CN112051716B - 感光体、图像形成装置和感光体的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供感光体、图像形成装置和感光体的制造方法。电子照相感光体具备导电性基体和感光层。感光层的单层的。感光层含有电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂和粘结树脂。空穴输送剂含有第一空穴输送剂和第二空穴输送剂。第一空穴输送剂是通式(1)表示的化合物。第二空穴输送剂是通式(2)表示的化合物。电子输送剂含有通式(10)、(11)或者(12)表示的化合物。【化1】【化2】

Description

感光体、图像形成装置和感光体的制造方法

技术领域

本发明涉及感光体(电子照相感光体)、图像形成装置和感光体(电子照相感光体)的制造方法。

背景技术

电子照相感光体作为像承载体用在电子照相方式的图像形成装置(例如，打印机或者多功能一体机)中。电子照相感光体具备感光层。电子照相感光体例如有单层型电子照相感光体和层叠型电子照相感光体。单层型电子照相感光体具备单层的感光层，单层的感光层具有电荷产生功能和电荷输送功能。层叠型电子照相感光体中的感光层含有电荷产生层和电荷输送层，电荷产生层具有电荷产生功能，电荷输送层具有电荷输送功能。

例如，已知一种具备电荷转移层的成像元件，其电荷转移层含有特定结构的二胺化合物。

发明内容

但是，通过本发明人的研究发现，上述成像元件在耐裂性和抑制晶化的方面还不充分。

本发明是鉴于上述课题而作出的，其目的在于提供一种耐裂性优异并能够抑制晶化的电子照相感光体。还有，本发明的另一目的是通过具备上述电子照相感光体来提供一种耐用性优异并能够形成优质图像的图像形成装置。还有，本发明的又一目的是制造一种电子照相感光体，其实现了空穴输送剂制造工序的简单化，同时还具有优异的耐裂性并能够抑制晶化。

本发明的电子照相感光体具备导电性基体和感光层。所述感光层是单层的。所述感光层含有电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂和粘结树脂。所述空穴输送剂含有第一空穴输送剂和第二空穴输送剂。所述第一空穴输送剂是由通式(1)表示的化合物。所述第二空穴输送剂是由通式(2)表示的化合物。所述电子输送剂含有通式(10)、(11)或者(12)表示的化合物。

【化1】

所述通式(1)中，R^1A、R^2A、R^3A、R^4A、R^5A、R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A各自独立，表示氢原子、C1-C8烷基、C1-C8烷氧基或者C6-C14芳基。所述通式(1)中的R^1B和所述通式(2)中的R^1C是与所述通式(1)中的R^1A相同的基。所述通式(1)中的R^2B和所述通式(2)中的R^2C是与所述通式(1)中的R^2A相同的基。所述通式(1)中的R^3B和所述通式(2)中的R^3C是与所述通式(1)中的R^3A相同的基。所述通式(1)中的R^4B和所述通式(2)中的R^4C是与所述通式(1)中的R^4A相同的基。所述通式(1)中的R^5B和所述通式(2)中的R^5C是与所述通式(1)中的R^5A相同的基。所述通式(1)中的R^6B以及所述通式(2)中的R^6C和R^6D是与所述通式(1)中的R^6A相同的基。所述通式(1)中的R^7B以及所述通式(2)中的R^7C和R^7D是与所述通式(1)中的R^7A相同的基。所述通式(1)中的R^8B以及所述通式(2)中的R^8C和R^8D是与所述通式(1)中的R^8A相同的基。所述通式(1)中的R^9B以及所述通式(2)中的R^9C和R^9D是与所述通式(1)中的R^9A相同的基。所述通式(1)中的R^10B以及所述通式(2)中的R^10C和R^10D是与所述通式(1)中的R^10A相同的基。所述通式(1)中的Y是化学式(Y2)表示的二价基。

【化2】

【化3】

所述通式(10)中，Q^5A和Q^5B各自独立，表示氢原子、C1-C8烷基、苯基或者C1-C8烷氧基。Q^6A和Q^6B各自独立，表示C1-C8烷基、苯基或者C1-C8烷氧基。m₁和m₂各自独立，表示0以上4以下的整数。所述通式(11)中，Q⁷和Q⁸各自独立，表示氢原子、C1-C8烷基、苯基或者C1-C8烷氧基。Q⁹表示C1-C8烷基、苯基或者C1-C8烷氧基，m₃表示0以上4以下的整数。所述通式(12)中，Q¹⁰和Q¹¹各自独立，表示C1-C6烷基或者氢原子。Q¹²表示卤素原子或者氢原子。

本发明的图像形成装置具备像承载体、带电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。所述带电装置使所述像承载体的表面带电为正极性。所述曝光装置对带电的所述像承载体的所述表面进行曝光，在所述像承载体的所述表面上形成静电潜像。所述显影装置将所述静电潜像显影为调色剂像。所述转印装置将所述调色剂像从所述像承载体上转印到被转印体上。所述像承载体是上述电子照相感光体。

本发明的电子照相感光体的制造方法包含空穴输送剂制造工序和感光层形成工序。所述空穴输送剂制造工序中，制造所述空穴输送剂。所述感光层形成工序中，将含有所述电荷产生剂、所述空穴输送剂、所述电子输送剂、所述粘结树脂和溶剂的涂布液涂布在所述导电性基体上，然后去除所述涂布液中含有的所述溶剂的至少一部分，由此形成所述感光层。所述空穴输送剂制造工序包含第一搅拌工序和第二搅拌工序。所述第一搅拌工序中，对含有通式(A)所示化合物和通式(B)所示化合物的混合液进行第一搅拌。所述第二搅拌工序中，在所述混合液中进一步加入通式(C)所示化合物，再对所述混合液进行第二搅拌。在所述第一搅拌工序之后，不对所述混合液进行提纯就实施所述第二搅拌工序。经过所述第一搅拌工序和所述第二搅拌工序之后，得到含有所述第一空穴输送剂和所述第二空穴输送剂的所述空穴输送剂。

【化4】

所述通式(A)中的R¹、R²、R³、R⁴和R⁵分别与所述通式(1)中的R^1A、R^2A、R^3A、R4^A和R^5A是相同的基。所述通式(B)中的R⁶、R⁷、R⁸、R⁹和R¹⁰分别与所述通式(1)中的R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A是相同的基。所述通式(B)中的Z¹表示卤素原子。所述通式(C)中的Y是与所述通式(1)中的Y相同的基。所述通式(C)中的Z²和Z³表示卤素原子。

本发明的电子照相感光体具有优异的耐裂性并能够抑制晶化。还有，本发明的图像形成装置具备耐裂性优异并能够抑制晶化的电子照相感光体，因此耐用性优异并能够形成优质的图像。还有，根据本发明所涉及的感光体的制造方法，在实现了空穴输送剂制造工序的简单化的同时，能够制造耐裂性优异并能够抑制晶化的感光体。

附图说明

图1是本发明实施方式所涉及的电子照相感光体局部截面图。

图2是本发明实施方式所涉及的电子照相感光体局部截面图。

图3是本发明实施方式所涉及的电子照相感光体局部截面图。

图4是图像形成装置的一个例子的截面图。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行详细说明。但本发明不以任何方式限定于以下的实施方式。本发明在其目的范围内可以适当变更后再进行实施。另外，存在适当地省略了重复说明之处的情况，但不限定发明的要旨。以下，有时在化合物名称之后加上“类”来统称该化合物及其衍生物。还有，在化合物名称之后加上“类”来表示聚合物名称的情况下，表示聚合物的重复单元源自该化合物或者其衍生物。

首先，对本说明书中使用的取代基进行说明。卤素原子(卤基)例如有：氟原子(氟基)、氯原子(氯基)、溴原子(溴基)和碘原子(碘基)。

除非另有说明，C1-C8烷基、C1-C6烷基、C1-C4烷基、C2-C4烷基都是直链状或者支链状的，且是无取代的。C1-C8烷基例如有：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1-乙基丙基、2-乙基丙基、1，1-二甲基丙基、1，2-二甲基丙基、2，2-二甲基丙基、1，2-二甲基丙基、正己基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、4-甲基戊基、1，1-二甲基丁基、1，2-二甲基丁基、1，3-二甲基丁基、2，2-二甲基丁基、2，3-二甲基丁基、3，3-二甲基丁基、1，1，2-三甲基丙基、1，2，2-三甲基丙基、1-乙基丁基、2-乙基丁基和3-乙基丁基、直链状和支链状的庚基以及直链状和支链状的辛基。C1-C6烷基、C1-C4烷基、C2-C4烷基的例子分别是C1-C8烷基的例子中具有相应碳原子数的基。

