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WO2011086991A1 - ガラスフィルム積層体及びその製造方法並びにガラスフィルムの製造方法 - Google Patents

ガラスフィルム積層体及びその製造方法並びにガラスフィルムの製造方法 Download PDF

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Publication number
WO2011086991A1
WO2011086991A1 PCT/JP2011/050277 JP2011050277W WO2011086991A1 WO 2011086991 A1 WO2011086991 A1 WO 2011086991A1 JP 2011050277 W JP2011050277 W JP 2011050277W WO 2011086991 A1 WO2011086991 A1 WO 2011086991A1
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WO
WIPO (PCT)
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glass
glass film
region
surface roughness
contact surface
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/050277
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
雅博 笘本
孝英 藤居
博司 瀧本
Original Assignee
日本電気硝子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本電気硝子株式会社 filed Critical 日本電気硝子株式会社
Priority to KR1020127012413A priority Critical patent/KR101899412B1/ko
Priority to CN201180005466.5A priority patent/CN102695685B/zh
Priority to EP11732861.7A priority patent/EP2463253B1/en
Publication of WO2011086991A1 publication Critical patent/WO2011086991A1/ja

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    • Y10T428/24926—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including ceramic, glass, porcelain or quartz layer

Definitions

  • the present invention relates to electronic devices such as glass films used for glass substrates such as flat panel displays such as liquid crystal displays and organic EL displays, solar cells, lithium ion batteries, digital signage, touch panels, electronic paper, and organic EL lighting. It is related with the glass film laminated body which supported the glass film used for a cover glass, a pharmaceutical package, etc. with support glass, and a glass film.
  • flat panel displays such as a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL display and a field emission display have become popular in recent years.
  • These flat panel displays are required to be thinner.
  • organic EL displays are required to be easily carried by folding or winding, and to be usable not only on flat surfaces but also on curved surfaces.
  • it is not limited to a display that can be used not only on a flat surface but also on a curved surface.
  • the surface of an object having a curved surface such as a car body surface, a roof of a building, a pillar, or an outer wall. If a solar cell can be formed or organic EL illumination can be formed, the application will be expanded. Therefore, the substrate and cover glass used in these devices are required to be further thinned and highly flexible.
  • the light emitter used in the organic EL display is deteriorated by contact with a gas such as oxygen or water vapor. Accordingly, since a high gas barrier property is required for a substrate used in an organic EL display, it is expected to use a glass substrate.
  • glass used for a substrate is weak in tensile stress and thus has low flexibility. If the glass substrate surface is bent to be subjected to tensile stress, the glass substrate is damaged. In order to impart flexibility to the glass substrate, it is necessary to make it ultra-thin, and a glass film having a thickness of 200 ⁇ m or less as described in Patent Document 1 has been proposed.
  • the glass substrate used for electronic devices such as flat panel displays and solar cells is subjected to various processing related to electronic device manufacturing, such as film deposition processing such as a transparent conductive film and cleaning processing.
  • film deposition processing such as a transparent conductive film and cleaning processing.
  • a glass substrate used in these electronic devices is made into a film, glass is a brittle material, so it is damaged by a slight change in stress, and handling is difficult when performing various electronic device manufacturing related processes described above. There is a problem that it is difficult.
  • a glass film having a thickness of 200 ⁇ m or less is rich in flexibility, it is difficult to perform positioning when manufacturing-related processing is performed, and there is a problem that displacement or the like occurs during patterning.
  • Patent Document 2 a laminated body is proposed in which a supporting glass substrate and a glass sheet are laminated through an adhesive layer that is maintained substantially constant even by repeated use. According to this, even if a glass sheet with no strength or rigidity is used alone, it becomes possible to manufacture a liquid crystal display element by sharing a conventional liquid crystal display element manufacturing line for glass.
  • the glass substrate can be peeled off. Further, since a glass substrate is used as the support, it is possible to prevent thermal warping to some extent. In addition, since the support has high rigidity, it is difficult to cause a problem that the laminate is displaced during positioning or patterning during manufacturing-related processing.
  • JP 2008-133174 A Japanese Patent Laid-Open No. 8-86993
  • the first object of the present invention is to firmly support a glass film by a support during manufacturing-related processing, and to incorporate the glass film from the support into various devices after manufacturing-related processing. It is possible to peel easily.
  • the second object of the present invention is to provide a glass film laminate that can reliably prevent the pressure-sensitive adhesive from remaining on the glass film after the glass film is peeled from the support.
  • the present invention is a glass film laminate in which a glass film and a support are laminated, and a region having a relatively strong adhesive force and a weakness at an adhesive portion between the contact surface of the glass film and the contact surface of the support.
  • An area is provided, and a glass film laminate is provided.
  • the support used in the present invention includes those formed of an inorganic material such as glass or ceramic, and those formed of a resin material or a metal material.
  • the region having a relatively weak adhesive force may be a region having no adhesive force.
  • the contact surface of the glass film and the contact surface of the support are directly contacted and bonded, the contact surface of the glass film and the contact surface of the support.
  • the support is formed of glass (support glass), and at least one of the contact surface of the glass film and the contact surface of the support glass has a relatively large surface roughness and a small region.
  • the pressure-sensitive adhesive layer is configured to have a relatively strong layer region and a weak layer region, or a partial pressure-sensitive adhesive layer (adhesive layer) in the bonded region. It is set as the structure which does not provide.
  • the support is made of glass (support glass), and at least one of the contact surface of the glass film and the contact surface of the support glass has a relatively large area and a small area. It is preferable to have a configuration provided.
  • a region having a relatively large surface roughness and a region having a relatively small surface roughness can be provided on the contact surface of the support glass.
  • the region having a relatively small surface roughness preferably has a surface roughness Ra of 2.0 nm or less.
  • the difference in surface roughness Ra between the region having a relatively large surface roughness and the region having a relatively small surface roughness is 0.1 nm or more.
  • this invention is set as the structure which has the area
  • the outer peripheral portion of the contact surface has a region having a relatively large surface roughness, and the region surrounded by the outer peripheral portion has a region having a relatively small surface roughness. Can do.
  • the glass film and the supporting glass may be laminated with a step provided at least at a part of the edge.
  • the present invention is also a method for producing a glass film laminate in which a glass film and a supporting glass are laminated, wherein at least one partial region of the contact surface of the glass film and the contact surface of the supporting glass is roughened. And a step of laminating the glass film and the supporting glass in a state where the contact surfaces are in contact with each other.
  • the glass film and the support glass are preferably formed by an overflow down draw method.
  • the roughening may be any one or more selected from an etching process using hydrofluoric acid, an etching process using atmospheric pressure plasma, a roughening process using a thin film, and a roughening process using sandblasting. can do.
  • the present invention also includes a first step of providing a relatively large surface roughness region and a small region on at least one of the contact surface of the support glass and the contact surface of the glass film, and the contact surface of the support glass. And a second step of making a glass film laminate by bonding the contact surface of the glass film, a third step of performing a production related process on the glass film laminate, and after the production related process And a fourth step of peeling the glass film from the supporting glass.
  • the adhesive portion between the contact surface of the glass film and the contact surface of the support is provided with a relatively strong region and a weak region, the adhesive force is relatively low.
  • the strong region manufacturing-related processing can be stably performed in a state where the glass film is firmly laminated on the support.
  • the glass film can be easily peeled from the region where the adhesive force is relatively weak after the manufacturing-related process. Therefore, glass at the time of manufacturing-related processing caused by the fact that the adhesive force is generally too weak while preventing the damage at the time of peeling of the glass film due to the fact that the adhesive force between the support and the glass film is too strong as a whole. It is possible to prevent the film from being unduly peeled off.
