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CH226242A - Kinoprojektor. - Google Patents

Kinoprojektor.

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Publication number
CH226242A
CH226242A CH226242DA CH226242A CH 226242 A CH226242 A CH 226242A CH 226242D A CH226242D A CH 226242DA CH 226242 A CH226242 A CH 226242A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
wall
container
air
device housing
cinema projector
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Bauer G M B H Eugen
Original Assignee
Bauer Eugen Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bauer Eugen Gmbh filed Critical Bauer Eugen Gmbh
Publication of CH226242A publication Critical patent/CH226242A/de

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/08Bushings, e.g. construction, bushing reinforcement means; Spinnerettes; Nozzles; Nozzle plates
    • C03B37/083Nozzles; Bushing nozzle plates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B37/08Bushings, e.g. construction, bushing reinforcement means; Spinnerettes; Nozzles; Nozzle plates
    • C03B37/081Indirect-melting bushings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B37/08Bushings, e.g. construction, bushing reinforcement means; Spinnerettes; Nozzles; Nozzle plates
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    • C03B37/091Indirect-resistance heating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/80After-treatment
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14Details
    • G03B21/16Cooling; Preventing overheating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G5/00Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture
    • H01G5/38Multiple capacitors, e.g. ganged
    • HELECTRICITY
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    • H03J3/00Continuous tuning
    • H03J3/20Continuous tuning of single resonant circuit by varying inductance only or capacitance only

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Description


      Itinoproj        ektor.       Die Erfindung bezieht sich auf einen  Kinoprojektor,     insbesondere    für Schmalfilm,  bei welchem die Projektionslampe und der       Lampenanpassungswiderstand    durch einen  Lüfter gekühlt sind. Gemäss der     Erfindung     wird mindestens eine Wand des die Projek  tionslampe und den Anpassungswiderstand  enthaltenden     Behälters    in einem Abstand von  der Wand des Gerätegehäuses innerhalb des  letzteren angeordnet und der Kühlluftstrom  ausser durch den Behälter auch durch den  Zwischenraum zwischen diesem und dem Ge  rätegehäuse über die Aussenfläche der Behäl  terwand geleitet.

   Auf diese     Weise    wird er  reicht, dass die entsprechende Aussenwand des  Gerätegehäuses sehr kühl bleibt, während  anderseits die Kühlung der Lampe und des  Widerstandes nur den technischen     Erforder-          niss:en,    nicht aber der Empfindlichkeit der  Hände des Benutzers angepasst zu werden  braucht.     Man        kann    mit andern Worten, ohne  die Benutzbarkeit des     Gerätes    herabzusetzen,  ja sogar bei kühlerer Aussenwand mit höherer    Temperatur der Projektionslampe und des  Widerstandes arbeiten.

   Bei' einer Ausfüh  rungsfarm     ist    von dem vom Lüfter erzeugten       Gesamtkühlluftstrom    ein durch den erwähn  ten Zwischenraum .geführter Teilstrom ab  gezweigt.  



  Der durch den Zwischenraum zwischen  dem Behälter und dem Gerätegehäuse hin  durchgeleitete Kühlluftstrom braucht kein       Druckluftstrom,    sondern er kann auch ein  Saugluftstrom sein; zum Beispiel kann -der  Lüfter durch den Zwischenraum     hindurlch     ansaugen.

   Zweckmässig ist über dem     Luft-          austrittsgitter,    das in der obern, in einem       Absitand    von der obern Wand des Geräte  gehäuses befindlichen Wand des Behälters  angebracht ist, in der obern Wand des     Ge-          rätegeh-äuses    ein freier Ausschnitt vorgesehen,  dessen Rand zweckmässig nach innen     um-          gebördelt    ist, wobei der Spalt zwischen dem       Luftaustrittsgitber    und den genannten Rand  als Ansaugöffnung für durch     Ejektor-          wirkung    abzusaugende Luft benutzt ist.

        Durch diese bevorzugte     Ausführunbsforin     wird die Wirksamkeit der Kühlung des  ganzen Gerätes noch weiter gesteigert,     iris-          besondere        wird    es auf einfache Weise     er..          mö@glmcht,    Warmluft aus     Geräteräumen        finit     abzusaugen, die dem die     '\@'ärmeerzeuger    ent  haltenden Behälter benachbart sind.

