃは第３ゲート電極１２４ｃの上に位置してもよい。

第１、第２、第３半導体（１５４ｈ、１５４ｌ、１５４ｃ）及びゲート絶縁膜の上にはデータ線１７１、第１ソース電極１７３ｈ、第１ドレイン電極１７５ｈ、第２ソース電極１７３ｌ、第２ドレイン電極１７５ｌ、第３ソース電極１７３ｃ、及び第３ドレイン電極１７５ｃが形成されている。

第１、第２、第３半導体（１５４ｈ、１５４ｌ、１５４ｃ）は第１、第２、第３ゲート電極（１２４ｈ、１２４ｌ、１２４ｃ）の上に形成されるだけでなく、データ線１７１の下に形成されてもよい。また、第２半導体１５４ｌと第３半導体１５４ｃは互いに接続されるように形成されてもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、第１、第２、第３半導体（１５４ｈ、１５４ｌ、１５４ｃ）が第１、第２、第３ゲート電極（１２４ｈ、１２４ｌ、１２４ｃ）の上にのみ形成されてもよく、第２半導体１５４ｌと第３半導体１５４ｃが互いに分離形成されてもよい。

データ線１７１は、データ信号を伝達し、主に縦方向に延在してゲート線１２１と交差する。

第１ソース電極１７３ｈは、データ線１７１から第１ゲート電極１２４ｈの上に突出して形成されている。第１ソース電極１７３ｈは、第１ゲート電極１２４ｈの上でＣ字状に曲がった形状を有してもよい。

第１ドレイン電極１７５ｈは、第１ゲート電極１２４ｈの上で第１ソース電極１７３ｈと離隔するように形成されている。互いに離隔するように形成された第１ソース電極１７３ｈと第１ドレイン電極１７５ｈの間に露出した部分の第１半導体１５４ｈにチャネルが形成されている。

第２ソース電極１７３ｌは、データ線１７１から第２ゲート電極１２４ｌの上に突出して形成されている。第２ソース電極１７３ｌは、第２ゲート電極１２４ｌの上でＣ字形に曲がった形状を有してもよい。

第２ドレイン電極１７５ｌは、第２ゲート電極１２４ｌの上で第２ソース電極１７３ｌと離隔するように形成されている。互いに離隔するように形成された第２ソース電極１７３ｌと第２ドレイン電極１７５ｌの間に露出した部分の第２半導体１５４ｌにチャネルが形成されている。

第３ソース電極１７３ｃは、第２ドレイン電極１７５ｌと接続されており、第３ゲート電極１２４ｃの上に形成されている。

第３ドレイン電極１７５ｃは、第３ゲート電極１２４ｃの上で第３ソース電極１７３ｃと離隔するように形成されている。互いに離隔するように形成された第３ソース電極１７３ｃと第３ドレイン電極１７５ｃの間に露出した部分の第３半導体１５４ｃにチャネルが形成されている。

上述した第１ゲート電極１２４ｈ、第１半導体１５４ｈ、第１ソース電極１７３ｈ、及び第１ドレイン電極１７５ｈは第１薄膜トランジスタＱｈを構成する。また、第２ゲート電極１２４ｌ、第２半導体１５４ｌ、第２ソース電極１７３ｌ、及び第２ドレイン電極１７５ｌは第２薄膜トランジスタＱｌを構成し、第３ゲート電極１２４ｃ、第３半導体１５４ｃ、第３ソース電極１７３ｃ、及び第３ドレイン電極１７５ｃは第３薄膜トランジスタＱｃを構成する。

データ線１７１、第１、第２、第３ソース電極（１７３ｈ、１７３ｌ、１７３ｃ）、第１、第２、第３ドレイン電極（１７５ｈ、１７５ｌ、１７５ｃ）の上には保護膜（図示せず）が形成されている。

保護膜には、第１ドレイン電極１７５ｈの一部が露出するように第１コンタクトホール１８５ｈが形成されており、第２ドレイン電極１７５ｌの一部が露出するように第２コンタクトホール１８５ｌが形成されており、突出部１３４と第３ドレイン電極１７５ｃの一部が露出するように第３コンタクトホール１８５ｃが形成されている。

保護膜の上には、第１副画素電極１９１ｈと第２副画素電極１９１ｌが形成されている。第１副画素電極１９１ｈは第１副画素領域ＰＸ_ｈに形成されており、第２副画素電極１９１ｌは第２副画素領域ＰＸ_ｌに形成されている。また、保護膜の上に橋電極１９６が形成されている。

第１副画素電極１９１ｈは、第１コンタクトホール１８５ｈを通じて第１ドレイン電極１７５ｈと接続されており、第２副画素電極１９１ｌは第２コンタクトホール１８５ｌを通じて第２ドレイン電極１７５ｌと接続されている。橋電極１９６は、第３コンタクトホール１８５ｃを通じて突出部１３４と第３ドレイン電極１７５ｃを電気的に接続する。即ち、第３ドレイン電極１７５ｃが維持電極線１３１に接続される。

第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌはそれぞれ第１ドレイン電極１７５ｈ及び第２ドレイン電極１７５ｌからデータ電圧の印加を受ける。この場合、第２ドレイン電極１７５ｌに印加されたデータ電圧のうちの一部は第３ソース電極１７３ｃを通じて分圧されて、第２副画素電極１９１ｌに印加される電圧の大きさは第１副画素電極１９１ｈに印加される電圧の大きさより小さくなる。これは、第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌに印加されるデータ電圧が正極性（＋）である場合であり、これとは反対に、第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌに印加されるデータ電圧が負極性（−）である場合には、第１副画素電極１９１ｈに印加される電圧が第２副画素電極１９１ｌに印加される電圧より小さくなる。

第２副画素電極１９１ｌの面積は、第１副画素電極１９１ｈの面積に比べて１倍以上、２倍以下であってもよい。

第１副画素電極１９１ｈと第２副画素電極１９１ｌは列方向に隣接し、全体的な形状は四角形状であり、横幹部１９３ｈ、１９３ｌ、及びこれと交差する縦幹部１９２ｈ、１９２ｌからなる十字状の幹部を含む。また、画素電極１９１は、横幹部１９３及び縦幹部１９２から延在する微細枝部１９４を含む。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の第１副画素領域ＰＸ_ｈ及び第２副画素領域ＰＸ_ｌは、それぞれ横幹部１９３ｈ、１９３ｌと縦幹部１９２ｈ、１９２ｌによって四つのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４に分かれる。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、画素電極１９１と同一の基板または対向する基板に第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の第２副画素領域ＰＸ_ｌで第２副画素電極１９１ｌの縦幹部１９２ｌと一部重なる。縦幹部１９２ｌは、第２副画素領域ＰＸ_ｌのドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける手段であって、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。したがって、第３色フィルタ２３０ＢはドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）について上述したが、第１、第２、第３色画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））も類似する画素構造を有する。

図１９及び図２０を参照すれば、第３色フィルタ２３０Ｂが形成されていない第１副画素領域ＰＸ_ｈの断面（図１７ＡのＸＩＸ−ＸＩＸ線の断面図）と、第３色フィルタ２３０Ｂが位置する第２副画素領域ＰＸ_ｌの断面（図１７ＡのＸＸ−ＸＸ線の断面図）とを比較することができる。第３色フィルタ２３０Ｂが形成されていない第１副画素領域ＰＸ_ｈのセルギャップｔ１は、第３色フィルタ２３０Ｂが位置する第２副画素領域ＰＸ_ｌのセルギャップｔ２より相対的に大きい。このように一画素領域内でセルギャップが互いに異なるように調節することによって、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を通過する光の波長を調節することができる。

次に、図２１乃至図２３を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図２１乃至図２３に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図１乃至図５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域に二つの色フィルタが位置するという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図２１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図２２は、図２１のＸＸＩＩ−ＸＸＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図であり、図２３は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。

図２１及び図２２に示すように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの二つが位置してもよい。例えば、図２１〜図２３に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する色フィルタの組み合わせは変更が可能である。例えば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第１色フィルタ２３０Ｒ及び第２色フィルタ２３０Ｇが位置するか、または、第１色フィルタ２３０Ｒ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）で第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂは互いに重なる。第２色フィルタ２３０Ｇは第１方向に延在し、第３色フィルタ２３０Ｂは第２方向に延在してもよい。第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｇは交差してもよく、第１方向と第２方向は直交してもよい。第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｇが交差する部分で互いに重なるようになる。第１方向は、例えば図２１において縦方向であり、第２方向は横方向である。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）で第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが重なることによって、セルギャップ（図２のＣＰ）を維持するスペーサ（ｓｐａｃｅｒ）の役割を果たすこともできる。即ち、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）で第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分の厚さがセルギャップに対応するように形成してもよい。また、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分の厚さをセルギャップより低く形成して、補助スペーサ（ｓｕｂ−ｓｐａｃｅｒ）の役割を果たすこともできる。また、第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが互いに重なる部分の厚さは、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、及び第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちのいずれか一つの厚さと実質的に同一であってもよい。この場合、第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分は、平坦化のための補助パターンとして用いられる。

第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分の厚さを調節するために、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）及び第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）にそれぞれ位置する第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂの厚さと異なるように形成してもよい。この場合、ハーフトーンマスクまたはスリットマスクなどが用いられる。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは一方向に延在する棒状になってもよい。

各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形であってもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第２色フィルタ２３０Ｇは二つの長辺間の中央に長辺と平行な方向に延在し、第３色フィルタ２３０Ｂは二つの短辺間の中央に短辺と平行な方向に延在する。ただし、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂの形状はこれに限定されず、多様に変更することができ、延長方向も変更が可能である。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは、他の画素領域の色フィルタと接続されてもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に隣接する第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇと接続されており、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に隣接する第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂと接続されている。ただし、本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが、他の画素領域の色フィルタと接続されていなくてもよい。

図２３に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４を含み、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０ＢはドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。例えば、第２色フィルタ２３０Ｇは、第１ドメインＤ１と第２ドメインＤ２の間の境界、及び第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界に位置してもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは、第１ドメインＤ１と第４ドメインＤ４の間の境界、及び第２ドメインＤ２と第３ドメインＤ３の間の境界に位置してもよい。第２色フィルタ２３０Ｇは、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける基準である縦線と重なるようになり、第３色フィルタ２３０Ｂは、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける基準である横線と重なるようになる。第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂは、横線と縦線が交差する地点で重なるようになる。

次に、図２４及び図２５を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図２４及び図２５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図２１乃至図２３に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域における色フィルタの位置が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図２４は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図であり、図２５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域を示した平面図である。

図２４に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、例えば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第１色フィルタ２３０Ｒ及び第２色フィルタ２３０Ｇが位置するか、または第１色フィルタ２３０Ｒ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）で第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂは互いに重なる。第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂは互いに交差してもよく、第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが交差する部分で互いに重なるようになる。第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分の厚みは、図２１等で説明したものと同様である。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形であってもよい。第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の一辺と所定の角をなす。第２色フィルタ２３０Ｇが第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の短辺となす角は、第３色フィルタ２３０Ｂが第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の短辺となす角と実質的に同一であってもよい。例えば、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の２つの対角線に沿うように配置されている。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４を含む。第２色フィルタ２３０Ｇは、主に第２ドメインＤ２及び第４ドメインＤ４に位置し、第３色フィルタ２３０Ｂは、主に第１ドメインＤ１及び第３ドメインＤ３に位置してもよい。