  • the support is formed of glass (support glass), and at least one of the contact surface of the glass film and the contact surface of the support glass is provided with a relatively large area and a small area.
  • the glass film and the supporting glass are bonded with a weak force, and in areas where surface roughness is relatively small (hereinafter referred to as smooth surfaces) Bonds with supporting glass with a strong force.
  • the distance between both surfaces is considered to be so small that the hydroxyl groups existing on both surfaces can be hydrogen-bonded, so that the adhesion is good and even without using an adhesive. It is considered that the contact surface of the glass film and the contact surface of the supporting glass can be firmly and stably bonded.
  • the supporting glass is reusable, for example, a part of the contact surface of the supporting glass is formed by providing the contact surface of the supporting glass with a region where the surface roughness is relatively large and a region where the surface roughness is relatively small. Once the roughening process is performed on the region, the supporting glass can be reused as it is without performing the roughening process again, which simplifies the manufacturing process. Moreover, since a glass film is used as a glass substrate of a device, it may not be preferable to perform the roughening treatment even on the back surface side.
  • the glass film and the supporting glass can be more firmly bonded to the region having a relatively small surface roughness.
  • the supporting glass and the glass film can be appropriately bonded. It is possible to easily peel the glass film from the supporting glass after manufacturing-related processing while enabling good positioning. Therefore, it becomes possible to balance adhesiveness and peelability.
  • the film and the supporting glass can be firmly bonded with a small bonding area along the outer peripheral portion of the contact surface. Moreover, even if it has the process of using a solvent in a manufacturing related process process, it can prevent that a solvent infiltrates from the clearance gap between a glass film and support glass.
  • the corner of the glass film can be firmly bonded to the supporting glass, and the glass film can be formed with a smaller bonding area.
  • supporting glass can be laminated.
  • the surface roughness is relatively large in the outer peripheral portion of the contact surface, and in the interior surrounded by the outer peripheral portion, the surface roughness is relatively small.
  • the glass film in the longitudinal direction of the band-shaped region By stripping the glass film in the longitudinal direction of the band-shaped region by adopting a configuration in which the region having a relatively large surface roughness and the small region are alternately provided in a band shape on the contact surface
  • the supporting glass and the glass film can be peeled stably with a constant force.
  • the glass film and the supporting glass are laminated by providing a step in at least a part of the edge, when the glass film protrudes from the supporting glass, the glass film and the supporting glass Can be more easily and reliably peeled off.
  • the supporting glass protrudes from the glass film, the end of the glass film can be appropriately protected from hitting or the like.
  • the manufacturing method of the glass film laminated body which concerns on this invention is the process of roughening at least one partial area
  • the surface roughness is small and the surface has a high smoothness.
  • a glass film laminated body can be manufactured much more easily.
  • the roughening is one or more selected from an etching treatment with hydrofluoric acid, an etching treatment with atmospheric pressure plasma, a roughening treatment by forming a thin film, and a roughening treatment by sandblasting.
  • the manufacturing method of the glass film laminated body which concerns on this invention is a 1st which provides the area
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. It is explanatory drawing of the manufacturing apparatus of a glass film and support glass. It is a figure of the glass film laminated body which has a smooth surface in a corner
  • FIG. 5 is a sectional view taken along line BB in FIG. It is a top view of the glass film laminated body by which the rough surface and the smooth surface are provided alternately by the strip
  • FIG. 6 is a sectional view taken along line BB in FIG.
  • the glass film laminate (1) comprises a glass film (2) and a supporting glass (3) as shown in FIG.
  • the contact surface of the supporting glass (3) is provided with a smooth surface (4) having a relatively small surface roughness and a rough surface (5) having a relatively large surface roughness, and supports the glass film (2) and the supporting surface.
  • Glass (3) is laminated without using an adhesive or the like.
  • the silicate glass is used for the glass film (2), preferably silica glass or borosilicate glass is used, and most preferably non-alkali glass is used.
  • an alkali component is contained in the glass film (2), cation is dropped on the surface, so-called soda blowing phenomenon occurs, and the structure becomes rough. In this case, if the glass film (2) is curved and used, it may be damaged from a portion roughened by aging.
  • the alkali-free glass is a glass that does not substantially contain an alkali component (alkali metal oxide), and specifically, a glass having an alkali metal oxide of 1000 ppm or less. is there.
  • the content of the alkali metal oxide in the present invention is preferably 500 ppm or less, more preferably 300 ppm or less.
  • the thickness of the glass film (2) is preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m to 200 ⁇ m, and most preferably 5 ⁇ m to 100 ⁇ m. Thereby, the thickness of a glass film (2) can be made thinner and appropriate flexibility can be provided. Further, if the thickness of the glass film (2) is reduced, handling properties are difficult and problems such as mispositioning and misalignment during patterning may occur. However, in the present invention, the supporting glass (3) is used. By doing so, manufacturing-related processing can be easily performed. On the other hand, if the thickness of the glass film (2) is less than 5 ⁇ m, the strength of the glass film (2) tends to be insufficient, and the glass film (2) is peeled off from the glass film laminate (1) and incorporated into the device. It is easy to cause damage. On the other hand, when the thickness of the glass film (2) exceeds 300 ⁇ m, it may be difficult to impart flexibility to the glass film.
  • the supporting glass (3) silicate glass, silica glass, borosilicate glass, non-alkali glass and the like are used as in the glass film (2).
  • the supporting glass (3) it is preferable to use a glass having a difference in thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. from that of the glass film (2) within 5 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. Thereby, even if it heat-processes in the case of a manufacturing related process, it becomes difficult to produce the thermal warp etc. by the difference in an expansion coefficient, and it becomes possible to set it as the glass film laminated body (1) which can maintain the stable lamination state.
  • the thickness of the supporting glass (3) is preferably 400 ⁇ m or more. This is because if the thickness of the supporting glass (3) is less than 400 ⁇ m, a problem may occur in terms of strength when the supporting glass is handled alone.
  • the thickness of the supporting glass (3) is preferably 400 ⁇ m to 700 ⁇ m, and most preferably 500 ⁇ m to 700 ⁇ m. Thereby, it becomes possible to support a glass film (2) reliably.
  • the glass film (2) and the supporting glass (3) used in the present invention are preferably formed by a downdraw method. This is because the surface of the glass film (2) can be formed more smoothly.
  • the overflow downdraw method shown in FIG. 2 is a molding method in which both surfaces of the glass plate do not come into contact with the molded member at the time of molding, and the both surfaces (translucent surface) of the obtained glass plate are hardly scratched and polished. This is because high smoothness can be obtained even without this. Thereby, it becomes possible to adhere
  • the glass ribbon (G) immediately after flowing down from the lower end portion (71) of the wedge-shaped molded body (7) is stretched downward while the shrinkage in the width direction is regulated by the cooling roller (8) to have a predetermined thickness. Until it gets thinner. Next, the glass ribbon (G) having reached the predetermined thickness is gradually cooled in a slow cooling furnace (annealer), the thermal distortion of the glass ribbon (G) is removed, the glass ribbon (G) is cut into a predetermined dimension, and glass A film (2) and a supporting glass (3) are formed.
  • a smooth surface (4) and a rough surface (5) are provided on the contact surface of the support glass (3).
  • the smooth surface (4) has good adhesion, so the glass film (2) and the supporting glass (3) are bonded with a strong force.
  • the glass film (2) and the supporting glass (3) are bonded with a weak force.