除非另有说明，C1-C8烷氧基、C1-C6烷氧基和C1-C3烷氧基都是直链状或者支链状的，且是无取代的。C1-C8烷氧基例如有：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、1-甲基丁氧基、2-甲基丁氧基、3-甲基丁氧基、1-乙基丙氧基、2-乙基丙氧基、1，1-二甲基丙氧基、1，2-二甲基丙氧基、2，2-二甲基丙氧基、1，2-二甲基丙氧基、正己氧基、1-甲基戊氧基、2-甲基戊氧基、3-甲基戊氧基、4-甲基戊氧基、1，1-二甲基丁氧基、1，2-二甲基丁氧基、1，3-二甲基丁氧基、2，2-二甲基丁氧基、2，3-二甲基丁氧基、3，3-二甲基丁氧基、1，1，2-三甲基丙氧基、1，2，2-三甲基丙氧基、1-乙基丁氧基、2-乙基丁氧基、3-乙基丁氧基、直链状和支链状的庚氧基以及直链状和支链状的辛氧基。C1-C6烷氧基和C1-C3烷氧基的例子分别是C1-C8烷氧基的例子中具有相应碳原子数的基。

除非另有说明，C6-C14芳基和C6-C10芳基都是无取代的。C6-C14芳基例如有：苯基、萘基、引达省基(indacenyl)、亚联苯基(biphenylenyl)、苊烯基(acenaphthylenyl)、蒽基和菲基。C6-C10芳基例如有：苯基和萘基。如上所述，说明了本说明书中使用的取代基。

<电子照相感光体>

本实施方式涉及电子照相感光体(以下，有时记载为感光体)。以下，参照图1～图3，对本实施方式的感光体1进行说明。图1～图3各自是感光体1的局部截面图。

如图1所示，感光体1例如具备导电性基体2和感光层3。感光层3的单层的。感光体1是具备单层感光层3的单层型电子照相感光体。

如图2所示，感光体1也可以具备导电性基体2、感光层3和中间层4(底涂层)。中间层4在导电性基体2与感光层3之间。如图1所示，感光层3可以直接在导电性基体2上。或者，如图2所示，感光层3也可以隔着中间层4在导电性基体2上。

如图3所示，感光体1也可以具备导电性基体2、感光层3和保护层5。保护层5在感光层3上。如图1和图2所示，感光层3优选作为感光体1的最外表面层。通过使含有后面说明的规定空穴输送剂和规定电子输送剂的感光层3作为最外表面层，即使维护时清洗剂残留在感光体1的表面，感光层3也不易发生开裂。另外，如图3所示，保护层5也可以作为感光体1的最外表面层。

感光层3至少含有电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂和粘结树脂。感光层3根据需要也可以进一步含有添加剂。

感光层3的厚度没有特别的限定，优选为5μm以上100μm以下，更优选为10μm以上50μm以下。如上所述，参照图1～图3说明了感光体1。

(电荷产生剂)

电荷产生剂例如有：酞菁类颜料、苝类颜料、双偶氮颜料、三偶氮颜料、二硫酮吡咯并吡咯(dithioketo-pyrrolopyrrole)颜料、无金属萘酞菁颜料、金属萘酞菁颜料、方酸颜料、靛蓝颜料、甘菊蓝颜料、菁颜料、无机光导材料(例如，硒、硒-碲、硒-砷、硫化镉和非晶硅)的粉末、吡喃颜料、蒽嵌蒽醌类颜料、三苯甲烷类颜料、士林类颜料、甲苯胺类颜料、吡唑啉类颜料和喹吖啶酮类颜料。感光层可以只含有1种电荷产生剂，也可以含有2种以上。

酞菁类颜料是具有酞菁结构的颜料。酞菁类颜料例如有：无金属酞菁和金属酞菁。金属酞菁例如有：氧钛酞菁、羟基镓酞菁和氯镓酞菁。无金属酞菁由化学式(CGM-1)表示。氧钛酞菁由化学式(CGM-2)表示。

【化5】

酞菁类颜料可以是结晶，也可以是非结晶。无金属酞菁的结晶例如有：无金属酞菁的X型晶体(以下，有时记载为X型无金属酞菁)。氧钛酞菁的结晶例如有：氧钛酞菁的α型、β型和Y型晶体(以下，有时分别记载为α型、β型和Y型氧钛酞菁)。

例如，在数字光学式的图像形成装置(例如，使用半导体激光器之类光源的激光打印机或者传真机)中，优选为使用在700nm以上波长区域具有感光度的感光体。基于在700nm以上的波长区域具有高量子产率的观点来看，电荷产生剂优选为酞菁类颜料，更优选为无金属酞菁或者氧钛酞菁，进一步优选为氧钛酞菁，特别优选为Y型氧钛酞菁。

Y型氧钛酞菁在CuKα特征X射线衍射光谱中，例如在布拉格角(2θ±0.2°)的27.2°具有主峰。CuKα特征X射线衍射光谱中的主峰是指在布拉格角(2θ±0.2°)为3°以上40°以下的范围中具有第一大或者第二大强度的峰。在CuKα特征X射线衍射光谱中，Y型氧钛酞菁在26.2℃没有峰值。

CuKα特征X射线衍射光谱例如可以通过如下方法来测量。首先，将样品(氧钛酞菁)填充到X射线衍射装置(Rigaku Corporation制造“RINT(日本注册商标)1100”)的样品支架中，以X射线管Cu、管电压40kV、管电流30mA以及CuKα特征X射线波长的条件，测量X射线衍射光谱。测量范围(2θ)例如是3°以上40°以下(起始角3°、停止角40°)，扫描速度例如是10°/分。根据所得X射线衍射光谱确定出主峰，读取主峰的布拉格角。

相对于粘结树脂100质量份，电荷产生剂的含量优选为0.1质量份以上50质量份以下，更优选为0.5质量份以上5质量份以下。

(空穴输送剂)

空穴输送剂含有第一空穴输送剂和第二空穴输送剂。第一空穴输送剂是通式(1)表示的化合物。第二空穴输送剂是通式(2)表示的化合物。以下，通式(1)和(2)表示的化合物有时分别记载为空穴输送剂(1)和(2)。

【化6】

通式(1)中，R^1A、R^2A、R^3A、R^4A、R^5A、R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A各自独立，表示氢原子、C1-C8烷基、C1-C8烷氧基或者C6-C14芳基。通式(1)中的R^1B和通式(2)中的R^1C是与通式(1)中的R^1A相同的基。通式(1)中的R^2B和通式(2)中的R^2C是与通式(1)中的R^2A相同的基。通式(1)中的R^3B和通式(2)中的R^3C是与通式(1)中的R^3A相同的基。通式(1)中的R^4B和通式(2)中的R^4C是与通式(1)中的R^4A相同的基。通式(1)中的R^5B和通式(2)中的R^5C是与通式(1)中的R^5A相同的基。通式(1)中的R^6B以及通式(2)中的R^6C和R^6D是与通式(1)中的R^6A相同的基。通式(1)中的R^7B以及通式(2)中的R^7C和R^7D是与通式(1)中的R^7A相同的基。通式(1)中的R^8B以及通式(2)中的R^8C和R^8D是与通式(1)中的R^8A相同的基。通式(1)中的R^9B以及通式(2)中的R^9C和R^9D是与通式(1)中的R^9A相同的基。通式(1)中的R^10B以及通式(2)中的R^10C和R^10D是与通式(1)中的R^10A相同的基。通式(1)中的Y是化学式(Y2)表示的二价基。

【化7】

通过使感光层含有空穴输送剂(1)和(2)这两种，能够提供感光体的耐裂性，并能够抑制感光体的晶化。感光体的耐裂性是指如下特性：即使维护时清洗剂残留在感光体1的表面，也能够抑制感光层3发生开裂。其中，空穴输送剂(2)是在合成作为最终产物的空穴输送剂(1)的过程中产生的副产物。一般来说，通过提纯来去除副产物，由此得到最终产物。但是，本发明人发现，不通过提纯完全去除作为副产物的空穴输送剂(2)，而是特意将空穴输送剂(2)混合到空穴输送剂(1)中时，会提高感光体的耐裂性。还有，本发明人还发现，空穴输送剂(2)对空穴输送剂(1)的凝集起抑制作用，感光体的晶化得到抑制。而且，本实施方式的感光体具备感光度特性优异并含有空穴输送剂(1)的感光层。因此，在不损害感光体的感光度特性的前提下，能够提高感光体的耐裂性，并能够抑制感光体的晶化。

通式(1)中的R^1A、R^2A、R^3A、R^4A、R^5A、R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A所表示的C1-C8烷基优选为C1-C6烷基，更优选为C1-C3烷基，进一步优选为甲基或者乙基。

通式(1)中的R^1A、R^2A、R^3A、R^4A、R^5A、R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A所表示的C1-C8烷氧基优选为C1-C6烷氧基，更优选为C1-C3烷氧基，进一步优选为甲氧基。

通式(1)中的R^1A、R^2A、R^3A、R^4A、R^5A、R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A所表示的C6-C14芳基优选为C6-C10芳基。