図２５に示すように、画素電極１９１は横幹部１９３、縦幹部１９２、及び微細枝部１９４を含む。

第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは微細枝部１９４と重なり、微細枝部１９４と平行な方向に延在する。第２色フィルタ２３０Ｇは、第２ドメインＤ２及び第４ドメイン４３に位置した微細枝部１９４と重なり、平行な方向に延在する。第３色フィルタ２３０Ｂは、第１ドメインＤ１及び第２ドメインＤ２に位置した微細枝部１９４と重なり、平行な方向に延在する。

次に、図２６乃至図２８を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図２６乃至図２８に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図２１乃至図２３に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域に三つの色フィルタが位置するという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図２６は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図２７は、図２６のＸＸＶＩＩ−ＸＸＶＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図であり、図２８は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の第４色画素領域が含むドメインを示した平面図である。

図２６及び図２７に示すように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂは互いに重なってもよい。第２色フィルタ２３０Ｇは第１方向に延在し、第３色フィルタ２３０Ｂは第２方向に延在してもよい。第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｇは交差してもよく、第１方向と第２方向は直交してもよい。第１色フィルタ２３０Ｒは、第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが交差する地点に位置してもよい。即ち、第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが交差する地点で第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なってもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なることによって、セルギャップ（図２のＣＰ）を維持するスペーサの役割を果たすこともできる。即ち、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分の厚さが、セルギャップに対応するように形成してもよい。また、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分の厚さをセルギャップより低く形成することによって、補助スペーサの役割を果たすこともできる。また、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが互いに重なる部分の厚さは、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、及び第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちのいずれか一つの厚さと実質的に同一であってもよい。この場合、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分は、平坦化のための補助パターンとして用いられる。

第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分の厚さを調節するために、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、及び第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）にそれぞれ位置する第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの厚さと異なるように形成してもよい。この場合、ハーフトーンマスクまたはスリットマスクなどが用いられる。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは一方向に延在する棒状になってもよく、第１色フィルタ２３０Ｒは円形状になってもよい。

各画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ））は、二つの短辺と、二つの長辺とを含む長方形であってもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第２色フィルタ２３０Ｇは二つの長辺間の中央に長辺と平行な方向に延在し、第３色フィルタ２３０Ｂは二つの短辺間の中央に短辺と平行な方向に延在し、第１色フィルタ２３０Ｒは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の中央に位置してもよい。ただし、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの形状はこれに限定されず、多様に変更することができ、延長方向も変更が可能である。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは、他の画素領域の色フィルタと接続されてもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に隣接する第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇと接続されており、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に隣接する第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂと接続されている。ただし、本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが、他の画素領域の色フィルタと接続されていなくてもよい。

図２８に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、第１ドメインＤ１、第２ドメインＤ２、第３ドメインＤ３、及び第４ドメインＤ４を含み、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂは、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の間の境界に位置する。例えば、第２色フィルタ２３０Ｇは、第１ドメインＤ１と第２ドメインＤ２の間の境界と、第３ドメインＤ３と第４ドメインＤ４の間の境界に位置してもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは、第１ドメインＤ１と第４ドメインＤ４の間の境界と、第２ドメインＤ２と第３ドメインＤ３の間の境界に位置してもよい。第２色フィルタ２３０Ｇは、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける基準である縦線と重なるようになり、第３色フィルタ２３０Ｂは、ドメインＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を分ける基準である横線と重なるようになる。第１色フィルタ２３０Ｒは、横線と縦線が重なる地点に位置してもよい。第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂは、横線と縦線が交差する地点で互いに重なるようになる。

次に、図２９を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図２９に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図２６乃至図２８に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に形成される色フィルタが互いに重ならないという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図２９は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。図２９に示すように、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置してもよい。本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちのいずれか一つが位置するか、または二つの組み合わせにより形成されてもよい。

各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形であってもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には短辺と平行な方向の境界を有するように第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置している。第２色フィルタ２３０Ｇが第１色フィルタ２３０Ｒと第３色フィルタ２３０Ｂの間に位置することと示されているが、本発明はこれに限られない。色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの配置順序は多様に変更が可能である。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置しない領域も存在する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び色フィルタが配置されない領域の大きさは同一の比率になってもよい。また、これら領域の大きさは相異なる比率になってもよい。例えば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）でイエローウィッシュ現象が発生するのを防止するためには、青色フィルタを他の色フィルタに比べて相対的に高い比率に形成してもよい。

次に、図３０を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図３０に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図２９に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に二つの色フィルタが位置するという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図３０は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に三つの色フィルタの全てが位置することではなく、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。この場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に形成される色フィルタの組み合わせは変更が可能である。例えば、第１色フィルタ２３０Ｒと第２色フィルタ２３０Ｇが位置するか、または第１色フィルタ２３０Ｒと第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び色フィルタが位置しない領域の大きさは同一の比率になってもよい。また、これら領域の大きさは相異なる比率になってもよい。

次に、図３１乃至図３３を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図３１乃至図３３に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図２６乃至図２８に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に形成される色フィルタの位置及び形状が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図３１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図３２は、図３１のＸＸＸＩＩ−ＸＸＸＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図であり、図３３は、図３１のＸＸＸＩＩＩ−ＸＸＸＩＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

図３１及び図３２に示すように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。また、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂは互いに重なる。

第１色フィルタ２３０Ｒと第３色フィルタ２３０ＢはＬ字状に曲がった形状になる。第１色フィルタ２３０Ｒと第３色フィルタ２３０Ｂは対称をなし、対称軸で互いに重なる。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形であり、対称軸は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の中心に短辺と平行な方向に位置する。第１色フィルタ２３０Ｒは、上辺と右側辺に沿って曲がった形状になり、第３色フィルタ２３０Ｇは、下辺と右側辺に沿って曲がった形状になる。第１色フィルタ２３０Ｒと第３色フィルタ２３０Ｇは、右側辺の中間部分で互いに重なってもよい。

第２色フィルタ２３０Ｇは対称軸に位置する。即ち、第２色フィルタ２３０Ｇは、上辺と下辺の間の中央に位置し、右側辺近傍の中間部分で第１色フィルタ２３０Ｒ及び第３色フィルタ２３０Ｂと重なる。第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが互いに重なる部分の厚さは、セルギャップ（図２のＣＧ）と実質的に同一であってもよく、スペーサの役割を果たすことができる。また、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分の厚さをセルギャップより低く形成することによって、補助スペーサの役割を果たすこともできる。また、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが互いに重なる部分の厚さは、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、及び第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちのいずれか一つの厚さと実質的に同一であってもよい。この場合、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが重なる部分は、平坦化のための補助パターンとして用いられる。

色フィルタを多様な方向に形成するのは実際工程で容易でなく、第１方向（例えば、横方向）及び第２方向（例えば、縦方向）の二方向に形成することができる。また、工程の便宜上、一つの画素内で一つの色フィルタは接続されるように形成してもよい。本実施形態では、このような工程特性を考慮して、色フィルタがＬ字状に曲がるように形成し、これらが接する部分で互いに重なるように形成する。

図３３に示すように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）において、第１色フィルタ２３０Ｒの上部面は凸部（ｃｏｎｖｅｘ）ＣＶと凹部（ｃｏｎｃａｖｅ）ＣＣを含む。第１色フィルタ２３０Ｒの上部面が平坦に形成される場合、液晶表示装置の正面から見るときの液晶表示装置を通過する光の経路と、側面から見るときの液晶表示装置を通過する光の経路とが互いに異なることがある。本実施形態では、第１色フィルタ２３０Ｒの上部面が凸部ＣＶと凹部ＣＣを含むエンボス形状を有するように形成することによって、液晶表示装置の正面の光経路と側面の光経路を同一にして、側面の視認性を向上させることができる。

例えば、図３３に示すように、凸部ＣＶと凹部ＣＣは所定の周期を有するように配置してもよく、周期は多様に変更が可能である。また、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の長辺に沿って凸部ＣＶと凹部ＣＣが繰り返される形状に示されているが、これとは反対に、短辺に沿って凸部ＣＶと凹部ＣＣが繰り返される形状になってもよい。また、長辺及び短辺に沿って凸部ＣＶと凹部ＣＣが繰り返されるようにマトリックス状に配置されてもよい。

図３３には第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）の断面を示しているが、第１色フィルタ２３０Ｒだけでなく、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂの上部面も凸部ＣＶと凹部ＣＣを含んでもよい。

次に、図３４及び図３５を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図３４及び図３５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、２６乃至図２８に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に形成される色フィルタの形成位置が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図３４は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図３５は、図３４のＸＸＸＶ−ＸＸＸＶ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂは重ならず、所定の間隔を有して離隔している。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形である。第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂは、短辺と平行な方向に延在する。

第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの幅は同一であってもよく、隣接する色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの間の間隔は一定であってもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの幅は互いに異なってもよく、隣接する色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの間の間隔が互いに異なってもよい。第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの幅を調節することによって、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）内における第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの面積比率を調節することができる。例えば、緑色フィルタ及び／または青色フィルタの幅を相対的に広く形成することによって、白色画素でイエローウィッシュが発生するのを防止することができる。

次に、図３６を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図３６に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図３４及び図３５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に形成される色フィルタの形成位置が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図３６は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂは重ならず、所定の間隔を有して離隔している。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形である。第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂは長辺と平行な方向に延在する。

第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの幅は同一であってもよく、隣接する色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの間の間隔は一定であってもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの幅は互いに異なってもよく、隣接する色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの間の間隔が互いに異なってもよい。

図３４の実施形態の場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが短辺と平行に延在し、図３６の実施形態の場合、長辺と平行に延在する。図３４に示すように、短辺と平行に形成される場合、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの幅を図３６に比べて相対的に広く形成することができるので、工程の安定性面で有利である。

図３４及び図３６において、一つの第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）内に一つの第１色フィルタ２３０Ｒ、一つの第２色フィルタ２３０Ｇ、及び一つの第３色フィルタ２３０Ｂが位置することと示されているが、本発明はこれに限られない。一つの第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）内に複数の色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置してもよい。この場合、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの幅は同一となるようにしながらも、各色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの個数を調節することによって、面積比率を調節することができる。また、各色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの幅と個数を全て異なるようにしてもよい。

次に、図３７を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図３７に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図３４及び図３５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に二つの色フィルタが位置するという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図３７は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に三つの色フィルタの全てが位置することではなく、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。この場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に形成される色フィルタの組み合わせは変更が可能である。例えば、第１色フィルタ２３０Ｒと第２色フィルタ２３０Ｇが位置するか、または第１色フィルタ２３０Ｒと第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。

第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは重ならず、所定の間隔を有して離隔している。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形である。第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは短辺と平行な方向に形成されている。

次に、図３８を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図３８に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図３６に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に二つの色フィルタが位置するという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図３８は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に三つの色フィルタの全てが位置することではなく、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。この場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に形成される色フィルタの組み合わせは変更が可能である。例えば、第１色フィルタ２３０Ｒと第２色フィルタ２３０Ｇが位置するか、または第１色フィルタ２３０Ｒと第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。

第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは重ならず、所定の間隔を有して離隔している。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形である。第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは、長辺と平行な方向に形成されている。

次に、図３９乃至図４１を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図３９乃至図４１に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図２６乃至図２８に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、各画素領域の形状と第４色画素領域における色フィルタの位置が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図３９は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図４０は、図３９のＸＬ−ＸＬ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図であり、図４１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の一画素を示した平面図である。図４１は第４色画素領域を示す。

