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WO2017043538A1 - ディスプレイ用カバー部材及びその製造方法 - Google Patents

ディスプレイ用カバー部材及びその製造方法 Download PDF

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Publication number
WO2017043538A1
WO2017043538A1 PCT/JP2016/076327 JP2016076327W WO2017043538A1 WO 2017043538 A1 WO2017043538 A1 WO 2017043538A1 JP 2016076327 W JP2016076327 W JP 2016076327W WO 2017043538 A1 WO2017043538 A1 WO 2017043538A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
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less
cover member
uneven surface
display cover
display
Prior art date
Application number
PCT/JP2016/076327
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
耕司 池上
知浩 永金
Original Assignee
日本電気硝子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本電気硝子株式会社 filed Critical 日本電気硝子株式会社
Priority to EP16844399.2A priority Critical patent/EP3348524B1/en
Priority to US15/755,563 priority patent/US11884576B2/en
Priority to KR1020177035668A priority patent/KR102621208B1/ko
Priority to CN201680034719.4A priority patent/CN107683267A/zh
Priority to CN202311503129.XA priority patent/CN117331157A/zh
Priority to JP2017539196A priority patent/JP6915541B2/ja
Priority to EP19191665.9A priority patent/EP3588148B1/en
Publication of WO2017043538A1 publication Critical patent/WO2017043538A1/ja
Priority to US16/432,183 priority patent/US11884577B2/en

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Definitions

  • the present invention relates to a display cover member with little background reflection and excellent antiglare property, and a method for manufacturing the same.
  • the surface roughness of the antiglare layer so that the haze of the cover member is increased.
  • the pixels of the display and the surface unevenness of the cover member interfere with each other, so that a so-called “sparkling” that is difficult to see due to a luminance distribution occurs. There is a problem. Therefore, it is desired to prevent the occurrence of glare while suppressing regular reflection and suppressing reflection of the background.
  • the main object of the present invention is to provide a display cover member that can realize a display with less background reflection and excellent glare prevention.
  • one main surface is constituted by an uneven surface, and the average length (RSm) of the roughness curve element defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface is 1 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less, and the ratio of the average inclination angle ( ⁇ ) of the roughness curve of the uneven surface to the kurtosis (Rku) of the roughness curve defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface, ⁇ / Rku is 0 .40 ° or more and 1.08 ° or less.
  • one main surface is constituted by an uneven surface
  • the average length (RSm) of the roughness curve element defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface is 1 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less
  • the average inclination angle ( ⁇ ) of the roughness curve of the uneven surface is 1.2 ° or more and 7.0 ° or less
  • the roughness curve defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface The kurtosis (Rku) is 2.2 or more and 10 or less.
  • the first or second display cover member according to the present invention preferably has a haze of 1% to 50%.
  • the first or second display cover member according to the present invention preferably has an arithmetic average roughness (Ra) defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface of 0.04 ⁇ m or more and 0.25 ⁇ m or less.
  • may be 2 or less. preferable.
  • the first or second display cover member according to the present invention includes a translucent plate and a coating film that covers at least a part of one main surface of the translucent plate and forms the uneven surface. It is preferable to provide.
  • the coating film covers the entire one main surface of the translucent plate.
  • the coating film is preferably made of an inorganic film.
  • the coating film has a pencil hardness defined by JIS K5600-5-4-1999 of 6H or more.
  • the translucent plate is formed of a glass plate.
  • the glass plate is preferably formed of a tempered glass plate.
  • a method for manufacturing a display cover member according to the present invention is a method for manufacturing the first or second display cover member, wherein the uneven surface is formed on a translucent plate by a spray method. A coating film is formed.
  • the light transmitting plate is made of a glass plate and the glass plate is chemically strengthened after the coating film is formed.
  • a tempered glass plate as the translucent plate.
  • the present invention it is possible to provide a display cover member that can realize a display with less background reflection and excellent glare prevention.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a display cover member 1 according to an embodiment of the present invention.
  • the display cover member 1 is a member used by being disposed on the front surface of the display. Specifically, the display cover member 1 is provided and used on a display so that the first main surface 1a faces the outside (viewer side) and the second main surface 1b faces the inside.
  • the display cover member 1 may be, for example, a member constituting a front plate of the display or a member provided on the front plate.
  • the first main surface 1 a of the display cover member 1 is constituted by an uneven surface 2.
  • the display cover member 1 includes a translucent plate 10 and a coating film 11.
  • the cover member 1 for a display may be comprised by one transparent member which has an uneven surface.
  • the average length (RSm) of the roughness curve element defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface 2 is 1 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less. If RSm is within the above range and is sufficiently smaller than the pixel size of the display (about 60 to 100 ⁇ m), a display excellent in glare prevention can be realized.
  • RSm is preferably 3 ⁇ m or more, more preferably 5 ⁇ m or more, still more preferably 8 ⁇ m or more, and particularly preferably 10 ⁇ m or more. If RSm is too small, the width of the convex and concave portions becomes small, and the durability (scratch resistance) of the surface may decrease.
  • RSm is preferably 25 ⁇ m or less, more preferably 22 ⁇ m or less, further preferably 20 ⁇ m or less, and particularly preferably 18 ⁇ m or less. If RSm is too large, display glare is likely to occur.
  • the average inclination angle ( ⁇ ) of the roughness curve of the uneven surface 2 is an index indicating the average inclination of the uneven surface 2. As ⁇ is smaller, background reflection tends to occur more easily.
  • the average inclination angle ( ⁇ ) can be measured as follows.
  • the height of the surface of the uneven surface 2 is measured along the one direction by scanning the surface of the uneven surface 2 with a laser or a stylus along the one direction.
  • the length (measurement length) along one direction in which the height measurement is performed can be set to, for example, about 200 ⁇ m to 350 ⁇ m.
  • the height can be measured at intervals of 0.5 ⁇ m, for example.
  • the center line L is determined. Specifically, the center line L that passes through the average height of the roughness curve of the uneven surface is determined.
  • the absolute value of the angle between the irregular surface 2 and the center line L is measured every 0.5 ⁇ m interval.
  • the average inclination angle ( ⁇ ) is calculated by averaging the absolute values of the angles formed by the concavo-convex surface 2 and the center line L every 0.5 ⁇ m interval measured every 0.5 ⁇ m interval. be able to.
  • the average inclination angle ( ⁇ ) of the roughness curve of the concavo-convex surface 2 is preferably 1.2 ° or more, more preferably 1.5 ° or more, and 1.8 It is more preferably at least 0 °, particularly preferably at least 2 °. If ⁇ is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, ⁇ is preferably 7 ° or less, more preferably 5 ° or less, further preferably 4 ° or less, and particularly preferably 3 ° or less. If ⁇ is too large, the display resolution tends to decrease.
  • the roughness curve kurtosis (Rku) defined by JIS B0601-2013 on the uneven surface 2 is an index indicating the sharpness of the tip of the uneven portion.
  • the larger the Rku the more the tip of the concavo-convex part is pointed, so the inclination angle near the concavo-convex tip part becomes large, but the inclination angle of the other part becomes small and the reflection of the background tends to occur.
  • the smaller the Rku the more the concave and convex portions have a flat tip. Therefore, the inclination angle of the concave and convex tips tends to be small, and the reflection of the background tends to occur.
  • Rku is preferably 1 or more, more preferably 1.5 or more, further preferably 2 or more, and particularly preferably 2.2 or more. If Rku is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, Rku is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, further preferably 6 or less, and particularly preferably 4 or less. If Rku is too large, the resolution of the display tends to decrease.
  • the ratio of the average inclination angle ( ⁇ ) of the roughness curve of the uneven surface 2 to the kurtosis (Rku) of the roughness curve defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface ⁇ / Rku is 0.40 ° or more, preferably 0.5 ° or more, and more preferably 0.6 ° or more. If ⁇ / Rku is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, ⁇ / Rku is 1.08 ° or less, preferably 1.0 ° or less, more preferably 0.95 ° or less, and particularly preferably 0.9 ° or less. If ⁇ / Rku is too large, background reflection tends to occur.
  • ⁇ is 1.2 ° or more, more preferably 1.5 ° or more, further preferably 1.8 ° or more, and 2 ° or more. Is particularly preferred. If ⁇ is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, ⁇ is 7 ° or less, more preferably 5 ° or less, further preferably 4 ° or less, and particularly preferably 3 ° or less. If ⁇ is too large, the display resolution tends to decrease.
  • Rku is 2.2 or more, more preferably 2.3 or more, and particularly preferably 2.5 or more. If Rku is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, Rku is 10 or less, more preferably 8 or less, further preferably 6 or less, and particularly preferably 4 or less. If Rku is too large, the resolution of the display tends to decrease.
  • the ratio of ⁇ and Rku, ⁇ / Rku is preferably 0.40 ° or more, preferably 0.5 ° or more, and 0.6 ° or more. Is more preferable. If ⁇ / Rku is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, ⁇ / Rku is preferably 1.08 ° or less, preferably 1.0 ° or less, more preferably 0.95 ° or less, and 0.9 ° or less. Particularly preferred. If ⁇ / Rku is too large, background reflection tends to occur.