为了提高感光体的耐裂性并抑制晶化，优选为：通式(1)中，R^1A、R^2A、R^3A、R^4A、R^5A、R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A中的至少2个表示氢原子以外的基，R^1A、R^2A、R^3A、R^4A、R^5A、R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A中其余的表示氢原子。还有，氢原子以外的基的碳原子数合计优选为3以上。另外，通式(1)中，R^1A、R^2A、R^3A、R^4A、R^5A、R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A所表示的氢原子以外的基是C1-C8烷基、C1-C8烷氧基或者C6-C14芳基。

为了提高感光体的耐裂性并抑制晶化，通式(1)中，R^3A优选为表示C1-C8烷氧基。

为了提高感光体的耐裂性并抑制晶化，优选为：通式(1)中，R^1A、R^3A和R^5A中的1个或2个表示C1-C8烷基或者C1-C8烷氧基，R^1A、R^3A和R^5A中其余的表示氢原子，R^2A和R^4A都表示氢原子。

为了提高感光体的耐裂性并抑制晶化，优选为：通式(1)中，R^8A表示氢原子或C1-C8烷基，R^6A、R^7A、R^9A和R^10A表示氢原子。

为了提高感光体的耐裂性并抑制晶化，优选为：空穴输送剂(1)是化学式(HTM-1)表示的化合物，且空穴输送剂(2)是化学式(HTM-A)表示的化合物。基于同样的考虑，优选为：空穴输送剂(1)是化学式(HTM-2)表示的化合物，且空穴输送剂(2)是化学式(HTM-B)表示的化合物。基于同样的考虑，优选为：空穴输送剂(1)是化学式(HTM-3)表示的化合物，且空穴输送剂(2)是化学式(HTM-C)表示的化合物。基于同样的考虑，优选为：空穴输送剂(1)是化学式(HTM-4)表示的化合物，且空穴输送剂(2)是化学式(HTM-D)表示的化合物。以下，化学式(HTM-1)～(HTM-4)表示的化合物有时分别记载为空穴输送剂(HTM-1)～(HTM-4)。还有，化学式(HTM-A)～(HTM-D)表示的化合物有时分别记载为空穴输送剂(HTM-A)～(HTM-D)。

【化8】

相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量，空穴输送剂(2)的含有率优选为1.0质量％以上30.0质量％以下，更优选为1.0质量％以上10.0质量％以下，进一步优选为2.0质量％以上5.0质量％以下。相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量，空穴输送剂(2)的含有率是1.0质量％以上时，能够进一步提高感光体的耐裂性，能够进一步抑制感光体的晶化。相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量，空穴输送剂(2)的含有率是30.0质量％以下时，能够提高感光体的感光度特性。相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量，空穴输送剂(2)的含有率调整方法将在后面的<感光体的制造方法>中进行说明。

相对于粘结树脂100质量份，空穴输送剂(1)和(2)的合计含量优选为10质量份以上200质量份以下，更优选为50质量份以上90质量份以下，进一步优选为60质量份以上80质量份以下。

感光层中，空穴输送剂可以只含有空穴输送剂(1)和(2)。或者，感光层中，空穴输送剂在含有空穴输送剂(1)和(2)的基础上，也可以进一步含有它们以外的空穴输送剂(以下，有时记载为其它空穴输送剂)。其它空穴输送剂例如有：三苯胺衍生物、二胺衍生物(例如，N，N，N′，N′-四苯基联苯胺衍生物、N，N，N′，N′-四苯基苯二胺衍生物、N，N，N′，N′-四苯基萘二胺衍生物、N，N，N′，N′-四苯基亚菲基二胺(N，N，N′，N′-tetraphenyl phenanthrylenediamine)衍生物和二(氨基苯基乙烯基)苯衍生物)、恶二唑类化合物(例如，2，5-二(4-甲基氨基苯基)-1，3，4-恶二唑)、苯乙烯类化合物(例如，9-(4-二乙氨基苯乙烯基)蒽)、咔唑类化合物(例如，聚乙烯基咔唑)、有机聚硅烷化合物、吡唑啉类化合物(例如，1-苯基-3-(对二甲基氨基苯基)吡唑啉)、腙类化合物、吲哚类化合物、恶唑类化合物、异恶唑类化合物、噻唑类化合物、噻二唑类化合物、咪唑类化合物、吡唑类化合物和三唑类化合物。

(电子输送剂)

电子输送剂含有通式(10)、(11)或者(12)表示的化合物(以下，有时分别记载为电子输送剂(10)、(11)和(12))。通过使感光层含有空穴输送剂(1)和(2)这两种并含有电子输送剂(10)、(11)或者(12)，能够既提高感光体的耐裂性又特别地抑制感光体的晶化。

【化9】

通式(10)中，Q^5A和Q^5B各自独立，表示氢原子、C1-C8烷基、苯基或者C1-C8烷氧基。Q^6A和Q^6B各自独立，表示C1-C8烷基、苯基或者C1-C8烷氧基。m₁和m₂各自独立，表示0以上4以下的整数。

m₁表示2以上4以下的整数时，若干个Q^6A彼此可以相同或不同。m₂表示2以上4以下的整数时，若干个Q^6B彼此可以相同或不同。

通式(10)中，Q^5A和Q^5B各自独立，优选为表示C1-C8烷基，更优选为表示C1-C6烷基，进一步优选为表示1，1-二甲基丙基。m₁和m₂优选为表示0。

通式(11)中，Q⁷和Q⁸各自独立，表示氢原子、C1-C8烷基、苯基或者C1-C8烷氧基。Q⁹表示C1-C8烷基、苯基或者C1-C8烷氧基。m₃表示0以上4以下的整数。

m₃表示2以上4以下的整数时，若干个Q⁹彼此可以相同或不同。

通式(11)中，Q⁷和Q⁸各自独立，优选为表示C1-C8烷基，更优选为表示C1-C6烷基，进一步优选为表示叔丁基。m₃优选为表示0。

通式(12)中，Q¹⁰和Q¹¹各自独立，表示C1-C6烷基或者氢原子。Q¹²表示卤素原子或者氢原子。

通式(12)中，Q¹⁰和Q¹¹各自独立，优选为表示C1-C6烷基，更优选为表示叔丁基。Q¹²优选为表示卤素原子，更优选为表示氯原子。

为了提高感光体的耐裂性并抑制晶化，电子输送剂(10)优选为化学式(E-1)表示的化合物。基于同样的考虑，电子输送剂(11)优选为化学式(E-2)表示的化合物。基于同样的考虑，电子输送剂(12)优选为化学式(E-3)表示的化合物。以下，化学式(E-1)、(E-2)和(E-3)表示的化合物有时分别记载为电子输送剂(E-1)、(E-2)和(E-3)。

【化10】

相对于粘结树脂100质量份，电子输送剂的含量优选为5质量份以上150质量份以下，更优选为10质量份以上50质量份以下，进一步优选为20质量份以上40质量份以下。

感光层可以只含有1种电子输送剂，也可以含有2种以上的电子输送剂。感光层也可以进一步含有电子输送剂(10)、(11)和(12)以外的电子输送剂(以下，有时记载为其它电子输送剂)。其它电子输送剂例如有：醌类化合物、二酰亚胺类化合物、腙类化合物、丙二腈类化合物、噻喃类化合物、三硝基噻吨酮类化合物、3，4，5，7-四硝基-9-芴酮类化合物、二硝基蒽类化合物、二硝基吖啶类化合物、四氰乙烯、2，4，8-三硝基噻吨酮、二硝基苯、二硝基吖啶、琥珀酸酐、马来酸酐和二溴马来酸酐。醌类化合物例如有：联苯醌类化合物、偶氮醌类化合物、蒽醌类化合物、萘醌类化合物、硝基蒽醌类化合物和二硝基蒽醌类化合物。

(粘结树脂)

粘结树脂例如有：热塑性树脂、热固性树脂和光固化树脂。热塑性树脂例如有：聚芳酯树脂、聚碳酸酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-顺丁烯二酸共聚物、丙烯酸聚合物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚乙烯树脂、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、氯化聚乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、聚丙烯树脂、离聚物树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、醇酸树脂、聚酰胺树脂、聚氨基甲酸酯树脂、聚砜树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、酮树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂和聚醚树脂。热固性树脂例如有：硅酮树脂、环氧树脂、酚醛树脂、脲醛树脂和三聚氰胺树脂。光固化树脂例如有：环氧化合物的丙烯酸加成物和聚氨酯化合物的丙烯酸加成物。感光层可以只含有1种粘结树脂，也可以含有2种以上粘结树脂。