  • the surface roughness Ra of the smooth surface (4) at the contact surface of the support glass (3) is preferably 2.0 nm or less.
  • the surface roughness Ra of the contact surface of the glass film (2) is also preferably 2.0 nm or less.
  • the surface roughness Ra of the smooth surfaces of the contact surfaces of the glass film (2) and the supporting glass (3) is more preferably 1.0 nm or less, further preferably 0.5 nm or less, and 0.2 nm. Most preferably:
  • the difference in surface roughness Ra between the smooth surface (4) and the rough surface (5) on the contact surface of the support glass (3) is preferably 0.1 nm or more, and more preferably 0.3 nm or more. Thereby, the support glass (3) and the glass film (2) can be appropriately bonded on the smooth surface (4), and the glass film (2) can be easily peeled from the support glass (3). It becomes possible. On the other hand, if the difference in surface roughness Ra is less than 0.1 nm, it is difficult to obtain the effect of providing a difference in surface roughness.
  • the difference in surface roughness Ra between the smooth surface (4) and the rough surface (5) on the contact surface of the support glass (3) is not particularly limited from the viewpoint of adhesiveness and peelability. From the viewpoint of labor saving, 2000 nm or less is preferable.
  • the ratio of the smooth surface (4) to the rough surface (5) is preferably 1: 1000 to 5: 1. In order to achieve a balance between adhesiveness and peelability, the ratio is more preferably 1: 500 to 4: 1, and most preferably 1: 200 to 3: 1. In addition, also when providing a smooth surface (4) and a rough surface (5) in the contact surface of a glass film (2), it is preferable to set it as the ratio similar to the above.
  • a smooth surface (4) is provided along the outer peripheral portion of the contact surface of the supporting glass (3), and the surface roughness Ra is relatively large inside the smooth surface (4). It can be set as the structure by which the rough surface (5) is provided. Thereby, a glass film (2) and support glass (3) can be firmly adhere
  • the contact surface of the support glass (3) can have a configuration in which strip-shaped rough surfaces (5) and strip-shaped smooth surfaces (4) are alternately provided.
  • the supporting glass (3) and the glass film (2) Since the adhesive force of is constant, the supporting glass (3) and the glass film (2) can be peeled stably by peeling with a constant force.
  • Examples of means for providing a relatively large surface roughness region and a small region on the contact surface of the support glass (3) include the following methods.
  • a part of the contact surface of the supporting glass (3) with excellent surface quality is protected with a masking tape or the like, and the surface is roughened by using physical means or chemical means.
  • a smooth surface (4) protected by the masking tape or the like and a roughened rough surface (5) are formed on the contact surface.
  • the contact surface of the support glass (3) is protected by a masking tape or the like, and then the exposed surface is roughened by sandblasting, or the surface is roughened by forming a thin film.
  • the method etc. are raised.
  • the exposed surface may be polished using alumina or cerium oxide.
  • the chemical roughening means include etching using hydrofluoric acid and a method using atmospheric pressure plasma.
  • FIG. 6 shows a glass film laminate (1) in which a glass film (2) and a supporting glass (3) are laminated by providing a step (6) at the edge.
  • a step (61) is provided so that the supporting glass (3) protrudes from the glass film (2). Thereby, the edge part of a glass film (2) can be protected more appropriately.
  • the form which has a rough surface (5) in the peripheral part of a glass film (2) is preferable. Since the peripheral part is a rough surface (5), by inserting a thin plate member (resin sheet or the like) between the glass film (2) and the supporting glass (3), the glass film (2) and the supporting glass (3 ) Can be easily peeled off.
  • step difference (62) is provided in the state which the glass film (2) protruded rather than the support glass (3).
  • the step (62) only needs to be provided in at least a part of the peripheral portion of the glass film laminate (1).
  • the glass film laminate (1) is rectangular in plan view, It suffices to be provided on at least one side.
  • the form which has a smooth surface (4) in the peripheral part of a glass film (2) is preferable. Since a peripheral part is a smooth surface (4), when using a solvent for manufacture related process, it can prevent that a solvent infiltrates from between a glass film (2) and support glass (3).
  • the protruding amount of the glass film (3) is preferably 0.1 mm to 20 mm. If it is less than 0.1 mm, it may be difficult to grip the edge of the glass film (2) at the start of peeling, and if it exceeds 20 mm, an external force such as a bump on the side edge of the glass film laminate (1). When is added, the glass film (2) may be damaged.
  • the step formed by protruding the edge of the supporting glass (3) from the edge of the glass film (2), and the edge of the supporting glass (3) The glass film (2) and the support by making the glass film laminate (1) formed with both steps of the step (4) formed by protruding the edge of the glass film (2) from the part
  • the glass (3) can be held at the same time, and the glass film (2) can be peeled off more easily.
  • the steps are formed close to each other.
  • the surface of the glass film (2) of the glass film laminate (1) according to the present invention is subjected to various electronic device manufacturing related processes such as film formation, baking, washing, and patterning.
  • the glass film (2) is peeled from the supporting glass (3) of the glass film laminate (1) after the manufacturing-related treatment.
  • the glass film (2) is peeled by inserting a sheet between the glass film (2) and the supporting glass (3).
  • the sheet preferably has high strength and a smooth surface, and a Teflon (registered trademark) sheet is preferably used. It is preferable to insert the sheet shallowly. When the sheet is inserted deeply, the contact area between the sheet and the glass increases, and the frictional force increases, so that the glass film (2) may be damaged at the time of peeling. After peeling, the glass film (2) is used for an intended purpose, for example, as appropriate for a glass substrate of an electronic device.
  • the support glass (3) after peeling the glass film (2) can be reused.
  • region where the surface roughness was relatively provided in the contact surface of support glass (3) it is not limited to this, On the contact surface of glass film (2) A region having a relatively large surface roughness and a region having a relatively small surface roughness may be provided. Moreover, you may provide the area
  • Example 2 A rectangular transparent glass plate having a length of 300 mm, a width of 300 mm, and a thickness of 500 ⁇ m was used as the supporting glass. In one corner of the supporting glass, a right triangle cutout (orientation flat) 3 mm long and 3 mm wide was provided. As a glass film laminated on the contact surface of the supporting glass, a glass film having a length of 298 mm, a width of 298 mm, and a thickness of 100 ⁇ m was used. As the supporting glass and the glass film, non-alkali glass (product name: OA-10G, thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C .: 38 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C.) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. was used.
  • non-alkali glass product name: OA-10G, thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C .: 38 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C.
  • a supporting glass and a glass film were formed by the overflow downdraw method.
  • Four corners of the contact surface of the support glass were protected with a masking tape, and a 1% hydrofluoric acid solution was applied to the contact surface of the support glass to perform a roughening treatment.
  • a cleaning process was performed 30 seconds after the hydrofluoric acid solution was applied, and the masking tape was removed to make the surface protected with the masking tape a smooth surface and the hydrofluoric acid-treated surface rough.
  • the surface roughness Ra between the smooth surface and the rough surface on the contact surface of the supporting glass was measured using AFM (Nanoscope III a) manufactured by Veeco under the conditions of a scan size of 10 ⁇ m, a scan rate of 1 Hz, and a sample line 512.
  • the surface roughness Ra was calculated from measured values in a measuring range of 10 ⁇ m square.
  • the surface roughness Ra of the rough surface on the supporting glass was 0.5 nm, and the surface roughness Ra of the smooth surface was 0.2 nm.
  • the surface roughness Ra of the glass film was 0.2 nm.
  • a glass film was laminated on the contact surface of the supporting glass to obtain a glass film laminate of the example.