  • the arithmetic average roughness (Ra) defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface 2 is preferably 0.04 ⁇ m or more, more preferably 0.05 ⁇ m or more, and 0.06 ⁇ m or more. Particularly preferred. If Ra is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, Ra is preferably 0.3 ⁇ m or less, more preferably 0.25 ⁇ m or less, further preferably 0.2 ⁇ m or less, and particularly preferably 0.15 ⁇ m or less. If Ra is too large, the resolution of the display tends to decrease.
  • the root mean square roughness (Rq) defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface 2 is preferably 0.05 ⁇ m or more, more preferably 0.06 ⁇ m or more, and 0.07 ⁇ m or more. Is more preferable, and 0.08 ⁇ m or more is particularly preferable. If Rq is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, Rq is preferably 0.4 ⁇ m or less, more preferably 0.3 ⁇ m or less, further preferably 0.26 ⁇ m or less, and particularly preferably 0.2 ⁇ m or less. If Rq is too large, the resolution of the display tends to decrease.
  • the maximum cross-sectional height (Rt) of the roughness curve defined by JIS B0601-2013 for the uneven surface 2 is preferably 0.2 ⁇ m or more, more preferably 0.3 ⁇ m or more, and 0.4 ⁇ m or more. It is more preferable that it is 0.5 ⁇ m or more. If Rt is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, Rt is preferably 3 ⁇ m or less, more preferably 2 ⁇ m or less, further preferably 1.7 ⁇ m or less, and particularly preferably 1 ⁇ m or less. If Rt is too large, the resolution of the display tends to decrease.
  • the ten-point average roughness (Rz JIS ) specified by JIS B0601-2013 of the uneven surface 2 is preferably 0.2 ⁇ m or more, more preferably 0.3 ⁇ m or more, and 0.35 ⁇ m or more. It is more preferable that the thickness is 0.4 ⁇ m or more. If Rz JIS is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, Rz JIS is preferably 1.6 ⁇ m or less, more preferably 1.4 ⁇ m or less, and particularly preferably 1.2 ⁇ m or less. If Rz JIS is too large, the resolution of the display tends to decrease.
  • is preferably 3 or less, more preferably 2.5 or less, and 2 or less. More preferably, it is particularly preferably 1.5 or less.
  • the greater the asymmetry of the surface unevenness with respect to the average line.
  • the root mean square slope (R ⁇ q) of the roughness curve defined by JIS B0601-2013 of the uneven surface 2 is preferably 0.04 or more, more preferably 0.05 or more, and 0.06 or more. It is particularly preferred that If R ⁇ q is too small, background reflection tends to occur. On the other hand, R ⁇ q is preferably 0.17 or less, more preferably 0.18 or less, and particularly preferably 0.16 or less. If R ⁇ q is too large, the resolution of the display tends to decrease.
  • the haze of the display cover member 1 is preferably 1% or more, more preferably 2% or more, still more preferably 3% or more, and particularly preferably 5% or more.
  • the haze of the present invention refers to a value measured by a method based on JIS K7136-2000. If the haze is too small, background reflection tends to occur.
  • the haze of the display cover member 1 is preferably 50% or less, more preferably 30% or less, still more preferably 20% or less, and particularly preferably 15% or less. If the haze is too large, the resolution of the display tends to decrease.
  • the gloss value of the display cover member 1 is preferably 10% or more, more preferably 20% or more, and particularly preferably 30% or more.
  • the gloss value of the present invention refers to a value measured at an incident angle of 60 ° by a method based on JIS Z8741-1997. If the gloss value is too small, the resolution of the display tends to decrease.
  • the gloss value of the display cover member 1 is preferably 80% or less, more preferably 75% or less, and particularly preferably 70% or less. If the gloss value is too large, background reflection tends to occur.
  • the translucent plate 10 and the transparent member are not particularly limited as long as they transmit light from the display.
  • the translucent plate 10 and the transparent member are, for example, glass plates such as alkali-free glass, soda-lime glass, tempered glass, crystallized glass plates such as Li 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 based crystallized glass, and resin plates Or the like.
  • glass plates such as alkali-free glass, soda-lime glass, tempered glass, crystallized glass plates such as Li 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 based crystallized glass, and resin plates Or the like.
  • the translucent plate 10 and the transparent member are made of a tempered glass plate.
  • the thickness of the translucent plate 10 and the transparent member is not particularly limited.
  • the thickness of the translucent plate 10 and the transparent member can be, for example, about 0.01 mm to 10 mm.
  • the translucent plate 10 and the transparent member may be rigid or may have flexibility.
  • the translucent plate 10 and the transparent member may be in the form of a sheet.
  • the suitably tempered glass plate used transparent plate 10 and the transparent member as a glass composition, in mass%, SiO 2 50% to 80%, Al 2 O 3 5% to 25% or less, B 2 O 3 It is preferable to contain 15% or less, Na 2 O 1% or more and 20% or less, and K 2 O 10% or less.
  • SiO 2 50% to 80% SiO 2 50% to 80%
  • Al 2 O 3 5% to 25% or less B 2 O 3
  • B 2 O 3 It is preferable to contain 15% or less, Na 2 O 1% or more and 20% or less, and K 2 O 10% or less.
  • SiO 2 is a component that forms a network of glass.
  • the content of SiO 2 is preferably 50% or more and 80% or less.
  • a suitable lower limit range of the content of SiO 2 is 52% or more, particularly 55% or more.
  • the preferable upper limit range of the content of SiO 2 is 75% or less, 72% or less, 70% or less, particularly 67.5% or less.
  • Al 2 O 3 is a component that improves ion exchange performance, and is a component that increases the strain point and Young's modulus.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 5% or more and 25% or less. If the content of Al 2 O 3 is too small, the thermal expansion coefficient becomes too high and the thermal shock resistance tends to be lowered, and there is a possibility that the ion exchange performance cannot be sufficiently exhibited. Therefore, the preferable lower limit range of the content of Al 2 O 3 is 7% or more, 8% or more, 10% or more, 12% or more, 14% or more, 15% or more, particularly 16% or more.
  • the preferable upper limit range of the content of Al 2 O 3 is 22% or less, 20% or less, 19% or less, 18% or less, particularly 17% or less.
  • B 2 O 3 is a component that lowers the high temperature viscosity and density, stabilizes the glass, makes it difficult to precipitate crystals, and lowers the liquidus temperature. It is also a component that increases crack resistance.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 15% or less. If the content of B 2 O 3 is too large, the surface may be called discoloration due to ion exchange treatment, the water resistance may decrease, the compressive stress value of the compressive stress layer may decrease, or the compressive stress layer The stress depth tends to be small. Therefore, the preferable upper limit range of the content of B 2 O 3 is 15% or less, 12% or less, 10% or less, 8% or less, 6% or less, particularly 5% or less. In the case of introducing the B 2 O 3 in the glass composition, the preferred lower limit range of the content of B 2 O 3 is 0.1% or more, 1% or more, more than 1%, 1.5% or more, particularly 2 % Or more.
  • Na 2 O is a main ion exchange component, and is a component that lowers the high temperature viscosity and improves the meltability and moldability. Na 2 O is also a component that improves devitrification resistance.
  • the content of Na 2 O is preferably 1% or more and 20% or less. When the Na 2 O content is too small, or reduced meltability, lowered coefficient of thermal expansion tends to decrease the ion exchange performance. Therefore, when Na 2 O is introduced, a preferable lower limit range of Na 2 O is 10% or more, 11% or more, and particularly 12% or more.
  • the content of Na 2 O is too large, the thermal expansion coefficient becomes too high, the thermal shock resistance is lowered, and it becomes difficult to match the thermal expansion coefficient of the surrounding materials. In addition, the strain point may be excessively lowered or the component balance of the glass composition may be lost, and the devitrification resistance may be deteriorated. Therefore, a preferable upper limit range of Na 2 O is 17% or less, particularly 16% or less.
  • K 2 O is a component that promotes ion exchange, and is a component that has a large effect of increasing the stress depth of the compressive stress layer among alkali metal oxides. Moreover, it is a component which reduces high temperature viscosity and improves a meltability and a moldability. Furthermore, it is also a component that improves devitrification resistance.
  • the content of K 2 O is preferably 10% or less. When the content of K 2 O is too large, the thermal expansion coefficient becomes too high, the thermal shock resistance becomes difficult to match or decreased, the thermal expansion coefficient with those of peripheral materials. Moreover, there is a tendency that the strain point is excessively lowered, the component balance of the glass composition is lacking, and the devitrification resistance is lowered. Thus, the preferred upper range of K 2 O is 8% or less, 6% or less, 4% or less, in particular less than 2%.
  • Li 2 O is an ion exchange component and a component that lowers the high-temperature viscosity and improves the meltability and moldability. It is also a component that increases Young's modulus. Furthermore, the effect of increasing the compressive stress value is large among alkali metal oxides. However, when the content of Li 2 O is too large, and decreases the liquidus viscosity, it tends glass devitrified. In addition, the thermal expansion coefficient becomes too high, so that the thermal shock resistance is lowered or it is difficult to match the thermal expansion coefficient of the surrounding material. Furthermore, if the low-temperature viscosity is too low and stress relaxation is likely to occur, the compressive stress value may be reduced.
  • the preferable upper limit range of the content of Li 2 O is 3.5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly 0.2% or less.