図３９及び図４０に示すように、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）は、二つの平行四辺形が、図３９中の横方向の中心線を中心として互いに対称をなしながら連結された形状である。二つの平行四辺形は上下に配置されてもよい。各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）は二つのドメインを含んでもよく、二つのドメインは二つの平行四辺形に対応してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の形状に沿って二つの平行四辺形が互いに対称をなしながら連結された形状になる。第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を形成する二つの平行四辺形の境界に位置してもよい。即ち、第３色フィルタ２３０Ｂは、第１〜第４色画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）それぞれにおける二つのドメインの境界に位置してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において第３色フィルタ２３０Ｂが位置する領域を除外した部分には、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置しない。ただし、本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において第３色フィルタ２３０Ｂが位置する領域を除外した部分に白色フィルタが位置してもよい。白色フィルタは、可視光線の全領域の波長を全て通過させる透明なフォトレジスタで形成されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する着色パターンの種類及び面積比率は多様に変更が可能であり、そのために第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を通過する光の色座標の位置を調節することができる。

上記で、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第３色フィルタ２３０Ｂが形成される場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちの二つまたは三つで形成されてもよい。また、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの位置も変更が可能である。

図４１に示すように、基板（図示せず）の上に、ゲート線１２２、及びこれから突出するゲート電極１２４が形成されている。また、ゲート線１２２と平行な方向に維持電極線１３１、及びこれから突出する維持電極１３３が形成されている。ゲート線１２２、維持電極線１３１などは、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと同一の基板に形成されてもよく、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが形成された基板と対向する他の基板に形成されてもよい。

ゲート線１２２は、主に横方向に延在して、ゲート信号を伝達する。維持電極線１３１も、主に横方向に延在して、共通電圧などのような定められた電圧を伝達する。

ゲート線１２２、ゲート電極１２４、維持電極線１３１、及び維持電極１３３の上にはゲート絶縁膜（図示せず）が形成されている。ゲート絶縁膜は、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、及びシリコン窒化物（ＳｉＮｘ）を含む無機絶縁物質で形成されてもよい。

ゲート絶縁膜の上には半導体１５４が形成されている。半導体１５４はゲート電極１２４と重なる。

半導体１５４の上には、ゲート線１２２と交差するデータ線１７１、データ線１７１からゲート電極１２４の上に突出するソース電極１７３、及びソース電極１７３と離隔するドレイン電極１７５が形成されている。

ゲート電極１２４、ソース電極１７３、及びドレイン電極１７５は半導体１５４と共に一つの薄膜トランジスタＱを構成し、薄膜トランジスタのチャネルは、ソース電極１７３とドレイン電極１７５の間の半導体１５４に形成される。

データ線１７１は、ほぼゲート線１２２に対して垂直方向に形成されている。データ線１７１は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の形状により一度曲がった形状になる。データ線１７１が曲がる地点は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の形状をなす二つの平行四辺形が接する地点である。例えば、データ線１７１は、図４１中の縦方向の中央部において屈曲している。そして、屈曲した部分の横方向の中心線に対して、二つの平行四辺形のドメインが上下に対称に配置される。

データ線１７１、ソース電極１７３、及びドレイン電極１７５の上には第１保護膜（図示せず）が形成されている。第１保護膜には、維持電極１３３を露出させるように第１コンタクトホール１８１が形成されている。

第１保護膜の上には、第１コンタクトホール１８１を通じて維持電極１３３と接続する共通電極２７０が形成されている。共通電極２７０は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の全体に面状に形成され、隣接する画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）の共通電極２７０は互いに接続されてもよい。共通電極２７０は、ＩＴＯまたはＩＺＯなど透明な金属酸化物で形成される。

共通電極２７０の上には第２保護膜（図示せず）が形成されている。第１保護膜及び第２保護膜には、ドレイン電極１７５を露出させるように第２コンタクトホール１８３が形成されている。

第２保護膜の上には、第２コンタクトホール１８３を通じて薄膜トランジスタのドレイン電極１７５に接続される画素電極１９１が形成されている。画素電極１９１は、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の形状に対応するように形成される。即ち、画素電極１９１は、二つの平行四辺形が互いに対称をなしながら連結された形状である。画素電極１９１は、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な金属酸化物で形成される。画素電極１９１は複数のスリット１９８を含んでいる。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は二つのドメインを含み、画素電極１９１を形成する二つの平行四辺形は、互いに異なるドメインに位置するようになる。互いに異なるドメインに位置する画素電極１９１のスリット１９８は、相異なる方向に延在する。二つのドメインのうちのいずれか一つのドメインに位置するスリット１９８の延長方向は、他の一つのドメインに位置するスリット１９８の延長方向と異なる。スリット１９８の延長方向は、スリット１９８の長辺と平行な方向を意味する。

共通電極２７０と画素電極１９１は、第２保護膜を介して互いに異なる層に形成されている。この場合、共通電極２７０は第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の全体に形成されており、画素電極１９１にはスリット１９８が形成されている。液晶表示装置の液晶層に含まれている液晶分子は、共通電極２７０と画素電極１９１の間に形成される水平電界によって動くようになる。

上記で、共通電極２７０は面状であり、画素電極１９１にはスリット１９８が形成されていることと説明したが、本発明はこれに限られない。画素電極１９１だけでなく、共通電極２７０にもスリットが形成されてもよい。この場合、画素電極１９１と共通電極２７０は同一の層に同一の物質で形成されてもよく、画素電極１９１と共通電極２７０は交互に平行に配置されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは、画素電極１９１の形状をなす二つの平行四辺形と平行な辺を含む二つの平行四辺形に形成されてもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは、画素電極１９１の形状をなす二つの平行四辺形の境界に位置してもよい。よって、第３色フィルタ２３０Ｂは、画素電極１９１の上下方向の概ね中央部に位置している。そして、第３色フィルタ２３０Ｂは、データ線１７１の屈曲した部分の横方向の中心線に対して、二つの平行四辺形の領域が上下に対称に配置されて一体に構成されている。

次に、図４２を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図４２に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図３９乃至図４１に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）における色フィルタの位置が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図４２は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。この場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に形成される色フィルタの組み合わせは変更が可能である。例えば、第１色フィルタ２３０Ｒと第２色フィルタ２３０Ｇが位置するか、または第１色フィルタ２３０Ｒと第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。また、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂが全て位置してもよく、遮光部２２０が共に位置してもよい。

各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）は、二つの平行四辺形が互いに対称をなしながら連結された形状である。二つの平行四辺形は上下に配置されてもよい。例えば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）では、図４２の中央部において屈曲した部分の横方向の中心線に対して、二つの平行四辺形のドメインが上下に対称に配置される。そして、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を、縦方向に屈曲する中心線に対して左右に分けることができ、さらに横方向の中心線によって４つの領域に分けることができる。よって、図４２に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は、左側上部、左側下部、右側上部、右側下部の４つに分けることができる。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の形状に沿って平行四辺形になる。第２色フィルタ２３０Ｇは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の左側上部に位置し、第３色フィルタ２３０Ｂは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の左側下部に位置してもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の右側上部及び右側下部には第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置しない。ただし、本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の右側上部及び下部に白色フィルタが位置してもよい。白色フィルタは、可視光線の全領域の波長を全て通過させる透明なフォトレジスタで形成されてもよい。

第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂの位置及び面積比率は多様に変更が可能であり、そのために第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を通過する光の色座標の位置を調節してもよい。

次に、図４３及び図４４を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図４３及び図４４に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図１乃至図５に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において色フィルタの代わりに遮光部が形成されるという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図４３は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図４４は、図４３のＸＬＩＶ−ＸＬＩＶ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０のうちの少なくとも一つで形成されてもよい。

本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に遮光部２２０が位置している。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に遮光部２２０が形成され、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは形成されないことと示されているが、本発明はこれに限られない。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に遮光部２２０だけでなく、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが追加的に形成されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において遮光部２２０は一方向に延在する棒状になってもよい。

各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形であってもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、遮光部２２０は二つの短辺間の中央に短辺と平行な方向に延在する。ただし、遮光部２２０の形状はこれに限定されず、多様に変更することができ、延長方向も変更が可能である。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する遮光部２２０は、他の画素領域との平坦化のための補助パターンとして用いられる。一般に、遮光部２２０は色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂより低い厚さに形成される。本実施形態では、他の画素領域との平坦化のために、遮光部２２０の厚さを色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの厚さと類似するように形成してもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する遮光部２２０の厚さを各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）の境界に位置する遮光部２２０の厚さより厚く形成してもよい。この場合、ハーフトーンマスクまたはスリットマスクなどが用いられる。

次に、図４５を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置において、白色画素領域に形成する色フィルタまたは遮光部による透過率の減少について説明する。

図４５は、白色画素内に形成される色フィルタまたは遮光部の面積比による透過率の減少率を示したグラフである。

白色画素内に色フィルタまたは遮光部が形成される面積が広いほど、透過率が次第に減少することが確認される。色フィルタまたは遮光部が形成される部分は、光源から供給された光の一部だけが通過するようになるので、色フィルタまたは遮光部が形成されない場合に比べて透過率が低くなる。

遮光部は、光源から供給された光の全波長を遮断するようになるので、相対的に透過率の減少量が大きい。

色フィルタの場合、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタにより透過率の減少量が異なって現れるのが確認される。図４５を参照すると、緑色フィルタの透過率の減少量が最も小さく、次に赤色フィルタ及び青色フィルタ透過率の減少量が小さく成っているのが分かる。

表１は、透過率の減少率が１０％である場合、白色画素内における色フィルタまたは遮光部の面積比を表わす。

表１に示したように、赤色フィルタ、青色フィルタ、及び遮光部の場合、白色画素で約２０％の面積を形成するとき、透過率が約１０％減少する。緑色フィルタの場合、白色画素で約５０％の面積を形成するとき、透過率が約１０％減少する。即ち、緑色フィルタを形成するとき、相対的に透過率の減少量が低いことが分かる。

透過率の減少量を考慮すれば、緑色フィルタは白色画素の全体面積対比約５０％以下に形成するのが好ましい。また、赤色フィルタ、青色フィルタ、及び遮光部は、白色画素の全体面積対比約２０％以下に形成するのが好ましい。

次に、表２及び図４６を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置において、白色画素領域に形成する色フィルタまたは遮光部による色座標の変化について説明する。本発明の一実施形態による液晶表示装置で使用される色座標はＣＩＥ１９３１色座標である。ＣＩＥ１９３１色座標は、国際照明委員会（ＣＩＥ）で１９３１年に制定した色座標であって、ｘ−ｙ座標を用いて表示する。

表２は、白色画素内に形成される色フィルタまたは遮光部の面積比による色座標を示した表であり、図４６は、白色画素内に形成される色フィルタまたは遮光部の面積比による色座標を示した図面である。

光源から供給された光が、色フィルタ及び遮光部を形成しない白色画素を通過する場合、（０．２７６、０．２７０）の色座標を示すことができる。これを基準として、白色画素に赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ、及び遮光部を１０％から１００％の比率で追加しながら色座標を示した。

白色画素に赤色フィルタが位置する場合、色座標（■）の位置は右側に移動する。赤色フィルタの面積比が増加するほど、（０．２７６、０．２７０）でＸ座標の数値が大きくなる方向に変化する。ｙ座標の数値の変化量は大きくない。

白色画素に緑色フィルタが位置する場合、色座標（▲）の位置は上側に移動する。緑色フィルタの面積比が増加するほど、（０．２７６、０．２７０）でｙ座標の数値が大きくなる方向に変化する。ｘ座標の数値の変化量は大きくない。