   Dabei  bleibt der     Vorteil    der     ein    sich bekannten ver  senkten Anordnung des     Luftaustrittsgitters     über dem Widerstand erhalten, der in einer       Verminderung    der Gefahr des unbeabsichtig  ten     Berüh,rens        ,dieses        Gitters    besteht, sowie  darin,     @dass    eine Erhitzung der Aussenwand  durch Wärmeleitung über Stege, welche  Wärme aus der abströmenden, erhitzten Luft.  aufnehmen, vermieden ist.  



  Die Zeichnung zeigt zwei     Ausführungs-          beispiele.     



       Abb.    1 ist eine schaubildliche Teil  darstellung einer Belüftungsanordnung für  einen Kinoprojektor nach einer ersten Aus  führungsform.  



       Abb.    2 ist ein schematisch gezeichneter  Teilschnitt durch eine zweite Ausführung       msit    versenkt     liegendem        Luitaustritts!bitter.     



  Bei dem Beispiel nach     Abb.    1 sind  die     Projektionslampe    1 und der Lampen  anpassungswiderstand 2 und etwaige andere  Wärmeerzeuger     bezw.    Widerstände in einem  gemeinsamen     Behälter    untergebracht. Aus  dem Boden dieses Raumes ist um die Lam  penfassung herum eine     Lufteinströmöffnting     3 ausgespart. Diese     Luftzuführungsöffnung     verbindet den Lampen- und     Widerstands-          raum    mit einem darunter angeordneten Luft  raum 4, in welchen der Lüfter 5     hinein-          fördert.    Der Lüfter saugt Frischluft durch  das Gitter 6 hindurch an.

   Die den     Lampen-          und        Widerstandsraum    auf der in der     Zeieli-          nung    dem Beschauer zugewendeten Seite be  grenzende Wand 7 des Behälters ist in einem  Abstand von der in der Zeichnung weg  gelassenen Wand des Gerätegehäuses ange  ordnet. Dieser Abstand ist durch den Steg 8  gegeben, der Längsschlitze 9 und 10 besitzt,  durch welche die Luft aus dem Raum 4 eben  falls hindurchströmt. Selbstverständlich kön  nen auch andere Wände des     die    Wärme-         erzeuger    enthaltenden Behälters innerhalb  des     Gerätebehäuses    in einem Abstand von  dem letzteren angeordnet sein.

   Diese Anord  nung kann für jede einzelne Wand des Be  hälters oder für mehrere oder alle zugleich  durchgeführt sein; zum Beispiel kann auch  eine den     Behälter    nach oben begrenzende,  und dann dort in bekannter Weise mit einem  Rost versehene Wand in einem Abstand     voll     der obern Gehäusewand angeordnet sein.

   Bei  dem gezeichneten Beispiel ist dagegen in der  obern Stirnwand 11 des Gerätegehäuses ein  Rost 12 mit     Ausströmöffnungen    für die Luft  angeordnet, der über den Lampen- und Wi  derstandsraum und ausserdem über den zwi  schen der Gehäusewand und der Wand 7  vorhandenen Abstandsraum hinüberreicht, so  dass sowohl die durch den, Lampen- und Wi  derstandsraum, als auch die zwischen der  Wand 7 und' der Gehäusewand hindurch  geblasene Luft durch ihn nach aussen ab  ziehen kann.  



  Zwei Seitenwände des Lampen- und Wi  derstandsschachtes     bezw.    Behälters, ebenso  wie der Steg 8, reichen bis an die nicht ge  zeichnete Gehäuseaussenwand. Die den Zwi  schenraum zwischen der Wand 7 und der Ge  häusewand begrenzenden     Seitenwandstücke     können ebenfalls mit     Luftdurchgangsöffnun-          gen    versehen sein, wie sie bei 13     angedeutet     sind.

   Auf diese Weise kann entweder Kühl  luft durch die Öffnungen 13 auch in einen  andern Innenraum des Kinoprojektors gelei  tet werden, wobei die     Luftzuleitungsöffnun-          gen    zweckmässig im     untern    Teil der Wände  angebracht werden, oder es kann Warmluft  aus diesen Räumen durch     Ejektorwirkung     abgesaugt  -erden, wobei man die Luft  ansaugöffnungen gegebenenfalls mit     Leit-          blechen    oder Windschirmen im     ohern    Teil  der Wände anzuordnen hat.  



  Der Lüfter, die Lampe und der Wider  stand können in einem gemeinsamen,     eine     bauliche Einheit bildenden Behälter in das       Projektorgehäuse    eingesetzt sein, wobei  Lampe und Widerstand entweder im Kühl  luftstrom hintereinander oder parallel ge  schaltet sein können. Bei dem gezeichneten      Beispiel ist die hintereinander geschaltete  Anordnung gewählt:     Unter    dem     Widerstand     2 ist eine Wand 14 angebracht.  