  • the preferred lower limit range of the Li 2 O content is 0.01% or more.
  • the suitable content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 5 or more and 25% or less.
  • a suitable lower limit range of the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 10% or more, 15% or more, particularly 17% or more.
  • the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is too large, the glass tends to be devitrified, the thermal expansion coefficient becomes too high, the thermal shock resistance decreases, and the heat of the surrounding materials It becomes difficult to match the expansion coefficient.
  • the strain point may be excessively lowered, making it difficult to obtain a high compressive stress value.
  • Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 22% or less.
  • Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O.
  • MgO is a component that lowers the viscosity at high temperature, increases meltability and moldability, and increases the strain point and Young's modulus.
  • MgO is a component that has a large effect of improving ion exchange performance. is there.
  • the preferable upper limit range of the content of MgO is 12% or less, 10% or less, 8% or less, 5% or less, and particularly 4% or less.
  • the suitable minimum range of MgO is 0.1% or more, 0.5% or more, 1% or more, especially 2% or more.
  • CaO compared with other components, has a great effect of lowering the high-temperature viscosity without increasing devitrification resistance, improving meltability and moldability, and increasing the strain point and Young's modulus.
  • the preferable upper limit range of the content of CaO is 5% or less, 4% or less, 3% or less, particularly 2.5% or less.
  • the suitable minimum range of CaO is 0.01% or more, 0.1% or more, especially 1% or more.
  • SrO is a component that lowers the high-temperature viscosity without increasing devitrification resistance, thereby improving meltability and moldability, and increasing the strain point and Young's modulus.
  • a preferable upper limit range of the SrO content is 5% or less, 3% or less, 1% or less, particularly less than 0.1%.
  • BaO is a component that lowers the high-temperature viscosity without increasing devitrification resistance, thereby increasing meltability and moldability, and increasing the strain point and Young's modulus.
  • a suitable upper limit of the content of BaO is 5% or less, 3% or less, 1% or less, particularly less than 0.1%.
  • ZnO is a component that enhances the ion exchange performance, and is a component that is particularly effective in increasing the compressive stress value. Moreover, it is a component which reduces high temperature viscosity, without reducing low temperature viscosity.
  • the preferable upper limit range of the content of ZnO is 6% or less, 5% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly less than 0.1%.
  • ZrO 2 is a component that remarkably improves the ion exchange performance and a component that increases the viscosity and strain point in the vicinity of the liquid phase viscosity, but if its content is too large, the devitrification resistance may be significantly reduced. In addition, the density may be too high. Therefore, the preferable upper limit range of ZrO 2 is 10% or less, 8% or less, 6% or less, particularly 5% or less. In addition, when it is desired to improve the ion exchange performance, it is preferable to introduce ZrO 2 into the glass composition. In this case, the suitable lower limit range of ZrO 2 is 0.001% or more, 0.01% or more, 0.5% In particular, it is 1% or more.
  • P 2 O 5 is a component that enhances ion exchange performance, and in particular, a component that increases the stress depth of the compressive stress layer.
  • the preferable upper limit range of P 2 O 5 is 10% or less, 8% or less, 6% or less, 4% or less, 2% or less, 1% or less, particularly less than 0.1%.
  • one or more selected from the group of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , SnO 2 , F, Cl, and SO 3 are used in an amount of 0 to 30,000 ppm (3%) may be introduced.
  • the content of SnO 2 + SO 3 + Cl is preferably 0 to 10,000 ppm, 50 to 5000 ppm, 80 to 4000 ppm, 100 to 3000 ppm, particularly 300 to 3000 ppm, from the viewpoint of accurately enjoying the clarification effect.
  • “SnO 2 + SO 3 + Cl” refers to the total amount of SnO 2 , SO 3 and Cl.
  • La rare earth oxides such as 2 O 3 is a component improving the Young's modulus, also the addition of color to a complementary color, and decoloration, is a component that can control the color of the glass.
  • the cost of the raw material itself is high, and if it is introduced in a large amount, the devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the rare earth oxide content is preferably 4% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, particularly 0.5% or less.
  • substantially As 2 O 3 F, PbO , preferably contains no Bi 2 O 3.
  • substantially does not contain As 2 O 3 means that the glass component does not positively add As 2 O 3 but allows mixing at the impurity level. This means that the content of As 2 O 3 is less than 500 ppm.
  • substantially free of F means that F is not actively added as a glass component but is allowed to be mixed at an impurity level. Specifically, the content of F is less than 500 ppm. It points to something.
  • Substantially no PbO means that although PbO is not actively added as a glass component, it is allowed to be mixed at an impurity level.
  • the PbO content is less than 500 ppm. It points to something.
  • substantially free of Bi 2 O 3 but not added actively Bi 2 O 3 as a glass component, a purpose to allow the case to be mixed with impurity levels, specifically, Bi 2 It indicates that the content of O 3 is less than 500 ppm.
  • the translucent plate 10 has a first main surface 10a and a second main surface 10b.
  • each of the first and second main surfaces 10a and 10b is a flat surface.
  • the second main surface 1 b of the display cover member 1 is constituted by the second main surface 10 b of the translucent plate 10.
  • a coating film 11 is provided on the first main surface 10 a of the light transmitting plate 10.
  • the coating film 11 covers at least a part of the first main surface 10 a constituting the uneven surface 2.
  • the coating film 11 may cover the entire first main surface 10a or may cover a part of the first main surface 10a.
  • the coating film 11 may be provided in an island shape, for example.
  • the coating film 11 is hard.
  • the pencil hardness defined by JIS K5600-5-4-1999 of the coating film 11 is preferably 6H or more, more preferably 7H or more, further preferably 8H or more, and 9H or more. It is still preferred.
  • the coating film 11 can be composed of an inorganic film made of an inorganic oxide such as silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide or the like. Especially, it is preferable that the coating film 11 is comprised with the silicon oxide.
  • the thickness of the coating film 11 is preferably 0.1 ⁇ m or more and 5 ⁇ m or less, for example.
  • the coating film 11 is provided directly on the first main surface 10a of the translucent plate 10
  • the present invention is not limited to this configuration.
  • an antireflection film or the like may be provided between the coating film and the translucent plate.
  • an antireflection film, a transparent conductive film, or the like may be provided on the second main surface 10 b of the light transmitting plate 10.
  • the antireflection film includes, for example, a low refractive index film having a lower refractive index than the translucent plate 10, or a low refractive index layer having a relatively low refractive index and a high refractive index layer having a relatively high refractive index. It may be a dielectric multilayer film laminated alternately.
  • the antireflection film can be formed by, for example, a sputtering method or a CVD method.
  • the transparent conductive film functions as an electrode for a touch sensor when the translucent plate 10 is used as a cover glass.
  • the transparent conductive film include a tin-doped indium oxide (ITO) film, a fluorine-doped tin oxide (FTO) film, and an antimony-doped tin oxide (ATO) film.
  • ITO tin-doped indium oxide
  • FTO fluorine-doped tin oxide
  • ATO antimony-doped tin oxide
  • an ITO film is preferably used because of its low electric resistance.
  • the ITO film can be formed by, for example, a sputtering method.
  • the FTO film and the ATO film can be formed by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method.
  • the coating film 11 constitutes the surface of the display cover member 1.
  • the present invention is not limited to this configuration.
  • an anti-fingerprint film (AF film), anti-reflection film, transparent conductive film, anti-glare function for preventing fingerprint adhesion and imparting water repellency and oil repellency is visually recognized.
  • Another film such as an anti-glare film for improving the writing performance with a touch pen or the like, and an antifouling film for preventing the attachment of fingerprints and imparting water repellency and oil repellency are further provided. It may be done.
  • the anti-fingerprint film preferably contains a fluorinated polymer containing silicon in the main chain.
  • the fluorine-containing polymer include polymers having —Si—O—Si— units in the main chain and having water-repellent functional groups containing fluorine in the side chain.
  • the fluorine-containing polymer can be synthesized, for example, by dehydrating condensation of silanol.
  • the transparent conductive film may be formed on the back side of the translucent plate 10 (display device side, second main surface side of the translucent plate).
  • the transparent conductive film functions as an electrode for a touch sensor when the translucent plate 10 is used as a cover glass.
  • the antireflection film and the AF film are formed on the uneven surface side of the coating film 11 or the uneven surface of the transparent member, the antireflection film is formed on the uneven surface, and the AF film is formed on the antireflection film. Preferably it is formed.
  • the coating film 11 does not contain scattering particles like a fine particle dispersion film, and is preferably a homogeneous film. In this case, the resolution can be further increased and the reflection can be more effectively suppressed.
  • the coating film 11 preferably has a lower refractive index than the translucent plate 10. In that case, reflection can be more effectively suppressed.
  • the translucent plate 10 is prepared.
  • a translucent material is applied on the first main surface 10a of the translucent plate 10 by a spray method and dried to form the coating film 11.
  • a spray method By forming the coating film 11 using the spray method, it becomes easy to set RSm and ⁇ / Rku within a preferable range.
  • the coating film 11 can be formed as follows. While the translucent plate 10 is being transported in the coating chamber, the translucent material is discharged from the nozzles toward the translucent plate 10 while reciprocating the nozzle in a direction perpendicular to the transport direction of the translucent plate 10. To go. Then, the coating film 11 can be completed by drying the obtained coating film. During film formation, it is preferable to apply a laminar flow that flows downward from above to the coating chamber.