白色画素に青色フィルタが位置する場合、色座標（◆）の位置は左側及び下側に移動する。青色フィルタの面積比が増加するほど、（０．２７６、０．２７０）でｘ座標及びｙ座標の数値が小さくなる方向に変化する。

遮光部は可視光線の全領域の波長を遮断するので、色座標（●）の位置は大きく変化しない。即ち、遮光部の比率による色座標の変化は大きくない。

したがって、遮光部は、色座標の変化に大きい影響を与えないことが分かり、赤色フィルタ、緑色フィルタ、及び青色フィルタは、面積比が大きいほど色座標の変化が大きくなることが分かる。また、赤色フィルタ、緑色フィルタ、及び青色フィルタは、それぞれ異なる方向に色座標の変化を生じさせる。

次に、図４７を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置において、白色画素領域に位置する色フィルタの好ましい面積比について説明する。

図４７は、赤色、緑色、及び青色画素を通過して合わせられた光の色座標と、白色画素を通過した光の色座標を示した図面である。

赤色画素の場合、光源から供給された光のうちの赤色波長の光が通過し、緑色画素の場合、光源から供給された光のうちの緑色波長の光が通過し、青色画素の場合、光源から供給された光のうちの青色波長の光が通過するようになる。これら赤色波長、緑色波長、及び青色波長の光が合わせられて白色光を表示し、これは（０．２７１、０．２７５）の色座標（■）を示すことができる。

白色画素に色フィルタが形成されない場合、光源から供給された光のうちの可視光線波長の光は大部分通過するようになる。白色画素を通過した光は（０．２８０、０．２６６）の色座標（Ｘ）を示すことができる。

したがって、白色画素を通過した光は、赤色、緑色、及び青色画素を通過して合わせられた光と相異なる色座標を示す。したがって、赤色、緑色、青色、及び白色画素を通過した光を全て合わせた光の色座標（▲）は（０．２７６、０．２７０）を示して、カラーシフトが発生し得る。

本発明の一実施形態による液晶表示装置においては、このようなカラーシフトを防止するために、白色画素に赤色、緑色、及び青色フィルタのうちの少なくとも一つを形成することを特徴とする。

白色画素を通過した光が、赤色、緑色、及び青色画素を通過して合わせられた光の色座標と類似する色座標を有するようにするためには、色座標の位置を矢印方向に移動させなければならない。色座標の位置を、ｘ軸は減少する方向に、ｙ軸は増加する方向に移動させるためには、白色画素に緑色フィルタまたは青色フィルタを形成するのが好ましい。

ここで、図４６に示すように、白色画素に緑色フィルタが位置する場合、色座標の位置は、緑色フィルタの面積比が増加するほど、（０．２７６、０．２７０）でｙ座標の数値が大きくなる方向に変化する。ｘ座標の数値の変化量は大きくない。一方、白色画素に青色フィルタが位置する場合、色座標の位置は、青色フィルタの面積比が増加するほど、（０．２７６、０．２７０）でｘ座標及びｙ座標の数値が小さくなる方向に変化する。よって、色座標の位置をｘ軸は減少する方向に移動させるためには、白色画素に青色フィルタを位置させるのが好ましい。また、色座標の位置をｙ軸は増加する方向に移動させるためには、白色画素に緑色フィルタを位置させるのが好ましい。以上より、色座標の位置を、ｘ軸は減少する方向に、かつ、ｙ軸は増加する方向に移動させるためには、白色画素に緑色フィルタ及び青色フィルタの両方を形成してもよい。

表３は、白色画素に位置する青色フィルタ及び緑色フィルタの面積による白色画素の色座標（◇）を示した表である。

表３に表したように、白色画素の色座標移動の目標を（０．２７１、０．２７５）とする場合、白色画素に青色フィルタは１３．７％の面積に形成し、緑色フィルタは２０．５％の面積に形成するのが好ましい。即ち、白色画素に青色フィルタが１３．７％、緑色フィルタが２０．５％の面積を有して位置するとき、白色画素を通過した光が、図４７に示された赤色、緑色、及び青色画素を通過して合わせられた光の色座標（■）（０．２７１、０．２７５）と同一である色座標を示す。

白色画素の色座標移動の目標を（０．２７１、０．２７５）から＋０．００２乃至−０．００２の範囲に設定してもよい。この場合、目標範囲は（０．２７１、０．２７５）の色座標を取り囲む領域Ｒ（図４７参照）になる。白色画素に青色フィルタが１６．９％、緑色フィルタが２２．７％の面積を有して位置するとき、白色画素を通過した光の色座標は（０．２６９、０．２７３）になる。白色画素に青色フィルタが１６．９％、緑色フィルタが２５．３％の面積を有して位置するとき、白色画素を通過した光の色座標は（０．２６９、０．２７７）になる。白色画素に青色フィルタが１２．２％、緑色フィルタが１７．７％の面積を有して位置するとき、白色画素を通過した光の色座標は（０．２７３、０．２７３）になる。白色画素に青色フィルタが１２．２％、緑色フィルタが２４．１％の面積を有して位置するとき、白色画素を通過した光の色座標は（０．２７３、０．２７７）になる。

したがって、白色画素の色座標の移動目標を（０．２７１、０．２７５）から＋０．００２乃至−０．００２の範囲にする場合、白色画素に青色フィルタは約１２％乃至１７％の面積に形成し、緑色フィルタは１７％乃至２６％の面積に形成するのが好ましい。

また、白色画素の色座標の移動目標の範囲をさらに広く設定する場合、白色画素に形成される青色フィルタ及び緑色フィルタの面積の範囲もさらに広くなってもよい。

次に、図４８及び図４９を参照して、白色画素領域に位置する色フィルタまたは遮光部の形状と平坦度の間の関係について説明する。

図４８及び図４９は、蓋膜の厚さによる段差の大きさを白色画素領域に位置する色フィルタの形状別に示したグラフである。図４８及び図４９は、白色画素領域に青色フィルタが位置する構造の実験結果を示したものである。白色画素領域に位置する青色フィルタは、横方向の棒状（―）である場合、縦方向の棒状（｜）である場合、十字状（＋）である場合がある。横方向の棒状（―）である場合は、白色画素領域の短辺に平行な方向に青色フィルタが位置しており、縦方向の棒状（｜）である場合は、白色画素領域の長辺に平行な方向に青色フィルタが位置している。比較対象の基準Ｒｅｆ．は、白色画素領域に色フィルタが位置しない場合である。

図４８は、白色画素領域に位置する青色フィルタの幅が約１９μｍである場合を示し、図４９は、白色画素領域に位置する青色フィルタの幅が約２９μｍである場合を示す。

図４８を参照すれば、白色画素領域に青色フィルタが位置しない基準Ｒｅｆ．に比べて青色フィルタが位置する場合（｜、―、＋）、段差が減少するのを確認できる。即ち、白色画素領域に青色フィルタが位置することによって、段差が減少して平坦度が増加する。このような傾向は蓋膜の厚さが低いときさらに明確に現れる。反面、蓋膜の厚さが厚いほど青色フィルタの有無による平坦度の差が減少する。

白色画素領域に位置する青色フィルタの形状と平坦度の関係について説明すると、青色フィルタが横方向の棒状（―）であるときより縦方向の棒状（｜）であるときの方が、段差が低く、平坦度は高い。横方向が白色画素領域の短辺であり、縦方向が白色画素領域の長辺であるので、青色フィルタが縦方向の棒状（｜）であるとき、横方向の棒状（―）であるときより青色フィルタの長さがさらに長く形成される。白色画素領域における青色フィルタが占める面積がさらに広いほど段差を減らすことができて、平坦度はさらに高まる。同様に、青色フィルタが縦方向の棒状（｜）であるときより十字状（＋）であるときの方が、段差が低く、平坦度は高い。

図４９を参照すれば、白色画素領域に青色フィルタが位置しない基準Ｒｅｆ．に比べて青色フィルタが位置する場合（｜、―、＋）、段差が減少し、平坦度が増加するのを確認できる。即ち、図４８の場合と同様の傾向を示す。

白色画素領域に位置する青色フィルタが横方向の棒状（―）であるときより縦方向の棒状（｜）であるときの方が、段差が減少し、平坦度が増加する。また、白色画素領域に位置する青色フィルタが縦方向の棒状（｜）であるときより十字状（＋）であるときの方が、段差が減少し、平坦度が増加する。即ち、図４８の場合と同様の傾向を示す。

図４８及び図４９に示すように、白色画素領域に青色フィルタが位置することによって、平坦度が増加する。図４８及び図４９は、青色フィルタが位置する場合を示しているが、赤色フィルタ、緑色フィルタ、及び／又は遮光部が位置する場合にも同様に平坦度が増加する。

また、図４８及び図４９に示すように、白色画素領域に位置する青色フィルタが横方向の棒状（―）である場合、縦方向の棒状（｜）である場合、十字状（＋）である場合の順に平坦度が増加する。即ち、白色画素領域に位置する色フィルタまたは遮光部の面積が増加するほど、平坦度が増加する。

図４８と図４９を比較すれば、白色画素領域に位置する青色フィルタの幅が約１９μｍである場合より約２９μｍである場合、段差が減少し、平坦度が増加する。即ち、白色画素領域に位置する色フィルタまたは遮光部の幅が増加するほど、平坦度が増加する。

次に、表４及び表５を参照して、白色画素領域に位置する色フィルタまたは遮光部の幅と平坦度の間の関係について説明する。

表４は、蓋膜の厚さによる段差の大きさを、白色画素領域に位置する遮光部の幅別に表した表であり、表５は、蓋膜の厚さによる段差の大きさを白色画素領域に位置する色フィルタの幅別に表した表である。

表４を参照すれば、白色画素領域に位置する遮光部の幅が大きくなるほど、段差が減少するのを確認できる。遮光部の幅が同一の場合には、蓋膜の厚さが厚いほど、段差が減少する傾向を示す。

蓋膜の厚さは、一定以上になると飽和（ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ）して、段差はほとんど一定である。例えば、遮光部の幅が約５μｍである場合には、蓋膜の厚さが約４．１μｍ以上になると、段差が減少する幅が著しく減少する。また、遮光部の幅が約８μｍ、約１１μｍである場合には、蓋膜の厚さが約３．７μｍ以上になると、段差が減少する幅が著しく減少する。また、遮光部の幅が約１４μｍ、約１７μｍ、約２０μｍである場合には、蓋膜の厚さが約３．４μｍ以上になると、段差が減少する幅が著しく減少する。即ち、遮光部の幅が増加するほど、飽和状態になる蓋膜の厚さが薄くなる。したがって、遮光部の幅が増加するほど平坦度が増加し、蓋膜を薄く形成しながらも平坦化を実現することができる。

表５を参照すれば、白色画素領域に位置する青色フィルタの幅が大きくなるほど、段差が減少するのを確認できる。青色フィルタの幅が同一の場合には、蓋膜の厚さが厚いほど段差が減少する傾向を示す。表５の白色画素領域に青色フィルタが位置する場合を示しているが、赤色フィルタ及び／又は緑色フィルタが位置する場合にも同様に、色フィルタの幅が大きくなるほど、蓋膜の厚さが厚いほど段差が減少する傾向を示す。