  Der Gehäusedeckel     bezw.    die obere Stirn  wand 11 kann von den innern Seitenwänden  des Behälters durch Abstand oder durch  Isolierstoff gegen Wärmeleitung getrennt  sein. Auch mit den äussern Seitenwänden des  Behälters braucht eine Verbindung nur an  wenigen Punkten zu bestehen.  



  Bei dem Beispiel nach     Abb.    2 sind der  Widerstand 2 und etwaige andere Wider  stände sowie die Projektionslampe 1 in  einem Behälter 15 untergebracht, dessen  obere Wand von einer     Luftleithaube    16 ge  bildet ist. Der Behälter 15 ist in das Geräte  gehäuse 17 so eingesetzt, dass zwischen beiden       ZVänden    Abstandsräume entstehen, z. B. bei  18 und 19.

   Die von dem nicht gezeichneten  Lüfter durch die     Lufteinströmöffnung    3     im     Boden 20 des Behälters in diese gedrückte  Luft strömt, nachdem sie sich an der Lampe  und den Widerständen erhitzt hat, durch das       Luftaustrittsgitter    21 aus, das in der     obern     Wand des Behälters in einem Abstand von  der     obern    Gehäuseaussenwand 11 angebracht  ist. In der Aussenwand 11 befindet sich über  dem     Luftaustrittsgitter    21 nur ein freier Aus  schnitt 22, der einen nach innen     umgebördel-          ten    Rand 23 besitzt.

   Der Spalt zwischen  diesem Rand und dem     Gitter    21 dient als An  saugöffnung für durch     Ejektorwirkung    ab  zusaugende Luft. Das Aussengehäuse 17, das  z. B. eine um das     ,Scharnier    24 aufklappbare,  ,durch die Schraube 25 festgehaltene Blech  haube sein kann, bleibt bei dieser Art der       Luftherausführung    so kühl, dass es auch nach  längerem Betriebe ohne weiteres mit .der  blossen Hand angefasst werden kann.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH: Kinoprojektor, insbesondere für Schmal film, bei welchem die Projektionslampe und der Lampenanpassungswiderstand -durch einen Lüfter gekühlt sind, dadurch gekenn zeichnet, dass mindestens eine Wand (7) des . die Projektionslampe (1) und den Anpas sungswiderstand (2) enthaltenden Behälters in einem Abstand von der Wand des Geräte gehäuses innerhalb des letzteren angeordnet ist und dass ein Kühlluftstrom durch den Be hälter und durch den Zwischenraum zwischen diesem und dem Gerätegehäuse über die Aussenfläche der Behälterwand (7) geleitet ist.
    UNTERANSPRü'CHE: 1. Kinoprojektor nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass von dem vom Lüfter (5) erzeugten Gesamtkühlluftstrom ein durch den Zwischenraum geführter Teil strom abgezweigt ist. 2. Kinoprojektor nach Patentanspruch, dadurch .gekennzeichnet, dass der Zwischen raum mit Luftdurchgangsöffnungen (13) zu einem andern Innenraum versehen ist und eine unmittelbar nach aussen führende Luft- ausBtrömöffnung besitzt. 3.
    Kinoprojektor nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass ein am Geräte gehäuse angebrachter Luftausströmrost (12) über den Behälter und über den Zwischen raum hinwegreicht. 4.
    Kinoprojektor nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass über einem Luftaustrittsgitter (21), das in der obern, in einem Abstand: von (der obern Wand (11) des Gerätegehäuses befindlichen Wand des Be hälters (15) angebracht ist, in der obern Wand (11) des Gerätegehäuses ein freier Ausschnitt (22) angebracht ist, dessen Rand (23) nach innen umgebördelt ist, wobei der Spalt zwischen dem Luftaustrittsgittex (21)
    und dem genannten Rand als Ansaugöffnung für durch Ejektorwirkung abzusaugende Luft benutzt wird.
CH226242D 1941-09-30 1942-05-23 Kinoprojektor. CH226242A (de)

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DESC123326 1941-09-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH226242A true CH226242A (de) 1943-03-31

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CH236242D CH236242A (de) 1941-09-30 1942-09-14 Verfahren zum Schützen von Flächen auf Gegenständen aus Eisen oder Stahl gegen Korrosion.

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DE (1) DE740929C (de)
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FR52224E (fr) 1943-10-05
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