  • the supporting glass and the glass film were adhered well, and positioning and handling during the process can be performed without any problem. did it. Insert a Teflon (Registered Trademark) sheet from the step formed in the notch (orientation flat) part provided in one corner of the support glass (see Fig. 5), and widen the insertion area, thereby peeling the glass film from the support glass. As a result, it was possible to peel from the rough surface well, and the glass film was not damaged.
  • Teflon Registered Trademark
  • Comparative Example 1 The glass film laminated body of the comparative example 1 was obtained by the method similar to the above-mentioned Example except not having roughened with respect to the contact surface of support glass.
  • the surface roughness Ra of the contact surface of both the supporting glass and the glass film was 0.2 nm.
  • the Teflon (registered trademark) sheet is inserted to the center after processing, the Teflon (registered trademark) sheet is bent and the glass film is bent greatly due to excessive adhesion, and the glass film is damaged at the time of peeling. There were some.
  • Comparative Example 2 The contact surface of the supporting glass was subjected to a polishing treatment with alumina and cerium oxide, so that the surface roughness Ra of the contact surface was adjusted uniformly to 2.2 nm. Then, the glass film laminated body of the comparative example 2 was produced by laminating
  • the present invention can be suitably used for producing a glass substrate used for a flat panel display such as a liquid crystal display or an organic EL display, a device such as a solar cell, and a cover glass for organic EL lighting.

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Abstract

ガラスフィルム積層体（１）は、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とを積層した構成され、ガラスフィルム（２）の接触面及び支持ガラス（３）の接触面のうち少なくとも一方に、表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とが設けられている。

Description

ガラスフィルム積層体及びその製造方法並びにガラスフィルムの製造方法
　本発明は、電子デバイス、例えば液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、太陽電池、リチウムイオン電池、デジタルサイネージ、タッチパネル、電子ペーパー等のガラス基板に使用されるガラスフィルムや、有機ＥＬ照明のカバーガラスや医薬品パッケージ等に使用されるガラスフィルムを、支持ガラスによって支持したガラスフィルム積層体、及びガラスフィルムに関する。
　省スペース化の観点から、従来普及していたＣＲＴ型ディスプレイに替わり、近年は液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ等のフラットパネルディスプレイが普及している。これらのフラットパネルディスプレイにおいては、さらなる薄型化が要請される。特に有機ＥＬディスプレイには、折りたたみや巻き取ることによって持ち運びを容易にすると共に、平面だけでなく曲面にも使用可能とすることが求められている。また、平面だけでなく曲面にも使用可能とすることが求められているのはディスプレイには限られず、例えば、自動車の車体表面や建築物の屋根、柱や外壁等、曲面を有する物体の表面に太陽電池を形成したり、有機ＥＬ照明を形成したりすることができれば、その用途が広がることとなる。従って、これらデバイスに使用される基板やカバーガラスには、更なる薄板化と高い可撓性が要求される。
　有機ＥＬディスプレイに使用される発光体は、酸素や水蒸気等の気体が接触することにより劣化する。従って有機ＥＬディスプレイに使用される基板には高いガスバリア性が求められるため、ガラス基板を使用することが期待されている。しかしながら、基板に使用されるガラスは、樹脂フィルムと異なり引っ張り応力に弱いため可撓性が低く、ガラス基板を曲げることによりガラス基板表面に引っ張り応力がかけられると破損に至る。ガラス基板に可撓性を付与するためには超薄板化を行う必要があり、下記特許文献１に記載されているような厚み２００μｍ以下のガラスフィルムが提案されている。
　フラットパネルディスプレイや太陽電池等の電子デバイスに使用されるガラス基板には、透明導電膜等の膜付け処理や、洗浄処理等、様々な電子デバイス製造関連の処理がなされる。ところが、これら電子デバイスに使用されるガラス基板のフィルム化を行うと、ガラスは脆性材料であるため多少の応力変化により破損に至り、上述した各種電子デバイス製造関連処理を行う際に、取り扱いが大変困難であるという問題がある。加えて、厚み２００μｍ以下のガラスフィルムは可撓性に富むため、製造関連処理を行う際に位置決めを行い難く、パターンニング時にずれ等が生じるという問題もある。
　そこで、上述した問題を解決するために、下記特許文献２に記載されている積層体が提案されている。下記特許文献２では、支持ガラス基板とガラスシートとが繰返しの使用によってもほぼ一定に維持される粘着材層を介して積層された積層体が提案されている。これによれば、単体では強度や剛性のないガラスシートを用いても、従来のガラス用液晶表示素子製造ラインを共用して、液晶表示素子を製造することが可能となり、工程終了後は、支持ガラス基板を剥離することが可能となっている。また、支持体にガラス基板を使用しているため、熱反り等をある程度防止することが可能となっている。加えて、支持体の剛性が高いため、製造関連処理の際の位置決め時やパターンニング時に積層体がずれるという問題も生じ難い。
特開２００８－１３３１７４号公報 特開平８－８６９９３号公報
　しかしながら、支持ガラス基板を剥離した後に粘着性物質がガラスフィルムに残存し、汚れの原因となるという問題がある。さらに、最終的に積層体のガラスフィルムを支持ガラス基板から剥離して、ガラスフィルムのみとする際に、支持ガラス基板上の粘着剤層の粘着力を強く設定した場合は、その引っ張り応力に耐えられず、脆性材料であるガラスフィルムが破損し易いという問題がある。また、粘着剤層の粘着力を弱く設定した場合は、支持ガラス基板とガラスフィルムとの接着が不十分となり、製造関連処理の際に支持ガラス基板とガラスフィルムとがずれることに起因する位置決めミスやパターニングのずれ等が生じるおそれがある。
　本発明の第１の目的は、製造関連処理を行う際にはガラスフィルムを強固に支持体によって支持させつつ、製造関連処理後にガラスフィルムを各種デバイスに組み込む際には、支持体からガラスフィルムを容易に剥離させることを可能にすることである。