粘结树脂的粘均分子量优选为10,000以上，更优选为20,000以上，进一步优选为30,000以上，特别优选为40,000以上。粘结树脂的粘均分子量是10,000以上时，能够提高感光体的耐磨损性。另一方面，粘结树脂的粘均分子量优选为80,000以下，更优选为70,000以下。粘结树脂的粘均分子量是80,000以下时，粘结树脂易溶解在感光层形成用的溶剂中。

粘结树脂优选为聚芳酯树脂或者聚碳酸酯树脂，更优选为聚芳酯树脂。以下，依次对聚芳酯树脂和聚碳酸酯树脂进行说明。

首先，对聚芳酯树脂进行说明。为了进一步提高感光体的耐裂性并抑制晶化，聚芳酯树脂的优选例例如是：含有至少1种由通式(10)表示的重复单元和至少1种由通式(11)表示的重复单元的聚芳酯树脂。以下，含有至少1种由通式(10)表示的重复单元和至少1种由通式(11)表示的重复单元的聚芳酯树脂有时记载为聚芳酯树脂(PA)。还有，通式(10)和(11)表示的重复单元有时分别记载为重复单元(10)和(11)。

【化11】

通式(10)中，R¹¹和R¹²各自独立，表示氢原子或者甲基。通式(10)中，W是通式(W1)、通式(W2)或者化学式(W3)表示的二价基。

【化12】

通式(W1)中，R¹³表示氢原子或者C1-C4烷基，R¹⁴表示C1-C4烷基。通式(W2)中，t表示1以上3以下的整数。

通式(11)中，X是化学式(X1)、化学式(X2)或者化学式(X3)表示的二价基。

【化13】

通式(W1)中的R¹³所表示的C1-C4烷基优选为甲基。通式(W1)中的R¹⁴所表示的C1-C4烷基优选为C2-C4烷基，更优选为乙基。通式(W2)中的t优选为表示2。

通式(10)中，R¹¹和R¹²优选为表示甲基。通式(10)中，W优选为通式(W2)表示的二价基。通式(11)中，X优选为化学式(X1)和(X3)表示的二价基。

重复单元(10)的优选例例如有：化学式(10-1)、(10-2)和(10-3)表示的重复单元。以下，化学式(10-1)、(10-2)和(10-3)表示的重复单元有时分别记载为重复单元(10-1)、(10-2)和(10-3)。

【化14】

重复单元(11)的优选例例如有：化学式(11-X1)、(11-X2)和(11-X3)表示的重复单元。以下，化学式(11-X1)、(11-X2)和(11-X3)表示的重复单元有时分别记载为重复单元(11-X1)、(11-X2)和(11-X3)。

【化15】

聚芳酯树脂(PA)可以只含有1种重复单元(10)，也可以含有2种以上的重复单元(10)。聚芳酯树脂(PA)可以只含有1种重复单元(11)，也可以含有2种以上的重复单元(11)。聚芳酯树脂(PA)优选为含有至少1种重复单元(10)和至少2种重复单元(11)，更优选为含有1种重复单元(10)和2种重复单元(11)。

聚芳酯树脂(PA)的优选例例如有：含有重复单元(10-2)、(11-X1)和(11-X3)的聚芳酯树脂(以下，有时记载为聚芳酯树脂(I))。

聚芳酯树脂(PA)的进一步优选例例如有：化学式(R-1)表示的聚芳酯树脂(以下，有时记载为聚芳酯树脂(R-1))。另外，化学式(R-1)中，各重复单元的右下标数字表示：相对于聚芳酯树脂所含的重复单元的总数，各重复单元的数量的百分比(％)。重复单元的总数是来自双酚的重复单元的数量和来自二羧酸的重复单元的数量之合计。

【化16】

聚芳酯树脂(PA)例如可以是无规共聚物、交替共聚物、周期共聚物或者嵌段共聚物。聚芳酯树脂(PA)中，重复单元的排列只要来自双酚的重复单元与来自二羧酸的重复单元相邻并相互键合即可，没有特别的限定。来自双酚的重复单元例如是重复单元(10)。来自二羧酸的重复单元例如是重复单元(11)。

聚芳酯树脂(PA)中，重复单元可以只有重复单元(10)和(11)。或者，聚芳酯树脂(PA)中，在含有重复单元(10)和(11)的基础上，重复单元也可以进一步含有它们以外的重复单元。

聚芳酯树脂(PA)的制造方法没有特别的限定。聚芳酯树脂(PA)的制造方法例如是：双酚(用于构成来自双酚的重复单元)与二羧酸(用于构成来自二羧酸的重复单元)进行缩聚的方法。缩聚可以采用众所周知的合成方法(例如，溶液聚合、熔融聚合或者界面聚合)。

双酚(用于构成来自双酚的重复单元)例如有：通式(BP-10)表示的化合物。二羧酸(用于构成来自二羧酸的重复单元)例如有：化学式(DC-11)表示的化合物。通式(BP-10)和(DC-11)中的R¹¹、R¹²、W和X分别与通式(10)和(11)中的R¹¹、R¹²、W和X具有相同含义。

【化17】

双酚(用于构成来自双酚的重复单元)也可以使用衍生化了的芳香族二乙酸盐。二羧酸(用于构成来自二羧酸的重复单元)也可以使用衍生物。二羧酸的衍生物的例子有：二羧酸二氯化物、二羧酸二甲酯、二羧酸二乙酯和二羧酸酐。二羧酸二氯化物是二羧酸所具有的2个“-C(＝O)-OH”基各自都被“-C(＝O)-Cl”基进行了取代的化合物。

双酚与二羧酸的缩聚中，也可以添加碱和催化剂中的一者或两者。碱的例子是氢氧化钠。催化剂的例子有：苄基三丁基氯化铵、氯化铵、溴化铵、季铵盐、三乙胺和三甲胺。如上所述，说明了聚芳酯树脂。

接下来，对聚碳酸酯树脂进行说明。聚碳酸酯树脂的例子有：双酚ZC型聚碳酸酯树脂、双酚C型聚碳酸酯树脂、双酚A型聚碳酸酯树脂和双酚Z型聚碳酸酯树脂。双酚Z型聚碳酸酯树脂具有化学式(R-2)表示的重复单元。以下，具有化学式(R-2)所示重复单元的聚碳酸酯树脂有时记载为聚碳酸酯树脂(R-2)。如上所述，说明了聚碳酸酯树脂。

【化18】

(添加剂)

添加剂例如有：紫外线吸收剂、抗氧化剂、自由基捕获剂、单重态淬灭剂、软化剂、表面改性剂、增量剂、增稠剂、分散稳定剂、蜡、供体、表面活性剂、可塑剂、增感剂、电子受体化合物和流平剂。

(材料的组合)

为了提高感光体的耐裂性并抑制晶化，空穴输送剂(1)和(2)以及电子输送剂的组合优选为表1中的组合No.F-1～F-8的每一个。基于同样的考虑，更优选为：空穴输送剂(1)和(2)以及电子输送剂的组合是表1中的组合No.F-1～F-8的每一个，电荷产生剂是Y型氧钛酞菁。

【表1】

No.	HTM(1)	HTM(2)	ETM
				F-1	HTM-1	HTM-A	E-1
F-2	HTM-1	HTM-A	E-2
				F-3	HTM-1	HTM-A	E-3
F-4	HTM-2	HTM-B	E-1
				F-5	HTM-2	HTM-B	E-2
F-6	HTM-2	HTM-B	E-3
				F-7	HTM-3	HTM-C	E-1
F-8	HTM-4	HTM-D	E-1

为了提高感光体的耐裂性并抑制晶化，空穴输送剂(1)和(2)、电子输送剂以及粘结树脂的组合优选为表2中的组合No.G-1～G-17的每一个。基于同样的考虑，更优选为：空穴输送剂(1)和(2)、电子输送剂以及粘结树脂的组合是表2中的组合No.G-1～G-17的每一个，电荷产生剂是Y型氧钛酞菁。

【表2】

上述表1和表2中、“No.”是组合No.，“HTM(1)”是空穴输送剂(1)，“HTM(2)”是空穴输送剂(2)，“ETM”是电子输送剂，“树脂”是粘结树脂。“树脂”栏的“I”是聚芳酯树脂(I)。“树脂”栏的“R-1”是聚芳酯树脂(R-1)。“树脂”栏的“R-2”是聚碳酸酯树脂(R-2)。

(导电性基体)

导电性基体只要能够用作感光体的导电性基体即可，不做特别的限定。导电性基体只要至少表面部由导电性材料构成即可。导电性基体的一个例子是：由导电性材料构成的导电性基体。导电性基体的另一个例子是：由导电性材料包覆的导电性基体。导电性材料例如有：铝、铁、铜、锡、铂、银、钒、钼、铬、镉、钛、镍、钯、铟、不锈钢和黄铜。这些导电性材料可以单独使用，也可以组合2种以上(例如作为合金)来使用。这些导电性材料中，基于电荷从感光层到导电性基体移动良好的观点，优选为铝和铝合金。