  • the RSm and ⁇ / Rku of the display cover member 1 to be manufactured can be adjusted by controlling, for example, the flow rate of air flowing through the nozzle, the amount discharged per unit area, the flow rate of laminar flow, and the like.
  • ⁇ / Rku can be increased by reducing the ratio of the coating amount per unit area to the flow rate of air flowing through the nozzle, and the coating amount (g / m 2 ) / air flow rate (m 2 / min). .
  • the coating amount (g / m 2 ) / air flow rate (m 2 / min) is preferably 0.05 or less, for example.
  • the coating film 11 may be formed on the tempered glass plate, or after the coating film 11 is formed on the glass plate, the glass plate May be strengthened by chemical strengthening or air cooling strengthening.
  • the display cover member 1 is composed of a single transparent member having an uneven surface
  • the main surface of the transparent member is subjected to a surface treatment such as a frost treatment, a sand blast treatment, or a wet blast treatment to form a desired unevenness. You can use the method to do.
  • the frost treatment is, for example, a treatment for forming irregularities on the main surface of the transparent member by immersing the transparent member in a mixed solution of hydrogen fluoride and ammonium fluoride and chemically treating the immersion surface.
  • frost treatment using a chemical such as hydrogen fluoride is preferable because microcracks are hardly generated on the surface of the object to be processed and mechanical strength is not easily lowered.
  • Sand blasting is a process for forming irregularities on the main surface of a transparent member by, for example, spraying crystalline silicon dioxide powder, silicon carbide powder or the like onto the surface of the transparent member with pressurized air.
  • it is generally performed to chemically etch the glass surface in order to adjust the surface shape. By doing so, it is possible to remove cracks generated by sandblasting or the like.
  • etching a method of immersing a transparent substrate, which is an object to be processed, in a solution containing hydrogen fluoride as a main component is preferably used.
  • Wet blasting is a process in which abrasive particles composed of solid particles such as alumina and a liquid such as water are uniformly stirred to form a slurry at high speed from the injection nozzle to the surface of the transparent member using compressed air. This is a process for forming irregularities on the main surface of the transparent member by spraying with the above.
  • the surface roughness of the uneven surface formed on the main surface of the transparent member by wet blasting can be adjusted mainly by the particle size distribution of the abrasive grains contained in the slurry and the injection pressure when the slurry is injected onto the transparent member. is there.
  • Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4 On a tempered glass flat plate (Nippon Electric Glass Co., Ltd. tempered glass flat plate, thickness 0.7 mm), a liquid containing a silicon oxide component is applied by a spray method and dried to form a coating film made of silicon oxide. A display cover member was obtained. Detailed conditions are shown in Tables 1 and 2.
  • the present invention is suitable for a cover member for a display with little background reflection and excellent antiglare property.
  • cover member 1a first main surface 1b: second main surface 2: uneven surface 10: translucent plate 10a: first main surface 10b: second main surface 11: coating film

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Abstract

背景の映り込みが少なく、ギラツキ防止性に優れたディスプレイを実現し得るディスプレイ用カバー部材を提供すること。　一方の主面が凹凸面により構成されており、前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１μｍ以上３０μｍ以下であり、前記凹凸面の粗さ曲線の平均傾斜角（θ）とＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のクルトシス（Ｒｋｕ）の比、θ／Ｒｋｕが０．４０°以上１．０８°以下であることを特徴とするディスプレイ用カバー部材とする。

Description

ディスプレイ用カバー部材及びその製造方法
　本発明は、背景の映り込みが少なく、ギラツキ防止性に優れたディスプレイ用カバー部材及びその製造方法に関する。
　従来、ディスプレイの表面における背景の映り込みを抑制するために、アンチグレア（ＡＧ）層を有するカバー部材をディスプレイの前面に配することが提案されている（例えば特許文献１を参照）。
特表２０１２－５２１９５８号公報
　カバー部材の表面における背景の映り込みを抑制する観点からは、カバー部材のヘイズが大きくなるように、アンチグレア層の表面粗さを大きくすることが好ましい。しかしながら、ヘイズの大きなカバー部材を前面に配したディスプレイでは、ディスプレイの画素とカバー部材の表面凹凸とが干渉して、輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ（ｓｐａｒｋｌｉｎｇ）」が発生するという問題がある。従って、正反射を抑制し、背景の映り込みを抑制しつつ、ギラツキの発生を防止することが望まれている。
　本発明は、背景の映り込みが少なく、ギラツキ防止性に優れたディスプレイを実現し得るディスプレイ用カバー部材を提供することを主な目的とする。
　本発明に係る第１のディスプレイ用カバー部材は、一方の主面が凹凸面により構成されており、前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１μｍ以上３０μｍ以下であり、前記凹凸面の粗さ曲線の平均傾斜角（θ）と前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のクルトシス（Ｒｋｕ）の比、θ／Ｒｋｕが０．４０°以上１．０８°以下であることを特徴とする。
　本発明に係る第２のディスプレイ用カバー部材は、一方の主面が凹凸面により構成されており、前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１μｍ以上３０μｍ以下であり、前記凹凸面の粗さ曲線の平均傾斜角（θ）が１．２°以上７．０°以下であり、前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のクルトシス（Ｒｋｕ）が２．２以上１０以下であることを特徴とする。
　本発明に係る第１又は第２のディスプレイ用カバー部材は、ヘイズが１％以上５０％以下であることが好ましい。
　本発明に係る第１又は第２のディスプレイ用カバー部材は、前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．２５μｍ以下であることが好ましい。
　本発明に係る第１又は第２のディスプレイ用カバー部材は、前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）の絶対値、｜Ｒｓｋ｜が２以下であることが好ましい。
　本発明に係る第１又は第２のディスプレイ用カバー部材は、透光板と、前記透光板の一主面の少なくとも一部を覆っており、前記凹凸面を構成しているコーティング膜とを備えていることが好ましい。
　本発明に係る第１又は第２のディスプレイ用カバー部材は、前記コーティング膜が前記透光板の一主面の全体を覆っていることが好ましい。
　本発明に係る第１又は第２のディスプレイ用カバー部材は、前記コーティング膜が、無機膜により構成されていることが好ましい。