蓋膜の厚さは、一定以上になると飽和して、段差はほとんど一定である。例えば、青色フィルタの幅が約１９μｍである場合には、蓋膜の厚さが約３．３μｍ以上になると、段差が減少する幅が著しく減少する。また、青色フィルタの幅が約２９μｍである場合には、蓋膜の厚さが約２．９μｍ以上になると、段差が減少する幅が著しく減少する。即ち、青色フィルタの幅が増加するほど、飽和状態になる蓋膜の厚さが薄くなる。したがって、青色フィルタの幅が増加するほど平坦度が増加し、蓋膜を薄く形成しながらも平坦化を実現することができる。

表４及び表５に示すように、白色画素領域に位置する色フィルタまたは遮光部の幅が増加するほど、段差が減少し、平坦度は増加する。また、白色画素領域に位置する色フィルタまたは遮光部の幅を広くすれば、蓋膜の厚さを薄くしても高い平坦度を得ることができる。

以下、表６を参照して、白色画素領域に位置する遮光部の好ましい幅の範囲と、蓋膜の好ましい厚さの範囲について説明する。

表６は、白色画素領域に位置する遮光部の形状による透過率の減少率と段差を表わす表である。白色画素領域に位置する遮光部が十字状（＋）である場合、縦方向の棒状（｜）である場合、横方向の棒状（―）である場合がある。縦方向の棒状（｜）である場合は、白色画素領域の長辺に平行な方向に遮光部が位置しており、横方向の棒状（―）である場合は、白色画素領域の短辺に平行な方向に遮光部が位置している。

表６において、白色画素領域に位置する遮光部の幅は約８μｍであり、蓋膜の厚さは約４．１μｍである場合の実験結果を示している。

表６を参照すれば、白色画素領域に位置する遮光部が横方向の棒状（―）であるときより、縦方向の棒状（｜）であるときの方が、段差が減少し、平坦度が増加する。縦方向が長辺であるため、縦方向の棒状（｜）であるとき、白色画素領域における遮光部が占める面積が相対的に大きいので、平坦度は増加するが、遮光部は光を遮断するので、遮光部の面積が広くなるほど透過率は低くなる。

同様に、白色画素領域に位置する遮光部が縦方向の棒状（｜）であるときより、十字状（＋）であるとき、段差が減少し、平坦度が増加するが、透過率は低くなる。

遮光部は、全波長の光を遮断するので、広い幅に形成する場合、透過率の減少量が大きくなる。工程上、遮光部の幅は狭く形成するのが可能なので、透過率の減少を最小化するために、約１１μｍ以下に形成するのが好ましい。また、遮光部の幅を過度に狭く形成すれば、平坦化に不利になるので、遮光部の幅を約５μｍ以上に形成するのが好ましい。

上記の表４をさらに参照すれば、遮光部の幅を約５μｍ以上、約１１μｍ以下に形成するとき、約０．４μｍ以下の段差を有するように平坦化をするためには、蓋膜の厚さを約３．４μｍ以上、約４．７μｍ以下に形成するのが好ましい。蓋膜の厚さが約３．４μｍ以下である場合には、白色画素領域と隣接した他の画素領域の間の段差が大きくなって、平坦化が良好に行われない。蓋膜の厚さを約４．７μｍ以上に形成しても段差の減少には限界がある。

透過率の減少と平坦化を共に考慮して遮光部の幅と蓋膜の厚さを適切に選択することができる。例えば、白色画素領域に位置する遮光部の幅が約８μｍであり、蓋膜の厚さが約４．１μｍであってもよい。蓋膜の厚さが約４．１μｍであり、遮光部の幅が約８μｍである場合の段差は、蓋膜の厚さが約４．１μｍであり、遮光部の幅が約２０μｍである場合と類似している。したがって、平坦化の程度が類似していながら透過率の減少を最小化するために、遮光部の幅が約８μｍである場合を選択してもよい。

以下、表７及び表８を参照して、白色画素領域に位置する色フィルタの好ましい幅の範囲と、蓋膜の好ましい厚さの範囲について説明する。

表７は、白色画素領域に位置する青色フィルタの形状による透過率の減少率と段差を表わす表であり、表８は、白色画素領域に位置する緑色フィルタの形状による透過率の減少率と段差を表わす表である。

表７及び表８において、白色画素領域に位置する色フィルタは、十字状（＋）である場合、縦方向の棒状（｜）である場合、横方向の棒状（―）である場合がある。縦方向の棒状（｜）である場合は、白色画素領域の長辺に平行な方向に色フィルタが位置しており、横方向の棒状（―）である場合は、白色画素領域の短辺に平行な方向に色フィルタが位置している。

表７及び表８において、白色画素領域に位置する色フィルタの幅は約２９μｍであり、蓋膜の厚さは約３．４μｍである場合の実験結果を表わしている。

表７及び表８を参照すれば、白色画素領域に位置する青色フィルタまたは緑色フィルタが、横方向の棒状（―）であるときより、縦方向の棒状（ｌ）であるときの方が、段差が減少し、平坦度が増加する。縦方向が長辺であるため、縦方向の棒状（ｌ）であるとき、白色画素領域における青色フィルタまたは緑色フィルタが占める面積が相対的に大きいので、平坦度は増加するが、青色フィルタまたは緑色フィルタは光を一部遮断するので、色フィルタの面積が広くなるほど透過率は低くなる。

同様に、白色画素領域に位置する青色フィルタまたは緑色フィルタが、縦方向の棒状（ｌ）であるときより、十字状（＋）であるとき、段差が減少し、平坦度が増加するが、透過率は低くなる。

白色画素領域に赤色フィルタが位置する場合に対する実験結果は省略したが、類似する傾向を示す。

青色フィルタまたは緑色フィルタは一部波長の光を遮断するので、遮光部に比べて相対的に透過率の減少量は小さい。ただし、色フィルタの場合、工程上遮光部ほど狭い幅に形成するのが容易でない。工程の容易性と透過率の減少量を考慮して、白色画素領域に位置する色フィルタの幅は約１９μｍ以上、約２９μｍ以下に形成するのが好ましい。

上記の表５をさらに参照すれば、色フィルタの幅を約１９μｍ以上、約２９μｍ以下に形成するとき、約０．４μｍ以下の段差を有するように平坦化をするためには、蓋膜の厚さを約２．９μｍ以上、約４．７μｍ以下に形成するのが好ましい。蓋膜の厚さが約２．９μｍ以下である場合には、白色画素領域と隣接した他の画素領域の間の段差が大きくなるため、平坦化が良好に行われない。蓋膜の厚さを約４．７μｍ以上に形成しても段差の減少には限界がある。

透過率の減少と平坦化を共に考慮して、色フィルタの幅と蓋膜の厚さを適切に選択することができる。例えば、白色画素領域に位置する色フィルタの幅が約２９μｍであり、蓋膜の厚さが約３．３μｍ以上、約３．４μｍ以下であってもよい。蓋膜の厚さが約３．４μｍを超えても段差が著しく減少しない。したがって、蓋膜の厚さを約３．３μｍ以上、約３．４μｍ以下にし、このとき、段差を相対的にさらに減少させるように色フィルタの幅が２９μｍである場合を選択してもよい。

表７及び表８を比較すれば、白色画素領域に位置する色フィルタが青色フィルタである場合より緑色フィルタである場合、相対的に透過率の減少が少ないことを確認できる。これは、緑色フィルタが青色フィルタよりもさらに多くの光を通過させられるためである。したがって、透過率の減少という側面からは、白色画素領域に緑色フィルタが位置する場合の方が、青色フィルタが位置する場合より有利である。ただし、イエローウィッシュ現状の改善という側面からは、白色画素領域に青色フィルタが位置する方が、緑色フィルタが位置するより有利である。

なお、上記の実験結果では、白色画素領域の長辺が縦方向に延びており、短辺が横方向に延びている。そして、縦方向の棒状（｜）である場合は、白色画素領域の長辺に平行な方向に遮光部又は色フィルタが位置しており、横方向の棒状（―）である場合は、白色画素領域の短辺に平行な方向に遮光部又は色フィルタが位置している。

しかし、逆に、白色画素領域の長辺が横方向に延びており、短辺が縦方向に延びていてもよい。この場合、縦方向の棒状（｜）である場合は、白色画素領域の短辺に平行な方向に遮光部又は色フィルタが位置しており、横方向の棒状（―）である場合は、白色画素領域の長辺に平行な方向に遮光部又は色フィルタが位置している。

そして、このように白色画素領域の長辺が横方向に延びて短辺が縦方向に延びている場合には、上記の図４８、図４９の実験結果とは異なる結果となる。例えば、青色フィルタが縦方向（短辺方向）の棒状（｜）であるときより、横方向（長辺方向）の棒状（―）であるときの方が、段差が低く、平坦度は高い。横方向が白色画素領域の長辺であり、縦方向が白色画素領域の短辺であるので、青色フィルタが横方向の棒状（―）であるとき、縦方向の棒状（｜）であるときより青色フィルタの長さがさらに長く形成される。白色画素領域における青色フィルタが占める面積がさらに広いほど段差を減らすことができて、平坦度はさらに高まる。同様に、青色フィルタが横方向の棒状（―）であるときより十字状（＋）であるときの方が、段差が低く、平坦度は高い。

同様に、色画素領域の長辺が横方向に延びて短辺が縦方向に延びている場合には、表６の結果とは異なる結果となる。例えば、白色画素領域に位置する遮光部が縦方向の棒状（｜）であるときより、横方向の棒状（―）であるときの方が、段差が減少し、平坦度が増加する。横方向が長辺であるため、横方向の棒状（―）であるとき、白色画素領域における遮光部が占める面積が相対的に大きいので、平坦度は増加するが、遮光部は光を遮断するので、遮光部の面積が広くなるほど透過率は低くなる。同様に、白色画素領域に位置する遮光部が横方向の棒状（―）であるときより、十字状（＋）であるとき、段差が減少し、平坦度が増加するが、透過率は低くなる。

同様に、色画素領域の長辺が横方向に延びて短辺が縦方向に延びている場合には、表７，表８の結果とは異なる結果となる。例えば、白色画素領域に位置する青色フィルタまたは緑色フィルタが、縦方向の棒状（ｌ）より、横方向の棒状（―）であるときの方が段差が減少し、平坦度が増加する。横方向が長辺であるため、横方向の棒状（―）であるとき、白色画素領域における青色フィルタまたは緑色フィルタが占める面積が相対的に大きいので、平坦度は増加するが、青色フィルタまたは緑色フィルタは光を一部遮断するので、色フィルタの面積が広くなるほど透過率は低くなる。同様に、白色画素領域に位置する青色フィルタまたは緑色フィルタが、横方向の棒状（―）であるときより、十字状（＋）であるときの方が、段差が減少し、平坦度が増加するが、透過率は低くなる。

図５０及び図５１を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図５０は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図５１は、図５０のＬＩ−ＬＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

本発明の一実施形態による液晶表示装置は、互いに対向する第１基板１１０と第２基板２１０、及び第１基板１１０と第２基板２１０の間に挿入される液晶層３を含む。

第１基板１１０及び第２基板２１０は、ガラスまたはプラスチックなどで形成されてもよい。液晶層３は複数の液晶分子３１０からなり、ポジティブ型またはネガティブ型に形成されてもよい。

第１基板１１０の後面には光源５００が配置されてもよい。光源５００は、発光ダイオード（ＬＥＤ：Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）などを含んでもよく、光源５００から光５１０が供給される。第１基板１１０と第２基板２１０の間に形成された電界により液晶層３の液晶分子３１０の方向が決定され、液晶分子３１０の方向により液晶層３を通過する光量が変化する。第２基板２１０の上には複数の色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置する。液晶層３を通過した光は、各色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを通過しながら一部波長の光は通過し、それ以外の波長の光は吸収される。