导电性基体的形状根据图像形成装置的结构来适当选择。导电性基体的形状例如是：片状和鼓状。还有，导电性基体的厚度根据导电性基体的形状来适当选择。

(中间层)

中间层(底涂层)例如含有无机颗粒和用在中间层中的树脂(中间层用树脂)。可以认为：通过中间层的存在，能够维持可抑制漏电发生这种程度的绝缘状态，同时使曝光感光体时产生的电流流动顺利，由此能够抑制电阻的升高。

无机颗粒例如有：金属(例如，铝、铁和铜)的颗粒、金属氧化物(例如，二氧化钛、氧化铝、氧化锆、氧化锡和氧化锌)的颗粒和非金属氧化物(例如，二氧化硅)的颗粒。这些无机颗粒可以单独使用一种，也可以2种以上并用。

中间层用树脂的例子与上述的粘结树脂的例子相同。为了良好地形成中间层和感光层，中间层用树脂优选为不同于感光层中含有的粘结树脂。中间层也可以含有添加剂。中间层中含有的添加剂的例子与感光层中含有的添加剂的例子相同。

<感光体的制造方法>

感光体的制造方法包含空穴输送剂制造工序和感光层形成工序。

(空穴输送剂制造工序)

空穴输送剂制造工序中，制造空穴输送剂。空穴输送剂制造工序含有第一搅拌工序和第二搅拌工序。第一搅拌工序中，对混合液(以下，有时简记为“溶液”)进行第一搅拌。溶液含有通式(A)表示的化合物和通式(B)表示的化合物。第二搅拌工序中，在由第一搅拌工序得到的溶液中进一步加入通式(C)表示的化合物，对溶液进行第二搅拌。在第一搅拌工序之后，不对溶液进行提纯就实施第二搅拌工序。经过第一搅拌工序和第二搅拌工序，得到含有第一空穴输送剂和第二空穴输送剂这两种的空穴输送剂(即，空穴输送剂(1)和(2)的混合物)。所得空穴输送剂(1)和(2)的混合物在感光层形成工序中作为空穴输送剂使用。以下，通式(A)、(B)和(C)表示的化合物有时分别记载为化合物(A)、(B)和(C)。

【化19】

通式(A)中的R¹、R²、R³、R⁴和R⁵分别与通式(1)中的R^1A、R^2A、R^3A、R4^A和R^5A是相同的基。通式(B)中的R⁶、R⁷、R⁸、R⁹和R¹⁰分别与通式(1)中的R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A是相同的基。通式(B)中的Z¹表示卤素原子。通式(C)中的Y是与通式(1)中的Y相同的基。通式(C)中的Z²和Z³表示卤素原子。

如下述反应方程式(r-1)所示，通过1摩尔当量的化合物(A)与2摩尔当量的化合物(B)进行反应，得到1摩尔当量的空穴输送剂(2)。第一搅拌工序中，进行反应方程式(r-1)表示的反应。另外，不仅是第一搅拌工序，在第二搅拌工序中，也有可能进行反应方程式(r-1)表示的反应。

【化20】

还有，如下述反应方程式(r-2)和(r-3)所示，通过2摩尔当量的化合物(A)、2摩尔当量的化合物(B)和1摩尔当量的化合物(C)进行反应，得到1摩尔当量的空穴输送剂(1)。具体来说，如反应方程式(r-2)所示，2摩尔当量的化合物(A)与2摩尔当量的化合物(B)进行反应，得到2摩尔当量由化学式(D)表示的化合物(以下，有时记载为化合物(D))。化合物(D)是中间生成物。然后，如反应方程式(r-3)所示，通过2摩尔当量的化合物(D)与1摩尔当量的化合物(C)进行反应，得到1摩尔当量的空穴输送剂(1)。第一搅拌工序中，进行反应方程式(r-2)表示的反应，第二搅拌工序中，进行反应方程式(r-3)表示的反应。另外，不仅是第一搅拌工序，在第二搅拌工序中，也有可能进行反应方程式(r-2)表示的反应。

【化21】

空穴输送剂(1)和(2)的原料中，化合物(A)是共通的，因此通式(A)中的R¹与通式(1)中的R^1A和R^1B以及通式(2)中的R^1C是相同的基。如R¹那样，通式(A)中的R²～R⁵与通式(1)和(2)中所对应的取代基也是相同的基。空穴输送剂(1)和(2)的原料中，化合物(B)是共通的，因此通式(B)中的R⁶与通式(1)中的R^6A和R^6B以及通式(2)中的R^6C和R^6D是相同的基。如R⁶那样，通式(B)中的R⁷～R¹⁰与通式(1)和(2)中所对应的取代基也是相同的基。

第一搅拌工序中进行第一搅拌的溶液和第二搅拌工序中进行第二搅拌的溶液中，也可以添加钯催化剂。钯催化剂例如有：乙酸钯(II)、氯化钯(II)、六氯钯(IV)酸钠四水合物和三(二亚苄基丙酮)二钯(0)。

第一搅拌工序中进行第一搅拌的溶液和第二搅拌工序中进行第二搅拌的溶液中，也可以添加配体。配体例如有：2-二环己基膦-2′，4′，6′-三异丙基联苯、(4-二甲基氨基苯基)二叔丁基膦、三环己基膦、三苯基膦和二苯基甲基膦。

第一搅拌工序中进行第一搅拌的溶液和第二搅拌工序中进行第二搅拌的溶液中，也可以添加碱。碱例如有：叔丁醇钠、磷酸三钾和氟化铯。

第一搅拌工序中进行第一搅拌的溶液和第二搅拌工序中进行第二搅拌的溶液中，也可以添加溶剂。溶剂例如有：二甲苯、甲苯、四氢呋喃和二甲基甲酰胺。

第一搅拌工序中进行第一搅拌的溶液和第二搅拌工序中进行第二搅拌的溶液的温度优选为80℃以上140℃以下。第一搅拌的时间优选为1小时以上10小时以下，更优选为5小时以上10小时以下。第二搅拌的时间优选为1小时以上10小时以下，更优选为1小时以上4小时以下。第一搅拌和第二搅拌也可以在惰性气体(例如，氮气或者氩气)的环境下进行。

空穴输送剂制造工序中，在第一搅拌工序之后不对溶液进行提纯。因此，能够实现空穴输送剂的制造工序的简单化。还有，经过第一搅拌工序和第二搅拌工序，以混合物状态同时得到空穴输送剂(1)和(2)。由于是以混合物的状态得到的，因此，在感光层形成工序中的涂布液制备时，能够省略分别计量空穴输送剂(1)和(2)再进行混合的操作。

空穴输送剂制造工序中，在通过第二搅拌工序得到的空穴输送剂中，残留有空穴输送剂(2)。不完全去除作为副产物的空穴输送剂(2)，反而特意地残留空穴输送剂(2)，由此能够使感光层含有空穴输送剂(1)和(2)这两种。因此，能够提高感光体的耐裂性，并能够抑制感光体的晶化。另外，也可以以不完全去除空穴输送剂(2)的方式，在第二搅拌工序之后进行提纯。还有，也可以以不完全去除空穴输送剂(1)的方式，在第二搅拌工序之后进行提纯。第二搅拌工序之后的提纯方法例如有：活性粘土处理、再结晶以及它们的组合。

相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量，空穴输送剂(2)的含有率例如可以通过改变化合物(B)的添加物质的量相对于化合物(A)的添加物质的量之比率(B/A)进行调整。比率(B/A)是摩尔比换算值。比率(B/A)越高，空穴输送剂(2)相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量之含有率就越高。比率(B/A)优选为1.05以上1.45以下，更优选为1.05以上1.25以下。

还有，相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量，空穴输送剂(2)的含有率例如可以通过改变化合物(A)的添加物质的量相对于化合物(C)的添加物质的量之比率(A/C)进行调整。比率(A/C)是摩尔比换算值。比率(A/C)越高，空穴输送剂(2)相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量之含有率就越高。比率(A/C)优选为2.30以上3.30以下，更优选为2.30以上2.60以下。

还有，相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量，空穴输送剂(2)的含有率例如可以通过以不完全去除空穴输送剂(2)的方式在第二搅拌工序之间进行提纯以及改变其提纯条件进行调整。另外，为了调整空穴输送剂(2)相对于空穴输送剂(1)和(2)的总质量之含有率，也可以在经过第一搅拌工序和第二搅拌工序得到的空穴输送剂中进一步添加空穴输送剂(1)和(2)中的一者或两者。

(感光层形成工序)

感光层形成工序中，将涂布液(具体来说，感光层形成用涂布液)涂布在导电性基体上，去除涂布液中含有的溶剂的至少一部分，由此形成感光层。涂布液含有电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂、粘结树脂和溶剂。