本発明の第２の目的は、ガラスフィルムを支持体から剥離後において粘着剤がガラスフィルムに残存することを確実に防止することを可能とするガラスフィルム積層体を提供することである。
　本発明は、ガラスフィルムと支持体とを積層したガラスフィルム積層体であって、前記ガラスフィルムの接触面と前記支持体の接触面との接着部に、接着力が相対的に強い領域と弱い領域とが設けられていることを特徴とするガラスフィルム積層体を提供する。ここで、本発明で用いる支持体には、ガラスやセラミック等の無機材料で形成されたもの、樹脂材料や金属材料で形成されたものが含まれる。また、接着力が相対的に弱い領域は、接着力が無い領域であっても良い。さらに、本発明のガラスフィルム積層体には、前記ガラスフィルムの接触面と前記支持体の接触面とを直接接触させて接着させたもの、前記ガラスフィルムの接触面と前記支持体の接触面とを粘着剤層（接着剤層）を介して接着させたものが含まれる。前者の場合、前記支持体をガラスで形成し（支持ガラス）、前記ガラスフィルムの接触面及び前記支持ガラスの接触面のうち少なくとも一方に、表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設けた構成にする。後者の場合、粘着剤層（接着剤層）を、接着力が相対的に強い層領域と弱い層領域とを有する構成とし、あるいは、接着部の一部領域に粘着剤層（接着剤層）を設けない構成とする。
　本発明において、前記支持体をガラスで形成し（支持ガラス）、前記ガラスフィルムの接触面及び前記支持ガラスの接触面のうち少なくとも一方に、表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とが設けられている構成とすることが好ましい。
　例えば、前記支持ガラスの接触面に、前記表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設けることができる。
　前記表面粗さが相対的に小さい領域は、表面粗さＲａが２．０ｎｍ以下であることが好ましい。
　また、前記表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とは、表面粗さＲａの差が０．１ｎｍ以上であることが好ましい。
　本発明において、前記接触面の外周部に前記表面粗さが相対的に小さい領域を有し、前記外周部に囲まれた内部に、前記表面粗さが相対的に大きい領域を有する構成とすることができる。
　あるいは、前記接触面の角部に、前記表面粗さが相対的に小さい領域を有する構成とすることができる。
　あるいは、前記接触面の外周部に、前記表面粗さが相対的に大きい領域を有し、前記外周部に囲まれた内部に、前記表面粗さが相対的に小さい領域を有する構成とすることができる。
　あるいは、前記表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とが、前記接触面に帯状に交互に設けられている構成とすることができる。
　また、前記ガラスフィルムと前記支持ガラスとが、縁部の少なくとも一部において段差を設けて積層されている構成とすることができる。
　また、本発明は、ガラスフィルムと支持ガラスとを積層したガラスフィルム積層体の製造方法であって、前記ガラスフィルムの接触面及び前記支持ガラスの接触面のうち少なくとも一方の一部領域を粗面化する工程と、前記接触面同士を接触させた状態で前記ガラスフィルムと前記支持ガラスとを積層する工程とを有する構成を提供する。
　上記構成において、前記ガラスフィルム及び前記支持ガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されていることが好ましい。
　また、前記粗面化は、フッ酸によるエッチング処理、大気圧プラズマによるエッチング処理、薄膜の形成による粗面化、サンドブラストによる粗面化処理の中から選択されるいずれか１種又は２種以上とすることができる。
　また、本発明は、支持ガラスの接触面及びガラスフィルムの接触面のうち少なくとも一方に、表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設ける第１の工程と、前記支持ガラスの接触面と前記ガラスフィルムの接触面とを貼り合わせることによってガラスフィルム積層体とする第２の工程と、前記ガラスフィルム積層体に対して製造関連処理を行う第３の工程と、前記製造関連処理後に前記ガラスフィルムを前記支持ガラスから剥離する第４の工程とを有するガラスフィルムの製造方法を提供する。
　本発明によれば、前記ガラスフィルムの接触面と前記支持体の接触面との接着部に、接着力が相対的に強い領域と弱い領域とが設けられていることから、接着力が相対的に強い領域により、支持体上にガラスフィルムを強固に積層させた状態で、安定して製造関連処理を施すことができる。加えて、接着力が相対的に弱い領域を有することから、製造関連処理後に接着力の相対的に弱い領域からガラスフィルムを容易に剥離することができる。従って、支持体とガラスフィルムとの接着力が全体的に強すぎることに起因するガラスフィルム剥離時の破損を防止しつつ、接着力が全体的に弱すぎることに起因する製造関連処理時におけるガラスフィルムの不当な剥離脱落を防止することができる。
　前記支持体をガラスで形成し（支持ガラス）、前記ガラスフィルムの接触面及び前記支持ガラスの接触面のうち少なくとも一方に、表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設けることにより、表面粗さが相対的に大きい領域（以下、粗面という）ではガラスフィルムと支持ガラスとが弱い力で接着し、表面粗さが相対的に小さい領域（以下、平滑面という）ではガラスフィルムと支持ガラスとが強い力で接着する。平滑面同士の接触では、両表面に存在する水酸基同士が水素結合することが可能な程に、両表面間の距離が小さくなると考えられ、そのため密着性が良く、接着剤を使用しなくてもガラスフィルムの接触面と支持ガラスの接触面とを強固に安定して接着させることが可能となると考えられている。これにより、支持ガラス上にガラスフィルムを強固に積層させた状態で安定して製造関連処理を施すことができると共に、製造関連処理後においては粗面からガラスフィルムを容易に剥離することができる。また、接着剤を使用しないため、支持ガラスからガラスフィルムを剥離したとしても、接着剤が全く残存しないガラスフィルムとすることができる。
　前記支持ガラスは再利用可能であるため、前記支持ガラスの接触面に、前記表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設ける構成とすることにより、例えば支持ガラスの接触面の一部領域に対して粗面化処理を一度行えば、再度の粗面化処理を行うことなく、該支持ガラスをそのまま再利用することができるので、製造工程の簡略化になる。また、ガラスフィルムは、デバイスのガラス基板として使用するため、裏面側であっても粗面化処理を行うことは、好ましくない場合がある。
　前記表面粗さが相対的に小さい領域は、表面粗さＲａが２．０ｎｍ以下であると、ガラスフィルムと支持ガラスとをより強固に接着させることができる。
　前記表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とは、表面粗さＲａの差が０．１ｎｍ以上であると、支持ガラスとガラスフィルムとを適切に接着させることができ、製造関連処理時において良好な位置決めを可能としつつ、製造関連処理後には、支持ガラスからガラスフィルムを容易に剥離することが可能となる。よって、接着性と剥離性とのバランスをとることが可能となる。
　前記接触面の外周部に前記表面粗さが相対的に小さい領域を有し、前記外周部に囲まれた内部に、前記表面粗さが相対的に大きい領域を有する構成とすることにより、ガラスフィルムと支持ガラスとを接触面の外周部に沿って少ない接着面積で強固に接着させることができる。また、製造関連処理工程に溶媒を使用する工程を有していたとしても、ガラスフィルムと支持ガラスとの隙間から溶媒が浸入することを防止することができる。
　前記接触面の角部に、前記表面粗さが相対的に小さい領域を有する構成とすることにより、ガラスフィルムの角部を支持ガラスと強固に接着させることができ、より少ない接着面積でガラスフィルムと支持ガラスとを積層することができる。
　前記接触面の外周部に、前記表面粗さが相対的に大きい領域を有し、前記外周部に囲まれた内部に、前記表面粗さが相対的に小さい領域を有する構成とすることにより、支持ガラスからガラスフィルムを剥離する際に、ガラスフィルムの外周部から容易に剥離を開始することができる。
　前記表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とが、前記接触面に帯状に交互に設けられている構成とすることにより、前記帯状の領域の長手方向にガラスフィルムの剥離を行うことにより、一定の力で安定して支持ガラスとガラスフィルムとの剥離を行うことができる。