液晶表示装置は複数の画素領域を含み、複数の画素領域は、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）、及び第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）で構成されてもよい。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は互いに異なる色を表示する画素領域であって、これらの色を合わせれば白色になってもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は白色を表示してもよい。例えば、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）は赤色を表示し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）は緑色を表示し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は青色を表示し、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は白色を表示してもよい。

また、本発明はこれら色に限定されず、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）はシアンを表示し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）はマゼンタを表示し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）は黄色を表示し、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）は白色を表示してもよい。

第２基板２１０の上には各画素領域ごとに色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが位置する。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第１色フィルタ２３０Ｒは、白色光が通過するとき赤色光のみを通過させる赤色フィルタに形成されてもよい。第２色フィルタ２３０Ｇは、白色光が通過するとき緑色光のみを通過させる緑色フィルタに形成されてもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは、白色光が通過するとき青色光のみを通過させる青色フィルタに形成されてもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置してもよく、着色パターンは第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちの少なくとも一つで形成されてもよい。図５０及び図５１に示すように、例えば第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置している。ただし、本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂの代わりに第１色フィルタ２３０Ｒが位置してもよい。色フィルタの選択は場合により異なってもよい。例えば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）でイエローウィッシュ現象が発生するのを防止するためには、緑色フィルタ及び／または青色フィルタを形成してもよい。

上記で、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは第２基板２１０の上に位置することと説明したが、本発明はこれに限定されず、色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが第１基板１１０の上に位置してもよい。

各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）は、二つの短辺と、二つの長辺を含む長方形であってもよい。第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）、及び第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂはそれぞれほぼ四角形状になってもよく、各画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）と類似する形状になってもよい。

第３色フィルタ２３０Ｂの厚さは、第１色フィルタ２３０Ｒ及び第２色フィルタ２３０Ｇより厚くなってもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは青色フィルタに形成されてもよく、青色フィルタの厚さを相対的に厚く形成することによって、短波長帯の色抜け現象を防止することができる。

第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に全体的に位置する。即ち、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の一部領域でなく、概ね全体領域に位置している。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さより薄い。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さは、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さより薄い。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）で第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂは積層されている。第２基板２１０と第３色フィルタ２３０Ｂの間に第２色フィルタ２３０Ｇが位置している。ただし、本発明はこれに限定されず、第２基板２１０と第２色フィルタ２３０Ｇの間に第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が白色を表示するようにするために、色フィルタを全く形成しない場合、第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、及び第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）から出射する光が合わせられて表示する白色と異なる色座標を示すことがある。即ち、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が表示する白色がカラーシフトになりうる。本発明の一実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちの少なくとも一つを形成し、これらの厚さ比率を調節することによって、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を通過した白色の色座標が、第１、第２、第３色画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））を通過して合わせられた白色の色座標に近くなるようにしてもよい。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）、及び第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の間の境界には、遮光部２２０がさらに位置してもよい。遮光部２２０は、各画素領域の間の境界で色混じり、光漏れなどが発生するのを防止することができる。

第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０の上には蓋膜２４０がさらに位置してもよい。蓋膜２４０は、第２基板２１０の上部面を平坦化する役割を果たすことができる。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇと、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇは、同一の工程により形成されてもよい。また、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂと、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂは、同一の工程により形成されてもよい。以下、図５２乃至図５４を参照して、第２基板の上に色フィルタを形成する工程について説明する。

図５２乃至図５４は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の一部を示した工程断面図である。

図５２に示すように、第２基板２１０の上に遮光部２２０を形成する。遮光部２２０は画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）の間の境界に位置する。

次いで、第２基板２１０の上に第１色有機物質を塗布し、これをパターニングして、第１色フィルタ２３０Ｒを形成する。第１色フィルタ２３０Ｒは第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に位置する。

図５３に示すように、第２基板２１０の上に第２色有機物質を塗布し、これをパターニングして、第２色フィルタ２３０Ｇを形成する。この場合、ハーフトーンマスクまたはスリットマスクを利用して、第２色フィルタ２３０Ｇの厚さが位置によって異なるようにしてもよい。第２色フィルタ２３０Ｇは第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）と第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する。この場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さが、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さより薄くなるようにする。即ち、ハーフトーンマスクまたはスリットマスクを利用することによって、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）と第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さを異なるようにし、かつ同時に形成することができる。

図５４に示すように、第２基板２１０の上に第３色有機物質を塗布し、これをパターニングして、第３色フィルタ２３０Ｂを形成する。この場合ハーフトーンマスクまたはスリットマスクを利用して、第３色フィルタ２３０Ｂの厚さが位置によって異なるようにしてもよい。第３色フィルタ２３０Ｂは第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）と第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する。この場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さが、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さより薄くなるようにする。即ち、ハーフトーンマスクまたはスリットマスクを利用することによって、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）と第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さを異なるようにし、かつ同時に形成することができる。

次いで、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの上に蓋膜２４０を形成する。蓋膜２４０は、第１色フィルタ２３０Ｇ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂを覆うように形成されて、平坦化させる役割を果たす。

上記で、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが積層形成され、その上に蓋膜２４０が形成されることと説明したが、本発明はこれに限られない。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に白色フィルタがさらに位置してもよい。以下、図５５を参照してさらに詳細に説明する。

図５５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した断面図である。

図５５を参照すれば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第２基板２１０の上には第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが積層されており、第３色フィルタ２３０Ｂの上に白色フィルタ２３０Ｗが位置する。白色フィルタ２３０Ｗは、可視光線の全領域の波長を全て通過させる透明なフォトレジストで形成されてもよい。上記では、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが積層され、その上部に白色フィルタ２３０Ｗが積層されている。しかし、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂの積層は、他の色フィルタの積層であってもよいし、その積層順も多様であってもよい。

次に、図５６及び図５７を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図５６及び図５７に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図５０及び図５１に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域に一つの色フィルタが位置するという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図５６は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図５７は、図５６のＬＶＩＩ−ＬＶＩＩ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

図５７には、第２基板２１０及び第２基板２１０の上に形成されている構成要素を示し、第１基板、液晶層、及び光源などは省略した。第１基板、液晶層、及び光源などは図５０を参照すればよく、図５７には、便宜上、第２基板２１０において色フィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが形成されている面が上面になるように示した。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは第２色フィルタ２３０Ｇのみで形成される。第２色フィルタ２３０Ｇは緑色フィルタに形成されてもよい。

第２色フィルタ２３０Ｇは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に全体的に位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さより薄い。

前述した先の実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に二つの互いに異なる色フィルタが積層されているが、本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に一つの色フィルタだけが位置するという差異がある。

次に、図５８及び図５９を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図５８及び図５９に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図５６及び図５７に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域に位置する色フィルタの種類が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図５８は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した平面図であり、図５９は、図５８のＸ−Ｘ線に沿って示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは第３色フィルタ２３０Ｂのみで形成される。第３色フィルタ２３０Ｂは青色フィルタに形成されてもよい。

第３色フィルタ２３０Ｂは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に全体的に位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さは、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さより薄い。

次に、図６０を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の白色画素領域に位置する色フィルタの厚さ比による透過率について説明する。

図６０は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の白色画素領域に位置する色フィルタの厚さ比による透過率を示したグラフである。

グラフの横軸は、白色画素領域に位置する色フィルタの厚さ比を示す。例えば、白色画素領域に青色フィルタが位置する実施形態の場合、青色画素領域における青色フィルタの厚さに対する白色画素領域における青色フィルタの厚さを意味する。また、白色画素領域に緑色フィルタが位置する実施形態の場合、緑色画素領域における緑色フィルタの厚さに対する白色画素領域における緑色フィルタの厚さを意味する。

グラフの縦軸は透過率を示し、赤色、青色、及び緑色画素領域のみで形成された液晶表示装置の透過率を基準Ｒｅｆ．として１００％で表わした。

白色画素領域に色フィルタが位置する場合、色フィルタの厚さが厚くなるほど透過率が減少する傾向を示す。色フィルタの厚さが増加するほど白色画素領域を通過する光量が減少するためである。

白色画素領域に緑色フィルタが形成される場合には、透過率の減少量が非常に少ない。相対的に、白色画素領域に青色フィルタが位置する場合には、白色画素領域に緑色フィルタが位置する場合より、透過率の減少量が高まる。

次に、図６１を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の白色画素領域に位置する色フィルタの厚さ比による色座標の変化について説明する。

図６１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の色座標を示した図面である。

赤色画素領域の場合、光源から供給された光のうちの赤色波長の光が通過し、緑色画素領域の場合、光源から供給された光のうちの緑色波長の光が通過し、青色画素領域の場合、光源から供給された光のうちの青色波長の光が通過するようになる。これら赤色波長、緑色波長、及び青色波長の光が合わせられて白色光を表示するようになる。このように赤色、緑色、及び青色画素領域を通過して合わせられた白色光の色座標は、色フィルタが形成されていない白色画素領域を通過した白色光の色座標と差がある。

白色画素領域に青色フィルタまたは緑色フィルタが位置するようになると、色フィルタが形成されていない白色画素領域を通過した白色光の色座標の位置を変更させることができる。このとき、白色画素領域に位置する色フィルタの厚さが厚いほど、色座標の位置もさらに多く変化する。白色画素領域に青色フィルタが位置する場合、色座標の位置はｘ軸とｙ軸の両方が減少する。白色画素領域に緑色フィルタが位置する場合、色座標の位置はｘ軸はほとんど変化せず、ｙ軸は増加する。白色画素領域に青色フィルタと緑色フィルタが共に位置する場合、青色フィルタが位置する場合と緑色フィルタが位置する場合のベクトル合計によって変化する。

図６１に示された場合、白色画素領域に位置する緑色フィルタの厚さ比を約７％にし、青色フィルタの厚さ比を約３％にしたとき、赤色、緑色、青色画素領域を通過して合わせられた白色光の色座標に最も近くなる。これは一つの実験例に過ぎず、場合により理想的な緑色フィルタの厚さ比と青色フィルタの厚さ比は変更される。

透過率をさらに考慮すれば、白色画素領域に位置する緑色フィルタと青色フィルタの厚さ比をさらに低くしてもよい。

透過率及び色座標を考慮すれば、白色画素領域に位置する緑色フィルタの厚さは、緑色画素領域に位置する緑色フィルタの厚さの０％超過、２０％以下であってもよい。さらに好ましくは、白色画素領域に位置する緑色フィルタの厚さは、緑色画素領域に位置する緑色フィルタの厚さの５％以上、１０％以下であってもよい。

また、白色画素領域に位置する青色フィルタの厚さは、青色画素領域に位置する青色フィルタの厚さの０％超過、１０％以下であってもよい。さらに好ましくは、白色画素領域に位置する青色フィルタの厚さは、青色画素領域に位置する青色フィルタの厚さの１％以上、５％以下であってもよい。