涂布液中含有的溶剂只能能够使涂布液中含有的各成分溶解或者分散即可，没有特别的限定。溶剂例如有：醇(更具体地来说，甲醇、乙醇、异丙醇和丁醇等)、脂肪烃(更具体地来说，正己烷、辛烷和环己烷等)、芳香族烃(更具体地来说，苯、甲苯和二甲苯等)、卤化烃(更具体地来说，二氯甲烷、二氯乙烷、四氯化碳和氯苯等)、醚(更具体地来说，二甲醚、二乙醚、四氢呋喃、乙二醇二甲醚和二甘醇二甲醚等)、酮(更具体地来说，丙酮、甲基乙基酮和环己酮等)、酯(更具体地来说，乙酸乙酯和乙酸甲酯等)、二甲基甲醛、二甲基甲酰胺和二甲基亚砜。这些溶剂可以单独使用一种，也可以组合两种以上来使用。

通过使电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂和粘结树脂溶解或者分散在溶剂中，制备涂布液。溶解或者分散的操作中，例如可以使用珠磨机、辊磨机、球磨机、磨碎机、油漆振荡器或者超声波分散器。

使用涂布液进行涂布的方法例如有：浸涂法、喷涂法、旋涂法和棒涂法。

去除涂布液中含有的溶剂的至少一部分的方法例如有：加热、减压以及加热与减压的并用。更具体地来说，可以举出使用高温干燥机或者减压干燥机进行热处理(热风干燥)的方法。热处理的温度例如是40℃以上150℃以下。热处理的时间例如是3分以上120分以下。

另外，感光体的制造方法根据需要也可以进一步包含形成中间层和保护层的工序。形成中间层和保护层的工序能够适当选择众所周知的方法。

<图像形成装置>

接下来，对具备本实施方式的感光体1的图像形成装置进行说明。以下，参照图4，以串联方式的彩色图像形成装置为例进行说明。图4是图像形成装置的一个例子的截面图。

图4中的图像形成装置100具备图像形成单元40a、40b、40c和40d，还具备转印带50和定影装置54。以下，在无需区分的情况下，图像形成单元40a、40b、40c和40d各自都记载为图像形成单元40。

图像形成单元40具备像承载体30、带电装置42、曝光装置44、显影装置46、转印装置48和清洁部件52。像承载体30是本实施方式的感光体1。

如上所述，本实施方式的感光体1具有优异的耐裂性，因此，通过将这样的感光体1作为像承载体30，能够提高图像形成装置100的耐用性。还有，如上所述，本实施方式的感光体1能够抑制晶化，因此，通过将感光体1作为像承载体30，图像形成装置100能够形成优质的图像。

像承载体30设置在图像形成单元40的中央位置。像承载体30设置成可沿箭头方向(逆时针方向)旋转。在像承载体30的周围，从像承载体30的旋转方向的上游侧开始依次设置带电装置42、曝光装置44、显影装置46、转印装置48和清洁部件52。

若干种颜色(例如，黑色、青色、品红色和黄色这四种颜色)的调色剂像被图像形成单元40a～40d的每一个依次叠加到转印带50上的记录介质P上。

带电装置42使像承载体30的表面(例如，周面)例如带电到正极性。带电装置42例如是带电辊。

曝光装置44对带电了的像承载体30的表面进行曝光。由此，在像承载体30的表面上形成静电潜像。基于输入到图像形成装置100中的图像数据，形成静电潜像。

显影装置46将调色剂供给到像承载体30的表面，将静电潜像显影为调色剂像。显影装置46将静电潜像显影为调色剂像时，像承载体30的表面与显影装置46的表面(例如，周面)是接触的。即，图像形成装置100采用接触显影方式。显影装置46例如是显影辊。在显影剂是单组分显影剂的情况下，显影装置46将作为单组分显影剂的调色剂供给到形成在像承载体30上的静电潜像。在显影剂是双组分显影剂的情况下，显影装置46将双组分显影剂所含有的调色剂和载体中的调色剂供给到形成在像承载体30上的静电潜像。由此，像承载体30对调色剂像进行承载。

转印带50在像承载体30与转印部48之间对记录介质P进行输送。转印带50是环状带。转印带50设置成可沿箭头方向(顺时针方向)旋转。

显影部46进行显影得到调色剂像之后，转印部48将调色剂像从像承载体30的表面上转印到被转印体上。被转印体是记录介质P。具体来说，在记录介质P接触到像承载体30的表面时，转印装置48将调色剂像从像承载体30的表面上转印到记录介质P上。即，图像形成装置100采用直接转印方式。转印装置48例如是转印辊。

使清洁部件52抵压接触到像承载体30的表面，清洁部件52对像承载体30的周面上附着的调色剂进行回收。清洁部件52例如是清洁刮板。

调色剂像由转印装置48转印到记录介质P上之后，记录介质P由转印带50输送到定影装置54。定影装置54例如是加热辊和/或加压辊。由转印装置48转印来的未定影调色剂像通过定影装置54被加热和/或加压。调色剂像被加热和/或加压，由此调色剂像定影在记录介质P上。其结果，在记录介质P上形成图像。

如上所述，说明了图像形成装置的一个例子，但图像形成装置不限于上述的图像形成装置100。上述的图像形成装置100是彩色图像形成装置，但图像形成装置也可以是单色图像形成装置。这样的情况下，图像形成装置例如只具备1个图像形成单元即可。还有，上述的图像形成装置100采用串联方式，不过图像形成装置例如也可以采用回转方式(Rotary方式)。以带电辊为例说明了带电装置42，不过带电装置也可以是带电辊以外的带电装置(例如，栅极电晕管充电器、带电刷或者电晕管充电器)。上述的图像形成装置100采用接触显影方式，不过图像形成装置也可以采用非接触显影方式。上述的图像形成装置100采用直接转印方式，不过图像形成装置也可以采用中间转印方式。在图像形成装置采用中间转印方式的情况下，中间转印带相当于被转印体。以清洁刮板为例说明了清洁部件52，不过清洁部件也可以是清洁辊。另外，上述的图像形成单元40不具备消除静电装置，不过图像形成单元也可以具备消除静电装置。

【实施例】

以下，使用实施例对本发明进行更具体的说明。但是，本发明不以任何方式限定于实施例的范围。

准备以下的电荷产生剂、电子输送剂、空穴输送剂和粘结树脂，作为用于形成感光体感光层的材料。

(电荷产生剂)

准备实施方式中所述的Y型氧钛酞菁，作为电荷产生剂。

(电子输送剂)

准备实施方式中所述的电子输送剂(E-1)、(E-2)和(E-3)的每一个，作为电子输送剂。还有，准备化学式(E-4)表示的化合物(以下，记载为电子输送剂(E-4))，作为比较例中使用的电子输送剂。

【化22】

(粘结树脂)

准备实施方式中所述的聚芳酯树脂(R-1)和聚碳酸酯树脂(R-2)的每一个，作为粘结树脂。聚芳酯树脂(R-1)的粘均分子量是47,500。聚碳酸酯树脂(R-2)的粘均分子量是50,000。

(空穴输送剂)

作为空穴输送剂(1)和(2)的混合物的样品(M-A1)～(M-A4)通过以下的方法进行合成。还有，比较例中使用的样品(M-B1)～(M-B5)通过以下的方法进行合成。样品(M-A1)～(M-A4)和(M-B1)～(M-B5)的组分表示在表3中。表3中的技术用语如下。“种类”栏的“HTM(1)”和“HTM(2)”分别表示空穴输送剂(1)的种类和空穴输送剂(2)的种类。“含有率”栏的“HTM(1)”表示：相对于空穴输送剂(1)和空穴输送剂(2)的总质量，空穴输送剂(1)的含有率(单位：质量％)。“含有率”栏的“HTM(2)”表示：相对于空穴输送剂(1)和空穴输送剂(2)的总质量，空穴输送剂(2)的含有率(单位：质量％)。“-”表示样品中不含该空穴输送剂。

【表3】

在以下各样品的合成方法说明中，下述化学式(A-1)～(A-4)、(B-1)～(B-2)和(C-1)表示的化合物有时分别记载为化合物(A-1)～(A-4)、(B-1)～(B-2)和(C-1)。

【化23】

(样品(M-A1)的制备)

按照下述反应方程式(r-a)，进行样品(M-A1)的制备。

【化24】

具体来说，在具备分溜管的500mL三口烧瓶中，放入三(二亚苄基丙酮)二钯(0.0366g、0.040mmol)、2-二环己基膦-2′，4′，6′-三异丙基联苯(0.0763g、0.016mmol)和叔丁醇钠(9.669g、100.7mmol)。烧瓶内的脱气和氮气置换重复进行2次，将烧瓶内的空气置换为氮气。