　前記ガラスフィルムと前記支持ガラスとは、縁部の少なくとも一部において段差を設けて積層されている構成とすることにより、支持ガラスからガラスフィルムが食み出している場合は、ガラスフィルムと支持ガラスとをより容易かつ確実に剥離することが可能となる。一方、ガラスフィルムから支持ガラスが食み出している場合は、ガラスフィルムの端部を打突等から適切に保護することが可能となる。
　また、本発明に係るガラスフィルム積層体の製造方法は、前記ガラスフィルムの接触面及び前記支持ガラスの接触面のうち少なくとも一方の一部領域を粗面化する工程と、前記接触面同士を接触させた状態で前記ガラスフィルムと前記支持ガラスとを積層する工程とを有するので、上述したガラスフィルム積層体を容易に製造することができる。
　前記ガラスフィルム及び前記支持ガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されていると、表面粗さが小さく平滑性の高い表面を有するので、その表面の一部領域を粗面化することにより、上述したガラスフィルム積層体をより一層容易に製造することができる。
　前記粗面化が、フッ酸によるエッチング処理、大気圧プラズマによるエッチング処理、薄膜の形成による粗面化、サンドブラストによる粗面化処理の中から選択されるいずれか１種又は２種以上であると、適宜マスキングテープ等を使用することにより、粗面化された領域と粗面化されていない領域とからなる接触面を容易に作製することができる。
　また、本発明に係るガラスフィルム積層体の製造方法は、支持ガラスの接触面及びガラスフィルムの接触面のうち少なくとも一方に、表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設ける第１の工程と、前記支持ガラスの接触面と前記ガラスフィルムの接触面とを貼り合わせることによってガラスフィルム積層体とする第２の工程と、前記ガラスフィルム積層体に対して製造関連処理を行う第３の工程と、前記製造関連処理後に前記ガラスフィルムを前記支持ガラスから剥離する第４の工程とを有するので、様々な用途のために製造関連処理がなされたガラスフィルムを、容易に製造することができる。
本発明に係るガラスフィルム積層体の平面図である。 図１（ａ）におけるＡ－Ａ線断面図である。 ガラスフィルム、及び、支持ガラスの製造装置の説明図である。 角部に平滑面を有するガラスフィルム積層体の図である。 中央部に平滑面を有するガラスフィルム積層体の平面図である。 図４（ａ）におけるＢ－Ｂ線断面図である。 支持ガラスの面上において、帯状に粗面と平滑面とが交互に設けられているガラスフィルム積層体の平面図である。 図５（ａ）におけるＢ－Ｂ線断面図である。 ガラスフィルムと支持ガラスとを縁部において段差を設けて積層したガラスフィルム積層体であって、支持ガラスがガラスフィルムから食み出している形態の側面図である。 ガラスフィルムと支持ガラスとを縁部において段差を設けて積層したガラスフィルム積層体であって、ガラスフィルムが支持ガラスから食み出している形態の図である。
　以下、本発明に係るガラスフィルム積層体の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
　本発明に係るガラスフィルム積層体（１）は、図１に示す通り、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とで構成される。支持ガラス（３）の接触面には、表面粗さが相対的に小さい平滑面（４）と表面粗さが相対的に大きい粗面（５）とが設けられ、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とは、接着剤等を使用することなく積層されている。
　ガラスフィルム（２）は、ケイ酸塩ガラスが用いられ、好ましくはシリカガラス、ホウ珪酸ガラスが用いられ、最も好ましくは無アルカリガラスが用いられる。ガラスフィルム（２）にアルカリ成分が含有されていると、表面において陽イオンの脱落が発生し、いわゆるソーダ吹きの現象が生じ、構造的に粗となる。この場合、ガラスフィルム（２）を湾曲させて使用していると、経年劣化により粗となった部分から破損する可能性がある。尚、ここで無アルカリガラスとは、アルカリ成分（アルカリ金属酸化物）が実質的に含まれていないガラスのことであって、具体的には、アルカリ金属酸化物が１０００ｐｐｍ以下のガラスのことである。本発明でのアルカリ金属酸化物の含有量は、好ましくは５００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは３００ｐｐｍ以下である。
　ガラスフィルム（２）の厚みは、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは５μｍ～２００μｍ、最も好ましくは５μｍ～１００μｍである。これによりガラスフィルム（２）の厚みをより薄くして、適切な可撓性を付与することができる。また、ガラスフィルム（２）の厚みを薄くすると、ハンドリング性が困難で、かつ、位置決めミスやパターニング時のずれ等の問題が生じやすくなるおそれがあるが、本発明では支持ガラス（３）を使用することにより、製造関連処理を容易に行うことができる。一方、ガラスフィルム（２）の厚みが５μｍ未満であると、ガラスフィルム（２）の強度が不足がちになり、ガラスフィルム積層体（１）からガラスフィルム（２）を剥離して、デバイスに組み込む際に破損を招き易くなる。他方、ガラスフィルム（２）の厚みが３００μｍを超えると、ガラスフィルムに可撓性を付与させ難くなるおそれがある。
　支持ガラス（３）は、ガラスフィルム（２）と同様、ケイ酸塩ガラス、シリカガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス等が用いられる。支持ガラス（３）については、ガラスフィルム（２）との３０～３８０℃における熱膨張係数の差が、５×１０－７／℃以内のガラスを使用することが好ましい。これにより製造関連処理の際に熱処理を行ったとしても、膨張率の差による熱反り等が生じ難く、安定した積層状態を維持できるガラスフィルム積層体（１）とすることが可能となる。
　支持ガラス（３）の厚みは、４００μｍ以上であることが好ましい。支持ガラス（３）の厚みが４００μｍ未満であると、支持ガラス単体で取り扱う場合に、強度の面で問題が生じる可能性があるからである。支持ガラス（３）の厚みは、４００μｍ～７００μｍであることが好ましく、５００μｍ～７００μｍであることが最も好ましい。これによりガラスフィルム（２）を確実に支持することが可能となる。
　本発明に使用されるガラスフィルム（２）及び支持ガラス（３）は、ダウンドロー法によって成形されていることが好ましい。ガラスフィルム（２）の表面をより滑らかに成形することができるからである。特に、図２に示すオーバーフローダウンドロー法は、成形時にガラス板の両面が、成形部材と接触しない成形法であり、得られたガラス板の両面（透光面）には傷が生じ難く、研磨しなくても高い平滑性を得ることができるからである。これにより、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とを平滑面（４）においてより強固に接着させることが可能となる。
　断面が楔型の成形体（７）の下端部（７１）から流下した直後のガラスリボン（Ｇ）は、冷却ローラ（８）によって幅方向の収縮が規制されながら下方へ引き伸ばされて所定の厚みまで薄くなる。次に、前記所定厚みに達したガラスリボン（Ｇ）を徐冷炉（アニーラ）で徐々に冷却し、ガラスリボン（Ｇ）の熱歪を除き、ガラスリボン（Ｇ）を所定寸法に切断して、ガラスフィルム（２）及び支持ガラス（３）が成形される。
　支持ガラス（３）の接触面には、図１に示す通り、平滑面（４）と粗面（５）とが設けられている。支持ガラス（３）の接触面にガラスフィルム（２）を貼り合わせることにより、平滑面（４）では密着性がよいため、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とが強い力で接着しつつ、粗面（５）ではガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とが弱い力で接着する。これにより、支持ガラス（３）上にガラスフィルム（２）を強固に積層させた状態で製造関連処理を施すことができると共に、製造関連処理後においては粗面（５）からガラスフィルム（２）を容易に剥離することができる。尚、図１、図３、図４の平面図において、支持ガラス（３）の接触面における粗面（５）については、斜線を付している。また、図１、図４、及び図５の断面図において、粗面（５）については、太線で表示をしている。