　本発明に係る第１又は第２のディスプレイ用カバー部材は、前記コーティング膜のＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４－１９９９で規定される鉛筆硬度が６Ｈ以上であることが好ましい。
　本発明に係る第１又は第２のディスプレイ用カバー部材は、前記透光板が、ガラス板により構成されていることが好ましい。
　本発明に係る第１又は第２のディスプレイ用カバー部材は、前記ガラス板が、強化ガラス板により構成されていることが好ましい。
　本発明に係るディスプレイ用カバー部材の製造方法は、上記第１又は第２のディスプレイ用カバー部材を製造するための方法であって、透光板の上に、スプレー法により前記凹凸面を構成するコーティング膜を形成することを特徴とする。
　本発明に係るディスプレイ用カバー部材の製造方法は、前記透光板をガラス板により構成し、前記コーティング膜を形成した後に、前記ガラス板を化学強化することが好ましい。
　本発明に係るディスプレイ用カバー部材の製造方法は、前記透光板として、強化ガラス板を用いることが好ましい。
　本発明によれば、背景の映り込みが少なく、ギラツキ防止性に優れたディスプレイを実現し得るディスプレイ用カバー部材を提供することができる。
本発明の一実施形態に係るディスプレイ用カバー部材の模式的断面図である。
　以下、本発明の好ましい実施形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
　図１は、本発明の一実施形態に係るディスプレイ用カバー部材１の模式的断面図である。ディスプレイ用カバー部材１は、ディスプレイの前面に配されて使用される部材である。具体的には、ディスプレイ用カバー部材１は、第１の主面１ａが外側（観者側）を向き、第２の主面１ｂが内側を向くようにディスプレイに設けられて使用される。ディスプレイ用カバー部材１は、例えば、ディスプレイの前面板を構成する部材であってもよいし、前面板の上に設けられる部材であってもよい。
　ディスプレイ用カバー部材１の第１の主面１ａは、凹凸面２により構成されている。
　詳細には、本実施形態では、ディスプレイ用カバー部材１は、透光板１０と、コーティング膜１１とを有する。もっとも本発明において、ディスプレイ用カバー部材１は、凹凸面を有するひとつの透明部材により構成されていてもよい。
　凹凸面２のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）は、１μｍ以上３０μｍ以下である。ＲＳｍが上記範囲内にあり、ディスプレイの画素サイズ（６０～１００μｍ程度）よりも十分に小さければ、ギラツキ防止性に優れたディスプレイを実現し得る。ＲＳｍは３μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましく、８μｍ以上であることが更に好ましく、１０μｍ以上であることが特に好ましい。ＲＳｍが小さすぎると、凹凸の凸部の幅が小さくなり、表面の耐久性（耐擦傷性）が低下する場合がある。一方、ＲＳｍは２５μｍ以下であることが好ましく、２２μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることが更に好ましく、１８μｍ以下であることが特に好ましい。ＲＳｍが大きすぎると、ディスプレイのギラツキが発生しやすくなる。
　凹凸面２の粗さ曲線の平均傾斜角（θ）は、凹凸面２の平均的な傾きを示す指標である。θが小さいほど、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。なお、平均傾斜角（θ）は、下記数式（１）で定義される。
　平均傾斜角（θ）＝ｔａｎ－１Δａ　………　（１）
　数式（１）において、Δａは、下記数式（２）に示すように、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１－２０１３に規定される粗さ曲線の基準長さｌにおいて、隣り合う山の頂点と谷の最下点との差（高さｈ）の絶対値の合計（ｈ１＋ｈ２＋ｈ３・・・＋ｈｎ）を前記基準長さｌで割った値である。
　Δａ＝（ｈ１＋ｈ２＋ｈ３・・・＋ｈｎ）／ｌ　………　（２）
　平均傾斜角（θ）は、具体的は、以下のように測定することができる。
　凹凸面２の上を、一の方向に沿ってレーザーや触針を走査させることにより、凹凸面２の表面の高さを一の方向に沿って測定する。この高さ測定を行う一の方向に沿った長さ（測定長さ）は、例えば、２００μｍ～３５０μｍ程度とすることができる。高さの測定は、例えば、０．５μｍ間隔で行うことができる。
　次に、中心線Ｌを決定する。具体的には、凹凸面の粗さ曲線の高さの平均値を通過する中心線Ｌを決定する。
　次に、０．５μｍ間隔毎に、凹凸面２と中心線Ｌとのなす角の大きさの絶対値を測定していく。そして、０．５μｍ間隔毎に測定された０．５μｍ間隔毎に、凹凸面２と中心線Ｌとのなす角の大きさの絶対値を平均することにより、平均傾斜角（θ）を算出することができる。
　本発明の一実施形態において、凹凸面２の粗さ曲線の平均傾斜角（θ）は、１．２°以上であることが好ましく、１．５°以上であることがより好ましく、１．８°以上であることがさらに好ましく、２°以上であることが特に好ましい。θが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、θは、７°以下であることが好ましく、５°以下であることがより好ましく、４°以下であることがさらに好ましく、３°以下であることが特に好ましい。θが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　凹凸面２のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のクルトシス（Ｒｋｕ）は、凹凸部の先端の尖りの程度を示す指標である。Ｒｋｕが大きいほど、凹凸部の先端が尖っているものが多くなるので、凹凸の先端部近傍の傾斜角は大きくなるが、他の部分の傾斜角は小さくなり、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。また、Ｒｋｕが小さいほど、凹凸部の先端が平坦となるものが多くなるので、凹凸の先端部の傾斜角は小さくなり、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。本発明の一実施形態において、Ｒｋｕは、１以上であることが好ましく、１．５以上であることがより好ましく、２以上であることがさらに好ましく、２．２以上であることが特に好ましい。Ｒｋｕが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、Ｒｋｕは、１０以下であることが好ましく、８以下であることがより好ましく、６以下であることがさらに好ましく、４以下であることが特に好ましい。Ｒｋｕが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　本発明の一実施形態において、凹凸面２の粗さ曲線の平均傾斜角（θ）と凹凸面２のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のクルトシス（Ｒｋｕ）の比、θ／Ｒｋｕは、０．４０°以上であり、０．５°以上であることが好ましく、０．６°以上であることがより好ましい。θ／Ｒｋｕが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、θ／Ｒｋｕは、１．０８°以下であり、１．０°以下であることが好ましく、０．９５°以下であることがより好ましく、０．９°以下であることが特に好ましい。θ／Ｒｋｕが大きすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。
　本発明の別の実施形態において、θは、１．２°以上であり、１．５°以上であることがより好ましく、１．８°以上であることがさらに好ましく、２°以上であることが特に好ましい。θが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、θは、７°以下であり、５°以下であることがより好ましく、４°以下であることがさらに好ましく、３°以下であることが特に好ましい。θが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　本発明の別の実施形態において、Ｒｋｕは、２．２以上であり、２．３以上であることがより好ましく、２．５以上であることが特に好ましい。Ｒｋｕが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、Ｒｋｕは、１０以下であり、８以下であることがより好ましく、６以下であることがさらに好ましく、４以下であることが特に好ましい。Ｒｋｕが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　本発明の別の実施形態において、θとＲｋｕの比、θ／Ｒｋｕは、０．４０°以上であることが好ましく、０．５°以上であることが好ましく、０．６°以上であることがより好ましい。θ／Ｒｋｕが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、θ／Ｒｋｕは、１．０８°以下であることが好ましく、１．０°以下であることが好ましく、０．９５°以下であることがより好ましく、０．９°以下であることが特に好ましい。θ／Ｒｋｕが大きすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。
　凹凸面２のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０４μｍ以上であることが好ましく、０．０５μｍ以上であることがより好ましく、０．０６μｍ以上であることが特に好ましい。Ｒａが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、Ｒａは、０．３μｍ以下であることが好ましく、０．２５μｍ以下であることがより好ましく、０．２μｍ以下であることがさらに好ましく、０．１５μｍ以下であることが特に好ましい。Ｒａが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　凹凸面２のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）は、０．０５μｍ以上であることが好ましく、０．０６μｍ以上であることがより好ましく、０．０７μｍ以上であることがさらに好ましく、０．０８μｍ以上であることが特に好ましい。Ｒｑが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、Ｒｑは、０．４μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以下であることがより好ましく、０．２６μｍ以下であることがさらに好ましく、０．２μｍ以下であることが特に好ましい。Ｒｑが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　凹凸面２のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線の最大断面高さ（Ｒｔ）は、０．２μｍ以上であることが好ましく、０．３μｍ以上であることがより好ましく、０．４μｍ以上であることがさらに好ましく、０．５μｍ以上であることが特に好ましい。Ｒｔが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、Ｒｔは、３μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましく、１．７μｍ以下であることがさらに好ましく、１μｍ以下であることが特に好ましい。Ｒｔが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　凹凸面２のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される十点平均粗さ（ＲｚＪＩＳ）は、０．２μｍ以上であることが好ましく、０．３μｍ以上であることがより好ましく、０．３５μｍ以上であることがさらに好ましく、０．４μｍ以上であることが特に好ましい。ＲｚＪＩＳが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、ＲｚＪＩＳは、１．６μｍ以下であることが好ましく、１．４μｍ以下であることがより好ましく、１．２μｍ以下であることが特に好ましい。ＲｚＪＩＳが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　凹凸面２のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）の絶対値、｜Ｒｓｋ｜は、３以下であることが好ましく、２．５以下であることがより好ましく、２以下であることがさらに好ましく、１．５以下であることが特に好ましい。｜Ｒｓｋ｜が大きいほど、表面凹凸形状の、平均線に対する非対称性が大きいことを示している。表面凹凸形状の非対称性が大きいとき、急峻な山部分となだらかな谷部分が存在することとなり（Ｒｓｋ＞０のとき）、凹凸面２の傾斜角分布に偏りが生じていることを示している。すなわち、山部分は傾斜角が大きくなり、谷部分は傾斜角が小さくなる（Ｓｋ＜０のときは山と谷の関係が逆になる）。このような場合、傾斜角が小さい部分では、背景の映り込みが生じやすくなる恐れがある。したがって、｜Ｒｓｋ｜が大きすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。