然后，在烧瓶内再加入2-乙基苯胺(化合物(A-1)、8.45g、69.8mmol)、4-氯甲苯(化合物(B-1)、10.13g、80.0mmol)和二甲苯(45g)。将烧瓶内的溶液升温到130℃，使溶液进行回流。另外，一边蒸发掉升温过程中产生的叔丁醇，一边使溶液升温。在使溶液进行回流的同时，将溶液保持在130℃并进行2小时的搅拌(相当于第一搅拌)。然后，将烧瓶内的溶液冷却到50℃。

然后，在烧瓶内的溶液中再加入叔丁醇钠(7.680g、80.0mmol)、4，4″-二溴对三联苯(化合物(C-1)、11.60g、30.0mmol)、乙酸钯(II)(0.0168g、0.075mmol)、2-二环己基膦-2′，4′，6′-三异丙基联苯(0.1425g、0.299mmol)和二甲苯(32g)。将烧瓶内的溶液升温到130℃，使溶液进行回流。另外，一边蒸发掉升温过程中产生的叔丁醇，一边使溶液升温。在使溶液进行回流的同时，将溶液保持在130℃并进行3小时的搅拌(相当于第二搅拌)。

然后，将烧瓶内的溶液冷却到90℃。对烧瓶内的90℃的溶液进行过滤，去除溶液中的不溶物，得到滤液。对滤液进行2次活性粘土处理。活性粘土处理是指在滤液中放入活性粘土(日本活性粘土株式会社制造“SA-1”、8g)在110℃进行15分钟并再次过滤而回收滤液的处理。对进行了2次活性粘土处理的滤液进行减压浓缩，得到浓缩液。在浓缩液中，加入使浓缩液略微混浊的量(约50g)的异己烷，接着再加入甲醇(50g)。将浓缩液冷却到5℃，通过过滤来取出沉淀的结晶。将该结晶放入二甲苯(100g)中并加热到110℃，使结晶溶解在二甲苯中，得到溶液。对溶液进行5次上述活性粘土处理。对进行了5次活性粘土处理的滤液进行减压浓缩，得到浓缩液。在浓缩液中，加入使浓缩液略微混浊的量(约50g)的异己烷，接着再加入甲醇(50g)。将浓缩液冷却到5℃，通过过滤来取出沉淀的结晶。将所得结晶在真空下70℃进行24小时的干燥，得到样品(M-A1)。样品(M-A1)是含有空穴输送剂(HTM-1)和空穴输送剂(HTM-A)的混合物。样品(M-A1)的产量是16.3g。相对于化合物(C-1)，样品(M-A1)中含有的空穴输送剂(HTM-1)的收率是84％。

(样品(M-A2)的制备)

将化合物(A-1)69.8mmol变更为化合物(A-2)69.8mmol，除此以外按照样品(M-A1)的制备方法，得到样品(M-A2)。样品(M-A2)是含有空穴输送剂(HTM-2)和空穴输送剂(HTM-B)的混合物。

(样品(M-A3)的制备)

将化合物(A-1)69.8mmol变更为化合物(A-3)69.8mmol，除此以外按照样品(M-A1)的制备方法，得到样品(M-A3)。样品(M-A3)是含有空穴输送剂(HTM-3)和空穴输送剂(HTM-C)的混合物。

(样品(M-A4)的制备)

将化合物(A-1)69.8mmol变更为化合物(A-4)69.8mmol，化合物(B-1)80.0mmol变更为化合物(B-2)80.0mmol，除此以外按照样品(M-A1)的制备方法，得到样品(M-A4)。样品(M-A4)是含有空穴输送剂(HTM-4)和空穴输送剂(HTM-D)的混合物。

(样品(M-B1)的制备)

使用甲苯与异己烷的混合溶剂(体积比率50/50)作为展开剂，通过硅胶柱色谱法对样品(M-A1)进行提纯。由此，分离出含有空穴输送剂(HTM-1)的成分。进行减压浓缩，直到分离出的溶液(成分)略微混浊为止，由此得到浓缩液。在浓缩液中加入异己烷和甲醇。将浓缩液冷却到5℃，通过过滤来取出沉淀的结晶，得到样品(M-B1)。样品(M-B1)只含有空穴输送剂(HTM-1)，不含空穴输送剂(HTM-A)。

(样品(M-B2)的制备)

将样品(M-A1)变更为样品(M-A2)，除此以外按照样品(M-B1)的制备方法，得到样品(M-B2)。样品(M-B2)只含有空穴输送剂(HTM-2)，不含空穴输送剂(HTM-B)。

(样品(M-B3)的制备)

将样品(M-A1)变更为样品(M-A3)，除此以外按照样品(M-B1)的制备方法，得到样品(M-B3)。样品(M-B3)只含有空穴输送剂(HTM-3)，不含空穴输送剂(HTM-C)。

(样品(M-B4)的制备)

将样品(M-A1)变更为样品(M-A4)，除此以外按照样品(M-B1)的制备方法，得到样品(M-B4)。样品(M-B4)只含有空穴输送剂(HTM-4)，不含空穴输送剂(HTM-D)。

(样品(M-B5)的制备)

使用甲苯与异己烷的混合溶剂(体积比率50/50)作为展开剂，通过硅胶柱色谱法对样品(M-A1)进行提纯。由此，分离出含有空穴输送剂(HTM-A)的成分。进行减压浓缩，直到分离出的溶液(成分)略微混浊为止，由此得到浓缩液。在浓缩液中加入异己烷和甲醇。将浓缩液冷却到5℃，通过过滤来取出沉淀的结晶，得到样品(M-B5)。样品(M-B5)只含有空穴输送剂(HTM-A)，不含空穴输送剂(HTM-1)。

(空穴输送剂(1)和空穴输送剂(2)的含有率测量)

关于制备的各样品，相对于空穴输送剂(1)和空穴输送剂(2)的总质量，测量空穴输送剂(1)的含有率。空穴输送剂(1)的含有率是通式(1)所包含的空穴输送剂(HTM-1)～(HTM-4)的含有率。还有，关于制备的各样品，相对于空穴输送剂(1)和空穴输送剂(2)的总质量，测量空穴输送剂(2)的含有率。空穴输送剂(2)的含有率是通式(2)所包含的空穴输送剂(HTM-A)～(HTM-D)的含有率。测量方法如下。

将样品(更具体地来说，样品(M-A1)～(M-A4)和(M-B1)～(M-B5的每一个)2.0mg溶解在四氢呋喃670mg中，得到四氢呋喃溶液。其中，使用了不含稳定剂的四氢呋喃。通过高效液相色谱法(HPLC)，对所得四氢呋喃溶液进行分析。具体来说，通过以下的分析装置和分析条件，对作为样品的四氢呋喃溶液进行分析，得到HPLC图表。根据HPLC图表中的空穴输送剂(1)的峰值面积，求出样品中的空穴输送剂(1)的含量。根据HPLC图表中的空穴输送剂(2)的峰值面积，求出样品中的空穴输送剂(2)的含量。根据所求出的空穴输送剂(1)的含量和空穴输送剂(2)的含量，计算空穴输送剂(1)的含有率和空穴输送剂(2)的含有率。计算结果表示在表3的“含有率”栏中。

(分析装置和分析条件)

·分析装置：Hitachi High-Technologies Corporation制造“LaChrom ELITE”

·检测波长：254nm

·色谱柱：GL Sciences Inc.制造“Inertsil(日本注册商标)ODS-3”(内径：4.6mm；长度：250mm)

·色谱柱温度：40℃

·展开剂：乙腈

·流量：1mL/分

·样品注入量：1μL

<感光体的制造>

使用上述那样准备的电荷产生剂、电子输送剂、空穴输送剂和粘结树脂，制造感光体(PA-1)～(PA-9)和(PB-1)～(PB-10)。

(感光体(PA-1)的制造)

使用球磨机，将作为电荷产生剂的Y型氧钛酞菁3质量份、样品(M-A1)70质量份(具体来说，空穴输送剂(HTM-1)67质量份和空穴输送剂(HTM-A)3质量份的混合物)、作为粘结树脂的聚芳酯树脂(R-1)100质量份、电子输送剂(E-1)30质量份和作为溶剂的四氢呋喃800质量份进行50小时的混合，得到涂布液。通过浸涂法，在导电性基体(铝制鼓状支撑体)上进行涂布液的涂布。使涂布上的涂布液在120℃热风干燥60分钟。由此，在导电性基体上形成感光层(膜厚28μm)，得到感光体(PA-1)。感光体(PA-1)中，单层的感光层直接形成在导电性基体上。

(感光体(PA-2)～(PA-9)和(PB-1)～(PB-10)的制造)