以下、図６２を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図６２に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図５０及び図５１に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域の一部に色フィルタが位置するという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図６２は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。便宜上、図６２には、第２基板２１０及び第２基板２１０の上に形成されている一部構成要素のみを示した。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは、第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちの少なくとも一つで形成されてもよい。図６２に示すように、例えば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置している。ただし、本発明はこれに限定されず、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂの代わりに第１色フィルタ２３０Ｒが位置してもよい。色フィルタの選択は場合により異なってもよい。例えば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）でイエローウィッシュ現象が発生するのを防止するためには、緑色フィルタ及び／または青色フィルタを形成してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の一部に位置する。第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂは多様な形状になってもよく、互いに異なる位置に形成されてもよい。例えば、図６２に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の一側周縁に第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、他側周縁に第３色フィルタ２３０Ｂが位置してもよい。図６２の場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）のうち第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）が隣接している側に、第３色フィルタ２３０Ｂが位置している。また、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）のうち第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）が隣接している側に、第２色フィルタ２３０Ｇが位置している。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さと類似していてもよい。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さは、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さと類似していてもよい。

本発明の一実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂのうちの少なくとも一つを形成し、これらの面積比率を調節することによって、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）を通過した白色の色座標が、第１、第２、第３色画素領域（ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ））を通過して合わせられた白色の色座標に近くなるようにすることができる。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）、及び第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の間の境界には、遮光部２２０がさらに位置してもよい。第１色フィルタ２３０Ｒ、第２色フィルタ２３０Ｇ、第３色フィルタ２３０Ｂ、及び遮光部２２０の上には、蓋膜２４０がさらに位置してもよい。

第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇと、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇは、同一の工程により形成されてもよい。また、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂと、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂは、同一の工程により形成されてもよい。以下、図６３乃至図６５を参照して、第２基板の上に色フィルタを形成する工程について説明する。

図６３乃至図６５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の一部を示した工程断面図である。

図６３に示すように、第２基板２１０の上に遮光部２２０を形成する。遮光部２２０は、画素領域ＰＸ（Ｒ）、ＰＸ（Ｇ）、ＰＸ（Ｂ）、ＰＸ（Ｗ）の間の境界に位置する。

次いで、第２基板２１０の上に第１色有機物質を塗布し、これをパターニングして、第１色フィルタ２３０Ｒを形成する。第１色フィルタ２３０Ｒは第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）に位置する。

図６４に示すように、第２基板２１０の上に第２色有機物質を塗布し、これをパターニングして、第２色フィルタ２３０Ｇを形成する。第２色フィルタ２３０Ｇは第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）と第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する。第２色フィルタ２３０Ｇは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）と、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）のうち第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）が隣接している領域と、に形成される。この場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇと類似する厚さになる。本実施形態では、ハーフトーンマスクまたはスリットマスクを利用することなく、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第２色フィルタ２３０Ｇを形成することができる。

図６５に示すように、第２基板２１０の上に第３色有機物質を塗布し、これをパターニングして、第３色フィルタ２３０Ｂを形成する。第３色フィルタ２３０Ｂは第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）と第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する。第３色フィルタ２３０Ｂは、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）と、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）のうち第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）が隣接している領域と、に形成される。この場合、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂは、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂと類似する厚さになる。本実施形態では、ハーフトーンマスクまたはスリットマスクを利用することなく、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に第３色フィルタ２３０Ｂを形成することができる。

次いで、第１色フィルタ２３０Ｇ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂの上に蓋膜２４０を形成する。蓋膜２４０は、第１色フィルタ２３０Ｇ、第２色フィルタ２３０Ｇ、及び第３色フィルタ２３０Ｂを覆うように形成されて、平坦化させる役割を果たす。

上記で、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが形成され、その上に蓋膜２４０が形成されることと説明したが、本発明はこれに限られない。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に白色フィルタがさらに位置してもよい。以下、図６６を参照してさらに詳細に説明する。

図６６は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示した断面図である。

図６６を参照すれば、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）において、第２基板２１０の上には第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂが形成されており、第２色フィルタ２３０Ｇ及び第３色フィルタ２３０Ｂが位置しない第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には白色フィルタ２３０Ｗが位置する。白色フィルタ２３０Ｗは、第２色フィルタ２３０Ｇと第３色フィルタ２３０Ｂの上にさらに形成されてもよい。白色フィルタ２３０Ｗは、可視光線の全領域の波長を全て通過させる透明なフォトレジストで形成されてもよい。

次に、図６７を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図６７に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図６２に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域に一つの色フィルタが位置するという点で上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図６７は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは第２色フィルタ２３０Ｇのみで形成される。第２色フィルタ２３０Ｇは緑色フィルタに形成されてもよい。

第２色フィルタ２３０Ｇは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の一部に位置する。第２色フィルタ２３０Ｇは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）のうち第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に隣接する領域に形成される。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さは、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）に位置する第２色フィルタ２３０Ｇの厚さと類似していてもよい。

上述した実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に二つの互いに異なる色フィルタが位置しており、本実施形態では、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に一つの色フィルタのみが位置するという差異がある。

次に、図６８を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。

図６８に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置は、図６７に示された本発明の一実施形態による液晶表示装置と同一の部分が相当あるので、これに対する説明は省略する。本実施形態では、第４色画素領域に位置する色フィルタの種類が上述した実施形態と異なり、以下、さらに詳細に説明する。

図６８は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図である。

第１色画素領域ＰＸ（Ｒ）には第１色フィルタ２３０Ｒが位置し、第２色画素領域ＰＸ（Ｇ）には第２色フィルタ２３０Ｇが位置し、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）には第３色フィルタ２３０Ｂが位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）には着色パターンが位置し、着色パターンは第３色フィルタ２３０Ｂのみで形成される。第３色フィルタ２３０Ｂは青色フィルタに形成されてもよい。

第３色フィルタ２３０Ｂは、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の一部に位置する。第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さは、第３色画素領域ＰＸ（Ｂ）に位置する第３色フィルタ２３０Ｂの厚さと類似していてもよい。

次に、図６９を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の白色画素領域に位置する色フィルタの面積比による透過率について説明する。

図６９は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の白色画素領域に位置する色フィルタの面積比による透過率を示したグラフである。

グラフの横軸は、白色画素領域に位置する色フィルタの面積比を示す。例えば、白色画素領域に青色フィルタが位置する実施形態の場合、白色画素領域の全体面積に対して白色画素領域における青色フィルタが占める面積の比率を意味する。また、白色画素領域に緑色フィルタが位置する実施形態の場合、白色画素領域の全体面積に対して白色画素領域における緑色フィルタが占める面積の比率を意味する。

グラフの縦軸は透過率を示し、赤色、青色、及び緑色画素領域のみで形成された液晶表示装置の透過率を基準Ｒｅｆ．として１００％で表わした。

白色画素領域に色フィルタが位置する場合、色フィルタの面積が広くなるほど透過率が減少する傾向を示す。白色画素領域における色フィルタが占める面積が増加するほど、白色画素領域を通過する光量が減少するためである。

白色画素領域に緑色フィルタが形成される場合には、透過率の減少量が非常に少ない。相対的に、白色画素領域に青色フィルタが位置する場合には、白色画素領域に緑色フィルタが位置する場合より透過率の減少量が高まる。

次に、図７０を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の白色画素領域に位置する色フィルタの面積比による色座標の変化について説明する。

図７０は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の色座標を示した図面である。

赤色画素領域の場合、光源から供給された光のうちの赤色波長の光が通過し、緑色画素領域の場合、光源から供給された光のうちの緑色波長の光が通過し、青色画素領域の場合、光源から供給された光のうちの青色波長の光が通過するようになる。これら赤色波長、緑色波長、及び青色波長の光が合わせられて白色光を表示するようになる。このように赤色、緑色、及び青色画素領域を通過して合わせられた白色光の色座標は、色フィルタが形成されていない白色画素領域を通過した白色光の色座標と差がある。

白色画素領域に青色フィルタまたは緑色フィルタが位置するようになると、色フィルタが形成されていない白色画素領域を通過した白色光の色座標の位置を変更させられる。この場合、白色画素領域に位置する色フィルタの面積が大きいほど、色座標の位置もさらに多く変化する。白色画素領域に青色フィルタが位置する場合、色座標の位置はｘ軸も減少し、ｙ軸も減少する。白色画素領域に緑色フィルタが位置する場合、色座標の位置はｘ軸はほとんど変化せず、ｙ軸は増加する。白色画素領域に青色フィルタと緑色フィルタが共に位置する場合、青色フィルタが位置する場合と緑色フィルタが位置する場合のベクトルの合計によって変化する。

図７０に示された場合、白色画素領域に位置する緑色フィルタの面積比を約２０％にし、青色フィルタの面積比を約１２％にしたとき、赤色、緑色、青色画素領域を通過して合わせられた白色光の色座標に最も近くなる。これは一つの実験例に過ぎず、場合により理想的な緑色フィルタの面積比と青色フィルタの面積比は変更される。

透過率をさらに考慮すれば、白色画素領域に位置する緑色フィルタと青色フィルタの面積比をさらに低くしてもよい。

透過率及び色座標を考慮すれば、白色画素領域に位置する緑色フィルタの面積は、白色画素領域の面積の０％超過、２５％以下であってもよい。さらに好ましくは、白色画素領域に位置する緑色フィルタの面積は、白色画素領域の面積の１０％以上、２５％以下であってもよい。

また、白色画素領域に位置する青色フィルタの面積は、白色画素領域の面積の０％超過、２０％以下であってもよい。さらに好ましくは、白色画素領域に位置する青色フィルタの面積は、白色画素領域の面積の８％以上、１５％以下であってもよい。

以下、図７１、図７２、及び表９を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の色座標の変化と、これに伴う輝度の変化について説明する。

図７１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の透過スペクトルを示した図面であり、図７２は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の色座標を示した図面であり、表９は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の輝度及び色座標を示した表である。

まず、図７１を参照すれば、パターンのない白色画素領域の場合、全波長の光を大部分通過させ、赤色フィルタが形成されている赤色画素領域の場合、赤色光を通過させる。緑色フィルタが形成されている緑色画素領域の場合、緑色光を通過させ、青色フィルタが形成されている青色画素領域の場合、青色光を通過させる。

緑色フィルタと青色フィルタが薄く積層されている白色画素領域を含む実施形態では、緑色光を大部分通過させ、青色光と赤色光の一部を遮断する。緑色フィルタと青色フィルタが分離配置されている白色画素領域を含む実施形態では、全波長の光を少量遮断する。二つの実施形態のいずれも白色画素領域が全波長の光を大部分通過させながら白色光を形成することができる。

図７２を参照すれば、パターンのない白色画素領域を通過した光の色座標は、赤色、緑色、及び青色画素領域を通過して合わせられた光の色座標と異なる。

緑色フィルタと青色フィルタが薄く積層されている白色画素領域を含む実施形態において、白色画素領域を通過した光の色座標は、赤色、緑色、及び青色画素領域を通過して合わせられた光の色座標と類似している。また、緑色フィルタと青色フィルタが分離配置されている白色画素領域を含む実施形態において、白色画素領域を通過した光の色座標は、赤色、緑色、及び青色画素領域を通過して合わせられた光の色座標と類似している。

表９を参照すれば、二つの実施形態のうち、緑色フィルタと青色フィルタが薄く積層されている白色画素領域を含む実施形態が、輝度面でより有利であることが分かる。

色フィルタが形成されていない白色画素領域を通過した光の色座標は（０．３３５、０．３３５）であり、赤色、緑色、青色画素領域を通過して合わせられた光の色座標は（０．３２２、０．３４６）である。

白色画素領域を通過した光の色座標が、赤色、緑色、青色画素領域を通過して合わせられた光の色座標と類似するように、白色画素領域に緑色及び青色フィルタを形成することができ、これと関連しては二つの実施形態について上述した。