　支持ガラス（３）の接触面における平滑面（４）の表面粗さＲａは２．０ｎｍ以下であることが好ましい。平滑面（４）のＲａが２．０ｎｍ以下であることにより、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）の単位面積当たりにおける接着面積が増加することで密着性が向上し、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とを強固に接着させることができる。ガラスフィルム（２）の接触面の表面粗さＲａも、２．０ｎｍ以下であることが好ましい。ガラスフィルム（２）及び支持ガラス（３）の接触面の平滑面の表面粗さＲａは、それぞれ１．０ｎｍ以下であることがより好ましく、０．５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、０．２ｎｍ以下であることが最も好ましい。
　支持ガラス（３）の接触面における平滑面（４）と粗面（５）との表面粗さＲａの差は、０．１ｎｍ以上が好ましく、０．３ｎｍ以上がより好ましい。これにより、平滑面（４）において支持ガラス（３）とガラスフィルム（２）とを適切に接着させることができ、かつ、支持ガラス（３）からガラスフィルム（２）を容易に剥離することが可能となる。一方、表面粗さＲａの差が０．１ｎｍ未満であると、表面粗さに差を設けた効果が得られ難い。また、支持ガラス（３）の接触面における平滑面（４）と粗面（５）との表面粗さＲａの差は、接着性と剥離性という観点からは特に限定されないが、粗面形成の省力化の観点から、２０００ｎｍ以下が好ましい。
　支持ガラス（３）の接触面において、平滑面（４）と粗面（５）との割合は、１：１０００～５：１であることが好ましい。接着性と剥離性との調和を図るため、１：５００～４：１であることがより好ましく、１：２００～３：１であることが最も好ましい。なお、ガラスフィルム（２）の接触面に平滑面（４）と粗面（５）とを設ける場合も、上記と同様の割合にするのが好ましい。
　図１に示す通り、支持ガラス（３）の接触面の外周部に沿って平滑面（４）が設けられ、平滑面（４）に囲まれた内部に、表面粗さＲａが相対的に大きい粗面（５）が設けられている構成とすることができる。これにより、少ない接着面積でガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とをガラスフィルム積層体（１）の外周部に沿って強固に接着させることができる。製造関連処理工程に液体を使用する工程を有していたとしても、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）との隙間から液体が浸入することを防止することができ、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とが容易に剥離するのを防止することができる。
　図３に示す通り、支持ガラス（３）の接触面の角部（３１）に平滑面（４）を有している構成としても良い。これにより、ガラスフィルム（２）の接触面の角部を支持ガラス（３）と強固に接着させることができ、少ない接着面積でガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とを積層することができる。
　図４に示す通り、支持ガラス（３）の外周部に粗面（５）を有し、粗面（５）に囲まれた内部に、平滑面（４）が設けられている構成としても良い。これにより、支持ガラス（３）からガラスフィルム（２）を剥離する際に、容易に剥離を開始することができる。ガラスフィルム（２）の中央部のみを接触させることにより、ガラスフィルム（２）が撓んだ状態で接着することがない。これにより、製造関連処理時の際に不利な凹凸が生じるのを確実に防止することができる。尚、製造関連処理において、溶媒を使用する工程を有する場合は、ガラスフィルム積層体（１）側部にマスキングテープを貼ることもできる。
　図５に示す通り、支持ガラス（３）の接触面において、帯状の粗面（５）と帯状の平滑面（４）とが交互に設けられている構成とすることができる。粗面（５）及び平滑面（４）の長手方向（図５（ａ）での上下方向）にガラスフィルム（２）の剥離を行うことにより、支持ガラス（３）とガラスフィルム（２）との接着力が一定であるため、一定の力で剥離することで安定して支持ガラス（３）とガラスフィルム（２）との剥離を行うことができる。
　支持ガラス（３）の接触面に、表面粗さの相対的に大きい領域と小さい領域を設ける手段として、例えば以下の方法を挙げることができる。
　表面品位が優れた支持ガラス（３）の接触面の一部をマスキングテープ等によって保護し、物理的手段、又は化学的手段を使用することで粗面化処理を行う。処理後にマスキングテープを除去することによって、マスキングテープ等で保護された平滑面（４）と粗面化された粗面（５）とが接触面に形成される。
　物理的な粗面化手段としては、支持ガラス（３）の接触面をマスキングテープ等によって保護した後に、露出した面をサンドブラストによって粗面化する方法や、薄膜を形成することによって粗面化する方法等が上げられる。特に支持ガラスの表面精度が良好な場合は、支持ガラス（３）の接触面をマスキングテープ等によって保護した後に、露出した面に対してアルミナや酸化セリウムを使用した研磨を施すようにしても良い。また、化学的な粗面化手段としては、フッ酸によるエッチングや、大気圧プラズマを使用する方法等が挙げられる。
　図６は、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とを縁部において段差（６）を設けて積層したガラスフィルム積層体（１）を示している。
　図６（ａ）では、ガラスフィルム（２）よりも支持ガラス（３）が食み出すように段差（６１）が設けられている。これにより、ガラスフィルム（２）の端部をより適切に保護することができる。尚、図６（ａ）の形態の場合は、図４に関連して説明したように、ガラスフィルム（２）の周辺部に粗面（５）を有する形態が好ましい。周辺部が粗面（５）であるため、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）の間に薄板状の部材（樹脂シート等）を差し込むことによって、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とを容易に剥離することができる。
　一方、図６（ｂ）では、支持ガラス（３）よりもガラスフィルム（２）が食み出した状態で段差（６２）が設けられている。これにより、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）の剥離開始時において、ガラスフィルム（２）のみを容易に把持することが可能となり、両者をより容易かつ確実に剥離することが可能となる。段差（６２）は、ガラスフィルム積層体（１）の周辺部の少なくとも一部に設けられていればよく、例えば、ガラスフィルム積層体（１）が平面視矩形状の場合は、４辺のうち少なくとも１辺に設けられていればよい。また、支持ガラス（３）の４隅の一部に切り欠き（オリフラ）を設けることによって、段差を設けてもよい。尚、図６（ｂ）の形態の場合は、図１に関連して説明したように、ガラスフィルム（２）の周辺部に平滑面（４）を有する形態が好ましい。周辺部が平滑面（４）であるため、製造関連処理に溶媒を使用する場合に、溶媒がガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）との間から浸入するのを防止することができる。
　ガラスフィルム（３）の食み出し量は、０．１ｍｍ～２０ｍｍであることが好ましい。０．１ｍｍ未満であると、剥離開始時においてガラスフィルム（２）の縁部を把持し難くなる可能性があり、２０ｍｍを超えるとガラスフィルム積層体（１）の側縁に打突等の外力が加わった場合にガラスフィルム（２）が破損する可能性がある。
　さらに、ガラスフィルム積層体（１）の端部において、ガラスフィルム（２）の縁部から支持ガラス（３）の縁部を食み出させて形成された段差と、支持ガラス（３）の縁部からガラスフィルム（２）の縁部を食み出させて形成された段差（４）の両方の段差が形成されたガラスフィルム積層体（１）とすることにより、ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）とを夫々同時に把持することが可能となり、さらに容易にガラスフィルム（２）を剥離させることが可能となる。各段差は、相互に近接させて形成することが最も好ましい。
　本発明に係るガラスフィルム積層体（１）のガラスフィルム（２）の表面に、成膜、焼成、洗浄、パターンニング等、様々な電子デバイス製造関連処理が行われる。製造関連処理後にガラスフィルム（２）は、ガラスフィルム積層体（１）の支持ガラス（３）から剥離される。ガラスフィルム（２）と支持ガラス（３）の間に、シートを挿入することで、ガラスフィルム（２）の剥離を行う。当該シートは、強度が高く、表面が滑らかなものが好ましく、テフロン（登録商標）シートを使用することが好ましい。シートを浅く挿入することが好ましい。シートを深く挿入すると、シートとガラスの接触面積が大きくなり、摩擦力が増すため、剥離時にガラスフィルム（２）が破損するおそれがある。剥離後、ガラスフィルム（２）は、夫々目的とする用途に使用され、例えば電子デバイスのガラス基板等に適宜使用される。ガラスフィルム（２）を剥離した後の支持ガラス（３）は、再利用可能である。