除了使用表4的种类的样品、电子输送剂和粘结树脂以外，按照感光体(PA-1)的制造方法，分别制造感光体(PA-2)～(PA-9)和(PB-1)～(PB-10)。

<评价>

对于作为评价对象的感光体(PA-1)～(PA-9)和(PB-1)～(PB-10)的每一个，按照以下的方法评价感光度特性、耐裂性以及是否抑制了晶化。

<感光度特性的评价>

感光体的感光度特性的评价环境是温度23℃和相对湿度50％RH的环境。使用鼓感光度试验机(GENTEC株式会社制造)，使感光体的表面带电到+750V。然后，使用带通滤波器从卤素灯的光中取出单色光(波长：780nm；曝光量：0.7μJ/cm²)，并照射到感光体的表面上。在单色光的照射结束后，再经过40毫秒的时刻，测量感光体的表面电位。将测量的表面电位作为感光体的曝光后电位V_L(单位：+V)。感光体的曝光后电位V_L表示在表4中。将曝光后电位V_L是+150V以下的感光体评价为感光度特性良好。

<耐裂性的评价>

感光体的耐裂性的评价环境是温度23℃和相对湿度50％RH的环境。将感光体中的下端40mm的区域浸渍在异链烷烃溶剂(ExxonMobil公司制造“Isopar L”)中24小时。24小时的浸渍后，确认感光体的表面上产生的裂纹数量。根据裂纹数量，按照以下的基准，进行耐裂性的评价。评价结果表示在表4中。

评价A(特别好)：裂纹的数量是20个以下。

评价B(良好)：裂纹的数量是21个以上100个以下。

评价C(不良)：裂纹的数量是101个以上。

<晶化抑制的评价>

肉眼观察感光体的整个感光层，确认感光层上有无发生了晶化的部分。根据确认结果，按照以下的基准，评价感光体的晶化是否得到了抑制。评价结果表示在表4中。

评价A(良好)：未确认到发生了晶化部分。

评价B(不良)：确认到发生了晶化部分。

表4中的各技术用语意思如下。“HTM”表示空穴输送剂。“HTM(1)”表示空穴输送剂(1)。“HTM(2)”表示空穴输送剂(2)。“ETM”表示电子输送剂。“树脂”表示粘结树脂。“V_L”表示曝光后电位。“裂纹”表示感光体的耐裂性的评价结果。“晶化”表示感光体的晶化是否得到了抑制的评价结果。“-”表示不含该成分。

【表4】

如表4所示，感光体(PA-1)～(PA-9)的感光层是单层的，含有电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂和粘结树脂。感光层中，空穴输送剂含有空穴输送剂(1)和(2)这两种(更具体地来说，空穴输送剂(HTM-1)和(HTM-A)、空穴输送剂(HTM-2)和(HTM-B)、空穴输送剂(HTM-3)和(HTM-C)或者空穴输送剂(HTM-4)和(HTM-D))。感光层中，电子输送剂含有电子输送剂(10)、(11)或者(12)(更具体地来说，电子输送剂(E-1)、(E-2)或者(E-3))。感光体(PA-1)～(PA-9)的耐裂性的评价是A或者B，这些感光体的耐裂性优异。感光体(PA-1)～(PA-9)的晶化抑制的评价是A，这些感光体的晶化得到了抑制。还有，感光体(PA-1)～(PA-9)的曝光后电位V_L是+150V以下，这些感光体在不损害感光度特性的前提下实现了耐裂性的提高和晶化的抑制。

综上所述，本发明所涉及的感光体表现出优异的耐裂性并能够抑制晶化。还有，本发明所涉及的感光体的耐裂性优异并能够抑制晶化，因此能够判断具备这种感光体的图像形成装置的耐用性优异并能够形成优质的图像。还有，根据本发明所涉及的感光体的制造方法，在实现了空穴输送剂制造工序的简单化的同时，能够制造耐裂性优异并能够抑制晶化的感光体。

Claims (7)

1.一种电子照相感光体，

具备导电性基体和感光层，

所述感光层是单层的，

所述感光层含有电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂和粘结树脂，

所述空穴输送剂含有第一空穴输送剂和第二空穴输送剂，所述第一空穴输送剂是由通式(1)表示的化合物，所述第二空穴输送剂是由通式(2)表示的化合物，

所述电子输送剂含有化学式(E-1)表示的化合物，

所述粘结树脂含有聚芳酯树脂，所述聚芳酯树脂含有化学式(10-2)、(11-X1)和(11-X3)表示的重复单元，

所述通式(1)中，R^1A、R^2A、R^3A、R^4A、R^5A、R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A各自独立，表示氢原子、C1-C8烷基、C1-C8烷氧基或者C6-C14芳基，

所述通式(1)中的R^1B和所述通式(2)中的R^1C是与所述通式(1)中的R^1A相同的基，

所述通式(1)中的R^2B和所述通式(2)中的R^2C是与所述通式(1)中的R^2A相同的基，

所述通式(1)中的R^3B和所述通式(2)中的R^3C是与所述通式(1)中的R^3A相同的基，

所述通式(1)中的R^4B和所述通式(2)中的R^4C是与所述通式(1)中的R^4A相同的基，

所述通式(1)中的R^5B和所述通式(2)中的R^5C是与所述通式(1)中的R^5A相同的基，

所述通式(1)中的R^6B以及所述通式(2)中的R^6C和R^6D是与所述通式(1)中的R^6A相同的基，

所述通式(1)中的R^7B以及所述通式(2)中的R^7C和R^7D是与所述通式(1)中的R^7A相同的基，

所述通式(1)中的R^8B以及所述通式(2)中的R^8C和R^8D是与所述通式(1)中的R^8A相同的基，

所述通式(1)中的R^9B以及所述通式(2)中的R^9C和R^9D是与所述通式(1)中的R^9A相同的基，

所述通式(1)中的R^10B以及所述通式(2)中的R^10C和R^10D是与所述通式(1)中的R^10A相同的基，

所述通式(1)中的Y是化学式(Y2)表示的二价基，

2.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其特征在于，

所述通式(1)表示的化合物是化学式(HTM-1)表示的化合物，且所述通式(2)表示的化合物是化学式(HTM-A)表示的化合物，

或者，所述通式(1)表示的化合物是化学式(HTM-2)表示的化合物，且所述通式(2)表示的化合物是化学式(HTM-B)表示的化合物，

或者，所述通式(1)表示的化合物是化学式(HTM-3)表示的化合物，且所述通式(2)表示的化合物是化学式(HTM-C)表示的化合物，

或者，所述通式(1)表示的化合物是化学式(HTM-4)表示的化合物，且所述通式(2)表示的化合物是化学式(HTM-D)表示的化合物，

3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光体，其特征在于，

所述感光层是最外表面层。

4.一种图像形成装置，具备：

像承载体；

带电装置，使所述像承载体的表面带电为正极性；

曝光装置，对带电的所述像承载体的所述表面进行曝光，在所述像承载体的所述表面上形成静电潜像；

显影装置，将所述静电潜像显影为调色剂像；以及

转印装置，将所述调色剂像从所述像承载体上转印到被转印体上，所述像承载体是权利要求1～3中任一项所述的电子照相感光体。

5.根据权利要求4所述的图像形成装置，其特征在于，

所述被转印体是记录介质，

在所述记录介质接触所述像承载体的所述表面的同时，所述转印装置将所述调色剂像从所述像承载体上转印到所述记录介质上。

6.根据权利要求4所述的图像形成装置，其特征在于，

所述像承载体的所述表面与所述显影装置是接触的。

7.一种制造方法，

制造权利要求1～3中任一项所述的电子照相感光体，

所述制造方法包含空穴输送剂制造工序和感光层形成工序，

所述空穴输送剂制造工序中，制造所述空穴输送剂，

所述感光层形成工序中，将含有所述电荷产生剂、所述空穴输送剂、所述电子输送剂、所述粘结树脂和溶剂的涂布液涂布在所述导电性基体上，然后去除所述涂布液中含有的所述溶剂的至少一部分，由此形成所述感光层，

所述空穴输送剂制造工序包含第一搅拌工序和第二搅拌工序，

所述第一搅拌工序中，对含有通式(A)所示化合物和通式(B)所示化合物的混合液进行第一搅拌，

所述第二搅拌工序中，在所述混合液中进一步加入通式(C)所示化合物，再对所述混合液进行第二搅拌，

在所述第一搅拌工序之后，不对所述混合液进行提纯就实施所述第二搅拌工序，

经过所述第一搅拌工序和所述第二搅拌工序之后，得到含有所述第一空穴输送剂和所述第二空穴输送剂的所述空穴输送剂，

所述通式(A)中的R¹、R²、R³、R⁴和R⁵分别与所述通式(1)中的R^1A、R^2A、R^3A、R^4A和R^5A是相同的基，

所述通式(B)中的R⁶、R⁷、R⁸、R⁹和R¹⁰分别与所述通式(1)中的R^6A、R^7A、R^8A、R^9A和R^10A是相同的基，所述通式(B)中的Z¹表示卤素原子，

所述通式(C)中的Y与所述通式(1)中的Y是相同的基，所述通式(C)中的Z²和Z³表示卤素原子。