　凹凸面２のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜（ＲΔｑ）は、０．０４以上であることが好ましく、０．０５以上であることがより好ましく、０．０６以上であることが特に好ましい。ＲΔｑが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、ＲΔｑは、０．１７以下であることが好ましく、０．１８以下であることがより好ましく、０．１６以下であることが特に好ましい。ＲΔｑが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　ヘイズは、拡散透過光の全光線透過光に対する割合である。このため、ヘイズを小さくすることにより、拡散透過光を少なくすることができる。従って、高い解像度を実現し得る。ディスプレイ用カバー部材１のヘイズは、１％以上であることが好ましく、２％以上であることがより好ましく、３％以上であることがさらに好ましく、５％以上であることが特に好ましい。なお、本発明のヘイズは、ＪＩＳ　Ｋ７１３６－２０００に準拠した方法により測定した値を指す。ヘイズが小さすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。一方、ディスプレイ用カバー部材１のヘイズは、５０％以下であることが好ましく、３０％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましく、１５％以下であることが特に好ましい。ヘイズが大きすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。
　ディスプレイ用カバー部材１のグロス値は、１０％以上であることが好ましく、２０％以上であることがより好ましく、３０％以上であることが特に好ましい。なお、本発明のグロス値は、ＪＩＳ　Ｚ８７４１－１９９７に準拠した方法により入射角６０°で測定した値を指す。グロス値が小さすぎると、ディスプレイの解像度が低下する傾向がある。一方、ディスプレイ用カバー部材１のグロス値は、８０％以下であることが好ましく、７５％以下であることがより好ましく、７０％以下であることが特に好ましい。グロス値が大きすぎると、背景の映り込みが生じやすくなる傾向がある。
　透光板１０及び透明部材は、ディスプレイからの光を透過させるものである限りにおいて特に限定されない。透光板１０及び透明部材は、例えば、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、強化ガラスなどのガラス板、Ｌｉ２Ｏ－Ａｌ２Ｏ３－ＳｉＯ２系結晶化ガラスなどの結晶化ガラス板、樹脂板等により構成することができる。例えば、ディスプレイ用カバー部材１に高い機械的強度が求められるような場合には、透光板１０及び透明部材を強化ガラス板により構成することが好ましい。
　透光板１０及び透明部材の厚みは、特に限定されない。透光板１０及び透明部材の厚みは、例えば、０．０１ｍｍ～１０ｍｍ程度とすることができる。なお、透光板１０及び透明部材は、剛体であってもよいが、可撓性を有していてもよい。透光板１０及び透明部材は、シート状であってもよい。
　なお、透光板１０及び透明部材として好適に用いられる強化ガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５０％以上８０％以下、Ａｌ２Ｏ３　５％以上２５％以下、Ｂ２Ｏ３　１５％以下、Ｎａ２Ｏ　１％以上２０％以下、Ｋ２Ｏ　１０％以下を含有することが好ましい。上記のように各成分の含有範囲を限定した理由を下記に示す。なお、各成分の含有範囲の説明において、％表示は質量％を指す。
　ＳｉＯ２は、ガラスのネットワークを形成する成分である。ＳｉＯ２の含有量は５０％以上８０％以下が好ましい。ＳｉＯ２の含有量が少なすぎると、ガラス化し難くなり、また熱膨張係数が高くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下し易くなる。よって、ＳｉＯ２の含有量の好適な下限範囲は５２％以上、特に５５％以上である。一方、ＳｉＯ２の含有量が多すぎると、溶融性や成形性が低下し易くなる。よって、ＳｉＯ２の含有量の好適な上限範囲は７５％以下、７２％以下、７０％以下、特に６７．５％以下である。
　Ａｌ２Ｏ３は、イオン交換性能を高める成分であり、また歪点やヤング率を高める成分である。Ａｌ２Ｏ３の含有量は５％以上２５％以下が好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有量が少なすぎると、熱膨張係数が高くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下し易くなることに加えて、イオン交換性能を十分に発揮できない虞が生じる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量の好適な下限範囲は７％以上、８％以上、１０％以上、１２％以上、１４％以上、１５％以上、特に１６％以上である。一方、Ａｌ２Ｏ３の含有量が多すぎると、ガラスに失透結晶が析出し易くなって、オーバーフローダウンドロー法等でガラス板を成形し難くなる。また熱膨張係数が低くなり過ぎて、周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなり、更には高温粘性が高くなり、溶融性が低下し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量の好適な上限範囲は２２％以下、２０％以下、１９％以下、１８％以下、特に１７％以下である。
　Ｂ２Ｏ３は、高温粘度や密度を低下させると共に、ガラスを安定化させて結晶を析出させ難くし、液相温度を低下させる成分である。またクラックレジスタンスを高める成分である。Ｂ２Ｏ３の含有量は１５％以下が好ましい。Ｂ２Ｏ３の含有量が多すぎると、イオン交換処理によって、ヤケと呼ばれる表面の着色が発生したり、耐水性が低下したり、圧縮応力層の圧縮応力値が低下したり、圧縮応力層の応力深さが小さくなる傾向がある。よって、Ｂ２Ｏ３の含有量の好適な上限範囲は、１５％以下、１２％以下、１０％以下、８％以下、６％以下、特に５％以下である。なお、ガラス組成中にＢ２Ｏ３を導入する場合、Ｂ２Ｏ３の含有量の好適な下限範囲は０．１％以上、１％以上、１％超、１．５％以上、特に２％以上である。
　Ｎａ２Ｏは、主要なイオン交換成分であり、また高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高める成分である。また、Ｎａ２Ｏは、耐失透性を改善する成分でもある。Ｎａ２Ｏの含有量は１％以上２０％以下が好ましい。Ｎａ２Ｏの含有量が少なすぎると、溶融性が低下したり、熱膨張係数が低下したり、イオン交換性能が低下し易くなる。よって、Ｎａ２Ｏを導入する場合、Ｎａ２Ｏの好適な下限範囲は１０％以上、１１％以上、特に１２％以上である。一方、Ｎａ２Ｏの含有量が多すぎると、熱膨張係数が高くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなる。また歪点が低下し過ぎたり、ガラス組成の成分バランスを欠き、かえって耐失透性が低下する場合がある。よって、Ｎａ２Ｏの好適な上限範囲は１７％以下、特に１６％以下である。
　Ｋ２Ｏは、イオン交換を促進する成分であり、アルカリ金属酸化物の中では圧縮応力層の応力深さを増大させる効果が大きい成分である。また高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高める成分である。更には、耐失透性を改善する成分でもある。Ｋ２Ｏの含有量は１０％以下が好ましい。Ｋ２Ｏの含有量が多すぎると、熱膨張係数が高くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなる。また歪点が低下し過ぎたり、ガラス組成の成分バランスを欠き、かえって耐失透性が低下する傾向がある。よって、Ｋ２Ｏの好適な上限範囲は８％以下、６％以下、４％以下、特に２％未満である。
　上記成分以外にも、例えば以下の成分を導入してもよい。
　Ｌｉ２Ｏは、イオン交換成分であると共に、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高める成分である。またヤング率を高める成分である。更にアルカリ金属酸化物の中では圧縮応力値を増大させる効果が大きい。しかし、Ｌｉ２Ｏの含有量が多すぎると、液相粘度が低下して、ガラスが失透し易くなる。また、熱膨張係数が高くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなる。更に、低温粘性が低下し過ぎて、応力緩和が起こり易くなると、かえって圧縮応力値が小さくなる場合がある。従って、Ｌｉ２Ｏの含有量の好適な上限範囲は、３．５％以下、２％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．２％以下である。なお、ガラス組成中にＬｉ２Ｏを導入する場合、Ｌｉ２Ｏの含有量の好適な下限範囲は０．０１％以上である。
　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの好適な含有量は５以上２５％以下である。Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量が少なすぎると、イオン交換性能や溶融性が低下し易くなる。よって、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量の好適な下限範囲は１０％以上、１５％以上、特に１７％以上である。一方、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量が多すぎると、ガラスが失透し易くなることに加えて、熱膨張係数が高くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなる。また歪点が低下し過ぎて、高い圧縮応力値が得られ難くなる場合がある。更に液相温度付近の粘性が低下して、高い液相粘度を確保し難くなる場合もある。よって、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量の好適な上限範囲は２２％以下である。なお、「Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ」は、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの合量である。