　以上、上記実施形態では、支持ガラス（３）の接触面に表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設けたが、これには限定されず、ガラスフィルム（２）の接触面に表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設けても良い。また、支持ガラス（３）の接触面とガラスフィルム（２）の接触面の双方に、表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設けても良い。
　以下、本発明のガラスフィルム積層体を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例）
縦３００ｍｍ、横３００ｍｍ、厚み５００μｍの矩形状の透明なガラス板を支持ガラスとして使用した。支持ガラスの一角に、縦３ｍｍ、横３ｍｍの直角三角形の切り欠き（オリフラ）を設けた。支持ガラスの接触面に積層するガラスフィルムとして、縦２９８ｍｍ、横２９８ｍｍ、厚み１００μｍのガラスフィルムを使用した。支持ガラスとガラスフィルムは、日本電気硝子株式会社製の無アルカリガラス（製品名：ＯＡ－１０Ｇ、３０～３８０℃における熱膨張係数：３８×１０－７／℃）を使用した。オーバーフローダウンドロー法によって支持ガラスとガラスフィルムとを成形した。支持ガラスの接触面の４角をマスキングテープで保護し、１％のフッ酸溶液を支持ガラスの接触面に塗布することで、粗面化処理を行った。フッ酸溶液を塗布してから３０秒経過後に洗浄処理を行い、マスキングテープを除去することによって、マスキングテープで保護した面を平滑面、フッ酸処理面を粗面とした。支持ガラスの接触面における平滑面と粗面の表面粗さＲａをＶｅｅｃｏ社製ＡＦＭ（Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ　ＩＩＩ　ａ）を用いて、スキャンサイズ１０μｍ、スキャンレイト１Ｈｚ、サンプルライン５１２の条件で測定した。表面粗さＲａは、測定範囲１０μｍ四方の測定値から算出した。支持ガラス上の粗面の表面粗さＲａは０．５ｎｍ、平滑面の表面粗さＲａは０．２ｎｍだった。ガラスフィルムの表面粗さＲａは、０．２ｎｍであった。
　その後、支持ガラスの接触面にガラスフィルムを積層させて、実施例のガラスフィルム積層体を得た。得られたガラスフィルム積層体について、ガラスフィルムの表面に洗浄処理、成膜処理を行ったところ、支持ガラスとガラスフィルムは良好に接着しており、問題なく処理時の位置決め、ハンドリングを行うことができた。支持ガラスの一角に設けた切り欠き（オリフラ）部にできる段差（図５を参照）から、テフロン（登録商標）シートを挿入し、挿入領域を広げていくことで、支持ガラスからガラスフィルムを剥離したところ、粗面から良好に剥離することができ、ガラスフィルムが破損することはなかった。
（比較例１）
支持ガラスの接触面に対して粗面化処理を行わなかった以外は、上述の実施例と同様の方法で、比較例１のガラスフィルム積層体を得た。尚、支持ガラス、ガラスフィルム共に接触面の表面粗さＲａは０．２ｎｍであった。
　得られた比較例１のガラスフィルム積層体について、ガラスフィルムの表面に成膜処理、洗浄処理を行ったところ、支持ガラスとガラスフィルムが良好に接着しており、問題なく処理時の位置決め、ハンドリングを行うことができた。しかし、処理後にテフロン（登録商標）シートが中央辺りまで挿入されたときにテフロン（登録商標）シートが撓み、接着力が強すぎることによりガラスフィルムが大きく曲がり、剥離時にガラスフィルムが破損するものが一部あった。
（比較例２）
支持ガラスの接触面にアルミナ及び酸化セリウムによる研磨処理を行うことにより、接触面の表面粗さＲａが均一に２．２ｎｍとなるように調整した。その後、支持ガラスの接触面にガラスフィルムを積層させることにより、比較例２のガラスフィルム積層体を作製した。
　得られた比較例２のガラスフィルム積層体について、ガラスフィルムの表面に洗浄処理、成膜処理を行ったところ、接着力が不十分な場合があり、処理時に支持ガラスがガラスフィルムから剥離するものが一部あり、位置決め、ハンドリングを良好に行うことができなかった。
　本発明は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイや太陽電池等のデバイスに使用されるガラス基板、及び有機ＥＬ照明のカバーガラスを作製する場合に好適に使用することができる。
１　　ガラスフィルム積層体
２　　ガラスフィルム
３　　支持ガラス
４　　平滑面
５　　粗面

Claims (14)

  1. 　ガラスフィルムと支持体とを積層したガラスフィルム積層体であって、
    　前記ガラスフィルムの接触面と前記支持体の接触面との積層部に、接着力が相対的に強い領域と弱い領域とが設けられていることを特徴とするガラスフィルム積層体。
  2. 　前記支持体が支持ガラスであり、前記ガラスフィルムの接触面及び前記支持ガラスの接触面のうち少なくとも一方に、表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とが設けられていることを特徴とする請求項１に記載のガラスフィルム積層体。
  3. 　前記支持ガラスの接触面に、前記表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とが設けられていることを特徴とする請求項２に記載のガラスフィルム積層体。
  4. 　前記表面粗さが相対的に小さい領域は、表面粗さＲａが２．０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２又は３に記載のガラスフィルム積層体。
  5. 　前記表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とは、表面粗さＲａの差が０．１ｎｍ以上であることを特徴とする請求項２から４のいずれかに記載のガラスフィルム積層体。
  6. 　前記接触面の外周部に前記表面粗さが相対的に小さい領域を有し、前記外周部に囲まれた内部に、前記表面粗さが相対的に大きい領域を有することを特徴とする請求項２から５のいずれかに記載のガラスフィルム積層体。
  7. 　前記接触面の角部に、前記表面粗さが相対的に小さい領域を有することを特徴とする請求項２から５のいずれかに記載のガラスフィルム積層体。
  8. 　前記接触面の外周部に、前記表面粗さが相対的に大きい領域を有し、前記外周部に囲まれた内部に、前記表面粗さが相対的に小さい領域を有することを特徴とする請求項２から５のいずれかに記載のガラスフィルム積層体。
  9. 　前記表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とが、前記接触面に帯状に交互に設けられていることを特徴とする請求項２から５のいずれかに記載のガラスフィルム積層体。
  10. 　前記ガラスフィルムと前記支持ガラスとは、縁部の少なくとも一部において段差を設けて積層されていることを特徴とする請求項２から９のいずれかに記載のガラスフィルム積層体。
  11. 　ガラスフィルムと支持ガラスとを積層したガラスフィルム積層体の製造方法であって、
    　前記ガラスフィルムの接触面及び前記支持ガラスの接触面のうち少なくとも一方の一部領域を粗面化する工程と、前記接触面同士を接触させた状態で前記ガラスフィルムと前記支持ガラスとを積層する工程とを有することを特徴とするガラスフィルム積層体の製造方法。
  12. 　前記ガラスフィルム及び前記支持ガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されていることを特徴とする請求項１１に記載のガラスフィルムの製造方法。
  13. 　前記粗面化は、フッ酸によるエッチング処理、大気圧プラズマによるエッチング処理、薄膜の形成による粗面化、サンドブラストによる粗面化処理の中から選択されるいずれか１種又は２種以上であることを特徴とする請求項１１又は１２に記載のガラスフィルム積層体の製造方法。
  14. 　支持ガラスの接触面及びガラスフィルムの接触面のうち少なくとも一方に、表面粗さが相対的に大きい領域と小さい領域とを設ける第１の工程と、前記支持ガラスの接触面と前記ガラスフィルムの接触面とを貼り合わせることによってガラスフィルム積層体とする第２の工程と、前記ガラスフィルム積層体に対して製造関連処理を行う第３の工程と、前記製造関連処理後に前記ガラスフィルムを前記支持ガラスから剥離する第４の工程とを有することを特徴とするガラスフィルムの製造方法。
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