白色画素領域に緑色フィルタ及び青色フィルタを薄く積層して形成した場合、厚さの調節を通じて色座標を移動させることができる。本実施形態で、白色画素領域を通過した光の色座標が（０．３２２、０．３４６）であるときの輝度は約１０２％であって、高い輝度を示す。

白色画素領域に緑色フィルタと青色フィルタを互いに異なる位置（分離配置された位置）に形成した場合、面積の調節を通じて色座標を移動させることができる。本実施形態で、白色画素領域を通過した光の色座標が（０．３２２、０．３４６）であるときの輝度は約８８％であって、相対的に低い輝度を示す。

したがって、輝度面では白色画素領域に緑色フィルタ及び青色フィルタを薄く積層して形成した実施形態がさらに有利である。

白色画素領域に緑色フィルタと青色フィルタを互いに異なる位置に形成する実施形態の場合、青色フィルタの厚さを他の色フィルタと異なるように形成することによって、側面カラーシフトの観点からはさらに有利である。

上記実施形態では、図１、図６等に示すように、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）の第３色フィルタ２３０Ｂは、図中の横方向に配置されている。しかし、第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）が平坦状に形成されればよく、第３色フィルタ２３０Ｂは第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）内において適宜配置可能である。例えば、第３色フィルタ２３０Ｂは棒状である必要はなく、例えばジグザグ状及波形状に形成されていてもよい。また、第３色フィルタ２３０Ｂの複数の領域が第４色画素領域ＰＸ（Ｗ）内において分散するように配置されていてもよい。

以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の種々の変更及び改良形態も本発明の権利範囲に属するものである。

３ 液晶層
１１０ 第１基板
１２１ ゲート線
１３１ 維持電極線
１３３ 維持電極
１７１ データ線
１９１ 画素電極
１９１ｈ 第１副画素電極
１９１ｌ 第２副画素電極
１９８ スリット
２１０ 第２基板
２２０ 遮光部
２３０Ｒ 第１色フィルタ
２３０Ｇ 第２色フィルタ
２３０Ｂ 第３色フィルタ
２７０ 共通電極

Claims (30)

1. 第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域を含む液晶表示装置において、
   互いに対向する第１基板及び第２基板と、
   前記第１基板または前記第２基板の上の、前記第１色画素領域、及び前記白色画素領域の少なくとも一部にそれぞれ位置する第１色フィルタと、
   前記第１基板または前記第２基板の上の前記第２色画素領域に位置する第２色フィルタと、
   前記第１基板または前記第２基板の上の前記第３色画素領域に位置する第３色フィルタ、と
   前記第１基板と前記第２基板の間に位置する液晶層と、を含み、
   前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域は、いずれも、第１の副画素電極の配置領域としての第１副画素領域と、第２の副画素電極の配置領域としての第２副画素領域とからなり、
   第１副画素領域及び第２副画素領域は、いずれも、一つのドメイン中心のまわりに配置された４つのドメインからなり、
   白色画素領域は、第１副画素領域及び第２副画素領域のいずれにおいても、一方の側にある第１及び第２ドメインと、他方の側にある第３及び第４ドメインとを互いに仕切るように延びている、第１色フィルタによる帯状の第１着色パターンを備え、
   白色画素領域は、さらに、第１副画素領域と第２副画素領域とを互いに仕切るように延びている、第１色フィルタによる帯状の第２着色パターンを備える、液晶表示装置。
2. 帯状の第１着色パターンは、副画素電極と重なり、
   帯状の第２着色パターンは、ゲート線及び薄膜トランジスタと重なる、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 第１及び第２の副画素電極は、いずれも、十字状幹部と、これらから外側へと延びる微細枝部とを含み、
   帯状の第１及び第２着色パターンは、副画素電極の十字状幹部より広い幅を有する、請求項２に記載の液晶表示装置。
4. 帯状の第１着色パターンの幅は、５μｍ以上、２５μｍ以下であり、
   帯状の第２着色パターンの幅は、２５μｍ以上、１００μｍ以下である、請求項１に記載の液晶表示装置。
5. 前記白色画素領域に位置し、帯状の第１及び第２着色パターンを含む前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の５０％以下の面積を有する、請求項１に記載の液晶表示装置。
6. 前記第１色が緑色である場合、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の５０％以下の面積を有し、
   前記第１色が赤色または青色である場合、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の２０％以下の面積を有する、請求項１に記載の液晶表示装置。
7. 前記第１色が緑色である場合、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の１７％以上、２６％以下の面積を有し、
   前記第１色が青色である場合、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の１２％以上、１７％以下の面積を有する、請求項１に記載の液晶表示装置。
8. 前記白色画素領域は前記第２色フィルタによる帯状の第３着色パターンをさらに含む、請求項１に記載の液晶表示装置。
9. 前記白色画素領域の前記第２色フィルタによる帯状の第３着色パターンは前記複数のドメインの境界に位置する、請求項８に記載の液晶表示装置。
10. 前記第１色フィルタによる帯状の第１着色パターンまたは第２着色パターンは第１方向に延在し、前記第２色フィルタによる帯状の第３着色パターンは第２方向に延在しており、前記第１方向は前記第２方向とは異なる、請求項８に記載の液晶表示装置。
11. 前記第１色フィルタによる帯状の第１着色パターンまたは第２着色パターンと、前記第２色フィルタによる帯状の第３着色パターンとは互いに重なる、請求項８に記載の液晶表示装置。
12. 前記第１色フィルタによる帯状の第１着色パターンまたは第２着色パターンと、前記第２色フィルタによる帯状の第３着色パターンとは、互いに交差し、交差する地点で互いに重なる、請求項１１に記載の液晶表示装置。
13. 前記第１色は緑色であり、前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタのパターンは、前記白色画素領域の１７％以上、２６％以下の面積を有し、
    前記第２色は青色であり、前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタのパターンは、前記白色画素領域の１２％以上、１７％以下の面積を有する、請求項８に記載の液晶表示装置。
14. 前記白色画素領域に前記第３色フィルタによるドット状または帯状のパターンをさらに形成する、請求項８に記載の液晶表示装置。
15. 前記白色画素領域中にて、前記第１色フィルタのパターン、前記第２色フィルタのパターン、及び前記第３色フィルタのパターンは互いに重なってスペーサを形成する、請求項１４に記載の液晶表示装置。
16. 前記白色画素領域の中央で前記第１色フィルタのパターン、前記第２色フィルタのパターン、及び前記第３色フィルタのパターンは互いに重なってスペーサを形成する、請求項１４に記載の液晶表示装置。
17. 前記第１色フィルタ、前記第２色フィルタ、及び前記第３色フィルタの上に形成される蓋膜をさらに含み、
    前記蓋膜の厚さは３．３μｍ以上、３．４μｍ以下である、請求項４に記載の液晶表示装置。
18. 第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域を含む液晶表示装置において、
    互いに対向する第１基板及び第２基板と、
    前記第１基板の上の前記第１色画素領域に位置する第１色フィルタと、
    前記第１基板の上の前記第２色画素領域に位置する第２色フィルタと、
    前記第１基板の上の前記第３色画素領域に位置する第３色フィルタと、
    前記第１基板と前記第２基板の間に位置する液晶層と、を含み、
    各画素領域、または各画素領域を構成する第１及び第２副画素領域は、いずれも、一つのドメイン中心のまわりに配置された第１乃至第４ドメインからなり、
    白色画素領域は、少なくとも一部のものが、一方の側にある第１及び第２ドメインと、他方の側にある第３及び第４ドメインとを互いに仕切るか、または、第１副画素領域と第２副画素領域とを互いに仕切るように、第１方向に延びる、第１色フィルタによる第１線状パターンを備え、
    白色画素領域の少なくとも一部のものは、第１方向とは異なる第２方向に延びて、ドメイン中心、または、第１副画素領域と第２副画素領域との間の中心部にて、第１線状パターンに交差し、交差する地点で互いに重なる、第２色フィルタによる第２線状パターンを備え、
    白色画素領域の少なくとも一部のものは、前記ドメイン中心または前記中心部にてスペーサを形成するように、第１線状パターン及び第２線状パターンと重なり合う、第３色フィルタによるドット状パターンを備える、液晶表示装置。
19. 前記第１基板または前記第２基板の上の前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域にそれぞれ位置する画素電極をさらに含み、
    前記白色画素領域中で、前記第１色フィルタのパターン及び前記第２色フィルタのパターンは前記画素電極と重なる、請求項１８に記載の液晶表示装置。
20. 前記第１色は緑色であり、前記第２色は青色である、請求項１９に記載の液晶表示装置。
21. 前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタのパターンは、前記白色画素領域の１７％以上、２６％以下の面積を有し、
    前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタのパターンは、前記白色画素領域の１２％以上、１７％以下の面積を有し、
    前記画素電極は、第１副画素電極及び第２副画素電極を含み、
    前記白色画素領域で前記第１色フィルタのパターン及び前記第２色フィルタのパターンは前記第２副画素電極と重なる、請求項２０に記載の液晶表示装置。
22. 前記第２副画素電極に印加されるデータ電圧は、前記第１副画素電極に印加されるデータ電圧より低い、請求項２１に記載の液晶表示装置。
23. 前記第１色は緑色であり、前記第２色は青色である、請求項１８に記載の液晶表示装置。
24. 前記第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域にそれぞれ位置する画素電極をさらに含み、
    前記白色画素領域で前記第１色フィルタ及び前記第２色フィルタは前記画素電極と重なる、請求項１８に記載の液晶表示装置。
25. 前記白色画素領域において、前記第１色フィルタのパターン、前記第２色フィルタのパターン、及び前記第３色フィルタのパターンが重なる部分の厚さは、前記液晶表示装置のセルギャップと同一である、請求項２４に記載の液晶表示装置。
26. 第１色画素領域、第２色画素領域、第３色画素領域、及び白色画素領域を含む液晶表示装置において、
    互いに対向する第１基板及び第２基板と、
    前記第１基板の上の前記第１色画素領域に位置する第１色フィルタと、
    前記第１基板の上の前記第２色画素領域に位置する第２色フィルタと、
    前記第１基板の上の前記第３色画素領域に位置する第３色フィルタと、
    前記第１基板と前記第２基板の間に位置する液晶層と、を含み、
    前記第１基板の上の前記白色画素領域には前記第１色フィルタ及び前記第２色フィルタが互いに交差し、前記交差する地点で互いに重なり、
    前記白色画素領域には十字状幹部と、これらから斜線方向に延びる微細枝部とを含む画素電極が位置し、
    前記白色画素領域に設けられている前記第１色フィルタ及び前記第２色フィルタは、互いに異なる方向に延び、前記微細枝部の方向に平行である、液晶表示装置。
27. 前記第１色は緑色であり、前記第２色は青色である、請求項２６に記載の液晶表示装置。
28. 前記白色画素領域に位置する前記第１色フィルタは、前記白色画素領域の１７％以上、２６％以下の面積を有し、
    前記白色画素領域に位置する前記第２色フィルタは、前記白色画素領域の１２％以上、１７％以下の面積を有する、請求項２７に記載の液晶表示装置。
29. 前記画素電極は、第１副画素電極及び第２副画素電極を含み、
    前記白色画素領域で前記第１色フィルタ及び前記第２色フィルタは前記第２副画素電極と重なる、請求項２６に記載の液晶表示装置。
30. 前記第２副画素電極に印加されるデータ電圧は、前記第１副画素電極に印加されるデータ電圧より低い、請求項２９に記載の液晶表示装置。

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