　ＭｇＯは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高める成分であり、アルカリ土類金属酸化物の中では、イオン交換性能を高める効果が大きい成分である。しかし、ＭｇＯの含有量が多すぎると、密度や熱膨張係数が高くなり易く、またガラスが失透し易くなる。よって、ＭｇＯの含有量の好適な上限範囲は１２％以下、１０％以下、８％以下、５％以下、特に４％以下である。なお、ガラス組成中にＭｇＯを導入する場合、ＭｇＯの好適な下限範囲は０．１％以上、０．５％以上、１％以上、特に２％以上である。
　ＣａＯは、他の成分と比較して、耐失透性の低下を伴うことなく、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高める効果が大きい。しかし、ＣａＯの含有量が多すぎると、密度や熱膨張係数が高くなり、またガラス組成の成分バランスを欠いて、かえってガラスが失透し易くなったり、イオン交換性能が低下し易くなる。よって、ＣａＯの含有量の好適な上限範囲は５％以下、４％以下、３％以下、特に２．５％以下である。なお、ガラス組成中にＣａＯを導入する場合、ＣａＯの好適な下限範囲は０．０１％以上、０．１％以上、特に１％以上である。
　ＳｒＯは、耐失透性の低下を伴うことなく、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高める成分である。しかし、ＳｒＯの含有量が多すぎると、密度や熱膨張係数が高くなったり、イオン交換性能が低下したり、ガラス組成の成分バランスを欠いて、かえってガラスが失透し易くなる。ＳｒＯの含有量の好適な上限範囲は５％以下、３％以下、１％以下、特に０．１％未満である。
　ＢａＯは、耐失透性の低下を伴うことなく、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高める成分である。しかし、ＢａＯの含有量が多すぎると、密度や熱膨張係数が高くなったり、イオン交換性能が低下したり、ガラス組成の成分バランスを欠いて、かえってガラスが失透し易くなる。ＢａＯの含有量の好適な上限範囲は５％以下、３％以下、１％以下、特に０．１％未満である。
　ＺｎＯは、イオン交換性能を高める成分であり、特に圧縮応力値を増大させる効果が大きい成分である。また低温粘性を低下させずに、高温粘性を低下させる成分である。しかし、ＺｎＯの含有量が多すぎると、ガラスが分相したり、耐失透性が低下したり、密度が高くなったり、圧縮応力層の応力深さが小さくなる傾向がある。よって、ＺｎＯの含有量の好適な上限範囲は６％以下、５％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％未満である。
　ＺｒＯ２は、イオン交換性能を顕著に高める成分であると共に、液相粘度付近の粘性や歪点を高める成分であるが、その含有量が多すぎると、耐失透性が著しく低下する虞があり、また密度が高くなりすぎる虞がある。よって、ＺｒＯ２の好適な上限範囲は１０％以下、８％以下、６％以下、特に５％以下である。なお、イオン交換性能を高めたい場合、ガラス組成中にＺｒＯ２を導入することが好ましく、その場合、ＺｒＯ２の好適な下限範囲は０．００１％以上、０．０１％以上、０．５％、特に１％以上である。
　Ｐ２Ｏ５は、イオン交換性能を高める成分であり、特に圧縮応力層の応力深さを大きくする成分である。しかし、Ｐ２Ｏ５の含有量が多すぎると、ガラスが分相し易くなる。よって、Ｐ２Ｏ５の好適な上限範囲は１０％以下、８％以下、６％以下、４％以下、２％以下、１％以下、特に０．１％未満である。
　清澄剤として、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｆ、Ｃｌ、ＳＯ３の群（好ましくはＳｎＯ２、Ｃｌ、ＳＯ３の群）から選択された一種又は二種以上を０～３００００ｐｐｍ（３％）導入してもよい。ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌの含有量は、清澄効果を的確に享受する観点から、好ましくは０～１００００ｐｐｍ、５０～５０００ｐｐｍ、８０～４０００ｐｐｍ、１００～３０００ｐｐｍ、特に３００～３０００ｐｐｍである。ここで、「ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌ」は、ＳｎＯ２、ＳＯ３及びＣｌの合量を指す。
　ＳｎＯ２の好適な含有範囲は０～１００００ｐｐｍ、０～７０００ｐｐｍ、特に５０～６０００ｐｐｍである、Ｃｌの好適な含有範囲は０～１５００ｐｐｍ、０～１２００ｐｐｍ、０～８００ｐｐｍ、０～５００ｐｐｍ、特に５０～３００ｐｐｍである。ＳＯ３の好適な含有範囲は０～１０００ｐｐｍ、０～８００ｐｐｍ、特に１０～５００ｐｐｍである。
　Ｎｄ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３等の希土類酸化物は、ヤング率を高める成分であり、また補色となる色を加えると、消色して、ガラスの色味をコントロールし得る成分である。しかし、原料自体のコストが高く、また多量に導入すると、耐失透性が低下し易くなる。よって、希土類酸化物の含有量は、好ましくは４％以下、３％以下、２％以下、１％以下、特に０．５％以下である。
　本発明では、環境面の配慮から、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｆ、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３を含有しないことが好ましい。ここで、「実質的にＡｓ２Ｏ３を含有しない」とは、ガラス成分として積極的にＡｓ２Ｏ３を添加しないものの、不純物レベルで混入する場合を許容する趣旨であり、具体的には、Ａｓ２Ｏ３の含有量が５００ｐｐｍ未満であることを指す。「実質的にＦを含有しない」とは、ガラス成分として積極的にＦを添加しないものの、不純物レベルで混入する場合を許容する趣旨であり、具体的には、Ｆの含有量が５００ｐｐｍ未満であることを指す。「実質的にＰｂＯを含有しない」とは、ガラス成分として積極的にＰｂＯを添加しないものの、不純物レベルで混入する場合を許容する趣旨であり、具体的には、ＰｂＯの含有量が５００ｐｐｍ未満であることを指す。「実質的にＢｉ２Ｏ３を含有しない」とは、ガラス成分として積極的にＢｉ２Ｏ３を添加しないものの、不純物レベルで混入する場合を許容する趣旨であり、具体的には、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が５００ｐｐｍ未満であることを指す。
　透光板１０は、第１の主面１０ａと、第２の主面１０ｂとを有する。本実施形態では、第１及び第２の主面１０ａ、１０ｂは、それぞれ、平坦面である。ディスプレイ用カバー部材１の第２の主面１ｂは、透光板１０の第２の主面１０ｂにより構成されている。透光板１０の第１の主面１０ａの上には、コーティング膜１１が設けられている。このコーティング膜１１によって、凹凸面２を構成している第１の主面１０ａの少なくとも一部が覆われている。コーティング膜１１は、例えば、第１の主面１０ａの全体を覆っていてもよいし、第１の主面１０ａの一部分を覆っていてもよい。コーティング膜１１は、例えば、島状に設けられていてもよい。コーティング膜１１が第１の主面１０ａの一部分を覆っている場合、ディスプレイ用カバー部材１の第１の主面１ａは、コーティング膜１１と第１の主面１ａとにより構成される。
　ディスプレイ用カバー部材１が、例えばタッチセンサー等に用いられる場合は、ディスプレイ用カバー部材１の表面の耐久性（耐擦傷性など）が高いことが求められる。このため、コーティング膜１１が硬質であることが好ましい。コーティング膜１１のＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４－１９９９で規定される鉛筆硬度は、６Ｈ以上であることが好ましく、７Ｈ以上であることがより好ましく、８Ｈ以上であることがさらに好ましく、９Ｈ以上であることがなお好ましい。
　コーティング膜１１は、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムなどの無機酸化物からなる無機膜により構成することができる。なかでも、コーティング膜１１は、酸化ケイ素により構成されていることが好ましい。
　コーティング膜１１の厚みは、例えば、０．１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。
　なお、本実施形態では、コーティング膜１１が透光板１０の第１の主面１０ａの直上に直接設けられた例について説明する。但し、本発明は、この構成に限定されない。例えば、コーティング膜と透光板との間に、反射防止膜等が設けられていてもよい。また、透光板１０の第２の主面１０ｂの上にも反射防止膜や透明導電膜等が設けられていてもよい。
　なお、反射防止膜は、例えば、透光板１０よりも屈折率が低い低屈折率膜、あるいは相対的に屈折率が低い低屈折率層と相対的に屈折率が高い高屈折率層とが交互に積層された誘電体多層膜であってもよい。反射防止膜は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法などにより形成することができる。
　透明導電膜は、透光板１０をカバーガラスとして使用する場合には、タッチセンサー用の電極として機能する。透明導電膜としては、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）膜、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）膜、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）膜などが挙げられる。なかでも、ＩＴＯ膜は電気抵抗が低いため好ましく用いられる。ＩＴＯ膜は、例えば、スパッタリング法により形成することができる。また、ＦＴＯ膜やＡＴＯ膜は、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により形成することができる。
　本実施形態では、コーティング膜１１がディスプレイ用カバー部材１の表面を構成している。但し、本発明は、この構成に限定されない。コーティング膜の上に、例えば、指紋の付着を防止し、撥水性、撥油性を付与するためのアンチフィンガープリント膜（ＡＦ膜）や反射防止膜、透明導電膜、防眩機能を付与して視認性を向上させたり、タッチペン等での書き味を向上させたりするためのアンチグレア膜、指紋の付着を防止し、撥水性、撥油性を付与するための防汚膜等の別の膜がさらに設けられていてもよい。
　なお、アンチフィンガープリント膜（ＡＦ膜）は、主鎖中にケイ素を含む含フッ素重合体を含むことが好ましい。含フッ素重合体としては、例えば、主鎖中に、－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－ユニットを有し、かつ、フッ素を含む撥水性の官能基を側鎖に有する重合体が挙げられる。含フッ素重合体は、例えばシラノールを脱水縮合することにより合成することができる。
　透明導電膜は、透光板１０の裏面側（ディスプレイデバイス側、透光板の第２の主面側）に形成されてもよい。透明導電膜は、透光板１０をカバーガラスとして使用する場合には、タッチセンサー用の電極として機能する。
　透明導電膜としては、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）膜、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）膜、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）膜などが挙げられる。なかでも、ＩＴＯ膜は電気抵抗が低いため好ましく用いられる。ＩＴＯ膜は、例えば、スパッタリング法により形成することができる。また、ＦＴＯ膜やＡＴＯ膜は、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により形成することができる。
　コーティング膜１１の凹凸面側または透明部材の凹凸面に、反射防止膜とＡＦ膜とを形成する場合には、凹凸面の上に反射防止膜が形成され、反射防止膜の上にＡＦ膜が形成されることが好ましい。
　コーティング膜１１は、微粒子分散膜などのように散乱粒子を含んでおらず、均質な膜であることが好ましい。その場合、解像度をより高めることができると共に、映り込みをより効果的に抑制することができる。
　コーティング膜１１は、透光板１０よりも低屈折率であることが好ましい。その場合、映り込みをより効果的に抑制することができる。
　次に、ディスプレイ用カバー部材１の製造方法の一例について説明する。
　まず、透光板１０を用意する。次に、透光板１０の第１の主面１０ａの上に、スプレー法により透光性材料を塗布し、乾燥させることによりコーティング膜１１を成膜する。スプレー法を用いてコーティング膜１１を形成することにより、ＲＳｍやθ／Ｒｋｕを好ましい範囲とすることが容易となる。
　より詳細には、コーティング膜１１の成膜は、以下のように行うことができる。コーティング室内で、透光板１０を搬送しながら、透光板１０の搬送方向に対して垂直な方向にノズルを往復走査させながら、ノズルから透光性材料を透光板１０に向けて吐出していく。その後、得られた塗布膜を乾燥させることによりコーティング膜１１を完成させることができる。成膜中は、コーティング室に、上方から下方に向かって流れる層流を付与することが好ましい。
　製造されるディスプレイ用カバー部材１のＲＳｍやθ／Ｒｋｕは、例えば、ノズルを流れるエアーの流量、単位面積あたりに吐出する量、層流の流量等を制御することにより調節することができる。
　例えば、ノズルを流れるエアーの流量を小さくすることにより、粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）を小さくすることができる。ノズルを流れるエアーの流量は、１５３Ｌ／分以下であることが好ましい。
　例えば、層流の流量に対する単位面積あたりの塗布量の比、塗布量（ｇ／ｍ２）／層流の流量（ｍ２／分）を小さくすることにより、θ／Ｒｋｕを小さくすることができる。塗布量（ｇ／ｍ２）／層流の流量（ｍ２／分）は、例えば、０．１８以下であることが好ましい。
　例えば、ノズルを流れるエアーの流量に対する単位面積あたりの塗布量の比、塗布量（ｇ／ｍ２）／エアー流量（ｍ２／分）を小さくすることにより、θ／Ｒｋｕを大きくすることができる。塗布量（ｇ／ｍ２）／エアー流量（ｍ２／分）は、例えば、０．０５以下であることが好ましい。
　なお、透光板１０を強化ガラス板により構成する場合は、強化ガラス板の上にコーティング膜１１を成膜してもよいし、ガラス板の上にコーティング膜１１を成膜した後に、ガラス板を化学強化や風冷強化することにより強化してもよい。
　また、ディスプレイ用カバー部材１が凹凸面を有するひとつの透明部材により構成されている場合、透明部材の主面についてフロスト処理、サンドブラスト処理、ウェットブラスト処理等の表面処理を施し、所望の凹凸を形成する方法を利用できる。
　フロスト処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液に、透明部材を浸漬し、浸漬面を化学的に表面処理することにより、透明部材の主面に凹凸を形成する処理である。特に、フッ化水素等の薬液を用いたフロスト処理は、被処理体表面におけるマイクロクラックが生じ難く、機械的強度の低下が生じにくいため、好ましい。
　サンドブラスト処理は、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を加圧空気で透明部材表面に吹きつけることにより、透明部材の主面に凹凸を形成する処理である。また、このようにして凹凸を作成した後に、表面形状を整えるために、ガラス表面を化学的にエッチングすることが一般的に行われている。こうすることで、サンドブラスト処理等で生じたクラックを除去できる。エッチングとしては、フッ化水素を主成分とする溶液に、被処理体である透明基体を浸漬する方法が好ましく用いられる。
　ウェットブラスト処理は、アルミナなどの個体粒子にて構成される砥粒と、水などの液体とを均一に攪拌してスラリーとしたものを、圧縮エアーを用いて噴射ノズルから透明部材の表面に高速で噴射することにより、透明部材の主面に凹凸を形成する処理である。ウェットブラスト処理により透明部材の主面に形成される凹凸面の表面粗さは、主にスラリーに含まれる砥粒の粒度分布と、スラリーを透明部材に噴射する際の噴射圧力とにより調整可能である。ウェットブラスト処理においては、スラリーを透明部材に噴射した場合、液体が砥粒を透明部材まで運ぶため、サンドブラスト処理に比べて微細な砥粒を使用することができるとともに、砥粒がワークに衝突する際の衝撃が小さくなり、精密な加工を行うことが可能である。
　以下、本発明について、具体的な実施例に基づいて、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。
　（実施例１～９及び比較例１～４）
　強化ガラス平板（日本電気硝子株式会社製強化ガラス平板、厚み０．７ｍｍ）の上に、酸化ケイ素成分を含む液をスプレー法により塗布し、乾燥させることにより、酸化ケイ素からなるコーティング膜を形成し、ディスプレイ用カバー部材を得た。詳細な条件は、表１、２に示す。
　（凹凸面の表面性状パラメータの測定）
　実施例１～９及び比較例１～４のディスプレイ用カバー部材の凹凸面におけるＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される表面性状パラメータ（ＲＳｍ、θ、Ｒｋｕ、Ｒａ、Ｒｑ、Ｒｔ、ＲｚＪＩＳ、｜Ｒｓｋ｜、Ｒｄｑ）を、非接触表面・層断面形状計測システム　ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０（菱化システム社製）を用いて測定した。結果を表１、２に示す。
　（ヘイズの測定）
　ＪＩＳ　Ｋ７１３６－２０００に基づいて、実施例１～９及び比較例１～４のディスプレイ用カバー部材のヘイズを、ＮＤＨ－５０００（日本電色社製）を用いて測定した。結果を表１、２に示す。
　（グロス値の測定）
　ＪＩＳ　Ｚ８７４１－１９９７に基づいて、実施例１～９及び比較例１～４のディスプレイ用カバー部材における入射角６０°のグロス値を、ＩＧ－３３１（堀場製作所社製）を用いて測定した。結果を表１、２に示す。
　（映り込み度合いの評価）
　ディスプレイ用カバー部材の裏面にメンディングテープ（３Ｍ社製）を貼り付け、カバー部材凹凸面に蛍光灯を反射させた。その反射させた蛍光灯がぼやけて全く見えないものを◎、やや見えるもののぼやけているものを○、蛍光灯が見えるがややぼやけているものを△、蛍光灯がくっきり見えるものを×という判定を行った。結果を表１、２に示す。
　（ギラツキ度合いの評価）
　画素ピッチ２６４ｐｐｉのディスプレイの上に実施例１～９及び比較例１～４のディスプレイ用カバー部材を配置し、ギラツキ度合いを観察した。その際、ギラツキが確認できなかったものを○、ギラツキが確認できたものを×という判定を行った。結果を表１、２に示す。
　（鉛筆硬度の評価）
　ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４－１９９９に基づいて、実施例１～９及び比較例１～４のディスプレイ用カバー部材におけるコーティング膜の鉛筆硬度を、ＨＥＩＤＯＮ表面性試験機を用いて、鉛筆角度４５゜、引っ掻き速度１００ｍｍ／分、荷重７５０ｇの条件で、三菱鉛筆ＨＩ－ｕｎｉを用いて評価した。結果を表１、２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　実施例１～９は、ＲＳｍが１２．７０μｍ～１７．７９μｍで、θが１．８１°～５．２９°で、Ｒｋｕが２．３２～６．９９で、θ／Ｒｋｕが０．５６°～１．０７°であったため、背景の映り込みが少なく、ギラツキ防止性に優れていた。一方、比較例１及び２は、ＲＳｍが３２．５３μｍ、３５．２５μｍと大きいため、ギラツキが確認された。また、比較例３は、θが１．１４°で、θ／Ｒｋｕが０．３８°と小さいため、映り込みが確認された。また、比較例４は、Ｒｋｕが２．１４と小さく、θ／Ｒｋｕが１．０９°と大きいため、映り込みが確認された。
　本発明は、背景の映り込みが少なく、ギラツキ防止性に優れたディスプレイ用カバー部材に好適である。
１：カバー部材
１ａ：第１の主面
１ｂ：第２の主面
２：凹凸面
１０：透光板
１０ａ：第１の主面
１０ｂ：第２の主面
１１：コーティング膜
 

Claims (14)

  1. 　一方の主面が凹凸面により構成されており、前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１μｍ以上３０μｍ以下であり、前記凹凸面の粗さ曲線の平均傾斜角（θ）と前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のクルトシス（Ｒｋｕ）の比、θ／Ｒｋｕが０．４０°以上１．０８°以下であることを特徴とするディスプレイ用カバー部材。
  2. 　一方の主面が凹凸面により構成されており、前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が１μｍ以上３０μｍ以下であり、前記凹凸面の粗さ曲線の平均傾斜角（θ）が１．２°以上７°以下であり、前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のクルトシス（Ｒｋｕ）が２．２以上１０以下であることを特徴とするディスプレイ用カバー部材。
  3. 　ヘイズが１％以上５０％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のディスプレイ用カバー部材。
  4. 　前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．２５μｍ以下であることを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載のディスプレイ用カバー部材。
  5. 　前記凹凸面のＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３で規定される粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）の絶対値、｜Ｒｓｋ｜が２以下であることを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載のディスプレイ用カバー部材。
  6. 　透光板と、前記透光板の一主面の少なくとも一部を覆っており、前記凹凸面を構成しているコーティング膜とを備えることを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載のディスプレイ用カバー部材。
  7. 　前記コーティング膜が前記透光板の一主面の全体を覆っていることを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ用カバー部材。
  8. 　前記コーティング膜が、無機膜により構成されていることを特徴とする請求項６または７に記載のディスプレイ用カバー部材。
  9. 　前記コーティング膜のＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４－１９９９で規定される鉛筆硬度が６Ｈ以上であることを特徴とする請求項６～８のいずれか一項に記載のディスプレイ用カバー部材。
  10. 　前記透光板が、ガラス板により構成されていることを特徴とする請求項６～９のいずれか一項に記載のディスプレイ用カバー部材。
  11. 　前記ガラス板が、強化ガラス板により構成されていることを特徴とする請求項１０に記載のディスプレイ用カバー部材。
  12. 　請求項１～１１のいずれか一項に記載のディスプレイ用カバー部材を製造する方法であって、
    　前記透光板の上に、スプレー法により前記凹凸面を構成するコーティング膜を形成することを特徴とするディスプレイ用カバー部材の製造方法。
  13. 　前記透光板をガラス板により構成し、
    　前記コーティング膜を形成した後に、前記ガラス板を化学強化することを特徴とする請求項１１に記載のディスプレイ用カバー部材の製造方法。
  14. 　前記透光板として、強化ガラス板を用いることを特徴とする請求項１１に記載のディスプレイ用カバー部材の製造方法。
     
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